JP2006162250A - Pattern inspection device for film workpiece - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for acquiring a pattern image without any blur by causing an imaging unit to scan along a flexure so as to keep a focus position from being displaced even if the flexure is widthwise developed in a film workpiece, as to a pattern inspection device for a film workpiece wherein the long film workpiece is widthwise scanned by the imaging unit to acquire the pattern image formed on the film workpiece for inspection. <P>SOLUTION: A distance sensor is provided in the vicinity of the imaging unit for measuring a distance to a surface of the workpiece. When the imaging unit is moved widthwise across the workpiece while scanning, the imaging unit is moved so that the distance to the workpiece coincides with a focal distance based on distance information from the distance sensor. It is also possible to move the film workpiece. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、TABテープやFPC(フレキシブルプリント基板)のような長尺状のフィルムワークに形成されているパターンを自動で検査するフィルムワークの検査装置に関する。
特に、フィルムワークがその幅方向にたるんでいる(湾曲している)場合に、オート焦点(自動焦点)を行いながら撮像し自動で検査するフィルムワークの検査装置に関する
The present invention relates to a film work inspection apparatus that automatically inspects a pattern formed on a long film work such as a TAB tape or an FPC (flexible printed circuit board).
In particular, the present invention relates to a film work inspection apparatus that automatically picks up an image while performing autofocus (autofocus) when the film work is slackened (curved) in the width direction.

TABテープやFPC(フレキシブルプリント基板)のような長尺状のフィルムワーク(以下、ワークともいう)に形成されている回路等のパターンの外観検査を自動的に行なうのに、パターンの画像をCCD等の撮像素子により取得し、あらかじめ記憶しているマスタパターンと比較して良否を判定するパターン検査装置が知られている。
特許文献1には、上記のようなフィルムワークの検査装置において、フィルムワークの幅広化に対応して、画像データを取得するCCDラインセンサを、フィルムワークの長手方向に配列させ、フィルムワークの幅方向に走査して画像を取り込む装置が示されている。
In order to automatically inspect the appearance of patterns on circuits such as TAB tapes and FPCs (flexible printed circuit boards) that are formed on a long film work (hereinafter also referred to as a work), the pattern image is automatically converted into a CCD. There is known a pattern inspection apparatus that determines pass / fail by comparing with a master pattern acquired in advance by an image sensor such as the above.
In Patent Document 1, in the inspection apparatus for a film work as described above, a CCD line sensor for acquiring image data is arranged in the longitudinal direction of the film work in response to the widening of the film work. An apparatus for capturing images by scanning in the direction is shown.

しかし、上記のようなフィルムワークは、パターンを形成するための露光現像やエッチング等の工程での処理により、幅方向にそりが生じ、さらに自重によるたるみも加わって、多くの場合平坦ではなく曲面形状になっている。
このような曲面形状のフィルムワークを、上記で示した装置を用い検査を行なう場合、撮像素子を単にワークの幅方向に走査するだけでは、走査途中においてワークの表面が撮像素子の焦点位置からずれ、取得されるパターンの画像がぼけてしまい検査できない。
However, the film work as described above is warped in the width direction due to processing in processes such as exposure development and etching for forming a pattern, and further, sagging due to its own weight is added. It has a shape.
When such a curved film work is inspected by using the apparatus described above, the surface of the work is displaced from the focal position of the image sensor during scanning only by scanning the image sensor in the width direction of the work. The acquired pattern image is blurred and cannot be inspected.

フィルムワークの裏面を平面ステージにより吸着すれば、ワークの曲面形状が矯正され、上記問題は解決できる。しかし、ステージを用いると、ワークの裏面側から照明光を照射し、ワークを透過した光によりパターンの画像を取得する透過照明光による検査が困難になることや、ワークの裏面に傷が生じる可能性もあり、ステージを使用しないで検査しなければならない場合がある。
そのため、特許文献2や特許文献3のように、フィルムワークの幅方向のエッジを機械的に保持し、テンションをかけてワークの湾曲を矯正し、平面に保持することにより、フィルムワークを撮像素子の焦点位置に保持することが提案されている。
If the back surface of the film work is adsorbed by a flat stage, the curved surface shape of the work is corrected, and the above problem can be solved. However, if a stage is used, illumination light is irradiated from the back side of the workpiece, and it becomes difficult to inspect with transmitted illumination light that acquires a pattern image by the light transmitted through the workpiece, and scratches may occur on the back side of the workpiece In some cases, it may be necessary to inspect without using a stage.
Therefore, as in Patent Document 2 and Patent Document 3, the edge of the film work in the width direction is mechanically held, the tension is applied to correct the curvature of the work, and the film work is held on a flat surface. It has been proposed to hold at the focal position.

しかし、TABテープやFPC等のフィルムワークは年々幅が広くなり厚さも薄くなってきている。幅広になり薄くなると、ワークのエッジを保持してテンションをかけるだけでは、フィルムワークの湾曲を完全にはなくすることができず、撮像素子の焦点位置に保持できない場合がある。   However, film works such as TAB tape and FPC are becoming wider and thinner year by year. When the width is widened and thinned, the film work cannot be completely bent by merely holding the edge of the work and applying tension, and may not be held at the focal position of the image sensor.

特許文献4には、上記のような幅方向に曲面形状を呈するフィルムワークを検査する場合において、撮像素子であるラインセンサを、フィルムワークの幅方向に、同じ個所で2回走査して画像を取得することが示されている。
即ち、1回目の駆動走査で取得したラインセンサの検出信号をもとに、フィルムワークからラインセンサまでの距離を連続的に求め、2回目の駆動走査において、1回目で求めた距離データをもとに、フィルムワークの湾曲に沿ってラインセンサの駆動走査を行ない、ぼけのないパターン画像を取得する。
In Patent Document 4, when a film work having a curved surface shape in the width direction as described above is inspected, a line sensor that is an image sensor is scanned twice in the width direction of the film work at the same position. Shown to get.
That is, the distance from the film work to the line sensor is continuously obtained based on the detection signal of the line sensor acquired in the first driving scan, and the distance data obtained in the first time is also obtained in the second driving scan. At the same time, the line sensor is driven and scanned along the curvature of the film work to obtain a pattern image without blur.

しかしながら、1個所の検査にラインセンサを2回も走査するのでは、検査処理の時間が長くなり、スループットが低下する。
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、その目的は、長尺状のフィルムワークの幅方向に撮像素子を走査してパターンの画像を取得するフィルムワークのパターン検査装置において、撮像素子の1回のみの走査により、ぼけのないパターン画像を取得することができる装置を提供することである。
However, if the line sensor is scanned twice for one inspection, the inspection processing time becomes long and the throughput decreases.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a film work pattern inspection apparatus that acquires an image of a pattern by scanning the image sensor in the width direction of a long film work. It is an object of the present invention to provide an apparatus capable of acquiring a pattern image without blurring by only one scanning.

特開2001-160571号公報JP 2001-160571 A 特開2004-28597号公報JP 2004-28597 A 特開2002-217249号公報JP 2002-217249 A 特開2002-372503号公報JP 2002-372503 A

本発明においては、上記課題を次のようにして解決する。
長尺状のフィルムワークの幅方向に撮像ユニットを走査し、該フィルムワーク上に形成されたパターンの画像を取得して検査するフィルムワークのパターン検査装置において、撮像ユニットまたはフィルムワークを撮像ユニットの光軸方向に移動させる光軸方向移動機構を設ける。
また、フィルムワークまでの距離を測定する距離センサを、撮像ユニットの近傍に設け、フィルムワークまでの距離を測定しつつ、撮像ユニットとともにフィルムワークの幅方向に移動する。
In the present invention, the above problems are solved as follows.
In a film work pattern inspection apparatus that scans an image pickup unit in the width direction of a long film work and acquires and inspects an image of a pattern formed on the film work, the image pickup unit or the film work is attached to the image pickup unit. An optical axis direction moving mechanism for moving in the optical axis direction is provided.
In addition, a distance sensor that measures the distance to the film work is provided in the vicinity of the imaging unit, and moves in the width direction of the film work together with the imaging unit while measuring the distance to the film work.

装置制御部は、距離センサにより測定されたフィルムワークまでの距離情報に基づき、撮像ユニットまたはフィルムワークを、光軸方向移動機構により撮像ユニットの光軸方向に移動させ、曲面状のフィルムワークに対し焦点位置に保つ。
距離センサを設ける位置は、撮像素子であるフィルムワークの長手方向に沿って配されたCCDラインセンサの、長手方向延長上となる位置でも良いし、CCDラインセンサの長手方向に直交する方向であって、撮像ユニットが走査される前方方向でも良い。
The apparatus control unit moves the imaging unit or the film work in the optical axis direction of the imaging unit by the optical axis direction moving mechanism based on the distance information to the film work measured by the distance sensor, Keep in focus position.
The position where the distance sensor is provided may be a position on the extension of the longitudinal direction of the CCD line sensor arranged along the longitudinal direction of the film work as an image sensor, or a direction perpendicular to the longitudinal direction of the CCD line sensor. Thus, the forward direction in which the imaging unit is scanned may be used.

