JP2006184061A - Electrical connection component and its manufacturing method - Google Patents

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俊弘 石塚
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrical connection component that will not undergo performance drop, even due to wear, and to provide a method for manufacturing the electrical connection component, regarding the electrical connection component that has a substrate made of a first conductive material and a plated layer of a second conductive material that is formed on the surface of the substrate and has a contact resistance smaller than that of the first conductive material, and obtains electrical connection by coming into contact with other components, and to provide a method for manufacturing the electrical connection component. <P>SOLUTION: A closed-end hole (recess) 151 is formed at the part of the substrate 131 that faces a part in contact with an electrode (other components) 111, and a second plated layer 135 is formed on a sidewall surface 151a of at least the closed-end hole 151. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、第1の導電性材料からなる基体と、該基体の表面に形成され、前記第1の導電性材料より接触抵抗が小さな第2の導電性材料のめっき層とを有し、他の部品と接触することにより電気的接続を得る電気的接続部品及びその製造法に関する。   The present invention includes a base made of a first conductive material, and a plating layer of a second conductive material formed on the surface of the base and having a contact resistance smaller than that of the first conductive material. The present invention relates to an electrical connection part that obtains an electrical connection by contacting the part and a manufacturing method thereof.

部品と部品とを電気的に接続するために、各種のコネクタ、プローブピン等の電気的接続部品が使われる。コネクタやプローブピンでは、接続する相手の部品との接触状態を良好に保つために表面に金めっきが施されている。一方、電気的接続部品が接触する相手の部品の表面も金めっきや半田等で処理されている。この相手の部品と電気的接続部品とが押接することにより、電気的に接続される。   In order to electrically connect components to each other, electrical connection components such as various connectors and probe pins are used. In the connector and the probe pin, the surface is plated with gold in order to keep a good contact state with the counterpart component to be connected. On the other hand, the surface of the counterpart component with which the electrical connection component contacts is also treated with gold plating or solder. The mating component and the electrical connection component are electrically connected by being pressed against each other.

ここで、図9を用いて一般的なプローブの構成を説明する。図において、両端面が開放面である筒状のケース1の周面には、周方向に沿って第1の凹部3と、第2の凹部5とが形成されている。   Here, the configuration of a general probe will be described with reference to FIG. In the figure, the 1st recessed part 3 and the 2nd recessed part 5 are formed in the surrounding surface of the cylindrical case 1 whose both end surfaces are open surfaces along the circumferential direction.

ケース1内には、導電性を有するプローブピン7がケース1の軸方向に移動可能に設けられている。プローブピン7の中間部には、第1の凹部3と第2の凹部5との間に配置され、第2の凹部5の内径より径が大きな大径部9が形成されている。従って、プローブピン7の大径部9がケース1の第2の凹部5の当接することにより、それ以上のプローブピン7のケース1からの突出が禁止されるようになっている。プローブピン7の大径部9をはさんで一方の端部側(図において下側)は、ケース1から突出するプローブピン本体10が形成されている。プローブピン本体10の先端には、基板等に設けられた接点11に当接する接触部13が形成されている。プローブピン7の大径部9をはさんで他方の端部側(図において上側)は、第1の凹部3方向に延出する小径部15が形成されている。   A conductive probe pin 7 is provided in the case 1 so as to be movable in the axial direction of the case 1. A large-diameter portion 9 that is disposed between the first concave portion 3 and the second concave portion 5 and has a diameter larger than the inner diameter of the second concave portion 5 is formed in the intermediate portion of the probe pin 7. Therefore, when the large-diameter portion 9 of the probe pin 7 comes into contact with the second concave portion 5 of the case 1, further protrusion of the probe pin 7 from the case 1 is prohibited. A probe pin main body 10 protruding from the case 1 is formed on one end side (lower side in the figure) across the large-diameter portion 9 of the probe pin 7. A contact portion 13 is formed at the tip of the probe pin main body 10 so as to abut on a contact 11 provided on a substrate or the like. A small-diameter portion 15 extending in the direction of the first recess 3 is formed on the other end side (upper side in the drawing) across the large-diameter portion 9 of the probe pin 7.

