JP2006178191A - Manufacturing method of polarizing film and polarizing film - Google Patents

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Naoki Sugiyama
直樹 杉山
Takateru Imai
高照 今井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a polarizing film which is excellent in adhesiveness between a substrate and a polarizing plate, is excellent in characteristics such as heat resistance and chemical resistance, hardly causes peeling, deformation and the like even when being used for a long term and has high reliability, and also to provide a polarizing film obtained according to the manufacturing method of polarizing film. <P>SOLUTION: The manufacturing method of polarizing film comprises processes of: subjecting at least one surface of the substrate consisting of norbornene resin to plasma treatment; and bonding the polarizing film to the surface subjected to the plasma treatment of the substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、偏光フィルムの製造方法および偏光フィルムに関する。詳しくは、本発明は、ノルボルネン系樹脂基板と、偏光膜とが高強度で接着された、偏光フィルムの製造方法および偏光フィルムに関する。   The present invention relates to a polarizing film manufacturing method and a polarizing film. Specifically, the present invention relates to a polarizing film manufacturing method and a polarizing film in which a norbornene resin substrate and a polarizing film are bonded with high strength.

液晶ディスプレイなどに用いられる偏光フィルム(偏光板)は、通常、透明性に優れた基板(光学フィルム)と、偏光膜(偏光子)とから形成される。
従来、偏光フィルムを構成する基板としては、ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフィルム、アセテートフィルムなどが用いられているが、ポリカーボネートフィルムやポリエステルフィルムを用いた偏光フィルムでは、光弾性係数が大きく、微小な応力の変化などにより透過光に与える位相差を変化させる場合があり、また、アセテートフィルムは、耐熱性が低く、吸水性が高いため、これを用いた偏光板が、使用環境によっては変形しやすいという問題があった。
A polarizing film (polarizing plate) used for a liquid crystal display or the like is usually formed from a substrate (optical film) excellent in transparency and a polarizing film (polarizer).
Conventionally, polycarbonate films, polyester films, acetate films, etc. have been used as substrates that make up polarizing films, but polarizing films using polycarbonate films or polyester films have a large photoelastic coefficient and small changes in stress. In some cases, the phase difference given to transmitted light may be changed due to factors such as the fact that acetate films have low heat resistance and high water absorption. there were.

ところで、ノルボルネン系樹脂は、透明性、耐熱性、耐薬品性等に優れることから、各種光学部品の材料として注目されている。そして、特許文献1には、偏光膜にノルボルネン系樹脂シートを保護層として積層した偏光フィルムが提案されている。   By the way, norbornene-based resins are attracting attention as materials for various optical components because they are excellent in transparency, heat resistance, chemical resistance, and the like. Patent Document 1 proposes a polarizing film in which a norbornene resin sheet is laminated as a protective layer on a polarizing film.

しかしながら、ノルボルネン系樹脂と他の樹脂素材とは、接着性が悪いため、ノルボルネン樹脂基板を用いた偏光板は製造が困難である他、長期使用においては剥がれを生じやすいという問題があった。このため、ノルボルネン系樹脂基板を用い、かつ接着性にも優れた偏光フィルムの出現が強く求められていた。
特開平6−51117号公報
However, since the norbornene-based resin and other resin materials have poor adhesiveness, it is difficult to produce a polarizing plate using a norbornene resin substrate, and there is a problem that peeling is likely to occur during long-term use. For this reason, the appearance of a polarizing film using a norbornene-based resin substrate and having excellent adhesiveness has been strongly demanded.
JP-A-6-511117

本発明は、基板と偏光板との接着性に優れ、かつ、耐熱性、耐薬品性などの特性にも優れ、長期使用においても剥離、変形などが生じにくく高い信頼性を有する偏光フィルムの製造方法および偏光フィルムを提供することを課題とする。   The present invention provides a highly reliable polarizing film having excellent adhesion between a substrate and a polarizing plate, excellent properties such as heat resistance and chemical resistance, and being resistant to peeling and deformation even in long-term use. It is an object to provide a method and a polarizing film.

本発明の偏光フィルムの製造方法は、
ノルボルネン系樹脂からなる基板の少なくとも一面をプラズマ処理する工程と、
前記基板のプラズマ処理された面に偏光膜を接着する工程と
を有することを特徴としている。
The method for producing the polarizing film of the present invention comprises:
Plasma treatment of at least one surface of a substrate made of norbornene-based resin;
And a step of adhering a polarizing film to the plasma-treated surface of the substrate.

このような本発明の偏光フィルムの製造方法では、前記ノルボルネン系樹脂が、下記一般式(1)で表される少なくとも1種の化合物を含む単量体を(共)重合して得られた樹脂であることが好ましい。   In such a method for producing a polarizing film of the present invention, the norbornene-based resin is a resin obtained by (co) polymerizing a monomer containing at least one compound represented by the following general formula (1) It is preferable that

Figure 2006178191
Figure 2006178191

〔式(1)中、R1〜R4は、各々独立に水素原子;ハロゲン原子;または酸素、窒素、イオウもしくはケイ素を含む連結基を有していてもよい置換もしくは非置換の炭素原子数1〜15の炭化水素基もしくはその他の1価の有機基を表す。R1とR2とが、またはR3とR4とが相互に結合してアルキリデン基を形成していてもよく、R1とR2とが、R3とR4とが、またはR2とR3とが相互に結合して炭素環または複素環(これらの炭素環または複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい。)を形成してもよい。形成される炭素環または複素環は芳香環でもよいし非芳香環でもよい。また、xは0〜3の整数、yは0または1を表すが、xが0のときはyも0である。〕
本発明の偏光フィルムの製造方法では、前記プラズマ処理が、ノルボルネン系樹脂からなる前記基板の表面に官能基を導入する処理であることが好ましい。
[In the formula (1), R 1 to R 4 each independently represents a hydrogen atom; a halogen atom; or a substituted or unsubstituted carbon atom which may have a linking group containing oxygen, nitrogen, sulfur or silicon. 1 to 15 hydrocarbon groups or other monovalent organic groups are represented. R 1 and R 2 , or R 3 and R 4 may be bonded to each other to form an alkylidene group, and R 1 and R 2 may be R 3 and R 4 , or R 2 And R 3 are bonded to each other to form a carbocycle or heterocycle (these carbocycles or heterocycles may be monocyclic structures or other rings may be condensed to form a polycyclic structure). It may be formed. The formed carbocyclic or heterocyclic ring may be an aromatic ring or a non-aromatic ring. X represents an integer of 0 to 3, and y represents 0 or 1. When x is 0, y is also 0. ]
In the manufacturing method of the polarizing film of this invention, it is preferable that the said plasma processing is a process which introduce | transduces a functional group into the surface of the said board | substrate consisting of norbornene-type resin.

本発明の偏光フィルムの製造方法では、前記基板の表面に導入する官能基が水酸基であることが好ましい。
さらに、本発明の偏光フィルムの製造方法では、前記の偏光膜を接着する工程が、ウレタン系接着剤を介して偏光膜を接着する工程であることが好ましい。
In the manufacturing method of the polarizing film of this invention, it is preferable that the functional group introduce | transduced into the surface of the said board | substrate is a hydroxyl group.
Furthermore, in the manufacturing method of the polarizing film of this invention, it is preferable that the process of adhere | attaching the said polarizing film is a process of adhere | attaching a polarizing film through a urethane type adhesive agent.

本発明の偏光フィルムは、上記本発明の偏光フィルムの製造方法により得られることを特徴としている。
また、本発明の偏光フィルムは、プラズマ処理されたノルボルネン系樹脂基板と、ウレタン系接着剤と、偏光膜とからなることを特徴としている。
The polarizing film of this invention is obtained by the manufacturing method of the polarizing film of the said invention.
The polarizing film of the present invention is characterized by comprising a plasma-treated norbornene-based resin substrate, a urethane-based adhesive, and a polarizing film.

本発明によれば、良好な偏光機能を有し、基板と偏光膜との接着性に優れ、かつ、耐熱性、耐薬品性などの特性にも優れ、長期使用においても剥離、変形などが生じにくく耐久性に優れ、高い信頼性を有する偏光フィルムの製造方法および偏光フィルムを提供することができる。   According to the present invention, it has a good polarizing function, excellent adhesion between the substrate and the polarizing film, excellent properties such as heat resistance and chemical resistance, and peeling and deformation occur even in long-term use. It is possible to provide a polarizing film production method and a polarizing film which are difficult to use and have excellent durability and high reliability.

以下、本発明について具体的に説明する。
本発明の偏光フィルムの製造方法では、ノルボルネン系樹脂からなる基板が用いられる。
<ノルボルネン系樹脂>
本発明に用いられるノルボルネン系樹脂は、ノルボルネン系化合物を少なくとも1種含む単量体組成物を重合し、また必要に応じてさらに水素添加して得られた樹脂である。
Hereinafter, the present invention will be specifically described.
In the method for producing a polarizing film of the present invention, a substrate made of a norbornene resin is used.
<Norbornene resin>
The norbornene-based resin used in the present invention is a resin obtained by polymerizing a monomer composition containing at least one norbornene-based compound and, if necessary, further hydrogenating.

《単量体組成物》
前記単量体組成物に用いるノルボルネン系化合物としては、例えば、下記一般式(1)で表されるノルボルネン系化合物を挙げることができる。
<Monomer composition>
As a norbornene-type compound used for the said monomer composition, the norbornene-type compound represented by following General formula (1) can be mentioned, for example.

Figure 2006178191
Figure 2006178191

〔式(1)中、R1〜R4は、各々独立に水素原子;ハロゲン原子;または酸素、窒素、イオウもしくはケイ素を含む連結基を有していてもよい置換もしくは非置換の炭素原子数1〜15の炭化水素基もしくはその他の1価の有機基を表す。R1とR2とが、またはR3とR4とが相互に結合してアルキリデン基を形成していてもよく、R1とR2とが、R3とR4とが、またはR2とR3とが相互に結合して炭素環または複素環(これらの炭素環または複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい。)を形成してもよい。形成される炭素環または複素環は芳香環でもよいし非芳香環でもよい。また、xは0〜3の整数、yは0または1を表すが、xが0のときはyも0である。〕
一般式(1)で表されるノルボルネン系単量体の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が例示できるが、これらの例示に限定されるものではない。
・ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(ノルボルネン)
・5−メチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−エチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−シクロヘキシル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−フェニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−(4−ビフェニル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−メトキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−フェノキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−フェノキシエチルカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−フェニルカルボニルオキシ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−メチル−5−メトキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−メチル−5−フェノキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−メチル−5−フェノキシエチルカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−ビニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−エチリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5,5−ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5,6−ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−フルオロ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−クロロ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−ブロモ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5,6−ジフルオロ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5,6−ジクロロ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5,6−ジブロモ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−ヒドロキシ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−ヒドロキシエチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−シアノ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−アミノ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・トリシクロ[4.4.0.12,5]ウンデカ−3−エン
・7−メチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−エチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−シクロヘキシル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−フェニル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−(4−ビフェニル)−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7,8−ジメチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7,8,9−トリメチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・8−メチル−トリシクロ[4.4.0.12,5]ウンデカ−3−エン
・8−フェニル−トリシクロ[4.4.0.12,5]ウンデカ−3−エン
・7−フルオロ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−クロロ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−ブロモ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7,8−ジクロロ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7,8,9−トリクロロ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−クロロメチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−ジクロロメチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−トリクロロメチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−ヒドロキシ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−シアノ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−アミノ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・ペンタシクロ[7.4.0.12,5.18,11.07,12]ペンタデカ−3−エン
・ヘキサシクロ[8.4.0.12,5.17,14.19,12.08,13]ヘプタデカ−3−エン
・8−メチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−エチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−シクロヘキシル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−フェニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−(4−ビフェニル)−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−
エン
・8−メトキシカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−
エン
・8−フェノキシカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3
−エン
・8−フェノキシエチルカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデ
カ−3−エン
・8−フェニルカルボニルオキシ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ
−3−エン
・8−メチル−8−メトキシカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10
ドデカ−3−エン
・8−メチル−8−フェノキシカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10
]ドデカ−3−エン
・8−メチル−8−フェノキシエチルカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5
7,10]ドデカ−3−エン
・8−ビニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−エチリデン−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8,8−ジメチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8,9−ジメチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−フルオロ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−クロロ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−ブロモ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8,8−ジクロロ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8,9−ジクロロ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8,8,9,9−テトラクロロ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ
−3−エン
・8−ヒドロキシ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−ヒドロキシエチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エ

