JP2008004282A - Plasma display device, and manufacturing method - Google Patents

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Takuji Tsujita
卓司 辻田
Mikihiko Nishitani
幹彦 西谷
Masaharu Terauchi
正治 寺内
Shinji Goto
真志 後藤
Kyohei Yoshino
恭平 吉野
Yusuke Fukui
裕介 福井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a PDP with excellent discharge characteristics and its manufacturing method with shortening of aging time attained and density of impurities in a discharging space restrained. <P>SOLUTION: The PDP is of a structure in which concave parts 16 are formed directly above a display electrode 6, selectively, on a dielectric protective film 8. Since, with this, after a front plate 2 and a back plate 9 are pasted together, the impurity gas flowing out from barrier ribs 13 or the like into a discharge space 15 is absorbed by a part 17 other than the concave part 16 in the dielectric protective film 8, that is, a part 17 where sputtering is not carried out, an impurity density in the discharge space 15 can be lowered. Further, a shape normally made by the aging or a change in a surface composition is preliminarily made as a result, so that drastic reduction of the aging time and running cost of the PDP is realized. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと略する)とその製造方法に関する。   The present invention relates to a plasma display panel (hereinafter abbreviated as PDP) and a method for manufacturing the same.

以下、従来のPDPについて、図5を用いて説明する。   Hereinafter, a conventional PDP will be described with reference to FIG.

PDP21は前面板22と背面板23とからなる。   The PDP 21 includes a front plate 22 and a back plate 23.

前面板22は、前面基板24上に設けられた走査電極25と維持電極26とが形成され、これらが誘電体層27に覆われ、さらに誘電体層27が酸化マグネシウム(MgO)からなる誘電体保護膜28で覆われている。   The front plate 22 includes a scan electrode 25 and a sustain electrode 26 provided on a front substrate 24, which are covered with a dielectric layer 27, and the dielectric layer 27 is a dielectric made of magnesium oxide (MgO). Covered with a protective film 28.

特に、誘電体保護膜28は、上記の誘電体層27及び電極25、26がプラズマに直接さらされてイオン衝突によるダメージを受けないようにする機能のほかに、所定の電極間に電圧を印加した際に二次電子を放出してガス放電の火種電子を供給する機能や、壁電荷を蓄積することによって駆動電圧低下させる機能を有しており、PDP21の放電特性を大きく左右する。   In particular, the dielectric protective film 28 applies a voltage between predetermined electrodes in addition to the function of preventing the dielectric layer 27 and the electrodes 25 and 26 from being directly exposed to plasma and being damaged by ion collision. In this case, it has a function of emitting secondary electrons and supplying a fired electron for gas discharge, and a function of lowering a drive voltage by accumulating wall charges, which greatly affects the discharge characteristics of the PDP 21.

背面板23は、背面ガラス基板29上にアドレス電極30が形成され、それらが誘電体層31で覆われ、さらに誘電体層31上にアドレス電極30を挟むように、隔壁32が形成されている。また、隔壁32の壁面及び誘電体層31上には蛍光体33が塗布されている。   The back plate 23 has address electrodes 30 formed on a back glass substrate 29, covered with a dielectric layer 31, and partition walls 32 formed so as to sandwich the address electrodes 30 on the dielectric layer 31. . A phosphor 33 is applied on the wall surface of the partition wall 32 and the dielectric layer 31.

前記の前面板22と背面板23とが張り合わせられ、隔壁32で仕切られたセルには放電ガス(通常はXeガス)として、例えばNeとXeからなる混合希ガス等が封入されている。電極に印加される電圧を適切に制御することでセル放電空間34内に放電が生じ、希ガスイオンのプラズマが形成され、励起された放電ガスから放出される紫外光により蛍光体33が励起され、蛍光体33から発光された可視光が前面板22を透過することとなる。   The front plate 22 and the back plate 23 are bonded together, and a cell separated by the partition walls 32 is filled with, for example, a mixed rare gas composed of Ne and Xe as a discharge gas (usually Xe gas). By appropriately controlling the voltage applied to the electrodes, a discharge is generated in the cell discharge space 34, plasma of rare gas ions is formed, and the phosphor 33 is excited by ultraviolet light emitted from the excited discharge gas. The visible light emitted from the phosphor 33 is transmitted through the front plate 22.

従来のPDPの作成法では、前面板22及び背面板23の作成後、それらの張り合わせ、封着、排気、ガスの封入、封止が行われてパネルとなる。   In the conventional method for producing a PDP, after the front plate 22 and the back plate 23 are produced, they are laminated, sealed, exhausted, filled with gas, and sealed to form a panel.

このように作製されたパネルでは放電特性が不安定であるため、少なくとも走査電極25と維持電極26の間に交流の矩形波成分を含む電圧を印加するエージング処理が行われる。   Since the panel manufactured in this manner has unstable discharge characteristics, an aging process is performed in which a voltage including an alternating rectangular wave component is applied at least between the scan electrode 25 and the sustain electrode 26.

