JP2008004282A - Plasma display device, and manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと略する)とその製造方法に関する。 The present invention relates to a plasma display panel (hereinafter abbreviated as PDP) and a method for manufacturing the same.
以下、従来のPDPについて、図5を用いて説明する。 Hereinafter, a conventional PDP will be described with reference to FIG.
PDP21は前面板22と背面板23とからなる。
The PDP 21 includes a
前面板22は、前面基板24上に設けられた走査電極25と維持電極26とが形成され、これらが誘電体層27に覆われ、さらに誘電体層27が酸化マグネシウム(MgO)からなる誘電体保護膜28で覆われている。
The
特に、誘電体保護膜28は、上記の誘電体層27及び電極25、26がプラズマに直接さらされてイオン衝突によるダメージを受けないようにする機能のほかに、所定の電極間に電圧を印加した際に二次電子を放出してガス放電の火種電子を供給する機能や、壁電荷を蓄積することによって駆動電圧低下させる機能を有しており、PDP21の放電特性を大きく左右する。
In particular, the dielectric
背面板23は、背面ガラス基板29上にアドレス電極30が形成され、それらが誘電体層31で覆われ、さらに誘電体層31上にアドレス電極30を挟むように、隔壁32が形成されている。また、隔壁32の壁面及び誘電体層31上には蛍光体33が塗布されている。
The
前記の前面板22と背面板23とが張り合わせられ、隔壁32で仕切られたセルには放電ガス(通常はXeガス)として、例えばNeとXeからなる混合希ガス等が封入されている。電極に印加される電圧を適切に制御することでセル放電空間34内に放電が生じ、希ガスイオンのプラズマが形成され、励起された放電ガスから放出される紫外光により蛍光体33が励起され、蛍光体33から発光された可視光が前面板22を透過することとなる。
The
従来のPDPの作成法では、前面板22及び背面板23の作成後、それらの張り合わせ、封着、排気、ガスの封入、封止が行われてパネルとなる。
In the conventional method for producing a PDP, after the
このように作製されたパネルでは放電特性が不安定であるため、少なくとも走査電極25と維持電極26の間に交流の矩形波成分を含む電圧を印加するエージング処理が行われる。
Since the panel manufactured in this manner has unstable discharge characteristics, an aging process is performed in which a voltage including an alternating rectangular wave component is applied at least between the
パネルのエージング処理後にパネルを割断し、誘電体保護膜28表面を観察するとスパッタ痕が形成されることが知られている(特許文献1参照)。このスパッタ痕は、誘電体保護膜がプラズマ中のイオンの衝突を受けることにより表面組成や形状が変化することによって形成される。
It is known that when the panel is cleaved after the panel aging treatment and the surface of the dielectric
このことから、誘電体保護膜28や蛍光体33等の表面に吸着している不純ガスがエージングによって除去されることや、誘電体保護膜28の形状が変化すること等が、放電電圧等の放電特性の初期変動を誘起していると考えられている。
From this, the impurity gas adsorbed on the surface of the dielectric
しかし、このようなエージング処理では、パネルの放電特性が安定化するまで放電し続ける必要があるため、エージング時間の長時間化を招き、これがPDP製造時における、電力や場所、人件費といった様々なランニングコスト増加に繋がる。このような問題は、PDPの大画面化や大量生産化が進むにつれて深刻になることは明白である。 However, in such an aging treatment, it is necessary to continue discharging until the discharge characteristics of the panel are stabilized, which leads to a long aging time, which causes various power consumption, place, labor cost, etc. during PDP manufacturing. This leads to increased running costs. It is clear that these problems will become more serious as the PDP becomes larger and mass-produced.
