JP2008003820A - Nonvolatile storage device and adapter device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、不揮発性メモリを備えた半導体メモリカード等の不揮発性記憶装置、及び前記不揮発性記憶装置を装着して使用するアダプタ装置に関する。 The present invention relates to a nonvolatile memory device such as a semiconductor memory card provided with a nonvolatile memory, and an adapter device to which the nonvolatile memory device is attached and used.
書き換え可能な不揮発性メモリを備える不揮発性記憶装置は、半導体メモリカードを中心にその需要が広まっている。半導体メモリカードは、光ディスクやテープメディアなどと比較して幾分、高価格なものではあるが、小型・軽量・耐震性・取り扱いの簡便さ等のメリットにより、デジタルスチルカメラや携帯電話などのポータブル機器の記録媒体としてその需要が広まり、最近では民生用動画記録機器や放送局向けのプロ用動画記録機器の記録媒体として利用されるようになってきた。更には、ポータブル機器だけではなくデジタルテレビやDVDレコーダ等の据え置き機器にも半導体メモリカード用のスロットが標準装備され、デジタルスチルカメラで撮影した静止画をデジタルテレビで閲覧したり、あるいは民生用動画記録機器で撮影した動画をDVDレコーダにダビングしたりできるようになってきた。 The demand for nonvolatile memory devices including a rewritable nonvolatile memory is increasing, especially for semiconductor memory cards. Although semiconductor memory cards are somewhat more expensive than optical discs and tape media, they are portable, such as digital still cameras and mobile phones, due to their merits such as small size, light weight, earthquake resistance, and ease of handling. The demand for the recording medium of equipment has increased, and recently it has come to be used as a recording medium for consumer video recording equipment and professional video recording equipment for broadcasting stations. Furthermore, not only portable devices but also stationary devices such as digital TVs and DVD recorders are equipped with a slot for a semiconductor memory card as a standard feature. You can view still images taken with a digital still camera on a digital TV, or a consumer video. It has become possible to dubb videos recorded with a recording device to a DVD recorder.
この半導体メモリカードは、不揮発性の主記憶メモリとしてフラッシュメモリを備え、それを制御するメモリコントローラを有している。メモリコントローラは、デジタルスチルカメラ本体等のアクセス装置からの読み書き指示に応じて、フラッシュメモリに対する読み書き制御を行うものとなっている。 This semiconductor memory card includes a flash memory as a nonvolatile main memory, and has a memory controller for controlling the flash memory. The memory controller performs read / write control on the flash memory in response to a read / write instruction from an access device such as a digital still camera body.
近年、静止画や動画等のAVコンテンツの高品質化すなわち大容量化に対応するために半導体メモリカードの更なる大容量化のニーズが高まっている。それに伴い、半導体メモリカードに記録したAVコンテンツを、ハードディスクレコーダやパーソナルコンピュータ(PC)に内蔵されたハードディスクやDVDレコーダ等の記録媒体にダビングする際、半導体メモリカードからより高速にデータを読み出せる事が求められるようになってきた。また、ハードディスク等の記録媒体に記録されたAVコンテンツを半導体メモリカードにダビングする際、半導体メモリカードに対してより高速にデータを書き込める事が求められるようになってきた。つまり、記録したデータを記録媒体間で高速ダビングすることによって、ユーザの待ち時間を短くすることが今後重要となってくる。 In recent years, there is a growing need for further increase in the capacity of semiconductor memory cards in order to cope with higher quality of AV contents such as still images and moving images, that is, higher capacity. As a result, when dubbing AV content recorded on a semiconductor memory card to a recording medium such as a hard disk recorder or a DVD recorder built in a hard disk recorder or personal computer (PC), data can be read from the semiconductor memory card at a higher speed. Has come to be required. In addition, when dubbing AV content recorded on a recording medium such as a hard disk onto a semiconductor memory card, it has been demanded that data can be written to the semiconductor memory card at a higher speed. That is, it will become important in the future to shorten the waiting time of the user by high-speed dubbing the recorded data between the recording media.
半導体メモリカードにおけるデータの高速転送に係る先行技術として、例えば特許文献1に示すようなフラッシュメモリの並列アクセスに関するものや、特許文献2に示すような半導体メモリカードとアクセス装置を接続するバスの高速化技術などがある。
Prior arts related to high-speed transfer of data in a semiconductor memory card include, for example, those related to parallel access of a flash memory as shown in
これらの文献に開示された技術を応用することによって、半導体メモリカードから高速にデータを読み出したり、あるいは半導体メモリカードへ高速にデータを書き込んだりすることが可能となる。例えばSD(セキュア・デジタル)メモリカードにおいては、その規格上、転送速度が25MBpsとなっているが、前述した技術によって将来的に100MBps以上の高速アクセスが可能となる。
しかしながら、あまり高速に読み書きすると、フラッシュメモリの発熱量が非常に大きくなり、特に読み出したデータが変化するといった信頼性面での問題が生じてしまう。 However, if the reading / writing is performed at a very high speed, the amount of heat generated in the flash memory becomes very large, and in particular, there arises a problem in terms of reliability such that the read data changes.
また、半導体メモリカードは表面積が小さく周囲に熱が逃げにくいため、ホスト機器の構造やフラッシュメモリの発熱量によっては火傷する可能性もある。 In addition, since the semiconductor memory card has a small surface area and it is difficult for heat to escape to the surroundings, there is a possibility of burns depending on the structure of the host device and the amount of heat generated by the flash memory.
そこで本発明は上記問題点に鑑み、小型サイズの特徴を残しながら、読み出したデータの信頼性を低下させることなく、かつ安全に扱える不揮発性記憶装置、及び該不揮発性記憶装置を装着して使用するアダプタ装置を提供することを目的とする。 Therefore, in view of the above problems, the present invention uses a nonvolatile storage device that can be safely handled without deteriorating the reliability of the read data while retaining the features of a small size, and the nonvolatile storage device is mounted and used. An object of the present invention is to provide an adapter device.
前記目的を達成するため、本発明においては以下の技術的手段を講じた。 In order to achieve the above object, the present invention takes the following technical means.
すなわち、本発明における技術的手段は、外部からのアクセス指示に応じてデータの読み出しや書き込みを行う不揮発性記憶装置であって、不揮発性メモリと、装着先がアダプタ装置か否かを検出するアダプタ装置装着検出部と、データの読み出しや書き込みに係るデータ転送速度を制限するデータ転送速度制限部とを有し、前記データ転送速度制限部は、前記アダプタ装着検出部が前記アダプタ装置への装着を検出しなかった場合にデータ転送速度を所定値以下に制限することを特徴とする。 That is, the technical means in the present invention is a non-volatile storage device that reads and writes data in accordance with an external access instruction, and includes a non-volatile memory and an adapter that detects whether or not the mounting destination is an adapter device A device mounting detection unit; and a data transfer rate limiting unit that limits a data transfer rate related to reading and writing of data. The data transfer rate limiting unit is configured so that the adapter mounting detection unit is mounted on the adapter device. If not detected, the data transfer rate is limited to a predetermined value or less.
