JP2007005335A - 基板接合方法および基板接合装置 - Google Patents
基板接合方法および基板接合装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007005335A JP2007005335A JP2005180099A JP2005180099A JP2007005335A JP 2007005335 A JP2007005335 A JP 2007005335A JP 2005180099 A JP2005180099 A JP 2005180099A JP 2005180099 A JP2005180099 A JP 2005180099A JP 2007005335 A JP2007005335 A JP 2007005335A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- bonding
- chamber
- holding
- temporary fixing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】基板接合装置1は、大気中において第1基板91を第2基板92上に載置する基板載置機構2、および、減圧環境下または不活性ガス環境下において第1基板91と第2基板92とを接合する接合機構3を備える。基板接合装置1では、第1基板91および第2基板92の位置合わせが大気中において行われ、第1基板91の下面911を第2基板92の上面921上に重ねつつ第1基板91が第2基板92上に載置された状態で接合機構3のチャンバ31内に搬入される。このため、位置合わせに係る機構をチャンバ31内に設ける必要がなく、チャンバ31内の構造を簡素化することができる。また、位置合わせに係る機構に減圧環境の影響による歪みが生じることが防止されるため、第1基板91と第2基板92とを高い位置精度にて接合することができる。
【選択図】図1
Description
2 基板載置機構
5 撮像部
6 制御部
31 チャンバ
32 第1保持部
33 第2保持部
34 仮固定解除部
35 環境調整機構
36 高周波電源
61 ずれ量取得部
91 第1基板
92 第2基板
93 仮固定治具
321 保持部移動機構
911 下面
921 上面
S11〜S18,S21〜S27 ステップ
Claims (8)
- 2つの基板の主面を接合する基板接合方法であって、
a)大気中において第1基板を第2基板に対して対向させ、前記第1基板の前記第2基板に対する相対位置を調整する工程と、
b)前記第1基板の主面上の第1接合部位を前記第2基板の主面上の第2接合部位上に重ねつつ前記第1基板を前記第2基板上に載置する工程と、
c)前記第1基板および前記第2基板をチャンバ内に搬入し、前記第1基板および前記第2基板を外気から隔離する工程と、
d)前記チャンバ内を減圧または不活性ガス環境とする工程と、
e)前記チャンバ内において前記第1基板を前記第2基板から離れる方向に相対的に移動する工程と、
f)前記第1接合部位および前記第2接合部位の少なくともいずれか一方にエネルギー波を照射する工程と、
g)前記第1基板を前記第2基板に相対的に近づけて前記第1接合部位と前記第2接合部位とを接触させて前記第1基板と前記第2基板とを接合する工程と、
を備えることを特徴とする基板接合方法。 - 請求項1に記載の基板接合方法であって、
前記b)工程と前記c)工程との間に、前記第1基板を前記第2基板に付勢して仮固定する工程と、
前記d)工程と前記e)工程との間に、または、前記e)工程と並行して、前記第1基板の前記第2基板に対する仮固定を解除する工程と、
をさらに備えることを特徴とする基板接合方法。 - 請求項1または2に記載の基板接合方法であって、
前記a)工程において、前記第1基板の前記第2基板に対する相対位置のずれ量が、前記第1基板および前記第2基板のそれぞれに設けられたパターンを撮像することにより求められることを特徴とする基板接合方法。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板接合方法であって、
前記エネルギー波がプラズマであることを特徴とする基板接合方法。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板接合方法であって、
前記第1基板および前記第2基板の少なくともいずれか一方が半導体基板であることを特徴とする基板接合方法。 - 2つの基板の主面を接合する基板接合装置であって、
第1基板および第2基板が、前記第1基板の主面上の第1接合部位を前記第2基板の主面上の第2接合部位上に重ねつつ前記第1基板が前記第2基板上に載置された状態で搬入され、前記第1基板および前記第2基板を外気から隔離するチャンバと、
前記チャンバ内において前記第1基板および前記第2基板をそれぞれ保持する第1保持部および第2保持部と、
前記チャンバ内において前記第1保持部を前記第2保持部に対して相対的に離れる方向および近づく方向に移動する保持部移動機構と、
前記チャンバ内を減圧または不活性ガス環境とする環境調整機構と、
前記チャンバ内において、前記第1基板を保持する前記第1保持部および前記第2基板を保持する前記第2保持部が離間した状態で前記第1接合部位および前記第2接合部位の少なくともいずれか一方にエネルギー波を照射するエネルギー波照射機構と、
前記環境調整機構、前記保持部移動機構および前記エネルギー波照射機構を制御することにより、前記第1基板および前記第2基板が搬入された後に前記チャンバ内を減圧または不活性ガス環境とし、前記第1基板および前記第2基板を離間して前記エネルギー波照射機構を能動化し、前記第1基板を前記第2基板に相対的に近づけて前記第1接合部位と前記第2接合部位とを接触させて前記第1基板と前記第2基板とを接合する制御部と、
