JP2006139900A - 内部発生されたプログラミング電圧を用いてアンチヒューズをプログラムする方法及び装置 - Google Patents
内部発生されたプログラミング電圧を用いてアンチヒューズをプログラムする方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006139900A JP2006139900A JP2005316047A JP2005316047A JP2006139900A JP 2006139900 A JP2006139900 A JP 2006139900A JP 2005316047 A JP2005316047 A JP 2005316047A JP 2005316047 A JP2005316047 A JP 2005316047A JP 2006139900 A JP2006139900 A JP 2006139900A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- voltage
- antifuse
- capacitor
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 89
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 12
- 230000000630 rising Effects 0.000 claims description 4
- 230000001808 coupling Effects 0.000 claims 15
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims 15
- 238000005859 coupling reactions Methods 0.000 claims 15
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 3
- 239000000463 materials Substances 0.000 claims 2
- 230000003334 potential Effects 0.000 claims 1
- AHKZTVQIVOEVFO-UHFFFAOYSA-N oxide(2-) Chemical compound data:image/svg+xml;base64,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 data:image/svg+xml;base64,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 [O-2] AHKZTVQIVOEVFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagrams Methods 0.000 description 5
- 239000010410 layers Substances 0.000 description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 4
- 239000000758 substrates Substances 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric materials Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating materials Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulators Substances 0.000 description 1
- 238000000034 methods Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006011 modification reactions Methods 0.000 description 1
- TWXTWZIUMCFMSG-UHFFFAOYSA-N nitride(3-) Chemical compound data:image/svg+xml;base64,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 data:image/svg+xml;base64,PD94bWwgdmVyc2lvbj0nMS4wJyBlbmNvZGluZz0naXNvLTg4NTktMSc/Pgo8c3ZnIHZlcnNpb249JzEuMScgYmFzZVByb2ZpbGU9J2Z1bGwnCiAgICAgICAgICAgICAgeG1sbnM9J2h0dHA6Ly93d3cudzMub3JnLzIwMDAvc3ZnJwogICAgICAgICAgICAgICAgICAgICAgeG1sbnM6cmRraXQ9J2h0dHA6Ly93d3cucmRraXQub3JnL3htbCcKICAgICAgICAgICAgICAgICAgICAgIHhtbG5zOnhsaW5rPSdodHRwOi8vd3d3LnczLm9yZy8xOTk5L3hsaW5rJwogICAgICAgICAgICAgICAgICB4bWw6c3BhY2U9J3ByZXNlcnZlJwp3aWR0aD0nODVweCcgaGVpZ2h0PSc4NXB4JyB2aWV3Qm94PScwIDAgODUgODUnPgo8IS0tIEVORCBPRiBIRUFERVIgLS0+CjxyZWN0IHN0eWxlPSdvcGFjaXR5OjEuMDtmaWxsOiNGRkZGRkY7c3Ryb2tlOm5vbmUnIHdpZHRoPSc4NScgaGVpZ2h0PSc4NScgeD0nMCcgeT0nMCc+IDwvcmVjdD4KPHRleHQgZG9taW5hbnQtYmFzZWxpbmU9ImNlbnRyYWwiIHRleHQtYW5jaG9yPSJzdGFydCIgeD0nMjkuNTA2JyB5PSc0OC4zNzUnIHN0eWxlPSdmb250LXNpemU6MzhweDtmb250LXN0eWxlOm5vcm1hbDtmb250LXdlaWdodDpub3JtYWw7ZmlsbC1vcGFjaXR5OjE7c3Ryb2tlOm5vbmU7Zm9udC1mYW1pbHk6c2Fucy1zZXJpZjtmaWxsOiM0Mjg0RjQnID48dHNwYW4+TjwvdHNwYW4+PHRzcGFuIHN0eWxlPSdiYXNlbGluZS1zaGlmdDpzdXBlcjtmb250LXNpemU6MjguNXB4Oyc+LTM8L3RzcGFuPjx0c3Bhbj48L3RzcGFuPjwvdGV4dD4KPC9zdmc+Cg== [N-3] TWXTWZIUMCFMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductors Substances 0.000 description 1
- 230000011664 signaling Effects 0.000 description 1
- 230000001960 triggered Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
- G11C17/14—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards in which contents are determined by selectively establishing, breaking or modifying connecting links by permanently altering the state of coupling elements, e.g. PROM
- G11C17/18—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
-
- H—ELECTRICITY
- H01—BASIC ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Abstract
【解決手段】アンチヒューズのためのプログラミング回路は、非プログラミング期間中にキャパシタを電源電圧に帯電するブート回路を利用する。アンチヒューズがプログラムされるべきとき、電源電圧が印加されるキャパシタのプレートが0に切替えられ、これによって、キャパシタのもう一方のプレートを負電圧とする。この負電圧はアンチヒューズの一方のプレートに切替えられ、アンチヒューズのもう一方のプレートは外部源から正電圧を受ける。これにより、集積回路のいずれのノードに印加されるいずれの電圧よりも大きな電圧が、アンチヒューズの両端にわたって印加される。