なお、前記データ転送速度制限部は、予め記憶した速度制限パラメータに基づいてデータ転送速度の制限を行うことが好ましい。 The data transfer rate limiting unit preferably limits the data transfer rate based on a previously stored speed limit parameter.
さらに好ましくは、外部通知部を更に有し、前記外部通知部は、前記データ転送速度制御部がデータ転送速度を制限したか否か、あるいはデータ転送速度の制限に係る情報を外部に通知すればよい。 More preferably, it further includes an external notification unit, and the external notification unit notifies the outside whether or not the data transfer rate control unit limits the data transfer rate, or information related to the limitation of the data transfer rate. Good.
また、本発明における技術的手段は、少なくとも不揮発性メモリを有する不揮発性記憶装置と該不揮発性記憶装置の読み書きを行うアクセス装置との間に介在して使用されるアダプタ装置であって、前記不揮発性記憶装置が装着されているか否かを検出する不揮発性記憶装置装着検出部と、前記不揮発性記憶装置におけるデータの読み出しや書き込みに係るデータ転送速度を制限するデータ転送速度制限を前記不揮発性記憶装置に対して指示するデータ転送速度制限指示部とを有し、前記データ転送速度制限指示部は、前記不揮発性記憶装置装着検出部が前記不揮発性記憶装置の装着を検出しなかった場合にデータ転送速度を所定値以下に制限する指示を行うことを特徴とする。 The technical means in the present invention is an adapter device used intervening between a nonvolatile memory device having at least a nonvolatile memory and an access device for reading and writing the nonvolatile memory device, A non-volatile storage device mounting detection unit that detects whether or not a non-volatile storage device is mounted, and a data transfer rate limit that limits a data transfer rate related to reading and writing of data in the non-volatile storage device. A data transfer rate restriction instructing unit that instructs the device, and the data transfer rate restriction instructing unit receives data when the non-volatile storage device attachment detection unit does not detect attachment of the non-volatile storage device. An instruction is given to limit the transfer rate to a predetermined value or less.
なお、前記アダプタ装置は、前記不揮発性記憶装置の表面積よりも広い表面積であることが好ましい。 The adapter device preferably has a surface area wider than the surface area of the nonvolatile memory device.
また、前記アダプタ装置は、少なくとも高熱伝導性材料によって成形された部分を有することが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said adapter apparatus has a part shape | molded by the high heat conductive material at least.
また、前記アダプタ装置は、放熱部材を備えていることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said adapter apparatus is provided with the heat radiating member.
さらに好ましくは、前記アダプタ装置は、冷却装置を備えていることが好ましい。 More preferably, the adapter device preferably includes a cooling device.
本発明によれば、不揮発性記憶装置をアダプタ装置、すなわち該不揮発性記憶装置よりも表面積の大きい構造物に装着しない場合には、データ転送速度を所定値以下に制限する、言い換えれば該アダプタ装置に装着した場合にはデータ転送速度の制限をしないので、アダプタ装置を装着した場合は、アダプタ装置によって不揮発性憶装置の熱を逃がすこととなり、高速データ転送においても、読み出したデータの信頼性の低下や火傷などの危険性を回避することができる。また、アダプタ装置を装着しない場合、すなわち不揮発性記憶装置単体で使用する場合は、高速のデータ転送を禁止することとなり、同じくデータの信頼性の低下や火傷などの危険性を回避することができる。 According to the present invention, when the nonvolatile memory device is not attached to the adapter device, that is, the structure having a larger surface area than the nonvolatile memory device, the data transfer rate is limited to a predetermined value or less, in other words, the adapter device. The data transfer speed is not limited when the adapter is installed. Therefore, when the adapter device is installed, the heat of the nonvolatile memory device is released by the adapter device, and the reliability of the read data can be improved even in high-speed data transfer. Risks such as decline and burns can be avoided. Further, when the adapter device is not attached, that is, when the nonvolatile storage device is used alone, high-speed data transfer is prohibited, and the risk of data reliability deterioration and burns can be avoided. .
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に於ける不揮発性記憶システムの実施方法を示すブロック図である。図1において、不揮発性記憶システムは、アクセス装置100とアダプタ装置110と不揮発性記憶装置120とから構成される。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a block diagram showing a method for implementing a nonvolatile memory system according to
