JP2007122775A - Method for manufacturing master disk for preparing recording medium substrate, method for manufacturing stamper for preparing recording medium substrate, and method for manufacturing recording medium substrate - Google Patents

Method for manufacturing master disk for preparing recording medium substrate, method for manufacturing stamper for preparing recording medium substrate, and method for manufacturing recording medium substrate Download PDF

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慎悟 今西
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce complicatedness in a process for manufacturing a master disk using an inorganic photoresist, and to improve accuracy. <P>SOLUTION: Utilizing an inorganic photoresist capable of generating protrusions according to physical deformation by exposure, the master disk having a concave-convex pattern is prepared by the concavoconvex by the protrusions. Accordingly, developing processing step can be dispensed with, complicated works associated therewith are avoided, and the decrease in accuracy associated with the developing process is avoided. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、特に情報記録凹凸面を有する記録媒体における、記録媒体基板作製用原盤の製造方法、記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および記録媒体基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a recording medium substrate manufacturing master, a method of manufacturing a recording medium substrate manufacturing stamper, and a method of manufacturing a recording medium substrate, particularly in a recording medium having an information recording uneven surface.

各種情報を記録保存する記録媒体において、記録容量の増大化の要求はとどまるところがなく、これに伴い情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製においては、高い精度の凹凸パターンの形成が要求される。
一方、価格の低廉化の上で、生産性の向上が望まれている。
In recording media for recording and storing various types of information, there is no limit to the increase in recording capacity, and accordingly, in the production of a recording medium substrate having an information recording uneven surface, formation of a highly accurate uneven pattern is required. .
On the other hand, improvement in productivity is desired in view of price reduction.

通常、光ディスク等情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製は、最終的に得る情報記録凹凸面の反転凹凸面が形成されたスタンパが作製され、これを用いた射出成型、あるいは2P(Photopolymerization)法等によってなされる。
このスタンパの作製は、まず、情報記録凹凸面に対応する凹凸面が形成された原盤が作製され、この原盤上の凹凸面に金属メッキを施し、これを剥離することによって原盤上の凹凸面が転写された凹凸面を形成し、例えばこの作業の繰り返しによってスタンパの形成を行っている。
Usually, a recording medium substrate having an information recording uneven surface such as an optical disk is manufactured by producing a stamper on which a reverse uneven surface of the information recording uneven surface finally obtained is formed, injection molding using this, or 2P (Photopolymerization) Made by law.
The stamper is manufactured by first producing a master having an uneven surface corresponding to the information recording uneven surface, applying a metal plating to the uneven surface on the master, and peeling this to remove the uneven surface on the master. The transferred uneven surface is formed, and, for example, the stamper is formed by repeating this operation.

この原盤は、通常、基板上に有機フォトレジストをスピンコートし、記録情報に応じたパターン露光をなし、現像処理することによって、フォトレジスト層が除去された除去部分を凹部とする凹凸パターンを形成することによって作製する。   This master is usually formed by applying an organic photoresist on a substrate by spin coating, pattern exposure according to the recorded information, and developing to form a concavo-convex pattern with the removed portion from which the photoresist layer is removed as a recess. To make it.

また、原盤作製において、上述した有機フォトレジストに換えて、無機フォトレジスト層を基板上にスパッタし、これに対して同様にパターン露光および現像処理することによって、凹凸パターンを有する原盤を作製することの提案がなされている(特許文献1参照)。
この無機フォトレジストを用いて原盤作製を行う場合、有機フォトレジストによる場合に比して、最小露光ピットの縮小化、現像後のパターンの輪郭の鮮鋭度を高めることができるという利点を有することから、大容量、高密度記録記録媒体を作製する原盤作製方法としてすぐれている。
In the master production, an inorganic photoresist layer is sputtered on the substrate in place of the organic photoresist described above, and pattern exposure and development are similarly performed to produce a master having an uneven pattern. Has been proposed (see Patent Document 1).
When making a master using this inorganic photoresist, it has the advantages that the minimum exposure pit can be reduced and the sharpness of the contour of the pattern after development can be increased compared to the case of using an organic photoresist. It is excellent as a master production method for producing a large capacity, high density recording medium.

しかしながら、この無機フォトレジストにおいては、その現像処理時間が、有機フォトレジストに比して長時間を要し、作業性に問題がある。
WO2004−034391号公報
However, the development time of this inorganic photoresist is longer than that of the organic photoresist, and there is a problem in workability.
WO2004-034391

本発明は、無機フォトレジストを用いた原盤作製方法にあって、工程の簡略化をはかり、作業性の問題を解決し、生産性の向上を図り、ひいては、記録媒体のコストの低廉化を図ることができる記録媒体基板作製用原盤の製造方法、記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および記録媒体基板の製造方法を提供するものである。   The present invention relates to a master manufacturing method using an inorganic photoresist, which simplifies the process, solves workability problems, improves productivity, and consequently reduces the cost of the recording medium. The present invention provides a method for manufacturing a master for producing a recording medium substrate, a method for producing a stamper for producing a recording medium substrate, and a method for producing a recording medium substrate.

本発明においては、無機フォトレジストが、露光によって物理的変形による突起を発生させることができることを利用して、この突起による凹凸をもって凹凸パターンを有する原盤を作製する。
すなわち、本発明による記録媒体基板作製用原盤の製造方法は、情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用原盤の製造方法であって、原盤を構成する原盤基体上に無機フォトレジスト層を形成する工程と、該無機フォトレジスト層に、記録情報に応じたパターン露光を行なって、該露光部に上記記録情報に応じた突起を発生させて上記無機フォトレジスト層の表面に上記突起を有する凹凸パターンを形成する露光工程とを有し、上記原盤基体上に上記無機フォトレジスト層による上記凹凸パターンを有する原盤を作製することを特徴とする。
In the present invention, by utilizing the fact that an inorganic photoresist can generate protrusions due to physical deformation by exposure, a master having an uneven pattern with the protrusions and recesses is produced.
That is, the method for producing a master for producing a recording medium substrate according to the present invention is a method for producing a master for producing a recording medium substrate having an information recording uneven surface, and an inorganic photoresist layer is formed on a master substrate constituting the master. A step-and-projection pattern corresponding to recording information on the inorganic photoresist layer, generating protrusions corresponding to the recording information on the exposed portion, and having the protrusions on the surface of the inorganic photoresist layer. And forming an original plate having the concave-convex pattern of the inorganic photoresist layer on the original substrate.

