JP2006343601A - Plate and regeneration method of same - Google Patents
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Description
本発明は、印刷または転写に使用され、版の表面が摩滅したり、傷ついたりして使用に耐えなくなった場合に、新たに製版するのではなく、再生することが容易な版とこの版の再生方法に関する。適した用途は、版にインクを供給し、硬化した後に、接着剤を使用して被転写基板へ転写する転写用版、また、版にインクを供給し、硬化した後に、接着剤を使用して被印刷基板へ印刷する印刷用版である。特に適した用途は、例えば被転写基板がカラーフィルタ等のガラス板である場合である。
なお、本願では、版に供給したインクが版に一部残る状態で被転写材へ移行することを印刷と呼び、被転写材に全量移行することを転写と呼ぶ。
The present invention is used for printing or transfer, and when the surface of the plate is worn or damaged and becomes unusable, the plate is easily regenerated rather than newly made. It relates to a reproduction method. Suitable applications include the transfer plate that transfers ink to the transfer substrate using an adhesive after the ink is supplied and cured, and the adhesive is used after the ink is supplied to the plate and cured. A printing plate for printing on a substrate to be printed. A particularly suitable application is, for example, when the substrate to be transferred is a glass plate such as a color filter.
In the present application, the transfer to the transfer material in a state where a part of the ink supplied to the plate remains on the plate is called printing, and the transfer to the transfer material is called transfer.
最近、液晶テレビ、プラズマディスプレイテレビ等の平面ディスプレイの大型化、一般化が進むにつれて、低コストで生産することが強く要求されている。
これらの平面ディスプレイの画面サイズは対角４０〜５０インチが主流となってきているが、平面ディスプレイパネルの製造に使用する基板のサイズは、多面付けして低コスト化を図るために、大サイズになっている。例えば液晶ディスプレイの場合には、１８００×１５００ｍｍのサイズが最近製造に使用されるようになったが、さらに大きな２２００×２４００ｍｍを使用する計画が発表されている。プラズマディスプレイパネルにおいても多面付けで低コスト化を図っていて、ガラス基板サイズとしては一辺２０００ｍｍ以上のものが使用されるようになっている。
In recent years, as flat displays such as liquid crystal televisions and plasma display televisions have become larger and more generalized, production at low cost has been strongly demanded.
The screen size of these flat displays is mainly 40 to 50 inches diagonal, but the size of the substrate used to manufacture the flat display panel is large in order to reduce the cost by attaching multiple dimensions. It has become. For example, in the case of a liquid crystal display, a size of 1800 × 1500 mm has recently been used for manufacturing, but a plan to use a larger 2200 × 2400 mm has been announced. The plasma display panel is also multifaceted and cost-effective, and a glass substrate having a side of 2000 mm or more is used.
ガラス基板上に、カラーフィルタや電極配線パターン等の高精細パターンを寸法精度も高く形成する方法としては、いわゆるフォトリソ法が主流であり、一見その他の方法で形成されているように見える場合も、実際上はすべて、フォトリソ法が使用されている。例えば、プラズマディスプレイの背面板に隔壁と呼ばれる部材があり、サンドブラスト法で形成されている。しかし、リブパターンの寸法や位置を規定するには、フォトリソ法でパターンニングしたサンドブラスト用レジスト材が使用される。 As a method of forming high-definition patterns such as color filters and electrode wiring patterns on a glass substrate with high dimensional accuracy, so-called photolithography is the mainstream, and it may seem that it is formed by other methods at first glance. In practice, the photolithographic method is used in all cases. For example, there is a member called a partition on the back plate of the plasma display, which is formed by a sandblast method. However, a resist material for sandblasting patterned by a photolithography method is used to define the dimension and position of the rib pattern.
上記フォトリソ法は工程数が多く、また大型化した高精細パターンを露光するための露光装置がかなり高価な装置となっている。また、露光時の環境条件も厳しく、ランニングコストが高い工程となっている。
そのため、低コスト化を主な目的として印刷法、転写法で大サイズの高精細パターンを高寸法精度で形成することが、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の製造技術として検討されている。
以下では、液晶ディスプレイ等に使用されるカラーフィルタの製造に関する背景技術を述べるが、プラズマディスプレイパネルの製造についても、印刷法、転写法が同様に検討されている。
In the photolithography method, the number of processes is large, and an exposure apparatus for exposing a large-sized high-definition pattern is quite expensive. In addition, the environmental conditions at the time of exposure are strict, and the process has a high running cost.
For this reason, formation of large-sized high-definition patterns with high dimensional accuracy by a printing method or a transfer method for the main purpose of cost reduction is being studied as a manufacturing technique for liquid crystal displays, plasma displays, and the like.
In the following, background technology relating to the production of color filters used in liquid crystal displays and the like will be described, but the printing method and the transfer method are similarly studied for the production of plasma display panels.
低コスト化を目指して種々の印刷法が検討されている。その中でも、転写用凹版の版面の凹部へＵＶ硬化性のインクを充填し、そのインクが硬化した後に、接着剤または粘着材を使用して、硬化したインクを被転写体へ全量転写する方法がある。被転写体側で得られる硬化インクの形状がよく、また版の表面が離型性であって、インクが全量転写するので定量性に優れている。また、寸法精度は転写用凹版の支持基板を例えばインバー材としたり、石英ガラス板としたり、被転写基板と同質の材料とすることによって、極めて高い精度とすることができる方法である。ここで離型性とはその面に接したインク、接着剤等に対して、それらが硬化、固化した場合に、界面剥離させることが可能な性質をいう。この方法に関しては、例えば特許文献１〜１０に開示されている。
高精度の金属製の（転写用）凹版を作成する従来技術としては、電鋳法が知られ、一般的には凹版印刷用の凹版を作成する場合に使用されている。また、液晶ディスプレイのカラーフィルタを形成する場合に関して、例えば特許文献４に転写用凹版を作成、使用することが開示されている。
しかし、電鋳法で得られるメッキ面では転写すべき材料について充分な離型性が得られないことが多い。実際には、例えばコンパクトディスクの製造において電鋳版が使用されているが、インジェクション後の離型性向上について、素材の選定、添加剤や版の表面処理剤の検討が種々行われている。そのため、素材が別の条件で決定されてしまう場合には、電鋳法の版を使用することが難しい場合がある。例えば、カラーフィルタの形成においては、難しい。
さらに、カラーフィルタ等のガラス板に対して転写する場合には、ゴミとして一番問題なのは、ガラスの微粉末（カレット）である。カラーフィルタ用ガラス基板に食い込んだカレットはかなり丁寧にブラシ洗浄しても、除去することは難しい。そして、電鋳した金属凹版の表面にキズをつけてしまう。ガラスより硬度の高い材料を使用することもあり得るが、電鋳金属や、その電鋳金属を表面処理する方法では、ガラスより硬度を高くすることはできない。
As a conventional technique for producing a high-precision metal (transfer) intaglio, an electroforming method is known, and is generally used for producing an intaglio for intaglio printing. In addition, regarding the case of forming a color filter of a liquid crystal display, for example,
However, in many cases, sufficient releasability cannot be obtained for the material to be transferred on the plated surface obtained by electroforming. Actually, for example, an electroformed plate is used in the production of a compact disc. However, various studies have been made on selection of materials and additives and surface treatment agents for the plate for improving the releasability after injection. Therefore, when the material is determined under different conditions, it may be difficult to use an electroformed plate. For example, it is difficult to form a color filter.
Furthermore, when transferring to a glass plate such as a color filter, the most serious problem as dust is glass fine powder (cullet). It is difficult to remove the cullet that has digged into the glass substrate for the color filter even if it is cleaned with care. And the surface of the electroformed metal intaglio will be damaged. A material having a hardness higher than that of glass may be used, but the electrocast metal and the method of surface-treating the electroformed metal cannot have a hardness higher than that of glass.
一方、低コストで、しかも転写する材料に対して離型性を発揮する材料を選定することが比較的容易な方法がある。すなわち、版の凹部の形状を高精細、高位置精度で形成する方法として、感光性の樹脂を凹部（凸部）形成材料として使用したフォトリソグラフ法がある。
しかし、感光性の樹脂の転写耐久性は、硬化可能な樹脂であっても、金属材、セラミック材と比較してかなり低いという問題点がある。例えば、表面の硬度が低いという点がある。そのため接着剤挟み込み工程において、ゴミが混入してしまうと、キズつきやすい。また、材料の対摩耗強度が高くないので、繰り返し転写していると、凸部の角（凹部の角）が徐々に摩滅してしまう。さらに、凹部に充填・硬化されたインクが全部転写されずに、凹部の角（隅）に残ってしまうことがあるが、この場合、凹部が金属材であれば、ブラシ洗浄等の部分的に強い力がかかる手段で、きちんと除去することができる。しかし、凹部が感光性材料の場合では、ブラシ洗浄等の方法は使用することができない場合がある。
On the other hand, there is a method that is relatively inexpensive and relatively easy to select a material that exhibits releasability with respect to the material to be transferred. That is, as a method for forming the shape of the concave portion of the plate with high definition and high positional accuracy, there is a photolithography method using a photosensitive resin as a concave portion (convex portion) forming material.
However, there is a problem that the transfer durability of the photosensitive resin is considerably lower than that of a metal material or a ceramic material even if the resin is curable. For example, the surface hardness is low. Therefore, if dust is mixed in the adhesive sandwiching step, it is easily scratched. In addition, since the wear resistance of the material is not high, the corners of the projections (corners of the depressions) gradually wear out when transferred repeatedly. Furthermore, the ink filled and cured in the recesses may not be transferred completely and may remain in the corners of the recesses. It can be removed properly with a strong force. However, when the recess is made of a photosensitive material, a method such as brush cleaning may not be used.
以上を総合すると、ある頻度でキズが発生するものとして、容易に、低コストで再生することができる転写用凹版を使用するほうが、現実的である。しかし、そのような構造、構成、製法の凹版は知られていない。
なお、以上の議論は転写用凹版に絞って行ったが、凹版に限らず凸版であっても、また平版であっても、事態は同様である。さらに、転写でなく、インクの一部が版に残る印刷においても同様である。
In summary, it is more realistic to use a transfer intaglio that can be easily reproduced at low cost, as scratches occur at a certain frequency. However, an intaglio with such a structure, configuration and manufacturing method is not known.
Although the above discussion has been focused on the intaglio for transfer, the situation is the same regardless of whether it is a relief or a lithographic printing plate. The same applies to printing in which a part of ink remains on the plate instead of transferring.
通常の印刷用、転写用の版について、これまでの再生方法では、版の支持基板だけを再使用していた。そして、印刷すべきパターン、転写すべきパターンは新たに形成していた。例えばオフセット印刷に使用されるＰＳ版では、支持基板であるアルミニューム板を再使用し、その上のアルマイト処理層や印刷版材である感光性樹脂の層は、再形成している。そして、印刷すべきパターンを有するマスクを用いた露光やレーザ描画装置を用いたダイレクト露光法によって印刷版材に印刷パターンを形成している。また、グラビア印刷では、バラードによって印刷版材である銅メッキ層とクロムメッキ層を剥離し、銅メッキを行って、版材層を再形成している。印刷パターンの形成にはスキャナーによる露光や彫刻装置による直接製版法が実用されている。 For ordinary printing and transfer plates, in the conventional recycling method, only the plate support substrate has been reused. A pattern to be printed and a pattern to be transferred have been newly formed. For example, in a PS plate used for offset printing, an aluminum plate as a support substrate is reused, and an alumite treatment layer thereon and a photosensitive resin layer as a printing plate material are re-formed. Then, a printing pattern is formed on the printing plate material by exposure using a mask having a pattern to be printed or by direct exposure using a laser drawing apparatus. In gravure printing, a copper plating layer and a chromium plating layer, which are printing plate materials, are peeled off by ballading, and copper plating is performed to re-form the printing material layer. In order to form a printing pattern, exposure using a scanner or direct plate making using an engraving apparatus is in practical use.
