JP2006285035A - Negative radiation sensitive resin composition - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method by which a thick plated formed product such as a bump or wiring can be formed with good accuracy, a negative radiation sensitive resin composition suitable for the production method and excellent in sensitivity and resolution, and a transfer film using the composition. <P>SOLUTION: The negative radiation sensitive resin composition contains (A) a polymer containing a structural unit represented by formula (1) (where R<SP>1</SP>is H or methyl, R<SP>2</SP>and R<SP>3</SP>are each H, a 1-4C aliphatic hydrocarbon group, a 3-20C alicyclic hydrocarbon group, a substituted hydrocarbon group obtained by substituting a polar group other than a hydrocarbon group for at least one H atom of the aliphatic hydrocarbon group or alicyclic hydrocarbon group, or an aromatic group and may be the same or different, and R<SP>2</SP>and R<SP>3</SP>may bond to each other to form a cyclic structure containing a hetero atom), (B) a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond and (C) a radiation sensitive radical polymerization initiator. A negative radiation sensitive resin using the composition is produced. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明はメッキ造形物の製造に好適なネガ型感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いた転写フィルム、およびメッキ造形物の製造方法に関する発明である。   The present invention relates to a negative-type radiation-sensitive resin composition suitable for producing a plated model, a transfer film using the composition, and a method for producing a plated model.

近年、携帯電話などの電子機器のダウンサイジング化に伴い、大規模集積回路（ＬＳＩ）の高集積化、および多層化が急激に進んでいる。そのため、ＬＳＩを電子機器に搭載するための基板への多ピン実装方法が必要とされ、テープオートメーテッドボンディング（ＴＡＢ）方式やフリップチップ方式によるベアチップ実装などが注目されてきている。このような多ピン実装方法では、接続用端子であるバンプと呼ばれる突起電極が、ＬＳＩチップ上に高精度に配置されることが必要とされている。   In recent years, with the downsizing of electronic devices such as mobile phones, large-scale integrated circuits (LSIs) have been rapidly integrated and multi-layered. For this reason, a multi-pin mounting method on a substrate for mounting an LSI on an electronic device is required, and bare chip mounting using a tape automated bonding (TAB) method or a flip chip method has attracted attention. In such a multi-pin mounting method, it is necessary that protruding electrodes called bumps, which are connection terminals, be arranged on the LSI chip with high accuracy.

バンプなどの各種精密部品を得るためには、精密微細加工技術が必要であるが、現在、この技術の主流はフォトアプリケーションである。フォトアプリケーションとは、感放射線性樹脂組成物を加工物表面に塗布して成膜し、フォトリソグラフィ技術によって塗膜をパターニングし、これをマスクとして化学エッチング、電解エッチングまたは電気メッキを主体とするエレクトロフォーミング技術を単独で、または組み合わせて各種精密部品を製造する技術の総称である。   In order to obtain various precision parts such as bumps, precision microfabrication technology is required, but at present, the mainstream of this technology is photo application. Photo application is the application of a radiation-sensitive resin composition to the surface of a workpiece, forming a film, patterning the coating film by photolithography, and using this as a mask for electroetching mainly chemical etching, electrolytic etching or electroplating. It is a general term for technologies for manufacturing various precision parts by forming technology alone or in combination.

より具体的には、バンプは、現在、以下のような手順で加工されている。まず、ＬＳＩ素子が加工されたウェハー上に、導電層となるバリアメタルを積層した後、感放射性樹脂組成物いわゆるレジストを塗布して乾燥する。次いで、バンプを形成する部分が開口するように、マスクを介して放射線を照射（以下、「露光」という。）したのち現像して、パターンを形成する。その後、このパターンを鋳型として、電解メッキにより金や銅などの電極材料を析出させる。次いで、樹脂部分を剥離したのち、バリアメタルをエッチングにより除去する。その後、ウェハーからチップが方形に切り出されて、ＴＡＢなどのパッケージングやフリップチップなどの実装工程に移っていく。   More specifically, the bump is currently processed in the following procedure. First, a barrier metal serving as a conductive layer is laminated on a wafer on which an LSI element is processed, and then a radiation-sensitive resin composition so-called resist is applied and dried. Next, radiation is irradiated through a mask (hereinafter referred to as “exposure”) so that a portion where a bump is to be formed is opened, and then development is performed to form a pattern. Thereafter, an electrode material such as gold or copper is deposited by electrolytic plating using this pattern as a mold. Next, after peeling off the resin portion, the barrier metal is removed by etching. Thereafter, the chip is cut out from the wafer into a square, and the process proceeds to a packaging process such as packaging of TAB or a flip chip.

このバンプの形状については、ボールバンプ、マッシュルームバンプ、ストレートバンプなど多様なものがある。
本発明者らは、フォトアプリケーションに好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物を既に提案している（特許文献１参照）。この組成物を用いれば、銅、金等の基板上に高精度なバンプを形成することができる。 There are various bump shapes such as ball bumps, mushroom bumps, and straight bumps.
The present inventors have already proposed a radiation-sensitive resin composition that can be suitably used for photo applications (see Patent Document 1). If this composition is used, a highly accurate bump can be formed on a substrate of copper, gold or the like.

前述したバンプの一連の加工工程においては、レジストに対して、以下のような特性が要求されている。
（１）均一な厚みの塗膜が形成できること。
（２）バンプの狭ピッチ化に対応するために解像性が高いこと。
（３） 鋳型となるパターンの側壁が垂直に近く、パターンがマスク寸法に忠実であるこ
と。
（４）工程の生産効率を高めるために、高感度で現像性に優れていること。
（５）メッキ液に対する良好な濡れ性を有していること。
（６）メッキ時にレジスト成分がメッキ液中に溶出してメッキ液を劣化させることがないこと。
（７）メッキ時にメッキ液が基板とレジストとの界面にしみ出さないように、基板に対して高い密着性を有すること。
（８）メッキ後は、剥離液により容易に剥離されること。 In the series of bump processing steps described above, the following characteristics are required for the resist.
(1) A coating film having a uniform thickness can be formed.
(2) High resolution to cope with narrow pitch of bumps.
(3) The side wall of the pattern to be a mold is nearly vertical, and the pattern is faithful to the mask dimensions.
(4) High sensitivity and excellent developability in order to increase production efficiency of the process.
(5) It has good wettability with respect to the plating solution.
(6) The resist component does not elute into the plating solution during plating and does not deteriorate the plating solution.
(7) High adhesion to the substrate so that the plating solution does not ooze out to the interface between the substrate and the resist during plating.
(8) After plating, it should be easily peeled off with a stripping solution.

本発明者らは、このようなバンプの形成に好適な感放射線性樹脂組成物を既に提案している。（特許文献２）
しかしながら、上記の組成物を樹脂膜とし、バンプを形成する場合は、熱によってパターンが変形し、形成するバンプの形状に悪影響を及ぼすことがあった。また、現像時の樹脂膜と基板との密着性が十分ではないため、メッキ工程でメッキ液が基板と樹脂膜との間に染み出すことがあった。
特開２０００−３９７０９号公報 特開２００３−２４１３７２号公報 The present inventors have already proposed a radiation-sensitive resin composition suitable for forming such bumps. (Patent Document 2)
However, when a bump is formed by using the above composition as a resin film, the pattern may be deformed by heat, which may adversely affect the shape of the bump to be formed. In addition, since the adhesion between the resin film and the substrate during development is not sufficient, the plating solution may ooze out between the substrate and the resin film in the plating step.
JP 2000-39709 A JP 2003-241372 A

本発明は、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供することを課題とする。   The present invention is a manufacturing method capable of accurately forming a thick-film plated article such as a bump or wiring, a negative radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, heat resistance, etc. suitable for this manufacturing method, It is another object of the present invention to provide a transfer film using the composition.

本発明者らは上記事情に鑑みて鋭意研究した結果、（Ａ）特定構造を有する単量体から誘導される構成単位を含有することを特徴とする重合体と、（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、および（Ｃ）感放射線性ラジカル重合開始剤を含有することを特徴とするネガ型感放射線性樹脂組成物およびこの組成物からなる転写フィルムであれば高バンプを精度よく形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies in view of the above circumstances, the present inventors have found that (A) a polymer containing a structural unit derived from a monomer having a specific structure, and (B) at least one A negative radiation-sensitive resin composition comprising a compound having an ethylenically unsaturated double bond, and (C) a radiation-sensitive radical polymerization initiator, and a transfer film comprising this composition is high. The inventors have found that bumps can be formed with high accuracy, and have completed the present invention.

本発明に係るネガ型感放射線性樹脂組成物は、
（Ａ）下記一般式（１）で表される構造単位を含有する重合体、
（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、および
（Ｃ）感放射線性ラジカル重合開始剤
を含有することを特徴とする。 The negative radiation sensitive resin composition according to the present invention is
(A) a polymer containing a structural unit represented by the following general formula (1),
(B) It contains at least one compound having an ethylenically unsaturated double bond, and (C) a radiation-sensitive radical polymerization initiator.

Figure 2006285035
Figure 2006285035

（式（１）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基であり、Ｒ2およびＲ3は、水素原子、炭素
数１〜４の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、これら脂肪族炭化水素基、もしくは脂環式炭化水素基の少なくとも一つの水素原子を炭化水素基以外の極性基に置換した置換炭化水素基、または芳香族基であり、互いに同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ2およびＲ3は、相互に結合してヘテロ原子を含む環状構造を形成しても良い。）
本発明に係る組成物は、メッキ造形物、特にバンプの製造に好適に用いられる。 (In the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 and R 3 are hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, alicyclic hydrocarbon having 3 to 20 carbon atoms A hydrogen group, a substituted hydrocarbon group in which at least one hydrogen atom of these aliphatic hydrocarbon groups or alicyclic hydrocarbon groups is substituted with a polar group other than a hydrocarbon group, or an aromatic group, which are the same or different from each other R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a cyclic structure containing a hetero atom.)
The composition according to the present invention is suitably used for the production of a plated model, particularly a bump.