・8−メチル−8−ヒドロキシエチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ド
デカ−3−エン
・8−シアノ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−アミノ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
なお、これらノルボルネン系化合物は1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
[In the formula (1), R 1 to R 4 each independently represents a hydrogen atom; a halogen atom; or a substituted or unsubstituted carbon atom which may have a linking group containing oxygen, nitrogen, sulfur or silicon. 1-15 hydrocarbon groups or other monovalent organic groups are represented. R 1 and R 2 , or R 3 and R 4 may be bonded to each other to form an alkylidene group, and R 1 and R 2 are R 3 and R 4 or R 2 And R 3 are bonded to each other to form a carbocyclic or heterocyclic ring (these carbocyclic or heterocyclic rings may be monocyclic structures or other rings may be condensed to form a polycyclic structure). You may form. The formed carbocyclic or heterocyclic ring may be an aromatic ring or a non-aromatic ring. X represents an integer of 0 to 3, y represents 0 or 1, and when x is 0, y is also 0. ]
Specific examples of the norbornene-based monomer represented by the general formula (1) include, for example, the compounds shown below, but are not limited to these examples.
Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (norbornene)
5-methyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-cyclohexyl-bicyclo [2.2.1] hept 2-ene-5-phenyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene-5- (4-biphenyl) -bicyclo [2.2.1] hept-2-ene-5-methoxycarbonyl- Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene · 5-phenoxycarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene · 5-phenoxyethylcarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept-2 -Ene, 5-phenylcarbonyloxy-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methyl-5-methoxycarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methyl- 5-phenoxycarboni -Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene.5-methyl-5-phenoxyethylcarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene.5-vinyl-bicyclo [2.2.1] ] Hept-2-ene, 5-ethylidene-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,5-dimethyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dimethyl -Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-fluoro-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-chloro-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene 5-bromo-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene5,6-difluoro-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene5,6-dichloro-bicyclo [2.2 .1] Hept-2-ene-5,6-dibromo-bicyclo [2.2.1 Hept-2-ene, 5-hydroxy-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxyethyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-cyano-bicyclo [2 2.1] hept-2-ene, 5-amino-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene, tricyclo [ 4.4.0.1 2,5 ] Undec-3-ene.7-methyl-tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene.7-ethyl-tricyclo [4.3. 0.1 2,5] dec-3-ene-7-cyclohexyl - tricyclo [4.3.0.1 2,5] dec-3-ene-7-phenyl - tricyclo [4.3.0.1 2 , 5] dec-3-ene-7- (4-biphenyl) - tricyclo [4.3.0.1 2, 5] dec-3-ene-7,8 Methyl - tricyclo [4.3.0.1 2, 5] dec-3-ene-7,8,9- trimethyl - tricyclo [4.3.0.1 2, 5] dec-3-ene-8- Methyl-tricyclo [4.4.0.1 2,5 ] undec-3-ene · 8-phenyl-tricyclo [4.4.0.1 2,5 ] undec-3-ene · 7-fluoro-tricyclo [ 4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene.7-chloro-tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene.7-bromo-tricyclo [4.3. 0.1 2,5] dec-3-ene-7,8-dichloro - tricyclo [4.3.0.1 2,5] dec-3-ene-7,8,9- trichloro - tricyclo [4. 3.0.1 2,5 ] dec-3-ene · 7-chloromethyl-tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene · 7-dichloromethyl-tricycl B [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene · 7-trichloromethyl-tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene · 7-hydroxy-tricyclo [4 .3.0.1 2,5 ] dec-3-ene · 7-cyano-tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene · 7-amino-tricyclo [4.3.0 .1 2,5] deca-3-ene-tetracyclo [4.4.0.1 2,5. 1 7,10 ] dodec-3-ene pentacyclo [7.4.0.1 2,5 . 1 8,11 . 0 7,12] pentadeca-3-ene-hexacyclo [8.4.0.1 2,5. 1 7,14 . 1 9,12 . 0 8,13] heptadec-3-en-8-methyl - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10] dodeca-3-ene-8-ethyl - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10] dodeca-3-ene-8-cyclohexyl - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-phenyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8- (4-biphenyl) -tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] Dodeca-3-
Ene-8-methoxycarbonyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] Dodeca-3-
Ene-8-phenoxycarbonyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] Dodeca-3
-Ene-8-phenoxyethylcarbonyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-phenylcarbonyloxy-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-methyl-8-methoxycarbonyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ]
Dodec-3-ene-8-methyl-8-phenoxycarbonyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10
] Dodec-3-ene-8-methyl-8-phenoxyethylcarbonyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .
1 7,10 ] dodec-3-ene-8-vinyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10] dodeca-3-ene-8-ethylidene - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10] dodeca-3-ene-8,8-dimethyl - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10] dodeca-3-ene-8,9-dimethyl - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-fluoro-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-chloro-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10] dodeca-3-ene-8-bromo - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] dodec-3-ene.8,8-dichloro-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene.8,9-dichloro-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene. 8,8,9,9-tetrachloro-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-hydroxy-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-hydroxyethyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-methyl-8-hydroxyethyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10] dodeca-3-ene-8-cyano - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-amino-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1,7,10 ] dodec-3-ene These norbornene compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明で用いるノルボルネン系化合物の種類および量は、得られる樹脂に求められる特性により適宜選択される。
これらのうち、その分子内に酸素原子、窒素原子、イオウ原子もしくはケイ素原子から選ばれた少なくとも1種の原子を少なくとも1個含む構造(以下、「極性構造」という。)を有する化合物を用いると、他素材との接着性や密着性に優れるため好ましい。特に、前記式(1)中、R1およびR3が水素原子、または炭素数1〜3の炭化水素基、好ましくは水素原子、またはメチル基であり、R2またはR4のいずれか一つが極性構造を有する基であって他の一つが水素原子または炭素数1〜3炭化水素基である化合物は、樹脂の吸水(湿)性が低く好ましい。さらに、極性構造を有する基が下記一般式(2)で表わされる基であるノルボルネン系化合物は、得られる樹脂の耐熱性と吸水(湿)性とのバランスがとりやすく、好ましく用いることができる。
The kind and amount of the norbornene-based compound used in the present invention are appropriately selected depending on the properties required for the obtained resin.
Of these, when a compound having a structure containing at least one atom selected from an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a silicon atom in the molecule (hereinafter referred to as “polar structure”) is used. It is preferable because of excellent adhesion and adhesion to other materials. In particular, in the formula (1), R 1 and R 3 are a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or a methyl group, and any one of R 2 and R 4 is A compound having a polar structure and the other one being a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is preferable because the water absorption (wet) property of the resin is low. Furthermore, a norbornene compound in which the group having a polar structure is a group represented by the following general formula (2) is easy to balance the heat resistance and water absorption (wet) property of the resulting resin and can be preferably used.

−(CH2zCOOR …(2)
(式(2)中、Rは置換又は非置換の炭素原子数1〜15の炭化水素基を表し、zは0または1〜10の整数を表す。)
前記一般式(2)において、zの値が小さいものほど得られる水素添加物のガラス転移温度が高くなり耐熱性に優れるので、zが0または1〜3の整数であることが好ましく、更に、zが0である単量体はその合成が容易である点で好ましい。また、前記一般式(2)におけるRは、炭素数が多いほど得られる重合体の水素添加物の吸水(湿)性が低下する傾向にあるが、ガラス転移温度が低下する傾向もあるので、耐熱性を保持する観点からは炭素数1〜10の炭化水素基が好ましく、特に炭素数1〜6の炭化水素基であることが好ましい。
- (CH 2) z COOR ... (2)
(In formula (2), R represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, and z represents 0 or an integer of 1 to 10)
In the general formula (2), the smaller the value of z, the higher the glass transition temperature of the resulting hydrogenated product and the better the heat resistance, so z is preferably an integer of 0 or 1 to 3, A monomer in which z is 0 is preferable in that its synthesis is easy. Further, R in the general formula (2) tends to decrease the water absorption (wet) property of the hydrogenated polymer obtained as the number of carbon atoms increases, but also tends to decrease the glass transition temperature. From the viewpoint of maintaining heat resistance, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms is particularly preferable.

なお、前記一般式(1)において、前記一般式(2)で表される基が結合した炭素原子に炭素数1〜3のアルキル基、特にメチル基が結合していると、耐熱性と吸水(湿)性とのバランスの点で好ましい。さらに、前記一般式(1)において、xが0または1でありyが0である化合物は、反応性が高く、高収率で重合体が得られること、また、耐熱性が高い重合体水素添加物が得られこと、さらに工業的に入手しやすいことから好適に用いられる。   In the general formula (1), when an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, particularly a methyl group, is bonded to the carbon atom to which the group represented by the general formula (2) is bonded, heat resistance and water absorption It is preferable in terms of balance with (wet) property. Further, in the general formula (1), a compound in which x is 0 or 1 and y is 0 has high reactivity, a polymer can be obtained in a high yield, and polymer hydrogen having high heat resistance. It is preferably used because an additive is obtained and it is industrially easily available.

本発明に用いるノルボルネン系樹脂を得るにあたっては、本発明の効果を損なわない範囲で前記ノルボルネン系化合物と共重合可能な単量体を単量体組成物に含ませて重合することができる。   In obtaining the norbornene-based resin used in the present invention, a monomer that can be copolymerized with the norbornene-based compound can be included in the monomer composition and polymerized as long as the effects of the present invention are not impaired.

これら共重合可能な単量体として、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロドデセンなどの環状オレフィンや1,4−シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、シクロドデカトリエンなどのの非共役環状ポリエンを挙げることができる。   Examples of these copolymerizable monomers include cyclic olefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclooctene, and cyclododecene, and non-conjugated cyclic polyenes such as 1,4-cyclooctadiene, dicyclopentadiene, and cyclododecatriene. Can be mentioned.

これらの共重合性単量体は、1種単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。
《重合方法》
前記ノルボルネン系化合物を含む単量体組成物の重合方法については、単量体組成物の重合が可能である限り特に制限されるものではないが、例えば、開環重合、もしくは付加重合によって重合することができる。
These copolymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.
<Polymerization method>
The method for polymerizing the monomer composition containing the norbornene-based compound is not particularly limited as long as the monomer composition can be polymerized. For example, the polymerization is performed by ring-opening polymerization or addition polymerization. be able to.

(A)開環重合
開環重合による重合体の製造は、ノルボルネン系化合物について公知の開環重合反応により行うことができ、前記ノルボルネン系化合物を含む単量体組成物を、重合触媒、重合反応用溶媒、および必要に応じて分子量調節剤を用いて、開環重合させることによって製造することができる。
(A) Ring-opening polymerization Production of a polymer by ring-opening polymerization can be performed by a known ring-opening polymerization reaction for a norbornene-based compound, and a monomer composition containing the norbornene-based compound is used as a polymerization catalyst and a polymerization reaction. It can manufacture by carrying out ring-opening polymerization using the solvent for use, and a molecular weight regulator as needed.

(a)重合触媒
本発明において、単量体組成物の重合を開環(共)重合反応により行う場合は、重合はメタセシス触媒の存在下で行われる。
(A) Polymerization catalyst In this invention, when superposing | polymerizing a monomer composition by ring-opening (co) polymerization reaction, superposition | polymerization is performed in presence of a metathesis catalyst.

このメタセシス触媒は、
(A)W、MoおよびReを有する化合物から選ばれた少なくとも1種の化合物(以下、化合物(A)という)と、
(B)デミングの周期律表IA族元素(たとえばLi、Na、Kなど)、IIA族元素(たとえば、Mg、Caなど)、IIB族元素(たとえば、Zn、Cd、Hgなど)、IIIA族元素(たとえば、B、Alなど)、IVA族元素(たとえば、Si、Sn、Pbなど)、またはIVB族元素(たとえば、Ti、Zrなど)を有する化合物であって、この元素と炭素との結合またはこの元素と水素との結合を少なくとも1つ有する化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物(以下、化合物(B)という)との組み合わせからなる触媒である。また、触媒の活性を高めるために、後述の添加剤(C)をさらに添加したものであってもよい。
This metathesis catalyst is
(A) at least one compound selected from compounds having W, Mo and Re (hereinafter referred to as compound (A));
(B) Deming periodic table group IA elements (for example, Li, Na, K, etc.), group IIA elements (for example, Mg, Ca, etc.), group IIB elements (for example, Zn, Cd, Hg, etc.), group IIIA elements (For example, B, Al, etc.), a compound having a group IVA element (for example, Si, Sn, Pb, etc.), or a group IVB element (for example, Ti, Zr, etc.), The catalyst comprises a combination of at least one compound selected from compounds having at least one bond between this element and hydrogen (hereinafter referred to as compound (B)). Moreover, in order to improve the activity of a catalyst, the below-mentioned additive (C) may further be added.

化合物(A)としては、W、MoあるいはReのハロゲン化物、オキシハロゲン化物、アルコキシハロゲン化物、アルコキシド、カルボン酸塩、(オキシ)アセチルアセトネート、カルボニル錯体、アセトニトリル錯体、ヒドリド錯体、およびその誘導体、あるいはこれらの組合せが挙げられるが、WおよびMoの化合物、特にこれらのハロゲン化物、オキシハロゲン化物およびアルコキシハロゲン化物が重合活性、実用性の点から好ましい。また、反応によって前記化合物を生成する2種以上の化合物の混合物を用いてもよい。さらに、これらの化合物は適当な錯化剤例えばP(C6H5)5、C5H5Nなどによって錯化されていてもよい。 Compound (A) includes W, Mo or Re halides, oxyhalides, alkoxyhalides, alkoxides, carboxylates, (oxy) acetylacetonates, carbonyl complexes, acetonitrile complexes, hydride complexes, and derivatives thereof. Alternatively, a combination thereof may be mentioned, and W and Mo compounds, particularly their halides, oxyhalides and alkoxyhalides are preferred from the viewpoint of polymerization activity and practicality. Moreover, you may use the mixture of 2 or more types of compounds which produce | generate the said compound by reaction. Further, these compounds may be complexed with an appropriate complexing agent such as P (C 6 H 5 ) 5 or C 5 H 5 N.

化合物(A)の具体的な例としては、WCl6、WCl5、WCl4、WBr6、WF6、WI6、MoCl5、MoCl4、MoCl3、ReCl3、WOCl4、MoOCl3、ReOCl3、ReOBr3、W(OC6H5)6、WCl2(OC6H5)4、Mo(OC2H5)2Cl3、Mo(OC2H5)5、MoO2(acac)2、W(OCOR)5、W(OC2H5)2Cl3、W(CO)6、Mo(CO)6、Re2(CO)10、ReOBr3・P(C6H5)3、WCl5・P(C6H5)3、WCl6・C5H5N、W(CO)5・P(C6H5)3、W(CO)3・(CH3CN)3などが挙げられる。また前記化合物のうち特に好ましい化合物としてはMoCl5、Mo(OC2H5)2Cl3、WCl6、W(OC2H5)2Cl3などが挙げられる。 Specific examples of the compound (A) include WCl 6 , WCl 5 , WCl 4 , WBr 6 , WF 6 , WI 6 , MoCl 5 , MoCl 4 , MoCl 3 , ReCl 3 , WOCl 4 , MoOCl 3 , ReOCl 3 , ReOBr 3 , W (OC 6 H 5 ) 6 , WCl 2 (OC 6 H 5 ) 4 , Mo (OC 2 H 5 ) 2 Cl 3 , Mo (OC 2 H 5 ) 5 , MoO 2 (acac) 2 , W (OCOR) 5 , W (OC 2 H 5 ) 2 Cl 3 , W (CO) 6 , Mo (CO) 6 , Re 2 (CO) 10 , ReOBr 3・ P (C 6 H 5 ) 3 , WCl 5 · P (C 6 H 5) 3, WCl 6 · C 5 H 5 N, such as W (CO) 5 · P ( C 6 H 5) 3, W (CO) 3 · (CH 3 CN) 3 and the like . Among the above compounds, particularly preferred compounds include MoCl 5 , Mo (OC 2 H 5 ) 2 Cl 3 , WCl 6 , W (OC 2 H 5 ) 2 Cl 3 and the like.

