JP2007231182A - 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 - Google Patents

室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 Download PDF

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Abstract

【解決手段】(A)両末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサン:5〜95質量%、
(B)両末端がジアルコキシモノオルガノシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサン:95〜5質量%
からなるポリオルガノシロキサン100質量部に対し、
(C)一般式(1)
Figure 2007231182

(R1、R2、R3は1価飽和炭化水素基、Xは酸素原子又は2価炭化水素基、nは粘度が0.005〜100Pa・sとなるような正数。)
で表される片末端トリアルコキシポリオルガノシロキサン硬化剤1〜50質量部、
(D)比表面積が50m2/g以上のシリカ粉:1〜50質量部、
(E)チタンキレート触媒:0.1〜15質量部
を含有する室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物。
【効果】本発明の組成物は、硬化前の組成物が低粘度であり、硬化後は高い密着性と適度なゴム強度を発現し、更にこれらのバランスにより優れた剥離性を生じさせる硬化物が得られる。
【選択図】なし

Description

本発明は、室温で硬化してシリコーンエラストマーとなるポリオルガノシロキサン組成物に関し、詳しくは、硬化前の組成物は低粘度であり、硬化後の物性に優れ、特に高伸張であり、且つ基材との密着面からの剥離性に優れた硬化物を与える室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物に関するものである。
湿気により架橋する硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、その取り扱いが容易な上に耐熱性、接着性、電気特性に優れるため、建材用のシーリング材、電気電子分野、輸送機分野での接着剤など、様々な分野で利用されている。
この硬化性ポリオルガノシロキサン組成物は、電気電子分野においては電極や回路基板のコーティングに多く利用されており、硬化前の組成物が低粘度であり、且つ硬化後は硬化物が基材との接着性に優れている必要があった。しかし、近年LCDパネルの電極コートの分野においては、完成したLCDパネルの修理等のため、硬化物を基材との接着面から除去、剥離させる必要が生じる場合があり、この際には基材表面に硬化物が残存せず、界面剥離することが求められる。
この問題を解決するため、特開2005−082734号公報(特許文献1)では、両末端がジアルコキシモノオルガノシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサンあるいは両末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサンをベースポリマーとして使用し、これにシラノール基、トリアルコキシ基及びジアルコキシ基を含有しないポリオルガノシロキサン、充填剤として表面処理されたシリカ、架橋剤である2官能のアルコキシシラン又はその部分加水分解縮合物及びチタンキレート触媒を選択組み合わせることにより、密着性と剥離性の両立を図っている。
しかしながら、本発明者らの追試によると、上記特許文献1の技術によれば、ある程度、密着性と剥離性に優れた組成物は得られるものの、硬化物表面にシラノール基、トリアルコキシ基及びジアルコキシ基を含有しないポリオルガノシロキサンが硬化物からブリードすることを確認した。また、架橋剤である2官能のアルコキシシラン又はその部分加水分解縮合物を含有しているため、硬化物の架橋密度が増大し、低伸張となり、剥離時に硬化物が破断し、剥離性は満足できるものではなかった。
特開2005−082734号公報