本発明においては、撮像ユニットがフィルムワークの幅方向に移動してパターンの画像を取得する際に、距離センサからの距離情報に基づき、撮像ユニットまたはフィルムワークが撮像ユニットの光軸方向に移動し、曲面状のフィルムワークに対し焦点位置に保たれるので、1回の走査でぼけのない画像を取得することができる。
また、距離センサを、撮像素子であるCCDラインセンサの長手方向に直交する方向であって、撮像ユニットが走査される前方方向に設けることにより、CCDラインセンサが画像を取得する部分に対して距離を測定することができるので、精度良く焦点を合せぼけのないパターン画像を得ることができる。
In the present invention, when the imaging unit moves in the width direction of the film work and acquires a pattern image, the imaging unit or the film work moves in the optical axis direction of the imaging unit based on the distance information from the distance sensor. Since the curved film work is kept at the focal position, an image without blur can be obtained by one scan.
Further, by providing the distance sensor in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the CCD line sensor that is the image sensor and in the forward direction in which the image pickup unit is scanned, the distance to the portion where the CCD line sensor acquires an image is provided. Therefore, it is possible to obtain a pattern image with high accuracy and without blurring.

図1は、本発明の実施例であるフィルムワークのパターン検査装置の概略構成を示す図である。
本実施例のフィルムワークのパターン検査装置(以下、パターン検査装置ともいう)は、フィルムワーク搬送機構10を備え、パターンが形成されたTABテープやFPC等のフィルムワークW(以下ワークともいう)は、テープ搬送機構10の送り出しリール11から巻き出され、巻き取りリール12に巻き取られる。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a film work pattern inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
The film work pattern inspection apparatus (hereinafter also referred to as a pattern inspection apparatus) according to the present embodiment includes a film work transport mechanism 10 and a film work W (hereinafter also referred to as a work) such as a TAB tape or FPC on which a pattern is formed. Then, the tape is unwound from the delivery reel 11 of the tape transport mechanism 10 and taken up by the take-up reel 12.

巻き取りリール12の近傍には、不良のパターンにマークをつけるマーカ部3が設けられている。マーカ部3において、不良と判定されたパターンにパンチでの穿孔や色塗りなどのマークを施し、その部分が不良であることが目視で確認できるようにする。
送り出しリール11から送り出されたフィルムワークWは、検査部5に送られる。検査部5の搬送下流側には搬送ローラ71が設けられ、また、検査部5の搬送上流側にはブレーキローラ72が設けられており、フィルムワークWは長手方向にテンションをかけられながら間歇的に搬送される。
In the vicinity of the take-up reel 12, a marker portion 3 for marking a defective pattern is provided. In the marker part 3, a pattern determined to be defective is marked with punching, coloring, or the like so that it can be visually confirmed that the part is defective.
The film work W delivered from the delivery reel 11 is sent to the inspection unit 5. A conveyance roller 71 is provided on the conveyance downstream side of the inspection unit 5, and a brake roller 72 is provided on the conveyance upstream side of the inspection unit 5, and the film work W is intermittently applied while being tensioned in the longitudinal direction. It is conveyed to.

検査部5には、反射照明手段21と、フィルムワークWで反射した照明光によりワークWに形成されている回路等のパターンを撮像する撮像ユニット51が設けられている。
なお、照明手段は、フィルムワークWに対し、撮像ユニット51の反対側に設け、透過照明手段22(図中点線で示す)としても良い。この場合、撮像ユニット51は、フィルムワークWを透過した照明光により、ワークWに形成されている回路等のパターンを撮像する。
The inspection unit 5 is provided with a reflective illumination unit 21 and an imaging unit 51 that captures a pattern of a circuit or the like formed on the workpiece W by illumination light reflected by the film workpiece W.
The illumination means may be provided on the opposite side of the imaging unit 51 with respect to the film work W, and may be the transmission illumination means 22 (indicated by a dotted line in the figure). In this case, the imaging unit 51 captures a pattern of a circuit or the like formed on the workpiece W with illumination light transmitted through the film workpiece W.

撮像ユニット51には走査手段80が取り付けられており、走査手段は、フィルムワークWの検査パターン上で、撮像ユニット51と反射照明手段21を、ワークWの幅方向(同図手前奥方向)に移動させ、フィルムワークWの検査領域(パターンが形成されている領域)全体の画像を得る。
なお、この走査手段80の構造、及び撮像ユニット51が画像を取得する際の詳しい動作については後述する。
また、検査部5には、撮像ユニット51によりパターン画像を取得している時、フィルムワークWの幅方向の両端(エッジ)を保持し、ワークWを幅方向に引っ張ってテンションをかけ、弛みを低減させるワークエッジ保持機構90も設けられている。
A scanning unit 80 is attached to the imaging unit 51, and the scanning unit places the imaging unit 51 and the reflected illumination unit 21 on the inspection pattern of the film workpiece W in the width direction of the workpiece W (front and rear direction in the figure). An image of the entire inspection area (area where the pattern is formed) of the film work W is obtained.
The structure of the scanning unit 80 and the detailed operation when the imaging unit 51 acquires an image will be described later.
Further, when the pattern image is acquired by the imaging unit 51, the inspection unit 5 holds both ends (edges) of the film work W in the width direction, pulls the work W in the width direction, applies tension, and loosens. A work edge holding mechanism 90 for reduction is also provided.

装置の制御部4は、撮像ユニット51により撮像された画像パターンを画像処理し、あらかじめ記憶している検査の基準となるマスタパターンと比較して製品の良否を判定する。また、検査部5、マーカ部3及びテープ搬送機構10などのパターン検査装置全体の動作を制御する。
図2は、図1のパターン検査装置の検査部の詳細な構成を示す図であり、同図を用いて、本発明の第1の実施例について説明する。なお、反射照明手段21とワーク保持機構90は省略して示している。
The control unit 4 of the apparatus performs image processing on the image pattern picked up by the image pickup unit 51 and compares it with a master pattern that is stored in advance as a reference for inspection to determine whether the product is good or bad. The operation of the entire pattern inspection apparatus such as the inspection unit 5, the marker unit 3, and the tape transport mechanism 10 is controlled.
FIG. 2 is a diagram showing a detailed configuration of the inspection unit of the pattern inspection apparatus of FIG. 1, and a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The reflected illumination means 21 and the work holding mechanism 90 are not shown.

図2(a)は検査部をフィルムワークが搬送される面に対して直交する方向から見た平面図、図2(b)はフィルムワークの搬送方向から見た図、図2(c)はフィルムワークの幅方向から見た図である。
51は撮像ユニットであり、撮像ユニット51は、撮像素子であるCCDラインセンサ52と、CCDラインセンサ52上にフィルムワークW上のパターンを結像させる光学素子(単数または複数枚のレンズ)を有するレンズユニット53で構成されている。
2A is a plan view of the inspection unit viewed from a direction orthogonal to the surface on which the film work is conveyed, FIG. 2B is a diagram viewed from the direction of conveyance of the film work, and FIG. It is the figure seen from the width direction of the film work.
Reference numeral 51 denotes an imaging unit. The imaging unit 51 includes a CCD line sensor 52 that is an imaging element, and an optical element (single or multiple lenses) that forms an image of a pattern on the film work W on the CCD line sensor 52. The lens unit 53 is configured.

図2(a)に示すように、CCDラインセンサ52は、その長手方向がフィルムワークWの長手方向に平行、即ちフィルムワークWの搬送方向に平行になるように設けられている。
また、図2(b)(c)に示すように、撮像ユニット51は、CCDラインセンサ52とレンズユニット53の位置関係が変化しないように、フィルムワークWの幅方向(X方向)と、撮像ユニット51の光軸L方向(Z方向)に、それぞれ独立して移動するよう構成されている。
撮像ユニット51の光軸Lは、撮像ユニット51に設けられたCCDラインセンサ32の中心と、レンズユニット53内に配された光学素子の中心を結んだ仮想の直線であり、フィルムワークWの搬送平面に対して直交する。
As shown in FIG. 2A, the CCD line sensor 52 is provided such that its longitudinal direction is parallel to the longitudinal direction of the film work W, that is, parallel to the transport direction of the film work W.
Also, as shown in FIGS. 2B and 2C, the imaging unit 51 captures an image in the width direction (X direction) of the film work W so that the positional relationship between the CCD line sensor 52 and the lens unit 53 does not change. The unit 51 is configured to move independently in the optical axis L direction (Z direction).
The optical axis L of the imaging unit 51 is a virtual straight line connecting the center of the CCD line sensor 32 provided in the imaging unit 51 and the center of the optical element arranged in the lens unit 53. Orthogonal to the plane.

撮像ユニット51は、伸縮自在なシャフト58を介して撮像ユニット保持台54に取り付けられ、撮像ユニット保持台54に設けられた、光軸方向移動モータ57により、光軸L方向(Z方向)に移動する。これにより撮像ユニット51は、フィルムワークWに対し接近または離間する。
さらに、撮像ユニット保持台54は、走査移動モータ55によりレール56に沿って移動する。
レール56はフィルムワークWの搬送方向に対して直交する方向に伸びて設けられおり、したがって、撮像ユニット保持台54がレール56に沿って移動することにより、撮像ユニット51はフィルムワークWの幅方向(X方向)に走査移動する。
The imaging unit 51 is attached to the imaging unit holding base 54 via a telescopic shaft 58 and is moved in the optical axis L direction (Z direction) by an optical axis direction moving motor 57 provided on the imaging unit holding base 54. To do. Thereby, the imaging unit 51 approaches or separates from the film work W.
Further, the imaging unit holding base 54 is moved along the rail 56 by the scanning movement motor 55.
The rail 56 is provided so as to extend in a direction orthogonal to the conveyance direction of the film work W. Therefore, the imaging unit 51 moves in the width direction of the film work W when the imaging unit holding base 54 moves along the rail 56. Scan and move in (X direction).

