JP2006118870A - Inspection condition setting method and device, and computer program - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、主に半導体ウェハ及び液晶ガラス基盤等の表面の欠陥を検査する検査条件設定方法及び検査条件設定装置並びにコンピュータプログラムに関する。 The present invention mainly relates to an inspection condition setting method, an inspection condition setting apparatus, and a computer program for inspecting a surface defect such as a semiconductor wafer and a liquid crystal glass substrate.
従来、半導体ウェハ等の表面の欠陥の有無を検出する検査では、主に以下の2つの検査方式が利用されている。
(検査方式1)
第1の検査方式は、Die to Die検査方式と呼ばれる方式であり、半導体ウェハを撮像して取得した画像データにおいて、異なる2つ以上の半導体チップ部分(当該半導体チップの部分がDieと呼ばれる場合と、半導体チップが4枚撮りの場合に、4枚のうち1枚の部分がDieと呼ばれる場合がある)所定領域の画像データを所定領域ごとに比較して、その差画像から輝度差を算出して欠陥を検出する検査方式である。
(検査方式2)
第2の検査方式は、リファレンス比較検査方式またはWafer to Wafer検査方式(以下、Ref比較検査方式と呼ぶ)と呼ばれる方式であり、欠陥の無い良好な半導体ウェハ全体の画像と被検査半導体ウェハの画像とを比較して差画像から輝度差を算出して欠陥を検出する方式である。
Conventionally, in the inspection for detecting the presence or absence of defects on the surface of a semiconductor wafer or the like, the following two inspection methods are mainly used.
(Inspection method 1)
The first inspection method is a method called a Die to Die inspection method. In image data obtained by imaging a semiconductor wafer, two or more different semiconductor chip portions (the case where the semiconductor chip portion is called a Die) When four semiconductor chips are taken, one of the four chips may be called “Die”. Image data of a predetermined area is compared for each predetermined area, and a luminance difference is calculated from the difference image. This is an inspection method for detecting defects.
(Inspection method 2)
The second inspection method is a method referred to as a reference comparison inspection method or a Wafer to Wafer inspection method (hereinafter referred to as a Ref comparison inspection method), and an image of a good whole semiconductor wafer without defects and an image of a semiconductor wafer to be inspected. And detecting a defect by calculating a luminance difference from the difference image.
しかしながら、上記の2つの検査方式にはそれぞれ長所と短所がある。即ち、Die to Die検査方式では、1つの半導体ウェハを撮像することによって得られた画像データ内で検査を行うことができるという長所がある一方で、Dieごとに比較して欠陥を検出するため、半導体ウェハ全面に欠陥がある場合には欠陥の検出が困難であるという短所がある。 However, each of the above two inspection methods has advantages and disadvantages. That is, the die to die inspection method has an advantage that inspection can be performed within image data obtained by imaging one semiconductor wafer, while defects are detected in comparison with each die. If there is a defect on the entire surface of the semiconductor wafer, it is difficult to detect the defect.
一方、Ref比較検査方式においては、半導体ウェハ全体の膜むらなどの広い領域における欠陥の検出ができるという長所がある一方で、比較を行う際の基準となる欠陥の無い良好な半導体ウェハの画像をリファレンス画像として撮像しておく必要があり、また定期的に検査条件の見直しを行わなければ、製造ラインにばらつきが発生したり、経時変化に対応できないという短所がある。 On the other hand, the Ref comparative inspection method has the advantage of being able to detect defects in a wide region such as film unevenness of the entire semiconductor wafer, but on the other hand, an image of a good semiconductor wafer having no defects serving as a reference for comparison is obtained. It has to be taken as a reference image, and if the inspection conditions are not regularly reviewed, there are disadvantages in that the production line varies and cannot cope with changes over time.
そこで、半導体ウェハの欠陥検査方法において、製造工程を順次流れる半導体ウェハに対してDie to Die検査方式により欠陥検出を行う方法や、Ref比較検査方式により欠陥検出を行う方法や、Die to Die検査方式とRef比較検査方式とを組み合わせて欠陥検出を行う方法などが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、従来の技術では、Die to Die検査方式やRef比較検査方式において、欠陥検出の際の判定基準となる閾値やリファレンス画像などの検査条件を選定する際に、人手を介して行われていることが多く、またコンピュータなどを利用して欠陥検出に最適となる検査条件を選定することは困難であるという問題がある。 However, in the conventional technique, in the Die to Die inspection method and the Ref comparison inspection method, when selecting inspection conditions such as a threshold value and a reference image as a determination criterion in defect detection, it is performed manually. In many cases, it is difficult to select inspection conditions that are optimal for defect detection using a computer or the like.