このように、本発明による記録媒体基板作製方法においては、現像処理を行うことなく露光によって突起を発生させ記録情報に応じた凹凸パターンを形成する。   As described above, in the recording medium substrate manufacturing method according to the present invention, protrusions are generated by exposure without performing development processing, and a concavo-convex pattern corresponding to recording information is formed.

また、本発明による記録媒体基板作製用スタンパの製造方法は、情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用のスタンパの製造方法であって、原盤を構成する原盤基体上に無機フォトレジスト層を形成する工程と、該無機フォトレジスト層に、記録情報に応じたパターン露光を行なって、該露光部に上記記録情報に応じた突起を発生させて上記無機フォトレジスト層の表面に上記突起を有する凹凸パターンを形成する露光工程とを有し、上記原盤基体上に上記無機フォトレジスト層による上記凹凸パターンを有する原盤を作製し、該原盤を記録媒体作製用スタンパとするか、あるいは該原盤上にスタンパ材を形成して該原盤の上記凹凸パターンを転写反転させた凹凸パターンを有するスタンパを上記原盤から剥離作製する工程を少なくとも1回以上経て得たスタンパを記録媒体基板作製用スタンパとすることを特徴とする。   The manufacturing method of a stamper for producing a recording medium substrate according to the present invention is a method of producing a stamper for producing a recording medium substrate having an information recording uneven surface, and an inorganic photoresist layer is formed on a master substrate constituting the master. A step of performing pattern exposure on the inorganic photoresist layer in accordance with recording information, generating protrusions on the exposed portion according to the recording information, and having the protrusions on the surface of the inorganic photoresist layer. An exposure process for forming a pattern, and a master having the uneven pattern formed of the inorganic photoresist layer on the master substrate is prepared, and the master is used as a recording medium manufacturing stamper, or a stamper is formed on the master. Forming at least one stamper having a concavo-convex pattern obtained by forming a material and transferring and reversing the concavo-convex pattern of the master from the master. Characterized by a through stamper obtained recording medium substrate manufactured stamper or more.

このように、本発明による記録媒体基板作製用スタンパの製造方法では、現像処理を行うことなく露光によって突起を発生させて記録情報に応じた凹凸パターンを形成する原盤の製造を適用し、これによって目的とするスタンパを作製するものである。   As described above, in the manufacturing method of the recording medium substrate manufacturing stamper according to the present invention, the manufacturing of the master that generates the protrusions by the exposure without forming and forms the concavo-convex pattern according to the recording information is applied. An intended stamper is produced.

また、本発明による記録媒体基板の製造方法は、情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の製造方法であって、スタンパの作製工程と、該スタンパにより上記記録媒体基板を作製する工程とを有し、上記スタンパの作製工程は、原盤作製工程を有し、該原盤作製工程は、 原盤を構成する原盤基体上に無機フォトレジスト層を形成する工程と、該無機フォトレジスト層に、記録情報に応じたパターン露光を行なって、該露光部に上記記録情報に応じた突起を発生させて上記無機フォトレジスト層の表面に上記突起を有する凹凸パターンを形成する露光工程とを有し、上記原盤基体上に上記無機フォトレジスト層による上記凹凸パターンを有する原盤を作製し、該原盤を記録媒体作製用スタンパとするか、あるいは該原盤上にスタンパ材を形成して該原盤の上記凹凸パターンを転写反転させた凹凸パターンを有するスタンパを上記原盤から剥離作製する工程を少なくとも1回以上経て得たスタンパを記録媒体基板作製用スタンパとすることを特徴とする。   The method for manufacturing a recording medium substrate according to the present invention is a method for manufacturing a recording medium substrate having an information recording uneven surface, and includes a stamper manufacturing step and a step of manufacturing the recording medium substrate using the stamper. The stamper manufacturing process includes a master manufacturing process. The master manufacturing process includes forming an inorganic photoresist layer on the master substrate constituting the master and recording information on the inorganic photoresist layer. An exposure step of forming a concavo-convex pattern having the projections on the surface of the inorganic photoresist layer by performing pattern exposure on the exposed portion to generate projections according to the recorded information on the exposed portion. A master having the concavo-convex pattern by the inorganic photoresist layer is prepared, and the master is used as a recording medium manufacturing stamper, or a stamper material is formed on the master. A stamper having a original master of the uneven pattern of the uneven pattern is transferred reversed, characterized in that the recording medium substrate manufactured stamper stamper obtained through at least once the step of peeling produced from the master.

また、本発明は、この記録媒体基板の製造方法にあって、上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製工程が、上記記録媒体作製用スタンパが配置された金型による射出成型によって上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板を作製することを特徴とする。   The present invention is also directed to a method for manufacturing the recording medium substrate, wherein the recording medium substrate having the information recording concave / convex surface is manufactured by injection molding using a mold having the recording medium manufacturing stamper disposed thereon. A recording medium substrate having a recording uneven surface is produced.

また、本発明は、上述の記録媒体基板の製造方法にあって、上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製工程が、基板上にポリマー樹脂層を形成し、該ポリマー樹脂層に上記記録媒体作製用スタンパを押圧して、該ポリマー樹脂層によるエッチングマスクを形成し、該エッチングマスクを介して上記基板をエッチングして上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板を作製することを特徴とする。   Further, the present invention is the above-described method for manufacturing a recording medium substrate, wherein the step of producing the recording medium substrate having the information recording uneven surface forms a polymer resin layer on the substrate, and the recording is performed on the polymer resin layer. Pressing a medium production stamper to form an etching mask by the polymer resin layer, and etching the substrate through the etching mask to produce a recording medium substrate having the information recording uneven surface. .

上述したように、本発明においては、原盤作製において、無機フォトレジストを用い、これに対する記録情報に応じたパターン露光を行なうものであるが、この露光において突起を発生させ、これを原盤における凹凸パターンとするものであるから、現像処理が回避されることにより、その製造工程、作業が極めて簡潔化される。
因みに、通常の有機フォトレジストにおける現像処理が、40秒程度であるのに比し、無機フォトレジストに対する現像処理は、その15倍の10分間にも及ぶものである。したがって、本発明において、無機フォトレジスト層に対する現像処理を回避したことは、作業時間の大幅な削減が図られるものである。
As described above, in the present invention, in the production of the master, an inorganic photoresist is used, and pattern exposure according to the recorded information is performed. Therefore, by avoiding the development process, the manufacturing process and work are greatly simplified.
Incidentally, the development process for an inorganic photoresist is 15 times as long as 10 minutes, compared with the development process for a normal organic photoresist for about 40 seconds. Therefore, in the present invention, avoiding the development processing on the inorganic photoresist layer can greatly reduce the working time.