また、撮像ユニット51のレンズユニット53には、距離センサ59が取り付けられ、フィルムワークWの表面までの距離を測定し、測定されたフィルムワークWまでの距離データは、装置の制御部4に送られる。
距離センサ59は、波長700nmの赤色光を対象物に反射させて距離を測定する、市販の測長器を使用している。
距離センサとしてこの波長の光を出力するものを使用した理由は、TABテープやFPCに使用される樹脂の材質として、ポリイミドが良く使われており、ポリイミドは波長の長い赤色光を効率よく反射するためである。
A distance sensor 59 is attached to the lens unit 53 of the imaging unit 51 to measure the distance to the surface of the film work W, and the measured distance data to the film work W is sent to the control unit 4 of the apparatus. It is done.
The distance sensor 59 uses a commercially available length measuring device that measures the distance by reflecting red light having a wavelength of 700 nm to an object.
The reason why a light sensor that outputs light of this wavelength is used as a distance sensor is that polyimide is often used as a material for resin used in TAB tape and FPC, and polyimide reflects red light having a long wavelength efficiently. Because.

第1の実施例においては、距離センサ59は、撮像ユニット51のレンズユニット53の、CCDラインセンサ52の長手方向延長上となる位置に取り付けられる。
したがって、距離センサ59がフィルムワークWまでの距離を測定する位置は、CCDラインセンサ52により撮像される位置に対し、フィルムワークWの長手方向の延長上の位置になる。
距離センサ59は、撮像ユニット51がワークの幅方向(X方向)、及び光軸L方向(Z方向)に移動するとき、撮像ユニット51と共に移動する。
In the first embodiment, the distance sensor 59 is attached to the lens unit 53 of the image pickup unit 51 at a position on the longitudinal extension of the CCD line sensor 52.
Therefore, the position where the distance sensor 59 measures the distance to the film work W is a position on the extension of the film work W in the longitudinal direction with respect to the position imaged by the CCD line sensor 52.
The distance sensor 59 moves together with the imaging unit 51 when the imaging unit 51 moves in the workpiece width direction (X direction) and the optical axis L direction (Z direction).

図3は、第1の実施例における撮像ユニットの動作を説明する図であり、図2(b)と同様に、撮像ユニットをフィルムワークの搬送方向から見た図である。
以下同図を用いて、パターン撮像時に撮像ユニットをフィルムワークに対して焦点距離に制御する動作について説明する。
フィルムワークWのパターン検査を行なうに先立ち、準備として撮像ユニット51の焦点位置と、距離センサ59によるフィルムワークWの表面までの距離との関係を、次のようにして求めておく。
FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the image pickup unit in the first embodiment, and is a view of the image pickup unit as seen from the transport direction of the film work, as in FIG.
The operation for controlling the imaging unit to the focal length with respect to the film work at the time of pattern imaging will be described below with reference to FIG.
Prior to the pattern inspection of the film work W, as a preparation, the relationship between the focal position of the imaging unit 51 and the distance to the surface of the film work W by the distance sensor 59 is obtained as follows.

撮像ユニット51の光軸L方向に、テストパターンが形成された平面板を置き、該テストパターンに焦点を合わせ、CCDラインセンサ52上にテストパターンを結像させる。
その時、距離センサ59により、フィルムワークWの表面までの距離を測定して、これを焦点距離Fとし、該焦点距離Fを装置の制御部4に記憶する。
この場合、測定される距離は、距離センサ59からワークW表面までの距離であり、光学的に厳密な意味では、撮像ユニット51のレンズユニット53の光学素子の焦点距離とは異なるが、本発明においては、撮像ユニット51のCCDラインセンサ52上にパターンが結像した位置において距離センサ59により測定された、距離センサ59からワークW表面までの距離を、焦点距離と定義する。
また、これとは別に、検査の基準となるマスタパターンも制御部に記憶させておく。
A flat plate on which a test pattern is formed is placed in the optical axis L direction of the imaging unit 51, the test pattern is focused on, and the test pattern is imaged on the CCD line sensor 52.
At that time, the distance to the surface of the film work W is measured by the distance sensor 59 and this is set as the focal length F, and the focal length F is stored in the control unit 4 of the apparatus.
In this case, the measured distance is a distance from the distance sensor 59 to the surface of the workpiece W, and in an optically strict sense, it is different from the focal length of the optical element of the lens unit 53 of the imaging unit 51, but the present invention. , The distance from the distance sensor 59 to the surface of the workpiece W measured by the distance sensor 59 at the position where the pattern is formed on the CCD line sensor 52 of the imaging unit 51 is defined as the focal length.
Apart from this, a master pattern serving as a reference for inspection is also stored in the control unit.

上記の準備が終了後、パターンの検査を開始する。検査を行なうフィルムワークWが送り出しリールに巻かれ、図1に示したパターン検査装置にセットされる。
上記したようにフィルムワークWが搬送され、検査を行なう部分が、装置の検査部5で停止する。
After the above preparation is completed, the pattern inspection is started. A film work W to be inspected is wound around a delivery reel and set in the pattern inspection apparatus shown in FIG.
As described above, the film work W is conveyed, and the portion to be inspected stops at the inspection portion 5 of the apparatus.

図3(a)に示すように、検査部5に搬送されたフィルムワークWに対し、距離センサ59は、フィルムワークWの表面までの距離を測定し、測定された距離Aのデータを装置の制御部4に送る。
制御部4は、測定された距離Aと、上記で記憶した焦点距離Fとを比較し、その差A−Fを演算し、この差A−Fの距離だけ、撮像ユニット51を光軸L方向に下降させるよう、光軸方向移動モータ57を駆動する。
As shown in FIG. 3 (a), the distance sensor 59 measures the distance to the surface of the film work W with respect to the film work W conveyed to the inspection section 5, and the data of the measured distance A is obtained from the apparatus. Send to control unit 4.
The control unit 4 compares the measured distance A with the focal length F stored above, calculates the difference A−F, and moves the imaging unit 51 in the optical axis L direction by the distance A−F. The optical axis direction moving motor 57 is driven so as to be lowered.

これにより、図3(b)に示すように、撮像ユニット51が距離A−Fだけ、光軸L方向に沿って、フィルムワークWに接近する方向(Z方向)に下降する。
距離センサ59は、撮像ユニット51のレンズユニット53に取り付けられているので、撮像ユニット51とともに距離A−F下降する。
距離センサ59は、特定の短い周期でフィルムワークWまでの距離の測定を繰り返し、距離データを制御部4に送り続ける。
制御部4は、距離A−Fが0になるまで撮像ユニット51を下降させる。
Thereby, as shown in FIG.3 (b), the imaging unit 51 falls in the direction (Z direction) which approaches the film work W along the optical axis L direction by the distance AF.
Since the distance sensor 59 is attached to the lens unit 53 of the imaging unit 51, the distance sensor 59 is lowered along with the imaging unit 51 by a distance A-F.
The distance sensor 59 repeats the measurement of the distance to the film work W at a specific short cycle and continues to send the distance data to the control unit 4.
The control unit 4 lowers the imaging unit 51 until the distance A-F becomes zero.

撮像ユニット51が焦点距離Fまで達すると、測定距離データAと焦点距離Fの差がなくなるので、制御部4は光軸方向移動モータ57の駆動を停止し、撮像ユニット51は焦点距離Fに維持される。
CCDラインセンサ52上にフィルムワークWに形成されているパターンが結像する。CCDラインセンサ52はこの結像したパターン像を取得して制御部4に送り、制御部4はこれを画像処理して記憶する。
When the imaging unit 51 reaches the focal length F, the difference between the measurement distance data A and the focal length F disappears, so the control unit 4 stops driving the optical axis direction moving motor 57 and the imaging unit 51 is maintained at the focal length F. Is done.
A pattern formed on the film work W is imaged on the CCD line sensor 52. The CCD line sensor 52 acquires the formed pattern image and sends it to the control unit 4, and the control unit 4 performs image processing and stores it.

続いて、走査移動モータ55が駆動し、撮像ユニット保持台54とともに、撮像ユニット51と距離センサ59がフィルムワークWの幅方向(X方向)に走査される。
撮像ユニット51は、走査されつつCCDラインセンサ52によりフィルムワークWのパターン画像を取得し、また距離センサ59はフィルムワークWまでの距離を測定する。
Subsequently, the scanning movement motor 55 is driven, and the imaging unit 51 and the distance sensor 59 are scanned in the width direction (X direction) of the film work W together with the imaging unit holding base 54.
The imaging unit 51 acquires a pattern image of the film work W by the CCD line sensor 52 while being scanned, and the distance sensor 59 measures the distance to the film work W.

フィルムワークWが幅方向に対して曲面状にたるんでいると、撮像ユニット51が走査されるにつれ、再び図3(a)のように、距離センサ59により測定されるフィルムワークWまでの距離Aが長くなる。
制御部は、測定された距離Aと焦点距離Fとを比較し、その差A−Fを演算し、再び図3(b)のように、この差A−F分だけ撮像ユニット51が光軸L方向(Z方向)に下降するように、光軸方向移動モータ57を駆動し、撮像ユニット51の位置を焦点距離Fに保つ。
If the film work W sag in a curved shape with respect to the width direction, the distance A to the film work W measured by the distance sensor 59 again as shown in FIG. 3A as the imaging unit 51 is scanned. Becomes longer.
The control unit compares the measured distance A and the focal length F, calculates the difference A−F, and again, as shown in FIG. 3B, the imaging unit 51 moves the optical axis by the difference A−F. The optical axis direction moving motor 57 is driven so as to descend in the L direction (Z direction), and the position of the imaging unit 51 is kept at the focal length F.