このエージングの長時間化を解決するため、前面板と背面板とを張り合わせる前に、前面板の全面にイオン衝撃等の処理を行い、誘電体保護膜の表面の全面に、予め、酸素欠損部(スパッタ痕)を設けることが知られている(特許文献2参照)。
一般的に、誘電体保護膜として使用されている酸化マグネシウム(MgO)は、吸着性が高く、水蒸気や炭酸ガス等の不純物ガスを吸収して水酸化マグネシウムや、炭酸マグネシウムに変化し易いという性質を持つことが知られている。 In general, magnesium oxide (MgO) used as a dielectric protective film has a high adsorptive property and easily changes to magnesium hydroxide or magnesium carbonate by absorbing impurity gases such as water vapor and carbon dioxide. It is known to have
この誘電体保護膜にスパッタを行った場合、スパッタされた部分は、酸化マグネシウム(MgO)の再デポジション等により空間が埋められ、スパッタの影響を受けていない部分に比べてガスに接する表面積が減少するため、スパッタの影響を受けていない部分に比べて不純物ガスの吸着確率が減少すると考えられる。 When this dielectric protective film is sputtered, the sputtered part is filled with space due to redeposition of magnesium oxide (MgO), etc., and the surface area in contact with the gas is larger than the part not affected by sputtering. Since it decreases, it is considered that the probability of adsorption of impurity gas is reduced compared to the portion not affected by sputtering.
このため、上記の特許文献2に記載されている方法のように、ただ単に、誘電体保護膜表面全面をスパッタするだけでは、エージング時間の短縮というメリットはあるものの、前面板と背面板の封着後において、背面板の隔壁等に付着していた不純物ガスが、誘電体保護膜26で十分に吸収されずに、放電空間に流出する。そのため、放電特性が悪化するというデメリットを有することとなってしまう。
For this reason, just by sputtering the entire surface of the dielectric protective film as in the method described in
本発明は、このような従来の課題を解決したものであり、エージング時間の短縮を達成しながら、放電空間における不純物濃度を抑え、放電特性が良好なPDP及びその製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to solve such a conventional problem, and to provide a PDP having a good discharge characteristic and a method for manufacturing the PDP by suppressing the impurity concentration in the discharge space while achieving a shortening of the aging time. And
上記課題を解決するために、本発明のPDPは、主面上に電極と誘電体層と誘電体保護膜とが順に積層されてなる第1基板と、第2基板とが、前記第1基板の前記主面と第2基板が放電空間を介して対峙した状態で対向配置され、前記第1基板及び前記第2基板の周囲が封着されているプラズマディスプレイパネルであって、前記誘電体保護膜の前記放電空間側における前記電極直上部に凹部が設けられている構成となっている。 In order to solve the above-described problem, the PDP of the present invention includes a first substrate in which an electrode, a dielectric layer, and a dielectric protective film are sequentially stacked on a main surface, and a second substrate including the first substrate. A plasma display panel in which the main surface and the second substrate face each other with the discharge space facing each other, and the periphery of the first substrate and the second substrate is sealed. A recess is provided immediately above the electrode on the discharge space side of the film.
また、本発明の製造方法は、主面上に電極と誘電体層と誘電体保護膜とを順に積層する第1基板形成工程と、前記誘電体保護膜の前記誘電体層と反対側における前記電極直上部をエッチングする誘電体保護膜処理工程と、前記誘電体保護膜処理工程の後に、前記第1基板と前記第2基板とを放電空間を介して対向させて張り合わせる張り合わせ工程とを有している。 The manufacturing method of the present invention includes a first substrate forming step of sequentially laminating an electrode, a dielectric layer, and a dielectric protective film on a main surface, and the dielectric protective film on the opposite side of the dielectric layer. A dielectric protective film processing step for etching the portion directly above the electrode; and a bonding step for bonding the first substrate and the second substrate facing each other through a discharge space after the dielectric protective film processing step. is doing.
本発明によれば、放電空間における不純物濃度の低下とエージング時間の短縮を両立したPDP及びPDPの製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of PDP which can reduce the impurity concentration in discharge space, and shortening of aging time can be provided.