本発明は、上記問題を解決するためになされたもので、その目的は、Die to Die検査方式及びRef比較検査方式による欠陥検出を行う際に、最適となる検査条件を選定することが可能な検査条件設定装置を提供することにある。 The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and the object of the present invention is to select an optimum inspection condition when performing defect detection by the Die to Die inspection method and the Ref comparison inspection method. The object is to provide an inspection condition setting device.
上述した課題を解決するために、本発明は、複数の被検査体を順次撮像して取得される画像データに対し、比較対象となる画像データとの輝度差を算出して、前記輝度差が所定の閾値を超える部分を欠陥とする欠陥検査方法に利用される検査条件情報を設定する検査条件設定方法であって、前記画像データの所定領域間を比較し、比較結果に基づいて第1の閾値を前記画像データごとに算出する第1の算出過程と、前記第1の閾値に対応する前記画像データを参照画像として選択する選択過程と、選択された前記参照画像データと他の画像データとを比較した比較結果に基づいて第2の閾値を前記他の画像データごとに算出する第2の算出過程と、を含むことを特徴とする検査条件設定方法である。 In order to solve the above-described problem, the present invention calculates a luminance difference between image data obtained by sequentially imaging a plurality of inspected objects and image data to be compared, and the luminance difference is calculated. An inspection condition setting method for setting inspection condition information used in a defect inspection method in which a portion exceeding a predetermined threshold is a defect, wherein predetermined regions of the image data are compared, and a first result is based on a comparison result. A first calculation step of calculating a threshold value for each image data; a selection step of selecting the image data corresponding to the first threshold value as a reference image; the selected reference image data and other image data; And a second calculation step of calculating a second threshold value for each of the other image data based on a comparison result of comparing the two.
本発明は、複数の被検査体を順次撮像して取得される画像データに対し、比較対象となる画像データとの輝度差を算出して、前記輝度差が所定の閾値を超える部分を欠陥とする欠陥検査方法に利用される検査条件情報を設定する検査条件設定方法であって、前記画像データの所定の領域間を比較し、比較結果に基づいて前記画像データから欠陥を検出しない第1の閾値を前記画像データごとに算出する第1の算出過程と、前記画像データごとに算出された前記第1の閾値の中から最小値となる前記第1の閾値を検出し、最小値となる前記第1の閾値対応する前記画像データを参照画像データとして選択する選択過程と、選択された前記参照画像データと他の画像データとを比較した比較結果に基づいて前記他の画像データから欠陥を検出しない第2の閾値を前記他の画像データごとに算出する第2の算出過程と、前記第2の閾値と前記参照画像データとに基づいて前記検査条件情報を設定する検査条件設定過程と、を含むことを特徴とする検査条件設定方法である。 The present invention calculates a luminance difference from image data to be compared with respect to image data acquired by sequentially imaging a plurality of inspected objects, and defines a portion where the luminance difference exceeds a predetermined threshold as a defect. An inspection condition setting method for setting inspection condition information used for a defect inspection method to perform comparison between predetermined regions of the image data, and a first that does not detect a defect from the image data based on a comparison result A first calculation step of calculating a threshold value for each image data; and detecting the first threshold value that is the minimum value from the first threshold values calculated for each image data, and A defect is detected from the other image data based on a selection process of selecting the image data corresponding to the first threshold as reference image data and a comparison result of comparing the selected reference image data with other image data. Shina A second calculation step of calculating a second threshold value for each of the other image data; and an inspection condition setting step of setting the inspection condition information based on the second threshold value and the reference image data. This is an inspection condition setting method.