ケース1内には、プローブピン7の小径部に対して空間を介して巻回され、一端部(図において下端部)がプローブピン7の大径部9に当接し、他端部(図において上端部)が第1の凹部3に当接して、ケース1から突出する方向にプローブピン7を付勢するスプリング17が設けられている。   The case 1 is wound around a small diameter portion of the probe pin 7 through a space, and one end portion (lower end portion in the figure) abuts on the large diameter portion 9 of the probe pin 7 and the other end portion (in the figure). A spring 17 that urges the probe pin 7 in a direction protruding from the case 1 is provided in contact with the first recess 3 at the upper end).

また、プローブピン7の小径部15の先端(図において上側)には、導電性の円筒状のプラグ21の一端がカシメ等の手法により固着されている。更に、テスター等に接続する接続配線23の芯線25が、プラグ21の他端にカシメ等の手法により固着されている。   In addition, one end of a conductive cylindrical plug 21 is fixed to the tip (upper side in the drawing) of the small diameter portion 15 of the probe pin 7 by a technique such as caulking. Furthermore, the core wire 25 of the connection wiring 23 connected to the tester or the like is fixed to the other end of the plug 21 by a caulking method or the like.

よって、プローブピン7の接触部13が電極11に接触することにより、導電性のプローブピン7、導電性のプラグ21、接続配線23からなる電気的導通経路が形成される(例えば、特許文献1参照)。   Therefore, when the contact portion 13 of the probe pin 7 contacts the electrode 11, an electrical conduction path including the conductive probe pin 7, the conductive plug 21, and the connection wiring 23 is formed (for example, Patent Document 1). reference).

次に、図10を用いてプローブピン7の説明を行う。
プローブピン7は、SK3等の炭素工具鋼(第1の導電性材料)からなる基体31と、基体31の表面を覆うように形成され、導電性材料であるニッケルの第1のめっき層33と、第1のめっき層33の表面を覆うように金(第2の導電性材料)の第2のめっき層35とからなっている。尚、他の部品との接触抵抗は、炭素工具鋼、ニッケル、金の順に小さくなる。更に、ニッケルの第1のめっき層33は、下地のめっきとして用いられている。
特開2004−117156号公報(図4)
Next, the probe pin 7 will be described with reference to FIG.
The probe pin 7 is formed so as to cover the surface of the base 31 made of carbon tool steel (first conductive material) such as SK3, and a first plating layer 33 of nickel which is a conductive material. The second plating layer 35 is made of gold (second conductive material) so as to cover the surface of the first plating layer 33. The contact resistance with other parts decreases in the order of carbon tool steel, nickel, and gold. Further, the first plating layer 33 of nickel is used as a base plating.
JP 2004-117156 A (FIG. 4)

しかし、図10に示す構造のプローブピン7では、多数回の接続(コンタクト)を行った場合や、プローブピン7が接触する相手の部品の接触面が傾斜している場合は、プローブピン7の接触部13は、押圧、滑りによって磨耗が激しくなる。例えば、図10に示す形状のプローブピン7では、図11(a)に示すように、第2のめっき層35が磨耗して消滅し、下地の第1のめっき層33が露出し、第1のめっき層33が相手の部品と接触するようになっている。更に、図11(b)に示すように第1のめっき層33が磨耗して消滅し、基体31が露出し、基体31が相手の部品と接触するようになっている。   However, in the case of the probe pin 7 having the structure shown in FIG. 10, when the connection (contact) is made many times, or when the contact surface of the counterpart component with which the probe pin 7 contacts is inclined, The contact portion 13 is heavily worn by pressing and sliding. For example, in the probe pin 7 having the shape shown in FIG. 10, as shown in FIG. 11A, the second plating layer 35 is worn out and disappears, and the first plating layer 33 is exposed, and the first plating layer 33 is exposed. The plating layer 33 is in contact with the counterpart component. Further, as shown in FIG. 11 (b), the first plating layer 33 is worn away and disappears, the base 31 is exposed, and the base 31 comes into contact with the counterpart component.

第2のめっき層35の材料である金に対し、第1のめっき層33の材料であるニッケル、基体31の材料である炭素工具鋼の他の部品との接触抵抗は2〜3倍高く、接触抵抗のばらつきも大きいので、精密な測定を行えなくなる問題点がある。   The contact resistance with other parts of the carbon tool steel, which is the material of the base 31 and the nickel, which is the material of the first plating layer 33, is 2-3 times higher than the gold which is the material of the second plating layer 35, There is a problem that accurate measurement cannot be performed due to large variations in contact resistance.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、その課題は、磨耗しても性能の低下がない電気的接続部品及びその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide an electrical connection component that does not deteriorate in performance even if it is worn, and a method for manufacturing the same.