以下、本発明の一実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。本発明の以下に示す実施の形態及び各図面は例示を目的とし、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、各図面においては、説明の便宜のため、実質的に同一の機能を有する構成要素を同一の参照符号で示すこととする。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The following embodiments of the present invention and the drawings are for illustrative purposes, and the present invention is not limited thereto. In the drawings, components having substantially the same function are denoted by the same reference numerals for convenience of explanation.
(実施の形態)
1.(PDP全体の構成)
図1は、本発明の第1の実施例に係るPDPを示す概略図である。PDP1の各部の説明に先立ち、このPDP1の概要を示す。
(Embodiment)
1. (PDP overall configuration)
FIG. 1 is a schematic diagram showing a PDP according to a first embodiment of the present invention. Prior to the description of each part of the
ここで、前面板2は、ガラス基板3と、ガラス基板3上に設けられ、維持電極4と走査電極5とからなる表示電極対6と、ガラス基板3と表示電極対6とを被覆している誘電体層7と、誘電体層7上に設けられた誘電体保護膜8とから構成されている。
Here, the
背面板9は、ガラス基板10と、ガラス基板10上に設けられた複数のアドレス電極11と、ガラス基板10とアドレス電極11とを覆う誘電体層12と、隣接するアドレス電極11間の領域にアドレス電極11と平行に延びる絶縁性の隔壁13と、誘電体層12上から隔壁13の側壁面上に沿って設けられた蛍光体層14とから構成されている。
The
このような構成を有する前面板2と背面板9は、表示電極対6とアドレス電極11の長手方向が直交するように対向させながら、両パネルの外周縁部をガラスフリットで封着されている。この両プレート間は、放電空間15として、He、Xe、Neなどの希ガス成分からなる放電ガスが所定の圧力で封入されている。
The
ここで、誘電体保護膜8は、放電空間15側の前記表示電極対6直上部のみ選択的に凹部16が設けられた構成となっている。
Here, the dielectric protective film 8 has a configuration in which a
この構成により、前面板2と背面板9の張り合わせ後に、隔壁13等から放電空間15に流出する不純物ガスを、誘電体保護膜8における凹部16以外の部分、すなわちスパッタされていない部分が吸収するので、放電空間15における不純物濃度を低下させることができる。
With this configuration, after bonding the
また、誘電体保護膜8における表示電極対6の直上部のみに凹部16を設ける工程を、前面板2と背面板9の張り合わせ(パネル化)前に行なう。このため、従来エージング中になされていた誘電体保護膜8の形状変化をあらかじめエージング前に起こしていることとなり、パネルの初期変動が大幅に低下し、エージング時間を大幅に短縮させることができる。
Further, the step of forming the
2.(前面板2に係る誘電体保護膜8の構成)
ここでは、本発明の主な特徴である誘電体保護膜8の構成について、図2を用いてより具体的に説明する。
2. (Configuration of the dielectric protective film 8 according to the front plate 2)
Here, the configuration of the dielectric protective film 8 which is the main feature of the present invention will be described more specifically with reference to FIG.