を備えることを特徴とする基板接合装置。 - 請求項6に記載の基板接合装置であって、
前記第1基板および前記第2基板が、前記第1基板を前記第2基板に付勢して仮固定する仮固定治具と共に前記チャンバに搬入され、
前記基板接合装置が、前記チャンバ内において前記仮固定治具による仮固定を解除する仮固定解除部をさらに備えることを特徴とする基板接合装置。 - 請求項6または7に記載の基板接合装置であって、
前記チャンバ外において、前記第1基板を前記第2基板に対して対向させ、前記第1基板の前記第2基板に対する相対位置を調整した上で前記第1接合部位を前記第2接合部位上に重ねつつ前記第1基板を前記第2基板上に載置する基板載置機構と、
前記チャンバ外において前記第1基板および前記第2基板のそれぞれに設けられたパターンを撮像する撮像部と、
前記撮像部により取得された画像に基づいて前記基板載置機構において前記第1基板と前記第2基板とを対向させた際の前記第1基板の前記第2基板に対する相対位置のずれ量を求めるずれ量取得部と、
をさらに備えることを特徴とする基板接合装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005180099A JP4548239B2 (ja) | 2005-06-21 | 2005-06-21 | 基板接合方法および基板接合装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005180099A JP4548239B2 (ja) | 2005-06-21 | 2005-06-21 | 基板接合方法および基板接合装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007005335A true JP2007005335A (ja) | 2007-01-11 |
JP4548239B2 JP4548239B2 (ja) | 2010-09-22 |
Family
ID=37690703
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005180099A Expired - Fee Related JP4548239B2 (ja) | 2005-06-21 | 2005-06-21 | 基板接合方法および基板接合装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4548239B2 (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009057710A1 (ja) * | 2007-10-30 | 2009-05-07 | Nikon Corporation | 基板保持部材、基板接合装置、積層基板製造装置、基板接合方法、積層基板製造方法および積層型半導体装置製造方法 |
JP2009260008A (ja) * | 2008-04-16 | 2009-11-05 | Nikon Corp | 半導体装置製造装置および半導体装置の製造方法 |
WO2009133682A1 (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-05 | 株式会社ニコン | 評価方法および評価装置 |
JP2009272464A (ja) * | 2008-05-08 | 2009-11-19 | Techno Fine:Kk | サンプル保持機構 |
KR100931609B1 (ko) | 2007-11-23 | 2009-12-14 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 기판합착장치 |
JP2011233683A (ja) * | 2010-04-27 | 2011-11-17 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板貼合装置 |
WO2012043054A1 (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-05 | 三菱重工業株式会社 | 常温接合装置および常温接合方法 |
JPWO2011010452A1 (ja) * | 2009-07-21 | 2012-12-27 | 株式会社ニコン | 基板ホルダシステム、基板ホルダ、固定機構、基板接合装置およびデバイスの製造方法 |
US8420160B2 (en) | 2006-09-15 | 2013-04-16 | Intermetallics Co., Ltd. | Method for producing sintered NdFeB magnet |
JP2013140988A (ja) * | 2013-01-23 | 2013-07-18 | Nikon Corp | ウエハ張り合わせ装置及びウエハ張り合わせ方法 |
WO2014050915A1 (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-03 | 三菱重工業株式会社 | 常温接合装置および常温接合方法 |
KR20160032208A (ko) * | 2013-07-17 | 2016-03-23 | 수스 마이크로텍 리소그라피 게엠바하 | 반도체 웨이퍼 레벨링, 힘 밸런싱 및 접촉 감지를 위한 장치 및 방법 |
CN110832633A (zh) * | 2017-06-30 | 2020-02-21 | 东芝三菱电机产业系统株式会社 | 基板定位装置及基板定位方法 |
