JP2007185616A - 光触媒層およびその形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アナターゼ型酸化チタンおよびアモルファス型酸化チタンを含有する上地層を、アモルファス型酸化チタンを主体とする下地層、シリカを主体とする中間層を介して基材表面に順に積層することによって、アナターゼ型酸化チタンの光触媒作用による基材表面の劣化を防ぐとともに、基材表面が撥水性の強いものであっても当該光触媒層の表面に影響を及ぼすことなく、また、密着性も良好な光触媒層とすることができる。
【選択図】なし
Description
スプレーコーティングすることによって、上地層表面に凹凸のある立体的形状が形成されやすくなるので、これにより、光触媒作用を効率よく行わせることができ、光触媒層の有害物質分解効率を高くすることができる。
まず、チタンテトラアルコキシド、例えばチタンテトライソプロポキシド(TIP)と、アルコール、例えばイソプロパノール(IPA)とを所定のモル比、例えば、TIP/IPA=1/5で混合して十分に撹拌する。
(ステップ12)
次いで、TIP、IPAおよび水が所定のモル比、例えばTIP/IPA/水=1/5〜10/4となるようにIPAと水の混合液を加え、さらに、所定の温度、例えば25℃に温度調整しながら溶液を十分に撹拌してTIPの加水分解を促進させることにより微粒子状のアモルファス型酸化チタンが溶液中に生成される。
なお、上記工程において、TIP、IPA及び水は同時に混合するようにしてもよい。
次に、生成された微粒子状の酸化チタンを、例えば濾過器を用いて母液から分離し、所定の温度、例えば100℃で所定の時間、例えば20時間通気乾燥させて酸化チタンの粉末(微粒子状)を得る。
(ステップ14)
得られた酸化チタンの粉末に酸性溶液、例えば10〜50質量%の過酸化水素を含む水溶液(過酸化水素水)を加えて、温度が20℃以下、好ましくは5〜20℃となるように調整しながら撹拌し、酸化チタンの粉末を所定量溶解させることにより、酸化チタンがゲル化した酸化チタンのゲル体を得る。このゲル体は、粒界を有しないアモルファス型酸化チタンからなるものである。
さらに、ステップ14の溶液を撹拌するとともに、温度が20℃以下、好ましくは5〜20℃となるように調整しながら、分散剤として酸性溶液、例えば10〜50質量%の過酸化水素を含む水溶液(過酸化水素水)を加えて、ゲル状の酸化チタンをゾル化、つまり超微粒子化させて溶液中に高分散させることにより、pHが1程度のアモルファス型酸化チタンを含む溶液を得る。
さらに、ステップ15の溶液のpHが2〜10、好ましくは4〜8となるように所定量のアルカリ溶液、例えばアンモニア、水酸化ナトリウム、アミン類などを加えて分解させることにより、平均粒径が10〜28nmのアモルファス型酸化チタンを含む溶液が得られる。
pHを2〜10、好ましくは4〜8とすることにより、得られる溶液は長時間放置してもアモルファス型酸化チタンがゲル化または凝集化することが極めて少ない溶液となる。
また、用いるアルカリ溶液は、得られた溶液を加熱する際に有害な揮発性物質が発生することを避けるために、アンモニアを用いることが望ましい。
まず、無定形シリカの前駆体、例えばオルトケイ酸テトラエチル(TEOS)と、アルコール、例えばIPAとを混合した溶液に、さらに無機酸、例えば硝酸を加えてTEOSの加水分解反応を促進させることにより、溶液中に無定形シリカの微粒子が生成される。
(ステップ22)
ステップ21で得られた溶液にアンモニア水を加えてpHを調製することにより、無定形シリカを含む溶液が得られる。
ステップ16で得られたアモルファス型酸化チタンを含む溶液を撹拌しながら、湯浴やオートクレーブなどの加熱手段を用いて加熱し、60℃以上、好ましくは95〜120℃となるように温度調整するとともに、1〜12時間かけて加熱処理を行う。これにより、溶液中に含まれるアモルファス型酸化チタンが変性してアナターゼ型酸化チタンが核発生し、アナターゼ型酸化チタンの微粒子を含む溶液が得られる。
まず、TIPとIPAと水とを、TIPに対して水が過剰量となるように、例えばTIP/IPA/水=1/5〜10/10〜80、好ましくは、1/5〜10/10〜15のモル比となるように混合して撹拌する。
(ステップ42)
次に、ステップ1の溶液を所定の温度、例えば25℃に調節しながら十分に撹拌してTIPの加水分解を促進させる。これにより、微粒子状のアナターゼ型酸化チタンおよびアモルファス型酸化チタンが溶液中に生成される。
次に、ステップ42で得られた溶液を、例えば濾過器を用いて母液から分離し、所定の温度、例えば100℃で所定の時間、例えば20時間通気乾燥させて、アナターゼ型酸化チタンおよびアモルファス型酸化チタンの粉末(微粒子状)を得る。
(ステップ44)
得られたアナターゼ型酸化チタンおよびアモルファス型酸化チタンの粉末に酸性溶液、例えば10〜50質量%の過酸化水素を含む水溶液(過酸化水素水)を加えて、温度が20℃以下、好ましくは5〜20℃となるように調整しながら撹拌し、アナターゼ型酸化チタンおよびアモルファス型酸化チタンの粉末を所定量溶解させることにより、アナターゼ型酸化チタンおよびアモルファス型酸化チタンの微粒子が分散する溶液が得られる。
また、TIPに対して過剰量となるように水を混合する構成により、アモルファス型酸化チタンとアナターゼ型酸化チタンとが溶液中に均一に分散した状態の溶液を生成することができ、超微粒子状のアモルファス型酸化チタンがアナターゼ型酸化チタンの粒子を溶液中に分散させる作用を発揮するため、長時間放置してもアモルファス型酸化チタンとアナターゼ型酸化チタンとが高分散した状態を維持することができ、安定性の高い溶液とすることができる。
本実施の形態によれば、下地層として、ゲル化または凝集化することが極めて少ない微粒子状のアモルファス型酸化チタンを含む溶液を用いることにより、基材の表面にアモルファス型酸化チタンの微粒子が偏ることなく均一に広がるので、アモルファス型酸化チタンのネットワークにより基材表面を完全に膜で覆うことができる。これにより、基材が撥水性の強いものであっても、光触媒層表面には何ら影響が及ぼされず、光触媒層表面は良好な親水性を維持することができる。
Claims (6)
- 基材表面に、アモルファス型酸化チタンを主体とする下地層、シリカを主体とする中間層、光触媒を含有する上地層が順次積層された光触媒層。
- 前記光触媒は、アナターゼ型酸化チタンであり、
前記上地層は、アモルファス型酸化チタンおよび前記アナターゼ型酸化チタンを主体とする請求項1記載の光触媒層。 - 前記下地層は0.1μm以下、前記中間層は0.05μm以下、前記上地層は0.05μm以上0.15μm以下の厚みを有するものである請求項1または2に記載の光触媒層。
- 基材の表面に、下地層としてアモルファス型酸化チタンを主体とする溶液、中間層としてシリカを主体とする溶液、上地層として光触媒を含有する溶液を順次塗布することを特徴とする光触媒層の形成方法。
- 前記光触媒を含有する溶液は、アモルファス型酸化チタンおよびアナターゼ型酸化チタンを主体として含む溶液であることを特徴とする請求項4記載の光触媒層の形成方法。
- 前記上地層を、スプレーコーティングにより形成することを特徴とする請求項4または5に記載の光触媒層の形成方法。
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