JP2007267936A - 光線治療器 - Google Patents

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Abstract

【課題】 副作用がある程度以下に抑制された状態において良好な治療効果が得られる光線治療器の提供。
【解決手段】 光線治療器は、患部にUV−B光線の波長範囲にスペクトルを有する治療用光を照射するものであって、治療用光のスペクトルは、少なくとも303nm以下の波長領域において連続的であり、かつ、その下限値が297nm以上の波長範囲にあるものであることを特徴とする。この光線治療器においては、300〜315nmの波長範囲に発光ピークを有すると共に、当該発光ピークから少なくとも295nmまでの波長領域において連続的であるスペクトルを有する光源光を放射する光源と、この光源からの光源光が入射されて治療用光を放射する光放出窓とが備えられ、光放出窓から放射される治療用光が、その下限値が297〜303nmの波長範囲にあるスペクトルを有するものであることが好ましい。
【選択図】 図8

Description

本発明は、光線治療器に関し、特に、UV−B光線の波長範囲にスペクトルを有する治療用光を照射することにより、皮膚疾患などを治療する光線治療器に関する。
アレルギー性の皮膚疾患には、例えば乾癬やアトピー性皮膚炎、白斑など種々のものがある。例えば乾癬については、その発症メカニズムは未だに解明されておらず、その治療方法はいくつか提案され、また実施もされているが、すべての患者の患部を完治させる方法は見出されておらず、発症を抑える治療、すなわち外用療法、内服療法、光線療法などが行われているにすぎない。
外用療法においては、一般的にステロイド外用薬やビタミンD3 外用薬などが用いられているが、ステロイド外用薬は長期間の使用により皮膚の萎縮などが生じてしまう。また、ビタミンD3外用薬は一日の使用回数を制限しなければならないなどの問題がある。
また、内服療法においては、レチノイドやシクロスポリンなどの内服薬が用いられているが、これらは免疫反応を低下させ、皮膚の異常増殖を抑制するものであるので、患部において有効に作用するだけでなく、患部以外の部分にも不可避的に作用してしまうという欠点を有する。そのため、特に重症の患部をもつ患者の治療への適用は困難である。
一方、光線療法は、過剰に反応してアレルギー症状を発生させる白血球細胞やリンパ腫などのT細胞を光線を照射して死滅させることによりアレルギー症状を軽減させる療法であって、いわゆるUV−A光線と呼ばれる長波長紫外線域(320〜400nm)の光線を用いる方法と、いわゆるUV−B光線と呼ばれる中波長紫外線域(280〜320nm)の光線を用いる方法がある。UV−A光線を用いる治療方法は一般的にプーバ(PUVA)療法と呼ばれ、ソラレンと呼ばれる光増感性の薬と併用して、例えばソラレンを内服・外用またはソラレンを含む液体に入浴したあとにUV−A線を照射することにより、行われる。このため、プーバ療法では、その治療後に日光に当たることができないなど、日常生活に不便を生じる。
一方、UV−B光線を用いる治療方法は、ソラレンを用いずに治療できる簡便な方法である。
このUV−B療法における光源としては、放電空間内に封入される蛍光体がガドリニウム付活のものである蛍光ランプが用いられ、その結果、311〜313nmの波長領域にシャープなスペクトルを有する光線の放射が得られる(例えば、特許文献1参照)。
そして、大きなエネルギーを有する短波長成分を多く含む光線によると白血球細胞の死滅の効果を高く得られると考えられるため、前記の波長領域よりもさらに短波長側にスペクトルを有する光線を放射する蛍光ランプが求められているが、このようなスペクトルを有する光線を強く発する蛍光体が存在しないため、現実には、前記の波長領域にスペクトルを有する蛍光ランプを用いたUV−B療法が行われているのが実情であった。
以上のような事情を基づいて、UV−B療法に用いられる光源として、新たにキセノンクロライド(XeCl)エキシマ光線を放射するキセノンクロライド(XeCl)エキシマ放電ランプが提案されている。XeClエキシマ光線は、例えば図5に示すように、波長308nmに単一の発光ピークを有し、また原子発光と異なり分子発光であるために幅広のブロードなスペクトルを有し、従来用いられている蛍光ランプでは得られない、波長300nm以下の短波長領域の光も放射するという特徴を有する(例えば、特許文献2および3参照。)。