これにより、CCDラインセンサ32は常に結像したぼけのないパターン像を取得することができる。
フィルムワークWの弛みは、ワーク幅方向に対して中央部付近が最も弛んでいると考えられるので、撮像ユニット51の走査がワーク幅方向の中央部を過ぎると、今度は距離センサ59により測定されるフィルムワークWまでの距離Aが短くなる。
As a result, the CCD line sensor 32 can always obtain a pattern image with no blur.
The slack of the film work W is considered to be most slack in the vicinity of the center with respect to the work width direction. Therefore, when the scanning of the image pickup unit 51 passes the center of the work width direction, this time is measured by the distance sensor 59. The distance A to the film work W becomes shorter.

その場合、制御部4は、測定された距離Aと焦点距離F差A−F分だけ、撮像ユニット51を光軸L方向(Z方向)に上昇させ、撮像ユニット51の位置を焦点距離Fに保つ。
このようにして、撮像ユニット51は、フィルムワークWの幅方向に検査領域を走査されつつ、CCDラインセンサ32がパターンのボケのない画像データを取得して、そのデータは制御部4に送られる。
In that case, the control unit 4 raises the imaging unit 51 in the optical axis L direction (Z direction) by the measured distance A and the focal length F difference A−F, and the position of the imaging unit 51 is set to the focal length F. keep.
In this way, the imaging unit 51 scans the inspection area in the width direction of the film work W, the CCD line sensor 32 acquires image data free from pattern blur, and the data is sent to the control unit 4. .

制御部4は、撮像ユニット51の走査移動完了後、送られてきた画像データを画像処理し、記憶しているマスタパターンと比較して良否の判定を行なう。
本実施例の場合、距離センサ59で距離が測定される位置と、CCDラインセンサ32が画像を取得する位置がフィルムワークWの長手方向に関して異なる。
After the scanning movement of the imaging unit 51 is completed, the control unit 4 performs image processing on the transmitted image data, and compares the stored master pattern with the stored master pattern to determine pass / fail.
In the present embodiment, the position where the distance is measured by the distance sensor 59 and the position where the CCD line sensor 32 acquires an image are different with respect to the longitudinal direction of the film work W.

しかし、距離センサ59は撮像ユニット51のレンズユニット53に取り付けられ、位置としてはCCDラインセンサ32の長手方向の真横に相当し、また、フィルムワークWの湾曲の量は、ワークの長手方向に対して大きくは異ならないと考えられる。
したがって、この位置で測定されたワークWまでの距離に基づいて撮像ユニット51の距離を調整しても、CCDラインセンサ32は焦点の合ったぼけのないパターンの画像を取得することができる。
However, the distance sensor 59 is attached to the lens unit 53 of the image pickup unit 51, and corresponds to a position directly next to the longitudinal direction of the CCD line sensor 32, and the amount of curvature of the film work W is relative to the longitudinal direction of the work. Is not much different.
Therefore, even if the distance of the imaging unit 51 is adjusted based on the distance to the workpiece W measured at this position, the CCD line sensor 32 can acquire an image having a focused pattern without blur.

図4は、パターン検査装置の検査部の、第2の実施例の構成を示す図であり、同図を用いて、本発明の第2の実施例について説明する。
なお、図2の場合と同様、反射照明手段21は省略し、また、図2と同じ構成については、同一の符号で示している。
本実施例は、CCDラインセンサにより画像が取得される位置を、距離センサにより距離測定できるように構成したものである。
FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the second embodiment of the inspection unit of the pattern inspection apparatus. The second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
As in the case of FIG. 2, the reflective illumination means 21 is omitted, and the same components as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals.
In this embodiment, a position where an image is acquired by a CCD line sensor can be measured by a distance sensor.

距離センサ59は、上記第1の実施例とは異なり、撮像ユニット保持台54上に支柱61により支持されて設けられ、撮像ユニット51とは独立している。
したがって、距離センサ59は、撮像ユニット保持台54により、撮像ユニット51と共にフィルムワークWの幅方向(X方向)には走査移動されるが、光軸L方向(Z方向)には移動しない。
Unlike the first embodiment, the distance sensor 59 is provided on the imaging unit holding base 54 by being supported by a support 61 and is independent of the imaging unit 51.
Accordingly, the distance sensor 59 is scanned and moved in the width direction (X direction) of the film work W together with the imaging unit 51 by the imaging unit holding base 54, but does not move in the optical axis L direction (Z direction).

距離センサ59は、CCDラインセンサ32の長手方向に直交する方向であって、撮像ユニット51が走査移動される前方方向(X方向前方)に設けられ、その位置でワークW表面までの距離を測定する。
距離センサ59がフィルムワークWまでの距離を測定する位置(センサ位置)から、CCDラインセンサ32によりパターン画像が取得される位置(撮像ユニット52の光軸L)までの間隔Bは、パターン検査装置を製造する際に設定測定され、その値Bは制御部に記憶される。
The distance sensor 59 is provided in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the CCD line sensor 32 and in the forward direction (forward in the X direction) in which the imaging unit 51 is scanned and moved, and the distance to the surface of the workpiece W is measured at that position. To do.
The distance B from the position (sensor position) at which the distance sensor 59 measures the distance to the film work W to the position at which the pattern image is acquired by the CCD line sensor 32 (optical axis L of the imaging unit 52) is determined by the pattern inspection apparatus. The value B is stored in the control unit.

また、撮像ユニット保持台54の走査移動モータ55と光軸方向移動モータ57にはエンコーダ等を取り付け、それぞれの基準位置(原点位置)と、基準位置(原点位置)からの移動距離を検出する機構を設ける。
図5は、第2の実施例における撮像ユニットの動作を説明する図であり、以下同図を用いて、パターン撮像時に撮像ユニットをフィルムワークに対して焦点距離に制御する動作について説明する。
Also, an encoder or the like is attached to the scanning movement motor 55 and the optical axis direction movement motor 57 of the imaging unit holding base 54, and a mechanism for detecting the respective reference position (origin position) and the movement distance from the reference position (origin position). Is provided.
FIG. 5 is a diagram for explaining the operation of the image pickup unit in the second embodiment. Hereinafter, the operation for controlling the image pickup unit to the focal length with respect to the film work at the time of pattern image pickup will be described with reference to FIG.

第1の実施例と同様に、撮像ユニット51と距離センサ59の下方にテストパターンが形成された平面板を置き、距離センサ59によりCCDラインセンサ32上にパターン像が結像する焦点距離Fが求められ、装置の制御部に記憶される。
検査が行なわれるフィルムワークWがパターン検査装置にセットされ、フィルムワークWが搬送されて、検査を行なう部分が装置の検査部で停止する。
As in the first embodiment, a flat plate on which a test pattern is formed is placed below the imaging unit 51 and the distance sensor 59, and the focal distance F at which the pattern image is formed on the CCD line sensor 32 by the distance sensor 59 is It is obtained and stored in the control unit of the apparatus.
The film work W to be inspected is set in the pattern inspection apparatus, the film work W is conveyed, and the part to be inspected stops at the inspection part of the apparatus.

図5(a)に示すように、走査移動モータ55により、撮像ユニット保持台54がワークの幅方向(X方向)に移動する。
ただし、撮像ユニット保持台54の移動は、パターンが形成されている検査領域に対して、距離B以上手前から開始する必要がある。
走査移動モータ55の基準位置(原点位置X0)に対する走査方向(X方向)移動距離Xn(X0,X1,X2,X3・・・)が、走査移動モータ55のエンコーダにより検出され、制御部4に送られる。
As shown in FIG. 5A, the scanning unit motor 54 moves the imaging unit holding base 54 in the workpiece width direction (X direction).
However, the movement of the imaging unit holding base 54 needs to be started from a distance B or more before the inspection area where the pattern is formed.
The scanning direction (X direction) moving distance Xn (X0, X1, X2, X3...) Relative to the reference position (origin position X0) of the scanning movement motor 55 is detected by the encoder of the scanning movement motor 55 and is sent to the control unit 4. Sent.

走査方向(X方向)移動距離Xn(X0,X1,X2,X3・・・)に対応して、距離センサ59が、ワーク表面までの距離An(A0,A1,A2,A3・・・)を測定し、装置の制御部4に送る。
制御部4は、測定された距離データAnと、記憶している焦点距離Fとを比較し、その差An−F=an(a0,a1,a2,a3・・・)を演算する。演算されたanは、その時の走査方向(X方向)移動距離Xnに対応して、制御部4の記憶部に記憶される。
Corresponding to the scanning direction (X direction) moving distance Xn (X0, X1, X2, X3...), The distance sensor 59 determines the distance An (A0, A1, A2, A3...) To the workpiece surface. Measure and send to the control unit 4 of the apparatus.
The control unit 4 compares the measured distance data An and the stored focal length F, and calculates a difference An−F = an (a0, a1, a2, a3...). The calculated an is stored in the storage unit of the control unit 4 corresponding to the moving distance Xn in the scanning direction (X direction) at that time.