しかし、形成すべきパターンが大サイズで高精細・高寸法精度が必要な場合には、フォトリソ法でパターンを形成する方法がほぼ唯一の方法となる。しかるにこの要求を満足することができる露光装置は非常に高価である。また、作業環境も、例えば温度制御を±０．５℃以下に抑えた、クリーンルームで作業を行う必要がある。そのため、製版工程のうち、露光工程が高コストになっている。 However, when the pattern to be formed is large and requires high definition and high dimensional accuracy, the method of forming the pattern by the photolithography method is almost the only method. However, an exposure apparatus that can satisfy this requirement is very expensive. Also, the work environment needs to be performed in a clean room in which temperature control is suppressed to ± 0.5 ° C. or less, for example. Therefore, the exposure process is expensive in the plate making process.
本発明が解決しようとする課題は、版であって、容易に（低コストで）再生することができる版とその再生方法を提供することである。特に印刷または転写すべき版パターン部を低コストで再生し得る版を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide a plate that can be reproduced easily (at a low cost) and a method for reproducing the plate. In particular, it is to provide a plate capable of reproducing a plate pattern portion to be printed or transferred at low cost.
（請求項１の発明）
本発明はかかる課題を達成すべくなされたものであり、
請求項１の発明は、印刷用インクの印刷または転写用インクの転写に使用する版であって、少なくとも裏面露光光透過性の支持基板の上に、印刷または転写すべきパターンのポジパターンまたはネガパターンにして裏面露光光遮光性の遮光性膜が設けられ、前記遮光性膜を覆うようにして前記支持基板の上に裏面露光光透過性層が積層され、前記裏面露光光透過性層の上に位置する版面に、前記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法・現像法によって形成してなる版パターン部が設けられていることを特徴とする版を提供して、上記課題を解消するものである。
（請求項２の発明）
請求項２の発明は、印刷用インクの印刷または転写用インクの転写に使用する版であって、少なくとも裏面露光光透過性の支持基板の上に、印刷または転写すべきパターンのポジパターンまたはネガパターンにして裏面露光光遮光性の遮光性膜が設けられ、前記遮光性膜を覆うようにして前記支持基板の上に裏面露光光透過性層が積層され、前記裏面露光光透過性層の上に位置する版面に、前記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法・現像法によって形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、該感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法により形成してなる版パターン部が設けられていることを特徴とする版を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項３の発明）
請求項３の発明は、上記版面が凸版構造であって、転写用インクと接する凸状の版パターン部の表面が、硬化した転写用インクに対して離型性を有することを特徴とする請求項１または２に記載の版を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項４の発明）
請求項４の発明は、上記版面が平版構造であって、転写用インクと接する実質的に厚さがないと見做し可能な版パターン部の表面が、硬化した転写用インクに対して離型性を有することを特徴とする請求項１または２に記載の版を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項５の発明）
請求項５の発明は、上記版面が凹版構造であって、転写用インクと接する凹状の版パターン部の内表面が、硬化した転写用インクに対して離型性を有することを特徴とする請求項１または２に記載の版を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項６の発明）
請求項６の発明は、上記遮光性膜を下位に位置させた上記裏面露光光透過性層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層が位置していることを特徴とする請求項１から５の何れか一項に記載の版を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項７の発明）
請求項７の発明は、上記遮光性膜の上の上記裏面露光光透過性層は、遮光性膜を保護する保護層であり、該保護層の上に上記離型性層が位置していることを特徴とする請求項６に記載の版を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項８の発明）
請求項８の発明は、上記保護層が複数層にして存在し、少なくともそのうちの一層の保護層は、張り出しのあるプラスチックフィルムであることを特徴とする請求項７に記載の版を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項９の発明）
請求項９の発明は、上記遮光性膜の材質が金属であることを特徴とする請求項１から８の何れか一項に記載の版を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項１０の発明）
請求項１０の発明は、上記遮光性膜の材質が遮光性金属酸化物または金属窒化物であることを特徴とする請求項１から８の何れか一項に記載の版を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項１１の発明）
請求項１１の発明は、液晶ディスプレイパネルのカラーフィルタの製造用版であって、少なくとも上記遮光性膜が、前記液晶ディスプレイパネルのＴＦＴアレイ側のパネル製造装置により形成されてなるものであることを特徴とする請求項１から１０の何れか一項に記載の版を提供して上記の課題を解決するものである。
（請求項１２の発明）
請求項１２発明は、上記支持基板が、上記液晶ディスプレイパネルのカラーフィルタ用のガラス基板であることを特徴とする請求項１１に記載の版を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項１３の発明）
請求項１３発明は、請求項１から１２の何れか一項における版を再生する方法であって、再生する対象の前記版の版パターン部を除去した後に、版面形成位置に感光性の版材を膜状に形成し、上記裏面露光光透過性層の下位にある上記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性の版材を露光し、現像して版パターン部を形成することを特徴とする版の再生方法を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項１４の発明）
請求項１４発明は、請求項１から１２の何れか一項における版を再生する方法であって、再生する対象の前記版の版パターン部を除去した後に、版面形成位置に感光性材料を膜状に形成し、上記裏面露光光透過性層の下位にある上記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性材料を露光し、現像して形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、前記感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法で版パターン部を形成する版の再生方法を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項１５の発明）
請求項１５発明は、請求項６から１２の何れか一項における版を再生する方法であって、再生する対象の前記版の裏面露光光透過性層の上から版パターン部と離型性層とを除去した後に、前記裏面露光光透過性層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層を設け、この離型性層の上の版面形成位置に感光性の版材を膜状に形成し、前記裏面露光光透過性層の下位にある上記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性の版材を露光し、現像して版パターン部を形成することを特徴とする版の再生方法を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項１６の発明）
請求項１６発明は、請求項６から１２の何れか一項における版を再生する方法であって、再生する対象の前記版の裏面露光光透過性層の上から版パターン部と離型性層とを除去した後に、前記裏面露光光透過性層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層を設け、この離型性層の上の版面形成位置に感光性材料を膜状に形成し、前記裏面露光光透過性層の下位である上記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性材料を露光し、現像して形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、前記感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法で版パターン部を形成する版の再生方法を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項１７の発明）
請求項１７発明は、請求項７から１２の何れか一項における版を再生する方法であって、再生する対象の前記版の版パターン部と離型性層と保護層とを除去した後、上記遮光性膜を覆うようにして保護層を設け、この保護層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層を設け、この離型性層の上の版面形成位置に感光性の版材を膜状に形成し、前記保護層の下位である前記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって前記感光性の版材を露光し、現像して版パターン部を形成することを特徴とする版の再生方法を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項１８の発明）
請求項１８の発明は、請求項７から１２の何れか一項における版を再生する方法であって、再生する対象の前記版の版パターン部と離型性層と保護層とを除去した後、上記遮光性膜を覆うようにして保護層を設け、この保護層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層を設け、この離型性層の上の版面形成位置に感光性材料を膜状に形成し、前記保護層の下位である前記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって前記感光性材料を露光し、現像して形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、前記感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法で版パターン部を形成する版の再生方法を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項１９の発明）
請求項１９の発明は、請求項８から１２の何れか一項における版を再生する方法であって、再生する対象の前記版の少なくとも一つの保護層とこの保護層から上位の層とを除去した後、上記遮光性膜の上にこの遮光性膜を覆う一層以上の保護層を設け、最上位の保護層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層を設け、この離型性層の上の版面形成位置に感光性の版材を膜状に形成し、前記保護層の下位である前記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性の版材を露光し、現像して版パターン部を形成することを特徴とする版の再生方法を提供して、上記課題を解決するものである。
（請求項２０の発明）
請求項２０の発明は、請求項８から１２の何れか一項における版を再生する方法であって、再生する対象の前記版の少なくとも一つの保護層とこの保護層から上位の層とを除去した後、上記遮光性膜の上にこの遮光性膜を覆う一層以上の保護層を設け、最上位の保護層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層を設け、この離型性層の上の版面形成位置に感光性材料を膜状に形成し、前記保護層の下位である前記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって前記感光性材料を露光し、現像して形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、前記感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法で版パターン部を形成する版の再生方法を提供して、上記課題を解決するものである。
(Invention of Claim 1)
The present invention has been made to achieve such a problem,
The invention of
(Invention of Claim 2)
The invention of
(Invention of Claim 3)
According to a third aspect of the present invention, the plate surface has a relief structure, and the surface of the convex plate pattern portion in contact with the transfer ink has releasability with respect to the cured transfer ink. The plate according to
(Invention of Claim 4)
According to a fourth aspect of the present invention, the plate surface has a planographic structure, and the surface of the plate pattern portion that can be regarded as having substantially no thickness in contact with the transfer ink is separated from the cured transfer ink. A plate according to
(Invention of Claim 5)
The invention of
(Invention of Claim 6)
According to a sixth aspect of the present invention, a releasable layer having releasability with respect to the cured transfer ink is located on the back exposure light transmissive layer having the light shielding film positioned below. A plate according to any one of
(Invention of Claim 7)
In the invention of
(Invention of Claim 8)
The invention according to
(Invention of Claim 9)
The invention of
(Invention of Claim 10)
The invention according to
(Invention of Claim 11)
The invention of
(Invention of Claim 12)
A twelfth aspect of the present invention provides the plate according to the eleventh aspect, wherein the support substrate is a glass substrate for a color filter of the liquid crystal display panel.
(Invention of Claim 13)
A thirteenth aspect of the present invention is a method for regenerating a plate according to any one of the first to twelfth aspects, wherein after the plate pattern portion of the plate to be reproduced is removed, a photosensitive plate material is formed at a plate surface forming position. The photosensitive plate material is exposed by a backside exposure method using the light-shielding film below the backside exposure light transmissive layer as a photomask and developed to form a plate pattern portion. Is provided to solve the above problems.
(Invention of Claim 14)
A fourteenth aspect of the present invention is a method for regenerating a plate according to any one of the first to twelfth aspects, wherein after the plate pattern portion of the plate to be reproduced is removed, a photosensitive material is formed on the plate surface forming position. The photosensitive material is exposed by a backside exposure method using the light-shielding film below the backside exposure light transmissive layer as a photomask and developed, and the reverse pattern of the pattern layer of the photosensitive material formed by development Thus, the above-mentioned problems are solved by providing a plate regeneration method for forming a plate pattern portion by a lift-off method in which the pattern layer of the photosensitive material is dissolved and removed.
(Invention of Claim 15)
A fifteenth aspect of the present invention is a method for regenerating a plate according to any one of the sixth to twelfth aspects, wherein the plate pattern portion and the release layer are formed on the back exposure light-transmitting layer of the plate to be reproduced. And a release layer having a release property for the cured transfer ink is provided on the back exposure light transmissive layer, and a plate surface forming position on the release layer is exposed to light. A photosensitive plate material is formed into a film shape, and the photosensitive plate material is exposed and developed by a backside exposure method using the light-shielding film below the backside exposed light transmitting layer as a photomask, and developed to form a plate pattern portion. The above-described problem is solved by providing a plate reproducing method characterized by forming
(Invention of Claim 16)
A sixteenth aspect of the present invention is a method for regenerating a plate according to any one of the sixth to twelfth aspects, wherein the plate pattern portion and the release layer are formed on the back exposure light transmitting layer of the plate to be reproduced. And a release layer having a release property for the cured transfer ink is provided on the back exposure light transmissive layer, and a plate surface forming position on the release layer is exposed to light. A pattern of a photosensitive material formed by forming a photosensitive material in a film shape, exposing the photosensitive material by a back exposure method using the light-shielding film below the back exposure light transmitting layer as a photomask, and developing the photomask A plate regenerating method for forming a plate pattern portion by a lift-off method in which the pattern layer of the photosensitive material is dissolved and removed in the reverse pattern of the layer is provided to solve the above-mentioned problems.