パネルのエージング処理後にパネルを割断し、誘電体保護膜28表面を観察するとスパッタ痕が形成されることが知られている(特許文献1参照)。このスパッタ痕は、誘電体保護膜がプラズマ中のイオンの衝突を受けることにより表面組成や形状が変化することによって形成される。   It is known that when the panel is cleaved after the panel aging treatment and the surface of the dielectric protective film 28 is observed, sputter marks are formed (see Patent Document 1). This sputter mark is formed by changing the surface composition and shape of the dielectric protective film due to the collision of ions in the plasma.

このことから、誘電体保護膜28や蛍光体33等の表面に吸着している不純ガスがエージングによって除去されることや、誘電体保護膜28の形状が変化すること等が、放電電圧等の放電特性の初期変動を誘起していると考えられている。   From this, the impurity gas adsorbed on the surface of the dielectric protective film 28, the phosphor 33, etc. is removed by aging, and the shape of the dielectric protective film 28 is changed. It is thought to induce initial fluctuations in discharge characteristics.

しかし、このようなエージング処理では、パネルの放電特性が安定化するまで放電し続ける必要があるため、エージング時間の長時間化を招き、これがPDP製造時における、電力や場所、人件費といった様々なランニングコスト増加に繋がる。このような問題は、PDPの大画面化や大量生産化が進むにつれて深刻になることは明白である。   However, in such an aging treatment, it is necessary to continue discharging until the discharge characteristics of the panel are stabilized, which leads to a long aging time, which causes various power consumption, place, labor cost, etc. during PDP manufacturing. This leads to increased running costs. It is clear that these problems will become more serious as the PDP becomes larger and mass-produced.

このエージングの長時間化を解決するため、前面板と背面板とを張り合わせる前に、前面板の全面にイオン衝撃等の処理を行い、誘電体保護膜の表面の全面に、予め、酸素欠損部(スパッタ痕)を設けることが知られている(特許文献2参照)。
特開2004−273442号公報 特開2002−117758号公報
In order to solve this long aging time, before the front plate and the back plate are bonded together, the entire front plate is treated with ion bombardment, etc. It is known to provide a portion (sputter mark) (see Patent Document 2).
JP 2004-273442 A JP 2002-117758 A

一般的に、誘電体保護膜として使用されている酸化マグネシウム(MgO)は、吸着性が高く、水蒸気や炭酸ガス等の不純物ガスを吸収して水酸化マグネシウムや、炭酸マグネシウムに変化し易いという性質を持つことが知られている。   In general, magnesium oxide (MgO) used as a dielectric protective film has a high adsorptive property and easily changes to magnesium hydroxide or magnesium carbonate by absorbing impurity gases such as water vapor and carbon dioxide. It is known to have

この誘電体保護膜にスパッタを行った場合、スパッタされた部分は、酸化マグネシウム(MgO)の再デポジション等により空間が埋められ、スパッタの影響を受けていない部分に比べてガスに接する表面積が減少するため、スパッタの影響を受けていない部分に比べて不純物ガスの吸着確率が減少すると考えられる。   When this dielectric protective film is sputtered, the sputtered part is filled with space due to redeposition of magnesium oxide (MgO), etc., and the surface area in contact with the gas is larger than the part not affected by sputtering. Since it decreases, it is considered that the probability of adsorption of impurity gas is reduced compared to the portion not affected by sputtering.

このため、上記の特許文献2に記載されている方法のように、ただ単に、誘電体保護膜表面全面をスパッタするだけでは、エージング時間の短縮というメリットはあるものの、前面板と背面板の封着後において、背面板の隔壁等に付着していた不純物ガスが、誘電体保護膜26で十分に吸収されずに、放電空間に流出する。そのため、放電特性が悪化するというデメリットを有することとなってしまう。   For this reason, just by sputtering the entire surface of the dielectric protective film as in the method described in Patent Document 2 above, there is an advantage of shortening the aging time, but the sealing of the front plate and the rear plate is possible. After the deposition, the impurity gas adhering to the partition walls of the back plate is not sufficiently absorbed by the dielectric protective film 26 and flows into the discharge space. Therefore, it has a demerit that the discharge characteristics are deteriorated.