上記ネガ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）成分１００重量部に対して、（Ｂ）成分が３０〜８０重量部含まれることが好ましい。また、（Ａ）成分１００重量部に対して、（
Ｃ）成分が１〜４０重量部含まれることが好ましい。 The negative radiation sensitive resin composition preferably contains 30 to 80 parts by weight of the component (B) with respect to 100 parts by weight of the component (A). Moreover, with respect to 100 parts by weight of component (A),
It is preferable that 1-40 weight part of C) component is contained.

また、本発明に係るネガ型感放射線性樹脂組成物は有機溶媒を含んでいてもよい。
本発明に係る転写フィルムは、上記樹脂組成物からなる樹脂膜を有することを特徴とする。 Moreover, the negative radiation sensitive resin composition according to the present invention may contain an organic solvent.
The transfer film according to the present invention has a resin film made of the above resin composition.

本発明に係るメッキ造形物の製造方法は、
（１）バリアメタル層を有するウェハー上に、上記ネガ型感放射線性樹脂組成物からなる樹脂膜を形成する工程、
（２）上記樹脂膜を露光した後に現像してパターンを形成する工程、
（３）上記パターンを鋳型として、電解メッキにより電極材料を析出させる工程、および（４）残存する樹脂膜を剥離した後、バリアメタルをエッチングにより除去する工程
を含むことを特徴とする。 The method for producing a plated model according to the present invention is as follows.
(1) A step of forming a resin film made of the negative radiation sensitive resin composition on a wafer having a barrier metal layer,
(2) A step of developing the pattern after exposing the resin film,
(3) including a step of depositing an electrode material by electrolytic plating using the pattern as a mold, and (4) a step of removing the barrier metal by etching after peeling off the remaining resin film.

本発明の感放射線性樹脂組成物は、解像性、密着性が良好であり、耐熱性にも優れていることから、基板上に良形状なパターニングを行うことができ、またパターニング後、熱をかけることにより更に硬化性を高めることもできるため、バンプをチップ基材上に高精度かつ容易に形成することができる。これにより、素子の接続不良を抑制し、素子の信頼性を向上することができる。   The radiation-sensitive resin composition of the present invention has good resolution, adhesion, and excellent heat resistance, so that it can be patterned in a good shape on the substrate. Since the curability can be further improved by applying the step, the bump can be formed on the chip substrate with high accuracy and easily. Thereby, the connection failure of an element can be suppressed and the reliability of an element can be improved.

以下、本発明について具体的に説明する。
本発明に係るネガ型感放射線性樹脂組成物は、
（Ａ）下記一般式（１）で表される構造単位を含有する重合体、（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、および（Ｃ）感放射線性ラジカル重合開始剤を含有するネガ型感放射線性樹脂組成物である。 Hereinafter, the present invention will be specifically described.
The negative radiation sensitive resin composition according to the present invention is
(A) a polymer containing a structural unit represented by the following general formula (1), (B) a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and (C) a radiation-sensitive radical polymerization initiator Is a negative-type radiation-sensitive resin composition.

Figure 2006285035
Figure 2006285035

（式（１）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基であり、Ｒ2およびＲ3は、水素原子、炭素
数１〜４の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、これら脂肪族炭化水素基、もしくは脂環式炭化水素基の少なくとも一つの水素原子を炭化水素基以外の極性基に置換した置換炭化水素基、または芳香族基であり、互いに同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ2およびＲ3は、相互に結合してヘテロ原子を含む環状構造を形成しても良い。）
まず各成分について説明する。 (In the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 and R 3 are hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, alicyclic hydrocarbon having 3 to 20 carbon atoms A hydrogen group, a substituted hydrocarbon group in which at least one hydrogen atom of these aliphatic hydrocarbon groups or alicyclic hydrocarbon groups is substituted with a polar group other than a hydrocarbon group, or an aromatic group, which are the same or different from each other R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a cyclic structure containing a hetero atom.)
First, each component will be described.

＜（Ａ）重合体＞
本発明に用いる重合体（Ａ）は上記一般式（１）で表される構造単位を含有する重合体である。 <(A) Polymer>
The polymer (A) used in the present invention is a polymer containing the structural unit represented by the general formula (1).

この一般式（１）で表される構造単位を重合体（Ａ）に含有することで、レジストの基板に対する密着性を高め、メッキ時にメッキ液が基板とレジストとの界面にしみ出すことを防ぐ効果がある。また、この構造単位中に含有されるアミド、またはエステル部位がメッキ液に対する親和性を高めることから、メッキ工程におけるメッキ液に対する濡れ性を上げ、メッキの欠陥を防ぐ効果がある。   By containing the structural unit represented by the general formula (1) in the polymer (A), the adhesion of the resist to the substrate is improved and the plating solution is prevented from seeping out to the interface between the substrate and the resist during plating. effective. Further, since the amide or ester moiety contained in the structural unit increases the affinity for the plating solution, the wettability with respect to the plating solution in the plating step is increased, and there is an effect of preventing plating defects.

露光した樹脂膜を現像するために用いるアルカリ現像液は、１種または２種以上のアルカリ性化合物を水などに溶解させることにより得られる溶液である。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。   The alkaline developer used for developing the exposed resin film is a solution obtained by dissolving one or more alkaline compounds in water or the like. In addition, after the development process with an alkali developer is performed, a washing process is usually performed.

重合体（Ａ）中に占める上記の一般式（１）で表される構造単位の合計は、通常１〜３０重量％であり、好ましくは１０〜２０重量％である。
重合体（Ａ）中に占める上記の一般式（１）で表される構造単位の合計が上記範囲内であると、得られる重合体（Ａ）の分子量を充分に上げることができ、また、得られる感放射線性樹脂膜の基板に対する密着性も良好になる。 The total of the structural units represented by the above general formula (1) in the polymer (A) is usually 1 to 30% by weight, preferably 10 to 20% by weight.
When the total of the structural units represented by the above general formula (1) in the polymer (A) is within the above range, the molecular weight of the resulting polymer (A) can be sufficiently increased, The adhesion of the resulting radiation-sensitive resin film to the substrate is also improved.

≪単量体（１’）≫
上記一般式（１）の構造は、例えば、下記一般式で表される単量体（１’）を用いて重合体Ａを重合することにより得ることができる。 ≪Monomer (1 ') ≫
The structure of the general formula (1) can be obtained, for example, by polymerizing the polymer A using the monomer (1 ′) represented by the following general formula.

Figure 2006285035
Figure 2006285035

上記式（１’）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基であり、Ｒ2およびＲ3は、水素原子
、炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、これら脂肪族炭化水素基、もしくは脂環式炭化水素基の少なくとも一つの水素原子を炭化水素基以外の極性基に置換した置換炭化水素基、または芳香族基であり、互いに同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ2およびＲ3は、相互に結合してヘテロ原子を含む環状構造を形成しても良い。 In the above formula (1 '), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 and R 3 are hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, alicyclic having 3 to 20 carbon atoms A hydrocarbon group, a substituted hydrocarbon group in which at least one hydrogen atom of the aliphatic hydrocarbon group or the alicyclic hydrocarbon group is substituted with a polar group other than a hydrocarbon group, or an aromatic group, May be different. R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a cyclic structure containing a hetero atom.

上記炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基としては、たとえば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基などが挙げられる。   Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, 2-methylpropyl group, 1-methylpropyl group, Examples include t-butyl group.

上記炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基としては、たとえば、シクロブチル基、シクロペンチル基、 シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などのシクロア
ルキル基；アダマンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、テトラシクロ［６．２．１．１3,6 ．０2,7］ドデカン、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンなどの有橋式炭
化水素類に由来する基などが挙げられる。また、Ｒ2およびＲ3の２つのいずれもが脂肪族炭化水素基である場合は、そのアルキル鎖が相互に結合して炭素数４〜２０の脂環式炭化
水素基を形成していてもよく、この形成される脂環式炭化水素基としては、上記脂環式炭化水素基と同様のものを挙げることができる。 Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms include cycloalkyl groups such as a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group; adamantane, bicyclo [2.2.1] Heptane, tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . And groups derived from bridged hydrocarbons such as 0 2,7 ] dodecane and tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane. Further, when both of R 2 and R 3 are aliphatic hydrocarbon groups, the alkyl chain may be bonded to each other to form an alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms. Well, examples of the alicyclic hydrocarbon group to be formed include those similar to the above alicyclic hydrocarbon group.

また、上記脂肪族炭化水素基、および脂環式炭化水素基の少なくとも一つの水素原子と置換可能な炭化水素基以外の極性基としては、たとえば、クロロ基；ヒドロキシル基；カルボキシル基；オキソ基（すなわち、＝Ｏ基）；ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基などのヒドロキシアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メチルプロポキシ基、１−メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシル基；シアノ基；シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、４−シアノブチル基などの炭素数２〜６のシアノアルキル基などが挙げられる。   Examples of the polar group other than the hydrocarbon group that can be substituted with at least one hydrogen atom of the aliphatic hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group include a chloro group; a hydroxyl group; a carboxyl group; an oxo group ( That is, = O group); hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-hydroxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group, 2-hydroxybutyl group, 3-hydroxy Hydroxyalkyl groups such as butyl group and 4-hydroxybutyl group; methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, n-butoxy group, 2-methylpropoxy group, 1-methylpropoxy group, t-butoxy A C1-C6 alkoxyl group such as a group; a cyano group; a cyanomethyl group, a 2-cyanoethyl group, - cyanopropyl group, a cyanoalkyl group having 2 to 6 carbon atoms such as 4-cyanobutyl group.