【選択図】図1
Description
本発明は半導体回路のアンチヒューズをプログラム(プログラミング)することに関し、更に言えば、十分に高い電圧を用いてアンチヒューズをプログラムして、集積回路の他の素子に過度なストレスを与えることなく、一様に低抵抗であるプログラムされたアンチヒューズを提供する方法及び装置に関する。
アンチヒューズは従来の集積回路における一般的な構成部品である。アンチヒューズは、それがプログラムされるまでは通常、開回路とされた回路素子であり、プログラムされた時点では、アンチヒューズは比較的低抵抗を仮定している。アンチヒューズは、一般に、集積回路のある特性を選択的にイネイブルして(動作可能として)、集積回路の修復を行うために使用される。集積回路の修復は、一般に、アンチヒューズを「ブローイング(blowing)」して、冗長回路と置換されるべき集積回路の欠陥部分に信号を送ることによって達成される。例えば、ダイナミックランダムアクセスメモリのアレイ中のメモリセルの欠陥のある行(ロー)は、この目的で設けられたセルの冗長ローと置換され得る。
従来のアンチヒューズは、その構成に関しては、キャパシタと同様のものである。更に言えば、それらは誘電体若しくは絶縁体によって互いに分離された一対の導電性プレートを含んでいるという点において同様のものである。アンチヒューズは、一般に、例えば、酸化物若しくは窒化物である誘電体の特性によって特徴付けられている。アンチヒューズは、プレート間の差電圧を印加することによってプログラムされ、若しくは、「ブロー」される。ここで、この差電圧は誘電体を破壊するのに十分なものであり、これにより、それらのプレートを互いに接触させてしまう。一般に、この比較的高いプログラミング電圧は、通常は他の目的のために使用される端子を通じて外部でチップに印加される。例えば、DRAMでは、高電圧は、データビット端子の1つに、集積回路がプログラミングモードにされた後に、例えば所定のビットの組み合わせを集積回路の他の端子に印加することによって印加される。
上に述べた従来のアンチヒューズは多くの用途で良好に機能するものであったが、それにもかかわらず、それらのアンチヒューズは、特に、最近の高密度集積回路で使用されるときは幾つかの欠点を有する。特に、アンチヒューズのプログラムされた抵抗(以下、プログラム抵抗という)は、かなりの範囲にわたって変化し、このプログラム抵抗は、しばしば所望とされたものより非常に高くなってしまう。例えば、ときどき、このプログラム抵抗は、アンチヒューズに接続された回路素子がアンチヒューズは開回路とされていると誤って判断するに十分なほど高い。一般に、高めの電圧を有するプログラミングアンチヒューズは、プログラム抵抗を低下させるとともに、より一様な抵抗を与えることが知られている。しかしながら、アンチヒューズに印加され得るプログラミング電圧の大きさは、集積回路の他の回路素子の存在によってかなり制限される。特に、プログラミング電圧が印加される端子は、一般に、他の機能のために使用されるものであるから、余分なプログラミング電圧によって、そのような端子に接続されているMOSFETのゲート酸化物層は容易に破壊されてしまい、これによりそのようトランジスタは欠陥を有するものとなる。MOSFETのゲート酸化物層を破壊するプログラミング電圧は、一般的な集積回路の作動電圧の幅広い範囲によって悪化される。例えば、最近の集積回路は、電力消費を最小とするために3.3ボルトの電源電圧で動作し得るが、それらはいまだに、一般に使用される5ボルトの電源電圧で動作し得るものでなければならない。
余分なプログラミング電圧はまた、集積回路の入力端子に接続されて集積回路の残りの構成部品に静電放電(「ESD」)保護を提供するバイポーラトランジスタの放電開始電圧を超えてしまうこともある。この問題はバイポーラESD保護トランジスタの放電開始電圧を増加させることによってある程度は軽くされるが、これを行うことによって、ESD保護のセーフティマージンは減少してしまう。MOSFETのゲート酸化物層を破壊してしまうこと、および、バイポーラESD保護トランジスタの放電開始電圧を超えてしまうことの問題は、プログラムアンチヒューズに専用の端子を用いることによってある程度は軽くされ得るが、それにもかかわらず、この問題は残る。なぜなら、プログラミング電圧を集積回路基板から隔離することは困難であろうからである。プログラミング電圧が集積回路基板に結合されている場合、かりにプログラミング電圧がトランジスタのゲートに直接的には印加されないとしても、余分な電圧はいまだにMOSFETのゲート酸化物層にわたって結合され得る。
アンチヒューズの状態をプログラムし且つ読み出すための従来の回路10が図1に示されている。図1に示されているように、アンチヒューズ12は、そのゲートは回路グラウンドCGRN入力に接続され、そのソースとドレインは互いに接続されているようなゲート、ソース、およびドレインを有するNMOSトランジスタ12の形態とされている。しかしながら、誘電体によって分離されている平行プレートのような他の様々なアンチヒューズもまた、図1に示された回路を用いてプログラムされ読み出され得る。回路10はまた、NORゲート14の入力に付与されるアクティブな(能動状態の)低プログラミング入力PRG*とアクティブな(能動状態の)低アドレス整合入力AM*も受け取る。NORゲート14の出力は、NMOSトランジスタ18を通じてグラウンドとアンチヒューズ12の間に接続されたNMOSトランジスタ16のゲートに付与される。NMOSトランジスタ18のゲートは電源電圧にバイアスされることから、NMOSトランジスタ16が導通しているときはいつでも、NMOSトランジスタ18は導通している。しかしながら、通常の動作中は、PRG*及び/またはAM*は高く、このため、NMOSトランジスタ16をオフ状態としてアンチヒューズをグラウンドから効果的に隔離する。
通常の動作では、回路グラウンドCGRN入力はグラウンドに接続される。アンチヒューズ12の状態は、高ヒューズ読出「FR」入力をNMOSトランジスタ30へ入力することによって読み出される。NMOSトランジスタ30のドレインは、PMOSトランジスタ32のドレインに接続されているのであるが、それはバイアスされていることから、それは本質的には電源電圧とNMOSトランジスタ30のドレインとの間に接続された抵抗として働く。したがって、ヒューズ読出FR入力が高くなったとき、NMOSトランジスタ30は、PMOSトランジスタ32を通じて電源電圧をアンチヒューズ12に印加する。よって、PMOSトランジスタ32とアンチヒューズ12は、本質的には、インバータ40の入力に接続されたPMOSトランジスタ32のドレインにおいて出力を有する電圧ディバイダを形成する。
PMOSトランジスタ32のチャンネル長さ:幅の比は、アンチヒューズ12がブローされたときに低い論理レベルがインバータ40の入力へ付与されるように選択される。逆に、アンチヒューズ12がブローされないときは、高い論理レベルがインバータ40の入力に付与される。インバータ40のFOUT出力は、こうして、高ヒューズ読出FR入力が回路10に付与されたときにアンチヒューズ12の状態の指示を与える。
アンチヒューズ12がプログラムされるべきとき、プログラムPRG*とアドレス整合AM*入力は共に低くされ、これにより、NORゲート14は論理高を出力する。この論理高はNMOSトランジスタ16をオン状態とし、これにより、NMOSトランジスタ18を通じて、NMOSトランジスタのソースとドレインによって形成されたアンチヒューズ12のプレートをグラウンドに接続する。正電圧がその後、回路グラウンドCGRN入力へ印加され、これにより、アンチヒューズ12両端にわたる電圧を回路グラウンドCGRN入力へ印加されたプログラミング電圧の値に等しくする。
図1に示された従来の回路素子は、アンチヒューズ12とインタフェース接続する付加的な回路素子へ一体化されることは理解されよう。しかしながら、この付加的な回路素子は簡潔化および明確化のため省略されている。
図1に示された従来の回路10の主な欠点は、アンチヒューズ12両端における差分電圧が回路グラウンドCGRN入力に印加されるプログラミング電圧の値に制限されることである。プログラミング電圧を十分に増加させて、比較的低い抵抗に向けてアンチヒューズ12を一様にプログラムした場合、このプログラミング電圧は、集積回路のMOSFET(図示されていない)のゲート酸化物層を破壊してしまうことが多く、また、バイポーラ静電放電保護(「ESD」)トランジスタの放電開始電圧より大きくされることから、トランジスタはそのプログラミング電圧をESDトランジスタのスナップバック電圧に制限しなければならなくなる。