本実施形態に係る誘電体保護膜8において、凹部16が形成されているのは、表示電極対16直上部のみである。これは、従来のエージング工程においては、誘電体保護膜8における表示電極対6直上部が、エージング中に放電にさらされてスパッタの影響を受けているので、少なくとも当該部分さえ予めスパッタリングして凹部16を設けておくことで、エージング時間を大幅に短縮できるからである。また、本実施形態に係る誘電体保護膜8では、前面板2と背面板9の張り合わせ前に、電極対6直上部を予めエッチングすることにより、全くエッチングを施さない場合の誘電体保護膜と比べて、ガスを吸着し易い非スパッタ部分の面積を減少させることができる。これにより、前面板2と背面板9の張り合わせの際に、誘電体保護膜8に吸着された状態で放電空間15内に持ち込まれる不純物ガスを減少させることができる。
In the dielectric protective film 8 according to the present embodiment, the
そして、誘電体保護膜8において、凹部16以外の部分17(非エッチング部分)の形状をそのまま残している。これは、非エッチング部分17は、エッチングされた部分(凹部)16に比べて表面積が大きく、不純物ガスの吸収する確率が上昇するためである。
In the dielectric protective film 8, the shape of the portion 17 (non-etched portion) other than the
したがって、エッチングを施した部分(放電にさらされる部分)16に比べてガス吸着が起こりやすい非スパッタ部17が一種のゲッターのような役割を担うことになり、封着後に背面パネル9各部から放電空間15に流出する不純物ガスを十分に吸収できる。その結果、放電空間15を清浄に保持でき、放電特性の更なる向上、安定が期待される。
Accordingly, the
また、凹部16の深さは、誘電体保護膜8の厚さよりも浅くなっている。すなわち、凹部16は誘電体保護膜8を貫通しない方が好ましい。表示電極対6がプラズマに直接さらされてイオン衝突によるダメージを受け、パネル寿命が著しく低下するのを防止するためである。
Further, the depth of the
3.(PDP1の動作)
以上のように構成した本実施の形態に係るPDP1の動作原理を説明する。
3. (Operation of PDP1)
The operation principle of the
このPDPを駆動する際には、パネル駆動部によって、表示電極対6とアドレス電極11にパルスを印加して書き込み放電を行なった後、各対の表示電極対6にパルスを印加する。これによりアドレス放電がなされた当該表示電極対6の間隙で放電が開始される。そして、放電空間15に維持放電がなされ、画面表示が行なわれる。
When driving the PDP, the panel driver applies a pulse to the
4.(製造方法)
[前面パネル]
まず、上述したPDP1の前面板2に係る各部の製造方法について述べる。
4). (Production method)
[Front panel]
First, the manufacturing method of each part which concerns on the
前面板2のガラス基板3上に、表示電極対6が平行に配列されて延設され配置される。まず、ガラス基板3上に、ITO、SnO2、ZnOなどからなる比較的抵抗が高い膜厚約1000Åの透明電極膜が、例えばストライプ形状にパターン化され、透明電極の対が幅広に平行に形成され配置される。次に、電気抵抗を下げるために、透明電極の上に、Ag(銀)、Al(アルミニウム)系電極材料などにより、膜厚例えば数μmのバス電極がほぼ平行にそれぞれ細幅に形成され、表示電極対6が紙面垂直方向に延設され形成される。
On the
そして、表示電極対6およびガラス基板3表面の少なくとも一部を覆うように、誘電体層7が、鉛系あるいは非鉛系の低融点ガラスやSiO2材料などにより膜厚数μm〜数十μmで形成される。誘電体層7の上には、放電開始電圧をより低下させるように2次電子放出係数γが大きく、かつ誘電体層7を放電時のイオン衝撃から保護するように耐スパッタ性が高く、また光学的に透明で電気絶縁性が高い、例えばMgO(酸化マグネシウム)などの金属酸化物材料により、誘電体保護膜8が膜厚数千Åで形成される。
The
(誘電体保護層8の形成)
上記のようにして作製したPDP1の前面板2を下記背面板9に張り合わせる前に、電極対6直上部に凹部16を設けた誘電体保護膜8を形成する。
(Formation of dielectric protective layer 8)
Before the
以下、図3を用いて誘電体保護膜8における、放電空間15側の電極対直上部6に凹部16を設ける工程について説明する。
Hereinafter, the process of providing the
まず、前面基板2に透明電極18を形成する(a)。次に、透明電極18上にバス電極19を形成する(b)。このように形成した表示電極対6を覆うようにして誘電体層7を設け、更に、誘電体層7の上に誘電体保護膜層8を形成して前面板2を形成する(c)。
First, the
次に、上記の方法で形成した前面板2において、誘電体保護膜8における表示電極対6(走査電極4及び維持電極5)直上部以外にマスク20を施してイオンスパッタリングを行い、表示電極対6の直上部のみエッチングを行った(d)。
Next, on the
なお、前面板2と背面板9とを張り合わせる前において、エッチングによって生じる飛散物を除去する工程をさらに有することが望ましい。これにより、エッチングにより生じる飛散物が蛍光体層14に堆積することを低減できるため、紫外線の吸収や透過率の低下等を防止し、発光効率の低減や輝度の劣化を抑えることができる。
In addition, it is desirable to further include a step of removing scattered matters generated by etching before the
なお、エッチングによる飛散物を除去する工程は、振り落とし、エアー等での吹き飛ばし等の手段で実現されるが、これらの手段に限定されるものではない。 Note that the step of removing the scattered matter by etching is realized by means such as shaking off, blowing off with air or the like, but is not limited to these means.
