JP2007508131A - 燐を含む触媒組成物及びそれを利用したヒドロホルミル化の方法 - Google Patents

燐を含む触媒組成物及びそれを利用したヒドロホルミル化の方法 Download PDF

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Abstract

燐を含む触媒組成物及びそれを利用したヒドロホルミル化の方法を提供する。
遷移金属触媒にリガンドとして単座及び二座の燐化合物を組合わせた触媒組成物及び触媒組成物をオレフィン系化合物、一酸化炭素及び水素の混合気体と共に攪拌しつつ、加温、加圧してアルデヒドを製造するオレフィン系化合物のヒドロホルミル化の方法である。これにより、二座配位子を単独で使用した場合の、イソ−アルデヒドに対するノルマル−アルデヒドの選択性(N/I選択性)を維持しつつ、触媒活性を向上させて触媒系を安定化させうる。

Description

本発明は、燐を含む触媒組成物及びそれを利用したヒドロホルミル化の方法に係り、更に詳細には、遷移金属触媒にリガンドとして単座及び二座の燐化合物を組合わせた触媒組成物、並びにこのような触媒組成物をオレフィン系の化合物と一酸化炭素及び水素の混合気体と共に攪拌しつつ、加温、加圧してアルデヒドを製造するオレフィン系化合物のヒドロホルミル化の方法に関する。
一般的に、オキソ(OXO)反応として公知のヒドロホルミル化反応とは、金属触媒及びリガンドの存在下で、各種オレフィンと合成ガス(Synthetic gas、CO/H)とが反応して、オレフィンに炭素数が一つ増加した直鎖状(ノルマル)及び分枝状(イソ)のアルデヒドが生成される過程を意味する。オキソ反応は、1938年ドイツのOtto Roelenにより初めて発見され、2001年には世界的に約8百40万トンの各種アルデヒド(アルコール誘導体を含む)がオキソ反応により生産及び消費されている(SRI報告書、November 2002、682.700A)。オキソ反応により合成された各種アルデヒドは、酸化または還元過程により、アルデヒド誘導体である酸及びアルコールに変換される。さらに、アルドールなどの縮合反応後、酸化または還元反応により長いアルキル基が含まれた多様な酸及びアルコールに変換されうる。このようなアルコール及び酸は、溶媒、添加剤、及び各種可塑剤の原料として使用されている。
現在、オキソ反応に使用される触媒は、主にコバルト(Co)とロジウム(Rh)系列であり、適用するリガンドの種類及び運転条件により生成されるアルデヒドのN(normal)/I(iso)選択性が変わる。現在、全世界の70%以上のオキソ法工場が、ロジウム系の触媒を適用した低圧オキソ法を採用している。
オキソ触媒の中心金属としては、コバルト(Co)及びロジウム(Rh)の他にもイリジウム(Ir)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(Os)、プラチナ(Pt)、パラジウム(Pd)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)などが適用可能である。しかし、各金属は、Rh>>Co>Ir、Ru>Os>Pt>Pd>Fe>Niなどの順に触媒活性を表すと知られいるため、ほとんどの工程及び研究は、ロジウムとコバルトとに集中している。リガンドとしては、ホスフィン(PR、R=C、n−C)、ホスフィンオキシド(O=P(C)、ホスファイト、アミン、アミド、イソニトリルなどが適用可能であるが、触媒の活性、安定性及び価格面において、トリフェニルホスフィン(TPP)より優れたリガンドはほとんどない。したがって、ほとんどのオキソ法で、触媒としてはRh金属を使用し、リガンドとしてはTPPを適用しており、また、触媒系の安定性を向上させるために、リガンドであるTPPは、触媒の100当量以上を適用することが知られている。
イーストマン・コダック社及びユニオン・カーバイド(現在は、Dowに統合された)社により、高い触媒活性及び高いN/I選択性を表す二座ホスフィンリガンドが開発された(米国特許第4694109号明細書、米国特許第4668651号明細書)。
最近では、既存のアルキルホスフィンまたはアリールホスフィンを代替して、更に高い触媒活性及び選択性を付与できる新規なリガンドを開発しようとする多くの研究が行われている。
例えば、Moloy,K.M.とPeterson,J.F.らは、N−ピロリルホスフィンリガンドを開発してアメリカ化学会紙に報告した(JACS 1995,117,7696)。
米国特許第5,710,344号は、一つ以上のP−CまたはP−N結合を含む二座配位子を利用した、ヒドロホルミル化反応による線型アルデヒドの製造に関して開示している。
しかし、前記の触媒のように、単座または二座の燐化合物をリガンドとして単独で適用する場合、触媒に対するリガンドの含量を増加させれば、触媒系の安定性は向上するが、触媒活性が急減するという問題点がある。さらに、N/I選択性も、リガンドの添加量によって変わるという問題点がある。
米国特許第4,694,109号明細書 米国特許第4,668,651号明細書 米国特許第5,710,344号明細書 Moloy,K.M.及びPeterson,J.F.,JACS 1995,117,7696.