請求項1に係る発明は、第1の導電性材料からなる基体と、該基体の表面に形成され、前記基体より他の部品との接触抵抗が小さな第2の導電性材料のめっき層とを有し、他の部品と接触することにより電気的接続を得る電気的接続部品において、前記他の部品と接触する部分と対向する前記基体の部分には、凹部が形成され、前記めっき層は、少なくとも前記凹部内の側壁面に形成されたことを特徴とする電気的接続部品である。   According to a first aspect of the present invention, there is provided a base made of the first conductive material, and a plating layer of the second conductive material formed on the surface of the base and having a smaller contact resistance with other parts than the base. In the electrical connection component that has an electrical connection by contacting with another component, a concave portion is formed in the portion of the base that faces the portion in contact with the other component, and the plating layer includes: An electrical connection component formed on at least a side wall surface in the recess.

請求項2に係る発明は、前記凹部は、複数あることを特徴とする請求項1記載の電気的接続部品である。
請求項3に係る発明は、前記凹部は、底を有する有底穴であることを特徴とする請求項1又は2記載の電気的接続部品である。
The invention according to claim 2 is the electrical connection component according to claim 1, wherein there are a plurality of the recesses.
The invention according to claim 3 is the electrical connection component according to claim 1, wherein the recess is a bottomed hole having a bottom.

請求項4に係る発明は、前記凹部は、貫通穴であることを特徴とする請求項1又は2記載の電気的接続部品である。
請求項5に係る発明は、前記第2導電性材料は、金、パラジウムのうちのどちらか一方であることを特徴とする請求項1記載の電気的接続部品である。
The invention according to claim 4 is the electrical connection part according to claim 1 or 2, wherein the recess is a through hole.
The invention according to claim 5 is the electrical connection component according to claim 1, wherein the second conductive material is one of gold and palladium.

請求項6に係る発明は、第1の導電性材料からなる基体と、該基体の表面に形成され、前記基体より他の部品との接触抵抗が小さな第2の導電性材料のめっき層とを有し、他の部品と接触することにより電気的接続を得る電気的接続部品の製造法において、前記他の部品と接触する部分と対向する前記基体の部分に凹部を形成する工程と、少なくとも前記凹部内の側壁面に前記めっき層を形成する工程と、を有することを特徴とする電気的接続部品の製造方法である。   According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a base made of the first conductive material, and a plating layer of the second conductive material formed on the surface of the base and having a smaller contact resistance with other parts than the base. A method of manufacturing an electrical connection component having electrical connection by contacting with another component, and forming a recess in a portion of the base that faces the portion in contact with the other component; Forming the plating layer on the side wall surface in the recess.

尚、本発明で、めっきとは、電気めっき、化学めっき、溶融めっき、溶射、物理蒸着、化学蒸着、浸透めっきをいう。   In the present invention, the plating means electroplating, chemical plating, hot dipping, thermal spraying, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, and permeation plating.

請求項1、請求項6に係る発明によれば、前記他の部品と接触する部分と対向する前記基体の部分には、凹部が形成され、前記めっき層は、少なくとも前記凹部内の側壁面に形成されたことにより、他の部品と接触する部分が磨耗しても、凹部内の側壁面に形成されためっき層が常に他の部品との接触する部分に露出する。よって、基体より他の部品との接触抵抗の小さなめっき層が常に他の部品と接触するので、磨耗による性能の低下がない。   According to the first and sixth aspects of the present invention, a recess is formed in the portion of the base that faces the portion that contacts the other component, and the plating layer is formed on at least a side wall surface in the recess. By being formed, even if a portion in contact with another component is worn, the plating layer formed on the side wall surface in the recess is always exposed to the portion in contact with the other component. Therefore, since the plating layer having a smaller contact resistance with other parts than the base always comes into contact with other parts, there is no deterioration in performance due to wear.