したがって、この本発明による原盤の製造方法を適用して、この原盤から、スタンパを作製する本発明による記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および本発明による記録媒体基板の製造方法もまた大きな作業性の改善が図られることになる。   Therefore, the manufacturing method of the recording medium substrate manufacturing stamper according to the present invention and the manufacturing method of the recording medium substrate according to the present invention, in which the manufacturing method of the master according to the present invention is applied and the stamper is manufactured from this master, are also highly workable. Will be improved.

本発明による記録媒体基板作製用原盤の製造方法、記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および記録媒体基板の製造方法のそれぞれの実施の形態例を説明するが、本発明はこれら形態例に限定されるものではないことはいうまでもない。   Embodiments of a recording medium substrate manufacturing method, a recording medium substrate manufacturing stamper manufacturing method, and a recording medium substrate manufacturing method according to the present invention will be described. However, the present invention is limited to these embodiments. It goes without saying that it is not something.

(記録媒体基板作製用原盤の製造方法の形態例)
図1A〜Cは、本発明による情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用原盤の製造方法の一例の各工程における概略断面図である。
図1Aに示すように、原盤を構成する原盤基体1として、例えば直径200mm、厚さ0.725mmのシリコン(Si)基板が用意され、その平滑清浄化された主面上に、蓄熱層2を介して無機フォトレジスト層3を形成する。
蓄熱層2は、無機フォトレジスト層3に対する露光時に、無機フォトレジスト層3の露光部に所要の温度上昇が生じるように、放熱を抑制させるものであり、例えば厚さ40nmのアモルファスシリコン(a−Si)をスパッタ等によって形成する。
この上に、無機フォトレジスト層3を、例えば70nmにスパッタ等によって形成する。
この無機フォトレジスト層3は、遷移金属を含む金属の不完全酸化物の、例えばタングステン(W)の不完全酸化物とモリブデン(Mo)の不完全酸化物による無機フォトレジストによって構成することができる。
(Form example of manufacturing method of master for recording medium substrate production)
1A to 1C are schematic cross-sectional views in each step of an example of a method for producing a recording medium substrate producing master having an information recording uneven surface according to the present invention.
As shown in FIG. 1A, for example, a silicon (Si) substrate having a diameter of 200 mm and a thickness of 0.725 mm is prepared as a master substrate 1 constituting the master, and a heat storage layer 2 is formed on the smooth cleaned main surface. Then, an inorganic photoresist layer 3 is formed.
The heat storage layer 2 suppresses heat dissipation so that a required temperature rise occurs at the exposed portion of the inorganic photoresist layer 3 during exposure of the inorganic photoresist layer 3, and for example, amorphous silicon (a- Si) is formed by sputtering or the like.
On this, the inorganic photoresist layer 3 is formed by sputtering etc. to 70 nm, for example.
The inorganic photoresist layer 3 can be composed of an inorganic photoresist of an incomplete oxide of a metal including a transition metal, for example, an incomplete oxide of tungsten (W) and an incomplete oxide of molybdenum (Mo). .

図1Bに示すように、無機フォトレジスト層3に対して、最終的に得る記録媒体の情報記録に応じたパターン、すなわち発光波形をもって露光を行なう。この露光操作については後に詳述する。
この露光によって、図1Cに示すように、無機フォトレジスト層3の露光部において、限定的に、無機フォトレジスト層3を膨出させて突起4を発生させる。この突起4を発生させ得ること自体は知られているところであり、無機フォトレジスト層3の厚さ、露光時の条件、すなわち露光パワー、蓄熱層2による蓄熱効果等の選定によって、目的とする原盤として必要な形状、高さ等の選定ができる。すなわち、再生光の波長に応じた目的とする凹凸パターンの形成ができる。
このようにして、無機フォトレジスト層3の表面自体をもって記録情報に応じた凹凸
パターンとし、このようにして、凹凸パターンを有する記録媒体基板作製用の原盤5を得る。
すなわち、この原盤5の作製は、無機フォトレジストを用いるものであるが、これに対する現像処理は行わないものである。
As shown in FIG. 1B, the inorganic photoresist layer 3 is exposed with a pattern corresponding to the information recording of the finally obtained recording medium, that is, with a light emission waveform. This exposure operation will be described in detail later.
By this exposure, as shown in FIG. 1C, the inorganic photoresist layer 3 is limitedly bulged to generate protrusions 4 in the exposed portion of the inorganic photoresist layer 3. It is known that the protrusions 4 can be generated, and the target master can be selected by selecting the thickness of the inorganic photoresist layer 3, the exposure conditions, that is, the exposure power, the heat storage effect of the heat storage layer 2, and the like. The necessary shape, height, etc. can be selected. That is, it is possible to form a desired uneven pattern according to the wavelength of the reproduction light.
In this way, the surface of the inorganic photoresist layer 3 itself is formed into a concavo-convex pattern according to the recording information, and thus a master 5 for producing a recording medium substrate having the concavo-convex pattern is obtained.
That is, the master 5 is manufactured using an inorganic photoresist, but development processing is not performed on this.

このようにして作製した原盤5は、その表面の凹凸パターンが、金属酸化物によって構成されていて、機械的強度にすぐれている。したがって、この原盤5自体を記録媒体基板を形成するスタンパとすることができる。
あるいはこの原盤5から記録媒体基板を形成するスタンパを転写形成することができる。
The master 5 produced in this way has an uneven pattern on the surface made of a metal oxide and has excellent mechanical strength. Therefore, the master 5 itself can be used as a stamper for forming a recording medium substrate.
Alternatively, a stamper for forming a recording medium substrate can be transferred from the master 5.