故に、アンチヒューズを、集積回路の他の構成部品に損傷を与えずに比較的高い電圧を用いてプログラムする方法および装置が必要とされている。
集積回路に形成されたアンチヒューズをプログラムする本発明の方法および装置によれば、正電圧がアンチヒューズの第1の端子に印加され、負電圧がアンチヒューズの第2の端子に印加される。この結果、アンチヒューズの第1の端子と第2の端子の両端に印加される電圧は、正電圧若しくは負電圧のいずれよりも大きい。正および負電圧のいずれか若しくは双方が、集積回路の外部の源から、若しくは、集積回路の内部の電圧発生器から印加され得る。正若しくは負の電圧は、集積回路電源電圧のような第1の電圧をキャパシタの第1のプレートへ印加し、一方、キャパシタの第2のプレートはグラウンドのような第2の電圧に保持されることによって、内部で発生され得る。キャパシタが帯電された後に、キャパシタの第1のプレートは、グラウンドのような第3の電圧へ切り換えられ、キャパシタの第2のプレートはアンチヒューズに接続される。キャパシタは、好ましくは、プログラム制御信号を受け取る入力とキャパシタの第1のプレートに接続された出力とを有する第1のインバータを含んだブート回路によって帯電される。第1のインバータは、キャパシタの第1のプレートを、プログラム制御信号がアクティブでないとき(能動でないとき)は電源電圧へ、プログラム制御信号がアクティブであるとき(能動であるとき)はグラウンド電位へ結合する。第1の切替え回路は、キャパシタの第2のプレートへ接続される。この第1の切替え回路は、第2のインバータによって発生された第1の制御信号に応答して、キャパシタの第2のプレートをグラウンド電位に結合する。第2のインバータは、プログラム制御信号を受け取る入力と、このプログラム制御信号がアクティブでないときに第1の切替え回路に第1の制御信号を与える出力とを有する。第2の切替え回路は、プログラム制御信号を受け取る入力を有する。この第2の切替え回路は、プログラム制御信号がアクティブである時間の少なくとも一部の時間中に、キャパシタの第2のプレートをアンチヒューズの第2の端子に接続する。ブート回路はまた、好ましくは、アンチヒューズの第2の端子とグラウンドとの間に接続されたクランプ回路を含む。クランプ回路は、アンチヒューズを通じて帯電されている第1のキャパシタに応答して、アンチヒューズの第2の端子における電圧が実質的にグラウンド電位よりも上昇してしまうことを防止する。
集積回路アンチヒューズをプログラムするための本発明の方法および装置は、どのようなタイプの集積回路においても使用され得るが、コンピュータシステムの一部としてもよいダイナミックランダムアクセスメモリで用いるのに有利である。また、本発明の方法および装置は、MOSFETによって形成されるアンチヒューズや、誘電若しくは絶縁物質によって互いに分離された導電性プレートによって形成されるアンチヒューズを含めた、あらゆるタイプのアンチヒューズをプログラムするために使用され得る。
本発明のプログラミングシステム50の好ましい実施形態のブロック図が図2に示されている。図1の従来の回路と同様に、本発明のプログラミング回路50は、NORゲート52を用いて、アクティブな低プログラミング入力PROG*とアクティブな低アドレス整合入力AM*を受け取りデコードする。NORゲート52の出力は、アンチヒューズ12がプログラムされるべきときに、ブート回路54をトリガし、これにより、アンチヒューズ12の1つのプレートへ負電圧を出力する。アンチヒューズ12の反対側のプレートは、回路50の回路グラウンドCGRN入力に接続される。重要なことは、ブート回路54は集積回路の内部で負電圧を発生することである。この結果、アンチヒューズ12両端の電圧差は、集積回路に存在するいずれの電圧よりも大きなものとなり得る。例えば、5ボルトの正信号を回路グラウンド入力CGRNに付与し、ブート回路54が3ボルトの負信号をアンチヒューズ12の他方のプレートに付与することにより、アンチヒューズ12のプレート両端に8ボルトの差を与えることができる。
重要なことは、基板がグラウンドでバイアスされる場合、つまり、アンチヒューズに印加されるプログラミング電圧よりも3ボルト小さい場合に、集積回路のいずれかの他の構成部品に印加される最大電圧が5ボルトであることである。この結果、本発明のプログラミングシステム50は、集積回路の他の回路素子を危険にさらすことなく、アンチヒューズ12を比較的低い抵抗に向けて一様にプログラムすることができる。
図2に示された好ましい実施形態は、NORゲートを用いてプログラミングおよびアドレス整合信号をデコードすることによってトリガされるブート回路54を用いているが、他の技術を使用できることは当業者には明らかであろう。例えば、NORゲート52以外のゲートが使用されてもよく、アンチヒューズ12がプログラムされるべきであることを指示するために2つ若しくは3つ以上の入力信号をデコードする必要がないような、いずれかのタイプのゲートを使用する必要もない。更に、ブート回路54は負電圧を発生するが、負電圧が回路グラウンドCGRN入力へ印加される場合には、ブート回路54は正電圧を発生してもよいことは理解されよう。更に、反対極性の電圧が外部で発生されて、アンチヒューズ12に印加されてもよい。
図2に示されたシステムを実施するためのアンチヒューズプログラミング回路の好ましい実施形態が図3に示されている。図3の回路は、図2のNORゲート52と図2のアンチヒューズ12を用いており、これらの構成部品はそれ故、図3では同じ参照番号で示されている。アンチヒューズ12がプログラムされていないとき、回路グラウンドCGND入力は0ボルトのような低い電位にある。またアクティブな低プログラミング入力PROG*は高く、アドレス整合は存在しないことから、アクティブな低アドレス整合入力AM*も高い。したがって、NORゲート52の出力は低く、これにより、2つのインバータ60、62の各々の出力は高くされる。インバータ60の出力における高状態は、キャパシタ64の一方のプレートに付与される。もう一方のインバータ62の出力における高状態は、NMOSトランジスタ68のゲートに付与され、これにより、NMOSトランジスタ68をオン状態とする。トランジスタ68はその後、キャパシタ64のもう一方のプレートをグラウンドに接続する。こうして、アンチヒューズ12がプログラムされていないときは、キャパシタ64は電源電圧に帯電される。
NORゲート52の低出力は、他のNMOSトランジスタ70のゲートにも付与され、これにより、NMOSトランジスタ70をオフ状態とする。したがって、アンチヒューズ12がプログラムされていないとき、NMOSトランジスタ70は、キャパシタ64とNMOSトランジスタ68をアンチヒューズ12から隔離する。NMOSトランジスタ74は、そのゲートに印加される電源電圧によって連続的にオン状態とされ、これにより、アンチヒューズ12の下部プレートをグラウンドにバイアスする。アンチヒューズ12の状態は、それ故、アンチヒューズがプログラムされていないときに、幾つかの従来手段のうちのいずれかで読み出され得る。
アンチヒューズ12がプログラムされるべきとき、プログラミング入力PROG*は低くなり、アドレス整合を生じさせるために適当なアドレス信号が集積回路に付与され、これによって、アドレス整合入力AM*も低くなる。NORゲート52はその後、高状態を出力し、インバータ60、62の双方の出力の各々を低くする。インバータ60の出力における低状態により、キャパシタ64の上部プレートは直ちに電源電圧から0ボルトとされる。キャパシタ64両端の電圧は即座には変化し得ないことから、キャパシタ64のもう一方のプレートの電圧は、0から負電圧となる。実際、キャパシタ64の下部プレートにおける電圧は、負の電源電圧には到達しない。なぜなら、集積回路に用いる場合にはほとんどの場合、それは基板によってクランプされるからである。しかしながら、キャパシタ64の下部プレートはそれにもかかわらず、ほぼ負電圧に到達する。
インバータ62の出力における低状態は、NMOSトランジスタ68をオフ状態とし、NORゲート52の出力における高状態はNMOSトランジスタをオン状態とする。したがって、キャパシタ64の負電圧は、アンチヒューズ12の下部プレートへ印加される。同時に、正電圧が回路グラウンドCGND入力へ印加され、これにより、アンチヒューズ12両端に、キャパシタ64における正のプログラミング電圧と負の電圧との間の差に等しいプログラミング電圧を与える。この比較的大きな電圧は、アンチヒューズ12を、比較的低いインピーダンスに向けて一様にプログラムするのに十分である。