このような波長300nm以下の短波長の領域を含む波長領域にスペクトルを有する光線は高いT細胞の死滅の効果、すなわちアレルギー症状抑制効果が得られて治療に有効であると考えられている。
またXeClエキシマ放電ランプは、以下のような特長も併せ有する。すなわち、蛍光ランプは点灯中に放電により加熱気化された水銀からの紫外線が蛍光体により特定の発光が得られるため、水銀の蒸発加減により発光強度がランプ点灯開始後の数分間で数十%も変化してしまうところ、UV−B療法においては、一回の照射時間は数分間〜10分間程度であり、患部への照射時間による照射量の制御が困難であるが、XeClエキシマ放電ランプは点灯前から発光物質がガス状であるためにランプ点灯開始後からの発光強度の変化は小さく、患部への照射量を容易に制御することができる。
さらにXeClエキシマ放電ランプは、蛍光ランプに比べ、より高い電力密度で点灯して患部に高い照度で治療用光を照射することができる。すなわち、一定の照射量を短時間に照射することができるために、治療時間の短時間化が図られ、患者の負担を軽減させることができるという利点もある。
しかしながら、UV−B光線における短波長成分は、高いアレルギー症状抑制効果を得られる反面、DNAの損傷という副作用を誘発しやすく、損傷したDNAが十分に修復されれば問題ないが、もし修復が完全に実施されなければ最悪の場合は、癌へと進展してしまうところ、その副作用とアレルギー症状抑制効果との相関性について数値的な裏づけはいまだなされておらず、このようなXeClエキシマ放電ランプの使用について安全性の確認が要請されている。
特開2004−350946号公報 WO/03/024526号公報(US2004/0249369A1公報) US5955840号公報
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、副作用がある程度以下に抑制された状態において良好な治療効果が得られる光線治療器を提供することにある。
本発明の光線治療器は、患部にUV−B光線の波長範囲にスペクトルを有する治療用光を照射する光線治療器であって、
治療用光のスペクトルは、少なくとも303nm以下の波長領域において連続的であり、かつ、その下限値が297nm以上の波長範囲にあるものであることを特徴とする。
本発明の光線治療器においては、300〜315nmの波長範囲に発光ピークを有すると共に、当該発光ピークから少なくとも295nmまでの波長領域において連続的であるスペクトルを有する光源光を放射する光源と、この光源からの光源光が入射されて治療用光を放射する光放出窓とが備えられ、
前記光放出窓から放射される治療用光が、その下限値が297〜303nmの波長範囲にあるスペクトルを有するものであることが好ましい。
また、本発明の光線治療器においては、治療用光のスペクトルの下限値が300nm以下の波長範囲にあることが好ましい。
本発明の光線治療器においては、前記光源がキセノンクロライド(XeCl)エキシマ放電ランプよりなることが好ましい。
また、本発明の光線治療器においては、前記光源がメタルハライドランプおよび蛍光ランプから選ばれたものよりなる構成とすることもできる。
本発明の光線治療器においては、前記光源光のスペクトルの下限値を規制する放射光規制手段を備えていることが好ましく、このような放射光規制手段は、光学フィルタであることが好ましい。
本発明の光線治療器によれば、治療用光が下限値の規定された特定のスペクトルを有することにより、予期されない副作用が生じることが抑止され、アレル原に対して過剰に反応する真皮中のT細胞を、副作用がある程度以下に抑制された状態において減少させることができる。
以下、本発明の光線治療器について説明する。
図1は、本発明の光線治療器の一例における構成の概略を示す説明用図、図2は、図1の光線治療器の光照射ユニットの一例における構成の概略を示す説明用図である。
この光線治療器1は、患部にUV−B光線の波長範囲に特定のスペクトルを有する治療用光を照射するものであって、キセノンクロライド(XeCl)エキシマ放電ランプ30よりなる光源を内蔵し、治療用光を一方向に放射する光放出窓8を備えた光照射ユニット10を有しており、この光照射ユニット10は、直立スタンド11に沿って上下方向に移動可能に、光放出窓8の治療用光の放射方向を選択することのできるアーム17を介して、設けられている。図1において、13は操作パネル部、14は平面上を移動可能とするキャスター、15は台座、12は、給電コード16により光照射ユニット10へ電力を供給する電源部である。
