JP2006342325A - 表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物及び感光性エレメント - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(a)バインダポリマー、(b)1分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、(c)活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤、(d)1分子中に少なくとも1個の加水分解性基含有シリル基を有するシリル基含有有機化合物を含み、(d)成分の含有量が、(a)及び(b)成分の総量100重量部に対して0.01〜30重量部であることを特徴とする表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物。
【選択図】なし
Description
しかしながら、このような球状のガラスビーズや樹脂ビーズのスペーサーは、一般に、対向する基板間の液晶層に散布されているだけで、基板に対して固定されていない。したがって、スペーサーの分布にバラツキが生じて表示ムラが発生したり、液晶表示装置の振動によりスペーサーが移動して配向異常領域が大きくなったり、配向膜面にダメージを与える等の問題があった。また、このような球状のガラスビーズや樹脂ビーズのスペーサーは、液晶表示装置の表示部分にも散布されているため、コントラストを低下させ、表示品質を低下させる等の問題があった。
これらの問題を改良する方法として、特許文献1〜3には、一方の基板上に紫外線硬化型樹脂を塗布、乾燥後、露光・現像を行うことでスペーサーを形成する方法が開示されている。また、特許文献4には、あらかじめ光硬化性樹脂塗液を塗布したフィルムを使用し、これを転写した後に、露光・現像でパターニングを行い、スペーサーを形成する方法が開示されている。これらの方法で形成されたスペーサーは、柱状スペーサーあるいは感光性スペーサーと呼ばれ、前記の球状のガラスビーズや樹脂ビーズを用いた場合に発生していた表示ムラ、配向異常及びコントラスト低下等の問題点を解消し得る手段として提案されている。
そこで、柱状スペーサーの柔軟性を低下させ、硬度あるいは機械的強度を向上させることによって、このような問題を解決する試みがなされてきた。例えば、ネガ型の感光性材料を用いる場合には、高いガラス転移温度(Tg)を示す樹脂骨格を導入したり、光架橋密度を高めたりする等の具体的手段が挙げられる。
しかしながら、このように柱状スペーサーの硬度あるいは機械的強度を向上させた場合、柱状スペーサーの形成工程において、柱状スペーサーとガラス等の透明な基板との界面で発生する応力を緩和することが難しくなり、基板に対する柱状スペーサーの十分な密着性が得られず、柱状スペーサーのパターニング時、洗浄時、あるいは配向膜のラビング時に柱状スペーサーが基板から剥離する傾向が高くなる。このように、柱状スペーサーが基板から剥離してしまうと、液晶表示装置画面内で液晶層のギャップが不均一化し、表示ムラが顕著なものとなり、実用に耐えられなくなってしまう。
つまり、柱状スペーサーあるいは感光性スペーサーを液晶表示装置に適用する場合、従来の材料及び方法では、塑性変形に起因する表示ムラの解決と、硬度あるいは機械的強度向上に伴う密着性低下に起因する表示ムラの解決を両立することが困難であった。
また、本発明の他の目的は、塑性変形に起因する表示ムラの抑制と、硬度あるいは機械的強度向上に伴う密着性低下に起因する表示ムラの抑制とを両立でき、表示ムラのない良好な表示品質でかつ歩留りのよい液晶表示装置の製造が可能な液晶スペーサー用感光性樹脂組成物を提供すること、上記の効果に加えて、さらに作業性に優れ、かつコスト低減に寄与し得る液晶スペーサー用感光性エレメントを提供することにある。
また、本発明は、(a’)水酸基を有するバインダポリマー、(b)1分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、(c)活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤、(d)1分子中に少なくとも1個の加水分解性基含有シリル基を有するシリル基含有有機化合物を含み、(a’)水酸基を有するバインダポリマーが、水酸基を有する化合物を0.1〜50重量%含む化合物を重合して得られるバインダポリマーであることを特徴とする表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物に関する。
本発明において、表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物は、(I)基板上に感光性樹脂組成物層を形成する工程、(II)感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、(III)現像により感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程、(IV)パターンが形成された感光性樹脂組成物層を加熱する工程、及び(V)パターンが形成された感光性樹脂組成物層を超音波洗浄する工程により形成される表示装置スペーサー用に使用される感光性樹脂組成物であって、当該表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物を用いて形成した円柱状スペーサーの数的残存率が95%以上となる時の該円柱状スペーサーの直径が、基板に接している面において3μm以上であることが好ましい。
