JP2007248955A - Method for manufacturing liquid crystal device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶装置の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal device.
一般に、液晶装置は、電極を備えた一対の基板と、該一対の基板を接着するシール材と、該一対の基板の間隙に封入された液晶層とを有する。従来、一対の基板間に液晶を封入する方法として真空注入法が知られている。真空注入法は、一対の基板をシール材によって貼り合わせ、シール材に開口した注入口を介して前記基板間に液晶を真空注入するものである。一方、最近では、より効率の良い注入方法としてODF(One Drop Fill)方式と呼ばれる方法が注目されている。ODF方式は、一方の基板に液晶を滴下し、他方の基板と貼り合わせることで、一対の基板の貼り合わせと、該基板間への液晶の注入とを同時に行なう方法である。 In general, a liquid crystal device includes a pair of substrates provided with electrodes, a sealant that bonds the pair of substrates, and a liquid crystal layer sealed in a gap between the pair of substrates. Conventionally, a vacuum injection method is known as a method of sealing liquid crystal between a pair of substrates. In the vacuum injection method, a pair of substrates are bonded together with a sealing material, and liquid crystal is vacuum-injected between the substrates through an injection port opened in the sealing material. On the other hand, recently, a method called an ODF (One Drop Fill) method has attracted attention as a more efficient injection method. The ODF method is a method in which liquid crystal is dropped onto one substrate and bonded to the other substrate, so that a pair of substrates is bonded and a liquid crystal is injected between the substrates.
一方、液晶パネルを作製する方法として、大型基板を用いて複数の液晶パネルを一括で作製する「多面取り」と呼ばれる方法が知られている。この方法では、まず一対の大型基板上に液晶パネル複数分の電極を形成し、一方の基板上に液晶パネル複数分のシール材を形成した後、このシール材を介して一対の基板を貼り合わせ、これを切断して液晶パネル一列分のパネル構造体を作製する。そして、このパネル構造体に含まれる液晶パネル複数分のシール材の内側に液晶を注入し、注入口を封止した後、パネル構造体を切断して個々の液晶パネルに分割する。 On the other hand, as a method for producing a liquid crystal panel, a method called “multi-face drawing” is known in which a plurality of liquid crystal panels are produced at once using a large substrate. In this method, electrodes for a plurality of liquid crystal panels are first formed on a pair of large substrates, a sealing material for a plurality of liquid crystal panels is formed on one substrate, and then the pair of substrates are bonded together via the sealing material. This is cut to produce a panel structure for one row of liquid crystal panels. And after inject | pouring a liquid crystal inside the sealing material for several liquid crystal panels contained in this panel structure and sealing an injection hole, a panel structure is cut | disconnected and divided | segmented into each liquid crystal panel.
ODF方式で多面取りを行なう場合には、まず、一方の大型基板上に液晶パネル複数分のシール材を形成した後、シール材の内側に液晶を滴下する。そして、真空環境下で大型基板を貼り合わせた後、大気開放してシール材を硬化し、個々の液晶パネルに分割する。この場合、シール材を大気圧で加圧するために、大型基板の外周部に外周シール材と呼ばれるシール材が形成される。外周シール材は、液晶封入用のシール材の外側を囲むように閉じた枠状に形成される。大型基板の外周部に外周シール材を設けると、真空状態で大型基板を貼り合わせる際に外周シール材と液晶封入用のシール材との間に真空領域が形成され、大気開放したときにこの真空領域が大気圧によって均一に加圧されるようになる(例えば、特許文献1,2参照)。
しかしながら、真空領域を用いて加圧する場合には、液晶が配置されない真空領域では液晶が配置される非真空領域よりも基板が強く加圧されるため、これらの境界部分で基板間のギャップに大きな不均一性が生じる場合がある。つまり、液晶が配置される非真空領域では、ギャップを保持する剛直なギャップ材(スペーサ)が配置されているので、加圧処理を行なってもギャップは小さくならないが、液晶が配置されない真空領域ではこのようなギャップ材が存在しないので、大気加圧を行なうと基板はギャップを小さくする方向に撓み、その反動として、非真空領域では基板はギャップを大きくする方向に撓んでしまうのである。このような撓みが大きい場合、非真空領域の中央部と周辺部の間でギャップが不均一になり、色むら等の表示不良が発生することがある。 However, when pressurization is performed using the vacuum region, the substrate is pressed more strongly in the vacuum region where the liquid crystal is not disposed than in the non-vacuum region where the liquid crystal is disposed. Inhomogeneities may occur. In other words, in the non-vacuum region where the liquid crystal is arranged, a rigid gap material (spacer) that holds the gap is arranged, so that the gap is not reduced even if pressure treatment is performed, but in the vacuum region where the liquid crystal is not arranged. Since such a gap material does not exist, when the atmospheric pressure is applied, the substrate bends in the direction of decreasing the gap, and as a reaction, the substrate bends in the direction of increasing the gap in the non-vacuum region. When such a bend is large, a gap is not uniform between the central portion and the peripheral portion of the non-vacuum region, and display defects such as color unevenness may occur.
