JP2007012448A - 光電変換素子 - Google Patents
光電変換素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007012448A JP2007012448A JP2005192040A JP2005192040A JP2007012448A JP 2007012448 A JP2007012448 A JP 2007012448A JP 2005192040 A JP2005192040 A JP 2005192040A JP 2005192040 A JP2005192040 A JP 2005192040A JP 2007012448 A JP2007012448 A JP 2007012448A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide semiconductor
- semiconductor layer
- porous oxide
- substrate
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/542—Dye sensitized solar cells
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Hybrid Cells (AREA)
Abstract
【解決手段】 本発明に係る光電変換素子1(1A)は、第一基材2と該第一基材の一面に配された透明導電膜4とを備えてなる窓極8、第二基材3と該第二基材の一面に配されて少なくとも色素を担持した多孔質酸化物半導体層6とを備え、該多孔質酸化物半導体層が前記窓極の透明導電膜側に対向して配置される作用極9、及び、前記窓極と前記作用極との間の少なくとも一部に配された電解質層10、から構成されていることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
しかしながら、作用極108を構成する多孔質酸化物半導体層と透明導電膜と透明基材の間にはそれぞれ、異種材料からなる界面が存在するため密着性が弱まる傾向にあり、初期には密着性が確保されていても、経時的に密着性が弱まり、発電特性の低下を招く虞があった。
本発明の請求項2に係る光電変換素子は、請求項1において、前記第二基材は、少なくとも前記多孔質酸化物半導体層を載置する面が金属体からなることを特徴とする。
本発明の請求項3に係る光電変換素子は、請求項2において、前記金属体は、その主成分がチタンであることを特徴とする。
本発明の請求項4に係る光電変換素子は、請求項3において、前記多孔質酸化物半導体層は、チタニアナノ多孔質体であることを特徴とする。
本発明は、光が入射する窓極と対向する側に多孔質酸化物半導体層を形成することにより、窓極の構造を簡素化し、窓極側からの入射光量を増やし、発電効率の向上を図るようにした。すなわち、本発明に係る光電変換素子は、多孔質酸化物半導体層が形成された、窓極と対向する側を作用極とし、窓極を対極として構成したものである。
図1は、本発明に係る光電変換素子の構造例を示す概略図である。
図1に示すように、本発明の光電変換素子1Aは、第一基材2と該第一基材の一面に配された透明導電膜4とを備えてなる窓極8、第二基材3と該第二基材の一面に配されて少なくとも色素を担持した多孔質酸化物半導体層6とを備え、該多孔質酸化物半導体層が前記窓極の透明導電膜側に対向して配置される作用極9、及び、前記窓極と前記作用極との間の少なくとも一部に配された電解質層10、から構成されている。
ただし、第一基材2は、透明導電膜を設けた上に対極5として含白金溶液、カーボンペースト等を焼成する場合は、500℃程度の高熱に耐える導電性耐熱ガラスが望ましい。
(1)ガラスや透明セラミックからなる基板より軽量で、薄くしても破損せず、加工も容易で、可撓性を有するものとすることができる。
(2)また、耐熱温度が、100〜200℃であるプラスチック基板はもちろん、500〜600℃であるガラス基板よりも高い1000℃以上であるため、例えばチタニア多孔質などの多孔質酸化物半導体の高温焼成が可能となり、密着性及び多孔質ナノ粒子同士のネッキングが向上する。
(3)また、チタン基板の表面は不導体として緻密なチタニア膜を持っており、表面に形成されるチタニア多孔質膜との密着性が高くなり、変換効率が向上する。
(4)さらに、チタニア多孔質膜の熱膨張率は77×10−7/Kであり、これに対してチタン基板の熱膨張率は84×10−7/Kである。ゆえに、両者の熱膨張係数はほぼ同じであるため、熱応力などによる剥離の発生が抑制される。
これにより、軽量で、可撓性に優れるとともに、高い密着性も併せ持ち、高い変換効率が得られる光電変換素子の提供が可能となる。
また、第二基材3が金属体であっても、多孔質酸化物半導体層6が第二基材3とは異質の材料からなる場合は、必要に応じて、第二基材3上に形成する多孔質酸化物半導体層6と同質の材料からなる膜を形成してから、多孔質酸化物半導体層6を形成するようにしても良い。具体的には、例えば多孔質酸化物半導体層6がチタニアナノ多孔質体であり、第二基材3がチタンからなる同質の材料の場合は、第二基材上にそのままチタニアナノ多孔質体を形成すれば良いが、第二基材3が金属体であってもチタンで無い異質の材料の場合は、チタニアナノ多孔質体と同質のチタン膜を形成し、このチタン膜を介してチタニアナノ多孔質体を形成するようにしても良い。
そして、この多孔質酸化物半導体層6は、市販の微粒子やゾル−ゲル法により得られたコロイド溶液などから得ることができる。