上記芳香族基としては、たとえば、フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、１−ナフチル基、ベンジル基などが挙げられる。
上記単量体（１’）としては、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、Ｎ−メタクリロイルモルフォリン、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、N−イソプロピルアクリ
ルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミドなどを挙げることができる。 Examples of the aromatic group include a phenyl group, an o-tolyl group, an m-tolyl group, a p-tolyl group, a 4-t-butylphenyl group, a 1-naphthyl group, and a benzyl group.
Examples of the monomer (1 ′) include N-acryloylmorpholine, N-methacryloylmorpholine, N-hydroxyethylacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, N, N-diethylacrylamide, and N, N-diethylmethacrylamide. N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-isopropylacrylamide, N-isopropylmethacrylamide and the like.

これら単量体（１’）の中でも
Ｎ−アクリロイルモルフォリン、Ｎ−メタクリロイルモルフォリン、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミドが好ましく、
Ｎ−アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドがより好ましい。 Among these monomers (1 ′), N-acryloylmorpholine, N-methacryloylmorpholine, N-hydroxyethylacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, N, N-diethylacrylamide, N, N-diethylmethacrylamide, N, N-dimethylacrylamide and N, N-dimethylmethacrylamide are preferred,
N-acryloylmorpholine, N-hydroxyethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, and N, N-dimethylacrylamide are more preferable.

単量体（１’）が上記化合物である場合には、得られた重合体（Ａ）を含む本発明に係る組成物は、特に、基板との密着性、耐熱性、メッキ処理耐性に優れる。
単量体（１’）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 When the monomer (1 ′) is the above compound, the composition according to the present invention containing the obtained polymer (A) is particularly excellent in adhesion to the substrate, heat resistance, and plating treatment resistance. .
A monomer (1 ') can be used individually or in mixture of 2 or more types.

《単量体（Ｉ）》
重合体（Ａ）は、さらに、単量体（１’）以外の共重合可能な単量体（以下、「単量体（Ｉ） 」という。）から誘導される構成単位を含有することができる。 <Monomer (I)>
The polymer (A) may further contain a structural unit derived from a copolymerizable monomer other than the monomer (1 ′) (hereinafter referred to as “monomer (I)”). it can.

単量体（Ｉ） としては、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒ
ドロキシスチレン、ｐ−イソプロペニルフェノール、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレンなどの芳香族ビニル化合物；
Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタムなどのヘテロ原子含有脂環式ビニル化合物；
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアノ基含有ビニル化合物；
１．３−ブタジエン、イソプレンなどの共役ジオレフィン類；アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基含有ビニル化合物；
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールモ
ノ（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル類；
ｐ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。 As the monomer (I), aromatic such as o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, p-isopropenylphenol, styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, etc. Vinyl compounds;
Heteroatom-containing alicyclic vinyl compounds such as N-vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam;
Cyano group-containing vinyl compounds such as acrylonitrile and methacrylonitrile;
1. Conjugated diolefins such as 3-butadiene and isoprene; carboxyl group-containing vinyl compounds such as acrylic acid and methacrylic acid;
Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono ( (Meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) (Meth) acrylic acid esters such as acrylate;
p-hydroxyphenyl (meth) acrylamide etc. are mentioned.

これらの単量体（Ｉ） のうち、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−イソプロペニルフェノ
ール、スチレン、アクリル酸、メタクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミドなどが好ましい。 Among these monomers (I), p-hydroxystyrene, p-isopropenylphenol, styrene, acrylic acid, methacrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, Tricyclodecanyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, p-hydroxyphenyl (meth) acrylamide and the like are preferable.

単量体（Ｉ） は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
重合体（Ａ）の重合は、例えば、ラジカル重合によって行うことができる。また、重合方法としては、例えば、乳化重合法、懸濁重合法、溶液重合法、塊状重合法などが挙げられるが、特に溶液重合法が好ましい。
《重合開始剤》
重合体（Ａ）を製造する際に用いられる重合開始剤としては、通常のラジカル重合開始剤を用いることができる。 Monomers (I) can be used alone or in admixture of two or more.
Polymerization of the polymer (A) can be performed, for example, by radical polymerization. Examples of the polymerization method include an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, a solution polymerization method, and a bulk polymerization method, and the solution polymerization method is particularly preferable.
<Polymerization initiator>
As a polymerization initiator used when producing the polymer (A), a normal radical polymerization initiator can be used.

このような重合開始剤としては、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル、２，２'−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２'−アゾビス−（４−メトキシ−
２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２'−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル
）、１，１'−アゾビス−（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、ジメチル−２，２'−アゾビス（２−メチルプロピオネート）などのアゾ化合物；
ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１'−ビス−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機過酸
化物および過酸化水素などが挙げられる。また、前記有機過酸化物をラジカル重合開始剤に使用する場合には、還元剤を組み合わせてレドックス型の開始剤としてもよい。 Such polymerization initiators include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis- (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis- (4-methoxy-).
2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis- (2-methylbutyronitrile), 1,1′-azobis- (cyclohexane-1-carbonitrile), dimethyl-2,2′-azobis ( Azo compounds such as 2-methylpropionate);
Examples thereof include organic peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, tert-butylperoxypivalate, 1,1′-bis- (tert-butylperoxy) cyclohexane, hydrogen peroxide, and the like. Moreover, when using the said organic peroxide for a radical polymerization initiator, it is good also as a redox type initiator combining a reducing agent.

《重合溶媒》
また、重合体（Ａ）を溶液重合法で製造する際に用いられる重合溶媒としては、使用される単量体成分と反応せず、生成する重合体を溶解するものであれば特に限定されるものでない。 《Polymerization solvent》
In addition, the polymerization solvent used when the polymer (A) is produced by the solution polymerization method is not particularly limited as long as it does not react with the monomer component used and dissolves the polymer to be produced. Not a thing.

このような重合溶媒としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール類；
テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類；
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどの多価アルコールのアルキルエーテル類；
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、ジアセトンアルコールなどのケトン類；
酢酸エチル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メ
チルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなどのエステル類が挙げられる。 Examples of such a polymerization solvent include alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol, diethylene glycol, and propylene glycol;
Cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane;
Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl Alkyl ethers of polyhydric alcohols such as ethers;
Alkyl ether acetates of polyhydric alcohols such as ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, diacetone alcohol;
Ethyl acetate, butyl acetate, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2-hydroxy-3-methylbutane Examples include esters such as methyl acid, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl acetate, butyl acetate, and ethyl lactate.

これらのうちでは、環状エーテル類、多価アルコールのアルキルエーテル類、多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、エステル類などが好ましい。
上記ラジカル共重合で得られる重合体（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマト法ポリスチレン換算で通常１，０００〜１００，０００であり、好ましくは２，０００〜５０，０００、より好ましくは３，０００〜２０，０００の範囲である。 Of these, cyclic ethers, polyhydric alcohol alkyl ethers, polyhydric alcohol alkyl ether acetates, ketones, and esters are preferred.
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer (A) obtained by the radical copolymerization is usually 1,000 to 100,000, preferably 2,000 to 50,000, in terms of gel permeation chromatography polystyrene. More preferably, it is in the range of 3,000 to 20,000.

＜（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物＞
本発明に用いられる化合物（Ｂ）は、分子中にエチレン性不飽和基を少なくとも１個有する常温で液体または固体の化合物である。化合物（Ｂ）としては、（メタ）アクリロイル基を持つ（メタ）アクリレート化合物、またはビニル基を持つ化合物が好ましく用いられる。前記（メタ）アクリレート化合物は、単官能性化合物と多官能性化合物に分類されるが、いずれの化合物も用いることができる。 <(B) Compound having at least one ethylenically unsaturated double bond>
The compound (B) used in the present invention is a liquid or solid compound at room temperature having at least one ethylenically unsaturated group in the molecule. As the compound (B), a (meth) acrylate compound having a (meth) acryloyl group or a compound having a vinyl group is preferably used. The (meth) acrylate compound is classified into a monofunctional compound and a polyfunctional compound, and any compound can be used.

前記単官能性（メタ）アクリレート化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシルアミル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカジエニル（メタ）アクリレート、トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカニル（メタ）アクリレート、トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デセニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、ｔｅｒｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、エチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、（メタ）アクリロニトリルなどが挙げられる。 Examples of the monofunctional (meth) acrylate compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, and ethyl (meth) acrylate. , Propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate , Heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate Rate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl amyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, butoxyethyl ( (Meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxyethylene glycol ( (Meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate Over DOO, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polypropylene glycol (meth) acrylate, methoxy polypropylene glycol (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6] decadienyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] Decanyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decenyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, diacetone (meth) acrylamide, isobutoxymethyl (meth) acrylamide, N- Vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, tert-octyl (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl Acrylate), 7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate, dimethyl maleate, diethyl maleate, dimethyl fumarate, diethyl fumarate, ethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, ethylene glycol monoethyl ether ( Examples include meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, acrylic acid amide, methacrylic acid amide, and (meth) acrylonitrile.

前記多官能性（メタ）アクリレート化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルに（メタ）アクリル酸を付加させたエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリロイルオキシエチルエーテル、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシエチルエーテル、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリロイルオキシロキシメチルエチルエーテル、テトラメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。   Examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4- Butanediol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di ( (Meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethyl Nord di (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate with bisphenol A diglycidyl ether added with (meth) acrylic acid, bisphenol A di (meth) acryloyloxyethyl ether, bisphenol A di (meth) acryloyloxyethyloxyethyl Ether, bisphenol A di (meth) acryloyloxyloxymethyl ethyl ether, tetramethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, di Examples include pentaerythritol hexa (meth) acrylate.