また、本発明は、支持体フィルム上に、上記表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物を用いて形成した層を有する表示装置スペーサー用感光性エレメントに関する。
また、本発明は、(a)バインダポリマー、(b)1分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、(c)活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤、(d)1分子中に少なくとも1個の加水分解性基含有シリル基を有するシリル基含有有機化合物を含み、(d)成分の含有量が、(a)及び(b)成分の総量100重量部に対して0.01〜30重量部であることを特徴とする液晶スペーサー用感光性樹脂組成物に関する。
また、本発明は、(a’)水酸基を有するバインダポリマー、(b)1分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、(c)活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤、(d)1分子中に少なくとも1個の加水分解性基含有シリル基を有するシリル基含有有機化合物を含み、(a’)水酸基を有するバインダポリマーが、水酸基を有する化合物を0.1〜50重量%含む化合物を重合して得られるバインダポリマーであることを特徴とする液晶スペーサー用感光性樹脂組成物に関する。
本発明の液晶スペーサー用感光性樹脂組成物において、(I)基板上に感光性樹脂組成物層を形成する工程、(II)感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、(III)現像により感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程、(IV)パターンが形成された感光性樹脂組成物層を加熱する工程、及び(V)パターンが形成された感光性樹脂組成物層を超音波洗浄する工程により形成される液晶スペーサー用に使用される感光性樹脂組成物であって、当該液晶スペーサー用感光性樹脂組成物を用いて形成した円柱状スペーサーの数的残存率が95%以上となる時の該円柱状スペーサーの直径が、基板に接している面において3μm以上であることが好ましい。
また、本発明は、支持体フィルム上に、上記液晶スペーサー用感光性樹脂組成物を用いて形成した層を有する液晶スペーサー用感光性エレメントに関する。
さらに、本発明は、上記表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物、又は上記表示装置スペーサー用感光性エレメントを用いて形成した表示装置スペーサーに関する。
また、本発明の液晶スペーサー用感光性樹脂組成物は、液晶表示装置用のスペーサーとして用いられ、塑性変形に起因する表示ムラの抑制と、硬度あるいは機械的強度向上に伴う密着性低下に起因する表示ムラの抑制とを両立でき、これによって表示ムラのない良好な表示品質で、かつ歩留り、作業性向上、低コスト化に効果がある液晶スペーサー及び液晶表示装置を製造することができる。また、本発明の液晶スペーサー用感光性エレメントは、前記の効果を達成するために好適であり、これによって作業性に優れ、かつコスト低減に寄与し得る液晶スペーサー及び液晶表示装置を製造できるものである。
本発明の表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物及び表示装置スペーサー用感光性エレメントは、例えば、液晶表示装置、エレクトロクロミックディスプレイや電子ペーパー等、対向する基板間に流動性を有する物質の層を構成してなる表示装置等のスペーサー用途として好適に用いることができる。
また、水又はアルカリ水溶液と1種以上の界面活性剤とからなるアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を、16〜260mgKOH/gとすることが好ましい。この酸価が、16mgKOH/g未満では、現像が困難となる傾向があり、260mgKOH/gを超えると、耐現像液性が低下する傾向がある。
上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸エチルエステル、(メタ)アクリル酸ブチルエステル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。
これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。
本発明の液晶スペーサー用感光性エレメントは、前記感光性樹脂組成物層を構成する各成分を溶媒に均一に溶解した溶液又は分散した分散液を、支持体フィルム上に塗布、乾燥し、液晶スペーサー用感光性樹脂組成物層を形成することにより得られる。溶媒としては、上述の溶媒を用いることができる
本発明で使用される基板は、特に制限はなく、例えば、セラミック板、プラスチック板、ガラス板等が挙げられる。この基板上には、絶縁層、ブラックマトリックスの層、カラーフィルターの層、ITO等の透明電極の層等の任意の層が設けられてもよい。したがって、感光性樹脂組成物層は、基板上に直接設けられてもよく、また、基板上に任意の層を介して設けられてもよい。
本発明において、感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する方法としては、基板上に積層された前記感光性樹脂組成物層にフォトマスクを介して、公知の活性光線を照射する方法等が挙げられる。この時、液晶スペーサー用感光性エレメントを使用して、基板上に液晶スペーサー用感光性樹脂組成物層を形成した場合には、この感光性樹脂組成物層上の支持体フィルムを除去した後に、活性光線を像的に照射することもできるが、前記支持体フィルムが存在する場合には、この支持体フィルムも介して活性光線が照射されることとなる。