本発明は、上記の発明において、前記画像データが再検査によって合格であったか不合格であったかを記録した再検査結果情報(例えば、実施形態におけるレビュー結果)を前記画像データに関連付けて再検査情報記憶手段(例えば、仮保存部26及び検査データ保存部24)に記憶する再検査情報記憶過程と、前記第2の算出過程によって算出された前記第2の閾値の中で最大値となる前記第2の閾値を検出し、検出した最大値となる前記第2の閾値に対応する前記画像データの前記再検査結果情報を前記再検査結果情報記憶手段から読み出す再検査情報読出過程と、前記再検査情報読出過程によって読み出された前記再検査結果情報が不合格の場合に、当該画像データに対応する前記第2の閾値を削除する削除過程と、を更に含むことを特徴とする。
According to the present invention, in the above invention, re-inspection information is stored in association with re-examination result information (for example, a review result in the embodiment) that records whether the image data has passed or failed by re-inspection. Retest information storage process stored in the means (for example, the
本発明は、上記の発明において、前記検査条件設定過程において、前記第1の閾値の標準偏差の値を算出し、前記標準偏差の値に基づいて前記第1の閾値の平均値を算出し、前記平均値に所定の係数(例えば、実施形態における「製造工程でのばらつき等の要因で擬似欠陥発生することを考慮した係数(経験値として1.2〜2)」)を乗じた値を前記検査条件情報に設定する第1の設定過程と、前記第2の閾値の中から最大値を検出し、前記最大値に所定の係数を乗じた値と前記参照画像データとを前記検査条件情報に設定する第2の設定過程と、を更に含むことを特徴とする。 According to the present invention, in the above invention, in the inspection condition setting process, a standard deviation value of the first threshold value is calculated, and an average value of the first threshold value is calculated based on the standard deviation value. A value obtained by multiplying the average value by a predetermined coefficient (for example, “a coefficient in consideration of occurrence of pseudo defects due to factors such as variations in the manufacturing process (1.2 to 2 as an experience value)” in the embodiment) A first setting process set in the inspection condition information, a maximum value is detected from the second threshold value, and a value obtained by multiplying the maximum value by a predetermined coefficient and the reference image data are used as the inspection condition information. And a second setting process for setting.
本発明は、上記の発明において、前記第2の閾値算出過程によって算出された前記第2の閾値を閾値情報記憶手段に記録する閾値記録過程と、ユーザの指示を受けて前記閾値情報記憶手段から前記第2の閾値を読み出し、前記第2の閾値をグラフ化して画面(例えば、クライアント端末11の画面)に表示するとともに、前記第2の閾値に対応する前記検査結果情報と前記再検査結果情報とを表示する表示過程と、前記画面上で前記ユーザの操作によって選択された箇所の前記グラフの座標軸における数値を検出する検出過程と、を含み、前記検査条件設定過程は、前記検出過程によって検出された前記数値に基づいて前記検査条件情報を設定する過程を更に含むことを特徴とする。 According to the present invention, in the above invention, a threshold value recording process for recording the second threshold value calculated in the second threshold value calculation process in the threshold information storage means, and a threshold information storage means in response to a user instruction. The second threshold value is read, the second threshold value is graphed and displayed on a screen (for example, the screen of the client terminal 11), and the test result information and the retest result information corresponding to the second threshold value are displayed. And a detection process for detecting a numerical value on the coordinate axis of the graph at a location selected by the user's operation on the screen, and the inspection condition setting process is detected by the detection process The method further includes a step of setting the inspection condition information based on the numerical value.
本発明は、複数の被検査体を順次撮像して取得される画像データに対し、比較対象となる画像データとの輝度差を算出して、前記輝度差が所定の閾値を超える部分を欠陥として検査する欠陥検査装置(例えば、欠陥検査装置12)に利用される検査条件情報を設定する検査条件設定装置(例えば、チューニングサーバ30)であって、前記画像データの所定領域間を比較し、比較結果に基づいて第1の閾値を前記画像データごとに算出する第1の算出手段(例えば、Die to Die検査手段31a)と、前記第1の算出手段によって算出された前記第1の閾値に対応する前記画像データを参照画像として選択する選択手段と、前記選択手段によって選択された前記参照画像データと他の画像データとを比較した比較結果に基づいて第2の閾値を前記他の画像データごとに算出する第2の算出手段(Ref比較検査手段31b)と、を備えたことを特徴とする検査条件設定装置である。