本発明が達成しようとする技術的課題は、二座配位子を単独で使用した場合のノルマル−またはイソ−アルデヒドに対する選択性(N/I選択性)を維持しつつ、触媒活性を向上させて、触媒系を安定化させうる二座配位子、単座配位子及び遷移金属触媒を含むヒドロホルミル化触媒組成物を提供するところにある。
本発明が達成しようとする他の技術的課題は、前記触媒組成物をオレフィン系化合物、一酸化炭素及び水素の混合気体と共に攪拌しつつ、加温、加圧してアルデヒドを製造するオレフィン系化合物のヒドロホルミル化の方法を提供するところにある。
本発明は、前記技術的課題を達成するために、(a)下記化学式1で表示される二座配位子;(b)下記化学式2で表される単座配位子;(c)下記化学式3で表示される遷移金属触媒を含む触媒組成物を提供する:
Figure 2007508131
前記式1で、R及びRは、それぞれ炭素原子数1ないし20の置換または非置換のアルキル基;炭素原子数1ないし20の置換または非置換のアルコキシ基;炭素原子数5ないし20の置換または非置換のシクロアルカンまたはシクロアルケン;炭素原子数6ないし36の置換または非置換のアリール基;炭素原子数1ないし20の置換または非置換のヘテロアルキル基;炭素原子数4ないし36の置換または非置換のヘテロアリール基;または炭素原子数4ないし36の置換または非置換の複素環基であり、Ar−Arは、ビスアリール系化合物であり、Xは、酸素(O)または
硫黄(S)である。
Figure 2007508131
前記式2で、R、R、及びRは、それぞれ炭素原子数1ないし20の置換または非置換のアルキル基;炭素原子数1ないし20の置換または非置換のアルコキシ基;炭素原子数5ないし20の置換または非置換のシクロアルカンまたはシクロアルケン;炭素原子数6ないし36の置換または非置換のアリール基;炭素原子数1ないし20の置換または非置換のヘテロアルキル基;炭素原子数4ないし36の置換または非置換のヘテロアリール基;または炭素原子数4ないし36の置換または非置換の複素環基であり、この時置換基R、R、およびRは、それぞれ、任意選択で、ニトロ(−NO)、フッ素(F)、塩素(Cl)、ブロム(Br)、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されていてもよく、Yは酸素(O)または硫黄(S)である。
Figure 2007508131
前記式3で、Mは、遷移金属であり、L、L及びLは、それぞれ、水素、CO、アセチルアセトナート、シクロオキタジエン、ノルボルネン、塩素、またはトリフェニルホスフィンであり、l、m、及びnは、それぞれ、0ないし5の値を有し、但し、l、m及びnが同時に0である場合は除外される。
本発明は、他の技術的課題を達成するために、前記触媒組成物を、オレフィン系化合物、一酸化炭素及び水素の混合気体と共に攪拌しつつ、加温、加圧してアルデヒドを製造するオレフィン系化合物のヒドロホルミル化の方法を提供する。
本発明の一実施例によれば、前記オレフィン系化合物は、下記化学式4で表示される化合物であることが好ましい。
Figure 2007508131
前記化学式4で、R及びRは、それぞれ、水素、炭素原子数1ないし20のアルキル基、フッ素(−F)、塩素(−Cl)、ブロム(−Br)、トリフルオロメチル(−CF)、または0ないし5個の置換基を有する炭素原子数6ないし20のフェニル基であり、この時、フェニル基の置換基は、ニトロ基(−NO)、フッ素(−F)、塩素(−Cl)、ブロム(−Br)、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基から選択される。
本発明による単座及び二座の燐化合物のリガンドを含む触媒組成物を利用したオレフィン系化合物のヒドロホルミル化の方法によれば、二座配位子を単独で使用した場合のノルマル−またはイソ−アルデヒドに対する選択性(N/I選択性)を維持しつつ触媒活性を促進させ、また触媒系を安定化させうる。
本発明に係る触媒組成物は、二座配位子、単座配位子及び遷移金属触媒を含むことを特徴とする。
本発明の二座配位子は、好ましくは、前記化学式1で表示される二座配位子のR及びRが、それぞれ、ピロール、フェニル、またはインドールであり、この時、燐が窒素原子と直接連結されていることが好ましい。