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、ODF方式を用いて多面取りを行なう場合に、真空領域と真空領域以外の部分との間に生じる基板の撓みを緩和し、ギャップ不良の生じ難い液晶装置を製造することのできる液晶装置の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and when performing multi-chamfering using the ODF method, the bending of the substrate that occurs between the vacuum region and the portion other than the vacuum region is alleviated, and the gap It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a liquid crystal device capable of manufacturing a liquid crystal device that is less likely to cause defects.
上記の課題を解決するため、本発明の液晶装置の製造方法は、第1基板上に液晶パネル複数分の第1シール材を形成する工程と、前記第1基板上に前記第1シール材を囲む第2シール材を形成する工程と、前記第1基板上又は第2基板上にギャップ材を形成する工程と、前記第1基板上又は前記第2基板上の前記第1シール材の内側に対応する領域に液晶を配置する工程と、前記第1基板及び前記第2基板を前記第1シール材及び前記第2シール材を介して真空環境下で貼り合わせる工程と、前記第1基板及び前記第2基板を前記真空環境から解放し、前記第1シール材と前記第2シール材との間に形成された真空領域を大気圧で加圧する工程と、を有し、前記ギャップ材を形成する工程では、前記第1シール材で囲まれる領域の周辺部の第1ギャップ材が、前記領域の中央部の第2ギャップ材よりも弾性変形容易なギャップ材として形成されることを特徴とする。 In order to solve the above problems, a method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention includes a step of forming a first sealing material for a plurality of liquid crystal panels on a first substrate, and the first sealing material on the first substrate. A step of forming an enclosing second sealing material, a step of forming a gap material on the first substrate or the second substrate, and an inner side of the first sealing material on the first substrate or the second substrate. Disposing a liquid crystal in a corresponding region; bonding the first substrate and the second substrate under a vacuum environment via the first sealing material and the second sealing material; and the first substrate and the Releasing the second substrate from the vacuum environment and pressurizing a vacuum region formed between the first sealing material and the second sealing material at atmospheric pressure, and forming the gap material In the process, the first portion of the peripheral portion of the region surrounded by the first sealing material Gap material than the second gap material of the central portion of the region, characterized in that it is formed as an elastic deformation easily gap material.
前述のように、真空領域にギャップ材が配置されない場合、真空領域を大気加圧すると真空領域と非真空領域(第1シール材で囲まれる領域)との間に大きなギャップの不均一性を生じる場合がある。この原因として、本発明者は、真空領域と非真空領域での基板の撓み易さの違いに着目した。すなわち、従来の液晶装置では、非真空領域でギャップ材の反発力が強い一方、真空領域ではギャップ材の反発力が存在しないので、その境界部分に配置された基板は第1シール材を支点として大きく撓み、その結果、非真空領域の周辺部に大きなギャップの不均一性が生じていた。したがって、非真空領域のギャップ材の反発力を小さくすれば、非真空領域にギャップを小さくする方向の力が働くため、上記の基板の撓みも軽減できると考えたのである。そこで、本発明では、非真空領域の周辺部に弾性変形容易な第1ギャップ材を配置し、加圧処理を行なった際にこの第1ギャップ材上に配置された基板がギャップを小さくする方向に変形できるようにした。この方法によれば、第1シール材を支点とした基板の撓みが軽減されるので、非真空領域の周辺部で極端にギャップが大きくなることがない。その結果、色むら等の発生が抑えられ、表示品質の高い液晶装置が提供されるようになる。 As described above, when the gap material is not disposed in the vacuum region, when the vacuum region is pressurized to the atmosphere, a large gap non-uniformity is generated between the vacuum region and the non-vacuum region (the region surrounded by the first seal material). There is a case. As a cause of this, the present inventors focused on the difference in the ease of bending of the substrate between the vacuum region and the non-vacuum region. That is, in the conventional liquid crystal device, the repulsive force of the gap material is strong in the non-vacuum region, but the repulsive force of the gap material does not exist in the vacuum region. Therefore, the substrate disposed at the boundary portion uses the first sealing material as a fulcrum. As a result, a large gap non-uniformity occurred in the periphery of the non-vacuum region. Therefore, if the repulsive force of the gap material in the non-vacuum region is reduced, the force in the direction of reducing the gap acts on the non-vacuum region, so that the above-described bending of the substrate can be reduced. Therefore, in the present invention, the first gap material that is easily elastically deformed is disposed in the periphery of the non-vacuum region, and the substrate disposed on the first gap material reduces the gap when the pressure treatment is performed. It can be transformed into. According to this method, since the bending of the substrate with the first seal material as a fulcrum is reduced, the gap does not become extremely large in the peripheral portion of the non-vacuum region. As a result, the occurrence of color unevenness is suppressed, and a liquid crystal device with high display quality is provided.