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、硬化前の組成物は低粘度であり、硬化後の物性に優れ、特に高伸張であり、且つ基材との密着面からの剥離性に優れた硬化物を与える室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を達成し得る室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を得るべく検討した結果、ベースポリマーとして両末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサンと両末端がジアルコキシモノオルガノシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサンとを併用し、片末端トリアルコキシポリオルガノシロキサンを架橋剤として組み合わせることが極めて有効であることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、
(A)25℃における粘度が0.1〜1,000Pa・sであり、両末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサン:5〜95質量%、
(B)25℃における粘度が0.1〜1,000Pa・sあり、両末端がジアルコキシモノオルガノシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサン:95〜5質量%
からなるポリオルガノシロキサン100質量部に対し、
(C)下記一般式(1)
Figure 2007231182
(式中、R1、R2及びR3は1価の飽和炭化水素基であり、Xは酸素原子又は2価炭化水素基、nは25℃における粘度が0.005〜100Pa・sとなり、好ましくは使用した成分(A)及び(B)の粘度未満となるような正数を表す。)
で表される片末端トリアルコキシポリオルガノシロキサン硬化剤:1〜50質量部、
(D)比表面積が50m2/g以上のシリカ粉:1〜50質量部、
(E)チタンキレート触媒:0.1〜15質量部
を必須成分とする室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を提供する。
本発明では、(A)成分、(B)成分という末端3官能及び2官能のポリマーを併用することにより、適度なゴム強度を発現し、これらと片末端3官能のアルコキシシロキサン架橋剤(C)及びシリカ粉(D)を配合することにより、硬化前の組成物が低粘度であり、硬化後の特性は高い密着性を発現し、更にこれらのバランスにより優れた剥離性を生じさせる硬化物が得られるものである。
本発明で用いる(A)、(B)成分のポリオルガノシロキサンは、本組成物のベースポリマーとなるもので、(A)両末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサンと(B)両末端がジアルコキシモノオルガノシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサンを、(A)成分5〜95質量%に対して(B)成分95〜5質量%、より好ましくは(A)成分10〜90質量%に対して(B)成分90〜10質量%で配合したものである。(A)成分が5質量%未満であると基材からの界面剥離性が悪く、95質量%を超えると伸びが低下する。このようなポリジオルガノシロキサンの製造方法はよく知られており、例えば、分子鎖両末端にヒドロシリル基を有するポリジオルガノシロキサンとテトラアルコキシシランもしくはアルケニルトリアルコキシシランを縮合反応させる方法、分子鎖両末端にアルケニルシリル基を有するポリジオルガノシロキサンとトリアルコキシシランもしくはアルキルジアルコキシシランとを付加反応させる方法が例示される。
(A)、(B)成分において、末端構造以外は特に限定されるものではなく、通常の直鎖状のポリジオルガノシロキサン等の硬化してエラストマーを与えるものであればよく、ケイ素原子に結合する置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基等の炭素数1〜8の1価炭化水素基、これら1価炭化水素基の水素原子の一部又は全部をハロゲン原子で置換したクロロメチル基、トリフロロメチル基等のハロゲン化炭化水素基等が挙げられる。
(A)成分の25℃の粘度は、0.1〜1,000Pa・sであり、好ましくは0.2〜100Pa・sである。0.1Pa・sより低いとゴムが低伸張で脆く、界面剥離性が悪くなる。また1,000Pa・sより高いと高粘度となり、作業性が悪くなる。なお、本発明において、粘度は回転粘度計による粘度値である。
(B)成分の25℃の粘度は、0.1〜1,000Pa・sであり、好ましくは0.2〜100Pa・sである。0.1Pa・sより低いとゴムが低伸張で脆く、界面剥離性が悪くなる。また、1,000Pa・sより高いと高粘度となり、作業性が悪くなる。
この場合、より好適には、(A)成分としては下記式(2)、(B)成分としては下記式(3)で示されるポリオルガノシロキサンが用いられる。
Figure 2007231182