また、前記化学式1のビスアリール系の化合物Ar−Arは、下記化学式5または化学式6で表す化合物である。
Figure 2007508131
前記化学式5で、
、R、R10、及びR11は、それぞれ、水素、炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原子数6ないし20のアリール基、トリアリールシリル基、トリアルキルシリル基、カルボアルコキシ基、カルボアリールオキシ基、アリールオキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、ハロゲン原子、ニトリル基であり、この時、カルボアルコキシ基、−CORのRは、炭素原子数1ないし20のアルキル基、または炭素原子数6ないし20のアリール基であり、
は、メチル、メトキシ、またはt−ブチル基、Rは、水素、R10は、メチル、メトキシ、またはt−ブチル、及びR11は、メチルまたは水素であることが好ましい。
Figure 2007508131
前記化学式6で、
12、R13、R14、R15、R16、及びR17は、それぞれ、水素、炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原子数6ないし20のアリール基、トリアリールシリル基、トリアルキルシリル基、カルボアルコキシ基、カルボアリールオキシ基、アリールオキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、ハロゲン原子、ニトリル基であり、この時、カルボアルコキシ基、−CORのRは、炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原子数6ないし20のアリール基である。
本発明の単座配位子は、好ましくは、前記化学式2で表され、Yは酸素(O)であり、R、R、及びRは、それぞれ、フェニル基、フェニルオキシ基、シクロヘキシル基、またはt−ブチル基である。
遷移金属触媒において、遷移金属(M)は、コバルト(Co)、ロジウム(Rh)、またはイリジウム(Ir)であることが好ましく、具体的な例としては、アセチルアセトナートジカルボニルロジウム(Rh(AcAc)(CO))、アセチルアセトナートカルボニルトリフェニルホスフィンロジウム(Rh(AcAc)(CO)(TPP))、ヒドリドカルボニルトリ(トリフェニルホスフィン)ロジウム(HRh(CO)(TPP))、アセチルアセトナートジカルボニルイリジウム(Ir(AcAc)(CO))、またはヒドリドカルボニルトリ(トリフェニルホスフィン)イリジウム(HIr(CO)(TPP))が好ましい。
本発明の触媒組成物において、前記遷移金属の含量は、触媒組成物を基準として、50ないし500ppmであることが好ましい。遷移金属の含量が、50ppmより少ない場合、ヒドロホルミル化の反応速度が遅くなるため、商業的に好ましくなく、500ppmより多い場合には、遷移金属が高価であるため、コストが上がり、反応速度面においても更に有利な効果が得られない。
本発明によれば、ロジウム金属及び二座配位子を含む触媒組成物に、前記の単座配位子を追加的に添加する場合、オレフィンのヒドロホルミル化反応において二座配位子による高いN/I選択性を維持しつつ、触媒活性を追加的に向上させる。さらに、単座配位子を過剰量添加しても、触媒活性及びN/I選択性が低下せず、触媒系の安定化に非常に役に立つ。このような効果は、追加的に添加される単座配位子が、触媒の中心金属に対する結合力が弱くて、既存の遷移金属と二座配位子との結合を妨害しないためであると考えられる。
このような効果を得るためのリガンドの含量は、前記遷移金属1モルを基準に、前記二座配位子が0.5ないし20モルであり、前記単座配位子は、0.1ないし200モルである。更に好ましくは、前記二座配位子が1ないし10モルであり、前記単座配位子は、0.5ないし100モルである。二座配位子の含量が、0.5モルより小さい場合、触媒の安全性に問題が発生する場合があり、20モルより大きい場合、触媒の活性が急減する場合があるという問題点がある。単座配位子の含量が、0.1モルより小さい場合、触媒活性を向上させるという効果がほとんどなく、200モルより大きい場合、費用面において好ましくない。