(Invention of Claim 17)
The invention according to
(Invention of Claim 18)
The invention of
(Invention of Claim 19)
The invention of claim 19 is a method for reproducing a plate according to any one of
(Invention of Claim 20)
The invention of claim 20 is a method for reproducing a plate according to any one of
（請求項１、２の発明の効果）
請求項１および請求項２の発明によって、版に内蔵された印刷または転写すべきパターンの母型となる遮光性膜を使用して、感光性材料の裏面露光法・現像法で形成した版を提供することができるので、高価な露光装置や厳密な温度条件下での作業が不要となり、低コストでありながら仕様を満足する版を提供することができるようになった。
また、請求項２の発明によって、版パターン部の材料として感光性のない材料を使用することができるようになったので、材料の選定範囲が広がり、例えば感光性材料より耐摩擦性や耐溶剤性のつよい無機物を使用することができるようになった。
（請求項３の発明の効果）
請求項３の発明によって、凸版構造の請求項１，２に記載の版で、完全転写が可能なものを提供することができるようになった。
（請求項４の発明の効果）
請求項４の発明によって、平版構造の実質的に厚さがない版材であっても請求項１，２に記載の版で、完全転写が可能なものを提供することができるようになった。
（請求項５の発明の効果）
請求項５の発明によって、転写形状と定量性にすぐれた転写用凹版構造であって、完全転写が可能なものを提供することができるようになった。
（請求項６の発明の効果）
請求項６の発明によって、後に示すように再生工程を少なくすることができる構造となったので、より低コストで再生することができるようになった。
（請求項７の発明の効果）
請求項７の発明によって、版に内蔵されている遮光性膜が損傷してしまうことが低下した。
（請求項８の発明の効果）
請求項８の発明によって、版の取り扱いが容易になった。
（請求項９の発明の効果）
請求項９の発明によって、遮光性膜が薄くても遮光性が高い金属性遮光性パターンであるので、解像度の高い版を得ることが容易になった。
（請求項１０の発明の効果）
請求項１０の発明によって、損傷しにくい遮光性膜を得ることが容易になった。
（請求項１１の発明の効果）
請求項１１の発明によって、液晶ディスプレイパネルのカラーフィルタ側パネル上のカラーフィルタの製造に使用する版を作成する際に使用する装置の内、もっとも高価である遮光性膜（印刷または転写すべきパターンの母型となる遮光性膜）の形成工程に使用する装置が、ＴＦＴ側パネルの作成に使用する装置を用いて行うことができるようになった。そのため、専用の装置や技術が不要となり、低コストの版を作成することが可能になった。
（請求項１２の発明の効果）
請求項１２の発明によって、版とのカラーフィルタ用のガラス基板との両者の温度変形の差が無くなり、カラーフィルタの製造工程の温度管理が容易になった。
（請求項１３の発明の効果）
請求項１３の発明によって、版に内蔵する遮光性膜をフォトマスクとして使用でき、安価な散乱光の露光装置で露光して版を再生するので、低コスト再生が可能となった。
（請求項１４の発明の効果）
請求項１４の発明によって、感光性材料以外であっても版パターン部の再生が可能になり、低コスト再生が可能となった。
（請求項１５、１６の発明の効果）
請求項１５、１６の発明によって、離型性層が損傷した場合にも版の再生を行うことにより、新規の版を作成しなくてもよくなった。
（請求項１７、１８の発明の効果）
請求項１７、１８の発明によって、保護層が損傷した場合にも版の再生を行うことにより、新規の版を作成しなくてもよくなった。
（請求項１９、２０の発明の効果）
請求項１９、２０の発明によって、離型性層が損傷した場合にも版の再生を行うことにより、新規の版を作成しなくてもよくなった。
(Effects of the inventions of
According to the first and second aspects of the present invention, a plate formed by a backside exposure method / development method of a photosensitive material using a light-shielding film, which is a matrix of a pattern to be printed or transferred, incorporated in the plate. Since it can be provided, an expensive exposure apparatus and work under strict temperature conditions are not required, and a plate satisfying the specifications can be provided at a low cost.
In addition, according to the invention of
(Effect of the invention of claim 3)
According to the invention of
(Effect of the invention of claim 4)
According to the invention of
(Effect of the invention of claim 5)
According to the invention of
(Effect of the invention of claim 6)
According to the sixth aspect of the present invention, the structure is such that the number of regeneration steps can be reduced as will be described later, so that the regeneration can be performed at a lower cost.
(Effect of the invention of claim 7)
According to the seventh aspect of the present invention, damage to the light-shielding film incorporated in the plate is reduced.
(Effect of the invention of claim 8)
According to the invention of
(Effect of the invention of claim 9)
According to the ninth aspect of the present invention, since the metal light-shielding pattern has a high light-shielding property even when the light-shielding film is thin, it is easy to obtain a plate with high resolution.
(Effect of the invention of claim 10)
According to the invention of
(Effect of the invention of claim 11)
According to the eleventh aspect of the present invention, the most expensive light-shielding film (pattern to be printed or transferred) among the apparatuses used for producing the plate used for producing the color filter on the color filter side panel of the liquid crystal display panel. The device used in the formation process of the light-shielding film that becomes the mother mold) can be performed by using the device used for the production of the TFT side panel. This eliminates the need for dedicated equipment and technology, making it possible to produce low-cost plates.
(Effect of the invention of claim 12)
According to the invention of
(Effect of the invention of claim 13)
According to the thirteenth aspect of the present invention, the light-shielding film incorporated in the plate can be used as a photomask, and the plate is reproduced by exposing it with an inexpensive scattered light exposure apparatus.
(Effect of the invention of claim 14)
According to the fourteenth aspect of the present invention, it is possible to reproduce the plate pattern portion even if it is not a photosensitive material, and it is possible to reproduce at a low cost.
(Effects of the inventions of
According to the fifteenth and sixteenth aspects of the present invention, it is not necessary to create a new plate by regenerating a plate even when the release layer is damaged.
(Effects of the Inventions of
According to the seventeenth and eighteenth aspects of the present invention, even when the protective layer is damaged, it is not necessary to create a new plate by regenerating the plate.
(Effects of the inventions of claims 19 and 20)
According to the inventions of claims 19 and 20, even when the release layer is damaged, it is not necessary to create a new plate by reproducing the plate.
つぎに本発明を図示の実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図１（ａ）（ｂ）は本発明の版１を転写用版であって凸版構造とした場合の形態の例を示している。この図１（ａ）で示されている形態により本発明の版１の基本的な構成を説明すると、版１は、裏面露光光透過性の支持基板２の上に、この版１から被転写材に対して転写すべきパターンを得る上で、また後述するように再生版パターン部を得る上で母型となるパターンとした薄い遮光性膜３が設けられている。図１（ａ）では前記遮光性膜３が転写すべきパターンのネガパターンとしている。さらに前記遮光性膜３を覆うようにして裏面露光光透過性層４を前記支持基板２の上に積層している。前記裏面露光光透過性層４は、この層の下に位置して版１に内蔵される前記遮光性膜３を保護する役割をするとともに、版面５の下地の役割もなす部分であって、複数層で構成されている。図１（ａ）で示す例では裏面露光光透過性層４での最下層として、遮光膜層３を覆うように支持基板２の上に積層されて前記遮光膜層３を保護する第一の保護層６があり、この第一の保護層６の上に接着剤層７を介してプラスチックフィルムからなる第二の保護層８が接着されて積層されている。
この裏面露光光透過性層４を構成する各層は後述する裏面露光光を透過させる部材である。また、図１（ａ）で示す例において、裏面露光光透過性層４中の上記第二の保護層８にあっては支持基板２の辺位置から外方に張り出た張り出し部９を有している。この張り出し部９が版１と取り扱う際の保持部位としたり、版固定枠などへの取付部位として利用されるものである。
Next, the present invention will be described in detail based on the illustrated embodiment.
1 (a) and 1 (b) show examples of forms when the
Each layer constituting the back exposure
また、上記第二の保護膜８の上の版面形成位置には、上記遮光性膜３を後述するようにフォトマスクとして裏面露光法・現像法によって形成した版パターン部１０が、遮光性膜３のパターンに対してネガパターンで、即ち、転写すべきパターンとして設けられていて、これによって版面５が形成されている。版パターン部１０の版材１１は厚みのあるものであり、版パターン部１０を凸状として版面５が凸版構造のものとしている。版材１１自体は裏面露光光透過性である。
図１（ａ）では凸状の版パターン部１０それぞれの表面に転写用インク１２が乗っている状態を示している。後述するように上記遮光性膜３のパターンを利用した裏面露光法・現像法により、図示のごとく版パターン部１０に転写用インク１２が盛られた版１を用いて図示しない被転写基板に対して転写を行ない、転写すべきパターンを転写用インク１２にて被転写基板に形成するものである。
Further, at the plate surface formation position on the second
FIG. 1A shows a state in which the
（支持基材）
本発明において、版１に使用する支持基板２としては、裏面露光光を透過することが、必須である。ここで裏面露光とは、支持基板２側からの露光をいう。露光光は支持基板２の層を通過した後に、遮光性膜３が位置しないパターンに対応した層部分を通過する。裏面露光光として使用可能な光としては、可視光、近赤外光、紫外光、がある。中でも、紫外光が解像度の点で好ましい。特に、いわゆるフォリソグラフィと呼ばれる工法に使用されるキセノンランプ、水銀ランプ、ハロゲンランプが放出する光を透過するものが好ましい。
(Supporting substrate)
In the present invention, it is essential for the
裏面露光光は、一般的には、平行光であることは格別必要でない。従って、露光方法としては、平面型の露光機、例えば印刷の製版用に使用される両面プリンターを使用することができる。また、コンベア型の露光機を使用することができる。しかし、高精細の版が必要な場合には、平行光で露光する方が解像度を高くすることができる。例えば、通常のフォトリソ用に使用されているプロキシミティ型露光機やミラープロジェクション型の露光機を使用することが好ましい。また、線状に平行光を放出するタイプの露光機を使用することができる。例えば、光ファイバーを一列に並べた光源を使用することができる。 In general, the back exposure light is not particularly required to be parallel light. Therefore, as an exposure method, a flat exposure machine, for example, a double-sided printer used for printing plate making can be used. Further, a conveyor type exposure machine can be used. However, when a high-definition plate is required, the resolution can be increased by exposing with parallel light. For example, it is preferable to use a proximity type exposure machine or a mirror projection type exposure machine used for ordinary photolithography. Further, an exposure machine of a type that emits parallel light in a linear form can be used. For example, a light source in which optical fibers are arranged in a row can be used.