アクセス装置100はカードインターフェース101とアクセス制御部102とを含む。アクセス装置100の右側面には挿入口109が設けられており、挿入口109にアダプタ装置110に設けられた端子部113を挿入して使用する。あるいは、不揮発性記憶装置120を挿入して使用してもよい。挿入口109の奥にはカードインターフェース101が備えられており、カードインターフェース101に配列された9個の端子(端子1〜9)を介してアダプタ装置110及び不揮発性記憶装置120とのデータの送受信を行う。なお、9個の端子(端子1〜9)の仕様は、例えば、SDメモリカードの仕様と同等であるので説明を省略する。
The
アダプタ装置110は、筐体部112と端子部113とから構成され、筐体部112の右側面に挿入口119が設けられており、筐体部112の内部の上側面に電源端子111が備えられており、筐体部112内のカードインターフェースの端子4を介して電源が供給される。端子部113は、アクセス装置100の挿入口109の内面に密着する状態で挿入される。なお、端子部113が挿入口109から簡単に抜けないようにする仕組みについては、一般的に知られた技術を用いて実現できるので説明を省略する。
The
不揮発性記憶装置120は、メモリコントローラ130と不揮発性メモリ群140とアダプタ装置装着検出用接点121とアダプタ装置装着検出部122を含む。不揮発性記憶装置120には、アクセス装置100及びアダプタ装置110と同様に9個の端子(端子1〜9)が設けられ、メモリコントローラ130と接続されている。不揮発性記憶装置120の上側面にアダプタ装置装着検出用接点121が設けられており、アダプタ装置装着検出用接点121は、不揮発性記憶装置120をアダプタ装置110の挿入口119に挿入した際に電源端子111から電源が供給されるようになっている。アダプタ装置装着検出用接点121は不揮発性記憶装置120の内部に設けられたアダプタ装置装着検出部122に接続されており、アダプタ装置装着検出部122が検出した情報、すなわち不揮発性記憶装置120がアダプタ装置110に装着されたか否かの情報がメモリコントローラ130に通知されるようになっている。
The
図2は、不揮発性記憶装置120の構成を示すブロック図である。不揮発性記憶装置120は、アダプタ装置装着検出部122とメモリコントローラ130と不揮発性メモリ群140とから構成される。
FIG. 2 is a block diagram illustrating a configuration of the
アダプタ装置装着検出部122は、アダプタ装置装着検出用接点121と抵抗202とグランド203を直列に接続した回路であり、不揮発性記憶装置120がアダプタ装置110に装着された際に、電源端子111からアダプタ装置装着検出用接点121を介して電源201が供給され、データ転送速度制御端子150の電圧レベルが“Low”から“High”に切り替わるようになっている。
The adapter device
メモリコントローラ130は、ホストインターフェース210とバッファRAM220〜227と読み書き制御部230とアドレス管理部240とデータ転送速度制御部131と外部通知部133を含む。
The
ホストインターフェース210は端子1〜9を介してアクセス装置100との通信を行うブロックである。なお後述するが、高速モードで読み書きする場合は、ホストインターフェース210とアクセス装置100の間にアダプタ装置110が介挿されることとなる。バッファRAM220〜227はアクセス装置100から書き込まれたデータ、あるいは不揮発性メモリ群140から読み出されたデータを一時保持するブロックであり、各々4kバイトのサイズであり、バッファRAM220から降順に巡回的に使用される。アドレス管理部240はアクセス装置100のアクセスに伴って転送された論理アドレスを不揮発性メモリ群140の物理アドレスに変換したり、不揮発性メモリ群140の記録状態等を管理するブロックである。なお、アドレス管理方法については一般的な技術を用いて実現できるので説明を省略する。
The
読み書き制御部230は、アドレス管理部240が指定した物理アドレスに基づいて、バッファRAM220〜227に一時保持されたデータを不揮発性メモリ群140に書き込んだり、あるいは不揮発性メモリ群140からデータを読み出したりするブロックである。不揮発性メモリ群140は8個の不揮発性メモリ260〜267を有し、各々の不揮発性メモリの容量は1Gバイトである。各々の不揮発性メモリは、読み書き制御部230と各8ビットのI/Oバスで接続されており、更にデータ転送速度制御部131とRB信号線(各1ビット)で接続されている。データ転送速度制御部131は、内部に速度制限パラメータ記憶部132を備えており、速度制限パラメータ記憶部132は予め速度制限パラメータを記憶したROMなどによって構成される。
The read /
図3は、不揮発性メモリ260〜267のいずれか1つの構成を示す説明図である。本実施の形態において、不揮発性メモリとして今後主流と目されている多値NANDフラッシュメモリを想定する。図3において、不揮発性メモリ260〜267は、メモリセルアレイ300とI/Oレジスタ310及び320と周辺回路330を含む。メモリセルアレイ300は2つのディストリクト(以降、D1とD0と表記する)に分割され、ディストリクト毎に2048個の物理ブロックを有し、各物理ブロックは128個のページを有する。I/Oバスを介して転送されたデータはI/Oレジスタ310と320を介してそれぞれD0内の任意のページとD1内の任意のページに同時に書き込むことが可能である。また、D0内の任意のページとD1内の任意のページとから同時に読み出すことをも可能である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing the configuration of any one of the
図4は、データ転送速度制御部131の処理内容を示すフローチャートである。詳細については後述する。
FIG. 4 is a flowchart showing the processing contents of the data transfer
図5は、高速モードにおける読み出し処理を表すタイムチャートである。図5において、最上段は、アクセス装置100がバッファRAM220〜227からデータを読み出す状態を表している。最も左側に位置する枠がバッファRAM220に対応し、右隣がバッファRAM221、その右隣がバッファRAM222というように、バッファRAM220〜227を順番に使用することとなる。なお、バッファRAM227の右隣はバッファRAM220に戻る。また、アクセス装置100の各バッファRAMからのデータ読み出し所要時間は4kバイトあたり40μSとする。
FIG. 5 is a time chart showing the reading process in the high-speed mode. In FIG. 5, the uppermost row represents a state in which the
図6は、ノーマルモードにおける読み出し処理を表すタイムチャートである。バッファRAM220〜227については図5と同様である。 FIG. 6 is a time chart showing the reading process in the normal mode. The buffer RAMs 220 to 227 are the same as those in FIG.
図7は、高速モードにおける書き込み処理を表すタイムチャートである。図7において、最上段は、アクセス装置100がバッファRAM220〜227にデータを書き込む状態を表している。最も左側に位置する枠がバッファRAM220に対応し、右隣がバッファRAM221、その右隣がバッファRAM222というように、バッファRAM220〜227を順番に使用することとなる。なお、バッファRAM227の右隣はバッファRAM220に戻る。また、アクセス装置100の各バッファRAMへのデータ書き込み所要時間は4kバイトあたり40μSとする。
FIG. 7 is a time chart showing the writing process in the high-speed mode. In FIG. 7, the uppermost row represents a state in which the
図8は、ノーマルモードにおける書き込み処理を表すタイムチャートである。 FIG. 8 is a time chart showing the writing process in the normal mode.
