JP2006212525A - 底灰に含まれる塩素化合物の除去方法及び除去システム - Google Patents

底灰に含まれる塩素化合物の除去方法及び除去システム Download PDF

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Abstract

【課題】 焼却炉の底灰を再利用するため、塩素化合物を含む底灰から塩素化合物を除去する方法及びシステムを提供する。
【解決手段】 塩素化合物を含む底灰を溶解水と混合し、前記底灰内の塩素化合物を脱離させて溶解水に溶解させる溶出段階及び前記塩素化合物が溶出された溶解水を底灰から分離する固液分離段階を含むことを特徴とする。
【選択図】 図2

Description

本発明は焼却炉から排出される底灰を再利用するため、塩素化合物を含む底灰から塩素化合物を除去する方法及びシステムに関し、特に塩素化合物を含む底灰を溶解水と混合し、前記底灰内の塩素化合物を溶解水に溶出させた後、塩素化合物が溶出した溶解水を底灰から分離することによって底灰から塩素化合物を除去する方法及びシステムに関する。
生活廃棄物の焼却によって生じる底灰は、焼却場の排出部位に応じて焼却炉から排出される底灰と燃焼ガス中に含まれる粉じんなどの飛灰とに分けられる。このうち、底灰は平均水分含量基準で焼却廃棄物の10重量%乃至15重量%、飛灰は1乃至1.5重量%の割合で生じ、生活廃棄物の増加によって焼却で生じる底灰の量も増加する趨勢にあり、底灰を再利用しようとする努力が多角的になされている。
特に、最近、発ガン物質として知られるダイオキシンの濃度などで問題になっている飛灰とは異なり、底灰は重金属とダイオキシンの含有量が少なく、再利用化に適している。実際に、底灰は駐車場、自転車道路建設、道路建設における粒子性下層包装材として使用され、堤防、防音及び防音壁などにも使用されている。オランダの場合、1995年に建設物質に対する規定を制定して底灰の90%以上を道路堤防の盛土材、道路基層材として使用しており、特に、雨水浸透を最小化するために積極的に用いている。
しかし底灰には焼却廃棄物の種類に応じて差はあるが、塩素成分が1乃至3重量%含まれており、底灰を一部再利用するのに障害となる。例えば、底灰をセメント原料として再利用する場合、底灰の成分がセメントと同一でなければならないが、表1に見られるように塩素の組成が大きく異なり、再利用が不可能である。
Figure 2006212525
従って、底灰から塩素成分を除去し、適正塩素イオン濃度である1,000mg/Kg以下に処理する必要がある。このために、一部の処理企業では底灰を野積した後、上部から水を撒水する方法を採用しているが、処理用量が限定され、効率が低くて経済性が落ち、環境的にも問題点を有しているのが実情である。
本発明は前記した問題点を解決するために案出されたものであって、本発明の目的は底灰内に含まれる塩素成分を効率的に除去する方法とシステムを提供することである。
本発明による底灰に含まれる塩素化合物の除去方法は、塩素化合物を含む底灰を溶解水と混合し、前記底灰内の塩素化合物を脱離させて溶解水に溶解させる溶出段階及び塩素化合物が溶解した溶解水を底灰から分離する固液分離段階を含むことを特徴とする。
この時、溶出段階の前に底灰内の金属物質を除去し、底灰を粉砕する前処理段階を更に含むことが望ましい。
更にこの時、固液分離段階の後に底灰を高圧の清浄水で濯ぐ洗浄段階を更に含むのが望ましい。
本発明は底灰に含まれる塩素イオン濃度を低めるために塩素成分を溶出する3つの方法を提示する。第一は超音波を用いた方法であり、第二は水の脈動を用いた方法であり、第三は高圧の空気を用いた方法である。前記3つの方法は各々独立して実施したり、選択的または順次に実施できる。しかし、底灰に含有される1乃至3%の塩素イオン濃度を1,000mg/Kg以下に低める場合、前記3つの溶出段階を全て含んで構成するのが望ましい。
