JP2006201463A - Antireflection film - Google Patents

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JP2006201463A JP2005012819A JP2005012819A JP2006201463A JP 2006201463 A JP2006201463 A JP 2006201463A JP 2005012819 A JP2005012819 A JP 2005012819A JP 2005012819 A JP2005012819 A JP 2005012819A JP 2006201463 A JP2006201463 A JP 2006201463A
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Shin Koizumi
Satoru Shiyoji
伸 小泉
悟 所司
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リンテック株式会社
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    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/111Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film which has near infrared ray absorption performance, antireflection performance and excellent scuffing resistance, the constitution of whose layers is simplified, and which is suitable, particularly, for a PDP (a plasma display panel) and is produced at a low cost by a wet process. <P>SOLUTION: This antireflection film, in the whole area of which the transmittance of the light having 850-1,000 nm wavelength is ≤30% at the least, is produced by successively laminating a hard coat layer (A) which contains the resin to be cured by irradiation with an active energy ray and a near infrared ray absorbing agent and has 2-20 μm thickness, and a low-refractive index layer (B) which contains the resin to be cured by irradiation with the active energy ray and has ≤1.43 refractive index and 50-200 nm thickness, on one side of a base material film. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は反射防止フィルム、さらに詳しくは、近赤外線吸収性能と反射防止性能を有し、かつ耐擦傷性に優れる上、層構成が簡単でコストが低く、特にプラズマディスプレイ用として好適な反射防止フィルムに関するものである。 The present invention is an antireflection film and, more particularly, has a near-infrared absorbing performance and antireflection property, and on the excellent scratch resistance, the layer structure is less easily and cost, particularly preferred antireflective as for plasma display films it relates.

プラズマディスプレイ(PDP)、ブラウン管(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)などの画像表示装置においては、画面に外部から光が入射し、この光が反射して表示画像を見ずらくすることがあり、特に近年、ディスプレイの大型化に伴い、上記問題を解決することが、ますます重要な課題となってきている。 A plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT), the image display apparatus such as a liquid crystal display (LCD), the light is incident from the outside to the screen, this light may be pleasure without watching the display image by reflection, particularly in recent years, due to the increase in the size of the display, to solve the above problems, it has become an increasingly important issue.
このような問題を解決するために、これまで種々のディスプレイに対して、様々な反射防止処置や防眩処置がとられている。 To solve such a problem, for a variety of displays far it has been taken various antireflection treatment and antiglare treatment. その一つとして反射防止フィルムを各種のディスプレイに使用することが行われている。 It has been performed using the antireflection film for various displays as one.
この反射防止フィルムは、従来、蒸着やスパッタリングなどのドライプロセス法により、基材フィルム上に、低屈折率の物質(MgF 2 )を薄膜化する方法や、屈折率の高い物質[ITO(錫ドープ酸化インジウム)、TiO 2など]と屈折率の低い物質(MgF 2 、SiO 2など)を交互に積層する方法などで作製されている。 The antireflection film is conventionally a dry process such as vapor deposition or sputtering, on a substrate film, a low refractive index material (MgF 2) a method of thinning, high refractive index material [ITO (tin-doped indium oxide), it is made of a method of stacking such as TiO 2] and the low refractive index material (such as MgF 2, SiO 2) alternately. しかしながら、このようなドライプロセス法で作製された反射防止フィルムは、製造コストが高くつくのを免れないという問題があった。 However, antireflection films made by such a dry process has a problem of not saved from costly production cost.
そこで、近年、ウエットプロセス法、すなわちコーティングにより反射防止フィルムを作製することが試みられている。 In recent years, attempts have been made to produce an antireflection film by wet process method, or coating. しかしながら、このウエットプロセス法により作製された反射防止フィルムにおいては、前記のドライプロセス法による反射防止フィルムに比べて、表面の耐擦傷性に劣るという問題が生じる。 However, in the antireflection film produced by the wet process method, as compared with the antireflection film according to the above dry process, a problem of poor scratch resistance of the surface occurs.
そこで、ウエットプロセス法における前記問題を解決するために、電離放射線硬化型樹脂組成物を用いて硬化層(ハードコート層)を形成することが行われている。 Therefore, in order to solve the above problems in the wet process method, to form a cured layer (hard coat layer) using an ionizing radiation curable resin composition has been performed. 例えば基材フィルム上に、(1)(A)電離放射線による硬化樹脂を含む厚さ2〜20μmのハードコート層、(B)電離放射線による硬化樹脂と、アンチモンドープ酸化錫を含む少なくとも2種の金属酸化物を含み、屈折率が1.65〜1.80の範囲にある厚さ60〜160nmの高屈折率層、及び(C)シロキサン系ポリマーを含み、屈折率が1.37〜1.47の範囲にある厚さ80〜180nmの低屈折率層を順次積層してなる光学用フィルム(例えば、特許文献1参照)、(2)(A)金属酸化物と、熱又は電離放射線による硬化物とを含む厚さ2〜20μmのハードコート層、及び(B)多孔性シリカとポリシロキサン系ポリマーとを含み、屈折率が1.30〜1.45の範囲にある厚さ40〜200nmの低屈折率層を順次積層してな For example on a substrate film, (1) a hard coat layer having a thickness of 2~20μm comprising a cured resin by (A) ionizing radiation, (B) and curing by ionizing radiation resin, of at least two containing antimony-doped tin oxide It comprises a metal oxide, wherein the refractive index of the high refractive index layer having a thickness of 60~160nm in the range of 1.65 to 1.80, and (C) siloxane-based polymer, the refractive index is 1.37 to 1. optical film obtained by sequentially laminating a low refractive index layer having a thickness of 80~180nm in the range of 47 (for example, see Patent Document 1), (2) (a) cured with metal oxides, by heat or ionizing radiation hard coat layer having a thickness of 2~20μm including the object, and (B) and a porous silica and the polysiloxane polymer having a refractive index in the thickness 40~200nm in the range of 1.30 to 1.45 by sequentially laminating a low refractive index layer る光学用フィルム(例えば、特許文献2参照)などが開示されている。 That optical films (e.g., see Patent Document 2) it has been disclosed.
これらの光学用フィルムは、画像表示素子の表面の光の反射を効果的に防止すると共に、耐擦傷性に優れる反射防止フィルムである。 For these optical films, the reflection of light on the surface of the image display device with effectively prevent a antireflection film excellent in scratch resistance.
ところで、PDPは、電極間のプラズマ放電により封入されているキセノンガスの分子を励起し、発生する紫外線で蛍光物質を励起し、可視光領域の光を発光させ映像を表示する装置である。 Meanwhile, PDP excites the molecules of xenon gas sealed by a plasma discharge between the electrodes, the fluorescent substance excited by ultraviolet rays generated, a device that displays an image by emitting light in the visible light region. このPDPにおいては、発光は、プラズマ放電を利用していることから、周波数帯域が30〜130MHz程度の不要な電磁波が外部に漏洩するため、他の機器(例えば情報処理装置など)へ悪影響を与えないように、電磁波を極力抑制することが要求される。 In this PDP, emission gives because utilizing plasma discharge, since the frequency band is leaking unnecessary electromagnetic waves of about 30~130MHz is outside, the adverse effect to another device (e.g., an information processing apparatus, etc.) as no, it is required to minimized electromagnetic waves.
また、PDPにおいては、近赤外線を発することが知られている。 In addition, in the PDP, it is known that emit near-infrared. この近赤外線は、コードレスホン、近赤外線リモートコントロール装置を使用するビデオデッキなど、周辺にある電子機器に作用し、正常な動作を阻害するおそれがあり、この近赤外線を極力遮断することが要求される。 The near infrared rays, a cordless phone, video equipment that use near-infrared remote control device, acts on the electronic devices in the neighborhood, it may interfere with the normal operation, it is required to shut off the near infrared utmost .
さらに、PDPにおいては、表示面が平面であるため、外光が差し込んだ際に、広い範囲で反射した光が同時に目に入り、画面が見えにくくなる場合があり、外光の反射防止が必要である。 Further, in the PDP, since the display surface is flat, when plugged external light enters the eye light simultaneously reflected in a wide range, there are cases where the screen is difficult to see, it requires anti-reflection of external light it is. また、PDPの発光を所定の透過率で透過させて、良好な画面表示をすることや、発光色の色調補正をすることも重要である。 Further, by transmitting emission of the PDP at a predetermined transmittance, and to a good screen display, it is also important to the color correction in emission color.
PDPにおいては、これらの要求に対して、一般に表示画面に、(1)電磁波遮断フィルム、(2)近赤外線吸収フィルム及び(3)反射防止フィルムの少なくとも3枚の機能性フィルムを有する前面板を、該反射防止フィルムが、最表面(観察者側)になるように配置する処置が講ぜられている(例えば、特許文献3参照)。 In PDP, to these requirements, the general display screen (1) electromagnetic wave shielding film, the front plate having at least three functional film (2) near-infrared absorbing film and (3) an antireflection film , the antireflection film is treated to place so that the outermost surface (the observer side) is Koze (e.g., see Patent Document 3). この場合、少なくとも3枚の機能性フィルムを別々に作製して、それらを貼合しなければならず、コストが高くつくのを免れない。 In this case, inevitably be generated separately at least three functional film, they must be laminated, that the costly cost.
これに対し、近年、コストダウンの面から、最表面の反射防止フィルムにおいて、その基材の反射防止層とは反対側の面に近赤外線吸収層を設けることにより、1枚のフィルムで、反射防止性能と近赤外線吸収性能を兼ね備えた機能性フィルムが開発されている。 In contrast, in recent years, from the viewpoint of cost reduction, anti-reflection film of the outermost surface, by providing a near infrared absorption layer on the side opposite to the antireflection layer of the substrate, in the single film, the reflection functional film that combines prevention performance and near infrared absorbing performance have been developed. このような機能性フィルムを製造する場合、(1)反射防止フィルムの裏面への近赤外線吸収層の形成、及び(2)近赤外線吸収フィルムの裏面への反射防止層の形成、の2つの方法があるが、いずれの場合も、フィルムのロスが発生するため、コストダウンの効果は小さい。 When manufacturing such a functional film, (1) Formation of near-infrared absorption layer on the back of the antireflection film, and (2) formation of the antireflection layer on the back side of the near-infrared absorbing film, two methods there are, in any case, since the loss of the film occurs, the effect of cost reduction is small.
特開2002−341103号公報 JP 2002-341103 JP 特開2003−139908号公報 JP 2003-139908 JP 特開平11−126024号公報 JP 11-126024 discloses