ここで、第1ギャップ材を第2ギャップ材よりも弾性変形容易なギャップ材とする方法としては、例えば、前記第1ギャップ材の密度を前記第2ギャップ材の密度よりも小さくする、前記第1ギャップ材の弾性係数を前記第2ギャップ材の弾性係数よりも小さくする、前記第1ギャップ材の断面積を前記第2ギャップ材の断面積よりも小さくする、等の方法を採用することができる。 Here, as a method of using the first gap material as a gap material that is more elastically deformable than the second gap material, for example, the density of the first gap material is made smaller than the density of the second gap material. Adopting a method of making the elastic coefficient of one gap material smaller than that of the second gap material, making the cross-sectional area of the first gap material smaller than the cross-sectional area of the second gap material, or the like. it can.
本発明の液晶装置の製造方法は、第1基板上に液晶パネル複数分の第1シール材を形成する工程と、前記第1基板上に前記第1シール材を囲む第2シール材を形成する工程と、前記第1基板上又は第2基板上にギャップ材を形成する工程と、前記第1基板上又は前記第2基板上の前記第1シール材の内側に対応する領域に液晶を配置する工程と、前記第1基板及び前記第2基板を前記第1シール材及び前記第2シール材を介して真空環境下で貼り合わせる工程と、前記第1基板及び前記第2基板を前記真空環境から解放し、前記第1シール材と前記第2シール材との間に形成された真空領域を大気圧で加圧する工程と、を有し、前記ギャップ材を形成する工程では、前記第1シール材で囲まれる領域の周辺部の第1ギャップ材の高さが、前記領域の中央部の第2ギャップ材の高さよりも小さい高さで形成されることを特徴とする。 In the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, a step of forming a first sealing material for a plurality of liquid crystal panels on a first substrate and a second sealing material surrounding the first sealing material on the first substrate are formed. A step of forming a gap material on the first substrate or the second substrate, and disposing a liquid crystal in a region corresponding to the inside of the first sealing material on the first substrate or the second substrate. Bonding the first substrate and the second substrate in a vacuum environment via the first seal material and the second seal material, and bonding the first substrate and the second substrate from the vacuum environment Releasing and pressurizing a vacuum region formed between the first sealing material and the second sealing material at atmospheric pressure, and in the step of forming the gap material, the first sealing material The height of the first gap material in the periphery of the region surrounded by Characterized in that it is formed at the central portion and the second gap member height smaller than the height of the band.
この方法によれば、加圧処理を行なった際に第1ギャップ材上に配置された基板がギャップを小さくする方向に変形されるため、第1シール材を支点とした基板の撓みが従来のものに比べて軽減される。したがって、非真空領域の周辺部で極端にギャップが大きくなることがなく、その結果、色むら等の発生が抑えられた液晶装置が提供される。 According to this method, the substrate disposed on the first gap material is deformed in the direction of reducing the gap when the pressure treatment is performed. Reduced compared to things. Therefore, the gap is not extremely increased in the peripheral portion of the non-vacuum region, and as a result, a liquid crystal device in which the occurrence of color unevenness is suppressed is provided.
本発明においては、前記ギャップ材を形成する工程では、前記第2ギャップ材のうち前記第1ギャップ材との境界部分に配置される第2ギャップ材の高さが、所望のギャップよりも高く形成されることが望ましい。 In the present invention, in the step of forming the gap material, a height of the second gap material arranged at a boundary portion between the second gap material and the first gap material is higher than a desired gap. It is desirable that
前述のように、本発明の液晶装置の製造方法では、第1ギャップ材が配置される非真空領域周辺部のギャップが所望のギャップよりも小さくなる。そこで、本発明では、非真空領域の外周部で第2ギャップ材の高さを若干高くし、基板が変形した状態で非真空領域周辺部に所望のギャップが得られるようにした。この方法によれば、非真空領域周辺部でギャップが過剰に小さくなることがなく、非真空領域全体で見た場合でも概ね均一なギャップが得られるようになる。 As described above, in the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention, the gap around the non-vacuum region where the first gap material is disposed is smaller than the desired gap. Therefore, in the present invention, the height of the second gap material is slightly increased at the outer peripheral portion of the non-vacuum region so that a desired gap can be obtained at the peripheral portion of the non-vacuum region with the substrate deformed. According to this method, the gap does not become excessively small around the non-vacuum region, and a substantially uniform gap can be obtained even when viewed in the entire non-vacuum region.