光線治療器1における光照射ユニット10の光放出窓8は、XeClエキシマ放電ランプ30からの光源光を入射させて特定のスペクトルを有する治療用光を放射する光学フィルタ22により構成されている。この光学フィルタ22は、枠28に固定して設けられたスロット29に収納されることにより支持されており、また取っ手25を引くことにより回転機構27によって枠28を開状態とし、スロット29に沿って交換可能に設けられている。なお、図2において、21はマグネットである。
図3は、本発明の光線治療器に使用されるXeClエキシマ放電ランプの一例に係る構成を、管軸に沿った断面で示す説明用断面図、図4は、図3に示されるXeClエキシマ放電ランプの点灯用電源装置の構成の概略を示す説明図である。
本発明の光線治療器に用いられるXeClエキシマ放電ランプ30は、キセノンガスおよび塩素ガスによるエキシマ分子発光を利用したものであって、具体的には、例えば石英ガラスなどの誘電体よりなる円筒状の外側管32と、この外側管32内にその管軸に沿って配置された、当該外側管32の内径より小さい外径を有する、例えば石英ガラスなどの誘電体よりなる円筒状の内側管33と、この外側管32および内側管33により形成された円筒状の空間の両端部を気密に閉塞する端壁35、36とよりなる二重管構造を有する密閉型の放電容器34を有する構成とされ、この放電容器34により円筒状の放電空間Sが形成されており、この放電空間Sにはアルゴン(Ar)ガス、キセノン(Xe)ガス、および塩素(Cl2 )ガスよりなる放電ガスが封入されたものである。
この放電容器34を形成する外側管32には、その外周面に密接した状態で、例えば金網などの導電性材料よりなるメッシュ状の一方の電極37が設けられていると共に、内側管33には、その内周面に密接した状態で、例えばアルミニウム曲板よりなる他方の電極38が設けられた構成とされている。そして、この一方の電極37および他方の電極38は、XeClエキシマ放電ランプ30に高周波電力を供給する点灯用電源装置40に接続されている。
点灯用電源装置40は、交流の商用電源41、AC/DCコンバーター42、例えばFETやトランジスタなどの半導体スイッチング素子よりなるインバーター43およびトランス44を備え、商用電源41から供給されるAC100Vを、AC/DCコンバーター42によって直流に整流し、インバーター43によって高周波に変換し、トランス44によってXeClエキシマ放電ランプの駆動に必要な数kV以上の高圧にして、XeClエキシマ放電ランプ30に供給する。
XeClエキシマ放電ランプ30の寸法例を挙げると、放電容器34を形成する外側管32における全長が150mm、外径が26.5mm、肉厚が1.0mmであり、内側管33における全長が150mm、内径が10.5mm、肉厚が1.0mmであって、当該放電容器34の内部に、放電ガスが20kPaの圧力で封入されている。また、電極37,38の大きさは、各々、管軸方向に100mmである。
このXeClエキシマ放電ランプ30より放射される光源光のスペクトルを、図5に示す。
そして、患部に照射されるべき治療用光は、UV−B光線の波長範囲(280〜320nm)に特定のスペクトルを有するものであって、当該特定のスペクトルは、少なくとも303nm以下の波長領域において連続的であり、かつ、その下限値が297nm以上の波長範囲にあるものである。
ここに、「スペクトルが連続的である」とは、UV−B光線の波長範囲における発光ピークのピーク強度に対し、1%以上、好ましくは5%以上の強度の発光が、波長に対し途切れることなく連続していることを意味する。
治療用光は、具体的には、光源であるXeClエキシマ放電ランプからの300〜315nmの波長範囲に発光ピークを有すると共に、当該発光ピークから少なくとも短波長側に295nmまでの波長領域において連続的であるスペクトルを有する光源光が、光学フィルタ22を透過することによって、その下限値が297〜303nm、好ましくは300nm以下の波長範囲に規制されることにより、得られる。
治療用光のスペクトルが、その下限値が297nm以上の波長範囲にあることにより、当該治療用光が照射された患部において生じるDNAの損傷がある程度以下に抑制される。
なお、DNAの損傷は、このDNAの損傷により生成される(6−4)光生成物やピリミジンニ量体を検査薬により検出することにより確認することができる。
