JP2006163022A - 除去用組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】硫酸及び有機ニトリルと高圧流体を含んでなる除去用組成物用いる。さらにアルコール、ケトン及び/又はエステルを含んでも良い。高圧流体としては二酸化炭素(超臨界二酸化炭素)、有機ニトリルとしてはアセトニトリルが特に好ましく、ケトン及び/又はエステルとしては炭酸エステル、特に炭酸エチレンが好ましい。さらに金属防腐剤、金属キレート等を添加してもよい。
Description
AcCN:アセトニトリル
PrCN:プロピオニトリル
BuCN:ブチロニトリル
BzCN:ベンゾニトリル
EG:エチレングリコール
BP:ブトキシプロパノール
BEE:ブトキシエトキシエタノール
EtOH:エタノール
EC:炭酸エチレン
PC:炭酸プロピレン
AC:アセトン
DMC:炭酸ジメチル
実施例1〜12、比較例1〜4
シリコンウエハ上に、市販のKrF用有機系反射防止膜を2μmの厚みで塗布し、ベーク処理した。このシリコンウエハを耐圧容器に入れ、表1に示す除去用組成物及び二酸化炭素(炭酸ガス)を容器に導入した(除去用組成物濃度は二酸化炭素に対して30重量%とした)。70℃に加熱し、圧力を15MPaとして二酸化炭素を超臨界状態にした。所定時間維持した後、冷却しウエハを取り出した。これを水洗いし、乾燥した。表面をSEM(走査型電子顕微鏡)で観察し、反射防止膜の除去状態を調べた。なお、SEMは日本電子社製JSM T220Aを用いた。
○:除去性良好
×:大部分残存
各レジスト除去用組成とscCO2の相溶解性は以下の様に評価した。
○:溶解
×:不溶
Claims (10)
- 硫酸及び有機ニトリル及び高圧流体を含んでなるレジスト及び/又は被膜残渣の除去用組成物。
- 有機ニトリルがアセトニトリル、プロピオニトリル、スクシノニトリル、ブチロニトリル、ベンゾニトリル、アジポニトリルから成る群より選ばれる少なくとも1種を含んでなる請求項1記載の除去用組成物。
- さらにアルコールを含んでなる請求項1〜請求項2記載のいずれかに記載の除去用組成物。
- アルコールがメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、メトキシエタノール、エトキシエタノール、プロポキシエタノール、ブトキシエタノール、ブトキシエトキシエタノール、メトキシプロパノール、エトキシプロパノール、プロポキシプロパノール、ブトキシプロパノールから選ばれる少なくとも1種を含んでなる請求項3に記載の除去用組成物。
- さらにケトン及び/又はエステルを含んでなる請求項1〜請求項4のいずれかに記載の除去用組成物。
- ケトン及び/又はエステルが、ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン、イソホロン、シクロヘキサノンから成る群より選ばれる少なくとも1種を含んでなる請求項1に記載の除去用組成物。
- 硫酸が0.5〜50重量%、有機ニトリルが5〜99重量%、アルコールが0〜30重量%、ケトン及び/又はエステルが0〜50重量%である請求項1〜請求項6のいずれかに記載の除去用組成物。
- 高圧流体が二酸化炭素である請求項1〜請求項7のいずれかに記載の除去用組成物。
- 高圧流体が、超臨界状態の二酸化炭素である請求項1〜請求項8のいずれかに記載の除去用組成物。
- 高圧流体が1〜20MPaの圧力範囲である請求項1〜請求項9のいずれかに記載の除去用組成物。
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CN109127673A (zh) * | 2018-09-21 | 2019-01-04 | 深圳市伟绿达科技有限公司 | 一种膜渣减量系统 |
JP2023087940A (ja) * | 2021-12-14 | 2023-06-26 | 東京応化工業株式会社 | 金属レジスト除去用洗浄液、及び該洗浄液を用いた洗浄方法 |
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- 2004-12-08 JP JP2004355049A patent/JP4442407B2/ja not_active Expired - Fee Related
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