この時、前記遷移金属触媒が、アセチルアセトナートジカルボニルロジウム(Rh(AcAc)(CO))であり、前記二座配位子が、1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル−ビス(ジピロリルホスホルアミダイト)(BPO−P(Pyl))であり、及び前記単座配位子が、トリフェニルホスフィンオキシド(TPPO)であることが特に好ましい。
前記オレフィン系の化合物は、エテン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、及びスチレンからなる群から選択された化合物であることが好ましい。
本発明に係り、ヒドロホルミル化反応に使用される溶媒としては、プロパンアルデヒド、ブチルアルデヒド、バレルアルデヒドのようなアルデヒド類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、及びシクロヘキサノンのようなケトン類;ベンゼン、トルエン及びキシレンのような芳香族類;オルソジクロロベンゼンを含むハロゲン化芳香族;テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン及びジオキサンのようなエーテル類;塩化メチレンを含むハロゲン化パラフィン類;ヘプタンのようなパラフィン炭化水素などが使用され、好ましくは、各種アルデヒド及びトルエンなどの芳香族である。
本発明のヒドロホルミル化の方法に使用される合成ガスCO/Hの組成は、広範囲に変わりうる。CO/Hのモル比は、通常的に約5:95ないし70:30、好ましくは、約40:60ないし60:40の範囲内であり、CO/Hのモル比は、約1:1であるものを使用することが、特に好ましい。
ヒドロホルミル化反応の温度は、通常、約20ないし180℃であり、好ましくは、約50ないし150℃の範囲内である。反応圧力は、通常、約1ないし700barであり、好ましくは、1ないし300bar範囲内である。
〔実施例〕
以下、下記の実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲が実施例に限定されるものではない。
〔実施例1ないし12:アセチルアセトナートジカルボニルロジウム(Rh(AcAc)(CO))触媒及び二座及び単座の燐化合物を適用したプロペンのヒドロホルミル化反応〕
触媒であるRh(AcAc)(CO) 10.0mg(37.8mmol)、GC分析の内標物質であるヘキサデカン 0.2mL及び下記表1に記載されたロジウムに対するモル比により、二座配位子であるBPO−P(Pyl)及び単座配位子であるTPPOをトルエンに溶解させて、全体溶液を100mLにした後に、Auto Clave社製のハイスループットスクリーン(HTS)の反応器に添加した。前記反応器に、プロペン:CO:Hのモル比が1:1:1である反応気体を注入して、反応器内の圧力を6barに維持した後、85℃で攪拌しつつ2.5時間反応させた。
前記反応に用いた触媒及びリガンドの種類、触媒に対するリガンドのモル比、反応温度、N/I選択性及び触媒活性を表1に詳細に記載した。
下記表1で、N/I値は、反応で生成されたノルマル−ブチルアルデヒドの量をイソ−ブチルアルデヒドの量で割った値であり、各アルデヒドの生成量は、内標物質として添加したヘキサデカンの量を基準にガスクロマトグラフィー(GC)分析により求めた。
触媒活性は、前記反応で生成されたノルマルアルデヒドとイソアルデヒドと総量を、ブチルアルデヒドの分子量、使用した触媒の濃度、そして反応時間で割った値である。この時、触媒活性の単位は、mol(BAL)/mol(Rh)/hである。
Figure 2007508131
〔比較例1: アセチルアセトナートジカルボニルロジウム(Rh(AcAc)(CO))触媒及びトリフェニルホスフィン(TPP)を利用したプロペンのヒドロホルミル化反応〕
リガンドとしてTTPを単独で使用し、リガンド対ロジウムのモル比が100であることを除いては、実施例1と同じ方法で触媒活性実験を行い、その結果を表2に示した。