化合物(B)の具体的な例としては、n−C4H5Li、n−C5H11Na、C5H5Na、CH3MgI、C2H5MgBr、CH3MgBr、n−C3H7MgCl、(C6H5)3Al、t−C4H9MgCl、CH2=CHCH2MgCl、(C2H5)2Zn、(C2H5)2Cd、CaZn(C2H5)4、(CH3)3B、(C2H5)3B、(n-C4H9)3B、(CH3)3Al、(CH3)2AlCl、(CH3)3Al2Cl3、CH3AlCl2、(C2H5)3Al、LiAl(C2H5)2、(C2H5)3Al−O(C2H5)2、(C2H5)2AlCl、C2H5AlCl2、(C2H5)2AlH、(iso-C4H9)2AlH、(C2H5)2AlOC2H5、(iso-C4H9)3Al、(C2H5)3Al2Cl3、(CH3)4Ga、(CH3)4Sn、(n−C4H94Sn、(C2H5)3SiH、(n−C6H133Al、(n−C4H173Al、LiH、NaH、B2H6、NaBH4、AlH3、LiAlH4、BiH4およびTiH4などが挙げられる。また反応によってこれらの化合物を生成する2種以上の化合物の混合物を用いることもできる。これらのうち好ましいものの例としては、(CH3)3Al、(CH3)2AlCl、(CH3)3Al2Cl3、CH3AlCl2、(C2H5)3Al、(C2H5)2AlCl、(C2H5)1.5AlCl1.5、C2H5AlCl2、(C2H5)2AlH、(C2H5)2AlOC2H5、(C2H5)2AlCN、(C3H7)3Al、(iso−C4H93Al、(iso−C4H92AlH、(C6H13)3Al、(C8H17)3Al、(C6H5)5Alなどを挙げることができる。 Specific examples of the compound (B), n-C 4 H 5 Li , n-C 5 H 11 Na, C 5 H 5 Na, CH 3 MgI, C 2 H 5 MgBr, CH 3 MgBr, n- C 3 H 7 MgCl, (C 6 H 5 ) 3 Al, t-C 4 H 9 MgCl, CH 2 = CHCH 2 MgCl, (C 2 H 5 ) 2 Zn, (C 2 H 5 ) 2 Cd, CaZn ( C 2 H 5 ) 4 , (CH 3 ) 3 B, (C 2 H 5 ) 3 B, (nC 4 H 9 ) 3 B, (CH 3 ) 3 Al, (CH 3 ) 2 AlCl, (CH 3 ) 3 Al 2 Cl 3 , CH 3 AlCl 2 , (C 2 H 5 ) 3 Al, LiAl (C 2 H 5 ) 2 , (C 2 H 5 ) 3 Al-O (C 2 H 5 ) 2 , (C 2 H 5 ) 2 AlCl, C 2 H 5 AlCl 2 , (C 2 H 5 ) 2 AlH, (iso-C 4 H 9 ) 2 AlH, (C 2 H 5 ) 2 AlOC 2 H 5 , (iso-C 4 H 9 ) 3 Al, (C 2 H 5 ) 3 Al 2 Cl 3 , (CH 3 ) 4 Ga, (CH 3 ) 4 Sn, (n−C 4 H 9 ) 4 Sn, (C 2 H 5 ) 3 include SiH, (n-C 6 H 13) 3 Al, (n-C 4 H 17) 3 Al, LiH, NaH, etc. B 2 H 6, NaBH 4, AlH 3, LiAlH 4, BiH 4 and TiH 4 is It is done. Moreover, the mixture of 2 or more types of compounds which produce | generate these compounds by reaction can also be used. Preferred examples of these include (CH 3 ) 3 Al, (CH 3 ) 2 AlCl, (CH 3 ) 3 Al 2 Cl 3 , CH 3 AlCl 2 , (C 2 H 5 ) 3 Al, (C 2 H 5 ) 2 AlCl, (C 2 H 5 ) 1.5 AlCl 1.5 , C 2 H 5 AlCl 2 , (C 2 H 5 ) 2 AlH, (C 2 H 5 ) 2 AlOC 2 H 5 , (C 2 H 5 ) 2 AlCN, (C 3 H 7 ) 3 Al, (iso-C 4 H 9 ) 3 Al, (iso-C 4 H 9 ) 2 AlH, (C 6 H 13 ) 3 Al, (C 8 H 17 ) 3 Al, (C 6 H 5 ) 5 Al and the like can be mentioned.

前記化合物(A)および化合物(B)とともに用いることのできる添加剤(C)としては、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、アミン類などが好適に用いることができ、例えば以下の(1)〜(9)を例示することができる。
(1)単体ホウ素、BF3、BCl3、B(O-n-C4H9)3、(C2H5O3)2、BF、B2O3、H3BO3などのホウ素の非有機金属化合物、Si(OC2H5)4などのケイ素の非有機金属化合物;
(2)アルコール類、ヒドロパーオキシド類およびパーオキシド類;
(3)水;
(4)酸素;
(5)アルデヒドおよびケトンなどのカルボニル化合物およびその重合物;
(6)エチレンオキシド、エピクロルヒドリン、オキセタンなどの環状エーテル類;
(7)N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、アニリン、モルホリン、ピペリジンなどのアミン類およびアゾベンゼンなどのアゾ化合物;
(8)N−ニトロソジメチルアミン、N−ニトロソジフェニルアミンなどのN−ニトロソ化合物;
(9)トリクロルメラミン、N−クロルサクシノイミド、フェニルスルフェニルクロリドなどのS−ClまたはN−Cl基を含む化合物。
As the additive (C) that can be used together with the compound (A) and the compound (B), alcohols, aldehydes, ketones, amines and the like can be suitably used. For example, the following (1) to (1) to (9) can be exemplified.
(1) Non-organometallic compounds of boron such as simple boron, BF 3 , BCl 3 , B (OnC 4 H 9 ) 3 , (C 2 H 5 O 3 ) 2 , BF, B 2 O 3 , H 3 BO 3 Silicon non-organometallic compounds such as Si (OC 2 H 5 ) 4 ;
(2) alcohols, hydroperoxides and peroxides;
(3) water;
(4) oxygen;
(5) Carbonyl compounds such as aldehydes and ketones and polymers thereof;
(6) cyclic ethers such as ethylene oxide, epichlorohydrin, oxetane;
(7) Amides such as N, N-diethylformamide and N, N-dimethylacetamide, amines such as aniline, morpholine and piperidine, and azo compounds such as azobenzene;
(8) N-nitroso compounds such as N-nitrosodimethylamine and N-nitrosodiphenylamine;
(9) Compounds containing an S-Cl or N-Cl group such as trichloromelamine, N-chlorosuccinimide, phenylsulfenyl chloride and the like.

メタセシス触媒の使用量は、前記化合物(A)と重合に供される全単量体のモル比(化合物:全単量体)が、通常1:500〜1:50,000、好ましくは1:1,000〜1:10,000となる量が望ましい。   The amount of the metathesis catalyst used is such that the molar ratio (compound: total monomer) of the compound (A) and all monomers used for polymerization is usually 1: 500 to 1: 50,000, preferably 1: An amount of 1,000 to 1: 10,000 is desirable.

化合物(A)と化合物(B)との割合(化合物(A):化合物(B))は、金属原子比で1:1〜1:50、好ましくは1:2〜1:30が望ましい。
化合物(A)と化合物(C)との割合(化合物(C):化合物(A))は、モル比で0.005:1〜15:1、好ましくは0.05:1〜7:1が望ましい。
The ratio of the compound (A) to the compound (B) (compound (A): compound (B)) is 1: 1 to 1:50, preferably 1: 2 to 1:30 in terms of metal atom ratio.
The ratio of the compound (A) to the compound (C) (compound (C): compound (A)) is 0.005: 1 to 15: 1, preferably 0.05: 1 to 7: 1 in molar ratio. desirable.

(b)重合溶媒
開環重合反応において用いられる溶媒としては、重合に供される単量体組成物や触媒等が溶解してかつ触媒が失活することがなく、また、生成した開環重合体が溶解するものであれば特に限定されないが、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンなどのアルカン類;シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナンなどのシクロアルカン類;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの芳香族炭化水素;クロロブタン、ブロモヘキサン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ヘキサメチレンジブロミド、クロロホルム、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化アルカン;クロロベンゼンなどのハロゲン化アリール化合物;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸iso−ブチル、プロピオン酸メチル、ジメトキシエタンなどの飽和カルボン酸エステル類;ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなど
のエーテル類などを挙げることができる。これらは単独で、または2種以上を混合して用いることができる。このような溶媒は、分子量調節剤溶液を構成する溶媒、前記ノルボルネン系化合物、共重合性単量体および/またはメタセシス触媒を溶解するための溶媒として用いられる。
(B) Polymerization solvent As the solvent used in the ring-opening polymerization reaction, the monomer composition or catalyst to be used for polymerization is not dissolved and the catalyst is not deactivated. Although it will not specifically limit if a compound melt | dissolves, For example, alkanes, such as pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane; Cycloalkanes, such as cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, decalin, norbornane; benzene, Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, ethylbenzene, cumene; halogenated alkanes such as chlorobutane, bromohexane, methylene chloride, dichloroethane, hexamethylene dibromide, chloroform, tetrachloroethylene; halogenated aryl compounds such as chlorobenzene; ethyl acetate, acetic acid n-butyl, Examples thereof include saturated carboxylic acid esters such as iso-butyl acetate, methyl propionate and dimethoxyethane; ethers such as dibutyl ether, tetrahydrofuran and dimethoxyethane. These can be used alone or in admixture of two or more. Such a solvent is used as a solvent for dissolving the solvent constituting the molecular weight regulator solution, the norbornene compound, the copolymerizable monomer and / or the metathesis catalyst.

溶媒の使用量は、溶媒と重合に供する単量体組成物との重量比(溶媒:単量体組成物)は、通常1:1〜10:1、好ましくは1:1〜5:1となる量が望ましい。
(c)分子量調節剤
得られる開環重合体の分子量は、重合温度、触媒の種類、溶媒の種類によって調節することも可能であるが、分子量調節剤を反応系に共存させることによっても調節することができる。
The amount of the solvent used is such that the weight ratio of the solvent to the monomer composition used for polymerization (solvent: monomer composition) is usually 1: 1 to 10: 1, preferably 1: 1 to 5: 1. Is desirable.
(C) Molecular weight regulator The molecular weight of the resulting ring-opening polymer can be controlled by the polymerization temperature, the type of catalyst, and the type of solvent, but it can also be adjusted by allowing a molecular weight regulator to coexist in the reaction system. be able to.

好適な分子量調節剤としては、たとえばエチレン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセンなどのα−オレフィン類およびスチレン、4−メチルスチレン、2−メチルスチレン、4−エチルスチレンを挙げることができ、これらのうち、1−ブテン、1−ヘキセンが特に好ましい。これらの分子量調節剤は単独で、または2種以上を混合して用いることができる。   Suitable molecular weight regulators include, for example, α-olefins such as ethylene, propene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, and styrene, 4 -Methylstyrene, 2-methylstyrene, 4-ethylstyrene can be mentioned, and among these, 1-butene and 1-hexene are particularly preferable. These molecular weight regulators can be used alone or in admixture of two or more.

分子量調節剤の使用量は、開環重合反応に供される単量体1モルに対して、通常0.005〜0.6モル、好ましくは0.01〜0.5モルである。
(d)その他の重合条件
前記開環重合体は、前記ノルボルネン系化合物単独で、もしくは前記ノルボルネン系化合物と共重合性単量体とを開環重合させて得ることができるが、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどの共役ジエン化合物、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−非共役ジエン共重合体、ポリノルボルネンなど、主鎖に炭素−炭素間二重結合を2つ以上含む不飽和炭化水素系ポリマーなどの存在下でノルボルネン系化合物を含む単量体組成物を開環重合させてもよい。
The usage-amount of a molecular weight modifier is 0.005-0.6 mol normally with respect to 1 mol of monomers with which a ring-opening polymerization reaction is provided, Preferably it is 0.01-0.5 mol.
(D) Other polymerization conditions The ring-opening polymer can be obtained by ring-opening polymerization of the norbornene compound alone or the norbornene compound and a copolymerizable monomer. Polybutadiene, polyisoprene. Presence of unsaturated hydrocarbon polymers containing two or more carbon-carbon double bonds in the main chain, such as conjugated diene compounds such as styrene-butadiene copolymer, ethylene-nonconjugated diene copolymer, and polynorbornene A monomer composition containing a norbornene compound may be subjected to ring-opening polymerization.

(B)付加重合
付加(共)重合による重合体の製造は、ノルボルネン系化合物について公知の付加重合反応により行うことができ、前記ノルボルネン系化合物を含む単量体組成物を、重合触媒、必要に応じて重合反応用溶媒、および必要に応じて分子量調節剤を用いて、付加重合させることによって製造することができる。
(B) Addition polymerization The production of a polymer by addition (co) polymerization can be performed by a known addition polymerization reaction for a norbornene compound, and a monomer composition containing the norbornene compound is used as a polymerization catalyst. Accordingly, it can be produced by addition polymerization using a solvent for polymerization reaction and, if necessary, a molecular weight regulator.

(a)重合触媒
付加重合に係る重合触媒としては、例えば、下記(a−1)〜(a−3)に挙げられるパラジウム、ニッケル、コバルト、チタニウムおよびジルコニウムなどの単一触媒や多成分系触媒が挙げられるが、本発明に用いられる重合触媒はこれらに限定されるものではない。
(A) Polymerization catalyst Examples of the polymerization catalyst for addition polymerization include single catalysts and multi-component catalysts such as palladium, nickel, cobalt, titanium and zirconium mentioned in the following (a-1) to (a-3). However, the polymerization catalyst used in the present invention is not limited thereto.

(a−1)単一触媒系
〔Pd(CH3CN)4〕〔BF42、〔Pd(PhCN)4〕〔SbF6
〔(η3−crotyl)Pd(cycloocta−1,5−diene)〕〔PF6〕、
〔(η3−crotyl)Ni(cycloocta−1,5−diene)〕〔B(3
,5−(CF32634〕、
〔(η3−crotyl)Ni(cycloocta−1,5−diene)〕〔PF6〕、
〔(η3−allyl)Ni(cycloocta−1,5−diene)〕〔B(C654〕、
〔(η3−crotyl)Ni(cycloocta−1,5−diene)〕〔SbF6〕、
Toluene・Ni(C652、Benzene・Ni(C652、Mesitylene・Ni(C652、Ethylether・Ni(C652
などが挙げられる。
(A-1) Single catalyst system [Pd (CH 3 CN) 4 ] [BF 4 ] 2 , [Pd (PhCN) 4 ] [SbF 6 ]
[(Η 3 -crotyl) Pd (cycloocta-1,5-diene)] [PF 6 ],
[(Η 3 -crotyl) Ni (cycloocta-1,5-diene)] [B (3
, 5- (CF 3 ) 2 C 6 F 3 ) 4 ],
[(Η 3 -crotyl) Ni (cycloocta-1,5-diene)] [PF 6 ],
[(Η 3 -allyl) Ni (cycloclota-1,5-diene)] [B (C 6 F 5 ) 4 ],
[(Η 3 -crotyl) Ni (cycloocta-1,5-diene)] [SbF 6 ],
Toluene · Ni (C 6 F 5 ) 2 , Benzene · Ni (C 6 F 5 ) 2 , Mestinene · Ni (C 6 F 5 ) 2 , Ethylether · Ni (C 6 F 5 ) 2
Etc.