CN111376566A (zh) * | 2018-12-27 | 2020-07-07 | 倍科有限公司 | 层压基板制造装置、层压基板生产线以及层压基板的制造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7267877B2 (ja) | 2019-09-05 | 2023-05-02 | キオクシア株式会社 | 基板貼合装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004071610A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-03-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品装着装置および電子部品装着方法 |
-
2005
- 2005-06-21 JP JP2005180099A patent/JP4548239B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004071610A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-03-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品装着装置および電子部品装着方法 |
Cited By (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8420160B2 (en) | 2006-09-15 | 2013-04-16 | Intermetallics Co., Ltd. | Method for producing sintered NdFeB magnet |
JP5402640B2 (ja) * | 2007-10-30 | 2014-01-29 | 株式会社ニコン | 基板接合装置、基板接合方法、積層型半導体装置製造方法および基板保持部材 |
WO2009057710A1 (ja) * | 2007-10-30 | 2009-05-07 | Nikon Corporation | 基板保持部材、基板接合装置、積層基板製造装置、基板接合方法、積層基板製造方法および積層型半導体装置製造方法 |
CN103258771A (zh) * | 2007-10-30 | 2013-08-21 | 株式会社尼康 | 基板保持部件和基板接合装置 |
KR100931609B1 (ko) | 2007-11-23 | 2009-12-14 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 기판합착장치 |
JP2009260008A (ja) * | 2008-04-16 | 2009-11-05 | Nikon Corp | 半導体装置製造装置および半導体装置の製造方法 |
WO2009133682A1 (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-05 | 株式会社ニコン | 評価方法および評価装置 |
JP2009272464A (ja) * | 2008-05-08 | 2009-11-19 | Techno Fine:Kk | サンプル保持機構 |
JPWO2011010452A1 (ja) * | 2009-07-21 | 2012-12-27 | 株式会社ニコン | 基板ホルダシステム、基板ホルダ、固定機構、基板接合装置およびデバイスの製造方法 |
JP5810914B2 (ja) * | 2009-07-21 | 2015-11-11 | 株式会社ニコン | 基板ホルダシステム、基板ホルダ、基板接合装置およびデバイス製造方法 |
US10580678B2 (en) | 2010-04-15 | 2020-03-03 | Suss Microtec Lithography, Gmbh | Apparatus and method for semiconductor wafer leveling, force balancing and contact sensing |
JP2011233683A (ja) * | 2010-04-27 | 2011-11-17 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板貼合装置 |
WO2012043054A1 (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-05 | 三菱重工業株式会社 | 常温接合装置および常温接合方法 |
CN102934198B (zh) * | 2010-09-28 | 2016-04-27 | 三菱重工业株式会社 | 常温接合装置及常温接合方法 |
CN102934198A (zh) * | 2010-09-28 | 2013-02-13 | 三菱重工业株式会社 | 常温接合装置及常温接合方法 |
US9580306B2 (en) | 2012-09-27 | 2017-02-28 | Mitsubishi Heavy Industries Machine Tool Co., Ltd. | Room temperature bonding apparatus and room temperature bonding method |
JP2014072249A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 常温接合装置および常温接合方法 |
WO2014050915A1 (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-03 | 三菱重工業株式会社 | 常温接合装置および常温接合方法 |