超音波を用いた溶出は、底灰を水槽に貯蔵した溶解水に入れ、超音波を照射して毛細気孔内の塩素化合物と水との接触効果を増大させ、底灰中の塩素化合物を前記底灰から速かに脱離して前記溶解水に溶解させる方法である。水の脈動を用いた方法は、底灰を水槽に貯蔵した溶解水に入れ、溶解水の水面を底灰が位置する区間を含む区間で上下に脈動させて底灰中の塩素化合物を脱離し、前記溶解水に溶解させる方法である。高圧空気を衝突させる方法は、底灰を溶解水と共に管へ流れるようにし、管に高圧空気を注入して底灰中の塩素化合物を脱離し、溶解水に溶解させる方法である。
本発明による底灰に含まれる塩素化合物の除去方法によれば、底灰に含有された塩素化合物を効率的に所望の水準の濃度に減少することができる。また、連続段階で処理できるので、大容量を処理することができ、処理費用を節減できる効果がある。
図1は本発明による塩素化合物を含む底灰から塩素化合物を除去する手順を示す図であって、第1、2、3の溶出方法を全て含む手順を示す。これによれば、底灰を投入し(S1)、投入された底灰に金属が含まれている場合は金属を除去(S2)した後、底灰から塩素成分の溶出を行なう。塩素成分の溶出は超音波を用いた方法(S3)、水の脈動を用いた方法(S4)、高圧の空気を用いた方法(S5)の順に進行する。溶出過程を完了すると、遠心力と比重差とを用いて塩素成分が溶出した溶液と底灰とを分離する固液分離過程(S6)を行い、固液分離過程(S6)以後には高圧の水を用いた底灰の洗浄及び脱水過程(S7)を行なう。そして、最後に底灰に含有される塩素成分が目標濃度以下(S8)になると、再利用物質(S9)として使用する。
以下、本発明の望ましい実施例を添付図面を参照しながらより詳細に説明する。図2は本発明による底灰に含まれる塩素化合物の除去方法の一実施例を示す工程図であり、図3は本発明による底灰に含まれる塩素化合物の除去システムの一実施例を示す装置工程図である。本発明による底灰中の塩素化合物の除去方法は、導入段階(S10)と、金属分離段階(S20)と、粉砕段階(S30)と、第1の溶出段階(S40)と、第2の溶出段階(S50)と、第3の溶出段階(S60)と、第1の固液分離段階(S70)と、第1の脱水段階(S80)と、洗浄段階(S90)と、第2の固液分離段階(S100)と、第2の脱水段階(S110)とから構成される。
導入段階(S10)と金属分離段階(S20)と粉砕段階(S30)とは、前処理段階に該当する段階である。導入段階(S10)において底灰は直径30mm以下で導入するのが望ましく、この時、底灰導入のためにホッパー110を使用する。金属分離段階(S20)は、導入された底灰中の金属類を分別して底灰から金属類を分離する段階であって、金属類を分離する装置としては例えば磁力選別機120を使用する。粉砕段階(S30)は、底灰を粉砕機130で直径5mm以下に粉砕する過程であって、それにより底灰と溶解水との接触効率を増加させる。
溶出段階は、底灰を溶解水と混合し、底灰内の塩素化合物を脱離して水に溶出する段階であって、第1の溶出段階(S40)と第2の溶出段階(S50)と第3の溶出段階(S60)とからなる。第1の溶出段階(S40)後、溶解水を底灰と分離した上、第2の溶出段階(S50)に移行して第2の溶出段階(S50)を行い、第2の溶出段階(S50)後、底灰を溶解水と共に第3の溶出段階(S60)に移行して第3の溶出段階(S60)を行なう。
第1の溶出段階(S40)では、第1の水槽210の底面に超音波振動子が設けられ、溶解水へ流入される底灰に超音波を照射して毛細気孔を生じて塩素化合物と水との接触効果を増大させ、塩素化合物を速かに溶解水に溶解させる。この時、使用する超音波の周波数は底灰の処理量と水槽の高さに応じて変えることができる。好ましくは10乃至100kHzの周波数を利用する。
第1の水槽210の溶解水は、超音波の照射によって溶出された塩素濃度が過度に濃縮されないように連続的に流入及び流出するようにするのが望ましいが、本実施例では溶解水及び後述する第2のハイドロサイクロン260の上部排出口261から排出される低塩素濃度の溶解水を回収して連続的に流入する流入水の一部として使用し、濃縮された溶解水は水処理段階へ連続的に流出する。この時、水槽内の塩素濃度は塩素イオン濃度センサーまたは電気伝導度センサーを用いて測定し、測定時、塩素濃度が一定濃度以上の場合には水槽内の溶解水全量を入れ替るのが望ましい。