(a−2)多成分系触媒系(1)
σまたはσ,π結合を有するパラジウム錯体と有機アルミニウムまたは超強酸塩の組み合わせ。
ジ−μ−クロロ−ビス(6−メトキシビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−2−エン−エンド−5σ,2π)Pdと、メチルアルモキサン(MAOと略す)、AgSbF6またはAgBF4、から選ばれた化合物との組み合わせ、
〔(η3−アリール)PdCl〕2と、AgSbF6またはAgBF4の組み合わせ、
〔(cycloocta−1,5−diene)Pd(CH3)Cl〕とPPh3とNaB〔3,5−(CF32634の組み合わせなどが挙げられる。
(A-2) Multi-component catalyst system (1)
A combination of a palladium complex having a σ or σ, π bond and an organoaluminum or super strong acid salt.
Di-μ-chloro-bis (6-methoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene-endo-5σ, 2π) Pd, methylalumoxane (abbreviated as MAO), AgSbF6 or AgBF4 Combinations with different compounds,
A combination of [(η 3 -aryl) PdCl] 2 and AgSbF 6 or AgBF 4 ;
A combination of [(cycloocta-1,5-diene) Pd (CH 3 ) Cl], PPh 3 and NaB [3,5- (CF 3 ) 2 C 6 H 3 ] 4 may be mentioned.

(a−3)多成分触媒系(2)
(I)ニッケル化合物、コバルト化合物、チタニウム化合物またはジルコニウム化合物
から選ばれた遷移金属化合物、
(II)超強酸、ルイス酸およびイオン性ホウ素化合物から選ばれた化合物、
(III)有機アルミニウム化合物の3成分から成る組み合わせ。
(A-3) Multi-component catalyst system (2)
(I) transition metal compounds selected from nickel compounds, cobalt compounds, titanium compounds or zirconium compounds,
(II) a compound selected from super strong acids, Lewis acids and ionic boron compounds,
(III) A combination comprising three components of an organoaluminum compound.

(I)遷移金属化合物の例としては
(I-1) ニッケル化合物、コバルト化合物の例:
ニッケルまたはコバルトの有機カルボン酸塩、有機亜リン酸塩、有機リン酸塩、有機スルホン酸塩、β−ジケトン化合物などから選ばれた化合物、
例えば、2−エチルヘキサン酸ニッケル、ナフテン酸ニッケル、ナフテン酸コバルト、オレイン酸ニッケル、ドデカン酸ニッケル、ドデカン酸コバルト、ネオデカン酸コバルト、ジブチル亜リン酸ニッケル、ジブチルリン酸ニッケル、ジオクチルリン酸ニッケル、リン酸ジブチルエステルのニッケル塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ニッケル、p−トルエンスルホン酸ニッケル、ビス(アセチルアセトナート)ニッケル、ビス(エチルアセトアセテート)ニッケルなどが挙げられる。
(I) Examples of transition metal compounds (I-1) Examples of nickel compounds and cobalt compounds:
Compounds selected from nickel or cobalt organic carboxylates, organic phosphites, organic phosphates, organic sulfonates, β-diketone compounds,
For example, nickel 2-ethylhexanoate, nickel naphthenate, cobalt naphthenate, nickel oleate, nickel dodecanoate, cobalt dodecanoate, cobalt neodecanoate, nickel dibutyl phosphite, nickel dibutyl phosphate, nickel dioctyl phosphate, phosphoric acid Examples thereof include nickel salts of dibutyl ester, nickel dodecylbenzenesulfonate, nickel p-toluenesulfonate, nickel bis (acetylacetonate), and bis (ethylacetoacetate) nickel.

前記ニッケルの有機カルボン酸塩を六フッ化アンチモン酸、四フッ化ホウ素酸、トリフロロ酢酸、六フッ化アセトンなどの超強酸で変性した化合物、
ニッケルのジエンもしくはトリエン配位錯体、
例えば、ジクロロ(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル、〔(η3−クロチル)(
1,5−シクロオクタジエン)ニッケル〕ヘキサフロロホスフェート、およびそのテトラフロロボレート、テトラキス〔3,5−ビス(トリフロロメチル)〕ボレート錯体、(1,5,9−シクロドデカトリエン)ニッケル、ビス(ノルボルナジエン)ニッケル、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケルなどのニッケル錯体、
ニッケルにP、N、Oなどの原子を有する配位子が配位した錯体。
A compound obtained by modifying the organic carboxylate of nickel with a super strong acid such as hexafluoroantimonic acid, tetrafluoroboric acid, trifluoroacetic acid, hexafluoroacetone,
Nickel diene or triene coordination complexes,
For example, dichloro (1,5-cyclooctadiene) nickel, [(η 3 -crotyl) (
1,5-cyclooctadiene) nickel] hexafluorophosphate, and its tetrafluoroborate, tetrakis [3,5-bis (trifluoromethyl)] borate complex, (1,5,9-cyclododecatriene) nickel, bis Nickel complexes such as (norbornadiene) nickel and bis (1,5-cyclooctadiene) nickel,
A complex in which a ligand having an atom such as P, N, or O is coordinated to nickel.

例えば、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロライド、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジブロマイド、ビス(トリフェニルホスフィン)コバルトジブロマイド、ビス〔トリ(2−メチルフェニル)ホスフィン〕ニッケルジクロライド、ビス〔トリ(4−メチルフェニル)ホスフィン〕ニッケルジクロライド、ビス〔N−(3−t−ブチルサリシリデン)フェニルアミネート〕ニッケル、Ni〔PhC(O)CH〕(Ph)、Ni(OC(C64)PPh)(H)(PCy3)、Ni〔OC(O)(C64)P〕
(H)(PPh3)、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケルとPhC(O)CH
=PPh3との反応物、〔2,6−(i−Pr)263N=CHC63(O)(Anth)〕(Ph)(PPh3)Niなどのニッケル錯体(ここで、Anthは9−anthr
acenyl、Phはphenyl、Cyはcyclohexylの略称である。)、
が挙げられる。
For example, bis (triphenylphosphine) nickel dichloride, bis (triphenylphosphine) nickel dibromide, bis (triphenylphosphine) cobalt dibromide, bis [tri (2-methylphenyl) phosphine] nickel dichloride, bis [tri (4 - methylphenyl) phosphine] nickel dichloride, bis [N- (3-t- butylsalicylidene) phenyl aminate] nickel, Ni [PhC (O) CH] (Ph), Ni (OC ( C 6 H 4) PPh) (H) (PCy 3 ), Ni [OC (O) (C 6 H 4 ) P]
(H) (PPh 3 ), bis (1,5-cyclooctadiene) nickel and PhC (O) CH
= Reaction product of PPh 3, [2,6- (i-Pr) 2 C 6 H 3 N = CHC 6 H 3 (O) (Anth) ] (Ph) (PPh 3) nickel complex such as Ni (here And Anth is 9-anthr
acenyl and Ph are abbreviations for phenyl and Cy for cyclohexyl. ),
Is mentioned.

(I-2) チタニウム、ジルコニウム化合物の例:
〔t−BuNSiMe(Me4Cp)〕TiCl2、(Me4Cp)(O−iPr2632TiCl、(Me4Cp)TiCl3、(Me4Cp)Ti(OBu)3、〔t−BuNS
iMe2Flu〕TiMe2、〔t−BuNSiMe2Flu〕TiCl2、Et(Ind)2ZrCl2、Ph2C(Ind)(Cp)ZrCl2、iPr(Cp)(Flu)ZrCl2、 iPr(3−tert−But−Cp)(Ind)ZrCl2、iPr(Cp)(Ind)ZrCl2、 Me2Si(Ind)2ZrCl2、Cp2ZrCl2、(CpはCyclopentadienl、IndはIndenyl、FluはFluorenylの略称である。)
などが挙げられる。
(I-2) Examples of titanium and zirconium compounds:
[T-BuNSiMe (Me 4 Cp)] TiCl 2 , (Me 4 Cp) (O—iPr 2 C 6 H 3 ) 2 TiCl, (Me 4 Cp) TiCl 3 , (Me 4 Cp) Ti (OBu) 3 , [T-BuNS
iMe 2 Flu] TiMe 2 , [t-BuNSiMe 2 Flu] TiCl 2 , Et (Ind) 2 ZrCl 2 , Ph 2 C (Ind) (Cp) ZrCl 2 , iPr (Cp) (Flu) ZrCl 2 , iPr (3 -tert-But-Cp) (Ind ) ZrCl 2, iPr (Cp) (Ind) ZrCl 2, Me 2 Si (Ind) 2 ZrCl 2, Cp 2 ZrCl 2, (Cp is Cyclopentadienl, Ind is Indenyl, Flu is Fluorenyl (The abbreviation for.)
Etc.

(II)超強酸、ルイス酸およびイオン性ホウ素化合物の例としては、
超強酸としては、例えば、ヘキサフロロアンチモン酸、ヘキサフロロリン酸、ヘキサフロロ砒酸、トリフロロ酢酸、フロロ硫酸、トリフロロメタンスルホン酸、テトラフロロホウ酸、テトラキス(ペンタフロロフェニル)ホウ酸、テトラキス〔3,5−ビス(トリフロロメチル)フェニル〕ホウ酸、p−トルエンスルホン酸、ペンタフロロプロピオン酸など、
ルイス酸化合物としては、例えば、三フッ化ホウ素とエーテル、アミン、フェノールなどとの錯体、三フッ化アルミニウムのエーテル、アミン、フェノールなどの錯体、トリス(ペンタフロロフェニル)ボラン、トリス〔3,5−ビス(トリフロロメチル)フェニル〕ボラン、などのホウ素化合物、三塩化アルミニウム、三臭化アルミニウム、エチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、ジエチルアルミニウムフロライド、トリ(ペンタフロロフェニル)アルミニウムなどのアルミニウム化合物、ヘキサフロロアセトン、ヘキサクロロアセトン、クロラニル、ヘキサフロロメチルエチルケトンなどのルイス酸性を示す有機ハロゲン化合物、その他、四塩化チタン、ペンタフロロアンチモンなどのルイス酸性を示す化合物など、
イオン性ホウ素化合物としては、例えば、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス(2,4,6−トリフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラフェニルボレート、トリブチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジエチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジフェニルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどが挙げられる。
(II) Examples of super strong acids, Lewis acids and ionic boron compounds include:
Examples of super strong acids include hexafluoroantimonic acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluoroarsenic acid, trifluoroacetic acid, fluorosulfuric acid, trifluoromethanesulfonic acid, tetrafluoroboric acid, tetrakis (pentafluorophenyl) boric acid, tetrakis [3, 5-bis (trifluoromethyl) phenyl] boric acid, p-toluenesulfonic acid, pentafluoropropionic acid, etc.
Examples of Lewis acid compounds include complexes of boron trifluoride with ethers, amines, phenols, etc., aluminum trifluoride ethers, complexes of amines, phenols, tris (pentafluorophenyl) borane, tris [3,5 Boron compounds such as -bis (trifluoromethyl) phenyl] borane, aluminum compounds such as aluminum trichloride, aluminum tribromide, ethylaluminum dichloride, ethylaluminum sesquichloride, diethylaluminum fluoride, tri (pentafluorophenyl) aluminum , Organic halogen compounds exhibiting Lewis acidity such as hexafluoroacetone, hexachloroacetone, chloranil, hexafluoromethyl ethyl ketone, and other Lewis acidity such as titanium tetrachloride and pentafluoroantimony Such as the compounds,
Examples of the ionic boron compound include triphenylcarbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, triphenylcarbeniumtetrakis [3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl] borate, triphenylcarbeniumtetrakis (2,4 , 6-trifluorophenyl) borate, triphenylcarbenium tetraphenylborate, tributylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, N, N-diethylanilinium tetrakis (Pentafluorophenyl) borate, N, N-diphenylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and the like.

(III)の有機アルミニウム化合物の例としては、
メチルアルモキサン、エチルアルモキサン、ブチルアルモキサンなどのアルキルアルモキサン化合物、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムフルオライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムジクロライドなどのアルキルアルミニウム化合物およびハロゲン化アルキルアルミニウム化合物、または前記アルキルアルモキサン化合物と前記アルキルアルミニウム化合物との混合物などが好適に使用される。
As an example of the organoaluminum compound (III),
Alkylalumoxane compounds such as methylalumoxane, ethylalumoxane, butylalumoxane, trimethylaluminum, triethylaluminum, triisobutylaluminum, diisobutylaluminum hydride, diethylaluminum chloride, diethylaluminum fluoride, ethylaluminum sesquichloride, ethylaluminum dichloride, etc. The alkylaluminum compound and the halogenated alkylaluminum compound, or a mixture of the alkylalumoxane compound and the alkylaluminum compound are preferably used.

これら触媒成分は、例えば、以下の範囲の使用量で用いられる。
ニッケル化合物、パラジウム化合物、コバルト化合物、チタニウム化合物およびジルコニウム化合物などの遷移金属化合物は単量体1モルに対して、0.02〜100ミリモル原子、有機アルミニウム化合物は遷移金属化合物1モル原子に対して1〜5,000モル、また非共役ジエン、ルイス酸、イオン性ホウ素化合物は遷移金属化合物の1モル原子に対して0〜100モルである。
These catalyst components are used, for example, in amounts used within the following ranges.
Transition metal compounds such as nickel compounds, palladium compounds, cobalt compounds, titanium compounds, and zirconium compounds are 0.02 to 100 millimole atoms per mole of monomer, and organoaluminum compounds are per mole of transition metal compound. The amount of non-conjugated diene, Lewis acid, and ionic boron compound is 0 to 100 mol with respect to 1 mol atom of the transition metal compound.

(b)重合溶媒
付加重合反応において用いられる溶媒としては、重合に供される単量体組成物や触媒等が溶解してかつ触媒が失活することがなく、また、生成した付加重合体が溶解するものであれば特に限定されないが、例えば、シクロヘキサン、シクロペンタン、メチルシクロペンタンなどの脂環式炭化水素溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素溶媒、トルエン、ベンゼン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,1−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素溶媒などから選ばれた溶媒を挙げることができる。これらは単独で、または2種以上を混合して用いることができる。
(B) Polymerization solvent As the solvent used in the addition polymerization reaction, the monomer composition or catalyst to be subjected to the polymerization is dissolved and the catalyst is not deactivated. Although it will not specifically limit if it melt | dissolves, For example, alicyclic hydrocarbon solvents, such as cyclohexane, cyclopentane, and methylcyclopentane, Aliphatic hydrocarbon solvents, such as hexane, heptane, and octane, toluene, benzene, xylene, mesitylene And an aromatic hydrocarbon solvent such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,1-dichloroethane, tetrachloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene, and other solvents selected from dichlorobenzene. These can be used alone or in admixture of two or more.