[第1の実施の形態]
以下、本発明を単純マトリクス方式の液晶パネル及び液晶装置を製造する場合を例に挙げて説明する。図1は、本発明に係る液晶パネルの製造方法の一実施形態を示している。ここに示す液晶パネルの製造方法においては、工程P1から工程P5に至る一連の工程によって図2に示す大判の第1基板1aが形成される。また、工程P11から工程P14に至る一連の工程によって図4に示す大判の第2基板1bが形成される。
[First Embodiment]
Hereinafter, the present invention will be described by taking a case of manufacturing a simple matrix type liquid crystal panel and a liquid crystal device as an example. FIG. 1 shows an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention. In the manufacturing method of the liquid crystal panel shown here, the large
工程P1においては、図2(a)に示すように、大判の第1基材2a上に液晶パネル複数分の第1電極3aを形成する。なお、図2では、1つの第1基材2a上に形成する液晶パネルの数を4×4=16個としたが、液晶パネルの形成数は、第1基板2aの大きさと製造する液晶パネルの大きさとの関係に応じて任意に設定される。第1電極3aは、複数の直線状の電極を互いに平行に並べることによって全体としてストライプ状に形成されている。
In step P1, as shown in FIG. 2A, a plurality of liquid crystal panel
次に、工程P2において、図3に示すように、第1基材2a上にアクリル樹脂等を塗布し、これをパターニングすることによって、各液晶パネル領域10の表示領域に柱状のギャップ材(スペーサ)31,32を形成する。ここで、表示領域の周辺部E1に形成される第1ギャップ材31は、表示領域の中央部E2に形成される第2ギャップ材32よりも小さい断面積(サイズ)で形成する。なお、ギャップ材31,32は表示領域のみに選択的に形成され、端子13が設けられた端子部には形成されない。
Next, in step P2, as shown in FIG. 3, an acrylic resin or the like is applied onto the
次に、工程P3において、図2(b)に示すように、各液晶パネル領域10内に配向膜4aを形成し、さらに、工程P4において、配向膜4aに対してラビング処理を実行する。このラビング処理により、液晶分子が第1基板1a側から一方向に並べられる。
Next, in step P3, as shown in FIG. 2B, an
なお、第1基材2aは、ガラス、プラスチック等によって形成される。また、第1電極3aは、例えばITO(Indium Tin Oxide)を材料としてフォトリソグラフィー法を用いて形成される。また、配向膜4aは、例えばポリイミドを塗布又は印刷することによって形成される。
In addition, the
その後、工程P5において、図2(c)に示すように、第1基材2a上の各液晶パネル領域10に塗布装置41を用いてエポキシ樹脂等を環状に付着、例えば印刷、することによって第1シール材6aを形成する。この第1シール材6aは液晶注入用開口のない閉じた環状に形成される。また、第1基材2aの外周部に複数の第1シール材6aの外周を囲む閉じた環状の第2シール材6bを形成する。
After that, in step P5, as shown in FIG. 2C, epoxy resin or the like is annularly attached to each liquid
以上により、液晶パネル複数分のパターンが形成された大判の第1基板1aが作製される。なお、第1基板1a上には、必要に応じて、上記第1電極3a及び配向膜4a以外の光学的要素が形成されることもあるが、図2ではそれら付加的な光学的要素は省略してある。
Thus, the large
一方、図1の工程P11においては、図4(a)に示すように、大判の第2基材2b上に液晶パネル複数分の第2電極3bを形成する。第2電極3bは、複数の直線状の電極を互いに平行に並べることによって全体としてストライプ状に形成されている。第2電極3bは、各液晶パネル領域10の中央部において、図2に示した第1電極3aと直交している。そして、第1電極3aと第2電極3bとが平面的に重なる領域がそれぞれドット(画素)となり、各液晶パネル領域10においてこのようなドットがマトリクス状に配置された領域が表示領域となる。表示領域は液晶により光変調が行なわれる光変調領域であり、各画素を独立に駆動することによって任意の画像が表示される。
On the other hand, in step P11 of FIG. 1, as shown in FIG. 4A, a plurality of
次に、工程P12において、図4(b)に示すように、各液晶パネル領域10内に配向膜4bを形成し、さらに、工程P13において、配向膜4bに対してラビング処理を実行する。このラビング処理により、液晶分子が第2基板1b側から一方向に並べられる。
Next, in step P12, as shown in FIG. 4B, an
その後、工程P14において、図4(c)に示すように、第2基材2b上の各液晶パネル領域10に塗布装置42を用いて液晶Lを配置、例えば滴下する。液晶Lは各液晶パネル領域10の中央部、すなわち第1基材2a上に形成される第1シール材6aの内側に対応する領域に配置される。なお、液晶Lは、基材2a,2bと第1シール材6aとに囲まれる空間の体積に応じて必要な量だけ配置される。
Then, in process P14, as shown in FIG.4 (c), the liquid crystal L is arrange | positioned using the