本発明は、このような事情のもとで、近赤外線吸収性能と反射防止性能を有し、かつ耐擦傷性に優れる上、層構成が簡単でコストが低く、特にPDP用として好適なウエットプロセス法による反射防止フィルムを提供することを目的としてなされたものである。 The present invention is, under these circumstances, has a near-infrared absorbing performance and antireflection property, and on the superior scratch resistance, low cost easy to layer structure, a suitable wet process, especially for the PDP It has been made for the purpose of providing an antireflection film according to the law.

本発明者らは、前記の好ましい性質を有する反射防止フィルムを開発すべく鋭意研究を重ねた結果、ウエットプロセス法による反射防止フィルムにおいて必須であるハードコート層に、得られる反射防止フィルムの少なくとも波長850〜1000nmの全領域における透過率がある値以下になるように、近赤外線吸収剤を含有させることにより、その目的を達成し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。 The present inventors have found that to diligent research to develop an antireflection film having favorable properties described above, the hard coat layer is essential in the antireflection film according to a wet process method, at least the wavelength of the antireflection film obtained to be less than a certain transmittance values ​​in the entire area of ​​850~1000Nm, by containing the near infrared absorbent, found that it is possible to achieve the purpose, the present invention has been completed based on this finding It was.
すなわち、本発明は、 That is, the present invention is,
(1)基材フィルムの一方の面に、(A)活性エネルギー線照射による硬化樹脂と近赤外線吸収剤を含む厚さ2〜20μmのハードコート層、及び(B)活性エネルギー線照射による硬化樹脂を含む屈折率1.43以下、厚さ50〜200nmの低屈折率層が順次積層され、かつ少なくとも波長850〜1000nmの全領域における透過率が30%以下であることを特徴とする反射防止フィルム、 (1) on one side of the base film, (A) a hard coat layer having a thickness of 2~20μm comprising a cured resin and the near-infrared absorbing agent by active energy ray irradiation, and (B) an active energy ray irradiation by curing resin antireflection film refractive index of 1.43 or less, the laminated lower refractive index layer are sequentially thickness 50 to 200 nm, and transmittance in the entire region of at least wavelength 850~1000nm is equal to or less than 30% comprising ,
(2)(A)層における近赤外線吸収剤が、酸化タングステン系化合物である上記(1)項に記載の反射防止フィルム、 (2) near-infrared absorbing agent in (A) layer, antireflection film as described in item (1) is a tungsten oxide compound,
(3)酸化タングステン系化合物が、セシウム含有酸化タングステンである上記(2)項に記載の反射防止フィルム、 (3) tungsten oxide-based compound, an anti-reflection film as described in item (2) is cesium-containing tungsten oxide,
(4)(A)層に、さらに有機及び/又は無機フィラーを含有させてなる上記(1)〜(3)項のいずれかに記載の反射防止フィルム、 (4) to (A) layer, antireflection film as described in more organic and / or inorganic filler formed by incorporating the above (1) to (3) one of these sections,
(5)(B)層が、多孔性シリカ30〜80重量%を含む上記(1)〜(4)項のいずれかに記載の反射防止フィルム、 (5) (B) layer, the containing 30-80 wt% porous silica (1) to (4) anti-reflection film according to any one of items,
(6)基材フィルムの他方の面に、厚さ5〜50μmの粘着剤層を有する上記(1)〜(5)項のいずれかに記載の反射防止フィルム、及び(7)プラズマディスプレイ用である上記(1)〜(6)項のいずれかに記載の反射防止フィルム、 (6) on the other surface of the substrate film, said having a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 5 to 50 [mu] m (1) ~ (5) The antireflection film as described in any one of items, and (7) in a plasma display the antireflection film as described in any one of a (1) to (6) section,
を提供するものである。 It is intended to provide.

本発明によれば、近赤外線吸収性能と反射防止性能を有し、かつ耐擦傷性に優れる上、層構成が簡単でコストが低く、特にPDP用として好適なウエットプロセス法による反射防止フィルムを提供することができる。 According to the present invention, it has a near-infrared absorbing performance and antireflection property, and on the excellent scratch resistance, the layer structure is less easily and cost, provide an antireflection film according to the preferred wet process method, especially for the PDP can do.

本発明の反射防止フィルムは、ウエットプロセス法により、基材フィルムの一方の面に、(A)近赤外線吸収剤を含むハードコート層、及び(B)低屈折率層が順次積層された構造を有している。 The antireflection film of the present invention, by a wet process method, on one surface of a substrate film, a hard coat layer, and (B) a low refractive index layer are sequentially laminated structure including a (A) near-infrared absorbing agent It has.
本発明の反射防止フィルムにおける基材フィルムについては特に制限はなく、従来反射防止フィルムの基材として公知のプラスチックフィルムの中から適宜選択して用いることができる。 There is no particular limitation on the substrate film in the antireflection film of the present invention, it can be appropriately selected from known plastic film as the substrate of the conventional antireflection film. このようなプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、 Such a plastic film, such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyester films such as polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, diacetyl cellulose film, triacetyl cellulose film, acetylcellulose butyrate films, polyvinylidene chloride vinyl film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene - vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, a polymethylpentene film, a polysulfone film, a polyether ether ketone film, polyether sulfone film, polyether imide film , a polyimide film, a fluororesin film, リアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等を挙げることができる。 Li amide film, acrylic resin film, norbornene resin film, a cycloolefin resin film.
これらの基材フィルムは、透明、半透明のいずれであってもよく、また、着色されていてもよいし、無着色のものでもよく、用途に応じて適宜選択すればよい。 These base film transparent, may be either translucent, also may be colored, may be of non-colored, may be appropriately selected depending on the application.
これらの基材フィルムの厚さは特に制限はなく、適宜選定されるが、通常15〜250μm、好ましくは30〜200μmの範囲である。 The thickness of the substrate film is not particularly limited and may be suitably selected, usually 15~250Myuemu, preferably from 30 to 200 [mu] m. また、この基材フィルムは、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。 Furthermore, the substrate film for the purpose of improving the adhesion between the layer provided on the surface, optionally on one or both sides, may be subjected to a surface treatment such as by oxidation or roughening method. 上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。 Examples of the oxidation method include a corona discharge treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, can be mentioned ozone-ultraviolet ray irradiation treatment, and as the roughening method, for example sand blasting method, a solvent treatment method, etc. and the like. これらの表面処理法は基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。 The surface treatment is suitably selected in accordance with the type of the base film, generally from the plane of the treatment by corona discharge effect and the operability is preferably used. また、片面又は両面にプライマー処理を施したものも用いることができる。 It can also be used that has been subjected to primer treatment on one or both sides.