請求項2に係る発明によれば、凹部が複数あることにより、前記他の部品と接触する部分が増え、安定した接触を得ることができる。
請求項3に係る発明によれば、前記凹部は、底を有する有底穴であるので、接触部の厚みがある電気的接続部品、例えば、プローブピンのような電気的接続部品に好適である。
According to the invention which concerns on Claim 2, the part which contacts said other components increases because there are two or more recessed parts, and can obtain the stable contact.
According to the invention of claim 3, since the recess is a bottomed hole having a bottom, it is suitable for an electrical connection component having a thickness of the contact portion, for example, an electrical connection component such as a probe pin. .

請求項4に係る発明によれば、前記凹部は、貫通穴であるので、接触部の厚みがない電気的接続部品、例えば、コネクタのような電気的接続部品に好適である。
請求項5に係る発明によれば、前記第2導電性材料は、金、パラジウムのうちのどちらか一方である。金の場合は接触抵抗が小さく、パラジウムの場合は耐摩擦性に優れる。
According to the invention which concerns on Claim 4, since the said recessed part is a through-hole, it is suitable for electrical connection components without the thickness of a contact part, for example, electrical connection components like a connector.
According to the invention of claim 5, the second conductive material is either gold or palladium. In the case of gold, the contact resistance is small, and in the case of palladium, the friction resistance is excellent.

(第1の形態例)
電気的接続部品としてプローブピンに適用した例で説明を行う。最初に図2を用いて、本形態例のプローブピンが設けられたプローブの説明を行う。
(First embodiment)
An example in which the probe pin is applied as an electrical connection component will be described. First, the probe provided with the probe pins of this embodiment will be described with reference to FIG.

図において、両端面が開放面である筒状のケース101の周面には、周方向に沿って第1の凹部103と、第2の凹部105とが形成されている。ケース101内には、導電性を有するプローブピン107がケース101の軸方向に移動可能に設けられている。プローブピン107の中間部には、第1の凹部103と第2の凹部105との間に配置され、第2の凹部105の内径より径が大きな大径部109が形成されている。従って、プローブピン107の大径部109がケース101の第2の凹部105の当接することにより、それ以上のプローブピン107のケース101からの突出が禁止されるようになっている。プローブピン107の大径部109をはさんで一方の端部側(図において下側)は、ケース101から突出するプローブピン本体110が形成されている。プローブピン本体110の先端には、基板等に設けられた電極111に当接する接触部113が形成されている。プローブピン107の大径部109をはさんで他方の端部側(図において上側)は、第1の凹部103方向に延出する小径部115が形成されている。   In the figure, a first recess 103 and a second recess 105 are formed along the circumferential direction on the peripheral surface of the cylindrical case 101 whose both end surfaces are open surfaces. A conductive probe pin 107 is provided in the case 101 so as to be movable in the axial direction of the case 101. A large-diameter portion 109 that is disposed between the first concave portion 103 and the second concave portion 105 and has a diameter larger than the inner diameter of the second concave portion 105 is formed in an intermediate portion of the probe pin 107. Accordingly, when the large-diameter portion 109 of the probe pin 107 abuts on the second recess 105 of the case 101, further protrusion of the probe pin 107 from the case 101 is prohibited. A probe pin main body 110 protruding from the case 101 is formed on one end side (lower side in the figure) across the large diameter portion 109 of the probe pin 107. At the tip of the probe pin main body 110, a contact portion 113 that abuts on the electrode 111 provided on the substrate or the like is formed. On the other end side (the upper side in the figure) across the large-diameter portion 109 of the probe pin 107, a small-diameter portion 115 extending in the direction of the first concave portion 103 is formed.

ケース101内には、プローブピン107の小径部115に対して空間を介して巻回され、一端部(図において下端部)がプローブピン107の大径部109に当接し、他端部(図において上端部)が第1の凹部103に当接して、ケース101から突出する方向にプローブピン107を付勢するスプリング117が設けられている。   The case 101 is wound around the small diameter portion 115 of the probe pin 107 through a space, and one end portion (the lower end portion in the figure) abuts on the large diameter portion 109 of the probe pin 107 and the other end portion (see the figure). A spring 117 that biases the probe pin 107 in a direction that protrudes from the case 101 is provided in contact with the first recess 103.