底灰中の塩素化合物を超音波を発振して脱離させる効果は著しく、表2は超音波発振による底灰内の塩素化合物の除去率を示す。
Figure 2006212525
第1の溶出段階(S40)を完了すると、底灰は無軸のスクリューコンベヤ211に載せて次の第2の溶出段階(S50)に移動するが、この時、塩素化合物が溶出した溶解水を底灰から分離して第1の溶出段階(S40)へ隔離することで、高濃度の塩素化合物が溶解した溶解水が次の段階に移行するのを阻み、溶解水の使用量を最小化することができる。
第2の溶出段階(S50)では、底灰を第2の水槽に貯蔵された溶解水に入れ、溶解水の水面を底灰が位置する区間を含む区間で上下に脈動させ、底灰中の塩素化合物を脱離して前記溶解水に溶解させる。
図4は第2の水槽をより詳細に示した構成図である。図4に示すように、第2の水槽220は、水槽タンク222と、前記水槽タンク222の上部へ底灰を流入する流入口221から底灰を流出する流出口223まで傾斜して形成したスクリーン224と、流出口223の上部に設けた異質物排出管228と、水槽タンク222の底面に形成した排出溝225と、水槽タンク222の一側面に設けた補助タンク227とから構成される。
スクリーン224は、流入する底灰のうち、スクリーン224のメッシュの間隔より大きい直径の底灰を傾いたスクリーン224に沿って流出口223へ移動させ、スクリーン224のメッシュの間隔より小さい直径の底灰はスクリーン224を通過させる。スクリーン224を通過した底灰は水槽タンク222の底面に形成された排出溝225を通じて外部へ排出する。この時、流出口223から排出される底灰と合流して第3の溶出段階へ移動する。一方、異質物排出管228は底灰内の密度が低くて浮遊した物質を分離する。
補助タンク227は、水槽タンク222と連通した連通孔226を有しており、空気を注入することにより水槽タンク222の水位を調節できる空気注入管229及び空気排出管229′を備えている。
第2の溶出段階(S50)で溶解水の上下脈動は、補助タンク227内に空気を注入、排出することによってなされる。補助タンク227に空気を注入すると(P)、補助タンク227内の溶解水が連通孔226を通じて水槽タンク222内に移動し、水槽タンク222の水位を上昇(L)させ、補助タンク227から空気を排出すると(P)、水槽タンク222内の溶解水が連通孔226を通じて補助タンク227に移動し、水槽タンク222の水位が下降(L)する。従って、空気の注入と排出とを繰り返すことによりスクリーン224に載せられた底灰が水面に浸るか浸らないようになる脈動過程を繰り返すようになる。脈動過程を介して底灰と溶解水との間に摩擦力が生じて底灰の塩素化合物成分は再び溶出する。
第2の溶出段階(S50)が完了すると、溶解水に溶解した底灰は流出口223へ流出して第3の溶出段階(S60)に移動する。
第3の溶出段階(S60)では、底灰を溶解水と共に空圧管230へ流し、前記管に高圧の空気を注入して底灰中の塩素化合物を脱離して溶解水に溶解させる。
図5aは空圧管を詳細に示す構成図であり、図5bは図5aのA−A′断面図である。図5a、5bに示すように、空圧管230は、多孔性材質で形成した下部区間233と一般の非多孔性材質で形成した上部区間232とを接合して形成し、内面上部には三角打撃板236を備えた内部管231と、内部管231との間に一定空間を形成しながら内部管231を囲む空気チャンバ235とから構成される。
下部区間233は、多孔性材質で構成して微細気孔が形成されるので、微細気孔へ空気を流入できる。下部区間233は、内部管231の最低部から左右それぞれ60゜の区間を占めるように形成するのが望ましい。この時、上部区間232は、残りの240゜の区間を占めるようになる。