図9は、アダプタ装置の外形図である。図9において、(A)は不揮発性記憶装置120よりも十分広い表面積を有した筐体部112を含むアダプタ装置の外形図である。同図(B)は高熱伝導部材で形成された小型筐体部900と高熱伝導部材で形成された端子部910とからなるアダプタ装置の外形図である。同図(C)は小型筐体部920に放熱部材920を接着したアダプタ装置の外形図である。
FIG. 9 is an external view of the adapter device. 9A is an external view of an adapter device including a
以上のように構成された、本発明の実施の形態1における不揮発性記憶システムについて、不揮発性記憶装置120にアダプタ装置110を装着する場合と装着しない場合に分けて、更にそれぞれについてデータの読み出しと書き込みに分けて説明する。なお、本発明には直接関係のない内容について、例えば不揮発性メモリ群140の一部の領域に記憶されるべきシステム情報や、アドレス管理部240の詳細動作などについては、簡単のため説明を省略する。
[アダプタ装置110を装着する場合]
図1において、不揮発性記憶装置120はアダプタ装置110の挿入口119に挿入され、アダプタ装置110に装着された状態で、アクセス装置100の挿入口109に挿入されることにより、不揮発性記憶装置120はカードインターフェース101を介してアクセス装置100と電気的に接続されることとなる。この時、アダプタ装置110内に設置された電源端子111と不揮発性記憶装置120の上側面に設置されたアダプタ装置装着検出用接点121が接続されることとなる。
Regarding the nonvolatile storage system according to the first embodiment of the present invention configured as described above, data is read out separately for each case where the
[When
In FIG. 1, the
その後、端子3と端子6を通じて不揮発性記憶装置120側とアクセス装置100側のグランドレベルが共通化され、端子4を介してアクセス装置100から不揮発性記憶装置120に電源が供給され、不揮発性記憶装置120は初期化処理を開始するとともに、図2に示すように、電源端子111及びアダプタ装置装着検出用接点121を介して、データ転送速度制御用端子150の電圧レベルが“High”となる。不揮発性記憶装置120とアダプタ装置110の装着/非装着による相違を表1に示す。
Thereafter, the ground levels of the
データ転送速度制御用端子150の電圧レベルはホストインターフェース210を介してデータ転送速度フラグ(値1)としてデータ転送速度制御部131に転送される。表1に示したとおり、データ転送速度フラグが値1の時を動作モード、値0の時をノーマルモードとする。その後、不揮発性記憶装置120はアクセス装置100からのアクセス待ち状態に入る。
The voltage level of the data transfer
アクセス装置100は、データの読み出しにおいては、不揮発性記憶装置120に対して読み出し命令とともに、読み出したいデータの開始アドレス(論理アドレス)と読み出したいデータサイズを転送する。ここで、論理アドレスと物理アドレスの関係について表2と図2と図3を用いて説明する。
When reading data, the
まず、表2において、論理アドレスは0番地から降順に4kバイト単位毎に不揮発性メモリ400〜407に巡回的に割り当てられる。なお、表2に示す論理アドレスは、16進数で表記している。通常、静止画や動画などのデータは数Mバイト以上の比較的大きな容量であり、また高速アクセスできるようにできるだけ連続した論理アドレスに記録されるようになっている。つまり、不揮発性メモリ400〜407へのデータ書き込みや読み出しにおいては、不揮発性メモリ400〜407を巡回的にアクセスすることとなる。
First, in Table 2, logical addresses are cyclically assigned to the
不揮発性メモリ400〜407への読み書きにおいて、データはバッファRAM220〜227を介して行われる。論理アドレスが0番地から4kバイト分の論理アドレスが連続するデータはバッファRAM220に、次の4kバイト分のデータはバッファRAM221に、といったように4kバイト単位毎に巡回的にバッファRAM220〜227が使用される。
In reading and writing to the
次に、論理アドレスとディストリクトの関係について、図3を用いて説明する。例えば論理アドレスが0番地から4kバイト分の論理アドレスが連続するデータは、前半の2kバイト分が不揮発性メモリ300のD0側、後半の2kバイト分が不揮発性メモリ300のD1側に割り当てられる。D0内やD1内のいずれの物理ブロックに割り当てるかはアドレス管理部240によって決定され、物理ブロック内においては論理連続となるように各ページに割り当てられるようになっている。アドレス管理部240の物理ブロックの選択、すなわち論理物理変換処理等について従来の技術を用いて実現できるので、説明を省略する。
Next, the relationship between the logical address and the district will be described with reference to FIG. For example, for data having logical addresses of 4 kbytes starting from address 0, the first 2 kbytes are allocated to the D0 side of the
・データの読み出し処理について
次に、データの読み出し処理について説明する。ここでは、論理アドレス0番地から連続的に読み出す場合について、図2、図4及び図5を用いて説明する。
Data Read Processing Next, data read processing will be described. Here, the case of continuous reading from the logical address 0 will be described with reference to FIGS.
まず、図2において、アクセス装置100が読み出し命令とともに、読み出したいデータの開始アドレス(論理アドレス)と読み出したいデータサイズを転送する。ホストインターフェース210は受信した開始アドレス及びデータサイズをアドレス管理部240に転送し、アドレス管理部240は論理アドレスをページ(2kバイト)単位毎に計数し、それぞれの論理アドレスに対する物理アドレスを決定し、物理アドレスを読み書き制御部230に転送する。そして読み書き制御部230は、物理アドレスに基づいて不揮発性メモリ260〜267からデータを読み出し、逐次バッファRAM220〜227に巡回的に一時記憶させる。
First, in FIG. 2, the
次に、データ転送速度制御部131が処理する内容について図4を用いて説明する。図4において、データ転送速度制御部131はホストインターフェース210からデータ転送速度制御フラグを受信し(S400)、不揮発性記憶装置120にアダプタ装置110を装着していない場合、すなわちノーマルモード時はS402以降の処理に移行し、一方、不揮発性記憶装置120にアダプタ装置110を装着している場合、すなわち高速モード時は処理を終了する。ここでは、アダプタ装置110を装着している場合である、すなわち高速モードであるので、データ転送速度制御部131の処理を終了する。なお、後述するがノーマルモード時においては、データ転送速度制御部131は読み書き制御部230に対してウェイト信号WSを出力することとなる。
Next, contents processed by the data transfer
次に図5を用いて、データ読み出し処理、読み出しレート及び読み出し処理によって発生する熱について説明する。図5において、読み書き制御部230はリードコマンドとアドレス管理部240から受信した物理アドレスを不揮発性メモリ260に転送し、不揮発性メモリ260はメモリセルアレイ300からI/Oレジスタ310、320に読み出し(“R”と表記したリードビジー期間)、読み書き制御部230は論理アドレス0番地から2kバイト分に対応するデータを不揮発性メモリ260のD0から、続く2kバイト分に対応するデータを不揮発性メモリ260のD1から読み出し(斜線でハッチングした転送期間)、4kバイト分のデータをまとめてバッファRAM220に一時記憶させる。一時記憶直後にアクセス装置100が40μSを要して読み出す。なお、アクセス装置100のバッファRAM220〜227の読み出しに要する転送レートは(数1)に示す通り100MBpsとなる。
Next, data generated by the data reading process, the reading rate, and the reading process will be described with reference to FIG. In FIG. 5, the read /