本発明の反射防止フィルムにおいては、前記基材フィルムの少なくとも一方の面に、まず(A)活性エネルギー線照射による硬化樹脂と近赤外線吸収剤とを含むハードコート層が設けられる。 In the antireflection film of the present invention, at least one surface of the substrate film, the hard coat layer is provided comprising a first (A) curable with an active energy ray irradiation resin and the near infrared absorbent.
この活性エネルギー線照射による硬化樹脂と近赤外線吸収剤とを含むハードコート層は、例えば活性エネルギー線硬化性化合物と、前記の近赤外線吸収剤と、所望により光重合開始剤などを含むハードコート層形成用塗工液を、基材フィルムの一方の面にコーティングして塗膜を形成させ、活性エネルギー線を照射して、該塗膜を硬化させることにより、形成することができる。 Hard coat layer containing a curable resin and a near-infrared absorbing material according to the active energy ray irradiation, for example, an active energy ray-curable compound, and the near-infrared absorber, a hard coat layer including a photopolymerization initiator, if desired the coating solution for forming coated on one surface of a substrate film to form a coating film, by irradiation with active energy rays, by curing the coating film can be formed.
ここで、活性エネルギー線硬化性化合物とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線又は電子線などを照射することにより、架橋、硬化する化合物を指す。 Here, the active energy ray-curable compound, those having energy quantum among electromagnetic waves or charged particle beams, i.e., by irradiation with ultraviolet rays or an electron beam, refers crosslinking, a compound that is cured.
このような活性エネルギー線硬化性化合物としては、例えば活性エネルギー線重合性プレポリマー及び/又は活性エネルギー線重合性モノマーを挙げることができる。 Examples of such active energy ray-curable compound may include, for example active energy ray-polymerizable prepolymer and / or active energy ray-polymerizable monomer. 上記活性エネルギー線重合性プレポリマーには、ラジカル重合型とカチオン重合型があり、ラジカル重合型の活性エネルギー線重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系などが挙げられる。 The aforementioned active energy ray-polymerizable prepolymers, there are radical polymerization type and a cation polymerization type, active energy ray-polymerizable prepolymers of the radical polymerization type include polyester acrylate-based, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyol acrylate system and the like. ここで、ポリエステルアクリレート系プレポリマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。 Here, or by Polyester acrylate prepolymer, esterifying the hydroxyl groups of the polyester oligomer (meth) acrylic acid having a hydroxyl group for example at both ends obtained by condensation of a polyhydric carboxylic acid and a polyhydric alcohol, it can be obtained by esterifying the terminal hydroxyl group of the oligomer obtained by adding an alkylene oxide to a polyvalent carboxylic acid with (meth) acrylic acid.

エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。 Epoxy acrylate prepolymer, for example, a relatively low molecular weight bisphenol type epoxy resin and novolak type epoxy resin oxirane ring, can be obtained by esterifying the reaction with (meth) acrylic acid. ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。 Urethane acrylate prepolymer, for example, a polyurethane oligomer obtained by the reaction of a polyether polyol or a polyester polyol and a polyisocyanate, may be obtained by esterification with (meth) acrylic acid. さらに、ポリオールアクリレート系プレポリマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。 Further, polyol acrylate prepolymers can be obtained by esterifying the hydroxyl groups of the polyether polyol with (meth) acrylic acid. これらの活性エネルギー線重合性プレポリマーは1種用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 It is these active energy ray-polymerizable prepolymers may be used singly or may be used in combination of two or more kinds.
一方、カチオン重合型の活性エネルギー線重合性プレポリマーとしては、エポキシ系樹脂が通常使用される。 On the other hand, the active energy ray-polymerizable prepolymers of the cationic polymerization type include epoxy resins are used. このエポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノール樹脂やノボラック樹脂などの多価フェノール類にエピクロルヒドリンなどでエポキシ化した化合物、直鎖状オレフィン化合物や環状オレフィン化合物を過酸化物などで酸化して得られた化合物などが挙げられる。 As the epoxy resin, for example, polyhydric phenols compounds epoxidized like epichlorohydrin and bisphenol resin or a novolak resin, a compound obtained by oxidizing the linear olefin compounds and cyclic olefin compounds such as peroxides and the like.
活性エネルギー線重合性モノマーとしては、例えば1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性 The active energy ray-polymerizable monomers, such as 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate , neopentyl glycol adipate closed (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl di (meth) acrylate, caprolactone-modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified phosphoric acid di ( meth) acrylate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid-modified ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの多官能アクリレートが挙げられる。 Dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, propionic acid-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, multifunctional acrylates such as caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. これらの活性エネルギー線重合性モノマーは1種用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、また、前記活性エネルギー線重合性プレポリマーと併用してもよい。 May be used These active energy ray-polymerizable monomer is one, may be used in combination of two or more kinds, or may be used in combination with the active energy ray-polymerizable prepolymer.

所望により用いられる光重合開始剤としては、ラジカル重合型の活性エネルギー線重合性プレポリマーや活性エネルギー線重合性モノマーに対しては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−2(ヒ As the photopolymerization initiator optionally used for the radical polymerization type active energy ray-polymerizable prepolymer and an active energy ray-polymerizable monomer, for example benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin -n- butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylamino acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenyl acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl - 1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino - propan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl-2 (human ロキシ−2−プロプル)ケトン、ベンゾフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、4,4'−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシャリ−ブチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、p−ジメチルアミン安息香酸エステルなどが挙げられる。 Proxy-2 Puropuru) ketone, benzophenone, p- phenylbenzophenone, 4,4'-diethylamino benzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methyl anthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert - butyl anthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2- methyl thioxanthone, 2-ethyl thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, benzyl dimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, etc. p- dimethylamine benzoate esters. また、カチオン重合型の活性エネルギー線重合性プレポリマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。 As the photopolymerization initiator to the cation polymerization type active energy ray-polymerizable prepolymers, such as aromatic sulfonium ions, aromatic oxosulfonium ions, and onium such as an aromatic iodonium ion, tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, hexafluoroantimonate, compounds consisting of anions such as hexafluoroarsenate and the like. これらは1種用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、また、その配合量は、前記活性エネルギー線重合性プレポリマー及び/又は活性エネルギー線重合性モノマー100重量部に対して、通常0.2〜10重量部の範囲で選ばれる。 These may be used one kind may be used in combination of two or more kinds, and the amount thereof relative to the active energy ray-polymerizable prepolymer and / or active energy ray-polymerizable monomer 100 parts by weight Te is selected in the range of usually 0.2 to 10 parts by weight.

一方、ハードコート層に含有させる近赤外線吸収剤については、少なくとも波長850〜1000nmの全領域における透過率が30%以下である反射防止フィルムを与えることのできるものであればよく、特に制限されず、様々な種類のものを、適宜選択して用いることができる。 On the other hand, the near-infrared absorbing agent to be contained in the hard coat layer as long as it can provide an antireflection film transmittance in the entire area of ​​at least a wavelength 850~1000nm is 30% or less is not particularly limited , those of different types, can be appropriately selected.
当該近赤外線吸収剤は、有機系近赤外線吸収剤と無機系近赤外線吸収剤に大別するができる。 The near-infrared absorbing agent can but broadly divided into organic near infrared absorber and an inorganic near-infrared absorbing agent. ここで、有機系近赤外線吸収剤としては、例えばシアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、ナフタロシアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、さらにはN,N,N',N'−テトラキス(p−ジ−n−ブチルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムの過塩素酸塩、フェニレンジアミニウムの塩素塩、フェニレンジアミニウムのヘキサフルオロアンチモン酸塩、フェニレンジアミニウムのフッ化ホウ素酸塩、フェニレンジアミニウムのフッ素塩、フェニレンジアミニウムの過塩素酸塩などのアミノ化合物、銅化合物とビスチオウレア化合物、リン化合物と銅化合物、リン酸エステル化合物と銅化合物との反応により得ら Examples of the organic near infrared absorbent agent, such as cyanine compounds, squarylium compounds, thiol-nickel complex compounds, naphthalocyanine compounds, phthalocyanine compounds, triarylmethane compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, further N, N, N ', N'- tetrakis (p- di -n- butyl aminophenyl)-p-perchlorate phenylene aminium, chlorine salt of phenylene aminium hexafluoroantimonate phenylenediamine aminium salts, boron fluoride salt of phenylene aminium, fluorine salts phenylene aminium, amino compounds such as perchlorate phenylene aminium, a copper compound and Bisuchiourea compound, phosphorus compound and a copper compound, a phosphoric acid ester compound resulting et by reaction with a copper compound and るリン酸エステル銅化合物などが挙げられる。 Such as Berlin ester copper compound.
これらの中では、チオールニッケル錯塩系化合物(特開平9−230134号公報など)及びフタロシアニン系化合物が好ましく、特に、特開2000−26748号公報などに開示されているフッ素含有フタロシアニン化合物が、有機系近赤外線吸収剤の中で、可視光線透過率が高く、かつ耐熱性、耐光性、耐候性などの特性に優れることから、好適である。 Among them, a thiol nickel complex salt type compounds (such as JP 9-230134 JP) and are preferred phthalocyanine compounds, particularly, fluorine-containing phthalocyanine compound which is disclosed in, JP 2000-26748 is, organic among the near-infrared absorbing material, high visible light transmittance and heat resistance, light resistance, because of its excellent properties such as weather resistance, which is preferable.