本発明において、パターンを形成した感光性樹脂組成物層を加熱する方法としては、熱風放射、赤外線照射加熱等の公知の方法が挙げられ、基板上にパターンが形成された感光性樹脂組成物層が有効に加熱される方法であれば特に制限されない。
本発明において、パターンが形成された感光性樹脂組成物層を超音波洗浄する方法としては、例えば、東京超音波技研株式会社製の超音波洗浄機(PUC−0851:高周波出力 28KHz、3.6KW)等の市販の超音波洗浄機を使用して純水中で洗浄する方法が挙げられ、基板に形成された透明電極及びパターンが形成された感光性樹脂組成物層が有効に洗浄される方法であれば特に制限されない。
〔バインダポリマー溶液(p−1)の作製〕
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表1に示した(1)を仕込み、窒素ガス雰囲気下で80℃に昇温し、反応温度を80℃±2℃に保ちながら、表1に示した(2)を4時間かけて均一に滴下した。
(2)の滴下後、80℃±2℃で6時間撹拌を続け、重量平均分子量が約30,000のバインダポリマーの溶液(固形分35重量%)(p−1)を得た。
〔水酸基を有する化合物を構成単位とした共重合成分を含むバインダポリマー溶液(p−2)の作製〕
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表2に示した(1)を仕込み、窒素ガス雰囲気下で80℃に昇温し、反応温度を80℃±2℃に保ちながら、表2に示した(2)を4時間かけて均一に滴下した。
(2)の滴下後、80℃±2℃で6時間撹拌を続け、重量平均分子量が約30,000のバインダポリマーの溶液(固形分35重量%)(p−2)を得た。
〔バインダポリマー溶液(p−3)の作製〕
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表3に示した(1)を仕込み、窒素ガス雰囲気下で80℃に昇温し、反応温度を80℃±2℃に保ちながら、表3に示した(2)を4時間かけて均一に滴下した。
(2)の滴下後、80℃±2℃で6時間撹拌を続け、重量平均分子量が約25,000のプレポリマーの溶液(固形分35重量%)を得た。
滴下後、70℃±2℃で2時間撹拌を続け、重量平均分子量が約26,000の光重合性不飽和基を有するバインダポリマーの溶液(固形分35重量%)(p−3)を得た。
〔液晶スペーサー用感光性樹脂組成物溶液(V−1)の作製〕
表4に示した材料を、撹拌機を用いて15分間混合し、液晶スペーサー用感光性樹脂組成物溶液(V−1)を作製した。
得られた感光性樹脂組成物溶液(V−1)を厚さ1mmのITO膜が形成されたガラス基板上に塗布し、スピンコーターを使用して、1500回転/分で回転塗布して、ホットプレート上で90℃、5分間乾燥して、溶剤を除去し、膜厚4.5μmの感光性樹脂組成物層を形成した。
次いで、得られた感光性樹脂組成物層に、50mm×50mmの領域内で、光透過部がフォトマスク面上で垂直方向及び水平方向に100μmピッチで同一の直径を有する円形のパターンとなっているフォトマスクを用い、平行光線露光機(オーク製作所株式会社製、EXM1201)を使用して、フォトマスクと感光性樹脂組成物層表面との間に150μmのギャップを設けて、フォトマスク面垂直上方より露光量5×102J/m2で(i線(波長365nm)における測定値)、紫外線を像的に照射した。
さらに、光透過部の直径のみを1〜10μmの範囲において、1μm間隔で変えたフォトマスクを各種使用して、上記のような操作を行った。
次いで、0.5重量%の界面活性剤を含有した0.5重量%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いて、30℃で40秒間スプレー現像して、感光性樹脂組成物層を選択的に除去して円柱状のパターンを形成した。
次いで、パターンを形成した感光性樹脂組成物層を230℃で30分間、ボックス型乾燥機で加熱した後、東京超音波技研株式会社製の超音波洗浄機(PUC−0851:高周波出力 28KHz、3.6KW)を使用して純水中で超音波洗浄し、液晶スペーサーのパターンを得た。
得られた液晶スペーサーのパターンにおいて、パターンが形成された基板上の10mm×10mmの領域を無作為に選択し、光学顕微鏡を使用して選択された領域を100倍の倍率で拡大して観察し、残存している液晶スペーサーの個数を数えた。
さらに、得られた液晶スペーサーの形状をセイコーインスツルメンツ株式会社製の走査型プローブ顕微鏡(原子間力顕微鏡)SPI3800N/SPA500を使用して解析し、基板の透明電極に接している面における液晶スペーサーの直径を測定した。
各種フォトマスクを使用した場合の残存している液晶スペーサーの個数及び液晶スペーサーの直径を表8に示した。
表8から明らかなように、本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られた液晶スペーサーは、数的残存率が95%以上となる時の液晶スペーサーの直径が、透明電極に接している面において3μm以上となる密着力を有することを確認した。
〔液晶スペーサー用感光性エレメント(i)の作製〕
支持体フィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、実施例1で得られた液晶スペーサー用感光性樹脂組成物溶液(V−1)を支持体フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、100℃の熱風対流式乾燥機で1分間乾燥して溶剤を除去し、感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層の厚さは4μmであった。