裏面露光光に対する透過率は、１００％透過でなくてもよい。版１を再生する場合（後述）に実用的な露光時間で凸部用感光性材料（版パターン部１０の版材１１）を感光硬化することができる程度であればよい。例えば、１０分間以内に感光硬化することができればよい。
実際に使用することができる支持基板２としては、プラスチックフィルム、セラミック板、ガラス板がある。また、それらの組み合わせ（積層、または貼り合わせ）であってもよい。
The transmittance with respect to the back exposure light may not be 100% transmission. When the
Examples of the
支持基板２として使用することができるプラスチックフィルムの種類としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリシクロオレフィンフィルム、２軸延伸ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリ塩化ビニールフィルム、メタクリル−スチレン樹脂フィルム、ポリイミドフィルム、シリコーン樹脂フィルム、フッ素樹脂フィルム、などがある。
The types of plastic film that can be used as the
支持基板２として使用することができるガラス板としては、石英ガラス板、合成石英ガラス板（例えば、ネオセラム板）、液晶パネルに使用される低膨張ガラス板（例えばコーニング社製 イーグル２０００）、プラズマディスプレイパネルに使用される高歪み点ガラス（例えば旭ガラス製 ＰＤ−２００）、などがある。
基本的には、支持基板２の材質として被印刷基板、被転写基板の材質と同じものを使用することが、大サイズの場合、作業環境温度の変化による寸法精度の低下を防止するために有効である。また、入手も容易である。
Examples of the glass plate that can be used as the
Basically, using the same material as the substrate to be printed and the substrate to be transferred as the material of the
支持基板２の厚さには格別の制限がない。例えば、プラズマディスプレイパネルに使用されるガラス板は厚さが現状２．８ｍｍであるが、使用可能である。一方、液晶ディスプレイパネルに使用されるガラス板は、２ｍ角以上のサイズであっても厚さ０．７ｍｍである。取り扱いに際しては下記のように支持枠に取り付けてもよいし、また補強用フィルムを貼り付けてもよい。補強用フィルムが遮光性膜３を保護する保護フィルム（上記裏面露光光透過性層４中の一層であり、例えば上記第二の保護層８が対応）を兼用してもよい。
There is no particular limitation on the thickness of the
版として使用する場合、フィルムのようにそれ自体では広がっていられない支持基板の場合、支持枠に展伸して貼り付けた構造にしてもよい。すなわち、スクリーン印刷の版のように版枠に留める構造であってもよい。もちろん、自立できる強度がある場合には、支持基板単体でもよいし、またさらにスクリーン版の版枠のごときものに留めてもよい。このような枠への貼り付け、留め付けに上記張り出し部９を利用することが可能である。
When used as a plate, in the case of a support substrate that cannot be spread by itself, such as a film, a structure in which the support substrate is spread and attached to a support frame may be used. That is, it may be a structure that is fastened to a plate frame like a screen printing plate. Of course, when the strength is sufficient to be able to stand on its own, the support substrate alone may be used, or it may be held on a screen plate frame. The overhanging
（遮光性膜）
本発明の版１では上記支持基板２の裏面露光光を照射する側でない側に裏面露光光に対して遮光性のあるパターンを形成している。即ち、上記遮光性膜３である。そのパターン、あるいはその逆パターンが印刷または転写を行ないたい所望のパターンである。遮光性膜３の材料としては、以下のものがある。第一に金属膜である。たとえば、通常のフォトマスクに使用されるクロムがガラス基板に対しては密着強度が高く、また自体の膜強度も高く、パターンニングの手法も確立していて、好ましい。
(Light-shielding film)
In the
プラズマディスプレイパネルの前面板に使用される配線パターン材はクロム−銅−クロムの三層である場合があるが、作成した本発明の版１をプラズマディスプレイパネルの製造工程で使用する場合には、クロム成膜−フォトリソ法によるパターン形成装置を共用することができるので好ましい。その成膜装置（通常は電子ビーム蒸着装置）を使用して成膜することができれば、版１をプラズマディスプレイパネルの製造工程で使用する場合にはその装置を版１の遮光性膜の形成に際しても共用することができて、低コスト化に好ましい。大サイズの場合には、他に装置を設置することは経費の点で難しい場合が多いし、ますます基板ガラスの大サイズ化の傾向は増大していくと思われるので、本発明の版が低コスト化に有効になる。
The wiring pattern material used for the front plate of the plasma display panel may be three layers of chromium-copper-chromium, but when the
ここで、装置を共用するといっても、製版に使用する回数はかなり少ない。版の再生が不能になった場合には新規に版を作成する必要があるが、例えば上記転写用の版１を平均１０００回再生した後にこの版全体を廃棄する必要がでるとしても、成膜装置を使用する回数は、全ての再生時に成膜装置を使用してフォトリソ法で処理する従来の版の場合と、再生ごとに、本発明の版の内蔵する遮光性膜のパターンを用いた方法で版パターン部を再生する場合（本発明の版では新規の版の作成に遮光性膜の形成で成膜装置を使用し、再生時には遮光性膜を母型パターンとする）とを比べれば、１０００分の１の回数でよい。
Here, even if the apparatus is shared, the number of times used for plate making is considerably small. When it becomes impossible to regenerate the plate, it is necessary to prepare a new plate. For example, even if it is necessary to discard the entire plate after regenerating the
その他の遮光性膜の金属としてはアルミが例えば液晶ディスプレイパネルのＴＦＴの配線材料に使用されているので、その工程や装置類を使用して版を作成する場合には好ましい。アルミは遮光性はあるが、機械的強度が不足するので、その上に後に述べる第一の保護層を形成することが特に好ましい。保護層としてはＴＦＴの絶縁膜に使用されるシリカがやはり、ＴＦＴの製造工程を使用して形成することができるので好ましい。その他、遮光性膜の金属としては銅、ニッケル、鉄、チタンも使用することができる。この三種の金属は成膜する条件を調整することによって、金属光沢を減らし黒色に近い面とすることができるので、好都合である。 As another metal for the light-shielding film, aluminum is used, for example, as a wiring material for TFTs of liquid crystal display panels. Therefore, it is preferable when a plate is produced by using the process and apparatus. Aluminum has a light shielding property but lacks mechanical strength. Therefore, it is particularly preferable to form a first protective layer described later on the aluminum. As the protective layer, silica used for the insulating film of the TFT is preferable because it can be formed by using the TFT manufacturing process. In addition, copper, nickel, iron, and titanium can also be used as the metal for the light-shielding film. These three types of metals are advantageous because the metallic luster can be reduced and the surface can be made close to black by adjusting the film forming conditions.
遮光性膜３の材料は、金属化合物でもよい。例えば酸化鉄、酸化ニッケル、窒化クロム、窒化チタン、窒化鉄、窒化アルミでもよい。これらの材料については適当なエッチング剤がない場合が多く、一般にフォトリソ法で所望のパターンを形成することが難しいので、リフトオフ法で所望のパターンを形成する。
また、これらの材料は金属クロム膜と共に膜の硬度が高く丈夫なので、以下に述べる第一の保護層を設けなくても、実用上問題ない場合がある。その場合には低コスト化のため第一の保護層の無い構造とする。
さらに、いわゆる黒色インキも使用することができる。高精細のパターンを形成する場合には、感光性のものを使用してフォトリソ法で所望のパターンを形成する。
The material of the
In addition, since these materials have a high hardness and are strong together with the metal chromium film, there is a case where there is no practical problem even if the first protective layer described below is not provided. In that case, a structure without the first protective layer is used for cost reduction.
Furthermore, so-called black ink can also be used. In the case of forming a high-definition pattern, a desired pattern is formed by a photolithographic method using a photosensitive material.
（第一の保護層）
図１（ａ）で図示されているように上記遮光性膜３を覆うようにして支持基板２の上に一様にして形成される保護層（図１（ａ）で図示の第一の保護層６）としては、遮光性であって物理的・化学的に安定であり、下層との接着性が高く機械的強度があるものならよい。先に述べたシリカ膜以外に、マグネシア膜、チタニア膜、アルミナ膜が好ましい。プラズマディスプレイパネルの前面板に使用されるマグネシアをその成膜装置（通常は電子ビーム蒸着装置）を使用して成膜することができれば、版をプラズマディスプレイパネルの製造工程で使用する場合には装置を共用することができて、低コスト化に好ましい。
(First protective layer)
As shown in FIG. 1A, a protective layer uniformly formed on the
（第二の保護層）
第一の保護層の上に、接着剤を介して第二の保護層を設ける目的は保護作用の増加のため、および版の再生を容易にするためである。
従って、第一の保護層と同じく省略してもよい。第二の保護層としては、多少の弾力性があって、遮光膜の損傷を防止する効果があるものが好ましい。また、再生時に除去することが容易で安価な材料が好ましい。実際には、プラスチックフィルムに適したものがある。透明で化学的に安定で機械強度が高く好ましいものとして、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリシクロオレフィンなどのフィルムが第二の保護層の材料として好ましいが、コストを勘案して選定する。
(Second protective layer)
The purpose of providing the second protective layer on the first protective layer via an adhesive is to increase the protective action and to facilitate the reproduction of the plate.
Therefore, it may be omitted as in the first protective layer. As the second protective layer, a layer having some elasticity and effective in preventing damage to the light shielding film is preferable. In addition, an inexpensive material that is easy to remove during regeneration is preferable. In fact, some are suitable for plastic films. As transparent, chemically stable and high mechanical strength, preferable films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polypropylene, polycarbonate, polyimide, polyamide, polyacrylate, polycycloolefin are preferable as the material of the second protective layer. Select in consideration of cost.