多孔膜化の手法としては、例えばコロイド溶液や分散液(必要に応じて添加剤を含む)を、スクリーンプリント、インクジェットプリント、ロールコート、ドクターブレード、スピンコート、スプレー塗布など、種々の塗布法を用いて塗布する他、微粒子の泳動電着、発泡剤の併用などによるものでも構わない。この多孔質酸化物半導体層6には、増感色素が担持されている。
酸化還元対も特に限定されるものでは無いが、例えばヨウ素/ヨウ化物イオン、臭素/臭化物イオンなどを選ぶことができ、前者であればヨウ化物塩(リチウム塩、四級化イミダゾリウム塩、テトラブチルアンモニウム塩などを単独、あるいは複合して用いることができる)とヨウ素を単独、あるいは複合して添加することにより与えることができる。
有機溶媒としては、アセトニトリルやメトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジエチルカーボネート、γ−ブチロラクトンなどを用いた揮発性電解液が例示される。
また、イオン性液体としては、例えば、四級化イミダゾリウム誘導体や四級化ピリジニウム誘導体、四級化アンモニウム誘導体といった四級化された窒素原子を有する化合物をカチオンとした室温で液体の常温溶融性塩がある。電解液としてイオン性液体を用いることで、一層発電効率が向上したものとすることができる。
電解液10には、更に必要に応じてリチウム塩やtert−ブチルピリジンなど種々の添加物を加えても構わない。更に、このような電解液と同様に電荷輸送能力を有する高分子固体電解質などを用いても構わない。
図2に示すように、本発明の光電変換素子1Bは、第一基材2と透明導電膜4からなる二層構造の透明基板を光が入射する窓極8とし、第二基材13と金属膜(層)7と多孔質酸化物半導体層6とからなる作用極9とで、電解液(もしくは電解質ゲル)10を挟み込んだ構成とするものである。そして、必要に応じ、第一基材2上に透明導電層4を形成することで窓極用基板とした該透明導電層4上に、さらに、対極5を形成する。
なお、その構造について、上記第一の実施形態と同様の説明は省略しながら説明する。
ただし、第二基材13は、金属膜(層)7を設けた上に作用極9としてチタンを焼成する場合は、500℃程度の高熱に耐える導電性耐熱ガラスが望ましい。
まず、ガラス板などの第一基材2上に透明導電膜4を形成することで電極用基板を構成する。透明導電膜4は、光電変換素子1Aにおいて窓極として機能する。この透明導電膜4の形成方法としては、透明導電膜4の材料に応じて公知の方法を用いて行えば良く、例えば、スパッタ法やCVD法(気相成長法)、SPD法(スプレー熱分解堆積法)、蒸着法などにより、スズ添加酸化インジウム(ITO)などの酸化物半導体からなる薄膜を形成する。これにより、一面のみ導電性を有する基板(電極用基板)が構成される。そして、この電極用基板を通して太陽光(図1にhνと表記)を光電変換素子内部に入射させる場合、透明導電膜は、厚過ぎると光透過性が劣り、一方、薄過ぎると導電性が劣ってしまうこととなるため、光透過性と導電性の機能を両立させることを考慮すると、0.1μm〜1μm程度の膜厚範囲が好ましい。
まず、第一基材として10mm×10mm×1.1mmt の洗浄した硼珪酸ガラス(TEMPAX #8330)を用い、その上面にSPD法(スプレー熱分解堆積法)にて、シート抵抗10Ω/□のスズ添加酸化インジウム(ITO)膜を透明導電層として60nmの厚さに形成した。一方、第二基材として、10mm×10mm×200μmt の洗浄した圧延チタン箔を用意した。
(1)実施例では、検討した全ての半導体層の膜厚において、エネルギー変換効率を測定することが可能であった。これに対して、比較例においては、半導体層の膜厚が16μm以上になると、基材と半導体層膜との間に剥離が生じてしまい、エネルギー変換効率を求めることはできなかった。
(2)また、実施例では、半導体層の膜厚が8μm〜28μmの全域において好ましいエネルギー変換効率が得られ、しかも、実施例における10μm〜24μmの範囲では、比較例で得られた最も優れたエネルギー変換効率(4.7%)を上回る数値が得られることが分かった。
以上の結果より、実施例では、基材に対する多孔質酸化物半導体層の密着性を良好なものとし、従来は困難であった厚膜化を図ることが可能となり、ひいては多孔質酸化物半導体層が担持する色素量の増加をもたらすことにより、優れたエネルギー変換効率を有する光電変換素子が得られることが確認された。
図3に示すように、光が入射する窓極と対向する側に多孔質酸化物半導体層を形成してなる実施例の光電変換素子は、600mV付近まで、比較例に比べて単位面積あたりの電流発生量が高く、エネルギー変換効率が著しく向上したことが分かった。
Claims (4)
- 第一基材と該第一基材の一面に配された透明導電膜とを備えてなる窓極、
第二基材と該第二基材の一面に配されて少なくとも色素を担持した多孔質酸化物半導体層とを備え、該多孔質酸化物半導体層が前記窓極の透明導電膜側に対向して配置される作用極、及び、
前記窓極と前記作用極との間の少なくとも一部に配された電解質層、
から構成されていることを特徴とする光電変換素子。 - 前記第二基材は、少なくとも前記多孔質酸化物半導体層を載置する面が金属体からなることを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子。
- 前記金属体は、その主成分がチタンであること特徴とする請求項2に記載の光電変換素子。