また、無機系近赤外線吸収剤としては、例えば、酸化タングステン系化合物、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、酸化セシウム、硫化亜鉛などが挙げられる。 As the inorganic near-infrared absorbing material, e.g., tungsten oxide compound, titanium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, niobium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), tin oxide, antimony-doped oxide tin (ATO), cesium oxide, and zinc sulfide. これらの中では、近赤外線の吸収率が高く、かつ可視光線の透過率が高いことから、酸化タングステン系化合物が好ましく、特にセシウム含有酸化タングステンが好適である。 Among these, the near infrared absorptivity is high, and since the transmittance of visible light is high, the tungsten oxide based compound is preferably, suitable in particular cesium oxide containing tungsten.
一般に、有機系近赤外線吸収剤と無機系近赤外線吸収剤を比較した場合、近赤外線の吸収能力は有機系の方が優れているが、耐光性や耐候性については、無機系の方が格段に優れている。 In general, when comparing the organic near infrared absorber and an inorganic near-infrared absorbing agent, an absorption capacity of the near infrared is superior organic, for light resistance and weather resistance, it inorganic is much It has excellent. また、有機系のものは着色しやすいという欠点も有しており、実用性の点からは、無機系近赤外線吸収剤の方が好ましく、特にセシウム含有酸化タングステンの使用が好ましい。 Moreover, those organic also has disadvantage that easily colored, from the viewpoint of practicality, it is preferable who inorganic near-infrared absorbing material, especially cesium-containing tungsten oxide are preferred. この無機系赤外線吸収剤は、可視光領域において吸収が少なく、かつ透明なコート層を形成するには、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.1μm以下の粒径を有するものが有利である。 The inorganic infrared absorbent, less absorption in the visible light region, and to form a transparent coating layer is preferably 0.5μm or less, more preferably advantageously those having a particle size of 0.1μm or less is there.
本発明においては、有機系近赤外線吸収剤を1種用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、また無機系近赤外線吸収剤を1種用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 In the present invention, may be used one kind of organic near infrared absorbent agent, may be used in combination of two or more, also to an inorganic near-infrared absorbing agent may be used one, two or more it may be used in combination. あるいは、有機系近赤外線吸収剤1種以上と無機系近赤外線吸収剤1種以上とを適宜組み合わせて用いてもよい。 Alternatively, it may be used in combination with organic near infrared absorbent 1 or more and an inorganic near-infrared absorbing agent one or more appropriate.
なお、近赤外線吸収剤を単独使用した場合、たとえ波長850〜1000nmの領域で透過率が30%を超える部分があったとしても、2種以上を併用することにより、波長850〜1000nmの全領域における透過率が30%以下であればよい。 Note that when used alone near infrared absorbent, even if the area in transmittance at a wavelength 850~1000nm there is the portion exceeding 30 percent, by combination of two or more, the total area of ​​the wavelength 850~1000nm transmittance may be 30% or less in the.
この近赤外線吸収剤の使用量は、ハードコート層の膜厚にもよるが、有機系近赤外線吸収剤を使用する場合には、ハードコート層中の含有量は、通常1〜10重量%、好ましくは3〜7重量%である。 The amount of the near-infrared absorbing material, depending on the thickness of the hard coat layer, when using an organic near infrared absorber, the content of the hard coat layer is generally 1 to 10% by weight, preferably 3 to 7 wt%. 一方、無機系近赤外線吸収剤を使用する場合には、ハードコート層中の含有量は、通常10〜60重量%、好ましくは20〜40重量%である。 On the other hand, in the case of using an inorganic near-infrared absorbing agent, the content of the hard coat layer is generally 10 to 60% by weight, preferably 20 to 40 wt%.

本発明においては、(A)層のハードコート層には、防眩性付与剤として、有機及び/又は無機フィラーを含有させることができる。 In the present invention, the hard coat layer of layer (A), as antiglare property-imparting agent, may be contained an organic and / or inorganic fillers. 有機フィラーとしては、例えばメラミン系樹脂粒子、アクリル系樹脂粒子、アクリル−スチレン系共重合体粒子、ポリカーボネート系粒子、ポリエチレン系粒子、ポリスチレン系粒子、ベンゾグアナミン系樹脂粒子などが挙げられる。 As the organic filler, for example, melamine resin particles, acrylic resin particles, acryl - styrene copolymer particles, polycarbonate particles, polyethylene particles, polystyrene particles, benzoguanamine resin particles. これらの有機フィラーの平均粒径は、通常2〜10μm程度である。 The average particle diameter of these organic fillers is usually about 2 to 10 [mu] m.
また、無機フィラーとしては、例えば平均粒径が0.5〜10μm程度のシリカ粒子や、コロイド状シリカ粒子のアミン化合物による凝集物であって、平均粒径が0.5〜10μm程度のものなどを挙げることができる。 Examples of the inorganic filler, for example, average particle size and silica particles of about 0.5 to 10 [mu] m, a flocculate by amine compounds colloidal silica particles, average particle size such as about 0.5 to 10 [mu] m it can be mentioned.
これらの防眩性付与剤は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、ハードコート層中のその含有量は、通常2〜15重量%、好ましくは3〜8重量%である。 May be those of antiglare property imparting agent used alone may be used in combination of two or more, the content in the hard coat layer is usually 2 to 15 wt%, preferably 3 to 8 percent by weight. ハードコート層に防眩性付与剤を含有させることにより、本発明の反射防止フィルムの60°グロス値は、通常30〜120となる。 By containing the antiglare-imparting agent to the hard coat layer, 60 ° gloss value of the antireflection film of the present invention will become usually 30 to 120.

本発明において用いられるこのハードコート層形成用塗工液は、必要に応じ、適当な溶剤中に、前記の活性エネルギー線硬化性化合物と、近赤外線吸収剤と、所望により用いられる前記の光重合開始剤、防眩性付与剤、さらには各種添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。 The hard coat layer forming coating solution used in the present invention, if necessary, in a suitable solvent, and an active energy ray-curable compound of a near-infrared absorbing agent, the photopolymerization optionally used initiator, antiglare-imparting agent, further additives, such as antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, leveling agents, defoaming agents, each added at a predetermined ratio, by dissolving or dispersing , it can be prepared.
この際用いる溶剤としては、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、メチルイソブチルケトン、イソホロンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤などが挙げられる。 The solvent used at this time, such as hexane, heptane, aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, methylene chloride, halogenated hydrocarbons such as ethylene chloride, methanol, ethanol, propanol, butanol, alcohols such as 1-methoxy-2-propanol, acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, methyl isobutyl ketone, ketones such as isophorone, ethyl acetate, esters such as butyl acetate, etc. cellosolve solvents such as ethyl cellosolve.
このようにして調製された塗工液の濃度、粘度としては、コーティング可能な濃度、粘度であればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。 The concentration of the thus coating solution was prepared, the viscosity, coatable concentration may be a viscosity is not particularly limited, it can be appropriately selected depending on the situation.
次に、基材フィルムの一方の面に、上記塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させることにより、近赤外線吸収性ハードコート層が形成される。 Next, on one surface of a substrate film, the coating solution, conventionally known methods, for example, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating process and the gravure coating method , coated to form a coating film, dried, and irradiated with an active energy ray by curing the coating film thereto, the near-infrared absorbing hard coating layer is formed.
活性エネルギー線としては、例えば紫外線や電子線などが挙げられる。 The active energy ray include ultraviolet light and electron beam. 上記紫外線は、高圧水銀ランプ、ヒュージョンHランプ、キセノンランプなどで得られる。 The ultraviolet high-pressure mercury lamp, a fusion H lamp obtained by a xenon lamp. 一方電子線は、電子線加速器などによって得られる。 Meanwhile electron beam is obtained from an electron accelerator. この活性エネルギー線の中では、特に紫外線が好適である。 Among the active energy rays, ultraviolet light is preferable. なお、電子線を使用する場合は、重合開始剤を添加することなく、硬化膜を得ることができる。 When using an electron beam, without adding a polymerization initiator, the cured film can be obtained.
本発明においては、(A)ハードコート層の厚さは2〜20μmの範囲である。 In the present invention, the thickness of the (A) Hard coat layer is in the range of 2 to 20 [mu] m. この厚さが2μm未満では得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が十分に発揮されないおそれがあるし、また20μmを超えるとハードコート層にクラックが発生することがある。 It scratch resistance of the antireflection film this thickness is obtained is less than 2μm might not be sufficiently exhibited, and there is occurrence of cracks in the hard coat layer exceeds 20 [mu] m. このハードコート層の好ましい厚さは3〜15μmの範囲であり、特に5〜10μmの範囲が好適である。 The preferred thickness of the hard coat layer is in the range of 3 to 15 [mu] m, it is particularly preferred in the range of 5 to 10 [mu] m.
本発明の光学用フィルムにおいては、この(A)ハードコート層の屈折率は、通常1.47〜1.60、好ましくは1.49〜1.55の範囲である。 In the film for optical applications of the present invention, the refractive index of the (A) The hard coat layer is usually 1.47 to 1.60, preferably from 1.49 to 1.55.