（離型性）
上記版１を転写用の版とするには、転写用のインクが硬化した後に、版１の表面が離型性となることが必要である。ここで、離型性であるとは、硬化したインクが他の表面へ接着剤等を介して、転写する際に凝集破壊せず、版とインクの界面から剥離することを言う。
(Releasability)
In order to use the
（版材）
版材１１として使用することができる感光性樹脂としては、第一にアクリル系の樹脂がある。またノボラック樹脂も使用することができる。離型性を向上させるために、シリコーン樹脂やフッ素樹脂を添加することも、転写時に被転写基板へ移行しなければ、または、移行しても問題無い場合には好ましい。
(Print material)
As a photosensitive resin that can be used as the
（凸版構造 図１ａ）
版１の版面の構造が凸版である場合の図１（ａ）に示す構成において、上述した素材などに基づきながら版１の製造を説明する。この場合、凸状としている版パターン部１０の側面もインクが接触するので、離型性である必要がある。
図１（ａ）で示す構成の版１を得るには、例えばプラズマディスプレイパネル用ガラス基板のようなガラス製の支持基板２の上に、転写すべきパターンを得るための母型となる遮光性膜３のパターンを、例えばクロムのような金属膜で形成し、その上全面に第一の保護膜６として、例えばスパッター法で酸化マグネシューム膜を形成し、さらに第二の保護膜８として、例えばポリエステルフィルムを熱可塑性のアクリル系接着剤（接着剤層７）で貼り合わせている。そして、第一の保護層６、接着剤層７、第二の保護層８からなる裏面露光光透過性層４の上で版面形成位置に凸状の版パターン部１０を得るための版材１１はネガ型の感光性のアクリル系樹脂であり、この版材１１を裏面露光光透過性層４の上に一様に塗布形成した後で、前記裏面露光光透過性層４の下にある遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法で形成し、耐薬品性、耐摩耗性を向上するために２３０℃で２０分間加熱処理して版パターン部１０を形成している。
(Letter structure 1a)
In the configuration shown in FIG. 1A when the structure of the plate surface of the
In order to obtain the
上記版１の凸状の版パターン部１０の側面と版１の底面（版パターン部１０の間のパターン部分）は、転写用インクが載らないようにするために撥インク性であることが好ましいが、例えば以下のようにして形成する。
まず、凸状の版パターン部１０まで上述したように形成する。次にポリビニルアルコール−重クロム酸系のネガ型の感光剤を全面に塗布、乾燥して膜を形成する。次に、裏面露光して、凸状の版パターン部１０上のポリビニルアルコール−重クロム酸系の感光剤の膜を硬化する。次に水で、版パターン部１０の側面と版１の底面上のポリビニルアルコール−重クロム酸系の感光剤の膜を除去する。次に、撥インク剤として、例えばフッ素樹脂系のＥＧＣ−１７２０（住友３Ｍ社製）を塗布し、所定の熱処理を行なう。次に、所定の洗浄剤で余分のＥＧＣ−１７２０を洗浄除去し、単分子層とする。その後、アルカリ系の剥離液で凸状の版パターン部１０上のポリビニルアルコール−重クロム酸系の感光剤の膜を、その上のＥＧＣ−１７２０の単分子膜と一緒に剥離除去する。
The side surface of the convex
First, the convex
この版１の用途は、例えばプラズマディスプレイパネルの背面板の電極を形成する際に版として使用する。凸状の版パターン部１０に載せた焼成用銀ペースト（銀インク）を版パターン部１０上で光硬化または溶剤分揮発させて固化してから、ＵＶ硬化性接着剤を使用してプラズマディスプレイパネルの背面用ガラス基板へ転写する。凸状の版パターン部１０へインキングする方法は、通常の凸版へインキングする方法であってもよい。また、裏面露光光で硬化するインクの場合には、版全面へ塗布して、裏面露光によって凸状の版パターン部１０上のインクを硬化し、他の部分のインクを現像除去する方法であってもよい。通常、焼成用銀ペーストにはガラスフリットが入っていて、凸状の版パターン部１０が摩耗する。そのため、再生が容易な版は有用である。
The
（凸版構造 図１ｂ）
図１（ｂ）は、プラスチックフィルム製の支持基板２、例えばポリカーボネートの薄い板の上に、転写すべきパターンを得るための母型となる遮光性膜３として、例えばニッケルの遮光パターンを形成し、その上に保護層１３として、例えばポリカーボネートフィルムを熱可塑性の接着剤（接着剤層７）、例えばＥＶＡ接着剤で貼り合わせ、凸状の版パターン部１０をポジ型の感光性の樹脂、例えばノボッラック樹脂で、遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法・現像法で形成したものである。
この版１の用途は、例えばプラズマディスプレイパネルの前面に取り付ける電磁波シールドフィルムの銀ペーストのパターン形成である。
この図１（ｂ）の版１でも、凸状の版パターン部１０の側面と版１の底面（版パターン部１０の間のパターン部分）は、転写用インクが載らないようにするために撥インク性であることが好ましい。凸状の版パターン部１０の側面と版１の底面を撥インキ性のある部分とするには、例えば感光硬化性のシリコーン樹脂を全面に薄く塗布した後、裏面露光し、未硬化の凸状のパターン部１０上のシリコーン樹脂膜を溶剤で洗浄除去する方法がある。
(Letter structure FIG. 1b)
In FIG. 1B, a nickel light-shielding pattern is formed on a
The use of this
Also in the
（平版構造 図２ａ）
版１の版面の構造が平版である場合を図２（ａ）、（ｂ）に示した。
図２（ａ）に図示の版１にあっては、ガラス板からなる裏面露光光透過性の支持基板２の上に、この版１から被転写材に対して転写すべきパターンを得る上で、また版パターン部１０を得る上で母型となるパターンとした薄い遮光性膜３が設けられている。図２（ａ）では図１（ｂ）の例と同様に前記遮光性膜３が転写すべきパターンのポジパターンとしている。前記遮光性膜３を覆うようにして裏面露光光透過性層４を支持基板２の上に積層している。前記裏面露光光透過性層４は、図１（ａ）で示す裏面露光光透過性層４と同じく複数層で構成されていて、裏面露光光透過性層４での最下層として、遮光膜層３を覆うように支持基板２の上に積層されて遮光膜層３を保護する第一の保護層６があり、この第一の保護層６の上に接着剤層７を介してプラスチックフィルムからなる第二の保護層８が接着されて積層されている。
この裏面露光光透過性層４を構成する各層は裏面露光光を透過させる部材である。また、図１（ａ）で示す例と同じように、上記第二の保護層８に、支持基板２の辺位置から外方に張り出た張り出し部９を有していて、版１を取り扱う際の保持部位としたり、版固定枠などへの取付部位として利用できる。
(Lithographic structure Fig. 2a)
The case where the plate surface structure of the
In the
Each layer constituting the back exposure
また、第二の保護層８の上の版面形成位置には、遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法・現像法によって形成した版パターン部１０が、遮光性膜３のパターンに対してポジパターンで、即ち、転写すべきパターンとして設けられていて、これによって版面５が形成されている。そして図２（ａ）では版パターン部１０それぞれの表面に転写用インク１２が乗っている状態を示している。
Further, at the plate surface formation position on the second
（平版構造 図２ｂ）
図２（ｂ）に図示の版１にあっては、ガラス板からなる裏面露光光透過性の支持基板２の上に、この版１から被転写材に対して転写すべきパターンを得る上で、また版パターン部１０を得る上で母型となるパターンとした薄い遮光性膜３が設けられている。図２（ｂ）では図１（ａ）の例と同様に前記遮光性膜３が転写すべきパターンのネガパターンとしている。前記遮光性膜３を覆うようにして裏面露光光透過性層４を支持基板２の上に積層している。前記裏面露光光透過性層４での最下層として、遮光膜層３を覆うように支持基板２の上に積層されて遮光膜層３を保護する第一の保護層６があり、この第一の保護層６の上に接着剤層７を介してプラスチックフィルムからなる第二の保護層８が接着されて積層されている。
(Lithographic structure Fig. 2b)
In the
また、第二の保護層８の上の版面形成位置には、遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法・現像法によって形成した版パターン部１０が、遮光性膜３のパターンに対してネガパターンで、即ち、転写すべきパターンとして設けられていて、これによって版面５が形成されている。そして図２（ｂ）では版パターン部１０それぞれの表面に転写用インク１２が乗っている状態を示している。
Further, at the plate surface formation position on the second
図２（ａ）（ｂ）で示す各版１は上述したように版面５が平版構造である。平版の場合、非版材部分（版パターン部１０以外の部分が対応する）もインクが接触するので、この非版材部分は撥インク性である必要がある。即ち、撥インク性の層の上に版材部（版パターン部１０が対応する）として親インクパターンを裏面露光法によって形成するか、または親インク性層の上に撥インク性のパターンを同様に裏面露光法によって形成する。平版の場合、形成したパターン部の厚さがうすく、剥がれたりして損傷してしまう場合が多い。そのため容易に再生することができる版は有用である。よって、この平版構造の版１における版パターン部１０以外の部分に後述するように撥インキ性が付与されている。
撥インキ性を付与する材料としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素樹脂＋光触媒がある。
In each
Examples of the material imparting ink repellency include silicone resin, fluororesin, fluororesin + photocatalyst.
図２（ａ）の構造において、転写用のインクが載る版材は第二の保護層８として機能しているプラスチックフィルムの表面が兼用していて、版パターン部１０は実質的に厚さがないと見做せるものとしている。そして、版パターン部１０は転写用の場合には、硬化したインクに対する離型性を有する。硬化インク離型性のプラスチックフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドフィルム、ポリシクロオレフィンフィルム等がある。ただし、使用するインクのビヒクル分によって離型性が異なるので、組み合わせを検討する必要がある。
版パターン部１０の逆パターンである撥インク部１４の形成方法としては、例えば感光性のある撥インク剤、例えば感光性のシリコーン樹脂を、離型性のある上記第二の保護層８の上面全面に塗布して、上記遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光によって硬化し、未硬化のパターン上の部分のシリコーン樹脂を溶剤で洗浄除去する方法がある。また、得るべき正パターンの逆パターンでパターニングされたフォトレジスト膜の除去によって前記正パターンを形成する従来法のリフトオフ法を使用することもできる（図３参照）。
In the structure of FIG. 2A, the plate material on which the transfer ink is placed is also used as the surface of the plastic film functioning as the second
As a method of forming the
インキング方法としては、通常の平版印刷のインキング方法、特に水なし平版のインキング方法を使用することができる。さらにインクとして光分解性のインクを使用すれば、全面にインクを塗布した後に上記遮光性膜８をフォトマスクとして裏面露光し、次に撥インク部のインクを溶解除去することによって、所要のインクパターンを形成することができる。
図２（ｂ）の構造では、版面５において遮光性膜３のパターンに対応する部分が撥インキ部１４になり、インクが載る部分（版パターン部１０のパターン部分）は裏面露光光が透過する構造である。従って、全面に塗布した光硬化性インクを裏面露光光によって硬化し、硬化してないインクを現像除去することができる。これによって所要のインクパターンを形成することができる。
As the inking method, a normal lithographic inking method, particularly a waterless lithographic inking method can be used. Further, if a photodegradable ink is used as the ink, after applying the ink to the entire surface, the backside exposure is performed using the light-shielding
In the structure of FIG. 2B, the portion corresponding to the pattern of the light-shielding
平版構造の版１の版面５をリフトオフ法で形成する工程例を図３に示す。なお、遮光性膜３のパターンに対応する部分に版パターン部を形成するものとし、また、裏面露光光透過性層４は説明を容易にするために一層として図示されている。
図３（ａ）で示すように、裏面露光光透過性層４の上面全面にインク剥離性剤を施して離型性層１５が形成され、その上全面にポジ型感光性樹脂を施し、裏面露光して現像する方法により正パターン（得るべき撥インキ部のパターンを正パターンとする）の逆パターンで、ポジ型感光性樹脂膜１６をパターン形成する。
次に、図３（ｂ）に示すように、撥インク性のフッ素樹脂またはシリコーン樹脂を全面塗布し、硬化させてフッ素樹脂またはシリコーン樹脂の膜１７を形成する。
次に、図３（ｃ）に示すように、逆パターンである上記ポジ型感光性樹脂またはシリコーン樹脂の膜１６を溶解除去する。ポジ型感光性樹脂膜１６の上にあったフッ素樹脂膜１７は共に除去される。これによって版パターン部１０が形成され、版パターン部１０以外の部分は上記撥インキ性剤が表出する撥インキ部１４となる。
ここでフッ素樹脂またはシリコーン樹脂の膜１７の厚さが厚ければ凹版とみなすこともできるが、厚いフッ素樹脂またはシリコーン樹脂の膜により凸状とされた部分の表面が撥インク性の場合はインキングの方法として、いわゆるオフセット印刷法に使用されるインキング法を用いることができる。その意味でこの版１を平版（オフセット版）とみなすことができる。
FIG. 3 shows an example of a process for forming the
As shown in FIG. 3A, an ink release agent is applied to the entire upper surface of the back exposure
Next, as shown in FIG. 3B, an ink-repellent fluororesin or silicone resin is applied over the entire surface and cured to form a fluororesin or
Next, as shown in FIG. 3C, the
Here, if the thickness of the fluororesin or
（凹版構造）
版１の版面５の構造が凹版である場合を図４（ａ）（ｂ）に示した。図４（ａ）で示す版１では、ガラス製の裏面露光光透過性の支持基板２の上に、この版１から被転写材に対して転写すべきパターンを得る上で、また再生の版パターン部を得る上で母型となるパターンとした薄い遮光性膜３が設けられていて、この遮光性膜３は転写すべきパターンのポジパターンとしている。また、前記遮光性膜３を覆うようにして裏面露光光透過性層４を前記支持基板２の上に積層している。前記裏面露光光透過性層４は、図１（ａ）で示す例と同じように最下層から、前記遮光膜層３を覆うように支持基板２の上に積層されて前記遮光膜層３を保護する第一の保護層６と、接着剤層７と、プラスチックフィルムからなる第二の保護層８が接着されて積層されている。
また、上記第二の保護膜８の上の版面形成位置には、上記遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法・現像法によって形成した版パターン部１０が、遮光性膜３のパターンに対してネガパターン（即ち、転写すべきパターン）として設けられていて、これによって版面５が形成されている。凹状の版パターン部１０を得るための版材１１は凸状である。
図４（ｂ）では凹状の版パターン部１０それぞれに転写用インク１２が載っている状態を示している。転写用インク１２の上面が凸状の版材１１の上面と同じ高さになっているが、この必要はなく、転写用インク１２の上面が凸状の版材１１の上面より低くても、逆に高くても構わない。
(Intaglio structure)
A case where the structure of the
Further, at the plate surface formation position on the second
FIG. 4B shows a state in which the
凹版構造の場合、凸状の版材１１の表面は撥インク性であることが好ましいが、インキングの方法によっては、必ずしも撥インク性でなくてもよい。転写用版の場合には、凸状の版材１１の側面および版パターン部１０の底面は、硬化インクに対して離型性であることが必要である。
In the case of an intaglio structure, the surface of the
（再生）
上述した凸版構造、平版構造、凹版構造のそれぞれの版１の再生としては、第一に、パターン形成されている版材１１を除去する方法がある。版材１１として感光硬化性のアクリル系樹脂、ノボラック樹脂を使用した場合は、例えば６０℃の水酸化ナトリウムの１０ｗｔ％の水溶液中に２０分間浸漬したのち、水中でブラシ洗浄して、アクリル系樹脂を剥がし落とす。感光性樹脂の種類によっては有機溶剤によって膨潤させ剥がし落とす方法も有効な場合がある。
一方、リフトオフ法で印刷、転写パターンが形成されている場合については、同様のアルカリ処理をしたり、酸処理したりする。
(Regeneration)
As the reproduction of each
On the other hand, when printing and transfer patterns are formed by the lift-off method, the same alkali treatment or acid treatment is performed.