また、前記エチレン性不飽和化合物（Ｂ）として、市販されている化合物をそのまま用いることもできる。市販されている化合物としては、アロニックスＭ−２１０、同Ｍ−３０９、同Ｍ−３１０、同Ｍ−４００、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−８１００、同Ｍ−９０５０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−２４５、同Ｍ−６１００、同Ｍ−６２００、同Ｍ−６２５０、同Ｍ−６３００、同Ｍ−６４００、同Ｍ−６５００（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１、同Ｒ−７１２、同ＴＭＰＴＡ、
同ＨＤＤＡ、同ＴＰＧＤＡ、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＭＡＮＤＡ、同ＨＸ−２２０、同ＨＸ−６２０、同Ｒ−６０４、同ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート＃２９５、同３００、同２６０、同３１２、同３３５ＨＰ、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）などが挙げられる。 Moreover, as the ethylenically unsaturated compound (B), a commercially available compound can be used as it is. As commercially available compounds, Aronix M-210, M-309, M-310, M-400, M-7100, M-8030, M-8060, M-8100, M-8100, M -9050, M-240, M-245, M-6100, M-6200, M-6200, M-6250, M-6300, M-6400, M-6500 (above, Toagosei Co., Ltd.) Manufactured), KAYARAD R-551, R-712, TMPTA,
HDDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620, R-604, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 Yaku Co., Ltd.), Biscoat # 295, 300, 260, 312, 335HP, 360, GPT, 3PA, 400 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) .

化合物（Ｂ）は、単独でまたは２種以上を併用してもよい。
化合物（Ｂ）の使用量は、アルカリ可溶性を有する重合体（Ａ）１００重量部に対して、通常３０〜８０重量部、好ましくは４０〜７０重量部である。化合物（Ｂ）の量が上記の範囲内であると、得られる感放射線性樹脂膜の露光時の感度が良好で、かつ、前記重合体（Ａ）との相溶性に優れ、塗液の保存安定性が向上する。 Compound (B) may be used alone or in combination of two or more.
The usage-amount of a compound (B) is 30-80 weight part normally with respect to 100 weight part of polymers (A) which have alkali solubility, Preferably it is 40-70 weight part. When the amount of the compound (B) is within the above range, the resulting radiation-sensitive resin film has good sensitivity at the time of exposure, is excellent in compatibility with the polymer (A), and preserves the coating liquid. Stability is improved.

＜（Ｃ）感放射線性ラジカル重合開始剤＞
本発明に用いられる感放射線性ラジカル重合開始剤（Ｃ）とは、放射線の照射により、ラジカルを発生し、前記のエチレン性不飽和化合物（Ｂ）のラジカル重合を開始させるものである。このラジカル発生能を有する限り、開始剤（Ｃ）は特に限定されない。 <(C) Radiation sensitive radical polymerization initiator>
The radiation-sensitive radical polymerization initiator (C) used in the present invention is one that generates radicals upon irradiation with radiation and initiates radical polymerization of the ethylenically unsaturated compound (B). The initiator (C) is not particularly limited as long as it has this radical generating ability.

ここで、放射線とは、紫外線、可視光線、遠紫外線、Ｘ線、電子線などを意味する。通常、感放射線性樹脂の硬化放射線源としては水銀ランプが使用される。感放射線性樹脂の硬化に際しては、水銀ランプの発光スペクトルのうち、波長３６５ｎｍのｉ線および波長４０５ｎｍのｈ線を利用することが一般的である。   Here, the radiation means ultraviolet rays, visible rays, far ultraviolet rays, X-rays, electron beams, and the like. Normally, a mercury lamp is used as a curing radiation source for the radiation sensitive resin. When curing the radiation sensitive resin, it is common to use i-line having a wavelength of 365 nm and h-line having a wavelength of 405 nm in the emission spectrum of the mercury lamp.

このうち、ｉ線は、高エネルギーであり、硬化性は高く、酸素による硬化阻害を受けにくいが、短波長であるために吸収されやすい。そのため，ｉ線を厚膜の感放射線性樹脂膜の硬化に用いた場合には、感放射線性樹脂膜の底部まで充分なエネルギーが到達できないので、上記の樹脂膜に所望のパターンが形成されない場合がある。例えば、パターニング
後の感放射線性樹脂膜の断面形状が矩形でなくなったり、感放射線性樹脂膜の表層部よりも底部が抉れた台形になったりすることがある。 Among these, i-line is high energy, has high curability and is not easily inhibited by oxygen, but is easily absorbed because of its short wavelength. Therefore, when i-line is used for curing a thick radiation-sensitive resin film, sufficient energy cannot reach the bottom of the radiation-sensitive resin film, and a desired pattern is not formed on the resin film. There is. For example, the cross-sectional shape of the radiation-sensitive resin film after patterning may not be rectangular, or it may be a trapezoid with a bottom that is more than the surface layer of the radiation-sensitive resin film.

一方、ｈ線は、ｉ線よりもエネルギーが低いため、硬化に時間がかかる。そのため、感放射線性樹脂膜の表面が酸素により硬化阻害されやすいので、パターニング後の残膜率が著しく低下する場合がある。しかし、ｈ線はｉ線より波長が長いため、光透過率が高い。そのため、厚膜の感放射線性樹脂膜に用いた場合にも感放射線性樹脂膜の底部までエネルギーが到達しやすいので、パターニング後の感放射線性樹脂膜断面の形状が矩形となり、上記の樹脂膜に所望のパターンが形成されやすい。   On the other hand, since the h line has lower energy than the i line, it takes time to cure. Therefore, since the surface of the radiation sensitive resin film is easily inhibited by oxygen, the residual film ratio after patterning may be significantly reduced. However, since the h-line has a longer wavelength than the i-line, the light transmittance is high. Therefore, even when it is used for a thick film of radiation sensitive resin, energy easily reaches the bottom of the radiation sensitive resin film, so that the shape of the cross section of the radiation sensitive resin film after patterning becomes rectangular, and the above resin film Thus, a desired pattern is easily formed.

ｉ線、ｈ線は上記のような特性を有するので、感放射線性樹脂膜の表層部のみならず、底部をも充分に硬化させた所望の高精度なパターンを得るためには、本発明に係る感放射線性樹脂組成物は以下の要件を満たすことが好ましい。該組成物を乾燥膜厚を７０μmと
なるような樹脂膜を形成したときに、
（１）該樹脂膜のｉ線（３６５ｎｍの放射線）の透過率が、好ましくは１０％以上、より好ましくは１２〜３０％であり、かつ
（２）該樹脂膜のｈ線（４０５ｎｍの放射線）の透過率が好ましくは６０％以上、より好ましくは６５〜８０％であること。 Since i-line and h-line have the characteristics as described above, in order to obtain a desired high-accuracy pattern in which not only the surface layer part of the radiation-sensitive resin film but also the bottom part is sufficiently cured, the present invention is applied. Such a radiation sensitive resin composition preferably satisfies the following requirements. When a resin film having a dry film thickness of 70 μm was formed from the composition,
(1) The transmittance of i-line (365 nm radiation) of the resin film is preferably 10% or more, more preferably 12-30%, and (2) h-line (405 nm radiation) of the resin film The transmittance is preferably 60% or more, more preferably 65 to 80%.

このような特性を有する組成物を用いれば、5〜２００μmの膜厚を有する感放射線
性樹脂膜をチップ基材上に形成し、ｉ線およびｈ線を照射することにより、該感放射線性樹脂膜の表層部のみならず、底部をも充分に硬化させた所望の高精度なパターンを得ることができる。 If a composition having such characteristics is used, a radiation sensitive resin film having a film thickness of 5 to 200 μm is formed on the chip base material, and the radiation sensitive resin is irradiated with i rays and h rays. A desired highly accurate pattern in which not only the surface layer portion of the film but also the bottom portion is sufficiently cured can be obtained.

すなわち、双方の波長の透過率を向上させることにより、感放射線性樹脂膜の表面から内部へ透過する光の減衰を抑え、感放射線性樹脂膜全体にわたって均一に硬化させることにより、パターニング部分の断面においてその底辺と側壁とが略直角である硬化膜を得ることができる。これによって、ストレート形状の高バンプを高精度で形成することが可能になる。   That is, by improving the transmittance of both wavelengths, the attenuation of light transmitted from the surface of the radiation-sensitive resin film to the inside is suppressed, and the cross-section of the patterning portion is cured by uniformly curing the entire radiation-sensitive resin film. In this case, a cured film can be obtained in which the bottom and side walls are substantially perpendicular. This makes it possible to form straight high bumps with high accuracy.

放射線の透過率の測定は、たとえば、下記のような方法で実施することができる。
まず、前記（Ａ）重合体、（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と、（Ｃ）感放射線性ラジカル重合開始剤とを所定の量で含有する組成物の乳酸エチル溶液（６５重量％）を調製し、スピンコート法で、厚さ1ｍｍの石英基板上に樹脂膜
を形成し、その後、ホットプレートにて１２０℃で５分間ベークして、溶媒を飛ばし、塗布膜を形成する。なお、この場合予めベーク後における塗布膜の膜厚が７０μmとなるよ
うに、スピンコート時の回転数をコントロールする。 The measurement of the transmittance of radiation can be performed, for example, by the following method.
First, lactic acid having a composition containing (A) the polymer, (B) a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and (C) a radiation-sensitive radical polymerization initiator in a predetermined amount. An ethyl solution (65% by weight) is prepared, a resin film is formed on a quartz substrate having a thickness of 1 mm by spin coating, and then baked on a hot plate at 120 ° C. for 5 minutes to remove the solvent and apply. A film is formed. In this case, the number of rotations during spin coating is controlled in advance so that the thickness of the coating film after baking is 70 μm.

このようにして、石英基板上に形成した樹脂膜を、分光光度計（たとえば、HITACHI Spectrophotometer U-2010）を用いて、樹脂膜を有しない石英基板をリファレンスとして波長３００ｎｍ〜５００ｎｍにおける透過率を測定する。   In this way, the resin film formed on the quartz substrate is measured for transmittance at a wavelength of 300 nm to 500 nm using a spectrophotometer (for example, HITACHI Spectrophotometer U-2010) with a quartz substrate having no resin film as a reference. To do.