(c)分子量調節剤
本発明では、製造するノルボルネン系付加重合体の分子量の調節を、分子量調節剤として重合系内に水素あるいはα−オレフィンを添加することにより行うこともできる。生成するノルボルネン系付加重合体の分子量は、添加する分子量調節剤が多いほど低下する。
(C) Molecular Weight Modifier In the present invention, the molecular weight of the norbornene addition polymer to be produced can be adjusted by adding hydrogen or α-olefin as a molecular weight regulator in the polymerization system. The molecular weight of the norbornene-based addition polymer produced decreases as the molecular weight regulator added increases.

《水素添加反応》
前記開環重合反応により得られる重合体は、その分子中にオレフィン性不飽和結合を有している。また、前記付加重合反応においても、重合体がその分子中にオレフィン性不飽和結合を有する場合がある。このように、重合体分子中にオレフィン性不飽和結合が存在すると、係るオレフィン性不飽和結合が経時着色やゲル化等劣化の原因となる場合があるので、このオレフィン性不飽和結合を飽和結合に変換する水素添加反応を行うことが好ましい。
《Hydrogenation reaction》
The polymer obtained by the ring-opening polymerization reaction has an olefinically unsaturated bond in the molecule. Moreover, also in the said addition polymerization reaction, a polymer may have an olefinically unsaturated bond in the molecule | numerator. Thus, if an olefinically unsaturated bond is present in the polymer molecule, the olefinically unsaturated bond may cause deterioration over time such as coloring or gelation. It is preferable to carry out a hydrogenation reaction to convert to.

水素添加反応は、通常の方法、すなわちオレフィン性不飽和結合を有する重合体の溶液に公知の水素添加触媒を添加し、これに常圧〜300気圧、好ましくは3〜200気圧の水素ガスを0〜200℃、好ましくは20〜180℃で作用させることによって行うことができる。   In the hydrogenation reaction, a known hydrogenation catalyst is added to an ordinary method, that is, a polymer solution having an olefinically unsaturated bond, and hydrogen gas at normal pressure to 300 atm, preferably 3 to 200 atm, is added to the solution. The reaction can be carried out at -200 ° C, preferably 20-180 ° C.

水素添加重合体の水素添加率は、500MHz、1H−NMRで測定した値が通常50
%以上、好ましく70%以上、より好ましくは90%以上、特に好ましくは98%以上、最も好ましくは99%以上である。水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性が優れたものとなり、成形体として使用した場合に長期にわたって安定した特性を得ることができるため好ましい。
The hydrogenation rate of the hydrogenated polymer is typically 50 MHz, as measured by 1 H-NMR.
% Or more, preferably 70% or more, more preferably 90% or more, particularly preferably 98% or more, and most preferably 99% or more. The higher the hydrogenation rate, the better the stability to heat and light, and it is preferable because stable characteristics can be obtained over a long period when used as a molded product.

なお、前記方法で得られた重合体がその分子内に芳香族基を有する場合、係る芳香族基は経時着色やゲル化等劣化の原因とはならず、むしろ、機械的特性や光学的特性において有利な作用を及ぼすこともあるため、係る芳香族基については必ずしも水素添加する必要はない。   In addition, when the polymer obtained by the above method has an aromatic group in the molecule, the aromatic group does not cause deterioration such as coloring over time or gelation, but rather, mechanical characteristics and optical characteristics. In some cases, such an aromatic group does not necessarily have to be hydrogenated.

水素添加触媒としては、通常のオレフィン性化合物の水素添加反応に用いられるものを使用することができる。この水素添加触媒としては、不均一系触媒および均一系触媒が挙げられる。   As a hydrogenation catalyst, what is used for the hydrogenation reaction of a normal olefinic compound can be used. Examples of the hydrogenation catalyst include a heterogeneous catalyst and a homogeneous catalyst.

不均一系触媒としては、パラジウム、白金、ニッケル、ロジウム、ルテニウムなどの貴
金属触媒物質を、カーボン、シリカ、アルミナ、チタニアなどの担体に担持させた固体触媒を挙げることができる。均一系触媒としては、ナフテン酸ニッケル/トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート/トリエチルアルミニウム、オクテン酸コバルト/n−ブチルリチウム、チタノセンジクロリド/ジエチルアルミニウムモノクロリド、酢酸ロジウム、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム、ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、クロロヒドロカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、ジクロロカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウムなどを挙げることができる。触媒の形態は、粉末でも粒状でもよい。
Examples of the heterogeneous catalyst include a solid catalyst in which a noble metal catalyst material such as palladium, platinum, nickel, rhodium, and ruthenium is supported on a carrier such as carbon, silica, alumina, and titania. Homogeneous catalysts include nickel naphthenate / triethylaluminum, nickel acetylacetonate / triethylaluminum, cobalt octenoate / n-butyllithium, titanocene dichloride / diethylaluminum monochloride, rhodium acetate, chlorotris (triphenylphosphine) rhodium, dichloro Examples thereof include tris (triphenylphosphine) ruthenium, chlorohydrocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium, dichlorocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium, and the like. The form of the catalyst may be powder or granular.

これらの水素添加触媒は、通常、開環重合体と水素添加触媒との重量比(開環重合体:水素添加触媒)が、1:1×10-6〜1:2となる割合で使用される。
本発明に用いられるノルボルネン系樹脂は、固有粘度〔η〕inhが好ましくは0.2〜2.0dl/g、さらに好ましくは0.35〜1.0dl/g、特に好ましくは0.4〜0.85dl/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が好ましくは5000〜100万、さらに好ましくは1万〜50万、特に好ましくは1.5万〜25万であり、重量平均分子量(Mw)が1万〜200万、さらに好ましくは2万〜100万、特に好ましくは3万〜50万のものが好適である。固有粘度〔η〕inh、数平均分子量および重量平均分子量が上記範囲にあると、ノルボルネン系樹脂は機械的強度が優れたものとなり、破損しにくいノルボルネン系樹脂製基板が得られる。
These hydrogenation catalysts are usually used in a ratio such that the weight ratio of the ring-opening polymer to the hydrogenation catalyst (ring-opening polymer: hydrogenation catalyst) is 1: 1 × 10 −6 to 1: 2. The
The norbornene resin used in the present invention has an intrinsic viscosity [η] inh of preferably 0.2 to 2.0 dl / g, more preferably 0.35 to 1.0 dl / g, and particularly preferably 0.4 to 0. The polystyrene-reduced number average molecular weight (Mn) measured by gel permeation chromatography (GPC) is preferably 5,000 to 1,000,000, more preferably 10,000 to 500,000, and particularly preferably 1.5. A material having a weight average molecular weight (Mw) of 10,000 to 2,000,000, more preferably 20,000 to 1,000,000, particularly preferably 30,000 to 500,000 is suitable. When the intrinsic viscosity [η] inh , the number average molecular weight, and the weight average molecular weight are in the above ranges, the norbornene resin has excellent mechanical strength, and a norbornene resin substrate that is not easily damaged can be obtained.

前記ノルボルネン系樹脂のガラス転移温度(Tg)は、通常120℃以上、好ましくは130℃以上、さらに好ましくは150℃以上である。Tgが上記範囲内にあると、誘電体多層膜の基材への密着強度が向上し、さらに耐ハンダリフロー性に優れたノルボルネン系樹脂製基板が得られる。   The norbornene resin has a glass transition temperature (Tg) of usually 120 ° C. or higher, preferably 130 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher. When Tg is within the above range, the adhesion strength of the dielectric multilayer film to the base material is improved, and a norbornene resin substrate having excellent solder reflow resistance is obtained.

また、ノルボルネン系樹脂の飽和吸水率は、1重量%以下、好ましくは0.1〜0.8重量%である。飽和吸水率が1重量%を超える場合、係る樹脂から得られた樹脂基板が、使用される環境によっては経時的に吸水(湿)変形する等耐久性に問題が生じることがある。一方、0.1重量%未満の場合、接着性に問題が生じたり、近赤外線吸収剤の分散性に問題が生じたりすることがある。また、飽和吸水率が上記範囲内にあることにより、特に固体撮像素子収納用パッケージの透光性蓋体に用いた場合には、撮像素子の水分によるノルボルネン系樹脂の劣化を防止できる。なお、前記飽和吸水率はASTM D570に従い、23℃の水中で1週間浸漬して増加重量を測定することにより得られる値である。   The saturated water absorption of the norbornene resin is 1% by weight or less, preferably 0.1 to 0.8% by weight. When the saturated water absorption exceeds 1% by weight, there may be a problem in durability such that the resin substrate obtained from the resin is subject to water absorption (wet) deformation over time depending on the environment in which it is used. On the other hand, when the amount is less than 0.1% by weight, there may be a problem in adhesiveness or a problem in dispersibility of the near infrared absorber. Further, when the saturated water absorption is within the above range, it is possible to prevent the norbornene-based resin from being deteriorated due to moisture of the image sensor, particularly when used for a light-transmitting lid of a package for housing a solid-state image sensor. The saturated water absorption is a value obtained by immersing in 23 ° C. water for 1 week and measuring the increased weight according to ASTM D570.

《その他成分》
本発明においては、本発明の効果を損なわない範囲において、ノルボルネン系樹脂にさらに、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤を添加することができる。
《Other ingredients》
In the present invention, additives such as an antioxidant and an ultraviolet absorber can be further added to the norbornene-based resin as long as the effects of the present invention are not impaired.

酸化防止剤としては、例えば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2'−ジオキシ−3,3'−ジ−t−ブチル−5,5'−ジメチルジフェニルメタン、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンなどが挙げられる。   Examples of the antioxidant include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,2′-dioxy-3,3′-di-t-butyl-5,5′-dimethyldiphenylmethane, tetrakis [ And methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane.

紫外線吸収剤としては、例えば2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。また、後述する溶液キャスティング法によりノルボルネン系樹脂製基板を製造する場合には、レベリング剤や消泡剤を添加することで樹脂基板の製造を容易にすることができる。   Examples of the ultraviolet absorber include 2,4-dihydroxybenzophenone and 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone. Moreover, when manufacturing a norbornene-type resin-made board | substrate by the solution casting method mentioned later, manufacture of a resin board | substrate can be made easy by adding a leveling agent and an antifoamer.

なお、これら添加剤は、本発明に用いるノルボルネン系樹脂製基板を製造する際に、ノ
ルボルネン系樹脂などとともに混合してもよいし、ノルボルネン系樹脂を製造する際に添加することで予め配合されていてもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、ノルボルネン系樹脂100重量部に対して、通常0.01〜5.0重量部、好ましくは0.05〜2.0重量部であることが望ましい。
These additives may be mixed together with a norbornene-based resin or the like when manufacturing the norbornene-based resin substrate used in the present invention, or added in advance when manufacturing the norbornene-based resin. May be. The addition amount is appropriately selected according to the desired properties, but is usually 0.01 to 5.0 parts by weight, preferably 0.05 to 2. parts by weight based on 100 parts by weight of the norbornene resin. 0 part by weight is desirable.

《ノルボルネン系樹脂製基板の製造方法》
本発明に用いるノルボルネン系樹脂からなる基板は、ノルボルネン系樹脂を直接溶融成形することにより、あるいは溶媒に溶解しキャスティング(キャスト成形)する方法により好適に成形することができる。
<< Manufacturing Method of Norbornene Resin Substrate >>
The substrate made of norbornene-based resin used in the present invention can be suitably molded by directly melt-molding norbornene-based resin or by a method of dissolving in a solvent and casting (cast molding).

(A)溶融成形
本発明に用いるノルボルネン系樹脂製基板は、ノルボルネン系樹脂、もしくはノルボルネン系樹脂と赤外線吸収剤とを含有する樹脂組成物を溶融成形することにより製造することができる。溶融成形方法としては、例えば、射出成形、溶融押出成形あるいはブロー成形などを挙げることができる。
(A) Melt Molding The norbornene resin substrate used in the present invention can be produced by melt molding a norbornene resin or a resin composition containing a norbornene resin and an infrared absorber. Examples of the melt molding method include injection molding, melt extrusion molding, and blow molding.

(B)キャスティング
本発明に用いるノルボルネン系樹脂製基板は、ノルボルネン系樹脂を溶媒に溶解した液状樹脂組成物を適切な基材の上にキャスティングして溶剤を除去することにより製造することもできる。例えば、スチールベルト、スチールドラムあるいはポリエステルフィルム等の基材の上に、上述の液状樹脂組成物を塗布して溶剤を乾燥させ、その後基材から塗膜を剥離することにより、ノルボルネン系樹脂製基板を得ることができる。また、ガラス、石英あるいは透明プラスチック製の光学部品に上述の液状組成物をコーティングして溶剤を乾燥させることにより、元の光学部品上にノルボルネン系樹脂製基板を形成することができる。
(B) Casting The norbornene-based resin substrate used in the present invention can also be produced by casting a liquid resin composition obtained by dissolving a norbornene-based resin in a solvent on an appropriate base material and removing the solvent. For example, a norbornene-based resin substrate is formed by applying the above-described liquid resin composition onto a substrate such as a steel belt, a steel drum, or a polyester film, drying the solvent, and then peeling the coating film from the substrate. Can be obtained. Further, a norbornene resin substrate can be formed on the original optical component by coating the above-mentioned liquid composition on an optical component made of glass, quartz or transparent plastic and drying the solvent.

前記方法で得られたノルボルネン系樹脂製基板中の残留溶剤量は可能な限り少ない方がよく、通常3重量%以下、好ましくは1重量%以下、さらに好ましくは0.5重量%以下である。残留溶剤量が3重量%を超える場合、経時的に樹脂基板が変形したり特性が変化したりして所望の機能が発揮できなくなることがある。   The amount of residual solvent in the norbornene-based resin substrate obtained by the above method is preferably as small as possible, and is usually 3% by weight or less, preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less. When the residual solvent amount exceeds 3% by weight, the resin substrate may be deformed over time or the characteristics may be changed over time, and a desired function may not be exhibited.