本発明の反射防止フィルムにおいては、前記ハードコート層上に、(B)活性エネルギー線照射による硬化樹脂と多孔性シリカ粒子とを含む低屈折率層が設けられる。 In the antireflection film of the present invention, on the hard coat layer, a low refractive index layer is provided that includes a curable resin and a porous silica particles by (B) the active energy ray irradiation.
この活性エネルギー線照射による硬化樹脂と多孔性シリカ粒子とを含む低屈折率層は、例えば活性エネルギー線硬化性化合物と、多孔性シリカ粒子と、所望により光重合開始剤などを含む低屈折率層形成用塗工液を、(A)ハードコート層上にコーティングして塗膜を形成させ、活性エネルギー線を照射して、該塗膜を硬化させることにより、形成することができる。 Low refractive index layer containing a curable resin and a porous silica particles by active energy ray irradiation, for example, an active energy ray-curable compound, and the porous silica particles, low refractive index layer including a photopolymerization initiator, if desired the forming coating solution to form a coating to a coating film on the (a) a hard coat layer, and an active energy ray, by curing the coating film can be formed.
前記の活性エネルギー線硬化性化合物及び所望により用いられる光重合開始剤については、前述の(A)ハードコート層の説明において示したとおりである。 The photopolymerization initiator used by the active energy ray-curable compound and the desired, is as shown in the description of the aforementioned (A) a hard coat layer.
この(B)層に含まれる多孔性シリカ粒子としては、比重が1.7〜1.9、屈折率が1.25〜1.36及び平均粒径が20〜100nmの範囲にあるものが好ましく用いられる。 As the porous silica particles contained in the (B) layer, a specific gravity of 1.7 to 1.9, a refractive index of 1.25 to 1.36 and an average particle diameter preferably has a range of 20~100nm used. このような性状を有する多孔性シリカ粒子を用いることにより、反射防止性能に優れる反射防止層が1層タイプの反射防止フィルムを得ることができる。 The use of porous silica particles having such properties can be anti-reflection layer excellent in antireflection performance to obtain an antireflection film of one layer type.
本発明においては、この(B)層中の多孔性シリカ粒子の含有量は、好ましくは30〜80重量%の範囲で選定される。 In the present invention, the content of the porous silica particles of the (B) layer is preferably selected in the range of 30 to 80 wt%. 該多孔性シリカ粒子の含有量が上記範囲にあれば、当該(B)層は所望の低屈折率を有する層となり、得られる反射防止フィルムは、反射防止性に優れたものとなる。 When the content of the porous silica particles is in the above range, the (B) layer is a layer having the desired low refractive index, antireflection film obtained is superior in anti-reflective properties. 該多孔性シリカ粒子の好ましい含有量は、50〜80重量%であり、特に60〜75重量%の範囲が好ましい。 The preferred content of the porous silica particles is 50 to 80 wt%, preferably particular from 60 to 75 wt%.
当該(B)層は、厚さが50〜200nmであって、屈折率が、1.43以下、好ましくは1.30〜1.42の範囲にある。 The (B) layer is a thickness of 50 to 200 nm, the refractive index is 1.43 or less, preferably in the range of 1.30 to 1.42. 当該(B)層の厚さや屈折率が上記範囲にあれば、反射防止性能、及び耐擦傷性に優れる反射防止フィルムを得ることができる。 If the thickness and refractive index of the layer (B) is in the above range, it is possible to obtain antireflection performance, and an antireflection film excellent in scratch resistance. 当該(B)層の厚さは、好ましくは70〜130nmであり、屈折率は、好ましくは1.35〜1.40の範囲である。 The thickness of the layer (B) is preferably 70 to 130 nm, the refractive index, preferably in the range of 1.35 to 1.40.

本発明において用いられるこの低屈折率層形成用塗工液は、必要に応じ、適当な溶剤中に、前記の活性エネルギー線硬化性化合物と、多孔性シリカ粒子と、所望により用いられる前記の光重合開始剤、さらには各種添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。 The low-refractive-index layer forming coating solution used in the present invention, if necessary, in a suitable solvent, wherein the active energy ray-curable compound of a porous silica particles, wherein the light used optionally polymerization initiator, and further various additives, such as antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, leveling agents, defoaming agents, each added at a predetermined ratio, by dissolving or dispersing, be prepared it can.
この際用いる溶剤については、前述のハードコート層形成用塗工液の説明において示したとおりである。 For solvents used in this case is as shown in the description of the hard coat layer forming coating liquid described above.
このようにして調製された塗工液の濃度、粘度としては、コーティング可能な濃度、粘度であればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。 The concentration of the thus coating solution was prepared, the viscosity, coatable concentration may be a viscosity is not particularly limited, it can be appropriately selected depending on the situation.
(A)ハードコート層上に、この塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させることにより、(B)低屈折率層が形成される。 (A) on the hard coat layer, the coating solution, conventionally known methods, for example, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating process and the gravure coating method, coating to form a coating film Te, dried, and irradiated with an active energy ray by curing the coating film to the low refractive index layer is formed (B).
活性エネルギー線については、前述のハードコート層の説明において示したとおりである。 The active energy ray, is as shown in the description of the hard coat layer described above.

本発明においては、前記(A)ハードコート層及び(B)低屈折率層の形成は、以下に示す方法で行うのが有利である。 In the present invention, formation of the (A) a hard coat layer and (B) a low refractive index layer is advantageously carried out in the following manner.
まず、基材フィルムの一方の面にハードコート層形成用塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、活性エネルギー線を照射してハーフキュア状態に硬化させる。 First, by coating one hard coat layer forming coating solution on the surface of the substrate film to form a coating film is cured in a half-cured state by an active energy ray. この際、紫外線を照射する場合には、光量は、通常50〜150mJ/cm 2程度である。 At this time, in the case of ultraviolet irradiation, the amount of light is usually 50~150mJ / cm 2 approximately. 次いで、このようにして形成されたハーフキュア状態の硬化層上に、低屈折率層形成用塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、活性エネルギー線を十分に照射し、前記ハーフキュア状態の硬化層と共に完全に硬化させる。 Then, the thus formed cured layer of the half-cured state, coated with a low refractive index layer forming coating liquid to form a coating film, an active energy ray sufficiently irradiated, the half-cured state completely curing with the curing layer. この際、紫外線を照射する場合、光量は、通常400〜1000mJ/cm 2程度である。 In this case, when irradiated with ultraviolet rays, the light amount is usually 400~1000mJ / cm 2 approximately. なお、(A)ハードコート層及び/又は低屈折率層を完全に硬化させる際は、酸素による硬化阻害を防ぐために、窒素ガスなどの雰囲気下で、活性エネルギー線を照射することができる。 Incidentally, when completely curing the (A) a hard coat layer and / or the low refractive index layer, in order to prevent curing inhibition by oxygen, in an atmosphere such as nitrogen gas, can be irradiated with an active energy ray. この場合、酸素濃度は低い方がよく、2容量%以下が好ましい。 In this case, the oxygen concentration is lower well, 2% by volume or less.
このようにして、基材フィルム上に、(A)層と(B)層間の密着性に優れる(A)近赤外線吸収性ハードコート層及び(B)低屈折率層が順次形成される。 Thus, on a base film, (A) layer and (B) is excellent in adhesion between the layers (A) the near-infrared absorbing hard coating layer and (B) a low refractive index layer are sequentially formed.
このようにして作製された本発明の反射防止フィルムにおいては、少なくとも波長850〜1000nmの全領域における透過率が30%以下であることを要す。 In the antireflection film of the present invention thus produced, Yosu that transmittance in the entire area of ​​at least a wavelength 850~1000nm is 30% or less. 該透過率が30%以下であれば、本発明の反射防止フィルムをPDPの前面板に用いた場合に、該PDPから発生する近赤外線による周辺電子機器(例えば、コードレスホン、近赤外線リモートコントロール装置を使用するビデオデッキなど)の誤作動を抑制することができる。 If the transmittance is 30% or less, when the antireflection film of the present invention is used for the front plate of the PDP, the peripheral device by near infrared rays generated from the PDP (e.g., a cordless phone, a near infrared remote control device it is possible to suppress the malfunction, such as a VCR) to be used. 前記透過率は、好ましくは20%以下である。 The transmittance is preferably 20% or less.
また、波長500〜700nmにおける反射率は、通常3%以下であり、全光線透過率は、通常40%以上、好ましくは50%以上である。 The reflectance at a wavelength of 500~700nm is usually not more than 3%, the total light transmittance is usually 40% or more, preferably 50% or more. また、ヘイズ値は、通常3%未満であり、ハードコート層に防眩性付与剤を含有させた場合は、3〜30%程度である。 The haze value is generally less than 3% and when it is contained antiglare-imparting agent to the hard coat layer is about 3% to 30%.
本発明の反射防止フィルムにおいては、前記(B)低屈折率層上に防汚コート層を設けることができる。 In the antireflection film of the present invention can be provided an antifouling coating layer on the (B) low-refractive index layer. この防汚コート層は、一般にフッ素系樹脂を含む塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、(B)低屈折率層上にコーティングし、塗膜を形成させ、乾燥処理することにより、形成することがきでる。 The antifouling coating layer generally a coating solution containing a fluorine-based resin, a conventionally known method, for example, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating process and the gravure coating method , coated onto (B) a low refractive index layer, to form a coating film, followed by drying treatment, forming it are in it comes to.
この防汚コート層の厚さは、通常1〜10nm、好ましくは3〜8nmの範囲である。 The thickness of the antifouling coat layer is usually 1 to 10 nm, preferably from 3 to 8 nm. 該防汚コート層を設けることにより、得られる反射防止フィルムは、表面の滑り性が良くなると共に、汚れにくくなる。 By providing the antifouling coat layer, an antireflection film obtained with slipperiness of the surface is improved, difficult stains.