[背面板9]
次に、上述したPDP1の背面板9に係る各部の製造方法について述べる。
[Back plate 9]
Next, a method for manufacturing each part related to the
背面9のガラス基板10表面には、各放電セルにおいて、前面基板2に延設した表示電極対6にほぼ直交するように交差させたアドレス電極11が配列される。なお、アドレス電極11の電極材料としては、Ag、Al、Ni(ニッケル)、Pt(白金)、Cr(クロム)、Cu(銅)、Pd(パラジウム)などの金属や、各種金属の炭化物や窒化物等の導電性セラミックスなどの材料やこれらの組み合わせ、あるいはそれらを積層して形成される積層電極も必要に応じて使用できる。
On the surface of the glass substrate 10 on the
そして、アドレス電極11およびガラス基板10を覆う誘電体層12が、鉛系あるいは非鉛系の低融点ガラスやSiO2材料などにより形成される。 A dielectric layer 12 covering the address electrodes 11 and the glass substrate 10 is formed of lead-based or non-lead-based low-melting glass, SiO 2 material, or the like.
次に、誘電体層12面上に、隔壁13が例えば井桁形状のパターンで形成配置される。隔壁13は、誘電体層12の上に低融点ガラス材料ペーストが塗布され焼成された後、隣接放電セル(図示省略)との境界周囲を仕切るように、すなわち、放電セルの複数個の配列を行および列を仕切る井桁形状のパターンで、サンドブラスト法やフォトリソグラフィ法などの方法を使用してリブ形状に形成される。 Next, on the surface of the dielectric layer 12, the partition walls 13 are formed and arranged in, for example, a cross-shaped pattern. The barrier ribs 13 are formed so that a low melting point glass material paste is applied on the dielectric layer 12 and baked, and then partitioning around the boundary with adjacent discharge cells (not shown), that is, a plurality of arrays of discharge cells. A cross-shaped pattern that divides rows and columns, and is formed into a rib shape using a method such as a sandblasting method or a photolithography method.
そして、隔壁13が井桁形状パターンで形成された背面板9に対して、蛍光体色毎に蛍光体材料ペーストにより印刷塗布され、焼成される工程を通して、蛍光体層14が形成される。赤、緑、青発光の各蛍光体層14として、(Y、Gd)BO3:Eu、Zn2SiO4:MnおよびBaMgAl10O17:Euなどの3色の蛍光体が使用される。
Then, the
[PDP1]
前述のようにして作製した前面板2と背面板9とを封着用ガラスを用いてはり合わせる。そして、隔壁13で仕切られた放電空間15内を、背面ガラス基板10に同じく封着用ガラスを用いて取り付けた排気管から高真空に排気した後、所定の組成の放電ガスを所定の圧力で封入することによって行なう。
[PDP1]
The
なお、前面板2と背面板9を張り合わせる前に、前面板2を単独で、又は前面板2と背面板9とを一定の距離を離した状態で、例えば、封着用ガラスの軟化点以上の温度まで加熱することにより、前面板2の誘電体保護層8の非スパッタ部分17に吸着されている水分等の不純物を除去することが好ましい。これにより、当該不純物が、誘電体保護膜8に吸着された状態で放電空間15内に持ち込まれることを防止することができる。
In addition, before bonding the
また、本実施形態に係る誘電体保護膜8は、表示電極対6直上部に凹部16が存在し、凹部16を介して、ガスの移動が可能となるため、このガスの排気効率が向上し、吸着物の除去効率を向上させることができる。そのため、放電空間中15における不純物濃度をさらに低下させることができる。
In addition, the dielectric protective film 8 according to the present embodiment has a
(実施例1)
本発明のエージング時間短縮という効果を検証するために、前記実施の形態に基づいた誘電体保護膜8を形成したPDP1を作成し、凹部16を設けない誘電体保護膜8を備えた従来のPDPと比較した。
(Example 1)
In order to verify the effect of shortening the aging time of the present invention, a
図4に本実施の形態に係るPDPと比較例のエージングに伴う放電電圧の時間変化を示す。グラフの縦軸及び横軸はそれぞれ、放電電圧及びエージング時間を示しており、両軸共に凹部の無いパネルのエージング終了時の値で規格化している。 FIG. 4 shows the change over time of the discharge voltage accompanying aging of the PDP according to the present embodiment and the comparative example. The vertical axis and horizontal axis of the graph indicate the discharge voltage and the aging time, respectively, and both axes are normalized by the values at the end of aging of the panel having no recess.