また、吸光度を吸光係数に換算した場合、本発明に係る樹脂組成物は、乾燥膜厚７０μmの未硬化状態の樹脂膜を形成したときに、
（１）３６５ｎｍの放射線について１５０００ｍ-1以下の吸光係数、かつ
（２）４０５ｎｍの放射線について４０００ｍ-1以下の吸光係数
となる組成物であることが好ましい。 Further, when the absorbance is converted into an extinction coefficient, the resin composition according to the present invention is formed when an uncured resin film having a dry film thickness of 70 μm is formed.
It is preferable that the composition has (1) an extinction coefficient of 15000 m -1 or less for 365 nm radiation and (2) an extinction coefficient of 4000 m -1 or less for 405 nm radiation.

吸光係数εは、測定した透過率を式ε＝ｌｏｇ（Ｉ0／Ｉ）／Ｌに当てはめることによ
り求めることができる（ここで、εは吸光係数（ｍ-1）、Ｉは樹脂膜を透過した直後の光
の強さ（ｃｄ）、Ｉ0は樹脂膜を透過する前の光の強さ（ｃｄ）、Ｌは樹脂膜の乾燥膜厚
（ｍ）を示す）。 The extinction coefficient ε can be obtained by applying the measured transmittance to the formula ε = log (I 0 / I) / L (where ε is the extinction coefficient (m −1 ) and I is transmitted through the resin film). The light intensity (cd) immediately after exposure, I 0 is the light intensity (cd) before passing through the resin film, and L is the dry film thickness (m) of the resin film.

このような好ましい吸光係数を有する樹脂組成物とする方法としては、感放射線性ラジカル重合開始剤（Ｃ）の種類および量を、好ましい吸光係数を有する樹脂組成物となるように添加する方法がある。   As a method for preparing a resin composition having such a preferable extinction coefficient, there is a method of adding the kind and amount of the radiation sensitive radical polymerization initiator (C) so as to obtain a resin composition having a preferable extinction coefficient. .

このような感放射線性ラジカル重合開始剤（Ｃ）としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシドなどのアシルフォスフィンオキサイド類；２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、２,２'−ビス（２,４−ジクロロフ
ェニル）−４,５,４',５'−テトラフェニル−１,２' −ビスイミダゾールなどが挙げられる。また、市販品としては、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ（株）製）、イルガキュア６５１（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）などが挙げられる。これらの化合物は単独でまたは２種以上組み合わせて使用することができる。 Examples of such a radiation sensitive radical polymerization initiator (C) include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide. Acylphosphine oxides such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, benzyldimethyl ketal, benzyl-β-methoxyethyl acetal, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (O-ethoxycarbonyl) oxime, 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl-1,2′-bisimidazole and the like can be mentioned. Moreover, as a commercial item, Lucilin TPO (made by BASF Corporation), Irgacure 651 (made by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), etc. are mentioned. These compounds can be used alone or in combination of two or more.

これらのうち、２メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モンフォリノプロパノン−１、４,４’’ −ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、および２,２'−ビス（２,４−ジクロロフェニル）−４,５,４',５'−テトラフェニル−１,２' −ビスイミ
ダゾールの併用が好ましい。 Of these, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-montforinopropanone-1,4,4 ″ -bis (diethylamino) benzophenone, and 2,2′-bis (2, 4-Dichlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl-1,2′-bisimidazole is preferably used in combination.

前記感放射線性ラジカル重合開始剤の添加量は、重合体（Ａ）１００重量部に対して、通常１〜４０重量部であり、好ましくは５〜３０重量部であり、より好ましくは１０〜２０重量部である。   The addition amount of the radiation sensitive radical polymerization initiator is usually 1 to 40 parts by weight, preferably 5 to 30 parts by weight, more preferably 10 to 20 parts per 100 parts by weight of the polymer (A). Parts by weight.

このように感放射線性ラジカル重合開始剤の種類を選び、上記範囲内の量で使用することにより、ｉ線およびｈ線双方の波長における透過率を向上させ、感放射線性樹脂膜の表層のみならず、底部をも充分に硬化させることができる。また、感放射線性樹脂膜の酸素によるラジカルの失活の影響（感度の低下）を抑制するため、所望のパターンを高精度に得ることができる。また、塗布液での相溶性および保存安定性をも向上させることができる。   Thus, by selecting the type of radiation-sensitive radical polymerization initiator and using it in an amount within the above range, the transmittance at both wavelengths of i-line and h-line is improved, and only the surface layer of the radiation-sensitive resin film is used. In addition, the bottom can be sufficiently cured. In addition, since a radical deactivation effect (decrease in sensitivity) due to oxygen in the radiation-sensitive resin film is suppressed, a desired pattern can be obtained with high accuracy. In addition, compatibility with the coating solution and storage stability can be improved.

＜有機溶媒（Ｄ）＞
本発明の樹脂組成物は必要に応じて有機溶媒を含有していてもよい。有機溶媒（Ｄ）としては、重合体（Ａ）および各成分を均一に溶解させることができ、また各成分と反応しないものが用いられる。このような有機溶媒としては、重合体（Ａ）を製造する際に用いられる重合溶媒と同様の溶媒を用いることができる。また、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどの高沸点溶媒も用いることができる。 <Organic solvent (D)>
The resin composition of the present invention may contain an organic solvent as necessary. As the organic solvent (D), those capable of uniformly dissolving the polymer (A) and each component and not reacting with each component are used. As such an organic solvent, the solvent similar to the polymerization solvent used when manufacturing a polymer (A) can be used. Also, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-methylformanilide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, benzylethyl ether, dihexyl ether, acetonylacetone , Isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, phenyl cellosolve acetate, etc. High boiling solvents can also be used.

これら中では、溶解性、各成分との反応性および樹脂膜形成の容易性の点から、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルなどの多価アルコールのアルキルエーテル類；
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類；
３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、乳酸エチルなどのエステル類；
ジアセトンアルコールなどのケトン類が好適である。 Among these, alkyl ethers of polyhydric alcohols such as ethylene glycol monoethyl ether and diethylene glycol monomethyl ether in terms of solubility, reactivity with each component, and ease of resin film formation;
Alkyl ether acetates of polyhydric alcohols such as ethylene glycol monoethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate;
Esters such as ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl lactate;
Ketones such as diacetone alcohol are preferred.

上記溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。また、溶媒の使用量は、用途、塗布方法などに応じて適宜決めることができる。
＜その他の成分＞
本発明に係るネガ型感放射線性樹脂組成物には、その他に、必要に応じて、熱重合禁止剤、界面活性剤、接着助剤、その他添加剤を使用することができる。 The said solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types. Moreover, the usage-amount of a solvent can be suitably determined according to a use, a coating method, etc.
<Other ingredients>
In addition to the negative radiation sensitive resin composition according to the present invention, a thermal polymerization inhibitor, a surfactant, an adhesion aid, and other additives can be used as necessary.

≪熱重合禁止剤≫
また、本発明の感放射線性樹脂組成物には、熱重合禁止剤を含有させることができる。このような熱重合禁止剤としては、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、モノベンジルエーテル、メチルヒドロキノン、アミルキノン、アミロキシヒドロキノン、ｎ−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノプロピルエーテル、４，４'−（１−メチルエチリデン）ビス（２−メチルフェ
ノール）、４，４'−（１−メチルエチリデン）ビス（２，６−ジメチルフェノール）、
４，４'−［１−〔４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）フェニ
ル〕エチリデン］ビスフェノール、４，４'，４"−エチリデントリス（２−メチルフェノール）、４，４'，４"−エチリデントリスフェノール、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパンなどを挙げることができる。これら化合物の使用量は、重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは５重量部以下である。 ≪Thermal polymerization inhibitor≫
Moreover, the radiation sensitive resin composition of this invention can be made to contain a thermal-polymerization inhibitor. Examples of such thermal polymerization inhibitors include pyrogallol, benzoquinone, hydroquinone, methylene blue, tert-butylcatechol, monobenzyl ether, methylhydroquinone, amylquinone, amyloxyhydroquinone, n-butylphenol, phenol, hydroquinone monopropyl ether, 4,4. '-(1-methylethylidene) bis (2-methylphenol), 4,4'-(1-methylethylidene) bis (2,6-dimethylphenol),
4,4 '-[1- [4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl) phenyl] ethylidene] bisphenol, 4,4', 4 "-ethylidene tris (2-methylphenol), 4 , 4 ′, 4 ″ -ethylidenetrisphenol, 1,1,3-tris (2,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) -3-phenylpropane, and the like. The amount of these compounds used is preferably 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polymer (A).

≪界面活性剤≫
また、本発明に係る感放射線性樹脂組成物には、塗布性、消泡性、レベリング性などを向上させる目的で界面活性剤を含有させることもできる。 ≪Surfactant≫
In addition, the radiation-sensitive resin composition according to the present invention may contain a surfactant for the purpose of improving coating properties, antifoaming properties, leveling properties and the like.

界面活性剤としては、市販されている化合物をそのまま用いることもできる。市販されている界面活性剤の具体例としては、たとえば、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ ケミー社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３
（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５（以上、旭硝子（株）製）、ＳＨ−２８ＰＡ、同−１９０、同−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８（以上、東レダウコーニングシリコーン（株）製）などが挙げられる。 As the surfactant, a commercially available compound can be used as it is. Specific examples of commercially available surfactants include, for example, BM-1000, BM-1100 (manufactured by BM Chemie), MegaFuck F142D, F172, F173, F183.
(Above, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), Florard FC-135, FC-170C, FC-430, FC-431 (above, manufactured by Sumitomo 3M), Surflon S-112, S-113, S-131, S-141, S-145 (made by Asahi Glass Co., Ltd.), SH-28PA, -190, -193, SZ-6032, SF-8428 (above, Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.).

これらの界面活性剤の使用量は、重合体（Ａ）１００重量部に対して好ましくは５重量部以下である。
≪接着助剤≫
本発明の感放射線性樹脂膜に、チップ基材との接着性を向上させるために接着助剤を使用することもできる。接着助剤としては、官能性シランカップリング剤が好ましい。 The amount of these surfactants used is preferably 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polymer (A).
≪Adhesion aid≫
In the radiation sensitive resin film of the present invention, an adhesion assistant can be used to improve the adhesion to the chip substrate. As the adhesion assistant, a functional silane coupling agent is preferable.