次に、本発明による記録媒体基板作製用スタンパの製造方法の実施形態例を説明する。
[記録媒体基板作製用スタンパの製造方法の実施形態例]
図2A〜Dは、本発明による情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用スタンパの製造方法の一例の各工程における概略断面図である。
このスタンパの製造においては、上述した本発明製造方法によって図1Cで示した原盤5を作製した。
そして、図2Aに示すように、原盤5の凹凸パターン6上に、例えばニッケル(Ni)電鋳メッキによる第1のスタンパ材層7を被着形成する。
このスタンパ材層7を原盤5から剥離することによって図2Bに示すように、原盤5の凹凸パターン6の凹凸が反転転写された第1の凹凸パターン8が形成された第1のスタンパ9が形成される。
図2Cに示すように、第1のスタンパ9の第1の凹凸パターン8に、同様に、例えばニッケル(Ni)電鋳メッキによる第2のスタンパ材層10を被着形成する。
図2Dに示すように、第2のスタンパ材層10を、第1のスタンパ9から剥離することによって、第1の凹凸パターン8が反転転写された第2の凹凸パターン11が形成された第2のスタンパ12が形成される。
この第2のスタンパ12は、原盤5の凹凸パターン8と同一パターンを有し、記録媒体基板を形成するスタンパとなる。
Next, an embodiment of a method for producing a stamper for producing a recording medium substrate according to the present invention will be described.
[Embodiment example of manufacturing method of stamper for producing recording medium substrate]
2A to 2D are schematic cross-sectional views in each step of an example of a manufacturing method of a recording medium substrate manufacturing stamper having an information recording uneven surface according to the present invention.
In the production of this stamper, the master 5 shown in FIG. 1C was produced by the above-described production method of the present invention.
Then, as shown in FIG. 2A, a first stamper material layer 7 is deposited on the concave / convex pattern 6 of the master 5 by, for example, nickel (Ni) electroforming plating.
By peeling this stamper material layer 7 from the master 5, as shown in FIG. 2B, a first stamper 9 is formed in which a first concavo-convex pattern 8 in which the concavo-convex pattern 6 of the master 5 is reversely transferred is formed. Is done.
As shown in FIG. 2C, a second stamper material layer 10 is similarly formed on the first uneven pattern 8 of the first stamper 9 by, for example, nickel (Ni) electroforming plating.
As shown in FIG. 2D, the second stamper material layer 10 is peeled from the first stamper 9, thereby forming the second uneven pattern 11 in which the first uneven pattern 8 is reversely transferred. The stamper 12 is formed.
The second stamper 12 has the same pattern as the concavo-convex pattern 8 of the master 5 and serves as a stamper for forming a recording medium substrate.

次に、本発明による記録媒体基板の製造方法を説明する。
この場合、図1Cで示した原盤5を作製し、これをスタンパとして用いるか、あるいは図2Dで示した第2のスタンパ12を作製し、これをスタンパとして用いて、記録媒体基体を製造する。
Next, a method for manufacturing a recording medium substrate according to the present invention will be described.
In this case, the master 5 shown in FIG. 1C is produced and used as a stamper, or the second stamper 12 shown in FIG. 2D is produced and used as a stamper to produce a recording medium substrate.

[記録媒体基板の製造方法の実施の形態例1]
図3A〜Cは、この形態例における基板の製造方法と、これによって得た記録媒体基板によって記録媒体、この例では光ディスクを製造する各工程の概略断面図である。
この実施形態例においては、図3Aに示すように、上述した原盤5あるいは第2スタンパ12によるスタンパを、射出成型スタンパ20として射出成型金型(図示せず)に配置して、例えばポリカーボネート樹脂を射出成型する。
そして、この金型から成型体を取り出すことによって、図3Bに示すように、スタンパ20の凹凸パターン6または8が反転転写された情報記録凹凸面21が成型された記録媒体基板22例えば光ディスク基板が成型される。
[First Embodiment of Manufacturing Method of Recording Medium Substrate]
FIGS. 3A to 3C are schematic cross-sectional views of a process for manufacturing a substrate in this embodiment and each process for manufacturing a recording medium, in this example, an optical disk, using the recording medium substrate obtained thereby.
In this embodiment, as shown in FIG. 3A, the above-described master 5 or the stamper by the second stamper 12 is placed in an injection mold (not shown) as an injection molding stamper 20, and for example, polycarbonate resin is used. Injection molding.
Then, by removing the molded body from this mold, as shown in FIG. 3B, a recording medium substrate 22 on which an information recording uneven surface 21 to which the uneven pattern 6 or 8 of the stamper 20 is transferred in reverse is formed, for example, an optical disk substrate. Molded.

そして、図3Cに示すように、記録媒体基板22の情報記録凹凸面21が形成された面に、反射膜23および光透過性カバー層24が形成されて記録媒体25例えばROM(Read Only Memory)型の光ディスクが製造される。   Then, as shown in FIG. 3C, a reflection film 23 and a light-transmitting cover layer 24 are formed on the surface of the recording medium substrate 22 on which the information recording uneven surface 21 is formed, and a recording medium 25 such as a ROM (Read Only Memory). Type optical disc is manufactured.

上述した記録媒体基板の製造方法の実施の形態例1においては、射出成型によって記録媒体基板を形成した場合であるが、記録媒体基板の製造方法としては、上述した形態例1の方法に限定されるものではなく、スタンパを用いる種々の製造方法を採ることができる。例えばいわゆるナノインプリント法によって目的とする記録媒体基板を形成することもできる。この場合の実施の形態を例示する。   In the first embodiment of the method for manufacturing the recording medium substrate described above, the recording medium substrate is formed by injection molding. However, the method for manufacturing the recording medium substrate is limited to the method of the first embodiment described above. Instead, various manufacturing methods using a stamper can be employed. For example, a target recording medium substrate can be formed by a so-called nanoimprint method. An embodiment in this case is illustrated.

[記録媒体基板の製造方法の実施の形態例2]
図4A〜Dは、この形態例における記録媒体基板の製造方法と、さらに、この記録媒体基板によって記録媒体、この例では磁気記録用パターンド記録媒体を製造する各製造工程の概略断面図である。
この実施形態例においては、図4Aに示すように、記録媒体基板を構成する基板31例えばガラス基板が用意され、その平滑清浄面に、例えば金属磁性材のスパッタによって磁性薄膜38を成膜する。そして、この磁性薄膜38上に、この磁性薄膜38に対するエッチングのマスクとなる例えばポリマー樹脂をコーティングしてエッチングマスク層32を全面的に形成する。
[Second Embodiment of Manufacturing Method of Recording Medium Substrate]
4A to 4D are schematic cross-sectional views of a manufacturing method of a recording medium substrate in this embodiment and each manufacturing process for manufacturing a recording medium, in this example, a patterned recording medium for magnetic recording, using this recording medium substrate. .
In this embodiment, as shown in FIG. 4A, a substrate 31 constituting a recording medium substrate such as a glass substrate is prepared, and a magnetic thin film 38 is formed on the smooth and clean surface by sputtering of a metal magnetic material, for example. An etching mask layer 32 is formed on the entire surface of the magnetic thin film 38 by coating, for example, a polymer resin serving as an etching mask for the magnetic thin film 38.