この光線治療器に用いられる光学フィルタ22は、上記のように光源光の短波長側の光の透過を規制して特定のスペクトルを有する治療用光とする放射光規制手段であって、このような光学フィルタ22としては、主成分が酸化シリコン、硼酸、酸化ナトリウムである硼珪酸ガラスよりなるものを挙げることができ、その厚みは例えば1〜3mmである。
また例えば、無水・無酸素フッ化アルミニウムガラスも使用することができる。無水・無酸素フッ素化アルミニウムガラスは、具体的には、BaF2 、CaF2 、AlF3 の含有量がそれぞれ14.00〜24.00モル%の範囲、28.25〜38.25モル%の範囲、37.25〜47.25モル%の範囲であり、かつ、YF3、SrF2 、LaF3 から選ばれる1つを含み、その含有量は、含有物がYF3 である場合2.5〜20モル%、含有物がSrF2である場合2.5〜7.5モル%、含有物がLaF3 である場合2.5〜7.5モル%であり、かつ、Ceを含有し、無水・無酸素である組成を有する。ここに、Ceの含有量は、1〜10at.%であることが好ましい。
このような光線治療器は、以下のように動作される。
まず、キャスター14の位置、直立スタンド11における光照射ユニット10の高さおよびアーム17の向きを調整することによって、光照射ユニット10の光放出窓8を患者の患部に対向させ、次いで、電源部12がON状態とされて給電コード16を介してXeClエキシマ放電ランプ30に電力が供給されると、このXeClエキシマ放電ランプ30においては、電極37,38間に所定の高周波電圧が印加されて、電極37,38が配設された放電容器34の内面に電荷が誘導され、放電空間Sのうちこの誘導電荷による電界を強く受ける空間、すなわち両電極37,38を見込む空間に放電が強く生じる。そして、この放電により、UV−B光線の波長範囲にスペクトルを有するXeClエキシマ光線よりなる光源光が放射される。そして、このXeClエキシマ放電ランプ30から放射された光源光が、光放出窓8を構成する光学フィルタ22を透過することによって、短波長側の光の透過が規制されて特定のスペクトルを有する治療用光に変換され、患者の患部に照射される。
以上の光線治療器においては、治療用光が下限値の規定された特定のスペクトルを有することにより、予期されない副作用が生じることが抑止され、アレル原に対して過剰に反応する真皮中のT細胞を、副作用がある程度以下に抑制された状態において減少させることができる。
本発明の光線治療器は、上記の実施の形態に限定されず、下記(1)〜(3)に示されるような種々の変更を加えることができる。
(1)光源としてはXeClエキシマ放電ランプに限定されず、例えばメタルハライドランプや蛍光ランプなどを用いることもできる。
(1−a)
以下に、光源として用いることのできるメタルハライドランプについて説明する。
メタルハライドランプは、可視線域および紫外線域の幅広い波長領域のスペクトルを有する光源光を放射するものであって(図6参照)、例えば当該メタルハライドランプを構成する放電容器内に、バッファガスとしての希ガス(アルゴン(Ar)ガス)と、水銀(Hg)、鉄(Fe)およびタリウム(Tl)のハロゲン化物が封入されたものである。
メタルハライドランプは、点灯直後は希ガスが放電し、この希ガスからの光がほぼメタルハライドランプ全体の光となっており、しばらく放電することによって生成した熱によりハロゲン化金属が溶融し、さらに気化し、これにより、金属からの光も見られるようになる。図6に示すスペクトルは、点灯後30分間経過し、発光が安定した状態のものである。
そして、このようなメタルハライドランプからの光源光は、上述したような光学フィルタを透過することによって、図7に示すような、特定のスペクトルを有する治療用光とすることができる。
(1−b)
光源として用いることのできる蛍光ランプとしては、300nm付近の波長領域のスペクトルを有する蛍光体を用いたものが挙げられ、このような蛍光ランプとしては、例えば特開2001−250507号公報に開示された、蛍光体として、EuおよびMgおよびTiで付活された酸硫化イットリウム(Y23 S:Eu・Mg・Ti)蛍光体を用いた蛍光ランプや、紫外蛍光体として、LaPO4:Ce蛍光体を用いた蛍光ランプ、また、特開2004−220984号公報に開示された、蛍光体として、三酸化アンチモン(Sb23)を混合した、鉛付活珪酸バリウム・ストロンチウム・マグネシウム((Ba,Sr,Mg)3 Si27:Pb)蛍光体を用いた蛍光ランプなどを挙げることができる。