図3に示すように、前面板2の誘電体保護膜8の表示電極対6直上部に凹部16を有するパネルのエージング時間が、通常のパネルに比べて1/5〜1/10程度に短縮されていることがわかる。また、定常状態に至った後の放電電圧に関しては、ほとんど差異が無いこともわかる。このことから、前面板2と背面板9の張り合わせ前に、前面板2の誘電体保護膜8の表示電極対6直上部に凹部16を形成することにより、エージング時間が大幅に短縮したと言える。
As shown in FIG. 3, the aging time of the panel having the
本発明のプラズマ表示装置及び製造方法は、交通機関及び公共施設、家庭などにおけるテレビジョン装置及びコンピューターのディスプレイに用いられる表示装置、その製造方法等として有用である。 The plasma display device and the manufacturing method of the present invention are useful as a display device used for a television device and a computer display in a transportation facility, public facility, home, etc., a manufacturing method thereof, and the like.
1 プラズマディスプレイパネル(PDP)
2 前面板
3 ガラス基板
4 維持電
5 走査電極
6 表示電極対
7 誘電体層(前面板)
8 誘電体保護膜(MgO)
9 背面板
10 ガラス基板
11 アドレス電極
12 誘電体層(背面板)
13 隔壁
14 蛍光体層
15 放電空間
16 凹部
17 非スパッタ部
18 透明電極
19 バス電極
20 マスク
1 Plasma display panel (PDP)
2
8 Dielectric protective film (MgO)
9 Back plate 10 Glass substrate 11 Address electrode 12 Dielectric layer (Back plate)
13
Claims (6)
前記誘電体保護膜の前記放電空間側における前記電極直上部に凹部が設けられているプラズマディスプレイパネル。 A first substrate in which an electrode, a dielectric layer, and a dielectric protective film are sequentially stacked on a main surface, and a second substrate, the main surface of the first substrate and the second substrate being disposed through a discharge space. It is a plasma display panel that is disposed to face each other in a face-to-face relationship and is sealed around the first substrate and the second substrate,
A plasma display panel, wherein a recess is provided immediately above the electrode on the discharge space side of the dielectric protective film.
前記誘電体保護膜の前記誘電体層と反対側における前記電極直上部をエッチングする誘電体保護膜処理工程と、
前記誘電体保護膜処理工程の後に、前記第1基板と前記第2基板とを放電空間を介して対向させて張り合わせる張り合わせ工程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法。 A first substrate forming step of sequentially laminating an electrode, a dielectric layer, and a dielectric protective film on the main surface;
A dielectric protective film treatment step for etching the portion immediately above the electrode on the opposite side of the dielectric protective film from the dielectric layer;
A method for manufacturing a plasma display panel, comprising: a step of bonding the first substrate and the second substrate facing each other through a discharge space after the dielectric protective film processing step.
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