この場合、R11、R13は互いに同一又は異種の炭素数1〜4のアルキル基で、特にメチル基、エチル基が好ましい。R12、R14、R15は互いに同一又は異種の炭素数1〜8の1価炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基であるが、特にR14はアルキル基であることが好ましい。aは、式(2)のポリオルガノシロキサンの25℃における粘度を0.1〜1,000Pa・sとする数、bは、式(3)のポリオルガノシロキサンの25℃における粘度を0.1〜1,000Pa・sとする数である。
なお、(A)成分と(B)成分の粘度は、どちらが高くてもよく、また同じであってもよいが、好ましくは(B)成分の方が高粘度である。
本発明に用いられる(C)成分である片末端トリアルコキシポリオルガノシロキサンは硬化物の伸びを高くするものであり、下記式(1)で表される。
Figure 2007231182
(式中、R1、R2及びR3は1価の飽和炭化水素基であり、Xは酸素原子又は2価炭化水素基、nは25℃における粘度が0.005〜100Pa・sとなり、好ましくは使用した成分(A)及び(B)の粘度未満となるような正数を表す。)
ここで、1価の飽和炭化水素基としては、炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、2価炭化水素基としては、炭素数1〜4のアルキレン基等が挙げられる。好ましくは、側鎖は(A)及び(B)成分と同種のものが好ましい。また、(C)成分の25℃における粘度は、少なくとも(A)成分、(B)成分のいずれかの粘度より低いことが好ましい。更に、(A)成分、(B)成分双方の粘度より低いことが好ましい。(C)成分の粘度が、(A)成分及び(B)成分の粘度より高いと高粘度となり、作業性が悪くなるおそれがある。具体的に好ましい(C)成分の粘度は、0.005〜100Pa・s、特に0.01〜10Pa・sである。
(C)成分は架橋剤として作用するものであり、(A)、(B)成分の合計100質量部に対し、1〜50質量部が用いられる。配合量が1質量部未満では十分な密着性及び伸びが得られず、50質量部を超えるとゴム強度が低下し、界面剥離性が低下する。より好ましくは3〜30質量部である。
本発明に用いられる(D)成分のシリカは、比表面積が50m2/g以上のシリカ粉であり、煙霧質シリカ、焼成シリカ、あるいはこれらの表面をオルガノクロロシラン類、ポリオルガノシロキサン類、オルガノシラザン類等の従来公知の処理剤で表面処理したものが挙げられる。ここでいう比表面積は、BET法によるものである。好ましくはオルガノシラザン類で処理されたものが好ましい。更に好ましくはオルガノシラザン類でカーボン量がシリカに対し2質量%以上、特に2.0〜5.0質量%となるように処理された煙霧質シリカである。
(D)成分は、(A)、(B)成分の合計100質量部に対し、1〜50質量部が用いられ、好ましくは3〜30質量部である。
本発明で用いられる(E)成分のチタンキレート触媒としては、ジイソプロポキシビス(アセト酢酸エチル)チタン、ジイソプロポキシビス(アセト酢酸メチル)チタン、ジイソプロポキシビス(アセルアセトン)チタン、ジブトキシビス(アセト酢酸エチル)チタン、ジメトキシビス(アセト酢酸エチル)チタン等の公知の各種チタンキレート化合物が挙げられる。
(E)成分は、(A)、(B)成分の合計100質量部に対し、0.1〜15質量部、特に0.3〜10質量部程度が用いられる。
本発明の組成物は上記のような(A)〜(E)成分からなるものであるが、更に、上記の成分に加えて、石英微粉末、カーボンブラック、炭酸カルシウムなどの無機充填剤やそれらを疎水化処理したもの、チクソトロピー性付与剤、粘度調整剤、流動性調整剤、顔料、耐熱剤、難燃剤、有機溶媒、防かび剤、抗菌剤、紫外線吸収剤、耐熱向上剤、難燃化剤、接着向上剤など、各種の添加剤を加えることは本発明の目的を損なわない限り差し支えない。
本発明の組成物は、上記(A)〜(E)成分を品川ミキサーやプラネタリーミキサー、フロージェットミキサ等の通常使用される混練機を用いて、好ましくは無水の状態で混練りすることによって製造することができ、電気電子分野においては電極や回路基板のコーティング等、特にLCDパネルの電極コートに用いられるが、このような用途に用いる場合、0.2〜1.0mm程度の厚さにコーティングし、室温で大気中に放置すること、例えば23℃,50%RHで24時間という硬化条件にて硬化、使用することができる。
以下において実施例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例中、部とあるのはいずれも質量部を表す。また、粘度は回転粘度計により測定した25℃における値を示す。
[実施例1]