本発明は、このような従来の課題を解決したものであり、エージング時間の短縮を達成しながら、放電空間における不純物濃度を抑え、放電特性が良好なPDP及びその製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve such a conventional problem, and to provide a PDP having a good discharge characteristic and a method for manufacturing the PDP by suppressing the impurity concentration in the discharge space while achieving a shortening of the aging time. And

上記課題を解決するために、本発明のPDPは、主面上に電極と誘電体層と誘電体保護膜とが順に積層されてなる第1基板と、第2基板とが、前記第1基板の前記主面と第2基板が放電空間を介して対峙した状態で対向配置され、前記第1基板及び前記第2基板の周囲が封着されているプラズマディスプレイパネルであって、前記誘電体保護膜の前記放電空間側における前記電極直上部に凹部が設けられている構成となっている。   In order to solve the above-described problem, the PDP of the present invention includes a first substrate in which an electrode, a dielectric layer, and a dielectric protective film are sequentially stacked on a main surface, and a second substrate including the first substrate. A plasma display panel in which the main surface and the second substrate face each other with the discharge space facing each other, and the periphery of the first substrate and the second substrate is sealed. A recess is provided immediately above the electrode on the discharge space side of the film.

また、本発明の製造方法は、主面上に電極と誘電体層と誘電体保護膜とを順に積層する第1基板形成工程と、前記誘電体保護膜の前記誘電体層と反対側における前記電極直上部をエッチングする誘電体保護膜処理工程と、前記誘電体保護膜処理工程の後に、前記第1基板と前記第2基板とを放電空間を介して対向させて張り合わせる張り合わせ工程とを有している。   The manufacturing method of the present invention includes a first substrate forming step of sequentially laminating an electrode, a dielectric layer, and a dielectric protective film on a main surface, and the dielectric protective film on the opposite side of the dielectric layer. A dielectric protective film processing step for etching the portion directly above the electrode; and a bonding step for bonding the first substrate and the second substrate facing each other through a discharge space after the dielectric protective film processing step. is doing.

本発明によれば、放電空間における不純物濃度の低下とエージング時間の短縮を両立したPDP及びPDPの製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of PDP which can reduce the impurity concentration in discharge space, and shortening of aging time can be provided.

以下、本発明の一実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。本発明の以下に示す実施の形態及び各図面は例示を目的とし、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、各図面においては、説明の便宜のため、実質的に同一の機能を有する構成要素を同一の参照符号で示すこととする。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The following embodiments of the present invention and the drawings are for illustrative purposes, and the present invention is not limited thereto. In the drawings, components having substantially the same function are denoted by the same reference numerals for convenience of explanation.

(実施の形態)
1.(PDP全体の構成)
図1は、本発明の第1の実施例に係るPDPを示す概略図である。PDP1の各部の説明に先立ち、このPDP1の概要を示す。
(Embodiment)
1. (PDP overall configuration)
FIG. 1 is a schematic diagram showing a PDP according to a first embodiment of the present invention. Prior to the description of each part of the PDP 1, an outline of the PDP 1 is shown.

ここで、前面板2は、ガラス基板3と、ガラス基板3上に設けられ、維持電極4と走査電極5とからなる表示電極対6と、ガラス基板3と表示電極対6とを被覆している誘電体層7と、誘電体層7上に設けられた誘電体保護膜8とから構成されている。   Here, the front plate 2 is provided on the glass substrate 3, and covers the display electrode pair 6 including the sustain electrode 4 and the scan electrode 5, and the glass substrate 3 and the display electrode pair 6. And a dielectric protective film 8 provided on the dielectric layer 7.

背面板9は、ガラス基板10と、ガラス基板10上に設けられた複数のアドレス電極11と、ガラス基板10とアドレス電極11とを覆う誘電体層12と、隣接するアドレス電極11間の領域にアドレス電極11と平行に延びる絶縁性の隔壁13と、誘電体層12上から隔壁13の側壁面上に沿って設けられた蛍光体層14とから構成されている。   The back plate 9 includes a glass substrate 10, a plurality of address electrodes 11 provided on the glass substrate 10, a dielectric layer 12 covering the glass substrate 10 and the address electrodes 11, and a region between adjacent address electrodes 11. The insulating barrier rib 13 extends in parallel with the address electrode 11, and the phosphor layer 14 is provided on the dielectric layer 12 along the side wall surface of the barrier rib 13.

このような構成を有する前面板2と背面板9は、表示電極対6とアドレス電極11の長手方向が直交するように対向させながら、両パネルの外周縁部をガラスフリットで封着されている。この両プレート間は、放電空間15として、He、Xe、Neなどの希ガス成分からなる放電ガスが所定の圧力で封入されている。   The front plate 2 and the back plate 9 having such a configuration are sealed with glass frits on the outer peripheral edge portions of both panels while facing the display electrode pair 6 and the address electrode 11 so that the longitudinal directions thereof are orthogonal to each other. . Between these plates, a discharge gas made of a rare gas component such as He, Xe, Ne or the like is sealed as a discharge space 15 at a predetermined pressure.

ここで、誘電体保護膜8は、放電空間15側の前記表示電極対6直上部のみ選択的に凹部16が設けられた構成となっている。   Here, the dielectric protective film 8 has a configuration in which a concave portion 16 is selectively provided only above the display electrode pair 6 on the discharge space 15 side.