内部管231の内側上部には、内部管231を側面から見た時、三角形を成す三角打撃板236を連続して軸方向へ設ける。三角打撃板236は、内部管231の内側上部から打撃板236端部までの長さが管直径の1/3程度に形成するのが望ましい。
空気チャンバ235は、内部管231との間に一定な空間を有しながらその外周を包むように形成し、底部に空気を流入し得る空気流入口237を多数個形成する。
空圧管230で溶解水と共に内部管231の内部へ流れた底灰は、空気流入口237から流入し、内部管231の下部区間233に形成された微細気孔を通じて内部管231の内部へ流入する高圧の空気により三角打撃板236と衝突し、底灰に付いている微量の塩素化合物を再び溶出させて溶出を極大化する。
第3の溶出段階(S60)が完了すると、空圧管230を通過した溶解水とそれに溶解した底灰とを第1のハイドロサイクロン240へ移動し、第1の固液分離段階(S70)を始める。
第1の固液分離段階(S70)は、塩素化合物が溶出した溶解水を底灰から分離する段階であって、ハイドロサイクロンを用いる。ハイドロサイクロンは、遠心力を用いた固液分離装置であって、その構造及び作用は当該技術分野の通常の知識を持つ者(以下、当業者という)には周知であるため、これに対する詳細な説明は省略する。溶解水と共に底灰が第1のハイドロサイクロン240を通過すると、上部排出口241には溶解水が、下部排出口242には底灰が排出される。下部排出口242へ排出された底灰は、第1の脱水スクリーン250によって水分が除去する第1の脱水段階(S80)を経ると、洗浄段階(S90)に入る。
洗浄段階(S90)は、底灰を濯ぐ段階であって、高圧の清浄水Pと第2のハイドロサイクロン260とを用いる。即ち、第1の脱水段階(S80)の第1の脱水スクリーン250で排出されるものに高圧の清浄水Pを直角方向へ噴射して底灰の表面を洗浄し、高圧の清浄水Pを底灰に噴射して底灰と底灰との間に存在する塩素イオンが含有された溶解水を清浄水Pに置換する。
清浄水Pで洗滌された底灰は第2の固液分離段階(S100)の第2のハイドロサイクロン260で固液分離する。この時にも上部排出口261には洗滌水が排出され、下部排出口262には底灰が排出される。下部排出口262へ排出された底灰は再び第2の脱水段階(S110)の第2の脱水スクリーン270を通過しながら脱水された後、再利用物質として利用される。
一方、第1の固液分離段階(S70)の第1のハイドロサイクロン240の上部排出口241へ排出された溶解水は、第1の溶出段階(S40)の第1の水槽210へ回収し、第2の固液分離段階(S100)の第2のハイドロサイクロン260の上部排出口261へ排出された洗滌水は、第2の溶出段階(S50)の第2の水槽220へ回収して再使用するのが廃水再利用の次元から望ましい。前述したように第1の溶出段階(S40)で使用された溶解水は水処理段階へ移動するが、水処理段階は通常、沈澱タンク310を経る沈澱段階(S210)と、フィルタープレス320を経る濾過段階(S220)とから構成され、最終的に下水処理場へ送られる。沈澱段階(S210)及び濾過段階(S220)は当業者に周知の技術であるので、これに対する詳細な説明は省略する。
本発明は主に前記実施例を基準として説明したが、発明の要旨と範囲を逸脱せずに、多くの他の修正や変形が可能である。例えば、各段階の一部手順を変更したり、洗浄を追加したり、脱水段階などの追加または削減が可能である。あるいは上記の工程のうち、著しい効果を発生しない化学物質の注入、三角打撃板の模様の変更、本実施例において説明されたものと同一の機能を有する他の装置の利用など、当業者には容易に変更が可能であろう。
従って前述した発明に対する権利範囲は特許請求の範囲で決まり、明細書本文の記載に拘束されず、請求の範囲の均等範囲に属する変形と変更とは全て本発明の範囲に属するものとする。