次いで、得られた感光性樹脂組成物層の上に、さらに、25μmの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィルムとして張り合わせて、液晶スペーサー用感光性エレメント(i)を作製した。
得られた液晶スペーサー用感光性エレメント(i)のポリエチレンフィルムをはがしながら、透明電極が形成された厚さ1mmのITO膜が形成されたガラス基板上に、感光性樹脂組成物層が接するようにラミネータ(日立化成工業株式会社製、商品名HLM−3000型)を用いて、ロール温度120℃、基板送り速度1m/分、圧着圧力(シリンダ圧力)4×105Pa(厚さが1mm、縦10cm×横10cmの基板を用いたため、この時の線圧は9.8×103N/m)の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層及び支持体フィルムが積層された基板を作製した。
次いで、実施例1と同様の方法で紫外線の像的照射を行い支持体フィルムを剥離し、実施例1と同様の方法で現像、加熱、超音波洗浄を行って、液晶スペーサーのパターンを得た。
さらに、実施例1と同様の方法で各種フォトマスクを使用した場合の残存している液晶スペーサーの個数及び液晶スペーサーの直径を測定した。その結果を表8に示した。
表8から明らかなように、本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られた液晶スペーサーは、数的残存率が95%以上となる時の液晶スペーサーの直径が、透明電極に接している面において3μm以上となる密着力を有することを確認した。
〔液晶スペーサー用感光性樹脂組成物溶液(V−2)の作製〕
表5に示した材料を、撹拌機を用いて15分間混合し、液晶スペーサー用感光性樹脂組成物溶液(V−2)を作製した。
支持体フィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、得られた液晶スペーサー用感光性樹脂組成物溶液(V−2)を支持体フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、100℃の熱風対流式乾燥機で3分間乾燥して溶剤を除去し、感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層の厚さは4μmであった。
次いで、得られた感光性樹脂組成物層の上に、さらに、25μmの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィルムとして張り合わせて、液晶スペーサー用感光性エレメント(ii)を作製した。
実施例2における液晶スペーサー用感光性エレメント(i)をここで得られた液晶スペーサー用感光性エレメント(ii)に代えた以外は、実施例2と同様にして、液晶スペーサーのパターンを形成した。
さらに、実施例1と同様の方法で各種フォトマスクを使用した場合の残存している液晶スペーサーの個数及び液晶スペーサーの直径を測定した。その結果を表8に示した。
表8から明らかなように、本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られた液晶スペーサーは、数的残存率が95%以上となる時の液晶スペーサーの直径が、透明電極に接している面において3μm以上となる密着力を有することを確認した。
〔液晶スペーサー用感光性樹脂組成物溶液(V−3)の作製〕
表6に示した材料を、撹拌機を用いて15分間混合し、液晶スペーサー用感光性樹脂組成物溶液(V−3)を作製した。
支持体フィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、得られた液晶スペーサー用感光性樹脂組成物溶液(V−3)を支持体フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、100℃の熱風対流式乾燥機で3分間乾燥して溶剤を除去し、感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層の厚さは4μmであった。
次いで、得られた感光性樹脂組成物層の上に、さらに、25μmの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィルムとして張り合わせて、液晶スペーサー用感光性エレメント(iii)を作製した。
実施例2における液晶スペーサー用感光性エレメント(i)をここで得られた液晶スペーサー用感光性エレメント(iii)に代えた以外は、実施例2と同様にして、液晶スペーサーのパターンを形成した。
さらに、実施例1と同様の方法で各種フォトマスクを使用した場合の残存している液晶スペーサーの個数及び液晶スペーサーの直径を測定した。その結果を表8に示した。
表8から明らかなように、本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られた液晶スペーサーは、数的残存率が95%以上となる時の液晶スペーサーの直径が、透明電極に接している面において3μm以上となる密着力を有することを確認した。
〔比較感光性樹脂組成物溶液(C−1)の作製〕
表7に示した材料を、撹拌機を用いて15分間混合し、比較感光性樹脂組成物溶液(C−1)を作製した。
実施例1における感光性樹脂組成物溶液(V−1)をここで得られた比較感光性樹脂組成物溶液(C−1)に代え、さらに実施例1において、パターンを形成した感光性樹脂組成物層を230℃で30分間、ボックス型乾燥機で加熱する工程を行わなかった以外は、実施例1と同様にして、液晶スペーサーのパターンを形成した。