リードビジー期間中において不揮発性メモリ260はリードビジーフラグRB0をデータ転送速度制御部131に返し、転送期間中において読み書き制御部230は転送中フラグTF0をデータ転送速度制御部131に返す。但し、前述したとおり高速モードであるので、データ転送速度制御部131が出力するウェイト信号WSは“Low”のままである。従って読み書き制御部230はバッファRAM220〜227に継続的にデータを読み出し、アクセス装置100はバッファRAM220〜227に一時記憶されたデータを継続的に読み出すことになる。この時の読み出しレートは(数2)によって求められる値と、(数1)で求められる転送レートのうちの小さい方となる。すなわち読み出しレートは100MBpsとなる。なお、(数1)で求められる転送レートの方が(数2)によって求められる値よりも小さいため、どこかの時点で不揮発性メモリ260〜267のいずれかからの読み出しが待たされる状態が発生する。
During the read busy period, the
次に、この読み出し処理によってアダプタ装置110で発生する平均温度上昇△Tは、従来から知られた(数3)によって求められる。但し、(数3)において、Qとは不揮発性メモリ260〜267のリードに要する電力であり、リード時の平均電流10mAと電圧3.3V、D0/D1からの同時リード数(2)、不揮発性メモリ260〜267の並列アクセス数(8)、及び前述した不揮発性メモリ260〜267のいずれかからの読み出し待ちによる補正係数(100MBps/131MBps)によって算出できる。なお、Sは図9(A)に示すアダプタ装置110の表面積である。アダプタ装置110の周囲温度TEを25℃とすると、アダプタ装置110の表面温度TはTE(25℃)と△T(18℃)の和、すなわちT=43℃となり、アダプタ装置110の取り扱い時における火傷の危険性はなく、また読み出し時の信頼性低下が問題となる可能性は比較的小さい。
Next, the average temperature rise ΔT generated in the
ここで、不揮発性記憶装置120にアダプタ装置110を装着せずに高速モードで動作させた場合、不揮発性記憶装置120で発生する平均温度上昇△Tは、(数4)により約48℃となる。なお、Sは不揮発性記憶装置120がSDメモリカードである場合の表面積である。不揮発性記憶装置120の周囲温度TEを25℃とすると、不揮発性記憶装置120の表面温度TはTEと△Tの和、すなわちT=73℃となり、不揮発性記憶装置120の取り扱い時において火傷の危険性が高まり、また読み出し時の信頼性低下が問題となる可能性が大きい。
Here, when the
以上説明したとおり、高速モードで連続的にデータを読み出す場合は、図9(A)に示すような表面積の十分大きいアダプタ装置110を装着することによって、火傷の危険性や読み出し時の信頼性低下を回避することが可能となる。また、図9(B)に示すように、表面積は(A)ほど大きくないが、高熱伝導部材で形成された小型筐体部900や、同じく高熱伝導部材で形成された小型端子部901とすることにより、アクセス装置100側に熱を逃がすことにより温度上昇を抑える、すなわち△Tを小さくすることも可能である。さらには、図9(C)に示すように小型筐体部910に放熱部材920を接着することにより温度上昇を抑えることが可能となる。
As described above, when data is continuously read out in the high-speed mode, by attaching the
・データの書き込み処理について
次に、データの書き込み処理について説明する。書き込み処理においても、論理アドレス0番地から連続的に書き込む場合について、図2と図7を用いて説明する。
Data writing process Next, the data writing process will be described. Also in the writing process, the case of writing continuously from the logical address 0 will be described with reference to FIGS.
まず、図2において、アクセス装置100が書き込み命令とともに、書き込みたいデータの開始アドレス(論理アドレス)を転送する。なお、アクセス装置100から中断命令を転送することによって書き込みが終了することとなる。
First, in FIG. 2, the
ホストインターフェース210は受信したデータをバッファRAM220〜227に巡回的に一時記憶させるとともに、受信した開始アドレスに基づき、バッファRAM220〜227に一時記憶されたデータに対応する論理アドレスをアドレス管理部240に転送する。アドレス管理部240は、論理アドレスに基づき物理アドレスを決定し読み書き制御部230に物理アドレスを指示するとともに、逐次バッファRAM220〜227に一時記憶されたデータ不揮発性メモリ260〜267に巡回的に書き込む。
The
データ転送速度制御部131の動作については、前述したデータの読み出し処理と同様であり、高速モードとして制御することとなるので、ここでは説明を省略する。
The operation of the data transfer
次に図7を用いて、データ書き込み処理、書き込みレート及び書き込み処理によって発生する熱について説明する。図7において、読み書き制御部230は転送開始コマンドと物理アドレスとバッファRAM220に一時記憶されたデータを不揮発性メモリ260に転送し(斜線でハッチングした転送期間)、その後にライトコマンドを転送し、不揮発性メモリ260はI/Oレジスタ310、320に転送したデータを指定された物理アドレスに対応するページに書き込む(“W”と表記したライトビジー期間)。なお論理アドレス0番地から2kバイト分に対応するデータを不揮発性メモリ260のD0に、続く2kバイト分に対応するデータを不揮発性メモリ260のD1に書き込むこととなる。なおアクセス装置100からバッファRAM220〜227の各々にデータを転送する時間は40μSであり、転送レートは(数1)に示すとおり100MBpsとなる。
Next, data generated by the data writing process, the writing rate, and the writing process will be described with reference to FIG. In FIG. 7, the read /
ライトビジー期間中において不揮発性メモリ260はライトビジーフラグRB0をデータ転送速度制御部131に返し、転送期間において読み書き制御部230は転送中フラグTF0をデータ転送速度制御部131に返す。但し、前述したとおり高速モードであるので、データ転送速度制御部131が出力するウェイト信号WSは“Low”のままである。従って読み書き制御部230はバッファRAM220〜227に一時記憶されたデータを継続的に不揮発性メモリに260〜267に転送し書き込むこととなる。この時の書き込みレートは(数5)によって求められる値と、(数1)で求められる転送レートのうちの小さい方となる。すなわち書き込みレートは約34MBpsとなる。なお、(数1)で求められる転送レートの方が(数5)によって求められる値よりも大きいため、どこかの時点でアクセス装置からバッファRAM220〜227へのデータの一時記憶処理が待たされる状態が発生する。
During the write busy period, the
次に、この書き込み処理によってアダプタ装置110で発生する平均温度上昇△Tは、(数6)によって求められる。但し、Qとは不揮発性メモリ260〜267のライトに要する電力であり、ライト時の平均電流10mAと電圧3.3V、D0/D1からの同時リード数(2)、不揮発性メモリ260〜267の並列アクセス数(8)によって算出できる。なおSは図9(A)に示すアダプタ装置110の表面積である。アダプタ装置110の周囲温度TEを25℃とすると、アダプタ装置110の表面温度TはTEと△T(23℃)の和、すなわちT=48℃となり、アダプタ装置110の取り扱い時における火傷の危険性はない。またこのような高速モードでの書き込みを行った直後に、すなわちアダプタ装置110の冷却期間を待たずにデータを読み出したと場合、データ読み出し時の信頼性低下が問題となる可能性は比較的小さい。
Next, the average temperature rise ΔT generated in the
ここで、不揮発性記憶装置120にアダプタ装置110を装着せずに高速モードで動作させた場合、不揮発性記憶装置120で発生する平均温度上昇△Tは、(数7)により約60℃となる。なおSは不揮発性記憶装置120がSDメモリカードである場合の表面積である。不揮発性記憶装置120の周囲温度TEを25℃とすると、不揮発性記憶装置120の表面温度TはTEと△Tの和、すなわちT=85℃となり、不揮発性記憶装置120の取り扱い時において火傷の危険性がある。また、このような高速モードでの書き込みを行った直後に、すなわちアダプタ装置110の冷却期間を待たずにデータを読み出した場合、読み出し時の信頼性低下が問題となる可能性が大きい。
Here, when the
以上説明したとおり、高速モードで連続的にデータを書き込む場合においても、前述しように図9(A)、(B)、(C)に示すようなアダプタ装置110を装着することによって、安全性とデータの信頼性を確保することが可能となる。