本発明で用いられるノルボルネン系樹脂からなる基板は、その厚さを特に限定するものではないが、通常10〜300μm、好ましくは30〜200μm程度であるのが望ましい。ノルボルネン系樹脂からなる基板の厚さが薄すぎると、強度が不足する場合があり、また、基板が厚すぎると、複屈折性が高くなりすぎたり、透明性、外観性が低下する場合がある。   The thickness of the substrate made of norbornene resin used in the present invention is not particularly limited, but is usually 10 to 300 μm, preferably about 30 to 200 μm. If the substrate made of norbornene resin is too thin, the strength may be insufficient, and if the substrate is too thick, the birefringence may become too high, or the transparency and appearance may deteriorate. .

本発明で用いるノルボルネン系樹脂からなる基板は、光透過性が通常80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上であるのが望ましい。
<プラズマ処理>
本発明の偏光フィルムの製造方法においては、上述したノルボルネン系樹脂からなる基板の少なくとも一面を、プラズマ処理する工程を有する。
The substrate made of norbornene-based resin used in the present invention desirably has a light transmittance of usually 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 90% or more.
<Plasma treatment>
In the manufacturing method of the polarizing film of this invention, it has the process of plasma-treating at least one surface of the board | substrate which consists of a norbornene-type resin mentioned above.

本発明に係るプラズマ処理は、電子温度は高いがガス温度が低い領域で発生するプラズマ(非平衡プラズマともいう)を利用して行う処理で、プラズマ中を活性種であるイオン、電子、ラジカル、真空紫外線等を基板表面に作用させ、エッチング、インプランテーション、ラジカル生成等の表面改質を行い、表面を活性化する技術である。上記インプランテーションの際には、水酸基、カルボニル基、カルボキシル基等の官能基が素材表面に導入され、密着性の改善、濡れ性の向上効果が得られる。   The plasma treatment according to the present invention is a treatment performed using plasma (also referred to as non-equilibrium plasma) generated in a region where the electron temperature is high but the gas temperature is low, and the plasma includes active species such as ions, electrons, radicals, This is a technology that activates the surface by applying vacuum ultraviolet rays or the like to the substrate surface to perform surface modification such as etching, implantation, radical generation, and the like. In the implantation, functional groups such as a hydroxyl group, a carbonyl group, and a carboxyl group are introduced on the surface of the material, and an effect of improving adhesion and wettability is obtained.

本発明に係るプラズマ処理は、比較的低温において、常圧またはそれに近い圧力条件で行うのが好ましく、たとえば、0.1〜1.1kg/cm2の圧力下で、放電処理時の温度が、通常10〜80℃、好ましくは25〜60℃程度の温度範囲で行うことができる。 The plasma treatment according to the present invention is preferably performed at a relatively low temperature at normal pressure or a pressure condition close thereto, for example, under a pressure of 0.1 to 1.1 kg / cm 2 , the temperature during the discharge treatment is Usually, it can be carried out in a temperature range of about 10 to 80 ° C., preferably about 25 to 60 ° C.

このようなプラズマ処理に用いるガスとしては、常圧またはそれに近い圧力条件でプラズマが発生すれば特に限定されるものではないが、He、Ar、Ne、Kr、Xe、Rn等の不活性ガス、CO2、CO等の炭素酸化物ガス、O2等の酸化性ガス、CF4等の反応ガス、エチレン、プロピレン等の重合性不飽和化合物ガス、空気等が挙げられる。これらは、目的に応じて、適宜に選択され、単独もしくは組み合わせて用いられる。 The gas used for such plasma treatment is not particularly limited as long as plasma is generated under normal pressure or a pressure condition close thereto, but an inert gas such as He, Ar, Ne, Kr, Xe, and Rn, Examples thereof include carbon oxide gases such as CO 2 and CO, oxidizing gases such as O 2 , reactive gases such as CF 4 , polymerizable unsaturated compound gases such as ethylene and propylene, and air. These are appropriately selected according to the purpose and used alone or in combination.

プラズマ処理においては、ノルボルネン系樹脂からなる基板の表面の水酸基、アミノ基、カルボニル基、カルボキシル基などの官能基を導入することができる。基板表面にこれらの基、好ましくは水酸基またはアミノ基を導入することにより、基板表面の濡れ性が向上し、接着性が改善される。特に、ノルボルネン系樹脂からなる基板の表面に水酸基を導入することにより、基板表面とウレタン系接着剤との接着性が顕著に向上し、また濡れ性も向上するため、接着剤の塗布性及び接着性が改善される。   In the plasma treatment, a functional group such as a hydroxyl group, an amino group, a carbonyl group, or a carboxyl group on the surface of a substrate made of a norbornene resin can be introduced. By introducing these groups, preferably a hydroxyl group or an amino group, onto the substrate surface, the wettability of the substrate surface is improved and the adhesion is improved. In particular, the introduction of a hydroxyl group to the surface of a substrate made of norbornene resin significantly improves the adhesion between the substrate surface and the urethane adhesive, and also improves the wettability. Improved.

プラズマ処理において、ノルボルネン系樹脂からなる基板の表面に水酸基を導入するためには、水蒸気もしくは水、酸素などを含む雰囲気下でプラズマ処理することが好ましく、アミノ基を導入するためには、アンモニアもしくは窒素あるいはさらに水蒸気または水素を含む雰囲気下でプラズマ処理することが好ましい。   In the plasma treatment, in order to introduce a hydroxyl group on the surface of a substrate made of a norbornene-based resin, it is preferable to perform a plasma treatment in an atmosphere containing water vapor or water, oxygen, etc., and in order to introduce an amino group, ammonia or The plasma treatment is preferably performed in an atmosphere containing nitrogen or further water vapor or hydrogen.

本発明に係るプラズマ処理においては、より好ましくは、ノルボルネン系樹脂からなる基板の表面に存在する有機物のC−C結合もしくはC−H結合を切断した後に基板の表面に水酸基やアミノ基などの官能基を導入する条件でプラズマ処理することが好ましく、これにより、より多くの官能基を導入することが可能であり、より優れた接着性を有する基板を得ることができる。具体的には、ヘリウム、アルゴン、ネオン等の不活性ガス、水素、酸素、オゾン、水蒸気、二酸化炭素、一酸化炭素、窒素、アンモニア、一酸化窒素、二酸化窒素、メタン、エタン等の低級炭化水素、ケトン、アルコール等の低沸点の有機化合物から選択される少なくとも2種のガスの存在下でプラズマ処理することが好ましい。   In the plasma treatment according to the present invention, more preferably, a functional group such as a hydroxyl group or an amino group is formed on the surface of the substrate after the C—C bond or C—H bond of the organic substance existing on the surface of the substrate made of norbornene resin is cut. It is preferable to perform plasma treatment under conditions for introducing a group, whereby more functional groups can be introduced, and a substrate having better adhesiveness can be obtained. Specifically, inert gases such as helium, argon, neon, etc., lower hydrocarbons such as hydrogen, oxygen, ozone, water vapor, carbon dioxide, carbon monoxide, nitrogen, ammonia, nitric oxide, nitrogen dioxide, methane, and ethane It is preferable to perform plasma treatment in the presence of at least two kinds of gases selected from organic compounds having a low boiling point such as ketone and alcohol.

更に好ましくは、ヘリウム、アルゴン、ネオン等の不活性ガスと、水素、水蒸気、過酸化水素から選択される少なくとも1種のガスと、酸素、水蒸気、過酸化水素、オゾンから選択される少なくとも1種のガスを含む反応ガスの下でプラズマ処理することにより、接着性を簡便に付与することができる。   More preferably, an inert gas such as helium, argon, neon, at least one gas selected from hydrogen, water vapor, hydrogen peroxide, and at least one selected from oxygen, water vapor, hydrogen peroxide, ozone. Adhesiveness can be easily imparted by performing plasma treatment under a reactive gas containing the above gas.

また、放電処理は、所定のガス雰囲気中に、ノルボルネン系樹脂からなる基板の処理すべき面を曝し、電極間に、例えば3〜40kHzといった高周波電圧を印加することにより行うことができる。   The discharge treatment can be performed by exposing a surface to be treated of a substrate made of norbornene resin in a predetermined gas atmosphere and applying a high-frequency voltage such as 3 to 40 kHz between the electrodes.

なお、本発明においては、プラズマ処理を、常圧または常圧近傍の圧力である0.1〜1.1kg/cm2の圧力下で行うのが好ましいが、これは、0.1kg/cm2未満の圧力下で行おうとすれば、系を真空に保つ必要から特殊な装置が必要となり、設備コストが高くなることと、ガス密度が低くなるため、均一かつ充分な改質面が得られにくいという理由、および、1.1kg/cm2を超えると、ガスの消費量が増大するにもかかわらずそれ以上の処理効果は得られず、経済的でないという理由による。 In the present invention, a plasma treatment, preferably carried out under a pressure of 0.1~1.1kg / cm 2 at a pressure of atmospheric pressure or atmospheric圧近near which, 0.1 kg / cm 2 If it is performed under a pressure lower than that, a special apparatus is required because the system needs to be kept in a vacuum, and the equipment cost is high and the gas density is low, so it is difficult to obtain a uniform and sufficient reformed surface. This is because, and if it exceeds 1.1 kg / cm 2 , no further treatment effect can be obtained despite the increase in gas consumption, which is not economical.

本発明に係るプラズマ処理は、たとえば、図1に示すような、大気圧プラズマ処理装置を用いて好適に行うことができる。図1の装置においては、相対する2つの電極の間にプラズマ処理しようとする試料を位置させる。プラズマ励起時に火花放電が起こるのを防ぐ
ためガラス、セラミック、ポリイミドフィルムのような誘電体を上部及び/又は下部電極の表面に設けた方が好ましい。アルゴンとヘリウムとの混合気体等のプラズマ励起性気体は流入口から大気圧プラズマ発生装置に導入され、内部の空気を置換して流出口から排出される。次いで電極間に、通常、1〜20kHzの周波数、1〜10kVの電圧(例えば3000Hz、4200V)の高周波電圧を印加し、上記導入気体をプラズマ励起してグロー放電を所定時間発生させ、試料表面の改質を行うことができる。試料であるノルボルネン系樹脂からなる基板を、プラズマ処理装置内を通過させながら処理した場合には、プラズマ処理を連続的に行うことができ好適である。
<偏光膜>
本発明に係る偏光フィルムは、上述のようにプラズマ処理したノルボルネン系樹脂からなる基板と、偏光膜とが接着されてなる。
The plasma processing according to the present invention can be suitably performed using, for example, an atmospheric pressure plasma processing apparatus as shown in FIG. In the apparatus of FIG. 1, a sample to be plasma-processed is positioned between two opposed electrodes. In order to prevent spark discharge during plasma excitation, it is preferable to provide a dielectric such as glass, ceramic, or polyimide film on the surface of the upper and / or lower electrodes. A plasma-exciting gas such as a mixed gas of argon and helium is introduced into the atmospheric pressure plasma generator from the inflow port, and is discharged from the outflow port by replacing the air inside. Next, a high frequency voltage of 1 to 20 kHz, a voltage of 1 to 10 kV (eg, 3000 Hz, 4200 V) is usually applied between the electrodes, the introduced gas is plasma-excited to generate a glow discharge for a predetermined time, and Modification can be performed. When a substrate made of a norbornene-based resin as a sample is processed while passing through a plasma processing apparatus, it is preferable because plasma processing can be continuously performed.
<Polarizing film>
The polarizing film according to the present invention is formed by bonding a substrate made of norbornene-based resin that has been plasma-treated as described above and a polarizing film.

本発明で用いられる偏光膜としては、偏光膜としての機能、すなわち、入射光を互いに直行する2つの偏光成分に分け、その一方のみを通過させ、他の成分を吸収または分散させる働きを有するものをいずれも用いることができ、特に限定されない。本発明で用いることのできる偏光膜としては、たとえば、ポリビニルアルコール(以下、PVAと略記)・ヨウ素系偏光膜、PVA系フィルムに二色性染料を吸着配向させたPVA・染料系偏光膜、また、PVA系フィルムより脱水反応を誘起させたり、ポリ塩化ビニルフィルムの脱塩酸反応により、ポリエンを形成させたポリエン系偏光膜、分子内にカチオン基を含有する変性PVAからなるPVA系フィルムの表面および/または内部に二色性染料を有する偏光膜などが挙げられる。   The polarizing film used in the present invention has a function as a polarizing film, that is, a function of dividing incident light into two polarization components orthogonal to each other, allowing only one of them to pass, and absorbing or dispersing the other component. Any of these can be used and is not particularly limited. Examples of the polarizing film that can be used in the present invention include polyvinyl alcohol (hereinafter abbreviated as PVA) / iodine polarizing film, PVA / dye polarizing film in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a PVA film, , A polyene polarizing film in which a polyene is formed by inducing a dehydration reaction from a PVA film or by dehydrochlorination reaction of a polyvinyl chloride film, a surface of a PVA film made of a modified PVA containing a cationic group in the molecule, and Examples thereof include a polarizing film having a dichroic dye inside.

また、本発明で用いられる偏光膜は、その製造方法も特に限定されない。たとえば、PVA系フィルムに延伸後ヨウ素イオンを吸着させる方法、PVA系フィルムを二色性染料による染色後延伸する方法、PVA系フィルムを延伸後二色性染料で染色する方法、二色性染料をPVA系フィルムに印刷後延伸する方法、PVA系フィルムを延伸後二色性染料を印刷する方法などの公知の方法が挙げられる。より具体的には、ヨウ素をヨウ化カリウム溶液に溶解して、高次のヨウ素イオンを作り、このイオンをPVAフィルムに吸着させて延伸し、次いで1〜4%ホウ酸水溶液に浴温度30〜40℃で浸漬して偏光膜を製造する方法、あるいはPVAフィルムを同様にホウ酸処理して一軸方向に3〜7倍程度延伸し、0.05〜5%の二色性染料水溶液に浴温度30〜40℃で浸漬して染料を吸着し、80〜100℃で乾燥して熱固定して偏光膜を製造する方法などが挙げられる。   Moreover, the manufacturing method of the polarizing film used in the present invention is not particularly limited. For example, a method of adsorbing iodine ions after stretching on a PVA film, a method of stretching a PVA film after dyeing with a dichroic dye, a method of dyeing a PVA film with a dichroic dye after stretching, a dichroic dye Well-known methods such as a method of stretching after printing on a PVA-based film and a method of printing a dichroic dye after stretching a PVA-based film can be mentioned. More specifically, iodine is dissolved in a potassium iodide solution to form higher-order iodine ions, the ions are adsorbed on a PVA film and stretched, and then a 1 to 4% boric acid aqueous solution has a bath temperature of 30 to 30%. A method for producing a polarizing film by immersing at 40 ° C., or treating a PVA film with boric acid in the same manner and stretching it about 3 to 7 times in a uniaxial direction, and adding a 0.05 to 5% dichroic dye aqueous solution to a bath temperature Examples include a method of producing a polarizing film by immersing at 30 to 40 ° C. to adsorb a dye, drying at 80 to 100 ° C. and heat setting.