JP2013140988A (ja) * | 2013-01-23 | 2013-07-18 | Nikon Corp | ウエハ張り合わせ装置及びウエハ張り合わせ方法 |
KR20160032208A (ko) * | 2013-07-17 | 2016-03-23 | 수스 마이크로텍 리소그라피 게엠바하 | 반도체 웨이퍼 레벨링, 힘 밸런싱 및 접촉 감지를 위한 장치 및 방법 |
JP2016525285A (ja) * | 2013-07-17 | 2016-08-22 | ズース マイクロテック リトグラフィー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 半導体ウェーハのレベリング、力の平衡化、および接触感知のための装置および方法 |
KR102186211B1 (ko) | 2013-07-17 | 2020-12-04 | 수스 마이크로텍 리소그라피 게엠바하 | 반도체 웨이퍼 레벨링, 힘 밸런싱 및 접촉 감지를 위한 장치 및 방법 |
CN110832633A (zh) * | 2017-06-30 | 2020-02-21 | 东芝三菱电机产业系统株式会社 | 基板定位装置及基板定位方法 |
CN110832633B (zh) * | 2017-06-30 | 2023-06-02 | 东芝三菱电机产业系统株式会社 | 基板定位装置及基板定位方法 |
CN111376566A (zh) * | 2018-12-27 | 2020-07-07 | 倍科有限公司 | 层压基板制造装置、层压基板生产线以及层压基板的制造方法 |
KR20200081209A (ko) | 2018-12-27 | 2020-07-07 | 베아크 가부시끼가이샤 | 라미네이트 기판 제조 장치, 라미네이트 기판 제조 라인 및 라미네이트 기판의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4548239B2 (ja) | 2010-09-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4548239B2 (ja) | 基板接合方法および基板接合装置 | |
KR102445060B1 (ko) | 기판끼리의 접합 방법, 기판 접합 장치 | |
JP6952853B2 (ja) | 接合システム、および接合方法 | |
US20130133828A1 (en) | Bonding apparatus, bonding system and bonding method | |
US20240014079A1 (en) | Substrate bonding apparatus and substrate bonding method | |
WO2009107250A1 (ja) | 常温接合装置 | |
WO2012043054A1 (ja) | 常温接合装置および常温接合方法 | |
JP4670503B2 (ja) | 押圧装置および押圧方法 | |
TW201923125A (zh) | 成膜裝置 | |
TWI669406B (zh) | Film forming device and embedded processing device | |
EP2357056B1 (en) | Wafer bonding apparatus | |
JP4859895B2 (ja) | 常温接合装置 | |
JP4701953B2 (ja) | 押圧装置 | |
JP6685154B2 (ja) | 接合装置および接合方法 | |
JP6412804B2 (ja) | 接合方法および接合システム | |
JP2005142537A (ja) | 縦振接合方法及び装置 | |
TW201924513A (zh) | 成膜裝置 | |
JP4875678B2 (ja) | 常温接合装置 | |
JP2016058542A (ja) | チップと基板との接合方法、チップと基板との仮接合装置、チップ実装システム | |
JP2020120137A (ja) | 基板処理装置 | |
TWI423364B (zh) | 晶圓接合裝置 | |
JP4306533B2 (ja) | 電子部品実装装置 | |
JP4875676B2 (ja) | 常温接合装置 | |
JP4875677B2 (ja) | 常温接合装置 | |
WO2020179716A1 (ja) | 積層体形成装置および積層体形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080313 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080905 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20091126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100420 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100525 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100615 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100628 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4548239 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130716 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |