JP2007100183A - スパッタ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この発明は、真空容器と、該真空容器内に配置される基板ホルダーと、該基板ホルダー上に載置された基板に対してスパッタを行うターゲットを有する複数のスパッタリングカソードを具備するスパッタ装置において、前記複数のスパッタリングカソードは、それぞれのスパッタリングカソードに装着されるターゲットの中心軸が、前記基板ホルダーに載置される基板の中心軸に対して、所定の角度で傾斜するように配設されると共に、該複数のスパッタリングカソードによって構成されるスパッタリングカソードユニットが、前記真空容器に対して前記基板の中心軸を中心として回転自在に保持されることにある。
【選択図】 図1
Description
2 真空容器
3 真空空間
4 基板ホルダー
5 基板
6 カソードブロック
7 ターゲット
10 スパッタリングカソード
11 絶縁ブロック
12 マグネット
13 フード部
14 放射孔
15 カソードベース
20 分布修正板
20A 分布修正ブロック
30 駆動機構
31 電動モータ
32,33 駆動ギア
40 配管
50 カソード電力ケーブル
60 スパッタリングカソードユニット
Claims (8)
- 真空容器と、該真空容器内に配置される基板ホルダーと、該基板ホルダー上に載置された基板に対してスパッタを行うターゲットを有する複数のスパッタリングカソードを具備するスパッタ装置において、
前記複数のスパッタリングカソードは、それぞれのスパッタリングカソードに装着されるターゲットの中心軸が、前記基板ホルダーに載置される基板の中心軸に対して、所定の角度で傾斜するように配設されると共に、該複数のスパッタリングカソードによって構成されるスパッタリングカソードユニットが、前記真空容器に対して前記基板の中心軸を中心として回転自在に保持されることを特徴とするスパッタ装置。 - 前記それぞれのスパッタリングカソードには、前記ターゲットの前方に前記ターゲットの中心軸に沿って所定の長さ延出するフード部が設けられ、該フード部の開口端部には、該開口端部を所定の範囲で閉塞する分布修正手段が設けられることを特徴とする請求項1記載のスパッタ装置。
- 前記分布修正手段は、前記ターゲットの直径の略1/2の直径を有する円形金属プレートと、該円形金属プレートを支持する支持部とによって構成されると共に、前記基板の中心軸側に位置する部分に切り欠き部を有することを特徴とする請求項2記載のスパッタ装置。
- 前記分布修正手段は、前記ターゲットの直径の略1/2の直径を有する底面を有すると共に前記ターゲットの中心軸に沿って所定の長さ延出する円柱部と、該円周部を支持する支持部とによって構成されることを特徴とする請求項2記載のスパッタ装置。
- 前記フード部は、前記ターゲットの直径の略1.5倍の直径を有する開口端部と、前記ターゲットの直径と略等しい長さを有することを特徴とする請求項2〜4のいずれか1つに記載のスパッタ装置。
- 前記それぞれのスパッタリングカソードは、前記ターゲットの中心軸が、前記基板ホルダーに載置される基板の中心軸に対して、最大45度で傾斜することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載のスパッタ装置。
- 前記ターゲットの中心軸に沿った前記ターゲットと前記基板の距離は、前記ターゲットの直径の略3倍から4倍の範囲内であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つに記載のスパッタ装置。
- 前記基板ホルダーに保持された基板は、それぞれのターゲットの中心軸が交差する交点とずれた位置に配されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに記載のスパッタ装置。
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