JP2006330633A - 表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に絶縁膜を介して互いに交差して形成された複数のバスライン12、14と、バスライン12、14の交差位置近傍に形成されたTFT20と、TFT20のソース電極22に電気的に接続された画素電極16と、画素電極16から分離され、ソース電極22に容量を介して接続された画素電極17と、画素電極16、17を分離する間隙部40とを備えた画素領域と、間隙部40近傍の画素電極16に間隙部40に沿って形成されたスリット部44とを有するように構成する。
【選択図】図2
Description
本発明の第1の実施の形態による表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置について図1乃至図6を用いて説明する。図1は、本実施の形態による液晶表示装置の概略構成を示している。図1に示すように、液晶表示装置は、絶縁膜を介して互いに交差して形成されたゲートバスライン及びドレインバスラインと、画素毎に形成されたTFT及び画素電極とを備えたTFT基板2を有している。また、液晶表示装置は、CFや共通電極が形成されてTFT基板2に対向配置された対向基板4を有している。両基板2、4間には液晶が封止され、液晶層(図示せず)が形成されている。
以下、本実施の形態による表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置について、実施例を用いてより具体的に説明する。
図2は、本実施の形態の実施例1−1によるTFT基板2の2画素分の構成を示している。図2に示すようにTFT基板2は、図中左右方向に延びる複数のゲートバスライン12と、SiN膜等からなる絶縁膜を介してゲートバスライン12に交差して形成され、図中上下方向に延びる複数のドレインバスライン14とを有している。ゲートバスライン12及びドレインバスライン14の交差位置近傍には、スイッチング素子として画素毎に形成されたTFT20が配置されている。TFT20のドレイン電極21は、ドレインバスライン14に電気的に接続されている。またゲートバスライン12の一部は、TFT20のゲート電極として機能している。ドレインバスライン14及びドレイン電極21上の基板全面には、SiN膜等からなる保護膜が形成されている。
Vpx2=(Cc/(Clc2+Cc))×Vpx1
となる。ここで、0<(Cc/(Clc2+Cc))<1であるため、Vpx1=Vpx2=0以外では|Vpx1|>|Vpx2|となる。このように、本実施の形態による液晶表示装置では、副画素Aの液晶層に印加される電圧Vpx1と、副画素Bの液晶層に印加される電圧Vpx2とを1画素内で互いに異ならせることができる。これにより、T−V特性の歪みが1画素内で分散されるため、斜め方向から見たときに画像の色が白っぽくなる現象を抑制でき、視角特性が改善される。
図3は、本実施の形態の実施例1−2によるTFT基板2の2画素分の構成を示している。図3に示すように、本実施例では、蓄積容量バスライン18から引き出されて間隙部40に重なって延びる引き出し電極48が形成されている。引き出し電極48の幅は間隙部40の幅よりも狭く、画素電極16、17には重ならないようになっている。引き出し電極48は、対向基板側の共通電極と同電位に維持される。したがって、引き出し電極48の形成領域の液晶層には電圧が印加されないため、例えばVAモードの液晶表示装置では当該領域の液晶分子は常に基板面に垂直に配向する。配向分割領域の境界となる間隙部40と引き出し電極48とを重ねて配置することによって、間隙部40形成領域近傍での液晶の配向が安定する。
図4は、本実施の形態の実施例1−3によるTFT基板2の2画素分の構成を示している。図4に示すように、本実施例では、副画素Bの画素電極17の画素領域上下2箇所にスリット部45が形成されている。スリット部45は、画素電極17に重畳して配置された制御容量電極25を跨ぎ、画素電極17の端部(間隙部40)と、画素電極16、17に重畳して配置された蓄積容量バスライン18(蓄積容量電極19)とにほぼ平行に沿って延伸している。
図5は、本実施の形態の実施例1−4によるTFT基板2の2画素分の構成を示している。図5に示すように、本実施例では、画素領域のうち蓄積容量バスライン18より図中上方(及び蓄積容量バスライン18近傍)が副画素Aとなっており、蓄積容量バスライン18より図中下方が副画素Bとなっている。副画素Aに形成され、TFT20のソース電極22に電気的に接続された画素電極16は、ゲートバスライン12にほぼ平行に延びる線状電極16aと、線状電極16aにほぼ垂直に十字状に交差し、ドレインバスライン14にほぼ平行に延びる線状電極16bとを有している。また画素電極16は、線状電極16a又は16bから斜めに分岐し、1画素内でほぼ直交4方向にストライプ状に延びる複数の線状電極16cと、隣り合う線状電極16c間に形成された微細スリット16dとを有している。さらに画素電極16は、蓄積容量バスライン18近傍に形成されたべた電極16eを有している。画素電極16(べた電極16e)の間隙部40近傍には、制御容量電極25を跨ぎ、間隙部40と画素電極16に重畳して配置された蓄積容量バスライン18とにほぼ平行に沿って延びるスリット部44が形成されている。