この構成により、前面板2と背面板9の張り合わせ後に、隔壁13等から放電空間15に流出する不純物ガスを、誘電体保護膜8における凹部16以外の部分、すなわちスパッタされていない部分が吸収するので、放電空間15における不純物濃度を低下させることができる。   With this configuration, after bonding the front plate 2 and the back plate 9, the impurity gas flowing out from the barrier ribs 13 and the like into the discharge space 15 is absorbed by portions other than the concave portion 16 in the dielectric protective film 8, that is, portions not sputtered. Therefore, the impurity concentration in the discharge space 15 can be reduced.

また、誘電体保護膜8における表示電極対6の直上部のみに凹部16を設ける工程を、前面板2と背面板9の張り合わせ(パネル化)前に行なう。このため、従来エージング中になされていた誘電体保護膜8の形状変化をあらかじめエージング前に起こしていることとなり、パネルの初期変動が大幅に低下し、エージング時間を大幅に短縮させることができる。   Further, the step of forming the recess 16 only in the dielectric protective film 8 just above the display electrode pair 6 is performed before the front plate 2 and the back plate 9 are bonded (panelized). For this reason, the shape change of the dielectric protective film 8 conventionally performed during aging is caused before aging in advance, and the initial fluctuation of the panel is greatly reduced, and the aging time can be greatly shortened.

2.(前面板2に係る誘電体保護膜8の構成)
ここでは、本発明の主な特徴である誘電体保護膜8の構成について、図2を用いてより具体的に説明する。
2. (Configuration of the dielectric protective film 8 according to the front plate 2)
Here, the configuration of the dielectric protective film 8 which is the main feature of the present invention will be described more specifically with reference to FIG.

本実施形態に係る誘電体保護膜8において、凹部16が形成されているのは、表示電極対16直上部のみである。これは、従来のエージング工程においては、誘電体保護膜8における表示電極対6直上部が、エージング中に放電にさらされてスパッタの影響を受けているので、少なくとも当該部分さえ予めスパッタリングして凹部16を設けておくことで、エージング時間を大幅に短縮できるからである。また、本実施形態に係る誘電体保護膜8では、前面板2と背面板9の張り合わせ前に、電極対6直上部を予めエッチングすることにより、全くエッチングを施さない場合の誘電体保護膜と比べて、ガスを吸着し易い非スパッタ部分の面積を減少させることができる。これにより、前面板2と背面板9の張り合わせの際に、誘電体保護膜8に吸着された状態で放電空間15内に持ち込まれる不純物ガスを減少させることができる。   In the dielectric protective film 8 according to the present embodiment, the recess 16 is formed only on the display electrode pair 16. This is because, in the conventional aging process, the upper portion of the display electrode pair 6 in the dielectric protective film 8 is exposed to discharge during aging and is affected by sputtering, so that at least the portion is sputtered in advance. This is because the aging time can be significantly shortened by providing 16. In addition, in the dielectric protective film 8 according to the present embodiment, the dielectric protective film in the case where no etching is performed by etching the portion directly above the electrode pair 6 before the front plate 2 and the rear plate 9 are bonded together. In comparison, the area of the non-sputtered portion that easily adsorbs the gas can be reduced. Thereby, when the front plate 2 and the back plate 9 are bonded together, the impurity gas brought into the discharge space 15 while being adsorbed by the dielectric protective film 8 can be reduced.

そして、誘電体保護膜8において、凹部16以外の部分17(非エッチング部分)の形状をそのまま残している。これは、非エッチング部分17は、エッチングされた部分(凹部)16に比べて表面積が大きく、不純物ガスの吸収する確率が上昇するためである。   In the dielectric protective film 8, the shape of the portion 17 (non-etched portion) other than the concave portion 16 is left as it is. This is because the non-etched portion 17 has a larger surface area than the etched portion (recessed portion) 16 and the probability that the impurity gas is absorbed increases.

したがって、エッチングを施した部分(放電にさらされる部分)16に比べてガス吸着が起こりやすい非スパッタ部17が一種のゲッターのような役割を担うことになり、封着後に背面パネル9各部から放電空間15に流出する不純物ガスを十分に吸収できる。その結果、放電空間15を清浄に保持でき、放電特性の更なる向上、安定が期待される。   Accordingly, the non-sputtered portion 17 that is more likely to cause gas adsorption than the etched portion (portion exposed to discharge) 16 serves as a kind of getter, and discharges from each portion of the back panel 9 after sealing. The impurity gas flowing out into the space 15 can be sufficiently absorbed. As a result, the discharge space 15 can be kept clean, and further improvement and stability of the discharge characteristics are expected.