アンチヒューズがブローされている時間中に、CGND入力からの正のプログラミング電圧がアンチヒューズ12とトランジスタ70を通じてキャパシタ64に印加される。キャパシタ64は、その後、正電圧に向けて帯電される。しかしながら、キャパシタ64の電圧が0ボルトへ帯電されたとき、それはNMOSトランジスタ74によってそこにクランプされるため、アンチヒューズ12両端の電圧は更には増加しないだろう。本発明の回路は、このように、アンチヒューズがプログラムされている間の、キャパシタ64の帯電時間に関連しない不確定の期間中、回路グラウンドCGND入力に印加される少なくとも正電圧のプログラミング電圧を保持する。
アンチヒューズ12がブローされた後、PROG*とAM*入力は高くなり、これにより、もう一度、キャパシタ64を帯電させ、NMOSトランジスタ70をオフ状態として、アンチヒューズ12からキャパシタ64を隔離する。
図3の回路の様々なノードに存在する波形が図4A乃至Hのタイミング図で示されている。図4Aに示されているように、回路グラウンド入力CGNDは時間τ0において0から9ボルトへ高くなる。同時に、プログラム入力PROG*とアドレス整合AM*は各々、図4B、Cにそれぞれ示されているように低くなる。NORゲート52、つまり、ノードAの出力は、その後、図4Dに示されているように高くなる。この低から高への遷移により、インバータ60、62、つまり、ノードB、Dの出力は、各々、図4F、Eに示されているように低くなる。キャパシタ64の下部プレート、つまり、ノードCにおける電圧は、その後、図4Gに示されるように、インバータ60の出力に追随する。キャパシタ64の下部プレートにおける電圧は、図4Gに示されるように、0からほぼ−1.7ボルトへ落ち込む。最後に、図4Hに示されているように、CGNDの正に進んだ前縁(図4A)は、アンチヒューズ12を通じて容量結合され、これにより、アンチヒューズ12の下部プレート、つまり、ノードEにおける電圧が最初は上昇する。その後、アンチヒューズ12の下部プレートにおける電圧は、ノードCによってほぼ−1.6ボルトまでプルダウンされる。NMOSトランジスタ74は長いチャンネルデバイスであって十分大きな抵抗を与えることから、トランジスタ74はキャパシタ64をそれほどは放電させないことにも気を付けてもらいたい。キャパシタ64(ノードC)における、および、アンチヒューズ12(ノードE)に印加された、電圧は、ブローされたアンチヒューズ12を通じてキャパシタ64が帯電されたときに線形的に増加する。しかしながら、アンチヒューズ12の下部プレートに印加される電圧は、図4Hに示されるように、決して0ボルト以上には増加しない。
本発明のプログラミング回路50を用いたコンピュータシステム80が図5に示されている。このコンピュータシステム80は、キーボード84のような入力デバイスや、ディスプレイ86のような出力デバイスに接続された従来設計のマイクロプロセッサ82を含む。マイクロプロセッサ82はまた、バスシステム88を通じて、ダイナミックランダムアクセスメモリ(「DRAM」)90に接続される。従来同様、DRAM90を用いる場合、DRAM90は、メモリセルのアレイ92と、欠陥のあることが発見されたアレイ92中のメモリセルの行を置換するために設けられたメモリセルの冗長行94を含む。冗長行94は、アンチヒューズ12を通じてグラウンドに接続されたイネイブル(動作可能)入力を有する。アンチヒューズ12は、プログラミング回路50の出力にも接続されている。上に説明したように、アドレス整合AM*信号を発生するために従来の回路素子(図示されていない)によってデコードされた所定のアドレスをマイクロプロセッサ82が出力したときは、プログラム入力PROG*を受け取った際に、プログラミング回路50は負電圧を出力する。プログラム入力PROG*は、アンチヒューズ12がプログラムされるべきときに、従来の方法でプログラム発生器96によって発生される。プログラム発生器96は従来設計のものであることから、明確化および簡単化のため、詳細な記述は省略する。DRAM90が大量の付加的な回路素子を含むことは当業者には理解されよう。しかしながら、この付加的な回路素子は明確化と簡単化のため省略されている。
上のことから、本発明の特定の実施形態を説明を目的として記述しているが、様々な変形を本発明の意図および範囲から逸脱することなく行うことができることは理解されよう。故に、本発明は添付クレームによるもののように制限され、それ以外によって制限されるものではない。
Claims (32)
- 集積回路に製造された第1の端子と第2の端子を有するアンチヒューズをプログラムする方法において、
前記アンチヒューズの第1の端子に正電圧を印加し、
前記アンチヒューズの第2の端子に負電圧を印加し、前記アンチヒューズの第1の端子と第2の端子の両端に印加される電圧が前記正電圧若しくは前記負電圧のいずれよりも大きくなるようにしたことを特徴とする方法。 - 前記正電圧は前記集積回路の外部の源から前記アンチヒューズの第1の端子へ印加される請求項1記載の方法。
- 前記負電圧は前記集積回路の外部の源から前記アンチヒューズの第2の端子へ印加される請求項1記載の方法。
- 前記正電圧は前記集積回路の外部の源から前記アンチヒューズの第1の端子へ印加され、前記負電圧は前記集積回路の外部の源から前記アンチヒューズの第2の端子へ印加される請求項1記載の方法。
- 前記正および負電圧の少なくとも一方は、キャパシタの第1のプレートに第1の電圧を印加し、その一方で前記キャパシタの第2のプレートを第2の電圧に保持し、更に、前記キャパシタの第1のプレートを第3の電圧に切り換え、そして、前記キャパシタの第2のプレートを前記アンチヒューズに接続することによって、前記集積回路の内部で発生される、請求項1記載の方法。
- 前記第1の電圧は前記集積回路のための電源電圧であり、前記第2および第3の電圧はグラウンド電位である、請求項5記載の方法。
- 前記キャパシタを前記アンチヒューズを通じて帯電させる段階と、その後、前記キャパシタが前記所定の電圧へ帯電された後に、前記キャパシタの第2のプレートにおける電圧をクランプする段階と、を更に備える請求項5記載の方法。
- 前記アンチヒューズは、そのドレインとそのソースが前記第1および第2の端子の一方に接続され、そのゲートが前記第1および第2の端子の他方に接続された、ドレイン、ソース、およびゲートを有するMOSFETである請求項1記載の方法。
- 前記アンチヒューズは前記第1および第2の端子にそれぞれ接続された第1および第2の導電性プレートによって形成されており、前記プレートは互いに非導電性物質によって分離されている、請求項1記載の方法。
- 第1および第2の端子を有するアンチヒューズをプログラムするためのプログラミング回路であって、前記プログラミング回路と前記アンチヒューズは、1つの電源電圧によって電力を供給される共通の集積回路内に製造されている、前記プログラミング回路において、
前記アンチヒューズの第1の端子に接続され、所定極性の第1のプログラミング電圧を受け取るようにされた、外部でアクセス可能な外部アクセス可能端子と、
前記アンチヒューズの第2の端子に接続され、プログラム入力信号に応答して前記第1のプログラミング電圧の極性とは反対極性を有する第2のプログラミング電圧を電源電圧から発生し、これにより、前記第1および第2のプログラミング電圧の間の差に対応する電圧が前記アンチヒューズの前記第1および第2の端子の両端にわたって印加されるようにした、ブート回路と、
を備えることを特徴とする回路。 - 前記第1のプログラミング電圧は正の極性であり、前記第2のプログラミング電圧は負の極性である請求項10記載の回路。
- 前記ブート回路は、
第1および第2のプレートを有するキャパシタと、
前記アンチヒューズがプログラムされていないときは前記キャパシタの第1のプレートを前記電源電圧に結合し、前記アンチヒューズがプログラムされているときは第1の電圧に結合する、第1の切替え回路と、
前記第1の切替え回路が前記キャパシタの第1のプレートを前記電源電圧に結合しているときは前記キャパシタの第2のプレートを第2の電圧に結合する、第2の切替え回路と、
前記第1の切替え回路が前記キャパシタの第1のプレートを前記第1の電圧へ結合している時間の少なくとも一部の時間中に、前記キャパシタの第2のプレートを前記アンチヒューズ回路の第2の端子に結合する、第3の切替え回路と、
を更に備える請求項10記載の回路。 - 前記電源電圧は正の極性を有し、前記第1および第2の電圧は実質的に0ボルトであり、前記キャパシタの第2のプレートにおける電圧は、前記第1の切替え回路が前記キャパシタの第1のプレートを前記第1の電圧に結合しているときに負の極性を有する、請求項10記載の回路。