ここで、官能性シランカップリング剤とは、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング剤を意味する。   Here, the functional silane coupling agent means a silane coupling agent having a reactive substituent such as a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, or an epoxy group.

この官能性シランカップリング剤としては、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。 Examples of this functional silane coupling agent include trimethoxysilylbenzoic acid, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, and γ-glycidoxypropyl. Examples include trimethoxysilane and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane.

その使用量は、重合体（Ａ）１００重量部に対して２０重量部以下が好ましい。
≪その他添加剤≫
また、本発明の感放射線性樹脂膜を形成する際に、アルカリ現像液に対する溶解性の微調整を行なうため、
酢酸、プロピオン酸、ｎ−酪酸、ｉｓｏ−酪酸、ｎ−吉草酸、ｉｓｏ−吉草酸、安息香酸、けい皮酸などのモノカルボン酸；
乳酸、２−ヒドロキシ酪酸、３−ヒドロキシ酪酸、サリチル酸、ｍ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、２−ヒドロキシけい皮酸、３−ヒドロキシけい皮酸、４−ヒドロキシけい皮酸、５−ヒドロキシイソフタル酸、シリンギン酸などのヒドロキシモノカルボン酸；
シュウ酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、１，２，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸などの多価カルボン酸；
無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、無水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバニル酸、無水マレイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビス無水トリメリテート、グリセリントリス無水トリメリテートなどの酸無水物；
を塗布液に添加することもできる。 The amount used is preferably 20 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polymer (A).
≪Other additives≫
Further, when forming the radiation sensitive resin film of the present invention, in order to finely adjust the solubility in an alkali developer,
Monocarboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, n-butyric acid, iso-butyric acid, n-valeric acid, iso-valeric acid, benzoic acid, cinnamic acid;
Lactic acid, 2-hydroxybutyric acid, 3-hydroxybutyric acid, salicylic acid, m-hydroxybenzoic acid, p-hydroxybenzoic acid, 2-hydroxycinnamic acid, 3-hydroxycinnamic acid, 4-hydroxycinnamic acid, 5-hydroxy Hydroxymonocarboxylic acids such as isophthalic acid, syringic acid;
Oxalic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, maleic acid, itaconic acid, hexahydrophthalic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid, Polyvalent carboxylic acids such as trimellitic acid, pyromellitic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, butanetetracarboxylic acid, 1,2,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid;
Itaconic anhydride, succinic anhydride, citraconic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, tricarbanilic anhydride, maleic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hymic anhydride, 1,2,3,4-butanetetra Acid anhydrides such as carboxylic dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bistrimellitic anhydride, glycerin tris anhydrous trimellitate ;
Can also be added to the coating solution.

さらに、本発明の感放射線性樹脂膜には必要に応じ充填材、着色剤、粘度調整剤などを含有させることもできる。
充填材としては、シリカ、アルミナ、タルク、ベントナイト、ジルコニウムシリケート、粉末ガラスなどが挙げられる。着色剤としては、アルミナ白、クレー、炭酸バリウム、硫酸バリウムなどの体質顔料；亜鉛華、鉛白、黄鉛、鉛丹、群青、紺青、酸化チタン、クロム酸亜鉛、ベンガラ、カーボンブラックなどの無機顔料；ブリリアントカーミン６Ｂ、パーマネントレッド６Ｂ、パーマネントレッドＲ、ベンジジンイエロー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーンなどの有機顔料；マゼンタ、ローダミンなどの塩基性染料；ダイレクトスカーレット、ダイレクトオレンジなどの直接染料；ローセリン、メタニルイエローなどの酸性染料が挙げられる。 Furthermore, the radiation sensitive resin film of the present invention may contain a filler, a colorant, a viscosity modifier and the like as necessary.
Examples of the filler include silica, alumina, talc, bentonite, zirconium silicate, and powdered glass. Colorants include alumina white, clay, barium carbonate, barium sulfate and other extender pigments; zinc white, lead white, yellow lead, red lead, ultramarine, bitumen, titanium oxide, zinc chromate, bengara, carbon black, etc. Pigments; organic pigments such as brilliant carmine 6B, permanent red 6B, permanent red R, benzidine yellow, phthalocyanine blue, and phthalocyanine green; basic dyes such as magenta and rhodamine; direct dyes such as direct scarlet and direct orange; Examples include acid dyes such as yellow.

また、粘度調整剤としては、ベントナイト、シリカゲル、アルミニウム粉末などを挙げられる。
これら添加剤の使用量は、本発明の目的を損なわない範囲内であればよく、好ましくは、前記成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計量を１００重量％としたときに５０重量％以下である。 Examples of the viscosity modifier include bentonite, silica gel, and aluminum powder.
The use amount of these additives may be within the range not impairing the object of the present invention, and preferably 50 when the total amount of the components (A), (B), and (C) is 100% by weight. % By weight or less.

本発明における感放射線性樹脂組成物は、樹脂膜の現像液に対する濡れ性を向上させ、さらにはメッキ工程におけるメッキ液に対する濡れ性を向上させることができる。そのため、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物をさらに精度よく形成することができるだけでなく、メッキ工程でのメッキ欠陥を改善することができるので、例えば集積回路素子のバンプまたは配線などのメッキ造形物の製造に好適に使用される。   The radiation-sensitive resin composition in the present invention can improve the wettability of the resin film with respect to the developer, and can further improve the wettability with respect to the plating solution in the plating step. Therefore, it is possible not only to form a thick-film plated object such as a bump or wiring, but also to improve plating defects in the plating process. For example, plating such as a bump or wiring of an integrated circuit element It is suitably used for manufacturing a shaped article.

本発明に係るメッキ造形物の製造方法は、
（１）バリアメタル層を有するウェハー上に、上記のネガ型感放射線性樹脂組成物からなる樹脂膜を形成する工程、
（２）上記樹脂膜を露光した後に現像してパターンを形成する工程、
（３）上記パターンを鋳型として、電解メッキにより電極材料を析出させる工程、および（４）残存する樹脂膜を剥離した後、バリアメタルをエッチングにより除去する工程
を含むことを特徴とする。 The method for producing a plated model according to the present invention is as follows.
(1) A step of forming a resin film made of the above negative radiation sensitive resin composition on a wafer having a barrier metal layer,
(2) A step of developing the pattern after exposing the resin film,
(3) including a step of depositing an electrode material by electrolytic plating using the pattern as a mold, and (4) a step of removing the barrier metal by etching after peeling off the remaining resin film.

工程（１）で形成する樹脂膜は、本発明に係る樹脂組成物をウェハー上に塗布して乾燥することにより得ることができる。また、後述する本発明に係る転写フィルムを用いて、転写フィルムから樹脂膜をウェハー上に転写することにより得ることもできる。   The resin film formed in the step (1) can be obtained by applying the resin composition according to the present invention on a wafer and drying it. It can also be obtained by transferring a resin film from a transfer film onto a wafer using a transfer film according to the present invention described later.

本発明に係る転写フィルムは、支持フィルム上に上記ネガ型感放射線性樹脂組成物からなる樹脂膜を有する。このような転写フィルムは、支持フィルム上に上記ネガ型感放射線性樹脂組成物を塗布して乾燥することにより作製することができる。上記の組成物を塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、スクリーン印刷、アプリケーター法などが挙げられる。また、支持フィルムの材料は、転写フィルムの作製および使用に耐えうる強度を有する限り、特に限定されるものではない。   The transfer film according to the present invention has a resin film made of the negative radiation-sensitive resin composition on a support film. Such a transfer film can be produced by applying the negative radiation sensitive resin composition on a support film and drying it. Examples of the method for applying the composition include spin coating, roll coating, screen printing, and applicator methods. Further, the material of the support film is not particularly limited as long as it has a strength that can withstand the production and use of the transfer film.

上記転写フィルムは、樹脂膜の厚みを５〜2００μｍとして用いることができる。
本発明に係る転写フィルムは、支持フィルムを剥離して、ネガ型感放射線性樹脂膜とすることができる。上記樹脂膜は、本発明に係る組成物と同様にメッキ造形物の製造に使用することができる。 The transfer film can be used with a resin film thickness of 5 to 200 μm.
The transfer film according to the present invention can peel a support film to form a negative radiation sensitive resin film. The said resin film can be used for manufacture of a plating molded article similarly to the composition which concerns on this invention.

〔実施例〕
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 〔Example〕
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further more concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples.

〔合成例１〕
＜重合体Ａ１の合成＞
窒素置換したドライアイス/メタノール還流器の付いたフラスコ中に、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル５．０ｇ、乳酸エチル１5０ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するま
で攪拌した。この溶液に、メタクリル酸6ｇ、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート１５
ｇ、イソボロニルアクリレート１１ｇ、ｎ−ブチルアクリレート２１ｇ、トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカニルメタクリレート２７ｇ、Ｎ−アクリロイルモルフォリン２０ｇを仕込み、ゆるやかに攪拌を開始し、８０℃まで昇温した。その後、８０℃で６時間重合を行った。 [Synthesis Example 1]
<Synthesis of Polymer A1>
In a flask equipped with a nitrogen-substituted dry ice / methanol refluxer, 5.0 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile and 150 g of ethyl lactate were charged and stirred until the polymerization initiator was dissolved. In this solution, 6 g of methacrylic acid, p-hydroxyphenyl acrylate 15
g, 11 g of isobornyl acrylate, 21 g of n-butyl acrylate, 27 g of tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanyl methacrylate, and 20 g of N-acryloylmorpholine were started, and the mixture was gently stirred and heated to 80 ° C. . Thereafter, polymerization was carried out at 80 ° C. for 6 hours.