The present invention calculates a luminance difference between image data obtained by sequentially imaging a plurality of inspected objects and image data to be compared, and sets a portion where the luminance difference exceeds a predetermined threshold as a defect. An inspection condition setting device (for example, tuning server 30) for setting inspection condition information used in a defect inspection device (for example, defect inspection device 12) to be inspected, comparing predetermined regions of the image data, and comparing Corresponding to the first threshold value calculated by the first calculation means (for example, the die to die inspection means 31a) for calculating the first threshold value for each image data based on the result, and the first calculation means. Selection means for selecting the image data to be used as a reference image, and a second result based on a comparison result obtained by comparing the reference image data selected by the selection means with other image data. An inspection condition setting apparatus comprising: a second calculation unit (Ref
本発明は、複数の被検査体を順次撮像して取得される画像データに対し、比較対象となる画像データとの輝度差を算出して、前記輝度差が所定の閾値を超える部分を欠陥として検査する欠陥検査装置に利用される検査条件情報を設定する検査条件設定装置のコンピュータを前記画像データの所定領域間を比較し、比較結果に基づいて第1の閾値を前記画像データごとに算出する第1の算出手段、前記第1の算出手段によって算出された前記第1の閾値に対応する前記画像データを参照画像として選択する選択手段、前記選択手段によって選択された前記参照画像データと他の画像データとを比較した比較結果に基づいて第2の閾値を前記他の画像データごとに算出する第2の算出手段、として機能させるためのコンピュータプログラムである。 The present invention calculates a luminance difference between image data obtained by sequentially imaging a plurality of inspected objects and image data to be compared, and sets a portion where the luminance difference exceeds a predetermined threshold as a defect. A computer of an inspection condition setting apparatus for setting inspection condition information used for a defect inspection apparatus to be inspected compares predetermined areas of the image data, and calculates a first threshold value for each image data based on the comparison result. A first calculating unit; a selecting unit that selects the image data corresponding to the first threshold value calculated by the first calculating unit as a reference image; the reference image data selected by the selecting unit; A computer program for causing a second threshold value to be calculated for each of the other image data based on a comparison result obtained by comparing image data.
この発明の検査条件設定方法によれば、画像データの所定の領域間を比較し、比較結果に基づいて前記画像データから第1の閾値を前記画像データごとに算出する。そして、第1の閾値対応する画像データを参照画像データとして選択し、選択された参照画像データと他の画像データとを比較した比較結果に基づいて第2の閾値を他の画像データごとに算出する構成となっている。そのため、第1の閾値と第2の閾値と参照画像データとに基づいて欠陥検査方法に利用される検査条件情報を設定することができる。それによって、現実の製造ラインによる影響度合いを取り込んだ検査条件の選定を行うことができ、当該検査条件情報に基づいて検査を行う欠陥検査装置は好適な欠陥検出を行うことが可能となる。 According to the inspection condition setting method of the present invention, predetermined regions of image data are compared, and a first threshold value is calculated for each image data from the image data based on the comparison result. Then, image data corresponding to the first threshold value is selected as reference image data, and a second threshold value is calculated for each other image data based on a comparison result obtained by comparing the selected reference image data with other image data. It is the composition to do. Therefore, inspection condition information used for the defect inspection method can be set based on the first threshold value, the second threshold value, and the reference image data. As a result, it is possible to select an inspection condition that incorporates the degree of influence of an actual manufacturing line, and a defect inspection apparatus that performs inspection based on the inspection condition information can perform suitable defect detection.
以下、本発明の一実施形態による検査条件設定方法を実行する検査条件設定装置を図面を参照して説明する。
図1は、本実施形態による欠陥検査システムを示す概略ブロック図である。
図1において、欠陥検査システム1は、クライアント端末11と、欠陥検査装置12と、レビュー装置13と、画像サーバ20と、チューニングサーバ30と、それらを接続するLAN(Local Area Network)15と、インターネット16とLAN15とを接続するゲートウェイ14から構成されている。
Hereinafter, an inspection condition setting apparatus for executing an inspection condition setting method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic block diagram showing the defect inspection system according to the present embodiment.