第二の方法としては第二の保護層も除去し、再生する方法がある。その場合、上述した凸版構造、平版構造、凹版構造のそれぞれの版１における第二の保護層８のプラスチックフィルムの接着剤としては、熱可塑性のものを使用することが好ましく、その場合にはプラスチックフィルムの剥離方法は容易であって、所定温度に加熱すれよい。接着剤成分が充分柔軟になった時点で、引き離せばよい。熱可塑性接着剤であって、裏面露光光を透過するものとしては、ポリエステル系接着剤、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリアミド系樹脂、ＥＶＡ系接着剤などがある。接着力が不足する場合には、使用する接着剤と被接着物に適したプライマーを用いる。
第一の方法と第二の方法の中間の方法がある。例えば版パターン部１０と離型性層を除去し再生する方法がある。
As a second method, there is a method of removing and regenerating the second protective layer. In that case, it is preferable to use a thermoplastic material as an adhesive for the plastic film of the second
There is an intermediate method between the first method and the second method. For example, there is a method in which the
上述した凸版構造、平版構造、凹版構造のそれぞれの版１を再生する方法は、再生する対象の版１の版パターン部１０を上述のようにして除去した後に、版面形成位置に感光性の版材を膜状に形成し、裏面露光光透過性層４の下位にある遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性の版材を露光し、現像して版パターン部を形成する方法がある。
また、別の方法としては、版パターン部を除去した後の再生に際して、同様に、版面形成位置に感光性材料を膜状に形成し、上記遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性材料を露光し、現像して形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、前記感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法で版パターン部を形成する方法がある。
In the method of reproducing the
Further, as another method, at the time of reproduction after removing the plate pattern portion, similarly, a photosensitive material is formed in a film shape at the plate surface formation position, and the light-shielding
また、再生する対象の版１の裏面露光光透過性層４の上から版パターン部１０と離型性層１５とを除去したものにあっては、裏面露光光透過性層４の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層１５を設け、この離型性層１５の上の版面形成位置に感光性の版材を膜状に形成し、遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性の版材を露光し、現像して版パターン部１０を形成する方法がある。
さらに、別の方法として、再生する対象の版１の裏面露光光透過性層４の上から版パターン部１０と離型性層１５とを除去したものにあっては、前記裏面露光光透過性層４の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層１５を設け、この離型性層１５の上の版面形成位置に感光性材料を膜状に形成し、遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性材料を露光し、現像して形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、前記感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法で版パターン部１０を形成する方法がある。
Further, in the case where the
Further, as another method, in the case where the
また、再生する対象の版１の版パターン部１０と離型性層１５と保護層８とを除去したものにあっては、上記遮光性膜３を覆うようにして保護層８を設け、この保護層８の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層１５を設け、この離型性層１５の上の版面形成位置に感光性の版材１１を膜状に形成し、遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法によって前記感光性の版材１１を露光し、現像して版パターン部１０を形成する方法がある。
さらに、別の方法として、再生する対象の前記版の版パターン部１０と離型性層１５と保護層８とを除去したものにあっては、上記遮光性膜３を覆うようにして保護層８を設け、この保護層８の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層１５を設け、この離型性層１５の上の版面形成位置に感光性材料を膜状に形成し、遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法によって前記感光性材料を露光し、現像して形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、前記感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法で版パターン部１０を形成する方法がある。
このように第二の保護層８およびこの第二の保護層８から上位である部分を分離しても、支持基材２側に遮光性膜３が存在しているため、新規なプラスチックフィルムを接着して再び第二の保護層８を形成した後、遮光性膜３を母型として版パターン部１０を形成できる。なお、裏面露光光透過性層４中、第二の保護層８を除去する例を示したが、裏面露光光透過性層４が多層である場合、この裏面露光光透過性層４中の最上位層のみの除去に限定されるものではない。
Further, in the case where the
Further, as another method, in the case where the
Thus, even if the second
以上のように再生する範囲は種々あり得るが、製品の品質や必要なコストを勘案して、再生する範囲を決定する。
本発明の方法は、印刷または転写するパターンをフォトマスクとして内蔵する版を用いることに第一の特徴があり、裏面露光の方法によって、内蔵しているフォトマスクのパターンを版材のパターンとして形成することに第二の特徴がある。そして、摩滅や損傷によって使用できなくなった場合、傷んだ部分を除去して、再生することに第三の特徴がある。
As described above, there are various reproduction ranges, but the reproduction range is determined in consideration of product quality and necessary cost.
The method of the present invention has a first feature in using a plate containing a pattern to be printed or transferred as a photomask, and the built-in photomask pattern is formed as a plate material pattern by a backside exposure method. There is a second feature. And when it becomes unusable due to wear or damage, the third feature is to remove the damaged part and regenerate it.
（版の作成 図５）
本発明の版１において、カラーフィルタを転写法で作成するための転写用凹版として作成した工程を、図５に基づいて以下に述べる。
図５（ａ）
支持基板２にはカラーフィルタ用のガラス基板ａ（コーニング社製イーグル２０００、サイズ１５００×１８００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）を用いた。薄くて取り扱いに工夫が必要であるが、熱膨張率が被転写基板が同じカラーフィルタ用のガラス基板であり熱膨張率が同一なので、作業環境温度が変化しても寸法精度を維持することが比較的容易である。
このガラス基板ａの一面全面にアルミを１μｍ厚さで蒸着してアルミ膜ｂを形成した。蒸着装置は液晶表示装置のカラーフィルタ側基板の対向基板であるＴＦＴマトリクスアレー側の基板にアルミ電極部を形成する際に使用する装置を使用した。
図５（ｂ）
次に、上記アルミ膜ｂをフォトリソ法でパターンニングするために、その上にアルミエッチング用のポジ型フォトレジストｃとしてＰＭＥＲ−Ｐ（東京応化製）を乾燥厚さ２μｍ塗布し、乾燥した。塗布装置は同じくＴＦＴアレー側を形成する際に使用する装置を使用した。
図５（ｃ）
次に、被転写基材に転写すべきパターン、即ち、カラーフィルタのＲ、Ｇ、Ｂ三色のパターンを透過部ｄ、そのネガパターンを遮光部ｅとしたフォトマスクｆを用いてＵＶ光ｇにより上記ポジ型フォトレジストｃを露光した。
図５（ｄ）
次に、現像液ｈにて上記ポジ型フォトレジストｃを現像し、転写すべきパターンに対応する部分のアルミ膜ｂを表出させ、その他の部分にポジ型フォトレジストｃを残した。
図５（ｅ）
次に、表出していたアルミ膜ｂをエッチング液ｉを用いてエッチングした。
図５（ｆ）
次に、転写すべきパターンのネガパターンで残っていた上記ポジ型フォトレジストｃを剥離除去した。これによりアルミ膜ｂの遮光性膜３を得た。
(Create plate Fig. 5)
In the
FIG.
A glass substrate a for color filter (Eagle 2000 manufactured by Corning, size 1500 × 1800 mm, thickness 0.7 mm) was used as the
Aluminum was deposited on the entire surface of the glass substrate a to a thickness of 1 μm to form an aluminum film b. The vapor deposition apparatus used was an apparatus used when forming an aluminum electrode portion on a substrate on the TFT matrix array side, which is the opposite substrate of the color filter side substrate of the liquid crystal display device.
FIG.
Next, in order to pattern the aluminum film b by a photolithographic method, PMER-P (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) as a positive photoresist c for aluminum etching was applied to a dry thickness of 2 μm and dried. As the coating apparatus, the same apparatus used for forming the TFT array side was used.
FIG. 5 (c)
Next, UV light g is applied using a photomask f having a pattern to be transferred to the substrate to be transferred, that is, a color filter R, G, B pattern of three colors as a transmission part d and a negative pattern as a light shielding part e. Then, the positive photoresist c was exposed.
FIG. 5 (d)
Next, the positive photoresist c was developed with a developer h to expose a portion of the aluminum film b corresponding to the pattern to be transferred, and left the positive photoresist c in the other portions.
FIG. 5 (e)
Next, the exposed aluminum film b was etched using an etching solution i.
FIG.
Next, the positive photoresist c remaining in the negative pattern of the pattern to be transferred was peeled off. Thereby, the light-shielding
上記露光、現像、エッチング、剥膜も同様にＴＦＴアレー側基板を形成する際に使用する装置を使用した。アルミ膜のパターンとして、カラーフィルタの遮光膜部（ＢＭ）のパターンを残した。色材部分のＢＭは線幅２０μｍ、ドットピッチは１００μｍである。 For the exposure, development, etching, and film removal, the same apparatus used for forming the TFT array side substrate was used. The pattern of the light shielding film part (BM) of the color filter was left as the pattern of the aluminum film. The BM of the color material portion has a line width of 20 μm and a dot pitch of 100 μm.
図５（ｇ）
遮光性膜３を覆うようにしてガラス基板ａの上に、第一の保護層６として厚さ２０００Åの窒化珪素および１０００Åの酸化珪素ｊをスパッター装置を使用して積層した。いずれも同様にＴＦＴアレーを形成するための装置を使用した。
図５（ｈ）
さらにその上に２０μｍのポリエステル（ポリエチレンテレフタレート）フィルムｋを熱可塑性ポリエステル系接着剤ｌ（東洋紡製 バイロン３００）を使用して貼り付けた。接着剤の厚さは１５μｍとした。
図５（ｉ）
さらに離型性膜１５としてフォトリソ法用のカラーフィルタレジストのＵＶ硬化性のアクリル系ビヒクル成分ｍを全面に乾燥厚さ１０μｍに塗布し、ＵＶ硬化した。
図５（ｊ）
さらにその上に、ノボラック系ポジ型の遮光性塗料ｎを乾燥厚さ２μｍになるようにスリットコータで塗布し、乾燥した。この遮光性塗料ｎは加熱処理するとＵＶ硬化した感光性アクリル樹脂系のカラーフィルタ用ＢＭ材に対して、離型性を発現する。
図５（ｋ）
裏面（支持基板側の面）から低圧水銀灯を使用して全面に、３０００ミリジュール／ｃｍ２での裏面露光光ｏにより露光した。ここで、アルミ膜ｂ（遮光性膜３）がフォトマスクの役割をする。
図５（ｌ）
所定の現像液を使用しスプレー現像・水洗・乾燥して遮光性塗料ｎのパターンを得た。この部分が凹版での版材１１である。
以上のようにして、凹版転写法によってカラーフィルタの色材部分を形成するための、再生が容易な版１を形成した。
なお、この版を用いて版のＲ、Ｇ、Ｂに対応する各部分をにインクジェット法でＲ、Ｇ、Ｂの色材インクを充填し、固化した後、接着剤を介してカラーフィルタ用ガラス基板に転写してカラーフィルタを形成する。
FIG. 5 (g)
A silicon nitride layer having a thickness of 2000 mm and a silicon oxide layer j having a thickness of 1000 mm were laminated as the first
FIG. 5 (h)
Further, a 20 μm polyester (polyethylene terephthalate) film k was attached thereon using a thermoplastic polyester adhesive l (Toyobo's Byron 300). The thickness of the adhesive was 15 μm.