また、凹部16の深さは、誘電体保護膜8の厚さよりも浅くなっている。すなわち、凹部16は誘電体保護膜8を貫通しない方が好ましい。表示電極対6がプラズマに直接さらされてイオン衝突によるダメージを受け、パネル寿命が著しく低下するのを防止するためである。   Further, the depth of the recess 16 is shallower than the thickness of the dielectric protective film 8. That is, it is preferable that the recess 16 does not penetrate the dielectric protective film 8. This is to prevent the display electrode pair 6 from being directly exposed to the plasma and being damaged by ion collision, thereby significantly reducing the panel life.

3.(PDP1の動作)
以上のように構成した本実施の形態に係るPDP1の動作原理を説明する。
3. (Operation of PDP1)
The operation principle of the PDP 1 according to the present embodiment configured as described above will be described.

このPDPを駆動する際には、パネル駆動部によって、表示電極対6とアドレス電極11にパルスを印加して書き込み放電を行なった後、各対の表示電極対6にパルスを印加する。これによりアドレス放電がなされた当該表示電極対6の間隙で放電が開始される。そして、放電空間15に維持放電がなされ、画面表示が行なわれる。   When driving the PDP, the panel driver applies a pulse to the display electrode pair 6 and the address electrode 11 to perform a write discharge, and then applies a pulse to each pair of display electrode pairs 6. As a result, discharge is started in the gap between the display electrode pair 6 where address discharge has been performed. Then, a sustain discharge is made in the discharge space 15 and a screen display is performed.

4.(製造方法)
[前面パネル]
まず、上述したPDP1の前面板2に係る各部の製造方法について述べる。
4). (Production method)
[Front panel]
First, the manufacturing method of each part which concerns on the front plate 2 of PDP1 mentioned above is described.

前面板2のガラス基板3上に、表示電極対6が平行に配列されて延設され配置される。まず、ガラス基板3上に、ITO、SnO、ZnOなどからなる比較的抵抗が高い膜厚約1000Åの透明電極膜が、例えばストライプ形状にパターン化され、透明電極の対が幅広に平行に形成され配置される。次に、電気抵抗を下げるために、透明電極の上に、Ag(銀)、Al(アルミニウム)系電極材料などにより、膜厚例えば数μmのバス電極がほぼ平行にそれぞれ細幅に形成され、表示電極対6が紙面垂直方向に延設され形成される。 On the glass substrate 3 of the front plate 2, the display electrode pairs 6 are arranged so as to extend in parallel. First, a transparent electrode film having a relatively high film thickness of about 1000 mm made of ITO, SnO 2 , ZnO or the like is patterned on a glass substrate 3 in a stripe shape, for example, and a pair of transparent electrodes is formed in a wide parallel manner. Is placed. Next, in order to reduce the electrical resistance, bus electrodes having a film thickness of, for example, several μm are formed almost in parallel on the transparent electrodes by Ag (silver), Al (aluminum) -based electrode materials, etc., in parallel, respectively, The display electrode pair 6 is formed extending in the direction perpendicular to the paper surface.

そして、表示電極対6およびガラス基板3表面の少なくとも一部を覆うように、誘電体層7が、鉛系あるいは非鉛系の低融点ガラスやSiO材料などにより膜厚数μm〜数十μmで形成される。誘電体層7の上には、放電開始電圧をより低下させるように2次電子放出係数γが大きく、かつ誘電体層7を放電時のイオン衝撃から保護するように耐スパッタ性が高く、また光学的に透明で電気絶縁性が高い、例えばMgO(酸化マグネシウム)などの金属酸化物材料により、誘電体保護膜8が膜厚数千Åで形成される。 The dielectric layer 7 is made of lead or non-lead low melting point glass or SiO 2 material so as to cover at least a part of the display electrode pair 6 and the glass substrate 3 surface. Formed with. On the dielectric layer 7, the secondary electron emission coefficient γ is large so as to further lower the discharge start voltage, and the sputtering resistance is high so as to protect the dielectric layer 7 from ion bombardment during discharge, The dielectric protective film 8 is formed with a film thickness of several thousand mm by a metal oxide material such as MgO (magnesium oxide) which is optically transparent and has high electrical insulation.

(誘電体保護層8の形成)
上記のようにして作製したPDP1の前面板2を下記背面板9に張り合わせる前に、電極対6直上部に凹部16を設けた誘電体保護膜8を形成する。
(Formation of dielectric protective layer 8)
Before the front plate 2 of the PDP 1 manufactured as described above is bonded to the back plate 9 described below, a dielectric protective film 8 having a recess 16 provided immediately above the electrode pair 6 is formed.

以下、図3を用いて誘電体保護膜8における、放電空間15側の電極対直上部6に凹部16を設ける工程について説明する。   Hereinafter, the process of providing the recess 16 in the upper portion 6 of the electrode pair on the discharge space 15 side in the dielectric protective film 8 will be described with reference to FIG.

まず、前面基板2に透明電極18を形成する(a)。次に、透明電極18上にバス電極19を形成する(b)。このように形成した表示電極対6を覆うようにして誘電体層7を設け、更に、誘電体層7の上に誘電体保護膜層8を形成して前面板2を形成する(c)。   First, the transparent electrode 18 is formed on the front substrate 2 (a). Next, the bus electrode 19 is formed on the transparent electrode 18 (b). A dielectric layer 7 is provided so as to cover the display electrode pair 6 thus formed, and a dielectric protective film layer 8 is formed on the dielectric layer 7 to form the front plate 2 (c).

次に、上記の方法で形成した前面板2において、誘電体保護膜8における表示電極対6(走査電極4及び維持電極5)直上部以外にマスク20を施してイオンスパッタリングを行い、表示電極対6の直上部のみエッチングを行った(d)。   Next, on the front plate 2 formed by the above method, the mask 20 is applied to the dielectric protective film 8 except for the portion directly above the display electrode pair 6 (scanning electrode 4 and sustaining electrode 5), and ion sputtering is performed. Etching was performed only on the top of 6 (d).

なお、前面板2と背面板9とを張り合わせる前において、エッチングによって生じる飛散物を除去する工程をさらに有することが望ましい。これにより、エッチングにより生じる飛散物が蛍光体層14に堆積することを低減できるため、紫外線の吸収や透過率の低下等を防止し、発光効率の低減や輝度の劣化を抑えることができる。   In addition, it is desirable to further include a step of removing scattered matters generated by etching before the front plate 2 and the back plate 9 are bonded together. Thereby, it is possible to reduce the scattered matter generated by the etching from being deposited on the phosphor layer 14, so that it is possible to prevent the absorption of ultraviolet rays, the decrease in transmittance, and the like, and to reduce the light emission efficiency and the luminance.

なお、エッチングによる飛散物を除去する工程は、振り落とし、エアー等での吹き飛ばし等の手段で実現されるが、これらの手段に限定されるものではない。   Note that the step of removing the scattered matter by etching is realized by means such as shaking off, blowing off with air or the like, but is not limited to these means.

[背面板9]
次に、上述したPDP1の背面板9に係る各部の製造方法について述べる。
[Back plate 9]
Next, a method for manufacturing each part related to the back plate 9 of the PDP 1 will be described.

背面9のガラス基板10表面には、各放電セルにおいて、前面基板2に延設した表示電極対6にほぼ直交するように交差させたアドレス電極11が配列される。なお、アドレス電極11の電極材料としては、Ag、Al、Ni(ニッケル)、Pt(白金)、Cr(クロム)、Cu(銅)、Pd(パラジウム)などの金属や、各種金属の炭化物や窒化物等の導電性セラミックスなどの材料やこれらの組み合わせ、あるいはそれらを積層して形成される積層電極も必要に応じて使用できる。   On the surface of the glass substrate 10 on the back surface 9, address electrodes 11 are arranged in each discharge cell so as to intersect with the display electrode pair 6 extending on the front substrate 2 so as to be substantially orthogonal. In addition, as an electrode material of the address electrode 11, metals such as Ag, Al, Ni (nickel), Pt (platinum), Cr (chromium), Cu (copper), and Pd (palladium), carbides and nitrides of various metals are used. Materials such as conductive ceramics such as materials, combinations thereof, or laminated electrodes formed by laminating them can be used as necessary.

そして、アドレス電極11およびガラス基板10を覆う誘電体層12が、鉛系あるいは非鉛系の低融点ガラスやSiO材料などにより形成される。 A dielectric layer 12 covering the address electrodes 11 and the glass substrate 10 is formed of lead-based or non-lead-based low-melting glass, SiO 2 material, or the like.

次に、誘電体層12面上に、隔壁13が例えば井桁形状のパターンで形成配置される。隔壁13は、誘電体層12の上に低融点ガラス材料ペーストが塗布され焼成された後、隣接放電セル(図示省略)との境界周囲を仕切るように、すなわち、放電セルの複数個の配列を行および列を仕切る井桁形状のパターンで、サンドブラスト法やフォトリソグラフィ法などの方法を使用してリブ形状に形成される。   Next, on the surface of the dielectric layer 12, the partition walls 13 are formed and arranged in, for example, a cross-shaped pattern. The barrier ribs 13 are formed so that a low melting point glass material paste is applied on the dielectric layer 12 and baked, and then partitioning around the boundary with adjacent discharge cells (not shown), that is, a plurality of arrays of discharge cells. A cross-shaped pattern that divides rows and columns, and is formed into a rib shape using a method such as a sandblasting method or a photolithography method.

そして、隔壁13が井桁形状パターンで形成された背面板9に対して、蛍光体色毎に蛍光体材料ペーストにより印刷塗布され、焼成される工程を通して、蛍光体層14が形成される。赤、緑、青発光の各蛍光体層14として、(Y、Gd)BO:Eu、ZnSiO:MnおよびBaMgAl1017:Euなどの3色の蛍光体が使用される。 Then, the phosphor layer 14 is formed through a process of printing and applying phosphor material paste for each phosphor color on the back plate 9 in which the barrier ribs 13 are formed in a grid pattern, and firing. As each of the red, green, and blue light emitting phosphor layers 14, three color phosphors such as (Y, Gd) BO 3 : Eu, Zn 2 SiO 4 : Mn, and BaMgAl 10 O 17 : Eu are used.

[PDP1]
前述のようにして作製した前面板2と背面板9とを封着用ガラスを用いてはり合わせる。そして、隔壁13で仕切られた放電空間15内を、背面ガラス基板10に同じく封着用ガラスを用いて取り付けた排気管から高真空に排気した後、所定の組成の放電ガスを所定の圧力で封入することによって行なう。
[PDP1]
The front plate 2 and the back plate 9 produced as described above are bonded together using sealing glass. The discharge space 15 partitioned by the partition walls 13 is exhausted to a high vacuum from an exhaust pipe attached to the back glass substrate 10 using the same sealing glass, and then a discharge gas having a predetermined composition is sealed at a predetermined pressure. To do.

なお、前面板2と背面板9を張り合わせる前に、前面板2を単独で、又は前面板2と背面板9とを一定の距離を離した状態で、例えば、封着用ガラスの軟化点以上の温度まで加熱することにより、前面板2の誘電体保護層8の非スパッタ部分17に吸着されている水分等の不純物を除去することが好ましい。これにより、当該不純物が、誘電体保護膜8に吸着された状態で放電空間15内に持ち込まれることを防止することができる。   In addition, before bonding the front plate 2 and the back plate 9, the front plate 2 alone or in a state where the front plate 2 and the back plate 9 are separated by a certain distance, for example, above the softening point of the sealing glass It is preferable to remove impurities such as moisture adsorbed on the non-sputtered portion 17 of the dielectric protective layer 8 of the front plate 2 by heating to a temperature of. Thereby, it is possible to prevent the impurities from being brought into the discharge space 15 while being adsorbed by the dielectric protective film 8.

また、本実施形態に係る誘電体保護膜8は、表示電極対6直上部に凹部16が存在し、凹部16を介して、ガスの移動が可能となるため、このガスの排気効率が向上し、吸着物の除去効率を向上させることができる。そのため、放電空間中15における不純物濃度をさらに低下させることができる。   In addition, the dielectric protective film 8 according to the present embodiment has a recess 16 immediately above the display electrode pair 6, and gas can be moved through the recess 16, so that the exhaust efficiency of this gas is improved. The removal efficiency of adsorbate can be improved. Therefore, the impurity concentration in the discharge space 15 can be further reduced.

(実施例1)
本発明のエージング時間短縮という効果を検証するために、前記実施の形態に基づいた誘電体保護膜8を形成したPDP1を作成し、凹部16を設けない誘電体保護膜8を備えた従来のPDPと比較した。
(Example 1)
In order to verify the effect of shortening the aging time of the present invention, a PDP 1 formed with the dielectric protective film 8 based on the above embodiment is prepared, and the conventional PDP having the dielectric protective film 8 without the recess 16 is prepared. Compared with.

図4に本実施の形態に係るPDPと比較例のエージングに伴う放電電圧の時間変化を示す。グラフの縦軸及び横軸はそれぞれ、放電電圧及びエージング時間を示しており、両軸共に凹部の無いパネルのエージング終了時の値で規格化している。   FIG. 4 shows the change over time of the discharge voltage accompanying aging of the PDP according to the present embodiment and the comparative example. The vertical axis and horizontal axis of the graph indicate the discharge voltage and the aging time, respectively, and both axes are normalized by the values at the end of aging of the panel having no recess.

図3に示すように、前面板2の誘電体保護膜8の表示電極対6直上部に凹部16を有するパネルのエージング時間が、通常のパネルに比べて1/5〜1/10程度に短縮されていることがわかる。また、定常状態に至った後の放電電圧に関しては、ほとんど差異が無いこともわかる。このことから、前面板2と背面板9の張り合わせ前に、前面板2の誘電体保護膜8の表示電極対6直上部に凹部16を形成することにより、エージング時間が大幅に短縮したと言える。   As shown in FIG. 3, the aging time of the panel having the concave portion 16 immediately above the display electrode pair 6 of the dielectric protective film 8 of the front plate 2 is shortened to about 1/5 to 1/10 compared with a normal panel. You can see that It can also be seen that there is almost no difference with respect to the discharge voltage after reaching the steady state. From this, it can be said that the aging time is significantly shortened by forming the concave portion 16 immediately above the display electrode pair 6 of the dielectric protective film 8 of the front plate 2 before the front plate 2 and the back plate 9 are bonded together. .