[アダプタ装置110を装着しない場合]
次に、アダプタ装置110を装着せずに、アクセス装置100から直接、不揮発性記憶装置120にデータ読み書きをする場合について説明する。
As described above, even when data is continuously written in the high-speed mode, as described above, by mounting the
[When
Next, a case where data is read / written from / to the
図1において、不揮発性記憶装置120はアクセス装置100の挿入口109に直接挿入されることにより、不揮発性記憶装置120はカードインターフェース101を介してアクセス装置100と電気的に接続されることとなる。この時、不揮発性記憶装置120の上側面に設置されたアダプタ装置装着検出用接点121には電源が供給されることなく不揮発性記憶装置120は初期化処理を開始する。従ってデータ転送速度制御用端子150の電圧レベルが“Low”となり、データ転送速度フラグ(値0)としてデータ転送速度制御部131に転送され、表1に示したように、ノーマルモードとして動作することとなる。
In FIG. 1, the
・データの読み出し処理について
前述した「アダプタ装置110を装着する場合」と比較すると、データ転送速度制御部131が処理する内容が異なるので、その点を中心に説明する。
Data Reading Process Compared with the above-described “when the
図4において、データ転送速度制御部131はホストインターフェース210からデータ転送速度制御フラグを受信し(S400)、不揮発性記憶装置120にアダプタ装置110を装着していない場合、すなわちノーマルモード時はS402以降の処理に移行する(S401)。データ転送速度制御部131は不揮発性メモリ群140からRB信号RBn(n=0〜7)を受信し、更に読み書き制御部230から転送中フラグTFn(n=0〜7)を受信する(S402)。そして前述した(数8)に基づきアクセス中フラグAFn(n=0〜7)を算出した後(S403)、データ転送速度制御部131内の速度制御パラメータ記憶部132に予め記憶された速度制御パラメータMを読み出し、(数9)に基づきウェイト信号WSを算出する(S404)。本実施の形態においてはMが値1であるが、この場合は不揮発性メモリ260〜267のいずれか1つ以上にデータを転送しているか、あるいは不揮発性メモリ260〜267のいずれか1つ以上がリードビジーの場合にウェイト信号WSが値1となる。そして、データ転送速度制御部131はウェイト信号WSを読み書き制御部230に出力し(S405)、読み書き制御部230はウェイト信号WSが値1に場合に、ウェイト信号WSが値0になるまで次の読み出し処理を中止することとなる。なお速度制限パラメータMは、データ転送速度制御部131内の速度制限パラメータ記憶部132に予め記憶されたパラメータであり、値1以外の値に設定しても構わない。
In FIG. 4, the data transfer
次に図6を用いて、データ読み出し処理、読み出しレート及び読み出し処理によって発生する熱について説明する。なお図5との相違点は、ウェイト信号WSによって不揮発性メモリ260〜267の読み出し開始時刻が制御される点である。具体的には、不揮発性メモリ260からのデータの読み出しによって値1にセットされるAF0はウェイト信号WSとして読み書き制御部230に出力され、読み書き制御部230は次の読み出し、すなわち不揮発性メモリ261からのデータの読み出しを中断する。そして、不揮発性メモリ260からのデータの読み出しが完了した時点でAF0は値0となるのでウェイト信号WSが“Low”となり、読み書き制御部230は不揮発性メモリ261からのデータの読み出しを開始する。このように、ウェイト信号WSによって次の不揮発性メモリの読み出し開始を制御することによって不揮発性メモリ260〜267の読み出し期間を分散させることとなる。
Next, data generated by the data reading process, the reading rate, and the reading process will be described with reference to FIG. The difference from FIG. 5 is that the read start time of the
この時の読み出しレートは(数10)によって求められる値と、(数1)で求められる転送レートのうちの小さい方となる。すなわち読み出しレートは、(数10)で求められる16MBpsとなる。なお、(数1)で求められる転送レートの方が(数10)によって求められる値よりも大きいため、アクセス装置100のバッファRAM220〜227からの読み出しが待たされる状態が発生する。
The read rate at this time is the smaller of the value obtained by (Equation 10) and the transfer rate obtained by (Equation 1). That is, the read rate is 16 MBps obtained by (Equation 10). Since the transfer rate obtained by (Equation 1) is larger than the value obtained by (Equation 10), a state in which reading from the buffer RAMs 220 to 227 of the
この読み出し処理によって不揮発性記憶装置120で発生する平均温度上昇△Tは、(数11)によって、11℃と求められる。但し、Qとは不揮発性メモリ260〜267のリードに要する電力であり、リード時の平均電流10mAと電圧3.3V、D0/D1からの同時リード数2によって算出できる。なおSは不揮発性記憶装置120がSDメモリカードである場合の表面積である。不揮発性記憶装置120の周囲温度TEを25℃とすると、不揮発性記憶装置120の表面温度TはTEと△Tの和、すなわちT=36℃となり、アダプタ装置110の取り扱い時における火傷の危険性はなく、また読み出し時の信頼性低下が問題となる可能性は比較的小さい。
The average temperature rise ΔT generated in the
以上説明した通り、ノーマルモードにおいてデータを読み出す場合、すなわち速度制限パラメータMを値1とすることによって不揮発性メモリ260〜267の読み出し処理が時間的に重ならないように読み出す場合は、アダプタ装置110を装着しなくても安全性とデータ信頼性を確保することが可能である。
As described above, when data is read in the normal mode, that is, when the speed limit parameter M is set to a value of 1, the read processing of the
なお、速度制限パラメータMの値を2とすることにより、不揮発性メモリ260〜267の内、2つの不揮発性メモリのみの読み出し処理が重なることとなる。この場合の不揮発性記憶装置120で発生する平均温度上昇△Tは、(数12)によって、20℃と求められる。この場合は、不揮発性記憶装置120の表面温度TはTEと△Tの和、すなわちT=45℃となり、アダプタ装置110の取り扱い時における火傷の危険性はなく、また読み出し時の信頼性低下が問題となる可能性は比較的小さい。
Note that by setting the value of the speed limit parameter M to 2, reading processing of only two nonvolatile memories out of the
速度制限パラメータMの値は、不揮発性記憶装置120を設計する段階において、使用する不揮発性メモリの信頼性等の条件に応じて適切に設定すればよい。
The value of the speed limit parameter M may be appropriately set according to conditions such as the reliability of the nonvolatile memory to be used at the stage of designing the
・データの書き込み処理について
前述した「アダプタ装置110を装着する場合」と比較すると、データの読み出し処理と同様に、データ転送速度制御部131が処理する内容が異なり、データ転送速度制御部131が生成するウェイト信号WSによって図8に示すように不揮発性メモリ260〜267への書き込み期間を分散させることとなる。
Data writing process Compared with the above-mentioned “when the
この時の読み出しレートは(数13)によって求められる値と、(数1)で求められる転送レートのうちの小さい方となる。すなわち読み出しレートは、(数13)で求められる4.3MBpsとなる。なお、(数1)で求められる転送レートの方が(数13)によって求められる値よりも大きいため、アクセス装置100のバッファRAM220〜227への書き込みが待たされる状態が発生する。