FIG. 5 (i)
Further, a UV curable acrylic vehicle component m of a color filter resist for photolithographic method was applied to the entire surface as a
FIG. 5 (j)
Further, a novolac positive-type light-shielding coating material n was applied thereon with a slit coater to a dry thickness of 2 μm and dried. The light-shielding paint n exhibits releasability with respect to the UV-cured photosensitive acrylic resin-based color filter BM material when heat-treated.
FIG. 5 (k)
The entire surface was exposed from the back surface (the surface on the support substrate side) using a low pressure mercury lamp with the back surface exposure light o at 3000 millijoules / cm 2 . Here, the aluminum film b (light-shielding film 3) serves as a photomask.
FIG. 5 (l)
Using a predetermined developer, spray development, washing with water, and drying were performed to obtain a pattern of light-shielding paint n. This portion is a
As described above, the easily regenerated
The plate is filled with R, G, and B color material inks by ink jet method on the portions corresponding to R, G, and B of the plate, solidified, and then color filter glass through an adhesive. A color filter is formed by transferring to a substrate.
つぎにカラーフィルタの遮光部分（ＢＭ部分）を同様の版を用いて形成する例を述べる。
図５（ｃ）に示す工程において、内蔵する遮光性膜３を形成するためのフォトマスクｆとして、カラーフィルタの遮光部に対応する部分が光透過パターン（透過部ｄ）であるものを使用すれば、できあがる版１は、その版面においてカラーフィルタの遮光部に相当する部分が凹部であり、裏面露光光が透過する部分となる。この版１を使用して、カラーフィルタの遮光部を図６のようにして形成することができる。即ち、遮光部用のＢＭインクを全面に塗布し、裏面露光によって、凹部のインクを硬化し、次に凸部上のインクを現像除去し、接着剤を使用してカラーフィルタ用ガラス基板へ転写する方法である。
Next, an example in which the light shielding portion (BM portion) of the color filter is formed using the same plate will be described.
In the step shown in FIG. 5C, as the photomask f for forming the light-shielding
（インクの転写 図６）
上述した転写用凹版とした版１を使用して、図６に示す工程でインクジェット法用カラーフィルタの遮光部を形成した。
図６（ａ）
版面５においてカラーフィルタの遮光部に対応する部分が凹状の版パターン部１０として形成された版１を用意した。
図６（ｂ）
上記版１の版面５に光硬化撥インク性剤ｐを塗布して薄膜に形成し、裏面露光した。
図６（ｃ）
次に、親インク性ＢＭ剤（ブラックマトリックス剤）ｑを全面に塗布した後、ＵＶ光ｇにより裏面露光した。露光量は、親インク性ＢＭ剤ｑが版パターン部１０の内部の底面側のみで硬化するように調整した。
ここで撥インク性とはカラーフィルタのインクジェット用色材インクに対して、撥インク性であることを意味する。また親インク性についても同様である。
図６（ｄ）
親インク性ＢＭ剤用の現像液で現像して、未硬化の親インク性ＢＭ剤を除去し、さらに同様して未硬化の撥インク性剤ｐを除去した。
図６（ｅ）
次に、カラーフィルタ用基板ｒと版１との間に接着剤ｓを挟み込み、この状態でＵＶ光ｇにて上面から露光して接着剤ｓを硬化させた。
図６（ｆ）
カラーフィルタ用基板ｒと版１とを引き離した。これにより版パターン部１０で硬化していた親インク性ＢＭ剤ｑと光硬化撥インク剤ｐをカラーフィルタ用基板ｒに同時転写した。
(Ink transfer Fig. 6)
Using the
FIG. 6 (a)
A
FIG. 6 (b)
A photocuring ink repellent agent p was applied to the
FIG. 6 (c)
Next, an ink-philic BM agent (black matrix agent) q was applied to the entire surface, and then backside exposure was performed with UV light g. The exposure amount was adjusted so that the ink-philic BM agent q was cured only on the bottom side inside the
Here, the ink repellency means ink repellency with respect to the color material ink for ink jet of the color filter. The same applies to ink affinity.
FIG. 6 (d)
Development was carried out using a developer for an ink-philic BM agent to remove the uncured ink-philic BM agent, and the uncured ink repellent p was similarly removed.
FIG. 6 (e)
Next, the adhesive s was sandwiched between the color filter substrate r and the
FIG. 6 (f)
The color filter substrate r and the
（転写用凹版の再生１）
図５で示す転写用凹版（版１）を用いて図６で示す工程によりカラーフィルタの遮光部を形成を繰り返した。そして、転写用凹版の凸状の版材１１が摩滅してきたので、以下の工程（１）〜（３）で凸状の版材１１を再生した。
（１）凸状の版材を剥離するために、水酸化ナトリウムの１０％水溶液を６０℃とし、その中へ再生したい転写用凹版（版１）を２０分間浸漬した。
（２）その後、転写用凹版を取り出して、水を用いてブラシ洗浄して、凸状の版材を剥離し、乾燥した。
（３）次に、図５（ｊ）から（ｌ）の工程を順次行い、再生を完了した。
(Reproduction of intaglio for transfer 1)
Using the transfer intaglio (plate 1) shown in FIG. 5, the formation of the light-shielding portion of the color filter was repeated by the process shown in FIG. And since the
(1) In order to peel off the convex plate material, a 10% aqueous solution of sodium hydroxide was brought to 60 ° C., and the transfer intaglio (plate 1) to be regenerated was immersed in it for 20 minutes.
(2) Thereafter, the intaglio plate for transfer was taken out, washed with water with a brush, and the convex plate material was peeled off and dried.
(3) Next, the steps from FIG. 5 (j) to (l) were sequentially performed to complete the reproduction.
（転写用凹版の再生２）
図５で示す転写用凹版（版１）を用いて図６で示す工程によりカラーフィルタの遮光部を形成を繰り返した。そして、凹部底部の離型性層が傷つき、離型できなくなったので、以下の工程（１）〜（３）でこの転写用凹版を以下の工程（１）〜（３）で再生した。
（１）酸化珪素とポリエステルフィルムを接着している熱可塑性接着剤を、該転写用凹版を１３０℃に加熱して柔軟な状態とし、ポリエステルフィルムを引き剥がした。
（２）新たにポリエステルフィルムを用意し、図５（ｈ）と同様にして貼り付けた。熱可塑性の接着剤を使用しているので、ガラス板側に残存していた接着剤もラミネートによって、新規に追加した接着剤と一体になり、均一な厚さの接着剤層となった。
（３）次に、図５（ｉ）から（ｌ）の工程を順次行い、再生を完了した。
(Reproduction of intaglio for transfer 2)
Using the transfer intaglio (plate 1) shown in FIG. 5, the formation of the light-shielding portion of the color filter was repeated by the process shown in FIG. Then, since the release layer at the bottom of the concave portion was damaged and could not be released, the transfer intaglio was reproduced in the following steps (1) to (3) in the following steps (1) to (3).
(1) The intaglio for transfer was heated to 130 ° C. to make the thermoplastic adhesive that bonds silicon oxide and the polyester film flexible, and the polyester film was peeled off.
(2) A polyester film was newly prepared and pasted in the same manner as in FIG. Since a thermoplastic adhesive is used, the adhesive remaining on the glass plate side is also integrated with the newly added adhesive by lamination, thereby forming an adhesive layer having a uniform thickness.
(3) Next, the steps from FIG. 5 (i) to (l) were sequentially performed to complete the reproduction.
以上に示したように、この転写用凹版を作成する工程で使用する真空成膜装置、高精細露光装置等の高価な装置はＴＦＴアレー側を形成するための装置を使用している。また、レジスト塗布や現像装置もＴＦＴアレー側を形成するための装置を使用することができる。その他に使用する装置は、ラミネータ、単純なＵＶ照射装置であり、いずれも安価な装置である。また、取り扱い方法も（工程も）簡単である。
また、再生に使用する装置は、ＴＦＴアレー側を形成するのに使用する装置以外は、浸漬装置（浴槽）、加熱装置程度であり、単純な安価な装置である。 従って、液晶表示パネルを製造する工場において、ＴＦＴアレイ側を製造する装置や技術を使用することによって、低コストで転写用凹版を作成し、また再生することができる。さらには、再生は、簡単な装置と容易な技術を有すれば可能であるので、最初の転写用凹版を入手することができれば、ＴＦＴアレイ側を製造する工場でなくても可能である。このようにして再生することができる版の寿命は、通常の取り扱いにおいて転写回数が１０００回を越えるので、ＴＦＴアレイ側を製造する工程を使用する場合、その負荷は非常に小さく、ＴＦＴアレイ側基板の生産の妨げとならない。従って、転写用凹版を製造するための専用の真空成膜装置、高精細露光装置を必要としない。そのため低コスト化に非常に有効である。
As described above, an expensive apparatus such as a vacuum film forming apparatus and a high-definition exposure apparatus used in the process of forming the intaglio for transfer uses an apparatus for forming the TFT array side. Also, a resist coating and developing device can be used for forming the TFT array side. Other devices used are a laminator and a simple UV irradiation device, both of which are inexpensive. Moreover, the handling method (the process) is also simple.
Moreover, the apparatus used for the reproduction is a dipping apparatus (bathtub) or a heating apparatus other than the apparatus used for forming the TFT array side, and is a simple and inexpensive apparatus. Therefore, in a factory that manufactures a liquid crystal display panel, a transfer intaglio can be produced and reproduced at low cost by using an apparatus and technology for manufacturing the TFT array side. Furthermore, since reproduction can be performed with a simple device and easy technology, if the first intaglio plate for transfer can be obtained, it is possible even without a factory that manufactures the TFT array side. The life of the plate that can be reproduced in this way is that the number of times of transfer exceeds 1000 in normal handling, so when using the process of manufacturing the TFT array side, the load is very small, and the TFT array side substrate Will not interfere with production. Accordingly, there is no need for a dedicated vacuum film forming apparatus or high-definition exposure apparatus for manufacturing the transfer intaglio. Therefore, it is very effective for cost reduction.
さらには、カラーフィルタ側基板とＴＦＴアレイ側基板のパターンは同一の寸法で形成されていることが必要である。そのためには使用する露光装置がカラーフィルタ側とＴＦＴアレイ側で同じことが好ましい。通常のフォトリソ工程でカラーフィルタを作成する場合にはこれは無理であるが、本発明の版を使用する方法では可能である。 Furthermore, the pattern of the color filter side substrate and the TFT array side substrate must be formed with the same dimensions. For this purpose, it is preferable that the exposure apparatus to be used is the same on the color filter side and the TFT array side. This is impossible when a color filter is formed by a normal photolithography process, but it is possible with the method using the plate of the present invention.