このエッチングマスク層32上に、図4Bに示すように、前述した原盤5もしくは第2のスタンパ12によるインプリント用スタンパ33を、その凹凸パターン側で押圧し、スタンパ33の突出部(突起)によって、エッチングマスク層32に開口34を形成する。この場合スタンパ33の押圧によって完全な開口34が貫通することができない場合には、開口部に残存するマスク材を、例えばRIE(Reactive Ion Etching)によって除去して開口34を形成する。さらにこの開口34を通じて図4Cに示すように、磁性薄膜38の表面を所要の深さにエッチングすることによって、凹部35を形成する。   On the etching mask layer 32, as shown in FIG. 4B, the imprint stamper 33 by the master 5 or the second stamper 12 described above is pressed on the concave / convex pattern side, and the protrusion (projection) of the stamper 33 Then, an opening 34 is formed in the etching mask layer 32. In this case, if the complete opening 34 cannot be penetrated by the pressing of the stamper 33, the mask material remaining in the opening is removed by, for example, RIE (Reactive Ion Etching) to form the opening 34. Further, as shown in FIG. 4C, the recess 35 is formed by etching the surface of the magnetic thin film 38 to a required depth through the opening 34.

次に図4Dに示すように、エッチングマスク層32を除去すると、凹部35による記録情報に応じた情報凹凸面36が表面に形成された記録媒体39、この例では磁気記録用パターンド記録媒体が形成される。   Next, as shown in FIG. 4D, when the etching mask layer 32 is removed, a recording medium 39 having an information uneven surface 36 formed on the surface according to the recording information by the concave portion 35, in this example, a patterned recording medium for magnetic recording. It is formed.

上述したように、本発明によれば、凹凸パターンを有する原盤を作製するに当たり、図1Bで示したように、無機フォトレジスト層3に対して記録情報に応じたパターン露光を行なうものであるが、この場合、この露光によって発生させる突起4が、最終的に形成する記録媒体における情報凹凸面を決定するものであり、再生信号特性を左右するものであることから、この無機フォトレジスト層3に対する露光時の露光量等の制御は重要である。
そこで、この露光制御の一例を説明する。図5は、この露光制御がなされる露光装置の一例の概略構成図である。
As described above, according to the present invention, when producing a master having a concavo-convex pattern, the inorganic photoresist layer 3 is subjected to pattern exposure according to recorded information as shown in FIG. 1B. In this case, the projection 4 generated by this exposure determines the information uneven surface in the recording medium to be finally formed, and affects the reproduction signal characteristics. Control of the exposure amount at the time of exposure is important.
An example of this exposure control will be described. FIG. 5 is a schematic block diagram of an example of an exposure apparatus that performs this exposure control.

この露光装置は、図5に概略構成を示すように、無機フォトレジスト層3が形成された原盤基体1が載置されるターンテーブル51と、無機フォトレジスト層3に対する例えば405nmの波長光を照射するレーザ光源による光源部52と、光学系53と、フォトディテクタ54とを有する。
光学系53は、対物レンズ55と、ビームスプリッタ70と、コリメートレンズ56と、集光レンズ57等を有する。
As shown schematically in FIG. 5, this exposure apparatus irradiates a turntable 51 on which a master substrate 1 on which an inorganic photoresist layer 3 is formed, and light having a wavelength of, for example, 405 nm with respect to the inorganic photoresist layer 3. A light source unit 52 by a laser light source, an optical system 53, and a photodetector 54.
The optical system 53 includes an objective lens 55, a beam splitter 70, a collimator lens 56, a condenser lens 57, and the like.

ターンテーブル51は、その半径方向に移行するようになされたステージ上に配置されスピンドルモータ58によって回転駆動される。
光源部52は、信号源59からの供給信号によって駆動制御回路60により、駆動制御される。
また、フォトディテクタ54の出力側には、ローパスフィルタ61とその出力を観察する例えばオシロスコープ62とを有する。
なお、上述の構成において、図示しないが、対物レンズは、例えば2軸アクチュエータ等によって移動制御される機構を有し、フォーカシング制御等の制御がなされる。
The turntable 51 is disposed on a stage that is adapted to move in the radial direction, and is rotated by a spindle motor 58.
The light source unit 52 is driven and controlled by the drive control circuit 60 in accordance with a supply signal from the signal source 59.
Further, on the output side of the photodetector 54, there is a low-pass filter 61 and, for example, an oscilloscope 62 for observing the output.
In the above-described configuration, although not shown, the objective lens has a mechanism whose movement is controlled by, for example, a biaxial actuator, and controls focusing control and the like.

この露光装置によって原盤基体1上の無機フォトレジスト層3に、先ず露光の条件出しのための、いわばテスト露光を、例えば一周分行う。この露光は、情報記録の変調方式、例えば17PP変調による場合、この17PP変調方式の信号(2T〜9Tのマーク信号)を、信号源59から駆動制御回路60に供給して、これによって光源部52から光変調された露光レーザ光を出射させ、コリメートレンズ56、ビームスプリッタ70、対物レンズ55を通じて、回転させた原盤基体1の無機フォトレジスト層3上に集光照射し、例えば1周分、上述した変調光によってパターン露光する。   With this exposure apparatus, the inorganic photoresist layer 3 on the master substrate 1 is first subjected to, for example, one round of test exposure for determining exposure conditions. In this exposure, in the case of information recording modulation scheme, for example, 17PP modulation, the 17PP modulation scheme signal (2T to 9T mark signal) is supplied from the signal source 59 to the drive control circuit 60, and thereby the light source section 52. The modulated exposure laser beam is emitted from the collimator lens 56, the beam splitter 70, and the objective lens 55, and condensed and irradiated onto the rotated inorganic photoresist layer 3 of the master substrate 1. Pattern exposure is performed with the modulated light.