本発明で用いる偏光膜は、特に限定されるものではないが、10〜100μm、好ましくは20〜80μmの厚さであるのが望ましい。
これらの偏光膜は、そのまま本発明に係る偏光フィルムの製造に用いてもよいが、ノルボルネン系樹脂からなる基板と接着する面にプラズマ処理を行って用いることもできる。<接着>
本発明においては、上述した、プラズマ処理を行ったノルボルネン系樹脂からなる基板のプラズマ処理された面に、偏光膜を接着して、偏光フィルムを製造する。この基板と偏光膜との接着は、通常、粘着剤または接着剤を用いて行う。
Although the polarizing film used by this invention is not specifically limited, It is 10-100 micrometers, Preferably it is desirable that it is 20-80 micrometers in thickness.
These polarizing films may be used as they are for the production of the polarizing film according to the present invention, but can also be used by performing plasma treatment on the surface to be bonded to the substrate made of a norbornene resin. <Adhesion>
In the present invention, a polarizing film is manufactured by adhering a polarizing film to the plasma-treated surface of a substrate made of the above-described norbornene-based resin. Adhesion between the substrate and the polarizing film is usually performed using an adhesive or an adhesive.

粘着剤としては、透明性に優れ、複屈折などが小さく、薄い層として用いても充分に粘着力を発揮できるものが好ましい。そのような粘着剤としては、例えば、天然ゴム、合成ゴム・エラストマー、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルキルエーテル、ポリアクリレート、変性ポリオレフィン系樹脂系粘着剤等や、これらにイソシアネート等の硬化剤を添加した硬化型粘着剤が挙げられ、特に、ポリオレフィンフォームやポリエステルフィルムの接着等に用いられる粘着剤の内で硬化型粘着剤が好ましい。   As the pressure-sensitive adhesive, those having excellent transparency, small birefringence, and the like and capable of exhibiting sufficient adhesive force even when used as a thin layer are preferable. Examples of such pressure-sensitive adhesives include natural rubber, synthetic rubber / elastomer, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, polyvinyl alkyl ether, polyacrylate, modified polyolefin resin-based pressure-sensitive adhesive, and the like, and curing such as isocyanate. A curable pressure-sensitive adhesive to which an agent is added is mentioned, and a curable pressure-sensitive adhesive is particularly preferable among the pressure-sensitive adhesives used for adhesion of polyolefin foam or polyester film.

また、接着剤としては、ポリエチレンやポリプロピレン等の接着等に用いられる接着剤
をいずれも用いることができる。例えば、ポリウレタン系樹脂溶液とポリイソシアネート樹脂溶液とを混合するドライラミネート用接着剤、スチレンブタジエンゴム系接着剤、エポキシ系二液硬化型接着剤、例えば、エポキシ樹脂とポリチオールとの二液からなるもの、エポキシ樹脂とポリアミドとの二液からなるものなどを用いることができ、特に溶剤型接着剤、エポキシ系二液硬化型接着剤が好ましく、透明のものが好ましい。接着剤によっては、適当な接着用プライマーを用いることで接着力を向上させることができるものがあり、そのような接着剤を用いる場合は接着プライマーを用いることが好ましい。
Moreover, as an adhesive agent, any adhesive agent used for adhesion of polyethylene or polypropylene can be used. For example, an adhesive for dry lamination that mixes polyurethane resin solution and polyisocyanate resin solution, styrene butadiene rubber adhesive, epoxy two-component curable adhesive, for example, two-component epoxy resin and polythiol A two-component solution of an epoxy resin and a polyamide can be used, and a solvent-type adhesive and an epoxy-based two-component curable adhesive are particularly preferable, and a transparent one is preferable. Some adhesives can improve the adhesive force by using an appropriate adhesion primer. When using such an adhesive, it is preferable to use an adhesion primer.

本発明においては、これらの粘着剤あるいは接着剤のうち、ウレタン系接着剤を用いると、特にノルボルネン系樹脂からなる基板のプラズマ処理された面との接着性に優れるため好ましい。   In the present invention, among these pressure-sensitive adhesives or adhesives, it is preferable to use a urethane-based adhesive because it is particularly excellent in adhesion to a plasma-treated surface of a substrate made of a norbornene-based resin.

ウレタン系接着剤としては、MS720、MG4100、MLT2300A(すべて株式会社イーテック製)を好ましく用いることができる。
<偏光フィルム>
本発明に係る偏光フィルムは、上述した本発明の偏光フィルムの製造方法により好適に製造され、好ましくは、プラズマ処理されたノルボルネン系樹脂基板と、ウレタン系接着剤と、偏光膜とからなる。
As the urethane adhesive, MS720, MG4100, and MLT2300A (all manufactured by Etec Co., Ltd.) can be preferably used.
<Polarizing film>
The polarizing film which concerns on this invention is suitably manufactured with the manufacturing method of the polarizing film of this invention mentioned above, Preferably, it consists of a norbornene-type resin substrate by which plasma treatment was carried out, a urethane type adhesive agent, and a polarizing film.

このような、本発明に係る偏光フィルムは、良好な偏光機能を有し、ノルボルネン系樹脂基板と偏光膜とが強固に接着されており、耐熱性、耐薬品性などの特性にも優れており、長期使用においても剥離、変形などが生じにくく高い信頼性を有し、耐久性に優れ、液晶表示装置などの用途に好適に用いることができる。   Such a polarizing film according to the present invention has a good polarizing function, a norbornene-based resin substrate and a polarizing film are firmly bonded, and has excellent characteristics such as heat resistance and chemical resistance. In addition, even when used for a long period of time, peeling, deformation and the like are unlikely to occur, it has high reliability, is excellent in durability, and can be suitably used for applications such as liquid crystal display devices.

実施例
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

なお、「部」および「%」は、特に断りのない限り「重量部」および「重量%」を意味する。
まず、各物性値の測定方法および物性の評価方法について説明する。
(1)接着性:
接着剤を用いて、偏光膜の両面にノルボルネン系樹脂からなるフィルムを貼付し80℃の強制攪拌式恒温槽に10分間放置した後、偏光膜の両面に配置されたノルボルネン系樹脂フィルムを両手でそれぞれつかみ、ノルボルネン系樹脂フィルムを偏光膜より引き剥がした。この引き剥がした際の偏光膜とノルボルネン系樹脂フィルムの接着性を以下の基準により目視にて判定した。
○:偏光膜とノルボルネン系樹脂フィルムとの間の剥離は全く生じず、材料破壊 が生じる。
△:一部材料破壊が生じるが、同時に偏光膜とノルボルネン系樹脂フィルムとの 間の部分的な剥離も生じる。
×:偏光膜とノルボルネン系樹脂フィルムとの間の剥離のみが生じ、材料破壊は 生じない。
(2)湿熱試験:
偏光フィルムを温度40℃、相対湿度95%の環境下にて500時間保持した。
(3)乾熱試験:
偏光フィルムを温度80℃の環境下にて500時間保持した。
<製造例1>
(ノルボルネン系樹脂Aの製造)
8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4,4,0,12.5 ,17.10]ド
デカ−3−エン100g、1,2−ジメトキシエタン60g、シクロヘキサン240g、1−ヘキセン9g、および0.96モル/リットルのジエチルアルミニウムクロライドのトルエン溶液3.4mlを内容積1リットルのオートクレーブに加えた。一方、フラスコに0.05モル/リットルの六塩化タングステンの1,2−ジメトキシエタン溶液20mlと0.1モル/リットルのパラアルデヒドの1,2−ジメトキシエタン溶液10mlとを混合した。この混合溶液4.9mlを前記オートクレーブ中の混合物に添加した。前記オートクレーブを密栓後、混合物を80℃に加熱して2.5時間撹拌を行なった。得られた重合体溶液に重量比が2/8である1,2−ジメトキシエタン/シクロヘキサンの混合溶媒を加えて、重合体と溶媒との重量比(重合体/溶媒)を1/10にした後、トリエタノールアミン20gを加えて10分間撹拌した。この重合体溶液に、メタノール500gを加えて30分間撹拌して静置した。2層に分離した上層を除き、再びメタノールを加えて撹拌、静置後上層を除いた。同様の操作をさらに2回行ない、得られた下層をシクロヘキサン、1,2−ジメトキシエタンで適宜希釈し、重合体濃度が10%のシクロヘキサン、1,2−ジメトキシエタン溶液を得た。この溶液に水添触媒である20gのパラジウム/シリカマグネシア[日揮化学(株)製、パラジウム量=5%]を加えて、オートクレーブ中で水素圧40kg/cm2 として165℃で4時間反応させた後、水添触媒をろ過によって取り除き、水添重合体溶液を得た。また、この水添重合体溶液に、酸化防止剤であるペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]を水添重合体に対して0.1%加えてから380℃で減圧下に脱溶媒を行なった。次いで、溶融した前記水添重合体をチッ素雰囲気下で押出機によりペレット化し、固有粘度0.48dl/g(30℃、クロロホルム中)、水添率99.5%、ガラス転移温度168℃の熱可塑性ノルボルネン系樹脂Aを得た。
(ノルボルネン系樹脂(A)からなるフィルム(A)の製造)
溶融押出機を用い、熱可塑性ノルボルネン系樹脂Aを300℃に加熱溶融し、T型ダイから押出成形して、厚さ100μmの押出フィルムとしてフィルム(A)を得た。
<製造例2>
(偏光膜の製造)
厚さ50μmのポリビニルアルコールフィルムをヨウ素5.0g、ヨウ化カリウム250g、ホウ酸10g、水1000gからなる40℃の浴に浸漬しながら約5分間で4倍まで一軸延伸した。得られたフィルムの緊張を保ちながらアルコールで表面を洗浄後風乾し、偏光膜を得た。
<実施例1>
(フィルム(A)のプラズマ処理1)
得られたフィルム(A)を大気圧プラズマによりプラズマ処理した。大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、アルゴン69容量%、ヘリウム30容量%、酸素1容量%の混合ガスを用いた。また、高圧電極および低圧電極は、板状とし、その大きさは、どちらも335mm×250mmとし、電極間距離を3mmに設定した。そして、電源として、周波数が5kHzの交流電源を用い、高圧電極と低圧電極との間に2.4kVの電圧を印加した。当該プラズマ処理は、30秒間行い、フィルム(B)を得た。フィルム(B)表面の純水に対する接触角、およびX線光電子分光分析をおこなったところ、純水に対する接触角は50°、また表面近傍の酸素原子濃度が30%となり、プラズマ処理する以前のフィルム(A)の接触角85°および酸素原子濃度18%と比較し、プラズマ処理によりフィルム(B)の表面近傍に水酸基が導入されたことが示唆された。
<実施例2>
(フィルム(A)のプラズマ処理2)
得られたフィルム(A)を大気圧プラズマによりプラズマ処理した。大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、アルゴン47.5容量%、ヘリウム47.5容量%、二酸化炭素1容量%、メタン4容量%の混合ガスを用いた。また、高圧電極および低圧電極は、板状とし、その大きさは、どちらも335mm×250mmとし、電極間距離を3mmに設定した。そして、電源として、周波数が5kHzの交流電源を用い、高圧電極と低圧電極との間に
2.3kVの電圧を印加した。当該プラズマ処理を30秒間行い、フィルム(C)を得た。
“Parts” and “%” mean “parts by weight” and “% by weight” unless otherwise specified.
First, a method for measuring each physical property value and a method for evaluating the physical property will be described.
(1) Adhesiveness:
Using an adhesive, a film made of norbornene resin is attached to both sides of the polarizing film and left in a forced-stirred constant temperature bath at 80 ° C. for 10 minutes. Each was grabbed and the norbornene-based resin film was peeled off from the polarizing film. The adhesion between the polarizing film and the norbornene-based resin film when peeled off was visually determined according to the following criteria.
○: No separation between the polarizing film and the norbornene resin film occurs, and material destruction occurs.
Δ: Some material destruction occurs, but at the same time, partial peeling occurs between the polarizing film and the norbornene resin film.
X: Only peeling between the polarizing film and the norbornene-based resin film occurs, and material destruction does not occur.
(2) Wet heat test:
The polarizing film was held for 500 hours in an environment of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 95%.
(3) Dry heat test:
The polarizing film was held in an environment at a temperature of 80 ° C. for 500 hours.
<Production Example 1>
(Manufacture of norbornene resin A)
8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4,4,0,1 2.5, 1 7.10] dodeca-3-ene 100 g, 1,2-dimethoxyethane 60 g, cyclohexane 240 g, 1-hexene 9 g, and 0.96 3.4 ml of a toluene solution of mol / liter diethylaluminum chloride was added to an autoclave having an internal volume of 1 liter. On the other hand, 20 ml of a 1,2-dimethoxyethane solution of 0.05 mol / liter tungsten hexachloride and 10 ml of a 1,2-dimethoxyethane solution of 0.1 mol / liter paraaldehyde were mixed in the flask. 4.9 ml of this mixed solution was added to the mixture in the autoclave. After sealing the autoclave, the mixture was heated to 80 ° C. and stirred for 2.5 hours. A mixed solvent of 1,2-dimethoxyethane / cyclohexane having a weight ratio of 2/8 was added to the obtained polymer solution to reduce the weight ratio of the polymer to the solvent (polymer / solvent) to 1/10. Thereafter, 20 g of triethanolamine was added and stirred for 10 minutes. To this polymer solution, 500 g of methanol was added and stirred for 30 minutes and allowed to stand. The upper layer separated into two layers was removed, methanol was added again, the mixture was stirred and allowed to stand, and the upper layer was removed. The same operation was further performed twice, and the obtained lower layer was appropriately diluted with cyclohexane and 1,2-dimethoxyethane to obtain a cyclohexane and 1,2-dimethoxyethane solution having a polymer concentration of 10%. 20 g of palladium / silica magnesia (manufactured by JGC Chemical Co., Ltd., palladium amount = 5%) as a hydrogenation catalyst was added to this solution and reacted at 165 ° C. for 4 hours at a hydrogen pressure of 40 kg / cm 2 in an autoclave. Thereafter, the hydrogenation catalyst was removed by filtration to obtain a hydrogenated polymer solution. Further, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], which is an antioxidant, is added to the hydrogenated polymer solution with respect to the hydrogenated polymer. After adding 1%, the solvent was removed at 380 ° C. under reduced pressure. Next, the molten hydrogenated polymer was pelletized by an extruder under a nitrogen atmosphere, and had an intrinsic viscosity of 0.48 dl / g (30 ° C. in chloroform), a hydrogenation rate of 99.5%, and a glass transition temperature of 168 ° C. A thermoplastic norbornene resin A was obtained.
(Production of film (A) comprising norbornene resin (A))
Using a melt extruder, the thermoplastic norbornene-based resin A was heated and melted at 300 ° C. and extruded from a T-type die to obtain a film (A) as an extruded film having a thickness of 100 μm.
<Production Example 2>
(Manufacture of polarizing film)
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 50 μm was uniaxially stretched up to 4 times in about 5 minutes while being immersed in a 40 ° C. bath composed of 5.0 g of iodine, 250 g of potassium iodide, 10 g of boric acid, and 1000 g of water. While maintaining the tension of the obtained film, the surface was washed with alcohol and then air-dried to obtain a polarizing film.
<Example 1>
(Plasma treatment of film (A) 1)
The obtained film (A) was plasma-treated with atmospheric pressure plasma. As an atmospheric gas used for atmospheric pressure plasma, a mixed gas of 69 vol% argon, 30 vol% helium, and 1 vol% oxygen was used. Further, the high voltage electrode and the low voltage electrode were plate-shaped, both of which were 335 mm × 250 mm, and the distance between the electrodes was set to 3 mm. Then, an AC power source having a frequency of 5 kHz was used as a power source, and a voltage of 2.4 kV was applied between the high voltage electrode and the low voltage electrode. The plasma treatment was performed for 30 seconds to obtain a film (B). Film (B) surface pure water contact angle and X-ray photoelectron spectroscopy analysis revealed that the contact angle with pure water was 50 ° and the oxygen atom concentration near the surface was 30%. Compared with the contact angle of 85 ° and oxygen atom concentration of 18% in (A), it was suggested that a hydroxyl group was introduced near the surface of the film (B) by the plasma treatment.
<Example 2>
(Plasma treatment of film (A) 2)
The obtained film (A) was plasma-treated with atmospheric pressure plasma. As an atmospheric gas used for the atmospheric pressure plasma, a mixed gas of 47.5 vol% argon, 47.5 vol% helium, 1 vol% carbon dioxide, and 4 vol% methane was used. Further, the high voltage electrode and the low voltage electrode were plate-shaped, both of which were 335 mm × 250 mm, and the distance between the electrodes was set to 3 mm. Then, an AC power source having a frequency of 5 kHz was used as a power source, and a voltage of 2.3 kV was applied between the high voltage electrode and the low voltage electrode. The plasma treatment was performed for 30 seconds to obtain a film (C).