このようにして、近赤外線吸収性能と反射防止性能を兼備すると共に、耐擦傷性に優れる上、層構成が簡単でコストの低い反射防止フィルムを得ることができる。 In this way, as well as combines the near-infrared absorbing performance and antireflection performance, on excellent in scratch resistance, it is possible to obtain a low antireflection film layer construction is simple and cost. この反射防止フィルムは、特にPDPの前面板に好適に用いられる。 The antireflection film is suitably used particularly in the front panel of the PDP.
本発明の反射防止フィルムにおいては、基材フィルムのハードコート層とは反対側の面に、前面板における被着体に貼着させるための粘着剤層を形成させることができる。 In the antireflection film of the present invention, the hard coat layer of the base film on the opposite side, it is possible to form an adhesive layer for attaching to an adherend in the front plate. この粘着剤層を構成する粘着剤としては、光学用途用のもの、例えばアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤が好ましく用いられる。 As the adhesive constituting the adhesive layer, an adhesive for optical applications such as an acrylic adhesive, a urethane adhesive, silicone adhesive is preferably used. この粘着剤層の厚さは、通常5〜50μmの範囲である。 The thickness of the adhesive layer is generally in the range of 5 to 50 [mu] m. この粘着剤層には、表示装置の発光色を色調補正するために、染料や顔料を含有させることができる。 The pressure-sensitive adhesive layer, in order to color correct the emission color of the display, may contain a dye or pigment.
さらに、この粘着剤層の上に、剥離フィルムを設けることができる。 Furthermore, it is possible on the adhesive layer, providing a release film. この剥離フィルムとしては、例えばグラシン紙、コート紙、ラミネート紙などの紙及び各種プラスチックフィルムに、シリコーン樹脂などの剥離剤を塗付したものなどが挙げられる。 As the release film, for example glassine paper, coated paper, to paper and various plastic films such as laminated paper, like those given coating a release agent such as silicone resin. この剥離フィルムの厚さについては特に制限はないが、通常20〜150μm程度である。 No particular limitation is imposed on the thickness of the release film is usually about 20 to 150 [mu] m.
本発明の反射防止フィルムは、ディスプレイ用、特にPDP用の反射防止フィルムとして好適に使用できる。 The antireflection film of the present invention, a display can be suitably used especially as an anti-reflection film for PDP.

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。 Next, the present invention embodiment will be described in more detail, the present invention is not intended to be limited by these examples.
なお、各例で得られた反射防止フィルムの物性は、以下に示す方法に従って測定した。 The physical properties of the antireflection film obtained in each example was measured in accordance with the following methods.
(1)波長500nm、600nm及び700nmにおける反射率 分光光度計[(株)島津製作所製「UV−3101PC」]により、波長500nm、600nm及び700nmにおける反射率を測定した。 (1) Wavelength 500 nm, 600 nm and reflectance spectrophotometer at 700nm by [manufactured by Shimadzu Corp. "UV-3101PC"], the reflectance was measured at a wavelength of 500 nm, 600 nm and 700nm.
(2)波長850〜1000nmにおける分光透過率 分光光度計[(株)島津製作所製「UV−3101PC」]により、波長850nmから1000nmにおける分光透過率(以下、透過率という。)を測定した。 (2) by the spectral transmittance spectrophotometer at a wavelength 850~1000Nm [(manufactured by Shimadzu Corporation) "UV-3101PC"], the spectral transmittance at 1000nm wavelength 850 nm (hereinafter, referred to as the transmittance.) Was measured. 波長850nm、900nm及び1000nmの測定値を第1表に示す。 Wavelength 850 nm, showing the measured values ​​of 900nm and 1000nm in Table 1.
(3)全光線透過率及びヘイズ値 日本電色工業社製ヘイズメーター「NDH 2000」を使用し、JIS K 6714に準拠して測定した。 (3) using the total light transmittance and haze value Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. haze meter "NDH 2000", it was measured in accordance with JIS K 6714.
(4)60°グロス値 日本電色工業社製グロスメーター「VG 2000」を使用し、JIS K 7105に準拠して測定した。 (4) using a 60 ° gloss value Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. gloss meter "VG 2000", it was measured in accordance with JIS K 7105.
(5)耐擦傷性 スチールウール#0000を使用し、荷重9.8×10 -3 N/mm 2で5往復擦った後に目視観察を行い、下記の判定基準で評価した。 (5) using the scratch resistance steel wool # 0000 was visually observed after rubbing five times under a load 9.8 × 10 -3 N / mm 2 , was evaluated by the following criteria.
○:傷が付かない。 ○: prevent scratches.
×:傷が付く。 ×: scratched.

実施例1 Example 1
(1)A液(ハードコート層形成用塗工液)の調製 活性エネルギー線硬化性化合物として多官能アクリレート混合物[荒川化学(株)製、商品名「ビームセット577CB」、固形分濃度100%]100重量部に、光重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア907」]2重量部を添加し、次いで近赤外線吸収剤[住友金属鉱山(株)製、商品名「YMF−01」、セシウム含有酸化タングステン(タングステンに対し、セシウム33モル%含有)含有量10重量%懸濁液、全固形分濃度14重量%]300重量部を混合したのち、全体の固形分濃度が30重量%になるようにメチルイソブチルケトン(MIBK)で希釈して、A液(ハードコート層形成用塗工液)を調製した。 (1) A liquid multi-functional acrylate mixture as prepared active energy ray-curable compound of (hard coat layer forming coating solution) [Arakawa Chemical Co., Ltd., trade name "beam set 577CB", solid concentration 100%] to 100 parts by weight of a photopolymerization initiator [manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc., trade name "Irgacure 907"] 2 parts by weight was added, followed by near-infrared absorbing agent from Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., trade name "YMF -01 ", (to tungsten, cesium 33 mol% content) cesium-containing tungsten oxide content of 10 wt% suspension, after mixing the total solid concentration 14 wt%] 300 parts by weight, the total solids concentration and diluted to 30% by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK), the a solution (hard coat layer forming coating solution) was prepared.
(2)B液(低屈折率層形成用塗工液)の調製 多官能アクリレート混合物[荒川化学(株)製、商品名「ビームセット577CB」、固形分濃度100%]100重量部に、光重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア907」]5重量部を添加し、次いで多孔性シリカ粒子のメチルイソブチルケトン(MIBK)分散体[触媒化成工業(株)製、商品名「ELCOM RT−1002SIV」、固形分濃度21重量%、多孔性シリカ粒子:比重1.8、屈折率1.30、平均粒径60nm]1200重量部を混合したのち、全体の固形分濃度が2重量%になるようにMIBKで希釈して、(B)液(低屈折率層形成用塗工液)を調製した。 (2) B solution (low refractive index layer forming coating solution) Preparation multifunctional acrylate mixture Arakawa Chemical Co., Ltd., trade name "beam set 577CB", solid concentration 100% to 100 parts by weight, light the polymerization initiator [manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc., trade name "Irgacure 907"] 5 parts by weight was added, followed by methyl isobutyl ketone (MIBK) dispersion of the porous silica particles [Shokubai Kasei Kogyo Co., Ltd., trade the name "ELCOM RT-1002SIV", solid concentration 21 wt%, the porous silica particles: specific gravity 1.8, refractive index 1.30, were mixed with average particle size 60 nm] 1200 parts by weight, the total solids concentration diluted with MIBK at 2 wt% to prepare the (B) liquid (low refractive index layer forming coating solution).
(3)反射防止フィルムの作製 基材フィルムとして厚さ100μmの両面易接着処理ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム[東洋紡績(株)製、商品名「A4300」]表面に、前記(1)で得たA液を硬化後の厚さが6μmになるように、マイヤーバーNo. (3) anti-reflection film manufactured base film as thick 100μm sided adhesion enhancing treatment of polyethylene terephthalate (PET) film [manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name "A4300"] on the surface, obtained in (1) so that the thickness after curing the liquid a is 6 [mu] m, Meyer bar No. 16で塗布した。 It was applied with a 16. 次いで、90℃で1分間乾燥したのち、紫外線を光量100mJ/cm 2で照射して、ハーフキュア状態に硬化させた。 Then, after drying for 1 minute at 90 ° C., UV was irradiated at a light quantity 100 mJ / cm 2 and allowed to cure in a half-cured state.
次に、このハーフキュア面に、前記(2)で得たB液を硬化後の厚さが100nmになるようにマイヤーバーNo. Then, this half-cured surface, wherein (2) Meyer as thickness after curing The resulting solution B becomes 100nm bar No. 4で塗布した。 It was coated at 4. 次いで、80℃で1分間乾燥したのち、窒素ガス雰囲気下(酸素濃度0.5容量%)で紫外線を光量500mJ/cm 2で照射して、完全硬化させ、PETフィルム上に、屈折率1.54の近赤外線吸収性ハードコート層及び屈折率1.38の低屈折率層を順次形成させることにより、反射防止フィルムを作製した。 Then, after drying for 1 minute at 80 ° C., the ultraviolet in a nitrogen gas atmosphere (oxygen concentration 0.5 vol%) was irradiated with light quantity 500 mJ / cm 2, it is completely cured, on a PET film, the refractive index 1. the low refractive index layer of the near-infrared absorbing hard coating layer and the refractive index 1.38 of 54 be sequentially formed to prepare an antireflection film.
このようにして作製された反射防止フィルムの物性を第1表に示す。 The physical properties of the thus anti-reflection film which is manufactured in Table 1. この反射防止フィルムの波長850〜1000nmの全領域における透過率は30%以下であった。 Transmittance in the entire wavelength region of 850~1000nm of this antireflection film was 30% or less.
なお、各コート層の厚さは、松下インターテクノ社製「フィルメトリクスF−20」により測定し、屈折率は(株)アタゴ製アッベ屈折計(Na光源、波長:約590nm)により測定した。 The thickness of each coating layer, Matsushita Inter measured by Techno Co. "Filmetrics F-20", refractive index Corporation Atago Co. Abbe refractometer (Na light source, wavelength: about 590 nm) was measured by. (以下、同様) (Hereinafter the same)
実施例2 Example 2
実施例1におけるA液(ハードコート層形成用塗工液)の調製を、下記のように変更した以外は、実施例1と同様に実施した。 Preparation of A solution of Example 1 (a hard coat layer forming coating solution), was changed as described below, was prepared as in Example 1.
<A液の調製> <Preparation of A solution>
多官能アクリレート混合物[荒川化学(株)製、商品名「ビームセット577CB」、固形分濃度100%]100重量部に、光重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア907」]2重量部を添加し、次いで近赤外線吸収剤[(株)日本触媒製、商品名「イーエックスカラーIR−12」、フタロシアニン系、固形分濃度100%(粉体)]1.3重量部、近赤外線吸収剤[(株)日本触媒製、商品名「イーエックスカラーIR−14」、フタロシアニン系、固形分濃度100%(粉体)]0.75重量部、近赤外線吸収剤[(株)日本触媒製、商品名「イーエックスカラーIR−906B」、フタロシアニン系、固形分濃度100%(粉体)]0.65重量部、近赤外線吸収剤[(株)日本触媒製、商品名「イーエックス Multifunctional acrylate mixture Arakawa Chemical Co., Ltd., trade name "beam set 577CB", solid concentration 100% to 100 parts by weight of a photopolymerization initiator [manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc., trade name "Irgacure 907" ] 2 parts by weight was added, followed by near-infrared absorbing agent [Corporation manufactured by Nippon Shokubai Co., trade name "EX color IR-12", phthalocyanine, solid concentration 100% (powder) 1.3 parts by weight , near-infrared absorbing agent [(Ltd.) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., trade name "EX color IR-14", phthalocyanine, a solid concentration of 100% (powder)] 0.75 parts by weight, the near-infrared absorbing agent [(Co. ) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., trade name "EX color IR-906B", phthalocyanine, a solid concentration of 100% (powder)] 0.65 parts by weight, the near-infrared absorbing agent [(Ltd.) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., the trade name of " EX カラーIR−910B」、フタロシアニン系、固形分濃度100%(粉体)]3.3重量部を混合したのち、全体の固形分濃度が30重量%になるようにMIBKで希釈してA液(ハードコート層形成用塗工液)を調製した。 Color IR-910B ", phthalocyanine, solid concentration 100% (powder) 3.3 After mixing the parts, was diluted with as total solids content of of 30 wt% MIBK A solution ( hard coat layer forming coating solution) was prepared.
このようにして作製した反射防止フィルムの物性を第1表に示す。 The physical properties of the antireflection film prepared in this manner in Table 1. この反射防止フィルムの波長850〜1000nmの全領域における透過率は30%以下であった。 Transmittance in the entire wavelength region of 850~1000nm of this antireflection film was 30% or less. なお、ハードコート層の屈折率は、1.53であった。 The refractive index of the hard coat layer was 1.53.
実施例3 Example 3
実施例1におけるA液(ハードコート層形成用塗工液)の調製を、下記のように変更した以外は、実施例1と同様に実施した。 Preparation of A solution of Example 1 (a hard coat layer forming coating solution), was changed as described below, was prepared as in Example 1.
<A液の調製> <Preparation of A solution>
多官能アクリレート混合物[荒川化学(株)製、商品名「ビームセット577CB」、固形分濃度100%]100重量部に、光重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア907」]2重量部を添加し、次いで近赤外線吸収剤[住友金属鉱山(株)製、商品名「YMF−01」、セシウム含有酸化タングステン(タングステンに対し、セシウム33モル%含有)含有量10重量%懸濁液、全固形分濃度14重量%]300重量部を混合し、さらに防眩性付与剤としてシリカ粒子[東ソー・シリカ(株)製、商品名「ニップシールE−200」、平均粒径3μm]5重量部を加えたのち、全体の固形分濃度が30重量%になるようにMIBKで希釈してA液(ハードコート層形成用塗工液)を調製した。 Multifunctional acrylate mixture Arakawa Chemical Co., Ltd., trade name "beam set 577CB", solid concentration 100% to 100 parts by weight of a photopolymerization initiator [manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc., trade name "Irgacure 907" ] 2 parts by weight was added, followed by near-infrared absorbing agent from Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., (relative to tungsten, cesium 33 mol% content) trade name "YMF-01", cesium content of tungsten oxide content of 10 wt% suspension, total solid concentration 14 wt%] 300 parts by weight of 1, further proof silica particles as glare imparting agent [by Tosoh silica Co., Ltd., trade name "Nipsil E-200", average particle diameter 3μm ] After adding 5 parts by weight a solution is diluted with MIBK to a total solids content of becomes 30% by weight (hard coat layer forming coating solution) was prepared.
このようにして作製した反射防止フィルムの物性を第1表に示す。 The physical properties of the antireflection film prepared in this manner in Table 1. この反射防止フィルムの波長850〜1000nmの全領域における透過率は30%以下であった。 Transmittance in the entire wavelength region of 850~1000nm of this antireflection film was 30% or less. なお、ハードコート層の屈折率は、1.53であった。 The refractive index of the hard coat layer was 1.53.