- 前記ブート回路は、第1および第2のプレートを有するキャパシタと、
プログラム制御信号を受け取る入力と前記キャパシタの第1のプレートに接続された出力とを有し、前記キャパシタの第1のプレートを、前記プログラム制御信号がアクティブでないときは前記電源電圧に結合し、前記プログラム制御信号がアクティブであるときはグラウンド電位に結合する、第1のインバータと、
前記キャパシタの第2のプレートに接続され、第1の制御信号に応答して前記キャパシタの第2のプレートをグラウンド電位に結合する、第1の切替え回路と、
前記プログラム制御信号を受け取る入力と前記第1の切替え回路に接続された出力とを有し、前記プログラム制御信号がアクティブでないときに前記第1の制御信号を前記第1の切替え回路に与える、第2のインバータと、
前記プログラム制御信号を受け取る入力を有し、前記プログラム制御信号がアクティブである時間の少なくとも一部の時間中に、前記キャパシタの第2のプレートを前記アンチヒューズ回路の第2の端子に接続する、第2の切替え回路と、
を備える請求項10記載の回路。 - 前記ブート回路は更に、前記アンチヒューズの第2の端子とグラウンドとの間に接続されたクランプ回路を有し、前記クランプ回路は、アンチヒューズを通じて帯電されている前記第1のキャパシタに応答して、前記アンチヒューズの第2の端子における電圧が実質的にグラウンド電位よりも上昇してしまうことを防止する、請求項14記載の回路。
- 前記アンチヒューズは、そのドレインとそのソースが前記第1および第2の端子の一方に接続され、そのゲートが前記第1および第2の端子の他方に接続された、ドレイン、ソース、およびゲートを有するMOSFETである請求項10記載の回路。
- 前記アンチヒューズは前記第1および第2の端子にそれぞれ接続された第1および第2の導電性プレートによって形成されており、前記プレートは互いに非導電性物質によって分離されている、請求項10記載の回路。
- 集積回路上に製造され、電源電圧によって電力を供給されるダイナミックランダムアクセスメモリにおいて、
行および列に配列されたメモリセルのアレイと、
第1および第2の端子を有するアンチヒューズと、
前記アンチヒューズに結合され、前記アンチヒューズをプログラムすることに応答してイネイブルされる、機能回路と、
前記アンチヒューズをプログラムするためのプログラミング回路と、を備え、
前記プログラミング回路は、前記アンチヒューズの第1の端子に接続された外部でアクセス可能な外部アクセス可能端子を有し、この外部アクセス可能端子は、所定極性の第1のプログラミング電圧を受け取るようにされており、前記プログラミング回路は更に、前記アンチヒューズの第2の端子に接続されたブート回路を有し、このブート回路は、プログラム入力信号に応答して前記第1のプログラミング電圧の極性とは反対極性を有する第2のプログラミング電圧を電源電圧から発生し、これにより、前記第1および第2のプログラミング電圧の間の差に対応する電圧が前記アンチヒューズの前記第1および第2の端子の両端にわたって印加され冗長メモリセルをイネイブルするようにしている、
ことを特徴とするメモリ。 - 前記第1のプログラミング電圧は正の極性であり、前記第2のプログラミング電圧は負の極性である請求項18記載のメモリ。
- 前記ブート回路は、
第1および第2のプレートを有するキャパシタと、
前記アンチヒューズがプログラムされていないときは前記キャパシタの第1のプレートを前記電源電圧に結合し、前記アンチヒューズがプログラムされているときは第1の電圧に結合する、第1の切替え回路と、
前記第1の切替え回路が前記キャパシタの第1のプレートを前記電源電圧に結合しているときは前記キャパシタの第2のプレートを第2の電圧に結合する、第2の切替え回路と、
前記第1の切替え回路が前記キャパシタの第1のプレートを前記第1の電圧へ結合している時間の少なくとも一部の時間中に、前記キャパシタの第2のプレートを前記アンチヒューズ回路の第2の端子に結合する、第3の切替え回路と、
を更に備える請求項18記載のメモリ。 - 前記電源電圧は正の極性を有し、前記第1および第2の電圧は実質的に0ボルトであり、前記キャパシタの第2のプレートにおける電圧は、前記第1の切替え回路が前記キャパシタの第1のプレートを前記第1の電圧に結合しているときに負の極性を有する、請求項20記載のメモリ。
- 前記ブート回路は、
第1および第2のプレートを有するキャパシタと、
プログラム制御信号を受け取る入力と前記キャパシタの第1のプレートに接続された出力とを有し、前記キャパシタの第1のプレートを、前記プログラム制御信号がアクティブでないときは前記電源電圧に結合し、前記プログラム制御信号がアクティブであるときはグラウンド電位に結合する、第1のインバータと、
前記キャパシタの第2のプレートに接続され、第1の制御信号に応答して前記キャパシタの第2のプレートをグラウンド電位に結合する、第1の切替え回路と、
前記プログラム制御信号を受け取る入力と前記第1の切替え回路に接続された出力とを有し、前記プログラム制御信号がアクティブでないときに前記第1の制御信号を前記第1の切替え回路に与える、第2のインバータと、
前記プログラム制御信号を受け取る入力を有し、前記プログラム制御信号がアクティブである時間の少なくとも一部の時間中に、前記キャパシタの第2のプレートを前記アンチヒューズ回路の第2の端子に接続する、第2の切替え回路と、
を備える請求項18記載のメモリ。 - 前記ブート回路は更に、前記アンチヒューズの第2の端子とグラウンドとの間に接続されたクランプ回路を有し、前記クランプ回路は、アンチヒューズを通じて帯電されている前記第1のキャパシタに応答して、前記アンチヒューズの第2の端子における電圧が実質的にグラウンド電位よりも上昇してしまうことを防止する、請求項22記載のメモリ。
- コンピュータシステムにおいて、
プロセッサと、
入力デバイスと、
出力デバイスと、
集積回路上に製造され、電源電圧によって電力を供給されるダイナミックランダムアクセスメモリ(「DRAM」)と、を備え、
前記DRAMは、行および列に配列されたメモリセルのアレイと;第1および第2の端子を有するアンチヒューズと;前記アンチヒューズに結合され、前記アンチヒューズをプログラムすることに応答してイネイブルされる、機能回路と;前記アンチヒューズをプログラムするためのプログラミング回路と;を有し、前記プログラミング回路は、前記アンチヒューズの第1の端子に接続された外部でアクセス可能な外部アクセス可能端子を有し、この外部アクセス可能端子は、所定極性の第1のプログラミング電圧を受け取るようにされており、前記プログラミング回路は更に、前記アンチヒューズの第2の端子に接続されたブート回路を有し、このブート回路は、プログラム入力信号に応答して前記第1のプログラミング電圧の極性とは反対極性を有する第2のプログラミング電圧を電源電圧から発生し、これにより、前記第1および第2のプログラミング電圧の間の差に対応する電圧が前記アンチヒューズの前記第1および第2の端子の両端にわたって印加され前記機能回路をイネイブルするようにしている、
ことを特徴とするシステム。 - 前記入力デバイスはキーボードである請求項24記載のシステム。
- 前記出力デバイスはディスプレイである請求項24記載のシステム。
- 前記機能回路は、前記アンチヒューズがプログラムされたときに、前記アレイ内のメモリセルを置換するためにアクティブにされる複数の冗長メモリセルを含む請求項24記載のシステム。
- 前記第1のプログラミング電圧は正の極性であり、前記第2のプログラミング電圧は負の極性である、請求項24記載のシステム。
- 前記ブート回路は、
第1および第2のプレートを有するキャパシタと、
前記アンチヒューズがプログラムされていないときは前記キャパシタの第1のプレートを前記電源電圧に結合し、前記アンチヒューズがプログラムされているときは第1の電圧に結合する、第1の切替え回路と、
前記第1の切替え回路が前記キャパシタの第1のプレートを前記電源電圧に結合しているときは前記キャパシタの第2のプレートを第2の電圧に結合する、第2の切替え回路と、
前記第1の切替え回路が前記キャパシタの第1のプレートを前記第1の電圧へ結合している時間の少なくとも一部の時間中に、前記キャパシタの第2のプレートを前記アンチヒューズ回路の第2の端子に結合する、第3の切替え回路と、
を更に備える請求項24記載のシステム。 - 前記電源電圧は正の極性を有し、前記第1および第2の電圧は実質的に0ボルトであり、前記キャパシタの第2のプレートにおける電圧は、前記第1の切替え回路が前記キャパシタの第1のプレートを前記第1の電圧に結合しているときに負の極性を有する、請求項29記載のシステム。