図5(b)に示すように、撮像ユニット保持台54のワーク幅方向への走査移動が続き、走査方向(X方向)移動距離Xが、距離センサ59と撮像ユニットの光軸Lとの間隔Bに達する。即ちX=B=Xbとなる。
この時、制御部4は、X0に対応して記憶しているA0−F値(a0)を呼び出し、撮像ユニット51の光軸L方向(Z方向)の原点位置Z0から、a0分だけ、撮像ユニット51が光軸L方向に下降するように、光軸方向移動モータ57を駆動する。
As shown in FIG. 5B, the scanning movement of the imaging unit holding base 54 in the workpiece width direction continues, and the scanning direction (X direction) moving distance X is the distance between the distance sensor 59 and the optical axis L of the imaging unit. Reach B. That is, X = B = Xb.
At this time, the control unit 4 calls the stored A0-F value (a0) corresponding to X0, and picks up an image for a0 minutes from the origin position Z0 in the optical axis L direction (Z direction) of the imaging unit 51. The optical axis direction moving motor 57 is driven so that the unit 51 descends in the optical axis L direction.

以降、撮像ユニット51がワーク幅方向に走査移動されていく。
制御部4は、撮像ユニット保持台54の走査方向(X方向)移動距離Xが、X(b+n)になった時、Xnの値に対応して記憶しているAn−F値anを呼び出し、撮像ユニット51を光軸L方向の原点位置Z0から、an分だけ下降させるよう、光軸方向移動モータ57を駆動する。
Thereafter, the imaging unit 51 is scanned and moved in the workpiece width direction.
When the moving distance X of the imaging unit holding base 54 in the scanning direction (X direction) reaches X (b + n), the control unit 4 calls the stored An-F value an corresponding to the value of Xn, The optical axis direction moving motor 57 is driven so that the imaging unit 51 is lowered by an amount from the origin position Z0 in the optical axis L direction.

これにより、撮像ユニット51は、パターン画像を撮像する位置において焦点距離Fに維持される。
本実施例の場合、CCDラインセンサ32により画像が取得される位置に対し、距離センサ59によりワーク表面までの距離を測定できるので、フィルムワークWの湾曲の量が、ワークの長手方向に対して異なっているような場合であっても、検査するパターンに対して精度よく焦点が合わせられる。
Thereby, the imaging unit 51 is maintained at the focal length F at the position where the pattern image is captured.
In the case of this embodiment, the distance to the workpiece surface can be measured by the distance sensor 59 with respect to the position where the image is acquired by the CCD line sensor 32, so that the amount of curvature of the film workpiece W is relative to the longitudinal direction of the workpiece. Even if they are different, the pattern to be inspected can be accurately focused.

また、距離センサ59が、撮像ユニット51に対し走査移動する方向(X方向)に間隔をあけて設けられるので、距離センサ59がワーク表面までの距離を測定した位置に撮像ユニット51が達するまで、時間の猶予(時間差)が生じる。
制御部4はこの猶予時間の間に、撮像ユニット51の光軸L方向(Z方向)移動距離を演算できるので、走査(X方向)移動の速度を早くしても、撮像ユニットを焦点距離Fに移動させ、結像したパターン画像を取得でき、検査処理時間の短縮化を図ることができる。
In addition, since the distance sensor 59 is provided at an interval in the scanning movement direction (X direction) with respect to the imaging unit 51, until the imaging unit 51 reaches the position where the distance sensor 59 measures the distance to the workpiece surface. There is a time delay.
Since the control unit 4 can calculate the movement distance of the imaging unit 51 in the optical axis L direction (Z direction) during this grace period, the imaging unit can be moved to the focal length F even if the scanning (X direction) movement speed is increased. It is possible to obtain a pattern image that has been formed by moving the image to, and to shorten the inspection processing time.

図6は、パターン検査装置の検査部の、第3の実施例の構成を示す図であり、同図を用いて、本発明の第3の実施例について説明する。
なお、図2と同様、反射照明手段21は省略し、また、図2と同じ構成については、同一の符号で示している。
本実施例も、第2の実施例と同様、CCDラインセンサにより画像が取得される位置を、距離センサにより距離測定できるように構成したものである。
FIG. 6 is a diagram showing the configuration of the third embodiment of the inspection unit of the pattern inspection apparatus. The third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
In addition, the reflective illumination means 21 is abbreviate | omitted similarly to FIG. 2, and it has shown with the same code | symbol about the same structure as FIG.
In this embodiment, as in the second embodiment, the position where the image is acquired by the CCD line sensor can be measured by the distance sensor.

距離センサ59は、CCDラインセンサ32の長手方向に直交する方向であって、撮像ユニット51が走査移動される前方方向(X方向前方)に、レンズユニット53からの支柱62により支持されて設けられ、その位置でワーク表面までの距離を測定する。
したがって、第2の実施例と同様に、CCDラインセンサにより画像が取得される位置に対してワークまでの距離の測定ができるが、距離センサは、第1の実施例と同様に、撮像ユニットとともに光軸方向に移動する。
The distance sensor 59 is supported by a support 62 from the lens unit 53 in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the CCD line sensor 32 and in a forward direction (front in the X direction) in which the imaging unit 51 is scanned and moved. Measure the distance to the workpiece surface at that position.
Therefore, as in the second embodiment, the distance to the workpiece can be measured with respect to the position where the image is acquired by the CCD line sensor, but the distance sensor is used together with the image pickup unit as in the first embodiment. Move in the direction of the optical axis.

第2の実施例と同様に、距離センサ59がフィルムワークWまでの距離を測定する位置(センサ位置)から、CCDラインセンサ32によりパターン画像が取得される位置(撮像ユニット52の光軸L)までの間隔Bは、パターン検査装置を製造する際に設定測定され、その値Bは制御部に記憶される。
また、走査移動モータ55と光軸方向移動モータ57には、基準位置(原点位置)と基準位置(原点位置)からの移動距離を検出できるエンコーダ等の機構が設けられる。
Similarly to the second embodiment, the position at which the pattern image is acquired by the CCD line sensor 32 from the position (sensor position) at which the distance sensor 59 measures the distance to the film work W (optical axis L of the imaging unit 52). The interval B is set and measured when manufacturing the pattern inspection apparatus, and the value B is stored in the control unit.
The scanning movement motor 55 and the optical axis direction movement motor 57 are provided with a mechanism such as an encoder that can detect a reference position (origin position) and a movement distance from the reference position (origin position).

図7及び図8は、第3の実施例における撮像ユニットの動作を説明する図であり、以下同図を用いて、パターン撮像時に撮像ユニットをフィルムワークに対して焦点距離に制御する動作について説明する。
第1、第2の実施例と同様に、テストパターンを用い、距離センサ59によりCCDラインセンサ32上にパターン像が結像する焦点距離Fを求め、装置の制御部4に記憶させる。
7 and 8 are diagrams for explaining the operation of the image pickup unit in the third embodiment. Hereinafter, the operation for controlling the image pickup unit to the focal length with respect to the film work at the time of pattern image pickup will be described with reference to FIG. To do.
As in the first and second embodiments, the test pattern is used, and the focal length F at which the pattern image is formed on the CCD line sensor 32 is obtained by the distance sensor 59 and stored in the control unit 4 of the apparatus.

検査が行なわれるフィルムワークWがパターン検査装置にセットされ、フィルムワークWが搬送されて、検査を行なう部分が装置の検査部で停止する。
図7(a)に示すように、走査移動モータ55により、撮像ユニット保持台54がワークWの幅方向(X方向)に移動するが、第2の実施例と同様に、撮像ユニット保持台54の移動は、第2の実施例と同様、パターンの画像取得開始位置に対して、距離B以上手前から移動を開始する必要がある。
The film work W to be inspected is set in the pattern inspection apparatus, the film work W is conveyed, and the part to be inspected stops at the inspection part of the apparatus.
As shown in FIG. 7A, the scanning unit motor 54 moves the imaging unit holding base 54 in the width direction (X direction) of the workpiece W. As in the second embodiment, the imaging unit holding base 54 is moved. As in the second embodiment, it is necessary to start the movement at a distance B or more before the pattern image acquisition start position.

走査移動モータ55の基準位置(原点位置X0)に対する走査方向(X方向)移動距離Xn(X0,X1,X2,X3・・・)が、走査移動モータ55のエンコーダにより検出され、制御部4に送られる。
走査方向(X方向)移動距離Xn(X0,X1,X2,X3・・・)に対応して、距離センサ59が、ワーク表面までの距離An(A0,A1,A2,A3・・・)を測定し、装置の制御部4に送る。
The scanning direction (X direction) moving distance Xn (X0, X1, X2, X3...) Relative to the reference position (origin position X0) of the scanning movement motor 55 is detected by the encoder of the scanning movement motor 55 and is sent to the control unit 4. Sent.
Corresponding to the scanning direction (X direction) moving distance Xn (X0, X1, X2, X3...), The distance sensor 59 determines the distance An (A0, A1, A2, A3...) To the workpiece surface. Measure and send to the control unit 4 of the apparatus.