図6は、本実施の形態の実施例1−5によるTFT基板2の2画素分の構成を示している。図6に示すように、本実施例では、べた電極16eに2つのスリット部44、47が形成されている。スリット部44は、画素電極16に重畳して配置された蓄積容量バスライン18の図中下方に配置され、蓄積容量バスライン18にほぼ平行に沿って延びている。スリット部47は、蓄積容量バスライン18の図中上方に配置され、蓄積容量バスライン18にほぼ平行に沿って延びている。スリット部44、47は、共に制御容量電極25を跨ぐように配置されている。
次に、本発明の第2の実施の形態による表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置について図7乃至図14を用いて説明する。図7は、本実施の形態の前提となる、容量結合HT法を用いた従来の画素構造を示している。図7に示すように、画素領域は、副画素Aと副画素Bとを有している。副画素Aには画素電極16が形成され、副画素Bには画素電極17が形成されている。画素電極16は、TFT20のソース電極22に電気的に直接接続されている。一方、画素電極17は、容量結合によりソース電極22に間接的に接続されている。画素電極16、17は、間隙部40を介して分離されている。間隙部40の幅は10μm程度である。画素電極16、17が分離されていることにより、副画素Aの液晶層に印加される電圧Vpx1と、副画素Bの液晶層に印加される電圧Vpx2とを1画素内で互いに異ならせることができる。これにより階調視角特性が改善され、表示品質が向上する。
図10は、本実施の形態の実施例2−1によるTFT基板の1画素の構成を示している。図10に示すように本実施例では、蓄積容量バスライン18から引き出されて蓄積容量バスライン18と同電位に維持される引き出し電極48が形成されている。引き出し電極48は、画素電極16、17間の間隙部40に重なって画素領域端部に対し斜めに延伸している。引き出し電極48を間隙部40等の配向規制用構造物に重ねて配置することによって、画素の実質的な開口率の低下が抑えられる。引き出し電極48は、画素電極17側に基板面内で突出して画素電極17に重なって配置され、櫛歯状に形成された複数の凸部49を有している。凸部49と画素電極17との間には容量(重畳容量)が形成される。これにより、図7に示した領域Dの設計を変更することなく、画素電極17と蓄積容量バスライン18との間に容量が形成される。また、間隙部40に重なるように引き出し電極48を設けることは、画素電極16、17が透明電極のパターン不良により形成された短絡部によって短絡した場合に、その短絡部と引き出し電極48との間に容量が形成されるため、アレイ検査での欠陥検出に有利に働く。
図13は、本実施の形態の実施例2−2によるTFT基板の1画素の構成を示している。蓄積容量バスライン18や引き出し電極48、凸部49、50等は、遮光性を有する金属膜により形成されている。このため、これらを用いて画素領域内に容量を形成する場合、画素の開口率が低下してパネル透過率が低下してしまうという問題が生じ得る。この問題を解決するために本実施例では、図13に示すように、画素電極16、17との間の容量C1を形成する突起51が、画素領域の周囲等を遮光するために例えば対向基板側に形成される遮光膜(BM)によって遮光される遮光領域に配置される。TFT基板と対向基板とを貼り合わせた後には、突起51はBMに重なって配置される。このように、元々BMでの遮光が必要な領域で凸部51と画素電極16、17とを重ねて容量を形成することによって、パネル透過率の低下を防ぐことができる。
図14は、本実施の形態の実施例2−3によるTFT基板の1画素の構成を示している。図14に示すように、本実施例では、蓄積容量バスライン18から引き出された第2の引き出し電極52が形成されている。引き出し電極52は、ドレインバスライン14と同層の制御容量電極25により元々遮光される領域に配置され、制御容量電極25に沿って延伸している。引き出し電極52と制御容量電極25(ソース電極)との間には容量が形成される。このように、元々遮光される領域に引き出し電極52を配置することによって、パネル透過率の低下を防ぐことができる。しかも、画素電極16、17が短絡した場合、蓄積容量バスライン形成層とドレイン層の間に容量が形成される。これにより、蓄積容量バスライン形成層と画素電極形成層との間に容量を形成するよりも容量差が顕著になる。
例えば、上記実施の形態ではVAモードの液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、TNモード等の他の液晶表示装置にも適用できる。
4 対向基板
12 ゲートバスライン
14 ドレインバスライン
16、17 画素電極
16a、16b、16c、17a、17b、17c 線状電極
16d、17d 微細スリット
16e べた電極
18 蓄積容量バスライン
19 蓄積容量電極
20 TFT
21 ドレイン電極
22 ソース電極
24 コンタクトホール
25 制御容量電極
30 絶縁膜
31 保護膜
40 間隙部
42 短絡部
44、45、47 スリット部
46 切断部
48、52 引き出し電極
49、50、51 凸部
80 ゲートバスライン駆動回路