- 前記ブート回路は、
第1および第2のプレートを有するキャパシタと、
プログラム制御信号を受け取る入力と前記キャパシタの第1のプレートに接続された出力とを有し、前記キャパシタの第1のプレートを、前記プログラム制御信号がアクティブでないときは前記電源電圧に結合し、前記プログラム制御信号がアクティブであるときはグラウンド電位に結合する、第1のインバータと、
前記キャパシタの第2のプレートに接続され、第1の制御信号に応答して前記キャパシタの第2のプレートをグラウンド電位に結合する、第1の切替え回路と、
前記プログラム制御信号を受け取る入力と前記第1の切替え回路に接続された出力とを有し、前記プログラム制御信号がアクティブでないときに前記第1の制御信号を前記第1の切替え回路に与える、第2のインバータと、
前記プログラム制御信号を受け取る入力を有し、前記プログラム制御信号がアクティブである時間の少なくとも一部の時間中に、前記キャパシタの第2のプレートを前記アンチヒューズ回路の第2の端子に接続する、第2の切替え回路と、
を備える請求項24記載のシステム。 - 前記ブート回路は更に、前記アンチヒューズの第2の端子とグラウンドとの間に接続されたクランプ回路を有し、前記クランプ回路は、アンチヒューズを通じて帯電されている前記第1のキャパシタに応答して、前記アンチヒューズの第2の端子における電圧が実質的にグラウンド電位よりも上昇してしまうことを防止する、請求項31記載のシステム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/654,338 US5896041A (en) | 1996-05-28 | 1996-05-28 | Method and apparatus for programming anti-fuses using internally generated programming voltage |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP09542970 Division |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006139900A true JP2006139900A (ja) | 2006-06-01 |
Family
ID=24624460
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP09542970A Pending JP2000511326A (ja) | 1996-05-28 | 1997-05-28 | 内部発生されたプログラミング電圧を用いてアンチヒューズをプログラムする方法及び装置 |
JP2005316047A Pending JP2006139900A (ja) | 1996-05-28 | 2005-10-31 | 内部発生されたプログラミング電圧を用いてアンチヒューズをプログラムする方法及び装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP09542970A Pending JP2000511326A (ja) | 1996-05-28 | 1997-05-28 | 内部発生されたプログラミング電圧を用いてアンチヒューズをプログラムする方法及び装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5896041A (ja) |
EP (1) | EP0898786B1 (ja) |
JP (2) | JP2000511326A (ja) |
AT (1) | AT287573T (ja) |
AU (1) | AU3220897A (ja) |
DE (1) | DE69732291T2 (ja) |
TW (1) | TW346673B (ja) |
WO (1) | WO1997045872A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009110582A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-21 | Elpida Memory Inc | アンチヒューズ回路及びこれを備える半導体装置、並びに、アンチヒューズ回路へのアドレス書き込み方法 |
JP2009135390A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-18 | Hynix Semiconductor Inc | アンチヒューズリペア電圧制御回路 |
WO2011122182A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-06 | 株式会社村田製作所 | アンチヒューズモジュール |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5978297A (en) * | 1998-04-28 | 1999-11-02 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for strobing antifuse circuits in a memory device |
KR100321167B1 (ko) * | 1998-06-30 | 2002-05-13 | 박종섭 | 앤티퓨즈로미세조정되는기준전압발생기 |
JP2000123592A (ja) * | 1998-10-19 | 2000-04-28 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
KR100687848B1 (ko) * | 1999-01-09 | 2007-02-27 | 주식회사 하이닉스반도체 | 앤티퓨즈의 프로그램/리드 장치를 갖는 리페어회로 |
US6240033B1 (en) * | 1999-01-11 | 2001-05-29 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Antifuse circuitry for post-package DRAM repair |
KR100526454B1 (ko) * | 1999-03-31 | 2005-11-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | 앤티퓨즈의 프로그래밍장치를 갖는 리페어회로 |
KR100376265B1 (ko) * | 1999-12-29 | 2003-03-17 | 주식회사 하이닉스반도체 | 모스 구조의 안티퓨즈를 이용한 메모리 리페어 회로 |
KR100328447B1 (ko) * | 2000-02-21 | 2002-03-16 | 박종섭 | 안티퓨즈 리페어 회로 |
JP3526446B2 (ja) * | 2000-06-09 | 2004-05-17 | 株式会社東芝 | フューズプログラム回路 |
GB2381882B (en) * | 2001-11-09 | 2005-11-09 | Micron Technology Inc | Voltage clamp circuit |
US6617914B1 (en) * | 2002-03-05 | 2003-09-09 | Infineon Technologies Ag | Electrical antifuse with external capacitance |
US6657905B1 (en) | 2002-05-17 | 2003-12-02 | Micron Technology, Inc. | Clamping circuit for the Vpop voltage used to program antifuses |
US6836145B2 (en) * | 2002-06-06 | 2004-12-28 | Micron Technology, Inc. | Programming circuit and method having extended duration programming capabilities |
US6775197B2 (en) * | 2002-11-27 | 2004-08-10 | Novocell Semiconductor, Inc. | Non-volatile memory element integratable with standard CMOS circuitry and related programming methods and embedded memories |
US6816427B2 (en) | 2002-11-27 | 2004-11-09 | Novocell Semiconductor, Inc. | Method of utilizing a plurality of voltage pulses to program non-volatile memory elements and related embedded memories |
US6775171B2 (en) * | 2002-11-27 | 2004-08-10 | Novocell Semiconductor, Inc. | Method of utilizing voltage gradients to guide dielectric breakdowns for non-volatile memory elements and related embedded memories |
JP4108519B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2008-06-25 | エルピーダメモリ株式会社 | 制御回路、半導体記憶装置、及び制御方法 |
US7693596B2 (en) * | 2005-12-14 | 2010-04-06 | Dell Products L.P. | System and method for configuring information handling system integrated circuits |
KR101332121B1 (ko) * | 2006-01-27 | 2013-11-21 | 킬로패스 테크놀로지, 인크. | 전기적으로 프로그램 가능한 퓨즈 비트 |
JP4946260B2 (ja) * | 2006-08-16 | 2012-06-06 | 富士通セミコンダクター株式会社 | アンチヒューズ書込電圧発生回路を内蔵する半導体メモリ装置 |
JP4684309B2 (ja) * | 2008-04-14 | 2011-05-18 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US7541834B1 (en) * | 2008-04-15 | 2009-06-02 | International Business Machines Corporation | System and the methods of managing a set of programmable fuses on an integrated circuit |
JP2009277291A (ja) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
KR101153803B1 (ko) * | 2010-05-31 | 2012-07-03 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치의 퓨즈 회로 |
JP2011119018A (ja) * | 2011-01-13 | 2011-06-16 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5821856A (en) * | 1981-07-31 | 1983-02-08 | Nec Corp | Semiconductor device |
JPH0428175B2 (ja) * | 1984-02-29 | 1992-05-13 | Fujitsu Ltd | |
JPS6159688A (en) * | 1984-08-31 | 1986-03-27 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
JP2990783B2 (ja) * | 1989-11-30 | 1999-12-13 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体記憶装置 |
US5056061A (en) * | 1989-12-20 | 1991-10-08 | N. A. Philips Corporation | Circuit for encoding identification information on circuit dice using fet capacitors |
JPH0831564B2 (ja) * | 1990-06-22 | 1996-03-27 | シャープ株式会社 | 半導体装置 |
JPH0834292B2 (ja) * | 1990-06-22 | 1996-03-29 | シャープ株式会社 | 半導体記憶装置の書き込み方法 |
US5130777A (en) * | 1991-01-04 | 1992-07-14 | Actel Corporation | Apparatus for improving antifuse programming yield and reducing antifuse programming time |
JP2835215B2 (ja) * | 1991-07-25 | 1998-12-14 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
US5243226A (en) * | 1991-07-31 | 1993-09-07 | Quicklogic Corporation | Programming of antifuses |
US5257222A (en) * | 1992-01-14 | 1993-10-26 | Micron Technology, Inc. | Antifuse programming by transistor snap-back |
US5316971A (en) * | 1992-09-18 | 1994-05-31 | Actel Corporation | Methods for programming antifuses having at least one metal electrode |
US5319592A (en) * | 1992-11-25 | 1994-06-07 | Fujitsu Limited | Fuse-programming circuit |
US5311480A (en) * | 1992-12-16 | 1994-05-10 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for EEPROM negative voltage wordline decoding |
US5301159A (en) * | 1993-02-05 | 1994-04-05 | Micron Technology, Inc. | Anti-fuse circuit and method wherein the read operation and programming operation are reversed |
US5404049A (en) * | 1993-11-02 | 1995-04-04 | International Business Machines Corporation | Fuse blow circuit |
US5412593A (en) * | 1994-01-12 | 1995-05-02 | Texas Instruments Incorporated | Fuse and antifuse reprogrammable link for integrated circuits |
US5426614A (en) * | 1994-01-13 | 1995-06-20 | Texas Instruments Incorporated | Memory cell with programmable antifuse technology |
US5469396A (en) * | 1994-06-07 | 1995-11-21 | Actel Corporation | Apparatus and method determining the resistance of antifuses in an array |
US5495436A (en) * | 1995-01-13 | 1996-02-27 | Vlsi Technology, Inc. | Anti-fuse ROM programming circuit |