制御部4は、測定された距離データAnと、記憶している焦点距離Fとを比較し、その差An−F=an(a0,a1,a2,a3・・・)を演算する。
演算されたanは、その時の走査方向(X方向)移動距離Xnに対応して、制御部4の記憶部に記憶される。
また、撮像ユニット保持台54の基準位置(原点位置Z0)に対する光軸L方向(Z方向)移動距離Zn(Z0,Z1,Z2,Z3・・・)も、光軸方向移動モータ57のエンコーダにより検出されて制御部4に送られる。
The control unit 4 compares the measured distance data An and the stored focal length F, and calculates a difference An−F = an (a0, a1, a2, a3...).
The calculated an is stored in the storage unit of the control unit 4 corresponding to the moving distance Xn in the scanning direction (X direction) at that time.
Also, the optical axis L direction (Z direction) movement distance Zn (Z0, Z1, Z2, Z3...) Relative to the reference position (origin position Z0) of the imaging unit holding base 54 is also set by the encoder of the optical axis direction movement motor 57. Detected and sent to the control unit 4.

制御部4は、走査移動距離Xnに対応して、光軸L方向(Z方向)移動距離Znを記憶部に記憶する。
以上により、撮像ユニット保持台54の走査移動距離Xnに対応して、An−Fの値anと光軸L方向(Z方向)移動距離Znが記憶される。
図7(b)に示すように、撮像ユニット保持台54のワーク幅方向への走査移動が続き、走査方向(X方向)移動距離Xが、距離センサ59と撮像ユニットの光軸Lとの間隔Bに達する。即ちX=B=Xbとなる。
The control unit 4 stores the movement distance Zn in the optical axis L direction (Z direction) in the storage unit corresponding to the scanning movement distance Xn.
As described above, the An-F value an and the optical axis L direction (Z direction) movement distance Zn are stored in correspondence with the scanning movement distance Xn of the imaging unit holding base 54.
As shown in FIG. 7B, the scanning movement of the imaging unit holding base 54 in the workpiece width direction continues, and the scanning direction (X direction) moving distance X is the distance between the distance sensor 59 and the optical axis L of the imaging unit. Reach B. That is, X = B = Xb.

この時、制御部4は、X0に対応して記憶しているA0−F値(a0)と、光軸L方向(Z方向)移動距離Z0を呼び出す。
そして、撮像ユニット51の光軸L方向(Z方向)の原点位置Z0から、a0+Z0分だけ、撮像ユニット51が光軸L方向(Z方向)に下降するように、光軸方向移動モータ57を駆動する。
図7(b)においては、Z0=0であり、撮像ユニット51のZ方向移動量はa0となる。
At this time, the control unit 4 calls the A0-F value (a0) stored corresponding to X0 and the movement distance Z0 in the optical axis L direction (Z direction).
Then, the optical axis direction moving motor 57 is driven so that the imaging unit 51 descends in the optical axis L direction (Z direction) from the origin position Z0 of the imaging unit 51 in the optical axis L direction (Z direction) by a0 + Z0. To do.
In FIG. 7B, Z0 = 0, and the moving amount of the imaging unit 51 in the Z direction is a0.

また、図7(b)においては、走査方向(X方向)の移動量はXbであるので、Xbに対応して、この時の距離データabから得られる焦点距離Fとの差abと、Z方向移動距離Zb=a0を記憶する。
以降、撮像ユニット51がワーク幅方向に走査移動されていく。
制御部4は、撮像ユニット保持台54の走査方向(X方向)移動距離Xが、X(b+n)になった時、Xnの値に対応して記憶しているAn−F値anと光軸L方向(Z方向)移動距離Znを呼び出し、撮像ユニット保持台54の原点位置Z0から、an+Zn分だけ、撮像ユニット51を光軸L方向に移動するように、光軸方向移動モータ57を駆動する。
In FIG. 7B, since the amount of movement in the scanning direction (X direction) is Xb, corresponding to Xb, the difference ab from the focal length F obtained from the distance data ab at this time, and Z The direction moving distance Zb = a0 is stored.
Thereafter, the imaging unit 51 is scanned and moved in the workpiece width direction.
When the moving distance X in the scanning direction (X direction) of the imaging unit holding base 54 becomes X (b + n), the control unit 4 stores the An-F value an and the optical axis stored corresponding to the value of Xn. The movement distance Zn in the L direction (Z direction) is called, and the optical axis direction movement motor 57 is driven so as to move the imaging unit 51 in the optical axis L direction from the origin position Z0 of the imaging unit holding base 54 by an + Zn. .

即ち、図8(c)に示すように、例えば、撮像ユニット保持台54がXbから、さらに距離B移動してXmに達すると、制御部4は、Xbの値に対応して記憶しているAb−F値abと、光軸L方向(Z方向)移動距離Zb(=a0+Z0)とを呼び出し、撮像ユニット51が、ab+Zb分だけ光軸L方向に移動するように、光軸方向移動モータ57を駆動する。
これにより、撮像ユニット51は、焦点距離Fに維持される。
That is, as shown in FIG. 8C, for example, when the imaging unit holding base 54 further moves the distance B from Xb and reaches Xm, the control unit 4 stores the value corresponding to the value of Xb. The Ab-F value ab and the optical axis L direction (Z direction) movement distance Zb (= a0 + Z0) are called, and the optical axis direction moving motor 57 is moved so that the imaging unit 51 moves in the optical axis L direction by ab + Zb. Drive.
Thereby, the imaging unit 51 is maintained at the focal length F.

これにより、撮像ユニット51は、パターン画像を撮像する位置において焦点距離Fに維持される。
本実施例の場合、第2の実施例と同様に、CCDラインセンサ32により画像が取得される位置に対し、距離センサ59によりワーク表面までの距離を測定できるので、フィルムワークWの湾曲の量が、ワークの長手方向に対して異なっているような場合であっても、検査するパターンに対して精度よく焦点が合わせられる。
Thereby, the imaging unit 51 is maintained at the focal length F at the position where the pattern image is captured.
In the case of the present embodiment, as in the second embodiment, the distance to the workpiece surface can be measured by the distance sensor 59 with respect to the position where the image is acquired by the CCD line sensor 32. However, even if it differs in the longitudinal direction of the workpiece, the pattern to be inspected can be focused with high accuracy.

また、距離センサ59は、撮像ユニット51に対し走査移動する方向(X方向)に間隔をあけて設けられ、距離センサ59がワーク表面までの距離を測定した位置に撮像ユニット51が達するまで、時間の猶予(時間差)が生じ、制御部4はこの猶予時間の間に、撮像ユニット51の光軸L方向(Z方向)移動距離を演算できるので、走査(X方向)移動の速度を早くしても、撮像ユニットを焦点距離Fに移動させ、結像したパターン画像を取得でき、検査処理時間の短縮化を図ることができる。   The distance sensor 59 is provided with an interval in the scanning movement direction (X direction) with respect to the imaging unit 51, and the time until the imaging unit 51 reaches the position where the distance sensor 59 measures the distance to the workpiece surface. Since the control unit 4 can calculate the movement distance of the imaging unit 51 in the optical axis L direction (Z direction) during this delay time, the scanning (X direction) movement speed is increased. In addition, the imaging unit can be moved to the focal length F, and the formed pattern image can be acquired, so that the inspection processing time can be shortened.

なお、上記実施例では、撮像ユニット51をフィルムワークWに対して焦点位置Fに維持するために、撮像ユニット51を光軸L方向に移動させる機構と動作に関して説明したが、撮像ユニット51の光軸L方向の位置は固定して、フィルムワークWを光軸L方向に移動するようにしても良く、同様の効果を得ることができる。   In the above embodiment, the mechanism and operation for moving the imaging unit 51 in the direction of the optical axis L in order to maintain the imaging unit 51 at the focal position F with respect to the film work W have been described. The position in the direction of the axis L may be fixed, and the film work W may be moved in the direction of the optical axis L, and the same effect can be obtained.

特に、撮像ユニット51は、高解像度が要求されるとレンズユニット53のレンズの枚数が増えるなどして重くなることがあり、そのような場合は、撮像ユニット51をその光軸L方向に移動させるよりも、フィルムワークWを移動させるほうが、駆動機構等の構造が簡単になる。   In particular, when a high resolution is required, the imaging unit 51 may become heavier due to an increase in the number of lenses of the lens unit 53. In such a case, the imaging unit 51 is moved in the optical axis L direction. Rather than moving the film work W, the structure of the drive mechanism and the like is simplified.

図9は、パターン検査装置の検査部の、第4の実施例の構成を示す図であり、同図を用いて、フィルムワークを撮像ユニットの光軸方向に移動させる実施例について説明する。なお、同図において、上記実施例と同じ構成については、同一の符号で示している。
距離センサ59は、上記第2の実施例と同様に、撮像ユニット保持台54上に支柱61により支持され、CCDラインセンサ32の長手方向に直交する方向であって、撮像ユニット51が走査移動される前方方向(X方向前方)に設けられており、その位置でワークW表面までの距離を測定する。
FIG. 9 is a diagram showing the configuration of the fourth embodiment of the inspection unit of the pattern inspection apparatus, and an embodiment in which the film work is moved in the optical axis direction of the imaging unit will be described with reference to FIG. In the figure, the same components as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals.
Similar to the second embodiment, the distance sensor 59 is supported by the support 61 on the imaging unit holding base 54 and is in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the CCD line sensor 32, and the imaging unit 51 is scanned and moved. The distance to the surface of the work W is measured at that position.

また、距離センサ59がフィルムワークWまでの距離を測定する位置(センサ位置)から、CCDラインセンサ32によりパターン画像が取得される位置(撮像ユニット52の光軸L)までの間隔は、パターン検査装置を製造する際に設定測定され、制御部に記憶されている。   The distance from the position where the distance sensor 59 measures the distance to the film work W (sensor position) to the position where the pattern image is acquired by the CCD line sensor 32 (optical axis L of the imaging unit 52) is determined by pattern inspection. The setting is measured when the device is manufactured, and stored in the control unit.