また、プローブピン107の小径部115の先端(図において上側)には、導電性の円筒状のプラグ121の一端がカシメ等の手法により固着されている。更に、テスター等に連なる接続配線123の芯線125が、プラグ121の他端にカシメ等の手法により固着されている。   Further, one end of a conductive cylindrical plug 121 is fixed to the tip (upper side in the figure) of the small diameter portion 115 of the probe pin 107 by a method such as caulking. Further, the core wire 125 of the connection wiring 123 connected to the tester or the like is fixed to the other end of the plug 121 by a caulking method or the like.

よって、プローブピン107の接触部113が電極111に接触することにより、導電性のプローブピン107、導電性のプラグ121、接続配線123からなる電気的導通経路が形成される。   Therefore, when the contact portion 113 of the probe pin 107 comes into contact with the electrode 111, an electrical conduction path including the conductive probe pin 107, the conductive plug 121, and the connection wiring 123 is formed.

次に、図1を用いてプローブピン107、特にプローブピン本体110の説明を行う。
プローブピン107は、SK3等の炭素工具鋼(第1の導電性材料)からなる基体131と、基体131の表面を覆うように形成された導電性材料であるニッケルの第1のめっき層133と、第1のめっき層133の表面を覆うように金(第2の導電性材料)の第2のめっき層135とからなっている。尚、他の部品としての電極111との接触抵抗は、炭素工具鋼、ニッケル、金の順に小さくなる。更に、ニッケルの第1のめっき層133は、下地のめっきとして用いられている。
Next, the probe pin 107, in particular, the probe pin main body 110 will be described with reference to FIG.
The probe pin 107 includes a base 131 made of carbon tool steel (first conductive material) such as SK3, and a first plating layer 133 of nickel that is a conductive material formed so as to cover the surface of the base 131. The second plating layer 135 is made of gold (second conductive material) so as to cover the surface of the first plating layer 133. The contact resistance with the electrode 111 as another component decreases in the order of carbon tool steel, nickel, and gold. Further, the first plating layer 133 of nickel is used as a base plating.

そして、接触部113と対向する基体131の部分には、凹部として有底穴151が形成され、第1のめっき層133、第2のめっき層135は、有底穴151の内部の側壁面151a及び底面151bにも形成されている。   A bottomed hole 151 is formed as a recess in the portion of the base 131 facing the contact portion 113, and the first plating layer 133 and the second plating layer 135 are formed on the side wall surface 151 a inside the bottomed hole 151. And the bottom surface 151b.

ここで、図1に示す構成のプローブピン107の製造法を図3を用いて説明する。最初に、図3(a)、図3(b)に示すように、基体131の接触部113と対向する部分に有底穴151を形成する(ステップ1)。次に、図3(c)に示すように、基体131の表面と、有底穴151内部の側壁面151a及び底面151bとに第1のめっき層133を形成する(ステップ2)。最後に、図3(d)に示すように、第1のめっき層135の表面に第2のめっき層135を形成する。   Here, a manufacturing method of the probe pin 107 having the configuration shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. First, as shown in FIGS. 3A and 3B, a bottomed hole 151 is formed in a portion of the base 131 that faces the contact portion 113 (step 1). Next, as shown in FIG. 3C, a first plating layer 133 is formed on the surface of the base 131 and the side wall surface 151a and the bottom surface 151b inside the bottomed hole 151 (step 2). Finally, as shown in FIG. 3D, a second plating layer 135 is formed on the surface of the first plating layer 135.

このような構成によれば、プローブピン107の接触部113が磨耗して、図4(a)に示すように、第1のめっき層133が外部に露出するようになっても、有底穴151の内部の側壁面151aに形成された第2のめっき層135が接触部113に露出している。   According to such a configuration, even if the contact portion 113 of the probe pin 107 is worn and the first plating layer 133 is exposed to the outside as shown in FIG. The second plating layer 135 formed on the side wall surface 151 a inside 151 is exposed to the contact portion 113.

また、図4(b)に示すように、更にプローブピン107の接触部113が磨耗して、基体131が外部に露出するようになっても、有底穴151の内部の側壁面151aに形成された第2のめっき層135が接触部113に露出している。   Further, as shown in FIG. 4B, even if the contact portion 113 of the probe pin 107 is further worn and the base 131 is exposed to the outside, it is formed on the side wall surface 151a inside the bottomed hole 151. The formed second plating layer 135 is exposed at the contact portion 113.