〔比較例2: アセチルアセトナートジカルボニルロジウム(Rh(AcAc)(CO))触媒及びトリピロリルホスフィン(P(Pyl))を利用したプロペンのヒドロホルミル化反応〕
リガンドとしてTPPの代わりにP(Pyl)を使用し、ロジウムに対するリガンドのモル比が50であることを除いては、比較例1と同じ方法で触媒活性実験を行い、その結果を表2に示した。
〔比較例3ないし5: アセチルアセトナートジカルボニルロジウム(Rh(AcAc)(CO))触媒及び1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル−ビス(ジピロリルホスホルアミダイト)(BPO−P(Pyl))を利用したプロペンのヒドロホルミル化反応〕
リガンドとしてTPPの代わりにBPO−P(Pyl)を使用し、リガンド対ロジウムのモル比が1、3または5であることを除いては、比較例1と同じ方法で触媒活性実験を行い、その結果を表2に示した。
〔比較例6:アセチルアセトナートカルボニルトリフェニルホスフィンロジウム(Rh(AcAc)(CO)(TPP))触媒及び1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル−ビス(ジピロリルホスホルアミダイト)(BPO−P(Pyl))を利用したプロペンのヒドロホルミル化反応〕
触媒としてRh(AcAc)(CO)の代わりにRh(AcAc)(CO)(TPP)を使用したことを除いては、比較例4と同じ方法で触媒活性実験を行い、その結果を表2に示した。
Figure 2007508131
前記比較例1ないし比較例2に使用された単座である化合物を適用したプロペンのヒドロホルミル化反応に対する触媒活性及びN/I選択性を説明すれば、前記表2に表すように、一般的に多く使用されるTPPの場合(比較例1)、前記条件での触媒活性は、85.4mol(BAL)/mol(Rh)/hであり、N/I選択性は、3.9である。同じ条件でトリピロリルホスフィン(P(Pyl))をリガンドとして適用した場合(比較例2)には、TPPを適用した場合より多少低い触媒活性を示したが、イソ−ブチルアルデヒドに対するノルマル−ブチルアルデヒドの多少高い選択性(N/I選択性10.1)を示した。特に、P(Pyl)を適用する場合、反応温度を下げれば、触媒活性は多少低下するが、N/I選択性は、急激に向上することと知られている。
二座化合物である1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル−ビス(ジピロリルホスホルアミダイト)(BPO−P(Pyl))をリガンドとして適用した比較例3ないし比較例6を説明すれば、TPP及び(P(Pyl))をリガンドとして適用した場合より高い触媒活性及び高いノルマル−ブチルアルデヒド選択性を示す。さらに、同じ条件で触媒としてアセチルアセトナートカルボニルトリフェニルホスフィンロジウム(Rh(AcAc)(CO)(TPP))よりアセチルアセトナートジカルボニルロジウム(Rh(AcAc)(CO))を適用することが、触媒活性面において優れていると判断される。
前記表1で実施例1ないし実施例12は、前記比較例3ないし比較例5の条件に単座配位子であるTPPOを追加的に添加した場合であって、その結果を説明すれば、次の通りである。
単座配位子としてRhに対する結合力が弱いと知られているTPPOを適用すれば、実施例1ないし実施例4から分かるように、二座配位子である1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル−ビス(ジピロリルホスホルアミダイト)(BPO−P(Pyl))が触媒の1モル比ほど存在し、単座配位子であるTPPOを追加的に添加する場合、N/I選択性には大きい変化がなく、触媒活性は、15ないし20%が向上することが分かる。また、二座配位子が3モル比以上存在する実施例5ないし実施例12の場合、TPPOを各モル比で添加すれば、前記触媒系の活性及びN/I選択性はそのまま維持しつつ、安価なリガンドの添加により、触媒系の安全性を向上させうるという効果が得られる。以上のように、Rh触媒とBPO−P(Pyl)とが共存する触媒系にTPPOを過剰量添加しても、高い触媒活性が維持されるか、または多少増加し、N/I選択性は高い値を維持できる。