US5514980A (en) * | 1995-05-31 | 1996-05-07 | Integrated Device Technology, Inc. | High resolution circuit and method for sensing antifuses |
-
1996
- 1996-05-28 US US08/654,338 patent/US5896041A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-05-28 EP EP97927851A patent/EP0898786B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-05-28 WO PCT/US1997/009238 patent/WO1997045872A1/en active IP Right Grant
- 1997-05-28 DE DE69732291T patent/DE69732291T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-05-28 AT AT97927851T patent/AT287573T/de not_active IP Right Cessation
- 1997-05-28 JP JP09542970A patent/JP2000511326A/ja active Pending
- 1997-05-28 AU AU32208/97A patent/AU3220897A/en not_active Abandoned
- 1997-09-11 TW TW086113188A patent/TW346673B/zh not_active IP Right Cessation
-
2005
- 2005-10-31 JP JP2005316047A patent/JP2006139900A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009110582A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-21 | Elpida Memory Inc | アンチヒューズ回路及びこれを備える半導体装置、並びに、アンチヒューズ回路へのアドレス書き込み方法 |
JP2009135390A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-18 | Hynix Semiconductor Inc | アンチヒューズリペア電圧制御回路 |
WO2011122182A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-06 | 株式会社村田製作所 | アンチヒューズモジュール |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AT287573T (de) | 2005-02-15 |
TW346673B (en) | 1998-12-01 |
WO1997045872A1 (en) | 1997-12-04 |
DE69732291D1 (de) | 2005-02-24 |
EP0898786B1 (en) | 2005-01-19 |
EP0898786A1 (en) | 1999-03-03 |
AU3220897A (en) | 1998-01-05 |
US5896041A (en) | 1999-04-20 |
DE69732291T2 (de) | 2005-06-09 |
JP2000511326A (ja) | 2000-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5991187A (en) | Method for programming semiconductor junctions and for using the programming to control the operation of an integrated device | |
US5654649A (en) | Programmable application specific integrated circuit employing antifuses and methods therefor | |
US6909635B2 (en) | Programmable memory cell using charge trapping in a gate oxide | |
US6625080B2 (en) | Antifuse detection circuit | |
US5657280A (en) | Defective cell repairing circuit and method of semiconductor memory device | |
US5097152A (en) | Buffer circuit used in a semiconductor device operating by different supply potentials and method of operating the same | |
US6617914B1 (en) | Electrical antifuse with external capacitance | |
US6570805B2 (en) | Antifuse memory cell and antifuse memory cell array | |
US6021079A (en) | Fast, low cost method of developing code for contact programmable ROMs | |
JP2662345B2 (ja) | 内部電源電圧発生回路 | |
US6157583A (en) | Integrated circuit memory having a fuse detect circuit and method therefor | |
JP4191355B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
KR100500579B1 (ko) | 씨모스 게이트 산화물 안티퓨즈를 이용한 3-트랜지스터한번 프로그램 가능한 롬 | |
US5099149A (en) | Programmable integrated circuit | |
US6421293B1 (en) | One-time programmable memory cell in CMOS technology | |
US6011742A (en) | Shared pull-up and selection circuitry for programmable cells such as antifuse cells | |
US7532533B2 (en) | Antifuse circuit and method for selectively programming thereof | |
US8254198B2 (en) | Anti-fuse element | |
US5566107A (en) | Programmable circuit for enabling an associated circuit | |
US5831923A (en) | Antifuse detect circuit | |
US6462609B2 (en) | Trimming circuit of semiconductor apparatus | |
JP4000096B2 (ja) | Esd保護回路 | |
US5442589A (en) | Fuse circuitry having physical fuse and non-volatile memory cell coupled to a detector | |
EP0323643B1 (en) | Semiconductor integrated circuit with a circuit limiting an input voltage to a predetermined voltage | |
JP2821411B2 (ja) | 半導体メモリ素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080730 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081201 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090427 |