The read rate at this time is the smaller of the value obtained by (Equation 13) and the transfer rate obtained by (Equation 1). That is, the read rate is 4.3 MBps obtained by (Equation 13). Since the transfer rate obtained by (Equation 1) is larger than the value obtained by (Equation 13), a state in which writing to the buffer RAMs 220 to 227 of the
この書き込み処理によって不揮発性記憶装置120で発生する平均温度上昇△Tは、図6を用いて説明したデータ読みだし処理と同様に、(数11)によって求められる。すなわち不揮発性記憶装置120の表面温度Tは36℃となり、アダプタ装置110の取り扱い時における火傷の危険性はなく、また読み出し時の信頼性低下が問題となる可能性は比較的小さい。
The average temperature rise ΔT generated in the
以上説明した通り、ノーマルモードにおいてデータを書き込む場合において、すなわち速度制限パラメータMを値1とすることによって不揮発性メモリ260〜267の読み出し処理が時間的に重ならないように読み出す場合においても、アダプタ装置110を装着しなくても安全性とデータ信頼性を確保することが可能である。
As described above, even when data is written in the normal mode, that is, when the reading process of the
なお速度制限パラメータMの値は、前述したデータ読みだし処理と同様に、不揮発性記憶装置120を設計する段階において、使用する不揮発性メモリの信頼性等の条件に応じて適切に設定すればよい。
Note that the value of the speed limit parameter M may be appropriately set according to conditions such as the reliability of the nonvolatile memory to be used in the stage of designing the
以上、不揮発性記憶装置120にアダプタ装置110を装着して使用する場合と装着せずに使用する場合に分けて、それぞれデータの読み出し及び書き込みについて説明したが、予め不揮発性記憶装置120を最高速度が実現できるように設計しておき、更に不揮発性記憶装置120にアダプタ装置装着検出部122とデータ転送速度制御部131を設けることにより、不揮発性記憶装置120よりも表面積が十分大きい、あるいは高熱伝導部材で成形されたアダプタ装置110を装着した時にのみに高速動作を許可し、アダプタ装置110を装着しない時は動作速度を抑制するようにしたので、動作速度に比例して大きくなる発熱によって引き起こされる読み出しデータの信頼性の低下や、不揮発性記憶装置120の取り扱いにおける火傷などの危険性を回避することができる。
As described above, the reading and writing of data have been described separately for the case where the
(実施の形態2)
図10は、本発明の実施の形態2に於ける不揮発性記憶システムの実施方法を示すブロック図である。図10において、不揮発性記憶システムは、アクセス装置100とアダプタ装置1010と不揮発性記憶装置1020とから構成される。1011は導電スイッチ、1012は不揮発性記憶装置装着検出部、1013はデータ転送速度制御信号送信端子、1014と1015と1021は導電性部材、1022はデータ転送速度制御信号受信端子である。
(Embodiment 2)
FIG. 10 is a block diagram showing a method for implementing the nonvolatile memory system according to
図11は、不揮発性記憶装置1020と不揮発性記憶装置装着検出部1012を示すブロック図である。1101は抵抗、1102はグランドである。その他は図2と同様である。
FIG. 11 is a block diagram illustrating the
以上のように構成された、本発明の実施の形態2における不揮発性記憶システムについて説明する。なお、実施の形態1との相違点は、不揮発性記憶装置1020にアダプタ装置1010を装着しているか否かを検出する機能が、アダプタ装置1010側に備えられている点のみであり、その他については実施の形態1と同様であるので、アダプタ装置1010の装着の検出動作のみについて説明する。
The non-volatile storage system according to
図10において、不揮発性記憶装置1020はアダプタ装置1010の挿入口119に挿入されアダプタ装置1010が装着され、アクセス装置100の挿入口109に挿入されることにより、不揮発性記憶装置1020はカードインターフェース101を介してアクセス装置100と電気的に接続されることとなる。この時、アダプタ装置1010内に備えられた導電性部材1014、1015が、不揮発性記憶装置1020に備えられた導電性部材1021によって導通し、電源が端子4と導電部材1014、1015を介して、アダプタ装置1010内に備えられた不揮発性記憶装置装着検出部1012に供給される。
In FIG. 10, the
更に、アダプタ装置1010内に備えられたデータ転送速度制御信号送信端子1013と、不揮発性記憶装置1020に備えられたデータ転送速度制御信号受信端子1022が接合される。
Further, the data transfer rate control
不揮発性記憶装置装着検出部1012において、図11に示すように導電性部材1021によってデータ転送速度制御信号送信端子1013に電源が供給され、更にータ転送速度制御信号送信端子1013に接合されたデータ転送速度制御信号受信端子1022にも電源が供給され、データ転送速度制御用端子150の電圧レベルが“High”になる。この時の動作モードとの関係は、表1に示した通りである。
In the non-volatile storage device mounting
データ転送速度制御用端子150の電圧レベルはホストインターフェース210を介してデータ転送速度フラグ(値1)としてデータ転送速度制御部131に転送される。表1に示したとおり、データ転送速度フラグが値1の時を動作モード、値0の時をノーマルモードとする。その後不揮発性記憶装置120はアクセス装置100からのアクセス待ち状態に入る。なお、その後の処理については実施の形態1と同様であるので説明を省略する。
The voltage level of the data transfer
以上のように、実施の形態2においても、不揮発性記憶装置1020よりも表面積が十分大きい、あるいは高熱伝導部材で成形されたアダプタ装置1010を装着した時にのみに高速動作を許可し、アダプタ装置1010を装着しない時は動作速度を抑制するようにしたので、動作速度に比例して大きくなる発熱によって引き起こされる読み出しデータの信頼性の低下や、不揮発性記憶装置1020の取り扱いにおける火傷などの危険性を回避することができる。
As described above, also in the second embodiment, the
なお、アダプタ装置110やアダプタ装置1010の種類は、図9(A)、(B)、(C)に示すようなさまざま種類があるが、例えばアダプタ装置110や1010内に冷却装置を設けることにより発熱を抑制する等、他の手段を用いても構わない。従って、一例としては、アダプタ装置の検出に代えて、装着先の放熱機能の有効性を検出する放熱機能検出部と、データの読み出しや書き込みに係るデータ転送速度を制限するデータ転送速度制限部とを有し、データ転送速度制限部は、放熱機能検出部が放熱機能の無効を検出した場合にデータ転送速度を所定値以下に制限するように構成すればよい。
There are various types of the
また、データ転送速度制御部131に対する速度モードの切り換え、あるいは速度制限パラメータMの値の設定方法など、の実施の形態1や実施の形態2に限定されるものではない。また、高速動作に起因した発熱によって引き起こされる問題として、データの信頼性に係る問題や火傷などの安全性に係る問題をあげたが、本発明で開示した技術はその他の問題についても対応することが可能である。
Further, the switching of the speed mode for the data transfer