次いで、実施例1と同様の方法で各種フォトマスクを使用した場合の残存している液晶スペーサーの個数及び液晶スペーサーの直径を測定した。その結果を表8に示した。
表8から明らかなように、比較感光性樹脂組成物溶液(C−1)を用い、さらにパターンを形成した感光性樹脂組成物層を230℃で30分間、ボックス型乾燥機で加熱する工程を行わない場合には、数的残存率が95%以上となる時の液晶スペーサーの直径が、透明電極に接している面において10μm以上となる密着力しか得られないことを確認した。
Claims (9)
- (a)バインダポリマー、(b)1分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、(c)活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤、(d)1分子中に少なくとも1個の加水分解性基含有シリル基を有するシリル基含有有機化合物を含み、(d)成分の含有量が、(a)及び(b)成分の総量100重量部に対して0.01〜30重量部であることを特徴とする表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物。
- (a’)水酸基を有するバインダポリマー、(b)1分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、(c)活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤、(d)1分子中に少なくとも1個の加水分解性基含有シリル基を有するシリル基含有有機化合物を含み、(a’)水酸基を有するバインダポリマーが、水酸基を有する化合物を0.1〜50重量%含む化合物を重合して得られるバインダポリマーであることを特徴とする表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物。
- (I)基板上に感光性樹脂組成物層を形成する工程、(II)感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、(III)現像により感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程、(IV)パターンが形成された感光性樹脂組成物層を加熱する工程、及び(V)パターンが形成された感光性樹脂組成物層を超音波洗浄する工程により形成される表示装置スペーサー用に使用される感光性樹脂組成物であって、当該表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物を用いて形成した円柱状スペーサーの数的残存率が95%以上となる時の該円柱状スペーサーの直径が、基板に接している面において3μm以上である請求項1又は2記載の表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物。
- 支持体フィルム上に、請求項1〜3いずれかに記載の表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物を用いて形成した層を有する表示装置スペーサー用感光性エレメント。
- (a)バインダポリマー、(b)1分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、(c)活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤、(d)1分子中に少なくとも1個の加水分解性基含有シリル基を有するシリル基含有有機化合物を含み、(d)成分の含有量が、(a)及び(b)成分の総量100重量部に対して0.01〜30重量部であることを特徴とする液晶スペーサー用感光性樹脂組成物。
- (a’)水酸基を有するバインダポリマー、(b)1分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、(c)活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤、(d)1分子中に少なくとも1個の加水分解性基含有シリル基を有するシリル基含有有機化合物を含み、(a’)水酸基を有するバインダポリマーが、水酸基を有する化合物を0.1〜50重量%含む化合物を重合して得られるバインダポリマーであることを特徴とする液晶スペーサー用感光性樹脂組成物。
- (I)基板上に感光性樹脂組成物層を形成する工程、(II)感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、(III)現像により感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程、(IV)パターンが形成された感光性樹脂組成物層を加熱する工程、及び(V)パターンが形成された感光性樹脂組成物層を超音波洗浄する工程により形成される液晶スペーサー用に使用される感光性樹脂組成物であって、当該液晶スペーサー用感光性樹脂組成物を用いて形成した円柱状スペーサーの数的残存率が95%以上となる時の該円柱状スペーサーの直径が、基板に接している面において3μm以上である請求項5又は6記載の液晶スペーサー用感光性樹脂組成物。
- 支持体フィルム上に、請求項5〜7いずれかに記載の液晶スペーサー用感光性樹脂組成物を用いて形成した層を有する液晶スペーサー用感光性エレメント。
- 請求項1〜3いずれかに記載の表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物、又は請求項4記載の表示装置スペーサー用感光性エレメントを用いて形成した表示装置スペーサー。
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