以上により、液晶パネル複数分のパターンが形成された大判の第2基板1bが作製される。なお、第2基板1b上には、必要に応じて、上記第2電極3b及び配向膜4b以外の光学的要素が形成されることもあるが、図4ではそれら付加的な光学的要素は省略してある。
As described above, the large-sized
なお、第2基材2bは、ガラス、プラスチック等によって形成される。また、第2電極3bは、例えばITO(Indium Tin Oxide)を材料としてフォトリソグラフィー法を用いて形成される。また、配向膜4bは、例えばポリイミドを塗布又は印刷することによって形成される。
In addition, the
以上により、図2の第1基板1a及び図4の第2基板1bが形成されると、図1の工程P21において、第1基板1a及び第2基板1bが真空チャンバ内に入れられる。そして、図5(a)に示すように、第1基板1aと第2基板2bとが第1シール材6a及び第2シール材6bを間に挟んで真空環境下で貼り合わされる。このとき、液晶Lは第1基板1a、第2基板1b及び第1シール材6aで囲まれた空間内(基板間のギャップ)に広がり、液晶層を形成する。また、液晶Lは第1シール材6aによって堰き止められるため、第1シール材6aを超えて外部に漏れ出ることはない。したがって、第1シール材6aと第2シール材6bとに囲まれる領域は真空領域Dとなる。なお、両基板1a及び1bは、第1電極3aと第2電極3bとがほぼ直交するように互いに貼り合わされる。
As described above, when the
次に、図5(b)に示すように、第1基板1a及び第2基板1bが真空チャンバから取り出され、大気中に解放される。このとき、真空領域Dは真空状態を保持されるため、第1基板1a及び第2基板1bは大気圧によって均一に加圧される。そして、第1シール材6aと第2シール材6bが十分に潰され、第1基板1aと第2基板1bとの間に均一なギャップが形成される。その後、第1シール材6a及び第2シール材6bを硬化することにより、液晶パネル複数分を有した大判のパネル構造体7が形成される。
Next, as shown in FIG. 5B, the
図6は、基板を大気圧で加圧したときの様子を説明するための断面図である。なお、図6において実線は基板を加圧する前の部材の形状を示しており、点線は基板を加圧したときの部材の形状を示している。 FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a state when the substrate is pressurized at atmospheric pressure. In FIG. 6, the solid line indicates the shape of the member before pressing the substrate, and the dotted line indicates the shape of the member when pressing the substrate.
図6に示すように、第1基板1aと第2基板1bは、第1シール材6aの内部に配置されたビーズ状のギャップ材14と、第1シール材6aの内側に配置された第1ギャップ材31及び第2ギャップ材32によって一定間隔に保持されている。貼り合わせ後の基板を大気中に解放すると、真空領域Dにかかる大気圧PAによって第1基板1aと第2基板1bが加圧され、その間に挟まれたギャップ材14と第1ギャップ材31及び第2ギャップ材32が押し潰される。そして、大気圧PAとギャップ材の反発力PS1,PS2とが釣り合うところで、ギャップ材の潰れが止まる。
As shown in FIG. 6, the
ここで、第1ギャップ材31と第2ギャップ材32とは互いに異なる面積で形成されているため、潰れに対する反発力PS1,PS2も互いに異なったものとなる。つまり、第1ギャップ材31は、面積が小さいアスペクト比の大きなギャップ材であるため、大気圧PAによって容易に弾性変形し、反発力PS1も小さい。一方、第2ギャップ材32は、面積が大きいアスペクト比の小さなギャップ材であるため、大気圧PAによって容易に弾性変形せず、反発力PS2も大きい。したがって、基板に均一に大気圧を印加すると、第2ギャップ材32が配置された表示領域中央部E2では、基板間のギャップは第2ギャップ材32の高さに制御され、第1ギャップ材31が配置された表示領域周辺部E1ではそのギャップよりも若干小さなギャップに制御されることになる。
Here, since the
他方、真空領域Dでは、基板を支持するギャップ材が存在しない。このため、基板間のギャップは液晶層5が形成される非真空領域よりも小さなものとなり、その基板の撓みの影響が表示領域周辺部E1に及ぶ。ここで、表示領域周辺部E1の第1ギャップ材31が剛直なギャップ材であると、その基板の撓みの影響を表示領域周辺部E1に及ぼすことができなくなり、その反動として第1シール材6aの近傍では基板に大きな撓みが生じるが、本実施形態では、第1ギャップ材31が弾性変形容易なギャップ材として構成されているので、真空領域Dの基板の撓みによって表示領域周辺部E1の基板も撓み、それによって、真空領域Dに生じる基板の撓みが表示領域周辺部E2を含めた広い範囲で平均化され、その基板の撓みによるギャップの変化も緩和される。
On the other hand, in the vacuum region D, there is no gap material that supports the substrate. Therefore, the gap between the substrates is smaller than the non-vacuum region where the
この理由を図7を用いて説明する。 The reason for this will be described with reference to FIG.