- 前記多孔質酸化物半導体層は、チタニアナノ多孔質体であること特徴とする請求項3に記載の光電変換素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005192040A JP2007012448A (ja) | 2005-06-30 | 2005-06-30 | 光電変換素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005192040A JP2007012448A (ja) | 2005-06-30 | 2005-06-30 | 光電変換素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007012448A true JP2007012448A (ja) | 2007-01-18 |
Family
ID=37750655
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005192040A Pending JP2007012448A (ja) | 2005-06-30 | 2005-06-30 | 光電変換素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007012448A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000200627A (ja) * | 1999-01-06 | 2000-07-18 | Nikon Corp | 色素増感型太陽電池及びその製造方法 |
JP2000231942A (ja) * | 1999-02-12 | 2000-08-22 | Nikon Corp | 色素増感型太陽電池 |
-
2005
- 2005-06-30 JP JP2005192040A patent/JP2007012448A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000200627A (ja) * | 1999-01-06 | 2000-07-18 | Nikon Corp | 色素増感型太陽電池及びその製造方法 |
JP2000231942A (ja) * | 1999-02-12 | 2000-08-22 | Nikon Corp | 色素増感型太陽電池 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5002595B2 (ja) | 色素増感太陽電池モジュールおよびその製造方法 | |
JP4260494B2 (ja) | 透明電極用基材の製法、光電変換素子の製法、及び色素増感太陽電池の製法 | |
JP5191647B2 (ja) | 酸化チタン膜、酸化チタン膜電極膜構造および色素増感太陽電池 | |
JP4446011B2 (ja) | 色素増感型太陽電池用光電極の製造方法および色素増感型太陽電池用光電極、並びに色素増感型太陽電池 | |
JP5184548B2 (ja) | 光電変換素子用電極基板の製造方法、および光電変換素子の製造方法 | |
JP5225577B2 (ja) | 光電変換素子および光電変換素子用の対極の製造方法 | |
JP2006236960A (ja) | 色素増感太陽電池及びその製造方法 | |
JP2008251518A (ja) | 色素増感型太陽電池用光電極の製造方法および色素増感型太陽電池用光電極、並びに色素増感型太陽電池 | |
JP2007012377A (ja) | 太陽電池モジュール | |
JP4578786B2 (ja) | 色素増感太陽電池の製造方法 | |
JP5128118B2 (ja) | 湿式太陽電池とその製造方法 | |
JP5095126B2 (ja) | 光電変換素子 | |
JP2004363069A (ja) | 半導体電極およびその製造方法、ならびにそれを用いた色素増感型太陽電池 | |
JP4954855B2 (ja) | 色素増感太陽電池の製法 | |
JP5160045B2 (ja) | 光電変換素子 | |
JP4799852B2 (ja) | 光電変換素子用電極、光電変換素子および色素増感太陽電池 | |
JP5095148B2 (ja) | 作用極用基板及び光電変換素子 | |
JP4932200B2 (ja) | 電極及びその製造方法、並びに光電変換素子 | |
JP4932196B2 (ja) | 電極及び光電変換素子 | |
JP5128076B2 (ja) | 色素増感型太陽電池及びその製造方法 | |
JP4942919B2 (ja) | 光電変換素子およびその製造方法 | |
JP2007012448A (ja) | 光電変換素子 | |
JP2013077578A (ja) | 光電変換素子 | |
JP4799853B2 (ja) | 光電変換素子用電極、光電変換素子および色素増感太陽電池 | |
JP6289175B2 (ja) | 光電変換素子および光電変換モジュール |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110621 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110822 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110913 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111013 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120703 |