比較例1 Comparative Example 1
実施例1(1)におけるA液の調製において、近赤外線吸収剤を用いなかったこと以外は、実施例1と同様に実施して、反射防止フィルムを作製した。 In the preparation of liquid A in Example 1 (1), except for not using the near infrared absorbing agent, and in the same manner as in Example 1 to prepare an antireflection film. ハードコート層の屈折率:1.53 The refractive index of the hard coat layer: 1.53
このようにして作製した反射防止フィルムの物性を第1表に示す。 The physical properties of the antireflection film prepared in this manner in Table 1.
比較例2 Comparative Example 2
実施例1(1)のA液の調製において、光重合開始剤「イルガキュア907」の使用量を5重量部に変更した以外は、実施例1(1)と同様にして、ハードコート層形成用塗工液を調製した。 In the preparation of the solution A of Example 1 (1), except for changing the amount of the photopolymerization initiator "Irgacure 907" 5 parts by weight, in the same manner as in Example 1 (1), for forming a hard coat layer a coating solution was prepared.
次に、基材フィルムとして、厚さ100μmのPETフィルム「A4300」(前出)表面に、前記ハードコート層形成用塗工液を硬化後の厚さが6μmになるように、マイヤーバーNo. Next, the substrate film is a PET film "A4300" (supra) surface of the thickness 100 [mu] m, so that the thickness after curing of the hard coat layer forming coating solution becomes 6 [mu] m, Meyer bar No. 16で塗布した。 It was applied with a 16. 次いで、90℃で1分間乾燥したのち、紫外線を光量250mJ/cm 2で照射して完全硬化させ、ハードコートフィルムを作製した。 Then, after drying for 1 minute at 90 ° C., the light was completely cured by irradiation with light quantity 250 mJ / cm 2 and, to prepare a hard coat film.
このようにして作製されたハードコートフィルムの物性を第1表に示す。 The physical properties of the hard coat film was thus produced in Table 1.

第1表から、本発明の反射防止フィルム(実施例1〜3)は、いずれも反射防止性に優れると共に、近赤外線吸収性に優れ、耐擦傷性にも優れている。 From Table 1, the antireflection film of the present invention (Examples 1-3), together with both excellent antireflective properties, excellent near infrared absorptive, is excellent in scratch resistance. また、実施例3は、ハードコート層に防眩性付与剤を含有させているので、60°グロス値が58となっている。 In Example 3, since contain a glare-imparting agent to the hard coat layer, and has a 60 ° gloss value of 58.
これに対し、比較例1は、ハードコート層に近赤外線吸収剤を含んでいないので、近赤外線吸収性能が付与されていない。 In contrast, Comparative Example 1 does not contain the near infrared absorbent in the hard coat layer, the near infrared absorbing performance has not been granted. また、比較例2は、低屈折率層が設けられていないので、反射防止性に劣る。 In Comparative Example 2, since the low refractive index layer is not provided, poor antireflective properties.

本発明の反射防止フィルムは、近赤外線吸収性能と反射防止性能を有し、かつ耐擦傷性に優れる上、層構成が簡単でコストが低く、特にPDP用として好適である。 The antireflection film of the present invention has a near-infrared absorbing performance and antireflection property, and on the excellent scratch resistance, the layer structure is less easily and cost, it is particularly suitable for use in PDP.