以上の結果により、アセチルアセトナートジカルボニルロジウム(Rh(AcAc)(CO))を触媒とし、二座配位子である1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル−ビス(ジピロリルホスホルアミダイト)(BPO−P(Pyl)に単座配位子としてRhに対する弱い結合を行うTPPOを添加する場合、N/I選択性を維持しつつ、触媒活性を最高約20%向上させうる。したがって、このような特性を利用して相対的に安価であるTPPOを過剰量添加すれば、ヒドロホルミル化反応を安定的に実施できるということが分かる。
本発明に係る遷移金属触媒にリガンドとして単座及び二座の燐化合物を組合わせた触媒組成物は、アルデヒドを製造するオレフィン系化合物のヒドロホルミル化の方法に利用できる。

Claims (12)

  1. (a)下記化学式1で表示される二座配位子;
    (b)下記化学式2で表示される単座配位子;
    (c)下記化学式3で表示される遷移金属触媒を含む触媒組成物。
    Figure 2007508131
    (前記式1で、
    及びRは、それぞれ炭素原子数1ないし20の置換または非置換のアルキル基;炭素原子数1ないし20の置換または非置換のアルコキシ基;炭素原子数5ないし20の置換または非置換のシクロアルカンまたはシクロアルケン;炭素原子数6ないし36の置換または非置換のアリール基;炭素原子数1ないし20の置換または非置換のヘテロアルキル基;炭素原子数4ないし36の置換または非置換のヘテロアリール基;または炭素原子数4ないし36の置換または非置換の複素環基であり、
    Ar−Arは、ビスアリール系化合物であり、
    Xは、酸素(O)または硫黄(S)である。)
    Figure 2007508131
    (前記式2で、
    、R、及びRは、それぞれ炭素原子数1ないし20の置換または非置換のアルキル基;炭素原子数1ないし20の置換または非置換のアルコキシ基;炭素原子数5ないし20の置換または非置換のシクロアルカンまたはシクロアルケン;炭素原子数6ないし36の置換または非置換のアリール基;炭素原子数1ないし20の置換または非置換のヘテロアルキル基;炭素原子数4ないし36の置換または非置換のヘテロアリール基;または炭素原子数4ないし36の置換または非置換の複素環基であり、この時置換基R、R、およびRは、それぞれ、任意選択で、ニトロ(−NO)、フッ素(F)、塩素(Cl)、ブロム(Br)、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されていてもよく、
    Yは、酸素(O)または硫黄(S)である。)
    Figure 2007508131
    (前記式3で、
    Mは、遷移金属であり、
    、L及びLは、それぞれ水素、CO、アセチルアセトナート、シクロオキタジエン、ノルボルネン、塩素、またはトリフェニルホスフィンであり、
    l、m、及びnは、それぞれ0ないし5の値を有し、但し、l、m及びnが同時に0である場合は除外される)。
  2. 前記式1で表示される二座配位子のR及びRが、それぞれピロール、フェニル、またはインドールであり、この時、燐が窒素原子と直接連結されたことを特徴とする請求項1に記載の触媒組成物。
  3. 前記式1で表示される二座配位子のビスアリール系化合物Ar−Arが下記式5または式6であることを特徴とする請求項1に記載の触媒組成物。
    Figure 2007508131
    (前記式5で、
    、R、R10、及びR11は、それぞれ水素、炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原子数6ないし20のアリール基、トリアリールシリル基、トリアルキルシリル基、カルボアルコキシ基、カルボアリールオキシ、アリールオキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、ハロゲン原子、ニトリル基であり、この時カルボアルコキシ基、−CORのRは、炭素原子数1ないし20のアルキル基、または炭素原子数6ないし20のアリール基である。)