図7(a)に示すように、第1ギャップ材31を剛直なギャップ材とした場合、表示領域周辺部E1にはギャップ材による大きな反発力PS0が生じ、真空領域Dとの間で大きな応力の不均衡が生じる。この場合、真空領域Dが表示領域周辺部E1に比べて強く加圧されることになるため、第2基板1bはギャップ材14を支点として大きく傾き、その反動として、表示領域周辺部E1には大きなギャップの不均一性が生じる。一方、図7(b)に示すように、第1ギャップ材31を柔軟なギャップ材とした場合には、このような応力の不均衡は小さなものとなる。このため、ギャップ材14を支点とした第2基板1bの傾きも小さくなり、表示領域全体としてのギャップの不均一性も小さなものとなる。このように第1ギャップ材31を潰れ易いギャップ材にすると、表示領域周辺部E1でのギャップは所望のギャップから若干ずれたものとなるが、表示領域全体への影響を考慮した場合には、表示領域周辺部E1でギャップ材を潰してギャップ材14近傍での第2基板1bの変形を緩和した方が、表示領域全体のギャップの均一性という観点からはむしろ好ましいものとなるのである。
As shown in FIG. 7A, when the
以上により、基板の貼り合わせが修了したら、工程P22において、図2に示す溝G1を第1基材2a上に形成し、さらに図4に示す溝G2、G3及びG4を第2基材2b上に形成すると共に、それらの溝に従ってパネル構造体を切断して個々に分離することにより、図8に示すような液晶パネル12が、複数、作製される。この液晶パネル12において、第1基板1aは第2基板1bの外側へ張り出す張出し部1cを有し、この張出し部1c上には、外部回路との間で信号や電力の授受を行うための端子13が形成される。
When the bonding of the substrates is completed as described above, in step P22, the groove G1 shown in FIG. 2 is formed on the
第1基板1a上に形成された第1電極3aはシール材6aを通過して外部へ張り出して配線15となり、その配線15が端子13に接続されている。一方、第2基板1b上に形成された第2電極3bは、シール材6aの内部に混入された導通材14を介して配線16に接続し、その配線16が端子13に接続されている。
The
以上のようにして液晶パネル12が作製された後、工程P23において、図9に示すように、第1基材2a及び第2基材2bの外側表面に偏光板17a及び17bを貼着する。
After the
さらに、工程P24において、図8に示す第1基板1aの張出し部1cに形成した端子13に、例えば、FPC(Flexible Printed Circuit)等を介して液晶駆動用ICを実装する。これにより、目標とする液晶装置が完成する。こうして製造された液晶装置は、アクティブ素子を用いない単純マトリクス方式の液晶パネルである。第1電極3aと第2電極3bとはドットマトリクス状に配列する複数の点で交差し、それらの交点の1つによって像形成のための1ドットが形成され、これらドットの集まりによって表示領域が形成される。
Further, in step P24, a liquid crystal driving IC is mounted on the terminal 13 formed on the protruding portion 1c of the
この液晶装置では、各ドットに印加される電圧を制御することにより、それらのドットに存在する液晶の配向がドットごとに制御される。この配向制御により、各ドットを通過する光が変調されて図7の偏光板17a又は17bを通過するものと通過しないものとが選択され、これにより、第1基板2aの外側又は第2基板2bの外側に文字、数字等といった像が表示される。
In this liquid crystal device, by controlling the voltage applied to each dot, the orientation of the liquid crystal present in those dots is controlled for each dot. By this orientation control, the light passing through each dot is modulated to select one that passes through the
なお、図9において、液晶層5へ供給する光は、反射方式又は透過方式によって与えられる。反射方式というのは、第1基板2a又は第2基板2bのいずれかの液晶層5側の表面又は液晶層5と反対側の表面に反射膜(図示せず)を形成し、外部からの光、例えば太陽光、室内光等をその反射膜によって反射して液晶層5へ供給する方式である。他方、透過方式というのは、第1基板2a又は第2基板2bのいずれかの液晶層5と反対側の表面に照明装置を配設し、この照明装置からの光を第1基板2a又は第2基板2bを透過させて液晶層5へ供給する方式である。
In FIG. 9, light supplied to the
以上に説明したように、本実施形態の液晶装置の製造方法では、表示領域の周辺部E1に弾性変形容易な第1ギャップ材31を配置し、加圧処理を行なった際にこの第1ギャップ材31上に配置された基板がギャップを小さくする方向に変形できるようにした。このため、第1シール材6a(その内部に混入されたギャップ材14)を支点とした基板の撓みが軽減され、表示領域周辺部E1で極端にギャップが大きくなることがない。その結果、色むら等の発生が抑えられ、表示品質の高い液晶装置が提供できるものとなる。