本発明による底灰中の塩素化合物の除去方法の順序を示す図である。 本発明による底灰中の塩素化合物の除去方法の一実施例を示す工程図である。 本発明による底灰中の塩素化合物の除去システムの一実施例を示す装置工程図である。 本発明による底灰中の塩素化合物の除去システムの第2の水槽の一実施例を示す構造図である。 本発明による底灰中の塩素化合物の除去システムの空圧管の一実施例を示す一部切開正面図である。 図5aのA−A′断面図である。
符号の説明
110 ホッパー
120 磁力選別機
130 粉砕機
210 第1の水槽
220 第2の水槽
221 流入口
222 水槽タンク
223 流出口
224 スクリーン
225 排出溝
226 連通孔
227 補助タンク
228 異質物排出管
229 空気注入管
229′ 空気排出管
230 空圧管
231 内部管
232 上部区間
233 下部区間
235 空気チャンバ
236 三角打撃板
237 空気流入口
240 第1のハイドロサイクロン
250 第1の脱水スクリーン
260 第2のハイドロサイクロン
270 第2の脱水スクリーン
310 沈澱タンク
320 フィルタープレス

Claims (13)

  1. 塩素化合物を含む底灰を溶解水と混合し、前記底灰内の塩素化合物を脱離させて溶解水に溶解させる溶出段階と、
    前記塩素化合物が溶解された溶解水を底灰から分離する固液分離段階と、を含むことを特徴とする底灰に含まれる塩素化合物の除去方法。
  2. 前記溶出段階の前に前記底灰内の金属物質を除去し、前記底灰を粉砕する前処理段階を含むことを特徴とする請求項1に記載の底灰に含まれる塩素化合物の除去方法。
  3. 前記固液分離段階の後に前記底灰を高圧の清浄水で濯ぐ洗浄段階を含むことを特徴とする請求項2に記載の底灰に含まれる塩素化合物の除去方法。
  4. 前記溶出段階は、前記底灰を溶解水が貯蔵された水槽に入れ、超音波を照射してキャビテーションにより底灰中の塩素化合物を前記底灰から脱離して前記溶解水に溶解させる第1の溶出段階と、
    前記底灰を溶解水が貯蔵された水槽に入れ、溶解水の水面を底灰が位置する区間を含む区間で上下に脈動させ、底灰中の塩素化合物を脱離して前記溶解水に溶解させる第2の溶出段階と、
    前記底灰を溶解水と共に高圧の空気を注入する空圧管に流し、底灰中の塩素化合物を脱離して前記溶解水に溶解させる第3の溶出段階と、から構成される溶出段階グループから選択する少なくとも1つの溶出段階を含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の底灰に含まれる塩素化合物の除去方法。
  5. 前記溶出段階は、前記第1の溶出段階を行って溶解水を底灰と分離した後、第2の溶出段階に移行して第2の溶出段階を行い、第2の溶出段階の後、底灰を溶解水と共に第3の溶出段階に移行して第3の溶出段階を行なうことを特徴とする請求項4に記載の底灰に含まれる塩素化合物の除去方法。
  6. 前記第1の溶出段階の溶解水は、前記水槽へ連続的に流入及び流出されることを特徴とする請求項5に記載の底灰に含まれる塩素化合物の除去方法。
  7. 前記第2の溶出段階の水槽は、注入される底灰を載せる所定のメッシュの傾いたスクリーンと、前記底灰から落ちて浮遊する異物質を分離するために前記水槽上部に設ける異物質分離管と、前記スクリーンを通過した前記スクリーンのメッシュより小さい直径の底灰を外部へ排出させる水槽底面に設ける排出溝と、傾いた前記スクリーンに沿って移動した前記スクリーンのメッシュより大きい直径の底灰を外部へ排出させる流出口とを含んで構成されることを特徴とする請求項6に記載の底灰に含まれる塩素化合物の除去方法。
  8. 前記空圧管は、多孔性材質から形成された下部区間と、一般の非多孔性材質から形成された上部区間とを接合して形成され、内面上部に三角打撃板を備えた内部管と、前記内部管との間に一定空間を形成しながら前記内部管を囲む空気チャンバとから構成されることを特徴とする請求項7に記載の底灰に含まれる塩素化合物の除去方法。
  9. 底灰を導入する導入段階と、
    導入された前記底灰に含まれた金属類を選別する金属分離段階と、
    金属分離された前記底灰をより小さい直径に粉砕する粉砕段階と、