上記第1から第3の実施例とは異なり、撮像ユニット保持台54には、走査移動モータ55のみが設けられ、走査移動モータ55によって撮像ユニット保持台54がレール56に沿って移動することにより、撮像ユニット51はフィルムワークWの幅方向(X方向)に走査移動する。
なお、走査移動モータ55にはエンコーダ等を取り付けられており、X方向に関する基準位置(原点位置)と、基準位置(原点位置)からの移動距離が検出される。
Unlike the first to third embodiments, the imaging unit holding base 54 is provided with only the scanning movement motor 55, and the scanning movement motor 55 moves the imaging unit holding base 54 along the rail 56. The imaging unit 51 scans and moves in the width direction (X direction) of the film work W.
An encoder or the like is attached to the scanning movement motor 55, and a reference position (origin position) in the X direction and a movement distance from the reference position (origin position) are detected.

検査部5のフィルムワークWの幅方向両側には、ワークWの両端(エッジ)を保持し、ワークWを幅方向に引っ張ってテンションを与えるワークエッジ保持機構90が、一つのプレート91上に設けられている。なお、このワークエッジ保持機構90については、例えば特願2004−197595に詳しい構成例が示されている。
プレート91には、プレート91を撮像ユニット51の光軸L方向(Z方向)に移動させるプレート移動機構92が設けられ、プレート91が移動することにより、ワークエッジ保持機構90が光軸L方向(Z方向)する。
Work edge holding mechanisms 90 that hold both ends (edges) of the workpiece W and apply tension by pulling the workpiece W in the width direction are provided on one plate 91 on both sides in the width direction of the film workpiece W of the inspection unit 5. It has been. The work edge holding mechanism 90 has a detailed configuration example shown in, for example, Japanese Patent Application No. 2004-197595.
The plate 91 is provided with a plate moving mechanism 92 that moves the plate 91 in the direction of the optical axis L (Z direction) of the imaging unit 51. By moving the plate 91, the work edge holding mechanism 90 is moved in the direction of the optical axis L ( Z direction).

したがって、ワークエッジ保持機構90がフィルムワークWを保持した状態で光軸L方向(Z方向)に移動することにより、フィルムワークWは、撮像ユニット51に対し接近または離間する。
続いて、パターン撮像時にフィルムワークを撮像ユニットに対して焦点距離に制御する動作について説明する。
Therefore, the film work W approaches or separates from the imaging unit 51 by moving in the optical axis L direction (Z direction) while the work edge holding mechanism 90 holds the film work W.
Next, an operation for controlling the film work to the focal length with respect to the imaging unit at the time of pattern imaging will be described.

上記実施例と同様に、撮像ユニット51と距離センサ59の下方にテストパターンが形成された平面板を置き、距離センサ59によりCCDラインセンサ32上にパターン像が結像する焦点距離が求められ、装置の制御部に記憶される。
検査が行なわれるフィルムワークWがパターン検査装置にセットされ、フィルムワークWが搬送されて、検査を行なう部分が装置の検査部で停止する。
As in the above embodiment, a flat plate on which a test pattern is formed is placed below the imaging unit 51 and the distance sensor 59, and the focal length at which the pattern image is formed on the CCD line sensor 32 is obtained by the distance sensor 59. It is stored in the control unit of the apparatus.
The film work W to be inspected is set in the pattern inspection apparatus, the film work W is conveyed, and the part to be inspected stops at the inspection part of the apparatus.

ワークエッジ保持機構90がフィルムワークWの幅方向両端(エッジ)を保持する。ワークエッジ保持機構90がワークWの幅方向に微小移動し、ワークWの幅方向に対してテンションを与え、ワークWの幅方向に発生している弛みを低減させる。
走査移動モータ55が動作して、撮像ユニット保持台54がワークの幅方向(X方向)に移動する。
The work edge holding mechanism 90 holds both ends (edges) of the film work W in the width direction. The workpiece edge holding mechanism 90 moves slightly in the width direction of the workpiece W, applies tension to the width direction of the workpiece W, and reduces slack generated in the width direction of the workpiece W.
The scanning movement motor 55 operates to move the imaging unit holding base 54 in the workpiece width direction (X direction).

第2の実施例と同様に、走査移動モータ55の基準位置(原点位置)に対する走査方向(X方向)移動距離が、走査移動モータ55のエンコーダにより検出され、制御部4に送られる。
走査方向(X方向)移動距離に対応して、距離センサ59が、ワーク表面までの距離を測定し、装置の制御部4に送る。
As in the second embodiment, the scanning movement (X direction) movement distance with respect to the reference position (origin position) of the scanning movement motor 55 is detected by the encoder of the scanning movement motor 55 and sent to the control unit 4.
Corresponding to the moving distance in the scanning direction (X direction), the distance sensor 59 measures the distance to the workpiece surface and sends it to the control unit 4 of the apparatus.

制御部4は、測定された距離データと、記憶している焦点距離とを比較してその差を演算し、その時の走査方向(X方向)移動距離に対応して、制御部4の記憶部に記憶する。
そして、撮像ユニット51がX方向に移動して、焦点距離との差が演算された位置に到達すると、制御部4は記憶していた焦点距離との差を呼び出し、プレート移動機構92を駆動し、プレート91を撮像ユニット51の光軸L方向(Z方向)に、焦点距離との差に相当する距離分だけ移動させる。
The control unit 4 compares the measured distance data with the stored focal length, calculates the difference, and corresponds to the moving distance in the scanning direction (X direction) at that time, the storage unit of the control unit 4 To remember.
When the imaging unit 51 moves in the X direction and reaches a position where the difference from the focal length is calculated, the control unit 4 calls the difference from the stored focal length and drives the plate moving mechanism 92. The plate 91 is moved in the optical axis L direction (Z direction) of the imaging unit 51 by a distance corresponding to the difference from the focal length.

プレート91が移動することにより、ワークエッジ保持機構90とそれに保持されているフィルムワークWが、撮像ユニット51の光軸L方向(Z方向)に移動し、その結果フィルムワークWは、撮像ユニット51に対し焦点距離に位置する。   As the plate 91 moves, the work edge holding mechanism 90 and the film work W held thereon move in the optical axis L direction (Z direction) of the image pickup unit 51, and as a result, the film work W moves to the image pickup unit 51. Is located at the focal length.

以降、撮像ユニット51のワーク幅方向(X方向)への走査移動に応じて、距離センサ59によるワーク表面までの距離測定、制御部4による測定された距離と焦点距離との差の演算と記憶、プレート移動機構92によるフィルムワークWの光軸L方向(Z方向)の移動を繰り返すことにより、フィルムワークWは、パターン画像を撮像する位置において、撮像ユニット51に対し焦点距離に維持される。   Thereafter, according to the scanning movement of the imaging unit 51 in the workpiece width direction (X direction), the distance sensor 59 measures the distance to the workpiece surface, and calculates and stores the difference between the distance measured by the control unit 4 and the focal length. By repeating the movement of the film work W in the optical axis L direction (Z direction) by the plate moving mechanism 92, the film work W is maintained at the focal length with respect to the imaging unit 51 at the position where the pattern image is taken.

本発明の実施例であるフィルムワークのパターン検査装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the pattern inspection apparatus of the film work which is an Example of this invention. パターン検査装置の検査部の詳細な構成を示す図(第1の実施例)である。It is a figure (1st Example) which shows the detailed structure of the test | inspection part of a pattern inspection apparatus. 第1の実施例における撮像ユニットの動作を説明する図である。It is a figure explaining operation | movement of the imaging unit in a 1st Example. パターン検査装置の検査部の詳細な構成を示す図(第2の実施例)である。It is a figure (2nd Example) which shows the detailed structure of the test | inspection part of a pattern inspection apparatus. 第2の実施例における撮像ユニットの動作を説明する図である。It is a figure explaining operation | movement of the imaging unit in a 2nd Example. パターン検査装置の検査部の詳細な構成を示す図(第3の実施例)である。It is a figure (3rd Example) which shows the detailed structure of the test | inspection part of a pattern inspection apparatus. 第3の実施例における撮像ユニットの動作を説明する図(その1)である。It is FIG. (1) explaining operation | movement of the imaging unit in a 3rd Example. 第3の実施例における撮像ユニットの動作を説明する図(その2)である。It is FIG. (2) explaining operation | movement of the imaging unit in a 3rd Example. パターン検査装置の検査部の詳細な構成を示す図(第4の実施例)である。It is a figure (4th Example) which shows the detailed structure of the test | inspection part of a pattern inspection apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

10 フィルムワーク搬送機構
11 送り出しリール
12 巻き取りリール
21 反射照明手段
22 透過照明手段
3 マーカ部
4 制御部
5 検査部
51 撮像ユニット
52 CCDラインセンサ
53 レンズユニット
54 撮像ユニット保持台
55 走査移動モータ
56 レール
57 光軸方向移動モータ
58 シャフト
59 距離センサ
61,62 支柱
71 搬送ローラ
72 ブレーキローラ
80 走査手段
90 ワークエッジ保持機構
91 プレート
92 プレート移動機構
F 撮像ユニットの焦点距離
W フィルムワーク
L 撮像ユニットの光軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Film work conveyance mechanism 11 Delivery reel 12 Take-up reel 21 Reflection illumination means 22 Transmission illumination means 3 Marker part 4 Control part 5 Inspection part 51 Imaging unit 52 CCD line sensor 53 Lens unit 54 Imaging unit holding stand 55 Scanning movement motor 56 Rail 57 optical axis direction moving motor 58 shaft 59 distance sensor 61, 62 support 71 conveying roller 72 brake roller 80 scanning means 90 work edge holding mechanism 91 plate 92 plate moving mechanism F focal length of imaging unit W film work L optical axis of imaging unit