Claims (7)

  1. 基材フィルムの一方の面に、(A)活性エネルギー線照射による硬化樹脂と近赤外線吸収剤を含む厚さ2〜20μmのハードコート層、及び(B)活性エネルギー線照射による硬化樹脂を含む屈折率1.43以下、厚さ50〜200nmの低屈折率層が順次積層され、かつ少なくとも波長850〜1000nmの全領域における透過率が30%以下であることを特徴とする反射防止フィルム。 On one side of the base film, the refractive comprising (A) a hard coat layer having a thickness of 2~20μm comprising a cured resin and the near-infrared absorbing agent by active energy ray irradiation, and (B) an active energy ray irradiation by curing resin rate 1.43 or less, an antireflection film, wherein the low refractive index layer having a thickness of 50~200nm are sequentially laminated, and the transmittance in the entire region of at least wavelength 850~1000nm is 30% or less.
  2. (A)層における近赤外線吸収剤が、酸化タングステン系化合物である請求項1に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 1 near-infrared absorbing agent in the (A) layer, a tungsten oxide compound.
  3. 酸化タングステン系化合物が、セシウム含有酸化タングステンである請求項2に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 2 tungsten oxide based compound, a cesium-containing tungsten oxide.
  4. (A)層に、さらに有機及び/又は無機フィラーを含有させてなる請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止フィルム。 The (A) layer, an antireflection film according to yet claim 1 formed by incorporating an organic and / or inorganic fillers.
  5. (B)層が、多孔性シリカ30〜80重量%を含む請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルム。 (B) layer, antireflection film according to claim 1 containing 30 to 80 wt% porous silica.
  6. 基材フィルムの他方の面に、厚さ5〜50μmの粘着剤層を有する請求項1〜5のいずれかに記載の反射防止フィルム。 On the other surface of the substrate film, an antireflection film according to claim 1 having a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 5 to 50 [mu] m.
  7. プラズマディスプレイ用である請求項1〜6のいずれかに記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 1 which is used for plasma displays.
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008059995A1 (en) * 2006-11-17 2008-05-22 Lintec Corporation Pressure sensitive adhesive composition for display
JP2008114544A (en) * 2006-11-07 2008-05-22 Catalysts & Chem Ind Co Ltd Substrate with transparent coating
WO2008102907A1 (en) * 2007-02-20 2008-08-28 Lintec Corporation Near-infrared shielding film
JP2008200924A (en) * 2007-02-19 2008-09-04 Toray Ind Inc Laminated film
JP2008268267A (en) * 2007-04-16 2008-11-06 Nippon Shokubai Co Ltd Resin composition for hard coat
JP2009114326A (en) * 2007-11-06 2009-05-28 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Dispersion liquid for near-infrared absorbing tacky adhesive, near-infrared absorbing self-adhesive, near-infrared absorbing filter for plasma display panel and plasma display panel
JP2009116314A (en) * 2007-10-18 2009-05-28 Nof Corp Hardcoat film for plasma display panel and plasma display panel
JP2009197146A (en) * 2008-02-22 2009-09-03 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Liquid dispersion of fine particles of infrared shielding material, infrared shielding film, infrared shielding optical member and near-infrared ray absorbing filter for plasma display panel
KR101249597B1 (en) * 2006-09-06 2013-04-01 린텍 가부시키가이샤 Infrared-ray absorption film
JP2013184992A (en) * 2012-03-06 2013-09-19 Japan Carlit Co Ltd:The Near-infrared ray absorption resin composition and near-infrared ray absorption film

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5510198B2 (en) * 2010-08-31 2014-06-04 コニカミノルタ株式会社 Method of manufacturing a front plate with a liquid crystal display device, a liquid crystal display device with the front plate
CN102503165B (en) * 2011-10-15 2013-08-21 浙江大学 Preparation method of antireflection film on glass surface
WO2014010562A1 (en) * 2012-07-13 2014-01-16 コニカミノルタ株式会社 Infrared-shielding film
CN103323902B (en) * 2013-06-21 2016-03-16 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 One kind of dazzling optical film and method of manufacturing the anti-
CN105295311A (en) * 2014-06-11 2016-02-03 亿高应用材料有限公司 A near-infrared ray shielding film, a method thereof and a near-infrared ray shielding composition

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10105076A (en) * 1996-09-26 1998-04-24 Nof Corp Near infrared shielding filter for electronic display
JP2001159711A (en) * 1999-12-03 2001-06-12 Mitsubishi Chemicals Corp Adhesive filter for plasma display
JP2001296401A (en) * 2000-04-11 2001-10-26 Jsr Corp Curable composition for high refractive index film, high refractive index film and antireflection laminated body
JP2002006102A (en) * 2000-06-19 2002-01-09 Nof Corp Near-infrared ray shielding and reflection reducing material and its use
JP2003139908A (en) * 2001-11-07 2003-05-14 Lintec Corp Optical film
JP2003292805A (en) * 2002-04-01 2003-10-15 Nippon Shokubai Co Ltd Composition having low refractive index and anti- reflection coating
JP2004012592A (en) * 2002-06-04 2004-01-15 Tomoegawa Paper Co Ltd Near infrared ray absorption and antireflection combined functional film
JP2004258267A (en) * 2003-02-25 2004-09-16 Matsushita Electric Works Ltd Antireflection film, method for manufacturing antireflection film, and antireflection member
JP2004272197A (en) * 2003-02-20 2004-09-30 Dainippon Printing Co Ltd Antireflective stack
WO2004088364A1 (en) * 2003-03-31 2004-10-14 Lintec Corporation Optical film
JP2004325579A (en) * 2003-04-22 2004-11-18 Asahi Glass Co Ltd Manufacturing method of antireflection organic base material
WO2005037932A1 (en) * 2003-10-20 2005-04-28 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Infrared shielding material microparticle dispersion, infrared shield, process for producing infrared shielding material microparticle, and infrared shielding material microparticle
WO2005087680A1 (en) * 2004-03-16 2005-09-22 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Sun screening laminated structure

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003295778A (en) * 2002-04-05 2003-10-15 Bridgestone Corp Filter for plasma display panel, and display device provided with this filter
KR100751932B1 (en) 2003-04-01 2007-08-27 엘지전자 주식회사 Front-filter and fabricating method thereof

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10105076A (en) * 1996-09-26 1998-04-24 Nof Corp Near infrared shielding filter for electronic display
JP2001159711A (en) * 1999-12-03 2001-06-12 Mitsubishi Chemicals Corp Adhesive filter for plasma display
JP2001296401A (en) * 2000-04-11 2001-10-26 Jsr Corp Curable composition for high refractive index film, high refractive index film and antireflection laminated body
JP2002006102A (en) * 2000-06-19 2002-01-09 Nof Corp Near-infrared ray shielding and reflection reducing material and its use
JP2003139908A (en) * 2001-11-07 2003-05-14 Lintec Corp Optical film
JP2003292805A (en) * 2002-04-01 2003-10-15 Nippon Shokubai Co Ltd Composition having low refractive index and anti- reflection coating
JP2004012592A (en) * 2002-06-04 2004-01-15 Tomoegawa Paper Co Ltd Near infrared ray absorption and antireflection combined functional film
JP2004272197A (en) * 2003-02-20 2004-09-30 Dainippon Printing Co Ltd Antireflective stack
JP2004258267A (en) * 2003-02-25 2004-09-16 Matsushita Electric Works Ltd Antireflection film, method for manufacturing antireflection film, and antireflection member
WO2004088364A1 (en) * 2003-03-31 2004-10-14 Lintec Corporation Optical film
JP2004325579A (en) * 2003-04-22 2004-11-18 Asahi Glass Co Ltd Manufacturing method of antireflection organic base material
WO2005037932A1 (en) * 2003-10-20 2005-04-28 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Infrared shielding material microparticle dispersion, infrared shield, process for producing infrared shielding material microparticle, and infrared shielding material microparticle
WO2005087680A1 (en) * 2004-03-16 2005-09-22 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Sun screening laminated structure

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101249597B1 (en) * 2006-09-06 2013-04-01 린텍 가부시키가이샤 Infrared-ray absorption film
JP2008114544A (en) * 2006-11-07 2008-05-22 Catalysts & Chem Ind Co Ltd Substrate with transparent coating
WO2008059995A1 (en) * 2006-11-17 2008-05-22 Lintec Corporation Pressure sensitive adhesive composition for display
JP5328364B2 (en) * 2006-11-17 2013-10-30 リンテック株式会社 Display for the pressure-sensitive adhesive composition
KR101399987B1 (en) 2006-11-17 2014-05-27 린텍 가부시키가이샤 Pressure sensitive adhesive composition for display
JP2008200924A (en) * 2007-02-19 2008-09-04 Toray Ind Inc Laminated film
WO2008102907A1 (en) * 2007-02-20 2008-08-28 Lintec Corporation Near-infrared shielding film
JP2008200983A (en) * 2007-02-20 2008-09-04 Lintec Corp Near-infrared shielding film
JP2008268267A (en) * 2007-04-16 2008-11-06 Nippon Shokubai Co Ltd Resin composition for hard coat
JP2009116314A (en) * 2007-10-18 2009-05-28 Nof Corp Hardcoat film for plasma display panel and plasma display panel
US8174190B2 (en) 2007-11-06 2012-05-08 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Dispersion liquid for near-infrared-absorbing adhesive-body, near-infrared-absorbing adhesive body, near-infrared-absorbing plasma-display-panel filter, and plasma display panel
JP2009114326A (en) * 2007-11-06 2009-05-28 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Dispersion liquid for near-infrared absorbing tacky adhesive, near-infrared absorbing self-adhesive, near-infrared absorbing filter for plasma display panel and plasma display panel
JP2009197146A (en) * 2008-02-22 2009-09-03 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Liquid dispersion of fine particles of infrared shielding material, infrared shielding film, infrared shielding optical member and near-infrared ray absorbing filter for plasma display panel
JP2013184992A (en) * 2012-03-06 2013-09-19 Japan Carlit Co Ltd:The Near-infrared ray absorption resin composition and near-infrared ray absorption film

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