As described above, in the method of manufacturing the liquid crystal device according to the present embodiment, the
なお、本実施形態では第1ギャップ材31と第2ギャップ材32の剛性を、両者の設置されるギャップ材の面積を変えることによって調節した。しかし、ギャップ材の剛性を変える方法はこれに限定されるものではなく、例えば、第1ギャップ材31の材料を予め第2ギャップ材32の材料よりも弾性係数の小さい材料としておけば、本実施形態と同じ作用効果が得られる。
[第2の実施の形態]
図10は、本発明に係る液晶パネルの製造方法の第2実施形態の一工程を示す図である。図10に示す工程が図3に示した第1実施形態における対応工程と異なる点は、表示領域周辺部E1の第1ギャップ材31の密度を表示領域中央部E2の第2ギャップ材32の密度よりも小さくしたことである。なお、第1ギャップ材31と第2ギャップ材32のサイズ(断面積)は同じである。この構成では、表示領域全体としてみた場合に、表示領域周辺部E1のギャップ材31は表示領域中央部E2のギャップ材32よりも弾性変形容易なものとなる。したがって、第1実施形態と同様に表示領域全体で概ね均一なギャップが得られるようになる。
[第3の実施の形態]
図11は、本発明に係る液晶パネルの製造方法の第3実施形態の一工程を示す図である。図11に示す工程が図10に示した第2実施形態における対応工程と異なる点は、表示領域周辺部E1の第1ギャップ材31の高さd1を表示領域中央部E2の第2ギャップ材32の高さd2よりも小さくしたことである。この構成では、対向側の基板を大気圧で加圧したときに表示領域周辺部E1でギャップが小さくなるため、真空領域の境界部での基板の撓みを緩和することができる。したがって、第1実施形態と同様に表示領域全体で概ね均一なギャップが得られるようになる。
[第4の実施の形態]
図12は、本発明に係る液晶パネルの製造方法の第4実施形態の一工程を示す図である。図12に示す工程が図6に示した第1実施形態の対応工程と異なる点は、表示領域中央部E2の第2ギャップ材32のうち、表示領域周辺部E1との境界付近にある第2ギャップ材32の高さd3をそれ以外の第2ギャップ材32の高さd4よりも高くしたことである。前述のように、第1実施形態の液晶装置の製造方法では、第1ギャップ材31の配置される表示領域周辺部E1のギャップが、所望のギャップよりも小さくなる。そこで、本実施形態では、表示領域の中央部E2で第2ギャップ材32の高さを若干高くし、基板が変形した状態で表示領域周辺部E1に所望のギャップが得られるようにした。この方法によれば、表示領域周辺部E1でギャップが過剰に小さくなることがなく、表示領域全体で見た場合でも概ね均一なギャップが得られるようになる。
In the present embodiment, the rigidity of the
[Second Embodiment]
FIG. 10 is a diagram showing a process of the second embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention. The process shown in FIG. 10 is different from the corresponding process in the first embodiment shown in FIG. 3 in that the density of the
[Third Embodiment]
FIG. 11 is a diagram showing a process of the third embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention. The process shown in FIG. 11 is different from the corresponding process in the second embodiment shown in FIG. 10 in that the height d1 of the
[Fourth Embodiment]
FIG. 12 is a diagram showing a process of a fourth embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention. The process shown in FIG. 12 is different from the corresponding process of the first embodiment shown in FIG. 6 in that the
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。 The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but it goes without saying that the present invention is not limited to such examples. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.