Claims (3)

長尺状のフィルムワークの幅方向に撮像ユニットを走査し、該フィルムワーク上に形成されたパターンの画像を取得して検査するフィルムワークのパターン検査装置において、
上記撮像ユニットは、上記フィルムワークの長手方向に沿って配置されたラインセンサである撮像素子と、該撮像素子に上記フィルムワーク上のパターンを投影する光学素子とからなり、
上記撮像ユニットを上記フィルムワークの幅方向に移動させる走査移動機構と、上記撮像ユニットを撮像ユニットの光軸方向に移動させる光軸方向移動機構と、上記走査移動機構により上記撮像ユニットとともに走査移動しつつ上記フィルムワークまでの距離を測定する距離センサと、上記距離センサからの距離情報に基づき上記光軸方向移動機構を駆動し上記撮像ユニットを上記フィルムワークに対して焦点距離に保つ制御部とを備えたことを特徴とするフィルムワークのパターン検査装置。
In a film work pattern inspection apparatus that scans an image pickup unit in the width direction of a long film work, acquires and inspects an image of a pattern formed on the film work,
The imaging unit includes an imaging element that is a line sensor arranged along the longitudinal direction of the film work, and an optical element that projects a pattern on the film work onto the imaging element.
A scanning movement mechanism for moving the imaging unit in the width direction of the film work, an optical axis direction moving mechanism for moving the imaging unit in the optical axis direction of the imaging unit, and a scanning movement mechanism together with the imaging unit. A distance sensor that measures the distance to the film work, and a controller that drives the optical axis direction moving mechanism based on distance information from the distance sensor and maintains the imaging unit at a focal length with respect to the film work. A film work pattern inspection apparatus comprising:
長尺状のフィルムワークの幅方向に撮像ユニットを走査し、該フィルムワーク上に形成されたパターンの画像を取得して検査するフィルムワークのパターン検査装置において、
上記撮像ユニットは、上記フィルムワークの長手方向に沿って配置されたラインセンサである撮像素子と、該撮像素子に上記フィルムワーク上のパターンを投影する光学素子とからなり、
上記撮像ユニットを上記フィルムワークの幅方向に移動させる走査移動機構と、上記フィルムワークの幅方向両端を保持するワーク保持機構と、上記ワーク保持機構を撮像ユニットの光軸方向に移動させる光軸方向移動機構と、上記走査移動機構により上記撮像ユニットとともに走査移動しつつ上記フィルムワークまでの距離を測定する距離センサと、上記距離センサからの距離情報に基づき上記ワーク保持機構が上記フィルムワークを保持した状態で上記光軸方向移動機構を駆動し上記撮像ユニットを上記フィルムワークに対して焦点距離に保つ制御部とを備えたことを特徴とするフィルムワークのパターン検査装置。
In a film work pattern inspection apparatus that scans an image pickup unit in the width direction of a long film work, acquires and inspects an image of a pattern formed on the film work,
The imaging unit includes an imaging element that is a line sensor arranged along the longitudinal direction of the film work, and an optical element that projects a pattern on the film work onto the imaging element.
A scanning movement mechanism that moves the imaging unit in the width direction of the film work, a work holding mechanism that holds both ends of the film work in the width direction, and an optical axis direction that moves the work holding mechanism in the optical axis direction of the imaging unit A moving mechanism, a distance sensor that measures the distance to the film work while scanning and moving together with the imaging unit by the scanning movement mechanism, and the work holding mechanism holds the film work based on distance information from the distance sensor. A film work pattern inspection apparatus comprising: a controller that drives the optical axis direction moving mechanism in a state to keep the imaging unit at a focal length with respect to the film work.
上記距離センサは、上記CCDラインセンサの長手方向に対し直交する方向であり、かつ上記撮像ユニットが走査移動される前方方向に設けられていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のフィルムワークのパターン検査装置。
3. The distance sensor according to claim 1, wherein the distance sensor is provided in a direction perpendicular to a longitudinal direction of the CCD line sensor and in a forward direction in which the imaging unit is scanned and moved. Filmwork pattern inspection equipment.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008232923A (en) * 2007-03-22 2008-10-02 Fujikura Ltd System and method for inspecting printed wiring board
JP2012073036A (en) * 2010-09-27 2012-04-12 Hitachi High-Technologies Corp Glass substrate defect checkup device and glass substrate defect checkup method
CN103026211A (en) * 2010-07-16 2013-04-03 3M创新有限公司 High resolution autofocus inspection system
JP2014126479A (en) * 2012-12-27 2014-07-07 Toyota Motor Corp Film inspection method and film inspection apparatus
JPWO2017146202A1 (en) * 2016-02-25 2018-03-29 大日本印刷株式会社 Three-dimensional shape data and texture information generation system, photographing control program, and three-dimensional shape data and texture information generation method
CN108362205A (en) * 2017-11-14 2018-08-03 沈阳工业大学 Space ranging method based on fringe projection
KR20190089296A (en) * 2018-01-22 2019-07-31 현대제철 주식회사 Apparatus for controlling surface defect detection and method thereof
WO2020208981A1 (en) * 2019-04-11 2020-10-15 住友化学株式会社 Testing device, testing method, and manufacturing method for film

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4257863B2 (en) * 2007-02-13 2009-04-22 東レエンジニアリング株式会社 Automatic visual inspection equipment

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6375507A (en) * 1986-09-19 1988-04-05 Toshiba Corp Measuring instrument for recessed hole
JPH0290047A (en) * 1988-09-28 1990-03-29 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Apparatus for monitoring quality of paper
JPH10325705A (en) * 1997-05-26 1998-12-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Length measuring method and table shaped length measuring apparatus using the same
JP2002372503A (en) * 2001-06-14 2002-12-26 V Technology Co Ltd Device and method for inspecting tape
JP2003075115A (en) * 2001-09-03 2003-03-12 Shibaura Mechatronics Corp Substrate inspection device and substrate inspection method
JP2004028597A (en) * 2002-06-21 2004-01-29 Ushio Inc Pattern inspecting apparatus

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07270129A (en) * 1994-03-30 1995-10-20 Kawasaki Steel Corp Detection apparatus of sheet width and meandering amount of sheet material
JP3326961B2 (en) * 1994-05-12 2002-09-24 日産自動車株式会社 Paint film thickness measuring device
JP2004028792A (en) 2002-06-26 2004-01-29 Nippon Sheet Glass Co Ltd Non-contact sectional shape measurement method and measurement device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6375507A (en) * 1986-09-19 1988-04-05 Toshiba Corp Measuring instrument for recessed hole
JPH0290047A (en) * 1988-09-28 1990-03-29 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Apparatus for monitoring quality of paper
JPH10325705A (en) * 1997-05-26 1998-12-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Length measuring method and table shaped length measuring apparatus using the same
JP2002372503A (en) * 2001-06-14 2002-12-26 V Technology Co Ltd Device and method for inspecting tape
JP2003075115A (en) * 2001-09-03 2003-03-12 Shibaura Mechatronics Corp Substrate inspection device and substrate inspection method
JP2004028597A (en) * 2002-06-21 2004-01-29 Ushio Inc Pattern inspecting apparatus

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008232923A (en) * 2007-03-22 2008-10-02 Fujikura Ltd System and method for inspecting printed wiring board
CN103026211A (en) * 2010-07-16 2013-04-03 3M创新有限公司 High resolution autofocus inspection system
JP2012073036A (en) * 2010-09-27 2012-04-12 Hitachi High-Technologies Corp Glass substrate defect checkup device and glass substrate defect checkup method
JP2014126479A (en) * 2012-12-27 2014-07-07 Toyota Motor Corp Film inspection method and film inspection apparatus
JPWO2017146202A1 (en) * 2016-02-25 2018-03-29 大日本印刷株式会社 Three-dimensional shape data and texture information generation system, photographing control program, and three-dimensional shape data and texture information generation method
US10571254B2 (en) 2016-02-25 2020-02-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Three-dimensional shape data and texture information generating system, imaging control program, and three-dimensional shape data and texture information generating method
CN108362205A (en) * 2017-11-14 2018-08-03 沈阳工业大学 Space ranging method based on fringe projection
KR20190089296A (en) * 2018-01-22 2019-07-31 현대제철 주식회사 Apparatus for controlling surface defect detection and method thereof
KR102012121B1 (en) * 2018-01-22 2019-08-19 현대제철 주식회사 Apparatus for controlling surface defect detection and method thereof
WO2020208981A1 (en) * 2019-04-11 2020-10-15 住友化学株式会社 Testing device, testing method, and manufacturing method for film
JP2020173188A (en) * 2019-04-11 2020-10-22 住友化学株式会社 Inspection device, inspection method, and film manufacturing method
CN113646624A (en) * 2019-04-11 2021-11-12 住友化学株式会社 Inspection device, inspection method, and film manufacturing method

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