本発明のプラズマ表示装置及び製造方法は、交通機関及び公共施設、家庭などにおけるテレビジョン装置及びコンピューターのディスプレイに用いられる表示装置、その製造方法等として有用である。   The plasma display device and the manufacturing method of the present invention are useful as a display device used for a television device and a computer display in a transportation facility, public facility, home, etc., a manufacturing method thereof, and the like.

本発明の実施の形態に係るPDPを模式的に示す断面図Sectional drawing which shows typically PDP which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施の形態に係る誘電体保護膜を模式的に示す断面図Sectional drawing which shows typically the dielectric material protective film which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施の形態に係る前面板の誘電体保護膜の製造工程図Manufacturing process diagram of dielectric protective film of front plate according to the embodiment of the present invention 本発明の実施の形態に係るPDPのエージング時間の調査結果を示す特性図The characteristic view which shows the investigation result of the aging time of PDP which concerns on embodiment of this invention 従来のPDPを模式的に示す断面図Sectional drawing which shows the conventional PDP typically

符号の説明Explanation of symbols

1 プラズマディスプレイパネル(PDP)
2 前面板
3 ガラス基板
4 維持電
5 走査電極
6 表示電極対
7 誘電体層(前面板)
8 誘電体保護膜(MgO)
9 背面板
10 ガラス基板
11 アドレス電極
12 誘電体層(背面板)
13 隔壁
14 蛍光体層
15 放電空間
16 凹部
17 非スパッタ部
18 透明電極
19 バス電極
20 マスク
1 Plasma display panel (PDP)
2 Front plate 3 Glass substrate 4 Maintenance power 5 Scan electrode 6 Display electrode pair 7 Dielectric layer (front plate)
8 Dielectric protective film (MgO)
9 Back plate 10 Glass substrate 11 Address electrode 12 Dielectric layer (Back plate)
13 Partition 14 Phosphor Layer 15 Discharge Space 16 Recess 17 Non-Sputter Part 18 Transparent Electrode 19 Bus Electrode 20 Mask

Claims (6)

主面上に電極と誘電体層と誘電体保護膜とが順に積層されてなる第1基板と、第2基板とが、前記第1基板の前記主面と第2基板が放電空間を介して対峙した状態で対向配置され、前記第1基板及び前記第2基板の周囲が封着されているプラズマディスプレイパネルであって、
前記誘電体保護膜の前記放電空間側における前記電極直上部に凹部が設けられているプラズマディスプレイパネル。
A first substrate in which an electrode, a dielectric layer, and a dielectric protective film are sequentially stacked on a main surface, and a second substrate, the main surface of the first substrate and the second substrate being disposed through a discharge space. It is a plasma display panel that is disposed to face each other in a face-to-face relationship and is sealed around the first substrate and the second substrate,
A plasma display panel, wherein a recess is provided immediately above the electrode on the discharge space side of the dielectric protective film.
前記凹部の深さは、前記誘電体保護膜の厚さよりも小さい請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。 The plasma display panel according to claim 1, wherein a depth of the concave portion is smaller than a thickness of the dielectric protective film. 主面上に電極と誘電体層と誘電体保護膜とを順に積層する第1基板形成工程と、
前記誘電体保護膜の前記誘電体層と反対側における前記電極直上部をエッチングする誘電体保護膜処理工程と、
前記誘電体保護膜処理工程の後に、前記第1基板と前記第2基板とを放電空間を介して対向させて張り合わせる張り合わせ工程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
A first substrate forming step of sequentially laminating an electrode, a dielectric layer, and a dielectric protective film on the main surface;
A dielectric protective film treatment step for etching the portion immediately above the electrode on the opposite side of the dielectric protective film from the dielectric layer;
A method for manufacturing a plasma display panel, comprising: a step of bonding the first substrate and the second substrate facing each other through a discharge space after the dielectric protective film processing step.
前記誘電体保護膜処理工程は、前記エッチングと同時に又は前記エッチングの後に、前記エッチング時に生じる飛散物を取り除くステップを有する請求項3に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 3, wherein the dielectric protective film treatment step includes a step of removing scattered substances generated during the etching simultaneously with the etching or after the etching. 前記誘電体保護膜処理工程は、前記エッチングと同時に又は前記エッチングの後に、前記誘電体保護膜に付着した不純物を除去するステップを有する請求項3または請求項4に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 5. The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 3, wherein the dielectric protective film treatment step includes a step of removing impurities attached to the dielectric protective film simultaneously with the etching or after the etching. . 前記エッチング工程は、イオンスパッタリング法、プラズマ法またはサンドブラスト法で行う請求項3から請求項5のいずれか1項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 6. The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 3, wherein the etching step is performed by an ion sputtering method, a plasma method, or a sand blast method.
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