印刷用版や転写用版において、裏面露光が可能な材料で形成できる場合であって、さらに再生するほうが安価な場合に使用することができる。本発明の版において、再生する方が安価になる場合とは、版に所望のパターンを形成する工程が高コストのフォトリソ装置、工程である場合である。版の支持基板としてガラス、石英ガラス、透明セラミックを使用する場合には、高精細パターンで、大面積の場合が特に有効である。一方、裏面露光光に対して透明な支持基板として透明なプラスチックフィルムを使用する場合には、パターンの寸法精度は低い。
印刷版の形式としては、凸版、平版（平凸版、平凹版）、凹版のいずれであってもよい。
また、形状としては、透明セラミック支持基板の場合、平板状、円筒状、半月状がある。一方、プラスチックフィルム支持基板の場合には、シート状、ベルト状があり、多くの場合、使用時には何らかの背圧印加治具を使用する必要がある。
転写の場合についての説明が主であったが、インクが版上に残る印刷においても、版の摩耗やキズの発生が多い場合には、本発明の版は有用な版である。
In a printing plate or a transfer plate, it can be used when it can be formed of a material that can be exposed to the back surface, and when it is cheaper to regenerate. In the plate of the present invention, the case where it is cheaper to reproduce means that the step of forming a desired pattern on the plate is a high-cost photolithography apparatus and step. When glass, quartz glass, or transparent ceramic is used as a plate support substrate, a high-definition pattern and a large area are particularly effective. On the other hand, when a transparent plastic film is used as a support substrate that is transparent to back exposure light, the dimensional accuracy of the pattern is low.
The form of the printing plate may be any of a relief plate, a planographic plate (a plano relief plate, a plano-concave plate), and an intaglio plate.
The shape of the transparent ceramic support substrate includes a flat plate shape, a cylindrical shape, and a half moon shape. On the other hand, in the case of a plastic film support substrate, there are a sheet shape and a belt shape. In many cases, it is necessary to use some back pressure applying jig at the time of use.
Although the explanation was mainly about the transfer, the plate of the present invention is a useful plate in the case where the plate is often worn or scratched even in printing in which the ink remains on the plate.
１…版
２…支持基板
３…遮光性膜
４…裏面露光光透過性層
５…版面
６…第一の保護層
７…接着剤層
８…第二の保護層
１０…版パターン部
１１…版材
１２…転写用インク
１３…保護層
１４…撥インキ部
１５…離型性層
１６…ポジ型感光性樹脂膜
１７…フッ素樹脂膜
DESCRIPTION OF
Claims (20)
少なくとも裏面露光光透過性の支持基板の上に、印刷または転写すべきパターンのポジパターンまたはネガパターンにして裏面露光光遮光性の遮光性膜が設けられ、
前記遮光性膜を覆うようにして前記支持基板の上に裏面露光光透過性層が積層され、
前記裏面露光光透過性層の上に位置する版面に、前記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法・現像法によって形成してなる版パターン部が設けられていることを特徴とする版。 A plate used for printing ink for printing or transferring ink for transfer,
On at least a back exposure light transmissive support substrate, a back exposure light shielding film is provided as a positive pattern or a negative pattern of a pattern to be printed or transferred,
A back exposure light transmissive layer is laminated on the support substrate so as to cover the light shielding film,
A plate having a plate pattern formed by a back exposure method and a development method using the light-shielding film as a photomask on a plate surface located on the back exposure light transmitting layer.
少なくとも裏面露光光透過性の支持基板の上に、印刷または転写すべきパターンのポジパターンまたはネガパターンにして裏面露光光遮光性の遮光性膜が設けられ、
前記遮光性膜を覆うようにして前記支持基板の上に裏面露光光透過性層が積層され、
前記裏面露光光透過性層の上に位置する版面に、前記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法・現像法によって形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、該感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法により形成してなる版パターン部が設けられていることを特徴とする版。 A plate used for printing ink for printing or transferring ink for transfer,
On at least a back exposure light transmissive support substrate, a back exposure light shielding film is provided as a positive pattern or a negative pattern of a pattern to be printed or transferred,
A back exposure light transmissive layer is laminated on the support substrate so as to cover the light shielding film,
A pattern of the photosensitive material is formed by reversing the pattern layer of the photosensitive material formed by the back exposure method / development method using the light-shielding film as a photomask on the plate surface positioned on the back exposure light transmissive layer. A plate having a plate pattern portion formed by a lift-off method for dissolving and removing a layer.
再生する対象の前記版の版パターン部を除去した後に、版面形成位置に感光性の版材を膜状に形成し、上記裏面露光光透過性層の下位にある上記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性の版材を露光し、現像して版パターン部を形成することを特徴とする版の再生方法。 A method for reproducing a plate according to any one of claims 1 to 12, comprising:
After removing the plate pattern portion of the plate to be reproduced, a photosensitive plate material is formed in a film shape at the plate surface formation position, and the light-shielding film below the back exposure light transmitting layer is used as a photomask. A method for regenerating a plate, wherein the photosensitive plate material is exposed by a backside exposure method and developed to form a plate pattern portion.
再生する対象の前記版の版パターン部を除去した後に、版面形成位置に感光性材料を膜状に形成し、上記裏面露光光透過性層の下位にある上記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性材料を露光し、現像して形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、前記感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法で版パターン部を形成する版の再生方法。 A method for reproducing a plate according to any one of claims 1 to 12, comprising:
After removing the plate pattern portion of the plate to be reproduced, a photosensitive material is formed in a film shape at the plate surface formation position, and the back exposure is performed using the light-shielding film below the back exposure light transmitting layer as a photomask. Reproduction of plate for forming plate pattern portion by lift-off method by dissolving and removing pattern layer of photosensitive material by reversing pattern layer of photosensitive material formed by exposing and developing photosensitive material by method Method.
再生する対象の前記版の裏面露光光透過性層の上から版パターン部と離型性層とを除去した後に、前記裏面露光光透過性層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層を設け、この離型性層の上の版面形成位置に感光性の版材を膜状に形成し、前記裏面露光光透過性層の下位にある上記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性の版材を露光し、現像して版パターン部を形成することを特徴とする版の再生方法。 A method for reproducing a plate according to any one of claims 6 to 12, comprising:
After the plate pattern portion and the release layer are removed from the back exposure light transmissive layer of the plate to be reproduced, the hardened transfer ink is separated on the back exposure light transmissive layer. The light-shielding film provided in the lower layer of the back-surface-exposed light-transmitting layer, wherein a release layer having a mold property is provided, a photosensitive plate material is formed in a film shape at a plate surface formation position on the release layer A method for regenerating a plate, comprising exposing the photosensitive plate material by a backside exposure method using a photomask as a photomask and developing the plate pattern portion.
再生する対象の前記版の裏面露光光透過性層の上から版パターン部と離型性層とを除去した後に、前記裏面露光光透過性層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層を設け、この離型性層の上の版面形成位置に感光性材料を膜状に形成し、前記裏面露光光透過性層の下位である上記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性材料を露光し、現像して形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、前記感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法で版パターン部を形成する版の再生方法。 A method for reproducing a plate according to any one of claims 6 to 12, comprising:
After the plate pattern portion and the release layer are removed from the back exposure light transmissive layer of the plate to be reproduced, the hardened transfer ink is separated on the back exposure light transmissive layer. A mold release layer having a moldability is provided, a photosensitive material is formed in a film shape at a plate surface formation position on the mold release layer, and the light shielding film, which is a lower layer of the back exposure light transmissive layer, is exposed to a photo. The photosensitive material is exposed as a mask by the backside exposure method and developed to form a reverse pattern of the pattern layer of the photosensitive material formed, and a plate pattern portion is formed by a lift-off method that dissolves and removes the pattern layer of the photosensitive material. How to play the version you want.
再生する対象の前記版の版パターン部と離型性層と保護層とを除去した後、上記遮光性膜を覆うようにして保護層を設け、この保護層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層を設け、この離型性層の上の版面形成位置に感光性の版材を膜状に形成し、前記保護層の下位である前記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって前記感光性の版材を露光し、現像して版パターン部を形成することを特徴とする版の再生方法。 A method for reproducing a plate according to any one of claims 7 to 12, comprising:
After removing the plate pattern portion, the release layer and the protective layer of the plate to be reproduced, a protective layer is provided so as to cover the light shielding film, and the cured transfer ink is formed on the protective layer. The light-shielding film, which is a lower layer of the protective layer, is provided with a releasable layer having releasability, and a photosensitive plate material is formed in a film shape at a plate surface forming position on the releasable layer. A method for regenerating a plate, comprising exposing the photosensitive plate material by a backside exposure method using a photomask as a photomask and developing to form a plate pattern portion.
再生する対象の前記版の版パターン部と離型性層と保護層とを除去した後、上記遮光性膜を覆うようにして保護層を設け、この保護層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層を設け、この離型性層の上の版面形成位置に感光性材料を膜状に形成し、前記保護層の下位である前記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって前記感光性材料を露光し、現像して形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、前記感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法で版パターン部を形成する版の再生方法。 A method for reproducing a plate according to any one of claims 7 to 12, comprising:
After removing the plate pattern portion, the release layer and the protective layer of the plate to be reproduced, a protective layer is provided so as to cover the light shielding film, and the cured transfer ink is formed on the protective layer. A releasable layer having releasability is provided, and a photosensitive material is formed in a film shape on the plate surface forming position on the releasable layer, and the light-shielding film, which is a lower layer of the protective layer, is formed into a photo The photosensitive material is exposed as a mask by the backside exposure method, and developed to form a reverse pattern of the pattern layer of the photosensitive material formed, and a plate pattern portion is formed by a lift-off method that dissolves and removes the pattern layer of the photosensitive material. How to play the version you want.
再生する対象の前記版の少なくとも一つの保護層とこの保護層から上位の層とを除去した後、上記遮光性膜の上にこの遮光性膜を覆う一層以上の保護層を設け、最上位の保護層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層を設け、この離型性層の上の版面形成位置に感光性の版材を膜状に形成し、前記保護層の下位である前記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって該感光性の版材を露光し、現像して版パターン部を形成することを特徴とする版の再生方法。 A method for reproducing a plate according to any one of claims 8 to 12, comprising:
After removing at least one protective layer of the plate to be reproduced and the upper layer from the protective layer, one or more protective layers covering the light-shielding film are provided on the light-shielding film. On the protective layer, a releasable layer having releasability with respect to the cured transfer ink is provided, and a photosensitive plate material is formed in a film shape at a plate surface forming position on the releasable layer, A method for regenerating a plate, comprising exposing the photosensitive plate material by a backside exposure method using the light-shielding film below the protective layer as a photomask, and developing to form a plate pattern portion.
再生する対象の前記版の少なくとも一つの保護層とこの保護層から上位の層とを除去した後、上記遮光性膜の上にこの遮光性膜を覆う一層以上の保護層を設け、最上位の保護層の上に、硬化した転写用インクに対して離型性を有する離型性層を設け、この離型性層の上の版面形成位置に感光性材料を膜状に形成し、前記保護層の下位である前記遮光性膜をフォトマスクとして裏面露光法によって前記感光性材料を露光し、現像して形成した感光性材料のパターン層の逆パターンにして、前記感光性材料のパターン層を溶解除去するリフトオフ法で版パターン部を形成する版の再生方法。 A method for reproducing a plate according to any one of claims 8 to 12, comprising:
After removing at least one protective layer of the plate to be reproduced and the upper layer from the protective layer, one or more protective layers covering the light-shielding film are provided on the light-shielding film. On the protective layer, a release layer having a release property with respect to the cured transfer ink is provided, and a photosensitive material is formed in a film shape on the plate surface forming position on the release layer, and the protection The photosensitive material is exposed by a backside exposure method using the light-shielding film which is a lower layer of the photomask as a photomask, and developed to be a reverse pattern of the pattern layer of the photosensitive material formed. A plate regeneration method in which a plate pattern portion is formed by a lift-off method of dissolving and removing.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005170198A JP4591223B2 (en) | 2005-06-09 | 2005-06-09 | Versions and how to play them |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2005170198A JP4591223B2 (en) | 2005-06-09 | 2005-06-09 | Versions and how to play them |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006343601A true JP2006343601A (en) | 2006-12-21 |
| JP4591223B2 JP4591223B2 (en) | 2010-12-01 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4591223B2 (en) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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