本発明にかかる不揮発性記憶システムは、高速動作に起因した発熱によって引き起こされるさまざまな問題に対応できる方法を提案したものであり、半導体メモリカードはいうまでもなく、半導体メモリカード等の不揮発性記憶装置を使用した静止画記録再生装置や動画記録再生装置、あるいは携帯電話においても有益である。 The nonvolatile memory system according to the present invention proposes a method that can cope with various problems caused by heat generated due to high-speed operation. Needless to say, a semiconductor memory card, a nonvolatile memory such as a semiconductor memory card is proposed. The present invention is also useful in a still image recording / reproducing apparatus, a moving image recording / reproducing apparatus, or a mobile phone using the apparatus.
100 アクセス装置
101 カードインターフェース
109、119 挿入口
110、1010 アダプタ装置
111 電源端子
120、1020 不揮発性記憶装置
121 アダプタ装置装着検出用接点
122 アダプタ装置装着検出部
130 メモリコントローラ
131 データ転送速度制御部
140 不揮発性メモリ群(フラッシュメモリ群)
200 アダプタ装着検出部
201 電源
202、1101 抵抗
203、1102 グランド
210 ホストインターフェース
220〜227 バッファRAM
240 アドレス管理部
250 速度制限パラメータ記憶部
251 外部通知部
260〜267 不揮発性メモリ(フラッシュメモリ)
300 メモリセルアレイ
310、320 I/Oレジスタ
330 周辺回路
900 高熱伝導部材で成形された小型筐体部
901 高熱伝導部材で形成された端子部
910 放熱部材920を接着した小型筐体部
920 放熱部材
1011 導電スイッチ
1012 不揮発性記憶装置装着検出部
1013 データ転送速度制御信号送信端子
1014、1015、1021 導電性部材
1022 データ転送速度制御信号受信端子
DESCRIPTION OF
200 Adapter
240 Address management unit 250 Speed limit parameter storage unit 251
DESCRIPTION OF
Claims (9)
不揮発性メモリと、装着先がアダプタ装置か否かを検出するアダプタ装置装着検出部と、データの読み出しや書き込みに係るデータ転送速度を制限するデータ転送速度制限部とを有し、
前記データ転送速度制限部は、前記アダプタ装着検出部が前記アダプタ装置への装着を検出しなかった場合にデータ転送速度を所定値以下に制限することを特徴とする不揮発性記憶装置。 A nonvolatile storage device that reads and writes data in response to an external access instruction,
A non-volatile memory, an adapter device attachment detection unit that detects whether or not the attachment destination is an adapter device, and a data transfer rate limiting unit that limits a data transfer rate related to data reading and writing,
The non-volatile storage device, wherein the data transfer rate limiting unit limits the data transfer rate to a predetermined value or less when the adapter mounting detection unit does not detect mounting on the adapter device.
前記外部通知部は、前記データ転送速度制御部がデータ転送速度を制限したか否か、あるいはデータ転送速度の制限に係る情報を外部に通知することを特徴とする請求項1または2に記載の不揮発性記憶装置。 An external notification unit,
3. The external notification unit according to claim 1, wherein the external notification unit notifies the outside whether or not the data transfer rate control unit limits the data transfer rate, or information related to the limitation of the data transfer rate. Non-volatile storage device.
前記不揮発性記憶装置が装着されているか否かを検出する不揮発性記憶装置装着検出部と、前記不揮発性記憶装置におけるデータの読み出しや書き込みに係るデータ転送速度を制限するデータ転送速度制限を前記不揮発性記憶装置に対して指示するデータ転送速度制限指示部とを有し、
前記データ転送速度制限指示部は、前記不揮発性記憶装置装着検出部が前記不揮発性記憶装置の装着を検出しなかった場合にデータ転送速度を所定値以下に制限する指示を行うことを特徴とするアダプタ装置。 An adapter device used at least between a non-volatile storage device having a non-volatile memory and an access device for reading and writing the non-volatile storage device,
A non-volatile storage device attachment detection unit that detects whether or not the non-volatile storage device is attached, and a data transfer rate limit that restricts a data transfer rate related to reading and writing of data in the non-volatile storage device. A data transfer rate limit instruction unit for instructing the volatile storage device,
The data transfer rate restriction instruction unit performs an instruction to limit the data transfer rate to a predetermined value or less when the nonvolatile storage device attachment detection unit does not detect the attachment of the nonvolatile storage device. Adapter device.
不揮発性メモリと、装着先の放熱機能の有効性を検出する放熱機能検出部と、データの読み出しや書き込みに係るデータ転送速度を制限するデータ転送速度制限部とを有し、
前記データ転送速度制限部は、前記放熱機能検出部が前記放熱機能の無効を検出した場合にデータ転送速度を所定値以下に制限することを特徴とする不揮発性記憶装置。 A nonvolatile storage device that reads and writes data in response to an external access instruction,
A non-volatile memory, a heat dissipation function detection unit that detects the effectiveness of the heat dissipation function of the mounting destination, and a data transfer rate limiting unit that limits the data transfer rate related to data reading and writing,
The data transfer rate limiting unit limits a data transfer rate to a predetermined value or less when the heat dissipation function detection unit detects invalidity of the heat dissipation function.
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