    Figure 2007508131
    (前記式6で、
    12、R13、R14、R15、R16、及びR17、は、それぞれ水素、炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原子数6ないし20のアリール基、トリアリールシリル基、トリアルキルシリル基、カルボアルコキシ基、カルボアリールオキシ、アリールオキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、ハロゲン原子、ニトリル基であり、この時カルボアルコキシ基、−CORのRは、炭素原子数1ないし20のアルキル基、または炭素原子数6ないし20のアリール基である。)
  4. 前記式5の置換基のうち、Rは、メチル、メトキシ、またはt−ブチル基であり、Rは、水素であり、R10は、メチル、メトキシ、またはt−ブチルであり、R11は、メチルまたは水素であることを特徴とする請求項3に記載の触媒組成物。
  5. 前記式2で表示される単座配位子のYは、酸素(O)であり、R、R、及びRが、それぞれフェニル基、フェニルオキシ基、シクロヘキシル基、またはt−ブチル基であることを特徴とする請求項1に記載の触媒組成物。
  6. 前記式3の遷移金属Mは、コバルト(Co)、ロジウム(Rh)、またはイリジウム(Ir)であることを特徴とする請求項1に記載の触媒組成物。
  7. 前記遷移金属触媒は、アセチルアセトナートジカルボニルロジウム(Rh(AcAc)(CO))、アセチルアセトナートカルボニルトリフェニルホスフィンロジウム(Rh(AcAc)(CO)(TPP))、ヒドリドカルボニルトリ(トリフェニルホスフィン)ロジウム(HRh(CO)(TPP))、アセチルアセトナートジカルボニルイリジウム(Ir(AcAc)(CO))、またはヒドリドカルボニルトリ(トリフェニルホスフィン)イリジウム(HIr(CO)(TPP))であることを特徴とする請求項1に記載の触媒組成物。
  8. 前記遷移金属の含量は、触媒組成物の量を基準に50ないし500ppmであり、遷移金属1モルを基準に前記二座配位子の含量は、0.5ないし20モルであり、前記単座配位子の含量は、0.1ないし200モルであることを特徴とする請求項1に記載の触媒組成物。
  9. 前記遷移金属触媒は、アセチルアセトナートジカルボニルロジウム(Rh(AcAc)(CO))であり、前記二座配位子が、1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル−ビス(ジピロリルホスホルアミダイト)(BPO−P(Pyl))であり、前記単座配位子がトリフェニルホスフィンオキシド(TPPO)であることを特徴とする請求項1に記載の触媒組成物。
  10. 請求項1ないし請求項9のうち、何れか1項に記載の触媒組成物を、オレフィン系化合物、一酸化炭素及び水素の混合気体と共に攪拌しつつ、加温、加圧してアルデヒドを製造するオレフィン系化合物のヒドロホルミル化の方法。
  11. 前記オレフィン系化合物は、下記式4で表示されるオレフィン系化合物であることを特徴とする請求項10に記載のヒドロホルミル化の方法:
    Figure 2007508131
    (前記式4で、
    及びRは、それぞれ水素、炭素原子数1ないし20のアルキル基、フッ素(−F)、塩素(−Cl)、ブロム(−Br)、トリフルオロメチル(−CF)、または0ないし5個の置換基を有する炭素原子数6ないし20のフェニル基であり、この時、フェニル基の置換基は、ニトロ基(−NO)、フッ素(−F)、塩素(−Cl)、ブロム(−Br)、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基である)。
  12. 前記オレフィン系化合物は、エテン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、及びスチレンからなる群から選択された化合物であることを特徴とする請求項10に記載のヒドロホルミル化の方法。
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