82 ドレインバスライン駆動回路
84 制御回路
86、87 偏光板
88 バックライトユニット
Claims (14)
- 基板上に絶縁膜を介して互いに交差して形成された複数のバスラインと、
前記複数のバスラインの交差位置近傍に形成された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタのソース電極に電気的に接続された第1の画素電極と、前記第1の画素電極から分離され、前記ソース電極に容量を介して接続された第2の画素電極と、前記第1の画素電極と前記第2の画素電極とを分離する間隙部とを備えた画素領域と、
前記間隙部近傍の前記第1及び/又は第2の画素電極に当該間隙部に沿って形成されたスリット部と
を有することを特徴とする表示装置用基板。 - 請求項1記載の表示装置用基板において、
前記スリット部は、前記間隙部の延伸方向にほぼ平行に延伸していること
を特徴とする表示装置用基板。 - 請求項1又は2に記載の表示装置用基板において、
前記間隙部に重なって配置された導電層を有し、
前記スリット部は前記導電層の近傍に配置されていること
を特徴とする表示装置用基板。 - 基板上に絶縁膜を介して互いに交差して形成された複数のバスラインと、
前記複数のバスラインの交差位置近傍に形成された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタのソース電極に電気的に接続された第1の画素電極と、前記第1の画素電極から分離され、前記ソース電極に容量を介して接続された第2の画素電極と、前記第1の画素電極と前記第2の画素電極とを分離する間隙部とを備えた画素領域と、
前記第1又は第2の画素電極に重畳して配置された導電層と、
前記導電層近傍の前記第1及び/又は第2の画素電極に当該導電層に沿って形成されたスリット部と
を有することを特徴とする表示装置用基板。 - 請求項4記載の表示装置用基板において、
前記スリット部は、前記導電層の延伸方向にほぼ平行に延伸していること
を特徴とする表示装置用基板。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の表示装置用基板において、
前記スリット部の幅は4μm以下であること
を特徴とする表示装置用基板。 - 対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に封止された液晶とを備えた液晶表示装置であって、
前記一対の基板の一方に、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の表示装置用基板が用いられていること
を特徴とする液晶表示装置。 - 基板上に形成されたゲートバスラインと、
前記ゲートバスラインに絶縁膜を介して交差して形成されたドレインバスラインと、
前記ゲートバスラインに並列して形成された蓄積容量バスラインと、
前記ゲートバスライン及び前記ドレインバスラインの交差位置近傍に形成された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタのソース電極に電気的に接続された第1の画素電極と、前記第1の画素電極から分離され、前記ソース電極に容量を介して接続された第2の画素電極と、前記第1の画素電極と前記第2の画素電極とを分離する間隙部とを備えた画素領域と、
前記蓄積容量バスラインから引き出され、前記第2の画素電極との間に重畳容量を形成する引き出し電極と
を有することを特徴とする表示装置用基板。 - 請求項8記載の表示装置用基板において、
前記引き出し電極は、前記間隙部に重なって延伸していること
を特徴とする表示装置用基板。 - 請求項8又は9に記載の表示装置用基板において、
前記引き出し電極は、前記第2の画素電極に重なって配置された凸部を有していること
を特徴とする表示装置用基板。 - 請求項8乃至10のいずれか1項に記載の表示装置用基板において、
前記ソース電極に電気的に接続され、前記第2の画素電極との間に容量を形成する制御容量電極と、
前記蓄積容量バスラインから引き出されて前記制御容量電極に重なって配置され、前記制御容量電極との間に容量を形成する第2の引き出し電極とをさらに有すること
を特徴とする表示装置用基板。 - 対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に封止された液晶とを備えた液晶表示装置であって、
前記一対の基板の一方に、請求項8乃至11のいずれか1項に記載の表示装置用基板が用いられていること
を特徴とする液晶表示装置。 - 請求項12記載の液晶表示装置において、
前記一対の基板の一方に形成され、前記画素領域の周囲を遮光する遮光膜をさらに有し、
前記引き出し電極の少なくとも一部は、前記遮光膜により遮光される領域に配置されていること
を特徴とする液晶表示装置。 - 請求項12又は13に記載の液晶表示装置において、
前記一対の基板の少なくとも一方に形成され、前記液晶を配向規制する配向規制用構造物をさらに有し、
前記引き出し電極の少なくとも一部は、前記配向規制用構造物に重なって配置されていること
を特徴とする液晶表示装置。
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