ポリマー(A)(分子鎖両末端にヒドロキシシリル基を有するポリジメチルシロキサンとテトラメトキシシランを脱アルコール縮合反応させた、両末端がトリメトキシシリル基で封鎖されたポリジメチルシロキサン(25℃の粘度1Pa・s))50部、ポリマー(B)(分子鎖両末端にヒドロキシシリル基を有するポリジメチルシロキサンとメチルトリメトキシシランを脱アルコール縮合反応させた、両末端がメチルジメトキシシリル基で封鎖されたポリジメチルシロキサン(25℃の粘度1Pa・s))50部、硬化剤(C)(片末端トリメトキシポリジメチルシロキサン(25℃の粘度0.02Pa・s))10部、BET法による比表面積が200m2/gでヘキサメチルジシラザンで表面処理された乾式シリカ(シリカA)15部を配合し、室温で40mmHgの減圧下で30分混合した。
この混合物にチタンキレート触媒(E)(ジイソプロポキシビス(アセト酢酸エチル)チタン)1部を加え、湿気遮断下で均一になるまで混合した。
[実施例2]
実施例1で用いたポリマー(A)30部に、ポリマー(B)70部、硬化剤(C)5部、シリカA10部を配合し、室温で40mmHgの減圧下で30分混合した。
この混合物にチタンキレート触媒(E)(ジイソプロポキシビス(アセト酢酸エチル)チタン)1部を加え、湿気遮断下で均一になるまで混合した。
[実施例3]
実施例1で用いたポリマー(A)50部に、ポリマー(B)50部、硬化剤(C)10部、BET法による比表面積が130m2/gでジメチルジクロロシランにより表面処理された乾式シリカ(シリカB)15部を配合し、室温で40mmHgの減圧下で30分混合した。
この混合物にチタンキレート触媒(E)(ジイソプロポキシビス(アセト酢酸エチル)チタン)1部を加え、湿気遮断下で均一になるまで混合した。
[比較例1]
実施例1において、硬化剤(C)を配合しない以外は同様にして組成物を調製した。
[比較例2]
実施例1において、ポリマー(B)を用いず、ポリマー(A)を100部用い、また硬化剤(C)を配合しない以外は同様にして組成物を調製した。
[比較例3]
実施例1において、硬化剤(C)の替わりにメチルトリメトキシシランを配合し、同様にして組成物を調製した。
[比較例4]
実施例1で用いたポリマー(A)50部に、ポリマー(B)50部、シリコーンオイル(両末端がトリメチルシリル基で封鎖されたポリジメチルシロキサン(25℃の粘度0.9Pa・s))30部、硬化剤としてジメチルジメトキシシラン10部、シリカA15部を配合し、室温で40mmHgの減圧下で30分混合した。
この混合物にチタンキレート触媒(E)1部を加え、湿気遮断下で均一になるまで混合した。
上記で得られた組成物の粘度の測定結果を表1に示す。また、ガラス板上に厚さ2mmの型枠を設け、そこに上記組成物を流し込み、23℃,50%RHで7日間養生して2mm厚の硬化物を得た。ガラス板からの界面剥離率及びJIS K6249に準じて硬化物の破断時伸びを測定した。また、ガラス板上に厚さ0.5mm、幅1mmそして長さ50mmのビード状組成物を23℃,50%RHで7日間養生し、硬化物を得た。これについて、オートグラフでゴムとガラスを剥離させ、そのときのビード剥離率を評価した。更に、上記で得られた2mm厚の硬化物(縦横は50mm×50mm)を薬包紙上に23℃×7日間放置し、薬包紙へのオイルの染み出しを目視で観察した。結果を表1に示す。
Figure 2007231182

Claims (1)

  1. (A)25℃における粘度が0.1〜1,000Pa・sであり、両末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサン:5〜95質量%、
    (B)25℃における粘度が0.1〜1,000Pa・sであり、両末端がジアルコキシモノオルガノシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサン:95〜5質量%
    からなるポリオルガノシロキサン100質量部に対し、
    (C)下記一般式(1)
    Figure 2007231182
    (式中、R1、R2及びR3は1価の飽和炭化水素基であり、Xは酸素原子又は2価炭化水素基、nは25℃における粘度が0.005〜100Pa・sとなるような正数を表す。)
    で表される片末端トリアルコキシポリオルガノシロキサン硬化剤1〜50質量部、
    (D)比表面積が50m2/g以上のシリカ粉:1〜50質量部、
    (E)チタンキレート触媒:0.1〜15質量部
    を必須成分とすることを特徴とする室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物。
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