〔合成例２〜１２〕
＜重合体Ａ２〜Ａ１０および比較例ＣＡ１〜ＣＡ３の合成＞
下記表1の組成に従い、化合物の種類と量を変更した他は合成例１の重合体Ａ１の合成
と同様にして、重合体Ａ２〜Ａ１０およびＣＡ１〜ＣＡ２を合成した。 [Synthesis Examples 2 to 12]
<Synthesis of Polymers A2 to A10 and Comparative Examples CA1 to CA3>
Polymers A2 to A10 and CA1 to CA2 were synthesized in the same manner as the synthesis of the polymer A1 of Synthesis Example 1 except that the types and amounts of the compounds were changed according to the composition of Table 1 below.

Figure 2006285035
Figure 2006285035

〔実施例１〕
＜樹脂組成物の調整＞
重合体Ａ１（１００ｇ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）としてアロニックスＭ８１００〔東亞合成（株）製〕（６０ｇ）、およびアロニックスＭ３２０〔東亞合成（株）製〕（１０ｇ）、感放射線性ラジカル重合開始剤（C）として、4,4’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（０．２ｇ）、２,２'−ビス（２,４−ジクロロフェニル）−４,５,４',５'−テトラフェニル−１,２' −ビスイミダゾール（４ｇ）、および２メチル−１−〔
４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モンフォリノプロパノン−１（１０ｇ）、界面活性剤としてジグリセリンEO付加物ペルフルオロノネニルエーテル（０．３ｇ）、溶媒として乳酸エチル（１５０ｇ）を混合し、攪拌により均一な溶液とした。この組成物溶液を、孔径１０μmのカプセルフィルターでろ過して感放射線性樹脂組成物を得た。 [Example 1]
<Adjustment of resin composition>
Polymer A1 (100 g), Aronics M8100 [manufactured by Toagosei Co., Ltd.] (60 g) and Aronics M320 [manufactured by Toagosei Co., Ltd.] (10 g) as the ethylenically unsaturated compound (B), radiation-sensitive radical polymerization 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone (0.2 g), 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl as initiator (C) -1,2′-bisimidazole (4 g), and 2-methyl-1- [
4- (methylthio) phenyl] -2-monforinopropanone-1 (10 g), diglycerin EO adduct perfluorononenyl ether (0.3 g) as a surfactant, and ethyl lactate (150 g) as a solvent. A uniform solution was obtained by stirring. This composition solution was filtered through a capsule filter having a pore size of 10 μm to obtain a radiation sensitive resin composition.

〔実施例２〜１１〕
表２に従い、組成を変更した以外は実施例１と同様にして、感放射線性液状樹脂組成物
を調製し、実施例１と同様にして感放射線性樹脂膜および硬化膜の特性を評価した。結果を表３に示す。 [Examples 2 to 11]
According to Table 2, a radiation-sensitive liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed, and the characteristics of the radiation-sensitive resin film and the cured film were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.

〔比較例１〜３〕
表２に従い、組成を変更した以外は実施例１と同様にして、感放射線性液状樹脂組成物を調製し、実施例１と同様にして感放射線性樹脂膜および硬化膜の特性を評価した。結果を表３に示す。 [Comparative Examples 1-3]
According to Table 2, a radiation-sensitive liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed, and the characteristics of the radiation-sensitive resin film and the cured film were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.

＜パターンの形成＞
金スパッタ基板にスピンコーターを用いて、上記の樹脂組成物を塗布した後、ホットプレート上で、１１０℃で５分間加熱して、厚さ２５μmの樹脂膜を形成した。次いで、パ
ターンマスクを介し、超高圧水銀灯（ＯＳＲＡＭ社製ＨＢＯ、出力１，０００Ｗ）を用いて、３００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外光を照射した。露光量は、照度計〔（株）オー
ク製作所製ＵＶ−Ｍ１０（照度計）にプローブＵＶ−４２（受光器）をつないだもの〕により確認した。現像は、２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、室温で現像したのち、流水洗浄し、窒素ブローしてパターンを形成した。以下、このパターンを形成した基板を、「パターニング基板」という。 <Pattern formation>
The above resin composition was applied to a gold sputter substrate using a spin coater, and then heated on a hot plate at 110 ° C. for 5 minutes to form a resin film having a thickness of 25 μm. Next, ultraviolet light of 300 to 1000 mJ / cm 2 was irradiated through a pattern mask using an ultrahigh pressure mercury lamp (HBO manufactured by OSRAM, output 1,000 W). The exposure amount was confirmed with an illuminometer (a probe UV-42 (light receiver) connected to UV-M10 (illuminometer) manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.)). Development was performed using a 2.38 wt% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution, developed at room temperature, washed with running water, and blown with nitrogen to form a pattern. Hereinafter, the substrate on which this pattern is formed is referred to as a “patterning substrate”.

＜メッキ造形物の形成＞
パターニング基板に対して、電解メッキの前処理として、酸素プラズマによるアッシング処理（出力１００Ｗ、酸素流量１００ミリリットル、処理時間１分）を行って、親水化処理を行った。次いで、この基板を電解銅めっきし、その後、剥離液としてＴＨＢ−Ｓ２(ＪＳＲ社製)を用い、５０℃で１０分攪拌しながら浸漬を行い、被試験体を得た。電解めっきは、めっき液として日本高純度化学株式会社製テンペレジストＥＸを用い、６０℃、０．５Ａ／ｄｍ2、５０分間電解めっきを行い、高さ１５μｍのバンプを形成した。以下
、このメッキ造形物を有する基板を、「メッキ基板」という。 <Formation of plated objects>
The patterning substrate was subjected to an ashing treatment (output 100 W, oxygen flow rate 100 ml, treatment time 1 minute) by oxygen plasma as a pretreatment for electroplating to perform a hydrophilic treatment. Next, this substrate was subjected to electrolytic copper plating, and then immersed using THB-S2 (manufactured by JSR) as a stripping solution while stirring at 50 ° C. for 10 minutes to obtain a test object. Electrolytic plating was performed by using 60 ° C., 0.5 A / dm 2 , 50 minutes of electrolytic plating using Tempe Resist EX manufactured by Japan High Purity Chemical Co., Ltd. as a plating solution to form bumps having a height of 15 μm. Hereinafter, the substrate having the plated model is referred to as “plated substrate”.

＜解像度評価＞
前記パターニング基板を走査型電子顕微鏡を用いて１０００倍で観察し、解像度を測定した。ここで、解像度とは５０μm×５０μmの正方形パターンの解像で判断され、レジストの残さ無く解像され、かつ側壁の角度が８５〜９５°の場合を「○」で、これ以外の場合を「×」とした。 <Resolution evaluation>
The patterning substrate was observed at 1000 times using a scanning electron microscope, and the resolution was measured. Here, the resolution is determined by resolving a square pattern of 50 μm × 50 μm, is resolved without residual resist, and the side wall angle is 85 to 95 ° is “◯”, and the other cases are “ × ”.

＜密着性評価＞
基板との密着性の評価は、現像後のレジスト硬化膜の断面を走査型電子顕微鏡を用いて１５００倍で観察することにより行った。 <Adhesion evaluation>
Evaluation of adhesion to the substrate was performed by observing a cross section of the cured resist film after development at a magnification of 1500 using a scanning electron microscope.

開口部周辺やウェハ端部でレジストの浮きが観察されない場合を「○」、レジストの浮きやレジストの剥がれが観察される場合を「×」とした。
＜メッキ液濡れ性の評価＞
メッキ液に対する濡れ性評価は、パターニング基板表面がメッキ液に対して親和性を有し、パターン内部の気泡が完全に抜けることによってメッキの欠陥がおこらないことを基準とし、メッキ基板を光学顕微鏡で１０倍で観察することにより行った。 The case where no resist lift was observed around the opening or the edge of the wafer was indicated as “◯”, and the case where resist lift or resist peeling was observed was indicated as “X”.
<Evaluation of plating solution wettability>
The wettability evaluation for the plating solution is based on the fact that the surface of the patterning substrate has an affinity for the plating solution and the defects inside the pattern do not occur due to the complete elimination of bubbles inside the pattern. The observation was performed at 10 times.

メッキ基板内で全くメッキ欠陥がないか５％未満のメッキ欠陥である場合を「○」、５〜３０％でメッキ欠陥がある場合を「△」、３０％以上のメッキ欠陥がある場合を「×」とした。   “◯” indicates that there is no plating defect or less than 5% plating defect in the plated substrate, “△” indicates that there is a plating defect of 5-30%, and “30” indicates that there is a plating defect of 30% or more. × ”.

＜メッキ耐性の評価＞
メッキ耐性の評価は、剥離後のめっき形状がレジストパターンを転写していること、つ
まりバンプ幅がレジストパターンに対し１０３％以内であること、めっきがレジスト開口部より浸み出して析出していないことを基準として行った。この２つの条件を満たしている場合を「○」、この２つの条件を満たしていない場合を「×」とした。 <Evaluation of plating resistance>
The evaluation of the plating resistance is that the peeled-off plating shape has transferred the resist pattern, that is, the bump width is within 103% of the resist pattern, and the plating has not leached out from the resist opening. It was done on the basis of that. The case where these two conditions are satisfied is indicated by “◯”, and the case where these two conditions are not satisfied is indicated by “X”.

＜剥離性の評価＞
剥離性の評価は硬化膜を剥離した被試験体を走査型電子顕微鏡で１５００倍で観察して行った。 <Evaluation of peelability>
The peelability was evaluated by observing the test specimen from which the cured film was peeled off at 1500 times with a scanning electron microscope.

残さが観察されない場合を「○」で、残さが観察された場合を「×」で示した。
これらの評価結果を表３にまとめて示す。 The case where no residue is observed is indicated by “◯”, and the case where the residue is observed is indicated by “x”.
These evaluation results are summarized in Table 3.