以上説明したようなメタルハライドランプや蛍光ランプは、電極を放電空間に挿入させるので、ランプを点灯維持するためには数百V程度の電圧で十分である。そのため大型のトランスは不要となり、電源部の軽量化・小型化を図ることができる。しかしUV−B光線の強度は低く、治療効果が十分に得られないこともある。
(2)放射光規制手段は、光源と患部との間に配置される光学フィルタに限定されず、種々のものを種々の配置方法で配置して構成することができる。
(3)光源と、光線治療器のスペクトルの下限を制御する放射光規制手段とはそれぞれ別個のものとして構成することに限定されず、例えば光源としてのXeClエキシマ放電ランプを用い、当該XeClエキシマ放電ランプを構成する外側管の表面に、例えば誘電体多層膜などからなるフィルタ膜を形成するなど、光源と放射光規制手段とを一体に構成してもよい。
以下に、本発明の実験例について説明するが、本発明はこの実験例に限定されるものではない。
<実験例1〜5>
シャーレに一定量の白血球細胞を含んだリン酸緩衝液(PBS溶液)を取り分け、下記に詳細を示すUV−B光線a〜eを、エネルギー密度が約2mW/cm2 、全照射エネルギー量が100mJとなる条件で、50秒間、照射して光線治療サンプルa〜eを得た。この光線治療サンプルa〜eを24時間培養し、その後、通常のフロリナート法により、白血球細胞の死滅度を測定した。結果を図11に示す。
また、同様にして得た光線治療サンプルa〜eについて、DNAの損傷箇所と反応する酵素を反応させ、さらにその酵素に色素を反応させて損傷箇所をマーキングした。これを通常のELIZA法により、DNAの損傷度を測定した。結果を図12に示す。
ただし、UV−B光線aに係るものを実験例1、UV−B光線b、UV−B光線c、UV−B光線dおよびUV−B光線eに係るものをそれぞれ実験例2、実験例3、実験例4および実験例5とした。
実験例2〜4に係るUV−B光線b〜dは、図1に示される構成のXeClエキシマ放電ランプからの光源光を、それぞれ1.0mm、1.5mm、3.0mmの厚さの棚珪酸ガラスよりなる、短波長成分の透過を抑制する光学フィルタを透過させることにより、得られる治療用光であり、図8および図9にそのスペクトルが示されているものである。
また、実験例1に係るUV−B光線aは、光学フィルタを使用せず、図1に示される構成のXeClエキシマ放電ランプからの光源光そのものよりなる光であり、図8および図9にそのスペクトルが示されているものである。
さらに、実験例5に係るUV−B光線eは、従来のUV−B療法に用いられている、放電空間内に封入される蛍光体がガドリニウム付活のものである蛍光ランプからの光源光そのものよりなる光であり、図10にそのスペクトルが示されているものである。
図11から明らかなように、UV−B光線が短波長成分を多く含むほど白血球細胞の死滅度が高く、アレルギー症状抑制効果を十分に得られることが確認された。しかしながら、図12から明らかなように、短波長成分を多く含むUV−B光線ほど、副作用であるDNAの損傷度が高いことが確認された。
そこで、白血球細胞の死滅度/DNAの損傷度を算出して副作用に対する治療効果の大きさを治療有益度として数値化した。この治療有益度は、これが大きいほど副作用の割には大きな治療効果を得ることができることを示し、小さいほど副作用の割には治療効果が低いことを示している。結果を図13に示す。
図11〜図13に示されるように、スペクトルが303nm以下の波長領域において連続的である実験例1〜4に係るUV−B光線a〜dについて、短波長成分を多く含むほど、すなわち短波長側の下限値が低くなるほど白血球細胞の死滅度が高くなり、また副作用であるDNAの損傷度も高くなるが、治療有益度は、短波長側の下限値が波長290nmであるUV−B光線aと短波長側の下限値が波長297nmであるUV−B光線bを比較すると明確だが、このUV−B光線aと、これよりも短波長成分の少ないUV−B光線bについての治療有益度は同程度でしかなく、このUV−B光線aは副作用の大きさの割りには治療効果が小さいことが示された。このように治療有益度が同程度である場合、DNAの損傷度について個人差などを考慮すれば、少しでも副作用の危険性が少ない、すなわちDNAの損傷度の低いUV−B光線を用いることが好ましい。一方、スペクトルの下限値が304nmであり、スペクトルが303nm以下の波長領域において連続的であるとはいえない実験例5に係るUV−B光線eは、白血球細胞の死滅度、DNAの損傷度、および治療有益度が低いことが確認された。