フィルム(C)表面の純水に対する接触角、およびX線光電子分光分析をおこなったところ、純水に対する接触角は60°、また表面近傍の酸素原子濃度が30%となり、プラズマ処理する以前のフィルム(A)の接触角85°および酸素原子濃度18%と比較し、プラズマ処理によりフィルム(C)の表面近傍に水酸基が導入されたことが示唆された。<実施例3>
実施例1で得られたフィルム(B)のプラズマ処理面側に接着剤としてMS720(株式会社イーテック製)をギャップ30ミクロンのアプリケーターを用いて塗布した後、接着剤の塗布面に対し、製造例2で得られた偏光膜を、ロール式ラミネーターを用いて貼付し、その後、内温80℃に設定した強制攪拌式の乾燥機にて10分間保持し、フィルム(B)が貼付された偏光膜を得た。さらに、新たなフィルム(B)のプラズマ処理面側に前記接着剤(MS720)をギャップ30ミクロンのアプリケーターを用いて塗布した後、接着剤の塗布面に対し、フィルム(B)が貼付された前記偏光膜を偏光膜側が接着剤と接するようにロール式ラミネーターを用いて貼付した後、80℃に設定した強制攪拌式の乾燥機にて10分間保持することで偏光フィルム(1)を得た。
Film (C) surface pure water contact angle and X-ray photoelectron spectroscopy analysis revealed that the contact angle with pure water was 60 ° and the oxygen atom concentration in the vicinity of the surface was 30%. Compared with the contact angle of 85 ° and the oxygen atom concentration of 18% in (A), it was suggested that a hydroxyl group was introduced near the surface of the film (C) by the plasma treatment. <Example 3>
After applying MS720 (manufactured by Etec Co., Ltd.) as an adhesive to the plasma-treated surface side of the film (B) obtained in Example 1 using an applicator with a gap of 30 microns, a manufacturing example is applied to the adhesive application surface. The polarizing film obtained in Step 2 was attached using a roll laminator, and then held for 10 minutes in a forced stirring dryer set at an internal temperature of 80 ° C., and the polarizing film on which the film (B) was attached Got. Further, after the adhesive (MS720) was applied to the plasma-treated surface side of the new film (B) using an applicator with a gap of 30 microns, the film (B) was applied to the adhesive-applied surface. The polarizing film (1) was obtained by sticking a polarizing film using a roll-type laminator so that the polarizing film side might contact with an adhesive agent, and hold | maintaining for 10 minutes with the forced stirring type dryer set to 80 degreeC.

得られた偏光フィルム(1)の初期接着性を評価した。更に偏光フィルム(1)について、湿熱試験および乾熱試験をそれぞれおこない、接着性およびフィルムの変形について評価した。偏光フィルム(1)についての評価結果を表1に示す。   The initial adhesiveness of the obtained polarizing film (1) was evaluated. Furthermore, the polarizing film (1) was subjected to a wet heat test and a dry heat test, respectively, and evaluated for adhesiveness and film deformation. The evaluation results for the polarizing film (1) are shown in Table 1.

得られた偏光フィルム(1)は初期接着性に優れ、湿熱試験後および乾熱試験後においてもフィルムの変形はみられず、接着性も初期状態(試験前の状態)と同等であった。
<実施例4>
フィルム(B)の代わりに実施例2で得られたフィルム(C)を用いた以外は実施例3と同様の操作をおこない、偏光フィルム(2)を得た。
The obtained polarizing film (1) was excellent in the initial adhesiveness, the film was not deformed even after the wet heat test and the dry heat test, and the adhesive property was equivalent to the initial state (state before the test).
<Example 4>
A polarizing film (2) was obtained in the same manner as in Example 3 except that the film (C) obtained in Example 2 was used instead of the film (B).

得られた偏光フィルム(2)の初期接着性を評価した。更に偏光フィルム(2)について、湿熱試験および乾熱試験をそれぞれおこない、接着性およびフィルムの変形について評価した。偏光フィルム(2)についての評価結果を表1に示す。   The initial adhesiveness of the obtained polarizing film (2) was evaluated. Further, the polarizing film (2) was subjected to a wet heat test and a dry heat test, respectively, and evaluated for adhesiveness and film deformation. The evaluation results for the polarizing film (2) are shown in Table 1.

得られた偏光フィルム(2)は初期接着性に優れ、湿熱試験後および乾熱試験後においてもフィルムの変形はみられず、接着性も初期状態と同等であった。
<実施例5>
接着剤としてMG4100(株式会社イーテック製)用いた以外は実施例3と同様の操作をおこない、偏光フィルム(3)を得た。
The obtained polarizing film (2) was excellent in the initial adhesiveness, the film was not deformed even after the wet heat test and the dry heat test, and the adhesiveness was equivalent to the initial state.
<Example 5>
A polarizing film (3) was obtained in the same manner as in Example 3 except that MG4100 (manufactured by Etec Co., Ltd.) was used as the adhesive.

得られた偏光フィルム(3)の初期接着性を評価した。更に偏光フィルム(3)
について、湿熱試験および乾熱試験をそれぞれおこない、接着性およびフィルムの変形について評価した。偏光フィルム(3)についての評価結果を表1に示す。
The initial adhesiveness of the obtained polarizing film (3) was evaluated. Further polarizing film (3)
Were subjected to a wet heat test and a dry heat test, respectively, and evaluated for adhesiveness and deformation of the film. The evaluation results for the polarizing film (3) are shown in Table 1.

得られた偏光フィルム(3)は初期接着性に優れ、湿熱試験後および乾熱試験後においてもフィルムの変形はみられず、接着性も初期状態と同等であった。
<実施例6>
接着剤としてMG4100(株式会社イーテック製)を、およびフィルム(B)の代わりに実施例2で得られたフィルム(C)を用いた以外は実施例3と同様の操作をおこない、偏光フィルム(4)を得た。
The obtained polarizing film (3) was excellent in the initial adhesiveness, the film was not deformed even after the wet heat test and the dry heat test, and the adhesiveness was equivalent to the initial state.
<Example 6>
The same operation as in Example 3 was performed except that MG4100 (manufactured by E-Tech Co., Ltd.) was used as the adhesive and the film (C) obtained in Example 2 was used instead of the film (B). )

得られた偏光フィルム(4)の初期接着性を評価した。更に偏光フィルム(4)について、湿熱試験および乾熱試験をそれぞれおこない、接着性およびフィルムの変形について
評価した。偏光フィルム(4)についての評価結果を表1に示す。
The initial adhesiveness of the obtained polarizing film (4) was evaluated. Furthermore, the polarizing film (4) was subjected to a wet heat test and a dry heat test, respectively, and evaluated for adhesiveness and film deformation. The evaluation results for the polarizing film (4) are shown in Table 1.

得られた偏光フィルム(4)は初期接着性に優れ、湿熱試験後および乾熱試験後においてもフィルムの変形はみられず、接着性も初期状態と同等であった。
<比較例>
フィルム(B)の代わりに製造例1で得られたフィルム(A)を用いた以外は実施例3と同様の操作をおこない、偏光フィルム(5)を得た。
The obtained polarizing film (4) was excellent in the initial adhesiveness, the film was not deformed even after the wet heat test and the dry heat test, and the adhesiveness was equivalent to the initial state.
<Comparative example>
A polarizing film (5) was obtained in the same manner as in Example 3 except that the film (A) obtained in Production Example 1 was used instead of the film (B).

得られた偏光フィルム(5)の初期接着性を評価した。更に偏光フィルム(5)について、湿熱試験および乾熱試験をそれぞれおこない、接着性およびフィルムの変形について評価した。偏光フィルム(5)についての評価結果を表1に示す。   The initial adhesiveness of the obtained polarizing film (5) was evaluated. Further, the polarizing film (5) was subjected to a wet heat test and a dry heat test, respectively, and evaluated for adhesiveness and film deformation. The evaluation results for the polarizing film (5) are shown in Table 1.

得られた偏光フィルム(5)は初期接着性には優れるものの、湿熱試験後および乾熱試験後において接着性が初期状態より低下した。また、フィルムの変形も確認された。   Although the obtained polarizing film (5) was excellent in the initial adhesiveness, the adhesiveness decreased from the initial state after the wet heat test and after the dry heat test. In addition, deformation of the film was also confirmed.

Figure 2006178191
Figure 2006178191

図1は、本発明にかかるプラズマ処理に使用できる、大気圧プラズマ処理装置の断面概略図を示す。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an atmospheric pressure plasma processing apparatus that can be used for plasma processing according to the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 高圧電極
2 低圧電極
3 ガス導入口
4 ガス排出口
F フィルム(試料)
1 High Voltage Electrode 2 Low Voltage Electrode 3 Gas Inlet 4 Gas Outlet F Film (Sample)

Claims (7)

ノルボルネン系樹脂からなる基板の少なくとも一面をプラズマ処理する工程と、
前記基板のプラズマ処理された面に偏光膜を接着する工程と
を有することを特徴とする偏光フィルムの製造方法。
Plasma treatment of at least one surface of a substrate made of norbornene-based resin;
And a step of bonding a polarizing film to the plasma-treated surface of the substrate.
前記ノルボルネン系樹脂が、下記一般式(1)で表される少なくとも1種の化合物を含む単量体を(共)重合して得られた樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の偏光フィルムの製造方法;
Figure 2006178191
〔式(1)中、R1〜R4は、各々独立に水素原子;ハロゲン原子;または酸素、窒素、イオウもしくはケイ素を含む連結基を有していてもよい置換もしくは非置換の炭素原子数1〜15の炭化水素基もしくはその他の1価の有機基を表す。R1とR2とが、またはR3とR4とが相互に結合してアルキリデン基を形成していてもよく、R1とR2とが、R3とR4とが、またはR2とR3とが相互に結合して炭素環または複素環(これらの炭素環または複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい。)を形成してもよい。形成される炭素環または複素環は芳香環でもよいし非芳香環でもよい。また、xは0〜3の整数、yは0または1を表すが、xが0のときはyも0である。〕。
2. The norbornene-based resin is a resin obtained by (co) polymerizing a monomer containing at least one compound represented by the following general formula (1): Manufacturing method of polarizing film;
Figure 2006178191
[In the formula (1), R 1 to R 4 each independently represents a hydrogen atom; a halogen atom; or a substituted or unsubstituted carbon atom which may have a linking group containing oxygen, nitrogen, sulfur or silicon. 1 to 15 hydrocarbon groups or other monovalent organic groups are represented. R 1 and R 2 , or R 3 and R 4 may be bonded to each other to form an alkylidene group, and R 1 and R 2 may be R 3 and R 4 , or R 2 And R 3 are bonded to each other to form a carbocycle or heterocycle (these carbocycles or heterocycles may be monocyclic structures or other rings may be condensed to form a polycyclic structure). It may be formed. The formed carbocyclic or heterocyclic ring may be an aromatic ring or a non-aromatic ring. X represents an integer of 0 to 3, and y represents 0 or 1. When x is 0, y is also 0. ].
前記プラズマ処理が、ノルボルネン系樹脂からなる前記基板の表面に官能基を導入する処理であることを特徴とする請求項1または2に記載の偏光フィルムの製造方法。   3. The method for producing a polarizing film according to claim 1, wherein the plasma treatment is a treatment for introducing a functional group into the surface of the substrate made of a norbornene resin. 前記基板の表面に導入する官能基が水酸基であることを特徴とする請求項3に記載の偏光フィルムの製造方法。   The method for producing a polarizing film according to claim 3, wherein the functional group introduced to the surface of the substrate is a hydroxyl group. 前記の偏光膜を接着する工程が、ウレタン系接着剤を介して偏光膜を接着する工程であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法。   The method for producing a polarizing film according to claim 1, wherein the step of adhering the polarizing film is a step of adhering the polarizing film via a urethane-based adhesive. 請求項1〜5のいずれかに記載の偏光フィルムの製造方法により得られることを特徴とする偏光フィルム。   A polarizing film obtained by the method for producing a polarizing film according to claim 1. プラズマ処理されたノルボルネン系樹脂基板と、ウレタン系接着剤と、偏光膜とからなることを特徴とする偏光フィルム。   A polarizing film comprising a plasma-treated norbornene-based resin substrate, a urethane-based adhesive, and a polarizing film.
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