    前記底灰を第1の水槽へ連続的に流入及び流出される第1の溶解水に入れ、超音波を照射してキャビテーションにより前記底灰に含まれる塩素化合物を前記底灰から脱離し、前記溶解水に溶解させる第1の溶出段階と、
    前記第1の溶出段階を通過した後、水分の除去された底灰を第2の溶解水が流入される第2の水槽に入れ、第2の水槽の水位を底灰が位置する区間を含む区間で上下に脈動させて底灰に含まれる塩素化合物を脱離し、前記溶解水に溶解させる第2の溶出段階と、
    前記第2の溶出段階を通過した底灰を第2の溶解水と共に空圧管に流し、前記空圧管に高圧の空気を注入して底灰中の塩素化合物を脱離し、前記溶解水に溶解させる第3の溶出段階と、
    前記第3の溶出段階を通過した底灰と塩素化合物が溶解した第2の溶解水とを互いに分離する第1の固液分離段階と、
    前記第1の固液分離段階で分離される前記底灰から水分を除去する第1の脱水段階と、
    前記第1の脱水段階後の前記底灰を高圧の洗滌水で濯ぐ洗浄段階と、
    前記洗浄段階を通過した底灰と洗滌水とを互いに分離する第2の固液分離段階と、
    前記第2の固液分離段階で排出される前記底灰から水分を除去する第2の脱水段階と、から構成されることを特徴とする底灰に含まれる塩素化合物の除去方法。
  10. 前記第1の固液分離段階で分離される第2の溶解水を第1の溶出段階の第1の溶解水へ回収することを特徴とする請求項9に記載の底灰に含まれる塩素化合物の除去方法。
  11. 前記第2の固液分離段階で分離される洗滌水を第2の溶出段階の第2の溶解水へ回収することを特徴とする請求項10に記載の底灰に含まれる塩素化合物の除去方法。
  12. 請求項9乃至11のいずれかに記載の除去方法によって塩素化合物が除去された底灰をセメント又は盛土材原料として使用する方法。
  13. 底灰を導入するホッパーと、
    前記ホッパーに導入された前記底灰に含まれた金属類を選別する磁力選別機と、
    前記磁力選別機で金属分離された前記底灰をより小さい直径に粉砕する粉砕機と、
    底面に超音波振動子を設け、前記粉砕機から流入される前記底灰に超音波を照射して前記底灰に含まれる塩素化合物を脱離させ、溶解水に溶解させる第1の水槽と、
    前記第1の水槽から注入される前記底灰が載せられる所定メッシュの傾いたスクリーンと、前記底灰から落ちて浮遊する異質物を分離するために上部に設けられる異質物分離管と、前記スクリーンを通過した前記スクリーンのメッシュより小さい直径の底灰を外部へ排出させる底面に設ける排出溝と、傾いた前記スクリーンに沿って移動した前記スクリーンのメッシュより大きい直径の底灰を外部へ排出させる流出口とを含んで構成され、水位を前記底灰が位置する区間を含む区間で上下に脈動させて前記底灰に含まれる塩素化合物を脱離させ、溶解水に溶解させる第2の水槽と、
    前記第2の水槽を通過した底灰と溶解水とが通過し、多孔性材質から形成された下部区間と、一般の非多孔性材質から形成された上部区間とを接合して形成され、内面上部に三角打撃板を備えた内部管と、前記内部管との間に一定空間を形成しながら前記内部管を囲む空気チャンバとから構成され、前記内部管に高圧の空気を注入して前記底灰に含まれる塩素化合物を脱離させ、前記溶解水に溶解させる空圧管と、
    前記空圧管を通過した底灰と塩素化合物が溶解した溶解水とを互いに分離する第1のハイドロサイクロンと、
    前記第1のハイドロサイクロンで分離された前記底灰から水分を除去する第1の脱水スクリーンと、
    前記第1の脱水スクリーンを経た前記底灰を高圧の洗滌水で濯ぐ洗浄機と、
    前記洗浄機を通過した底灰と洗滌水とを互いに分離する第2のハイドロサイクロンと、
    前記第2のハイドロサイクロンから排出される前記底灰から水分を除去する第2の脱水スクリーンと、を含んで構成される底灰に含まれる塩素化合物の除去システム。
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