In FIG. 1, a
この欠陥検査システム1において、クライアント端末11は、例えば、パーソナルコンピュータであり、オペレータの操作によって画像サーバ20、チューニングサーバ30にLAN15を介して接続する。
In this
画像サーバ20は、参照情報データベース(以下、DBと略す)23、検査データ保存部24、レシピファイル保存部25、検索部22、通信部21から構成されている。画像サーバ20において、参照情報DB23は、欠陥検査装置12によって行われた検査の検索条件や日付などの情報をキーワードとし、当該キーワードに対応付けて検査データ保存部24が記憶している画像データ等の情報への参照情報を記憶する。検査データ保存部24は、半導体ウェハを撮像した画像データや当該画像データが欠陥検査装置12によって検査された時の検査結果の情報を記憶する。
The
レシピファイル保存部25は、欠陥検査装置12が検査を行う際に使用する検査条件の情報やリファレンス画像データなどを記憶する。検索部22は、検査データ保存部24の一部である仮保存部26に既定のデータが保存されたかを監視し、保存された場合は、そのデータに基づいて画像ファイルや検査結果の情報を検査データ保存部24に所定のフォルダ構成に従って保存すると同時に参照情報DB23に情報を保存する。また、検索部22は、検査条件や日付などのキーワードを含む検索要求を受信し、参照情報DB23に登録されている情報に基づいて検索を行い、検索結果を要求元へ送信する。通信部21は、LAN15に接続し、他の装置との間で情報の送受信を行う。また、通信部21は、ウェブサーバとしての機能を有しており、クライアント端末11からの接続要求を受信し、ウェブブラウザ上でのオペレータの操作によってクライアント端末11が検索部22を遠隔で操作することを可能としている。また、さらに、通信部21は、ゲートウェイ14を介してインターネット16に接続する他のクライアント端末からの接続も受信する。
The recipe
チューニングサーバ30は、上述した検査条件方法を実行する検査条件設定装置に該当し、欠陥検査の際に利用される閾値等の検査条件を欠陥検査装置12の検査結果に基づいて生成し、画像サーバ20に設定する。チューニングサーバ30において、閾値設定部31は、Die to Die検査手段31aとRef比較検査手段31bを備えており、画像サーバ20のレシピファイル保存部25からレシピファイルを読出し、Die to Die検査手段31aとRef比較検査手段31bによって求められた情報に基づいて検索条件を生成し、レシピファイル保存部25に生成した検査条件を設定する。Die to Die検査手段31aは、上述したDie to Die検査方式によって画像データごとに擬似欠陥を検出しない閾値を算出する。Ref比較検査手段31bは、上述したRef比較検査方式によってリファレンス画像データと他の画像データを比較し擬似欠陥を検出しない閾値を算出する。
The tuning
データベース監視部32は、画像サーバ20の検査データ保存部24に新たな情報が登録された場合に、参照情報DB23を監視することによって新たな情報の登録を検出する。通信部33は、LAN15に接続しており、他の装置との間で情報の送受信を行う。また、通信部33は、ウェブサーバとしての機能を有しており、クライアント端末11からの接続要求を受信し、ウェブブラウザ上でのオペレータの操作によってクライアント端末11が閾値設定部31を遠隔で操作することを可能としている。また、さらに、通信部33は、ゲートウェイ14を介してインターネット16に接続する他のクライアント端末からの接続も受信する。
The
欠陥検査装置12は、画像サーバ20のレシピファイル保存部25からレシピファイルをダウンロードし、当該レシピファイルに含まれる検査条件に基づいて半導体ウェハを撮像した画像データに対して欠陥検査を行い、欠陥検査の結果を仮保存部26に記録する。また、欠陥検査装置12は、半導体ウェハのマクロ検査等を製造工程ごとに行うため工場内のラインに複数台(12−1〜12−n)設置されている。
The
レビュー装置13は、欠陥検査装置12で検査された画像データを再度検査(レビュー)する装置である。レビュー装置13は、半導体ウェハの製造工程で形成される微細パターンの寸法を計測する測長SEM(Scanning Electron Microscope)や、レビュー用の顕微鏡、半導体ウェハのスペクトルを測定する分光測定器などの複数の装置(13−1〜13−n)によって構成されている。また、レビュー装置13は、検査データ保存部24から欠陥検査装置12によって検査された画像データをダウンロードし、画像データについてレビューを行った後に、レビュー結果を仮保存部26に記録する。欠陥検査装置12及びレビュー装置13が仮保存部26に画像及び検査情報ファイルを保存すると、検索部22は、その検査情報ファイルから装置、結果等を解読し、参照情報DB23に追記する。そして、所定のファイル名、フォルダ構成に従って画像及び検査情報ファイルを検査データ保存部23に移動する。
The
図2は、検査データ保存部24に保存される検査情報ファイルのデータ構成の概略を示した図である。
検査データ保存部24には、1ロットごとの情報が記憶されている。ここで、ロットとは、半導体ウェハの製造工程で、一度に製造される製品のまとまりの単位をいい、本実施形態では1ロットに25枚の半導体ウェハの情報が含まれている。図2において、ロット情報ファイルとは、当該ロットに含まれる半導体ウェハ(以下、試料と呼ぶ)ごとの検査結果の情報が記録されたファイルである。試料情報ファイルとは、検査された試料の情報が記録されたファイルである。試料画像データとは、欠陥検査装置12及びレビュー装置13によって検査された画像データである。試料画像データは、実際に試料を撮像した画像データだけでなく、装置や試料の特性の差による擬似欠陥を回避するために画像処理を行った補正画像や欠陥の場所に色をつけて撮像画像に重ねて表示した欠陥画像データ等も含んでいる。