よって、基体131より電極(他の部品)111との接触抵抗の小さな第2のめっき層135が常に電極111と接触するので、磨耗による性能の低下がない。
尚、本発明は上記形態例に限定するものではない。上記形態例では、第1のめっき層133及び第2のめっき層135は、基体131の表面の全域と、有底穴151内部の側壁面151a及び底面151bとに形成したが、少なくとも有底穴151内部の側壁面151aに形成すれば、常に有底穴151の内部の側壁面151aに形成された第2のめっき層135が接触部113に露出しているので、磨耗による性能の低下はなくなる。
Therefore, since the second plating layer 135 having a smaller contact resistance with the electrode (other parts) 111 than the base 131 is always in contact with the electrode 111, there is no deterioration in performance due to wear.
The present invention is not limited to the above embodiment. In the above embodiment, the first plating layer 133 and the second plating layer 135 are formed on the entire surface of the base 131 and the side wall surface 151a and the bottom surface 151b inside the bottomed hole 151. If the second plating layer 135 formed on the side wall surface 151a of the bottomed hole 151 is always exposed to the contact portion 113, the performance degradation due to wear is eliminated. .

また、第2のめっき層135の材質も金に限定するものではない。他の部品である電極111に対する接触抵抗は金が一番小さいが、他に金よりも耐磨耗性に優れたパラジウムであってもよい。   The material of the second plating layer 135 is not limited to gold. Although the contact resistance with respect to the electrode 111 which is another component is the smallest, gold | metal | money may be palladium which was excellent in abrasion resistance rather than gold | metal | money.

更に、基体131に金の第2のめっき層135が強固に形成可能ならば、ニッケルの第1のめっき層133は不要である。
又、有底穴151は1つであったが、複数設けてもよい。複数設けることにより、電極111と接触する部分が増え、安定した接触を得ることができる。
Further, if the gold second plating layer 135 can be firmly formed on the substrate 131, the nickel first plating layer 133 is unnecessary.
Moreover, although the bottomed hole 151 was one, you may provide multiple. By providing a plurality, the number of parts in contact with the electrode 111 is increased, and stable contact can be obtained.


(第2の実施の形態例)
本形態例は、電気的接続部品として、ICソケットに設けられ、ICのリードピンに電気的に接続する薄板状の電極に適用した例である。

(Second Embodiment)
This embodiment is an example applied to a thin plate-like electrode provided in an IC socket as an electrical connection component and electrically connected to an IC lead pin.

図5に示すように、IC ソケット201には、装着されるDIP型のパッケージに封止されたIC203のリードピン205の全てと対応して電極207が設けられる。
電極207は、図6(a)に示すように、導電性の薄板を折り曲げ加工して略U字形に形成されている。このようにU字形に折り曲げられることにより、対向する2つの片209,211は互いに近づくように付勢されている。そして、図6(b)に示すように、これら2つ片209、211の間にIC203のリードピン205が挿入され、片209、211とリードピン205とが接触し、電気的接続が得られるようになっている。
As shown in FIG. 5, the IC socket 201 is provided with electrodes 207 corresponding to all of the lead pins 205 of the IC 203 sealed in the DIP type package to be mounted.
As shown in FIG. 6A, the electrode 207 is formed in a substantially U shape by bending a conductive thin plate. The two opposing pieces 209 and 211 are urged so as to approach each other by being bent in a U shape in this way. Then, as shown in FIG. 6B, the lead pins 205 of the IC 203 are inserted between the two pieces 209 and 211 so that the pieces 209 and 211 and the lead pins 205 are in contact with each other so that an electrical connection is obtained. It has become.

具体的には、片209,211に形成された屈曲部209a、211aが、リードピン205との接触部となる。本形態例では、図6(b)のA部分の拡大図である図7に示すように、屈曲部209a、211aに凹部としての貫通穴209b、211bを形成した。   Specifically, the bent portions 209 a and 211 a formed on the pieces 209 and 211 are contact portions with the lead pin 205. In this embodiment, as shown in FIG. 7 which is an enlarged view of portion A in FIG. 6B, through holes 209b and 211b as concave portions are formed in the bent portions 209a and 211a.