この露光によって生じた突起4による凹凸パターンが最終的に得る記録媒体基体における情報記録の特性を決定する。そこでこの突起4による凹凸情報を再生することによって記録情報の再生特性を間接的に判断し、所望の再生特性が得られる露光条件出しを行う。
このために、露光光源部52から上述した露光トラック上に上述した記録パワー、すなわち露光パワーより小さいパワーによる直流分と、戻り光によって光源部52にノイズ発生等の影響が生じることを回避するために、例えば600MHzの高周波を重畳させた信号によって変調させたレーザ光を、同様に、コリメートレンズ56、ビームスプリッタ70、対物レンズ55を通じて、回転させた原盤基体1の無機フォトレジスト層3上の先に記録したトラック上を走査させる。そして、その戻り光を、すなわち、反射光をビームスプリッタ70で分岐し、集光レンズ57を通じてフォトディテクタ54で受光させる。
The characteristic of information recording on the recording medium substrate that is finally obtained by the concavo-convex pattern formed by the projections 4 generated by this exposure is determined. Therefore, the reproduction information of the recorded information is indirectly judged by reproducing the unevenness information by the protrusions 4, and the exposure conditions for obtaining the desired reproduction characteristics are determined.
For this reason, in order to avoid the influence of noise generation and the like on the light source unit 52 due to the recording power from the exposure light source unit 52 on the above-described exposure track, that is, the direct current component smaller than the exposure power and the return light. Further, for example, the laser beam modulated by a signal superposed with a high frequency of 600 MHz is similarly rotated through the collimator lens 56, the beam splitter 70, and the objective lens 55, and the tip of the substrate 1 on the inorganic photoresist layer 3 is rotated. The track recorded in the above is scanned. Then, the return light, that is, the reflected light is branched by the beam splitter 70 and is received by the photodetector 54 through the condenser lens 57.

このフォトディテクタ54から検出された出力は、上述した直流分が高周波に重畳された出力であるが、この検出出力が、ローパスフィルタ61に導入されることによって高周波成分が除去され、目的とする露光によって形成された突起による記録情報が再生された信号として取り出される。したがって、この再生信号を例えばオシロスコープ62で観察することによって、再生の良否、ひいては露光による突起形状の良否を判断することができる。そして、これによって良好な突起形状が得られる露光条件を決める。
このようにして得た最適な条件出しされた露光条件をもって、目的とする情報記録の露光を行う。
このようにすれば、再生特性にすぐれた情報凹凸面を有する情報記録媒体基板の作製ができることになる。
The output detected from the photodetector 54 is an output in which the above-described direct current component is superimposed on the high frequency, but this detection output is introduced into the low-pass filter 61 to remove the high frequency component, and by the intended exposure. The recorded information by the formed protrusion is taken out as a reproduced signal. Accordingly, by observing the reproduction signal with, for example, the oscilloscope 62, it is possible to determine whether the reproduction is good or not, and, in turn, the quality of the protrusion shape due to exposure. Then, the exposure conditions for obtaining a good protrusion shape are determined.
The target information recording is exposed under the optimum exposure conditions obtained in this way.
In this way, it is possible to manufacture an information recording medium substrate having an information uneven surface with excellent reproduction characteristics.

図6は、本発明によって得た原盤から再生した再生信号のオシロロスコープ62によるアイパターンの写真図である。
この場合、原盤は、Si基板による原盤基体1上にアモルファスSiによる厚さ約80nmの蓄熱層2と、厚さ約70nmの無機フォトレジスト層3とをスパッタして作製した。
露光用レーザ光としては、波長405nmで、ピークパワー約9mWのレーザ光を用いた。このレーザ光を17PP信号のピットマーク長(2T〜9T)に合せて(n−1)T本の櫛型波形となるように変調した。
このときの櫛型波形のデューティーは約30%でクロック周波数は66MHzであった。このレーザ光を開口数(N.A.)0.95の対物レンズで無機フォトレジスト3上に集光し、線速度4.92m/sとなる回転数で原盤を回転させて露光した。
図6のアイパターンは、この条件で同心円上に露光した後に、平均パワーが約0.2mWで約600MHzの高周波変調が重畳された再生用レーザ光を用い、原盤から反射して戻ってきた強度信号をフォトディテクタ54およびローパスフィルタ61を介してオシロスコープ62でモニターしたものである。
図7は、上述したと同様の膜構成による原盤において、上述した17PPの信号による露光に代えてDC信号、つまり常時櫛型波形で変調しつつ、トラックピッチが320nmをもって露光させた原盤の、トラック幅方向(半径方向)の断面の透過電子顕微鏡(TEM)画像である。このTEM写真をみても明らかなように、均一形状の突起の形成がなされている。このTEM像において最上層はTEM観察に際して表面保護を行うために形成したカーボン層である。
FIG. 6 is a photograph of an eye pattern by the oscilloscope 62 of a reproduction signal reproduced from the master obtained by the present invention.
In this case, the master was produced by sputtering the heat storage layer 2 of about 80 nm thick and the inorganic photoresist layer 3 of about 70 nm thick on the master base 1 made of Si substrate.
As the exposure laser beam, a laser beam having a wavelength of 405 nm and a peak power of about 9 mW was used. This laser beam was modulated so as to have (n−1) T comb-shaped waveforms in accordance with the pit mark length (2T to 9T) of the 17PP signal.
At this time, the duty of the comb waveform was about 30% and the clock frequency was 66 MHz. This laser beam was condensed on the inorganic photoresist 3 with an objective lens having a numerical aperture (NA) of 0.95, and exposed by rotating the master at a rotational speed of 4.92 m / s.
The eye pattern shown in FIG. 6 is an intensity that is reflected back from the master by using a reproducing laser beam with an average power of about 0.2 mW and a high frequency modulation of about 600 MHz after exposure on concentric circles under these conditions. The signal is monitored by an oscilloscope 62 via a photodetector 54 and a low-pass filter 61.
FIG. 7 shows a track of a master having a film configuration similar to that described above, and is exposed with a track pitch of 320 nm while being modulated with a DC signal, that is, a comb-shaped waveform, instead of exposure with the above-described 17PP signal. It is a transmission electron microscope (TEM) image of the cross section of the width direction (radial direction). As is apparent from the TEM photograph, the protrusions having a uniform shape are formed. In this TEM image, the uppermost layer is a carbon layer formed for surface protection during TEM observation.