以上のことから、治療用光としては、スペクトルが303nm以下の波長領域において連続的であり、かつ、その下限値が297nm以上の波長範囲にあるものであることが必要であると考えられる。
また、その下限値が303nm以下の波長範囲において、その下限値が低いほど、治療有益度は高くなることが示されており、具体的には、実験例4に係る治療用光(下限値;301nm)よりも実験例3に係る治療用光(下限値;300nm)が好ましく、さらに実験例3,4に係る治療用光よりも実験例2に係る治療用光(下限値;297nm)が好ましいことが確認された。
本発明の光線治療器の一例における構成の概略を示す説明用図である。 図1の光線治療器の光照射ユニットの一例における構成の概略を示す説明用図であって、(a)は正面図、(b)はA−A線断面図、(c)は枠が開状態とされた状態を示す断面図である。 本発明の光線治療器に用いられるXeClエキシマ放電ランプの一例に係る構成を、管軸に沿った断面で示す説明用断面図である。 図3に示されるXeClエキシマ放電ランプの点灯用電源装置の構成の概略を示す説明図である。 本発明の光線治療器に用いられるXeClエキシマ放電ランプから放射される光源光のスペクトルである。 光源がメタルハライドランプよりなる光線治療器における、光源光のスペクトルである。 図6の光源光を放射する光源を有する光線治療器における、光学フィルタを介して放射される治療用光のスペクトルである。 実験例1〜4に係るUV−B光線のスペクトルである。 図8のスペクトルについて、290〜305nmの波長領域を拡大して示す図である。 実験例5に係るUV−B光線のスペクトルである。 白血球細胞の死滅度を示すグラフである。 DNAの損傷度を示すグラフである。 治療有益度を相対的に示すグラフである。
符号の説明
1 光線治療器
8 光放出窓
10 光照射ユニット
11 直立スタンド
12 電源部
13 操作パネル部
14 キャスター
15 台座
16 給電コード
17 アーム
21 マグネット
22 光学フィルタ
25 取っ手
27 回転機構
28 枠
29 スロット
30 XeClエキシマ放電ランプ
32 外側管
33 内側管
34 放電容器
35 端壁
36 端壁
37 一方の電極
38 他方の電極
S 放電空間
40 点灯用電源装置
41 商用電源
42 AC/DCコンバーター
43 インバーター
44 トランス

Claims (7)

  1. 患部にUV−B光線の波長範囲にスペクトルを有する治療用光を照射する光線治療器であって、
    治療用光のスペクトルは、少なくとも303nm以下の波長領域において連続的であり、かつ、その下限値が297nm以上の波長範囲にあるものであることを特徴とする光線治療器。
  2. 当該光線治療器は、300〜315nmの波長範囲に発光ピークを有すると共に、当該発光ピークから少なくとも295nmまでの波長領域において連続的であるスペクトルを有する光源光を放射する光源と、この光源からの光源光が入射されて治療用光を放射する光放出窓とを備えてなり、
    前記光放出窓から放射される治療用光が、その下限値が297〜303nmの波長範囲にあるスペクトルを有するものであることを特徴とする請求項1に記載の光線治療器。
  3. 治療用光のスペクトルの下限値が300nm以下の波長範囲にあることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光線治療器。
  4. 前記光源がキセノンクロライド(XeCl)エキシマ放電ランプよりなることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の光線治療器。
  5. 前記光源がメタルハライドランプおよび蛍光ランプから選ばれたものよりなることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の光線治療器。
  6. 前記光源光のスペクトルの下限値を規制する放射光規制手段が備えられていることを特徴とする請求項2〜請求項5のいずれかに記載の光線治療器。
  7. 前記放射光規制手段が光学フィルタであることを特徴とする請求項6に記載の光線治療器。
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