そして、電極207は、図7のB部分の拡大図である図8に示すように、りん青銅、ベリリウム銅、ステンレス等のばね材料(第1の導電性材料)からなる基体231と、基体231の表面を覆うように形成された導電性材料であるニッケルの第1のめっき層233と、第1のめっき層233の表面を覆うように金(第2の導電性材料)の第2のめっき層235とからなっている。尚、他の部品であるIC203のリードピン205との接触抵抗は、ばね材料、ニッケル、金の順に小さくなる。更に、ニッケルの第1のめっき層233は、下地のめっきとして用いられている。そして、第1のめっき層233、第2のめっき層235は、貫通穴211bの内部の側壁面211cにも形成されている。尚、図示していないが、第1のめっき層233、第2のめっき層235は、貫通穴209bの内部の側壁面にも形成されている。   The electrode 207 includes a base 231 made of a spring material (first conductive material) such as phosphor bronze, beryllium copper, and stainless steel, and a base 231 as shown in FIG. The first plating layer 233 of nickel, which is a conductive material formed so as to cover the surface of the first metal, and the second plating of gold (second conductive material) so as to cover the surface of the first plating layer 233 Layer 235. The contact resistance with the lead pin 205 of the IC 203, which is another component, decreases in the order of spring material, nickel, and gold. Further, the first plating layer 233 of nickel is used as a base plating. The first plating layer 233 and the second plating layer 235 are also formed on the side wall surface 211c inside the through hole 211b. Although not shown, the first plating layer 233 and the second plating layer 235 are also formed on the side wall surface inside the through hole 209b.

このような構成によれば、電極207に対してIC203のリードピン205を多数回抜き差して、屈曲部(接触部)211aが磨耗しても、基体231よりリードピン205との接触抵抗の小さな第2のめっき層235が常にリードピン205と接触するので、磨耗による性能の低下がない。   According to such a configuration, even when the lead pin 205 of the IC 203 is pulled out and inserted many times with respect to the electrode 207 and the bent portion (contact portion) 211a is worn, the second contact resistance lower than that of the base 231 is smaller than that of the lead pin 205. Since the plating layer 235 is always in contact with the lead pin 205, there is no deterioration in performance due to wear.

尚、本発明は上記形態例に限定するものではない。上記形態例では、貫通穴209b、211bを形成したが、リードピン205から離れる方向に凸の凹部(有底穴)を形成しても同様の効果を得ることができる。   The present invention is not limited to the above embodiment. In the above embodiment, the through holes 209b and 211b are formed. However, the same effect can be obtained even if a convex recess (bottomed hole) is formed in a direction away from the lead pin 205.

又、第1のめっき層233及び第2のめっき層235は、基体231の表面の全域と、貫通穴209b、211b内部の側壁面に形成したが、少なくとも貫通穴2099b、211b内部の側壁面に形成すれば、常に貫通穴209b、211bの内部の側壁面に形成された第2のめっき層235が接触部としての屈曲部209a,211aに露出しているので、磨耗による性能の低下はなくなる。   The first plating layer 233 and the second plating layer 235 are formed on the entire surface of the base 231 and on the side wall surface inside the through holes 209b and 211b, but at least on the side wall surface inside the through holes 2099b and 211b. If formed, the second plating layer 235 formed on the side wall surfaces inside the through holes 209b and 211b is always exposed to the bent portions 209a and 211a as contact portions, so that the performance degradation due to wear is eliminated.

更に、貫通穴209b、211bは1つであったが、複数設けてもよい。複数設けることにより、リードピン205と接触する部分が増え、安定した接触を得ることができる。
逆に、片209、片211にそれぞれ貫通穴209b、211bを設けたが、屈曲部209a、211aが必ずリードピン205に接触するならば、片209、片211のうちの少なくともどちらか一方の片に貫通穴を設けるようにしてもよい。
Furthermore, although the number of through holes 209b and 211b is one, a plurality may be provided. By providing a plurality, the number of portions that come into contact with the lead pins 205 is increased, and stable contact can be obtained.
Conversely, the through-holes 209b and 211b are provided in the piece 209 and the piece 211, respectively, but if the bent portions 209a and 211a always contact the lead pin 205, at least one of the piece 209 and the piece 211 is provided. A through hole may be provided.