Figure 2006285035
Figure 2006285035

Figure 2006285035
Figure 2006285035

Claims (8)

（Ａ）下記一般式（１）で表される構造単位を含有する重合体、
（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、および
（Ｃ）感放射線性ラジカル重合開始剤
を含有することを特徴とするネガ型感放射線性樹脂組成物。
Figure 2006285035
 （式（１）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基であり、Ｒ2およびＲ3は、水素原子、炭素
数１〜４の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、これら脂肪族炭化水素基、もしくは脂環式炭化水素基の少なくとも一つの水素原子を炭化水素基以外の極性基に置換した置換炭化水素基、または芳香族基であり、互いに同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ2およびＲ3は、相互に結合してヘテロ原子を含む環状構造を形成しても良い。） (A) a polymer containing a structural unit represented by the following general formula (1),
A negative radiation-sensitive resin composition comprising (B) a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and (C) a radiation-sensitive radical polymerization initiator.
Figure 2006285035
 (In the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 and R 3 are hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, alicyclic hydrocarbon having 3 to 20 carbon atoms A hydrogen group, a substituted hydrocarbon group in which at least one hydrogen atom of these aliphatic hydrocarbon groups or alicyclic hydrocarbon groups is substituted with a polar group other than a hydrocarbon group, or an aromatic group, which are the same or different from each other R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a cyclic structure containing a hetero atom.) 上記ネガ型感放射線性樹脂組成物がメッキ造形物製造用であることを特徴とする請求項１に記載のネガ型感放射線性樹脂組成物。   The negative radiation-sensitive resin composition according to claim 1, wherein the negative radiation-sensitive resin composition is used for producing a plated model. 上記メッキ造形物がバンプであることを特徴とする請求項２に記載のネガ型感放射線性樹脂組成物。   The negative radiation-sensitive resin composition according to claim 2, wherein the plated model is a bump. 成分（Ａ）１００重量部に対して、成分（Ｂ）が３０〜８０重量部含まれることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のネガ型感放射線性樹脂組成物。   The negative radiation-sensitive resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein 30 to 80 parts by weight of the component (B) is contained with respect to 100 parts by weight of the component (A). （Ａ）成分１００重量部に対して、（Ｃ）成分が１〜４０重量部含まれることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のネガ型感放射線性樹脂組成物。   The negative radiation-sensitive resin composition according to claim 1, wherein the component (C) is contained in an amount of 1 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (A). 上記組成物が有機溶媒（Ｄ）をさらに含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のネガ型感放射線性樹脂組成物。   The negative radiation sensitive resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the composition further comprises an organic solvent (D). 支持フィルム上に、請求項１〜６のいずれかに記載のネガ型感放射線性樹脂組成物から形成される樹脂膜を有することを特徴とする転写フィルム。   A transfer film comprising a resin film formed from the negative radiation-sensitive resin composition according to any one of claims 1 to 6 on a support film. （１）バリアメタル層を有するウェハー上に、請求項１〜６のいずれかに記載のネガ型感放射線性樹脂組成物から形成される樹脂膜を形成する工程、
（２）上記樹脂膜を露光した後に現像してパターンを形成する工程、
（３）上記パターンを鋳型として、電解メッキにより電極材料を析出させる工程、および
（４）残存する樹脂膜を剥離した後、バリアメタルをエッチングにより除去する工程を含むことを特徴とするメッキ造形物の製造方法。 (1) The process of forming the resin film formed from the negative radiation sensitive resin composition in any one of Claims 1-6 on the wafer which has a barrier metal layer,
(2) A step of developing the pattern after exposing the resin film,
(3) A step of depositing an electrode material by electrolytic plating using the pattern as a mold, and (4) a step of removing a barrier metal by etching after peeling off the remaining resin film, Manufacturing method.
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110020871A (en) 2008-07-01 2011-03-03 제이에스알 가부시끼가이샤 Negative radiation-sensitive resin composition
WO2012043109A1 (en) * 2010-09-30 2012-04-05 Jsr株式会社 Method for producing porous plate for microarray or the like, photosensitive composition used for the method, porous plate for microarray or the like, and substrate for microarray
JP2012137660A (en) * 2010-12-27 2012-07-19 Jsr Corp Partition-forming photosensitive composition, method for forming partition for electronic paper, partition for electronic paper, and electronic paper
US9417522B2 (en) 2013-12-27 2016-08-16 Jsr Corporation Photosensitive resin composition and method for producing resist pattern
KR20160146526A (en) 2015-06-12 2016-12-21 제이에스알 가부시끼가이샤 Photosensitive composition and method for producing plated shaped body
KR101855507B1 (en) 2011-07-11 2018-05-08 주식회사 동진쎄미켐 Composition for coating photoresist pattern developed by negative tone developer and method of forming fine pattern using the same
TWI629559B (en) * 2013-04-08 2018-07-11 羅門哈斯電子材料韓國公司 Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom
JP2018127648A (en) * 2017-02-06 2018-08-16 Jsr株式会社 Method for producing plating product and photosensitive composition for producing plating product
KR20210062016A (en) 2018-09-26 2021-05-28 제이에스알 가부시끼가이샤 Photosensitive resin composition, method of forming a resist pattern, and method of manufacturing a plated article
KR20210144686A (en) 2019-03-22 2021-11-30 제이에스알 가부시끼가이샤 A photosensitive resin composition, a method for forming a resist pattern, and a method for manufacturing a plated article
KR20240001133A (en) 2021-04-23 2024-01-03 제이에스알 가부시끼가이샤 photosensitive composition
KR20240043701A (en) 2022-09-27 2024-04-03 제이에스알 가부시끼가이샤 Photosensitive resin composition, method for producing resist pattern film, and method for producing plated molded article

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62295046A (en) * 1986-06-16 1987-12-22 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition
JPS63124046A (en) * 1986-11-14 1988-05-27 Mitsubishi Electric Corp Photosensitive resin composition
JPH0284424A (en) * 1987-09-16 1990-03-26 Canon Inc Resin composition curable with actinic energy ray
JPH0297517A (en) * 1987-09-16 1990-04-10 Canon Inc Active energy ray-curable resin composition
JPH08179505A (en) * 1994-12-26 1996-07-12 Konica Corp Negative type photosensitive composition, negative type photosensitive planographic printing plate and its developing method
JPH08201611A (en) * 1995-01-25 1996-08-09 Mitsubishi Chem Corp Color-filter resist
JP2000305266A (en) * 1999-04-16 2000-11-02 Asahi Chem Ind Co Ltd Photosensitive resin laminated body
JP2004184878A (en) * 2002-12-05 2004-07-02 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Photosensitive resin composition and its use
JP4360242B2 (en) * 2004-03-24 2009-11-11 Ｊｓｒ株式会社 Negative radiation sensitive resin composition

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62295046A (en) * 1986-06-16 1987-12-22 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition
JPS63124046A (en) * 1986-11-14 1988-05-27 Mitsubishi Electric Corp Photosensitive resin composition
JPH0284424A (en) * 1987-09-16 1990-03-26 Canon Inc Resin composition curable with actinic energy ray
JPH0297517A (en) * 1987-09-16 1990-04-10 Canon Inc Active energy ray-curable resin composition
JPH08179505A (en) * 1994-12-26 1996-07-12 Konica Corp Negative type photosensitive composition, negative type photosensitive planographic printing plate and its developing method
JPH08201611A (en) * 1995-01-25 1996-08-09 Mitsubishi Chem Corp Color-filter resist
JP2000305266A (en) * 1999-04-16 2000-11-02 Asahi Chem Ind Co Ltd Photosensitive resin laminated body
JP2004184878A (en) * 2002-12-05 2004-07-02 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Photosensitive resin composition and its use
JP4360242B2 (en) * 2004-03-24 2009-11-11 Ｊｓｒ株式会社 Negative radiation sensitive resin composition

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8178279B2 (en) 2008-07-01 2012-05-15 Jsr Corporation Negative radiation-sensitive resin composition
KR20110020871A (en) 2008-07-01 2011-03-03 제이에스알 가부시끼가이샤 Negative radiation-sensitive resin composition
WO2012043109A1 (en) * 2010-09-30 2012-04-05 Jsr株式会社 Method for producing porous plate for microarray or the like, photosensitive composition used for the method, porous plate for microarray or the like, and substrate for microarray
JPWO2012043109A1 (en) * 2010-09-30 2014-02-06 Jsr株式会社 Method for producing microporous plate, etc., photosensitive composition used in said method, microporous plate, etc. and microarray substrate
JP5682627B2 (en) * 2010-09-30 2015-03-11 Jsr株式会社 Method for producing microporous plate, etc., photosensitive composition used in said method, microporous plate, etc. and microarray substrate
JP2012137660A (en) * 2010-12-27 2012-07-19 Jsr Corp Partition-forming photosensitive composition, method for forming partition for electronic paper, partition for electronic paper, and electronic paper
KR101855507B1 (en) 2011-07-11 2018-05-08 주식회사 동진쎄미켐 Composition for coating photoresist pattern developed by negative tone developer and method of forming fine pattern using the same
TWI629559B (en) * 2013-04-08 2018-07-11 羅門哈斯電子材料韓國公司 Positive-type photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom
US9417522B2 (en) 2013-12-27 2016-08-16 Jsr Corporation Photosensitive resin composition and method for producing resist pattern
KR20160146526A (en) 2015-06-12 2016-12-21 제이에스알 가부시끼가이샤 Photosensitive composition and method for producing plated shaped body
JP2018127648A (en) * 2017-02-06 2018-08-16 Jsr株式会社 Method for producing plating product and photosensitive composition for producing plating product
KR20210062016A (en) 2018-09-26 2021-05-28 제이에스알 가부시끼가이샤 Photosensitive resin composition, method of forming a resist pattern, and method of manufacturing a plated article
KR20210144686A (en) 2019-03-22 2021-11-30 제이에스알 가부시끼가이샤 A photosensitive resin composition, a method for forming a resist pattern, and a method for manufacturing a plated article
KR20240001133A (en) 2021-04-23 2024-01-03 제이에스알 가부시끼가이샤 photosensitive composition
KR20240043701A (en) 2022-09-27 2024-04-03 제이에스알 가부시끼가이샤 Photosensitive resin composition, method for producing resist pattern film, and method for producing plated molded article

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