上述したように、本発明によれば、適切なパターン露光によって突起を発生させ、これを原盤における凹凸パターンとして現像処理が回避されることにより、その製造工程、作業が極めて簡潔化される。
通常の有機フォトレジストにおける現像処理に比し、無機フォトレジストにおいては、長時間を要するにもかかわらずこの現像処理を回避したことにより、作業時間の大幅な削減が図られるものである。
また、現像処理においては、現像液を用いることから、現像液の取り扱い、これに伴う煩雑な作業、制御、装置のメンテナンス等が回避され、これによる作業性が大きく改善され、また不良品の発生率の改善につながるものである。
As described above, according to the present invention, the protrusions are generated by appropriate pattern exposure, and the development process is avoided by using the protrusions as uneven patterns on the master, thereby greatly simplifying the manufacturing process and operation.
Compared with the development processing in a normal organic photoresist, in the case of an inorganic photoresist, the development processing is avoided in spite of a long time, so that the working time can be greatly reduced.
In addition, since the developing solution is used in the developing process, handling of the developing solution, complicated operations associated therewith, control, maintenance of the apparatus, etc. can be avoided, thereby greatly improving workability and occurrence of defective products. This leads to an improvement in the rate.

したがって、この本発明による原盤の製造方法を適用して、この原盤から、スタンパを作製する本発明による記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および本発明による記録媒体基板の製造方法もまた大きな作業性および歩留りの向上が図られることになる。   Therefore, the manufacturing method of the recording medium substrate manufacturing stamper according to the present invention and the manufacturing method of the recording medium substrate according to the present invention, in which the manufacturing method of the master according to the present invention is applied and the stamper is manufactured from this master, are also highly workable. In addition, the yield is improved.

A〜Cは、本発明による情報記録凹凸面を有する記録媒体を製造する記録媒体基板作製用原盤の製造方法の一例の各工程における概略断面図である。FIGS. 4A to 4C are schematic cross-sectional views in each step of an example of a method of manufacturing a recording medium substrate manufacturing master for manufacturing a recording medium having an information recording uneven surface according to the present invention. A〜Dは、本発明による情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用スタンパの製造方法の一例の各工程における概略断面図である。A to D are schematic cross-sectional views in each step of an example of a method for manufacturing a stamper for producing a recording medium substrate having an information recording uneven surface according to the present invention. A〜Cは、記録媒体基板の製造方法と、さらに、この基板を用いて光ディスクを製造する一例の各工程の概略断面図である。FIGS. 4A to 4C are schematic cross-sectional views of a manufacturing method of a recording medium substrate and each process of an example of manufacturing an optical disc using the substrate. A〜Dは、記録媒体基板の製造方法と、さらに、この基板を用いて磁気記録用パターンド記録媒体を製造する他の一例の各工程の概略断面図である。A to D are schematic cross-sectional views of a manufacturing method of a recording medium substrate and each process of another example of manufacturing a patterned recording medium for magnetic recording using the substrate. 本発明による原盤製造に用いる露光装置の一例の概略構成図である。It is a schematic block diagram of an example of the exposure apparatus used for the master manufacture by this invention. 本発明によって得た原盤から再生した再生信号のオシロロスコープによるアイパターンの写真図である。It is a photograph figure of the eye pattern by the oscilloscope of the reproduction signal reproduced from the original disk obtained by the present invention. 本発明による原盤の断面のTEM写真図である。It is a TEM photograph figure of the section of the original disk by the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1……原盤基体、2……蓄熱層、3……無機フォトレジスト層、4……突起、5……原盤、6……凹凸パターン、7……第1のスタンパ材、8……第1の凹凸パターン、9……第2の凹凸パターン、10……第2のスタンパ材層、11……第2の凹凸パターン、12……第2のスタンパ、20……射出成型スタンパ、21……情報記録凹凸面、22……記録媒体基板、23……反射膜、24……光透過性カバー層、25……記録媒体(光ディスク)、31……基板、32……エッチングマスク層、33……インプリント用スタンパ、34……開口、35……凹部、36……情報凹凸面、37……記録媒体基板、38……磁性薄膜、39……記録媒体(磁気記録用パターンド記録媒体)、51……ターンテーブル、52……光源部、53……光学系、54……フォトディテクタ、55……対物レンズ、56……コリメートレンズ、57……集光レンズ、58……スピンドルモータ、59……信号源、60……光源部の駆動制御回路、61……ローパスフィルタ、62……オシロスコープ、70……ビームスプリッタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Master base body, 2 ... Thermal storage layer, 3 ... Inorganic photoresist layer, 4 ... Protrusion, 5 ... Master disk, 6 ... Uneven pattern, 7 ... 1st stamper material, 8 ... 1st 9 ... 2nd uneven pattern, 10 ... 2nd stamper material layer, 11 ... 2nd uneven pattern, 12 ... 2nd stamper, 20 ... Injection molding stamper, 21 ... Information recording concave / convex surface, 22 ... recording medium substrate, 23 ... reflective film, 24 ... light-transmitting cover layer, 25 ... recording medium (optical disk), 31 ... substrate, 32 ... etching mask layer, 33 ... ... imprint stamper, 34 ... opening, 35 ... concave, 36 ... information uneven surface, 37 ... recording medium substrate, 38 ... magnetic thin film, 39 ... recording medium (patterned recording medium for magnetic recording) , 51 ... Turntable, 52 ... Light source, 53 ... Light System 54... Photodetector 55... Objective lens 56. Collimator lens 57. Condensing lens 58. Spindle motor 59 59 Signal source 60. Light source drive control circuit 61. ... Low-pass filter, 62 ... Oscilloscope, 70 ... Beam splitter

Claims (7)