又、基体231に金の第2のめっき層235が強固に形成可能ならば、ニッケルの第1のめっき層233は不要である。
更に、本発明は、上記2つの形態例に限定するものではない。本発明は、他にコネクタの電極、コンセントのブレード等にも適用できることは言うまでもない。
If the gold second plating layer 235 can be firmly formed on the substrate 231, the nickel first plating layer 233 is not necessary.
Furthermore, the present invention is not limited to the above two embodiments. Needless to say, the present invention can also be applied to electrode of a connector, blade of an outlet, and the like.

第1の実施例のプローブピンを説明する図である。It is a figure explaining the probe pin of a 1st Example. 第1の実施例のプローブピンが設けられたプローブを説明する図である。It is a figure explaining the probe provided with the probe pin of the 1st Example. 図1のプローブピンを製造する工程を説明する図である。It is a figure explaining the process of manufacturing the probe pin of FIG. 接触部が磨耗した図1のプローブピンを説明する図である。It is a figure explaining the probe pin of FIG. 1 with which the contact part was worn out. 第2の形態例の電極が設けられたICソケットを説明する図である。It is a figure explaining the IC socket provided with the electrode of the 2nd form example. 図5の電極を説明する図である。It is a figure explaining the electrode of FIG. 図6(b)のA部分の拡大図である。It is an enlarged view of the A part of FIG.6 (b). 図7のB部分の拡大図である。FIG. 8 is an enlarged view of a portion B in FIG. 7. 従来のプローブを説明する図である。It is a figure explaining the conventional probe. 図9のプローブピンを説明する図である。It is a figure explaining the probe pin of FIG. 接触部が磨耗した図10のプローブピンを説明する図である。It is a figure explaining the probe pin of FIG. 10 with which the contact part was worn out.

符号の説明Explanation of symbols

111 電極(他の部品)
131 基体
133 第1のめっき層
135 第2めっき層
151 有底穴(凹部)
151a 側壁面
111 electrodes (other parts)
131 Substrate 133 First plating layer 135 Second plating layer 151 Bottomed hole (concave portion)
151a Side wall surface

Claims (6)

第1の導電性材料からなる基体と、該基体の表面に形成され、前記基体より他の部品との接触抵抗が小さな第2の導電性材料のめっき層とを有し、他の部品と接触することにより電気的接続を得る電気的接続部品において、
前記他の部品と接触する部分と対向する前記基体の部分には、凹部が形成され、
前記めっき層は、少なくとも前記凹部内の側壁面に形成されたことを特徴とする電気的接続部品。
A substrate made of a first conductive material and a plating layer of a second conductive material formed on the surface of the substrate and having a smaller contact resistance with other components than the substrate, and in contact with other components In an electrical connection component that obtains an electrical connection by
A recess is formed in the portion of the base that faces the portion that contacts the other component,
The electrical connection component, wherein the plating layer is formed on at least a side wall surface in the recess.
前記凹部は、複数あることを特徴とする請求項1記載の電気的接続部品。   The electrical connection component according to claim 1, wherein there are a plurality of the recesses. 前記凹部は、底を有する有底穴であることを特徴とする請求項1又は2記載の電気的接続部品。   The electrical connection component according to claim 1, wherein the recess is a bottomed hole having a bottom. 前記凹部は、貫通穴であることを特徴とする請求項1又は2記載の電気的接続部品。   The electrical connection component according to claim 1, wherein the recess is a through hole. 前記第2導電性材料は、
金、パラジウムのうちのどちらか一方であることを特徴とする請求項1記載の電気的接続部品。
The second conductive material is:
The electrical connection component according to claim 1, wherein the electrical connection component is one of gold and palladium.
第1の導電性材料からなる基体と、該基体の表面に形成され、前記基体より他の部品との接触抵抗が小さな第2の導電性材料のめっき層とを有し、他の部品と接触することにより電気的接続を得る電気的接続部品の製造法において、
前記他の部品と接触する部分と対向する前記基体の部分に凹部を形成する工程と、
少なくとも前記凹部内の側壁面に前記めっき層を形成する工程と、
を有することを特徴とする電気的接続部品の製造方法。
A substrate made of a first conductive material and a plating layer of a second conductive material formed on the surface of the substrate and having a smaller contact resistance with other components than the substrate, and in contact with other components In the manufacturing method of the electrical connection part to obtain electrical connection by
Forming a recess in the portion of the base that faces the portion in contact with the other component;
Forming the plating layer on at least the side wall surface in the recess;
A method of manufacturing an electrical connection component, comprising:
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