例えば、以上の実施形態では、本発明を単純マトリクス方式の液晶パネルに適用したが、本発明は、その他の任意の構造の液晶パネル、例えば、TDF(ThinFilm Diode)素子等とった2端子型のスイッチング素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶パネルや、TFT(Thin Film Transistor)素子等といった3端子型のスイッチング素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶パネル等にも適用できる。 For example, in the above embodiment, the present invention is applied to a simple matrix type liquid crystal panel. However, the present invention is a liquid crystal panel having any other structure, for example, a TDF (Thin Film Diode) element or the like. The present invention can also be applied to an active matrix liquid crystal panel using a switching element, an active matrix liquid crystal panel using a three-terminal switching element such as a TFT (Thin Film Transistor) element, and the like.
1a…第1基板、1b…第2基板、2a…第1基材、2b…第2基材、5…液晶層、6a…第1シール材、6b…第2シール材、7…パネル構造体、12…液晶パネル、31…第1ギャップ材、32…第2ギャップ材、D…真空領域、E1…表示領域周辺部(第1シール材で囲まれる領域の周辺部)、E2…表示領域中央部(第1シール材で囲まれる領域の中央部)、L…液晶
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記第1基板上に前記第1シール材を囲む第2シール材を形成する工程と、
前記第1基板上又は第2基板上にギャップ材を形成する工程と、
前記第1基板上又は前記第2基板上の前記第1シール材の内側に対応する領域に液晶を配置する工程と、
前記第1基板及び前記第2基板を前記第1シール材及び前記第2シール材を介して真空環境下で貼り合わせる工程と、
前記第1基板及び前記第2基板を前記真空環境から解放し、前記第1シール材と前記第2シール材との間に形成された真空領域を大気圧で加圧する工程と、を有し、
前記ギャップ材を形成する工程では、前記第1シール材で囲まれる領域の周辺部の第1ギャップ材が、前記領域の中央部の第2ギャップ材よりも弾性変形されるギャップ材として形成されることを特徴とする液晶装置の製造方法。 Forming a first sealing material for a plurality of liquid crystal panels on a first substrate;
Forming a second sealing material surrounding the first sealing material on the first substrate;
Forming a gap material on the first substrate or the second substrate;
Disposing a liquid crystal in a region corresponding to the inside of the first sealing material on the first substrate or the second substrate;
Bonding the first substrate and the second substrate through the first sealing material and the second sealing material in a vacuum environment;
Releasing the first substrate and the second substrate from the vacuum environment, and pressurizing a vacuum region formed between the first sealing material and the second sealing material at atmospheric pressure,
In the step of forming the gap material, the first gap material in the periphery of the region surrounded by the first seal material is formed as a gap material that is more elastically deformed than the second gap material in the center of the region. A method of manufacturing a liquid crystal device.
前記第1基板上に前記第1シール材を囲む第2シール材を形成する工程と、
前記第1基板上又は第2基板上にギャップ材を形成する工程と、
前記第1基板上又は前記第2基板上の前記第1シール材の内側に対応する領域に液晶を配置する工程と、
前記第1基板及び前記第2基板を前記第1シール材及び前記第2シール材を介して真空環境下で貼り合わせる工程と、
前記第1基板及び前記第2基板を前記真空環境から解放し、前記第1シール材と前記第2シール材との間に形成された真空領域を大気圧で加圧する工程と、を有し、
前記ギャップ材を形成する工程では、前記第1シール材で囲まれる領域の周辺部の第1ギャップ材の高さが、前記領域の中央部の第2ギャップ材の高さよりも小さい高さで形成されることを特徴とする液晶装置の製造方法。 Forming a first sealing material for a plurality of liquid crystal panels on a first substrate;
Forming a second sealing material surrounding the first sealing material on the first substrate;
Forming a gap material on the first substrate or the second substrate;
Disposing a liquid crystal in a region corresponding to the inside of the first sealing material on the first substrate or the second substrate;
Bonding the first substrate and the second substrate through the first sealing material and the second sealing material in a vacuum environment;
Releasing the first substrate and the second substrate from the vacuum environment, and pressurizing a vacuum region formed between the first sealing material and the second sealing material at atmospheric pressure,
In the step of forming the gap material, the height of the first gap material in the peripheral portion of the region surrounded by the first seal material is formed to be smaller than the height of the second gap material in the central portion of the region. A method for manufacturing a liquid crystal device.
In the step of forming the gap material, a height of the second gap material arranged at a boundary portion between the second gap material and the first gap material is formed higher than a desired gap. A method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1.
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