情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用原盤の製造方法であって、
原盤を構成する原盤基体上に無機フォトレジスト層を形成する工程と、
該無機フォトレジスト層に、記録情報に応じたパターン露光を行なって、該露光部に上記記録情報に応じた突起を発生させて上記無機フォトレジスト層の表面に上記突起を有する凹凸パターンを形成する露光工程とを有し、
上記原盤基体上に上記無機フォトレジスト層による上記凹凸パターンを有する原盤を作製することを特徴とする記録媒体基板作製用原盤の製造方法。
A method of manufacturing a master for producing a recording medium substrate having an information recording uneven surface,
Forming an inorganic photoresist layer on a master substrate constituting the master;
The inorganic photoresist layer is subjected to pattern exposure according to recorded information, and a projection according to the recorded information is generated at the exposed portion to form an uneven pattern having the projection on the surface of the inorganic photoresist layer. An exposure process,
A method for producing a master for producing a recording medium substrate, comprising producing a master having the concavo-convex pattern of the inorganic photoresist layer on the master base.
上記無機フォトレジスト層が、遷移金属を含む金属の不完全酸化物より成ることを特徴とする請求項1に記載の記録媒体基板作製用原盤の製造方法。   2. The method of manufacturing a master for manufacturing a recording medium substrate according to claim 1, wherein the inorganic photoresist layer is made of an incomplete oxide of a metal containing a transition metal. 上記無機フォトレジスト層を構成する上記遷移金属を含む金属の不完全酸化物が、タングステン(W)の不完全酸化物とモリブデン(Mo)の不完全酸化物より成ることを特徴とする請求項1に記載の記録媒体基板作製用原盤の製造方法。   The incomplete oxide of the metal containing the transition metal constituting the inorganic photoresist layer is composed of an incomplete oxide of tungsten (W) and an incomplete oxide of molybdenum (Mo). A method for producing a master for producing a recording medium substrate as described in 1. 情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用のスタンパの製造方法であって、
原盤を構成する原盤基体上に無機フォトレジスト層を形成する工程と、
該無機フォトレジスト層に、記録情報に応じたパターン露光を行なって、該露光部に上記記録情報に応じた突起を発生させて上記無機フォトレジスト層の表面に上記突起を有する凹凸パターンを形成する露光工程とを有し、
上記原盤基体上に上記無機フォトレジスト層による上記凹凸パターンを有する原盤を作製し、
該原盤を記録媒体作製用スタンパとするか、あるいは該原盤上にスタンパ材を形成して該原盤の上記凹凸パターンを転写反転させた凹凸パターンを有するスタンパを上記原盤から剥離作製する工程を少なくとも1回以上経て得たスタンパを記録媒体基板作製用スタンパとすることを特徴とする記録媒体基板作製用スタンパの製造方法。
A method of manufacturing a stamper for producing a recording medium substrate having an information recording uneven surface,
Forming an inorganic photoresist layer on a master substrate constituting the master;
The inorganic photoresist layer is subjected to pattern exposure according to recorded information, and a projection according to the recorded information is generated at the exposed portion to form an uneven pattern having the projection on the surface of the inorganic photoresist layer. An exposure process,
Producing a master having the concavo-convex pattern of the inorganic photoresist layer on the master substrate,
The master is used as a recording medium manufacturing stamper, or a stamper material is formed on the master and a stamper having a concavo-convex pattern obtained by transferring and reversing the concavo-convex pattern on the master is peeled off from the master. A method for producing a stamper for producing a recording medium substrate, wherein the stamper obtained after the process is used as a stamper for producing a recording medium substrate.
情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の製造方法であって、
スタンパの作製工程と、
該スタンパにより上記記録媒体基板を作製する工程とを有し、
上記スタンパの作製工程は、原盤作製工程を有し、
該原盤作製工程は、
原盤を構成する原盤基体上に無機フォトレジスト層を形成する工程と、
該無機フォトレジスト層に、記録情報に応じたパターン露光を行なって、該露光部に上記記録情報に応じた突起を発生させて上記無機フォトレジスト層の表面に上記突起を有する凹凸パターンを形成する露光工程とを有し、
上記原盤基体上に上記無機フォトレジスト層による上記凹凸パターンを有する原盤を作製し、
該原盤を記録媒体作製用スタンパとするか、あるいは該原盤上にスタンパ材を形成して該原盤の上記凹凸パターンを転写反転させた凹凸パターンを有するスタンパを上記原盤から剥離作製する工程を少なくとも1回以上経て得たスタンパを作製し、
該記録媒体基板作製用スタンパにより、上記記録媒体基板の上記情報記録凹凸を形成して情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製工程を有することを特徴とする記録媒体基板の製造方法。
A method of manufacturing a recording medium substrate having an information recording uneven surface,
A stamper fabrication process;
Producing the recording medium substrate with the stamper,
The stamper manufacturing process includes a master disk manufacturing process,
The master production process is
Forming an inorganic photoresist layer on a master substrate constituting the master;
The inorganic photoresist layer is subjected to pattern exposure according to recorded information, and a projection according to the recorded information is generated at the exposed portion to form an uneven pattern having the projection on the surface of the inorganic photoresist layer. An exposure process,
Producing a master having the concavo-convex pattern of the inorganic photoresist layer on the master substrate,
The master is used as a recording medium production stamper, or a stamper material is formed on the master and a stamper having a concavo-convex pattern obtained by transferring and reversing the concavo-convex pattern of the master is peeled off from the master. Make a stamper that was obtained more than once,
A method of manufacturing a recording medium substrate, comprising: forming a recording medium substrate having an information recording uneven surface by forming the information recording unevenness of the recording medium substrate by the recording medium substrate manufacturing stamper.
上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製工程が、
上記記録媒体作製用スタンパが配置された金型による射出成型によって上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板を作製することを特徴とする請求項5に記載の記録媒体基板の製造方法。
The production process of the recording medium substrate having the information recording uneven surface,
6. The method of manufacturing a recording medium substrate according to claim 5, wherein the recording medium substrate having the uneven surface for recording information is manufactured by injection molding using a mold in which the stamper for recording medium preparation is arranged.
上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製工程が、
基板上にポリマー樹脂層を形成し、該ポリマー樹脂層に上記記録媒体作製用スタンパを押圧して、該ポリマー樹脂層によるエッチングマスクを形成し、該エッチングマスクを介して上記基板をエッチングして上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板を作製することを特徴とする請求項5に記載の記録媒体基板の製造方法。
The production process of the recording medium substrate having the information recording uneven surface,
Forming a polymer resin layer on the substrate, pressing the recording medium preparation stamper on the polymer resin layer, forming an etching mask by the polymer resin layer, etching the substrate through the etching mask, and 6. The method for manufacturing a recording medium substrate according to claim 5, wherein a recording medium substrate having an information recording uneven surface is manufactured.
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