FIG. 2 is a diagram showing an outline of the data structure of the inspection information file stored in the inspection
The inspection
図3は、図2で説明したロット情報ファイル24aのデータ構成を示した図である。ロット情報ファイル24aは、ヘッダ24a−1とデータ24a−2から構成されている。ヘッダ24a−1には、検査が行われた日付及び時刻の情報と、ロットが一意に識別できるように予めロットごとに付与されたロットIDと、試料の製品種別を示す品種名と、どの工程において製造された試料であるかを示す工程名と、検査に使用したレシピファイル25aのファイル名と、当該ロットの判定結果が記録されている。
FIG. 3 shows the data structure of the
また、データ24a−2には、25枚の試料の検査結果の情報が記録されている。データ24a−2において、「スロット番号」には、1ロット分の各試料が格納されたウェハカセットのスロット番号が記録される。「ウェハID」には、各試料を一意に識別できるように予め試料ごとに付与されたIDが記録される。「欠陥数」は、検査で検出された欠陥の数が記録される。「欠陥チップ数」は、欠陥のあるチップ数が記録される。「面積」には、欠陥の面積が記録される。「判定」には、欠陥検査装置12における欠陥有無の判定が記録され、0は検査結果が合格であったことを示しており、1は不合格であったことを示している。「レビュー」には、レビュー装置13においてレビューされた結果が記録され、0はレビュー結果が合格であったことを示しており、1は不合格であったことを示している。「検索状態」は、チューニングサーバ30によって検査条件が生成されたときに、当該試料を検索して検査条件の生成に使用したか否かが示された情報が記録されており、0は未検索であることを示しており、1は検索済みであることを示しており、2は、リファレンス画像データとして設定されていることを示している。「Ref閾値」には、Ref比較検査手段31bによって求められた閾値が記録される。「Die閾値」には、Die to Die検査手段31aによって求められた閾値が記録される。また、図示していないが、検査情報ファイルには検査した装置情報や検査条件等の情報も含まれている。
In addition,
図4は、レシピファイル保存部25のデータ構成の概略を示した図である。ここで、レシピとは試料の欠陥検出を行うための検査条件のことである。レシピファイル保存部25には、検査条件ファイルと、リファレンス画像データと、リファレンス作成用画像関連付けファイルが記録されている。レシピファイル保存部25において、検査条件ファイルは、検査における試料を撮像した際の光量や撮像モード、Die to Die検査やRef比較検査で合否を判定するための閾値などの数値データが記録されたファイルである。
FIG. 4 is a diagram showing an outline of the data configuration of the recipe
具体的な検査条件ファイルの情報としては、スロット番号情報、搬送方法情報、光学条件情報、試料マップ情報、検査パラメータ情報、欠陥抽出パラメータ情報、パターンマッチング情報、判定条件情報、リワーク情報、警告条件情報が存在する。スロット番号情報は、検査対象とする試料が配置されているスロットの番号である。搬送方法情報は、検査結果に応じて返却する試料のスロット番号やウェハカセットを分別する情報である。光学条件情報は、検査のための干渉フィルタ及び偏光フィルタの種別や両フィルタの有無、照明及び撮像における照明光量等や試料回転角度などの情報である。試料マップ情報は、試料内において分割されるチップの大きさや中心座標、分割数等の試料マップ情報及び検査対象とする領域の座標及び形状の情報である。 Specific inspection condition file information includes slot number information, transport method information, optical condition information, sample map information, inspection parameter information, defect extraction parameter information, pattern matching information, determination condition information, rework information, and warning condition information. Exists. The slot number information is a slot number in which a sample to be inspected is arranged. The transfer method information is information for sorting the slot number of the sample to be returned and the wafer cassette according to the inspection result. The optical condition information is information such as the type of interference filter and polarizing filter for inspection, the presence or absence of both filters, the illumination light quantity in illumination and imaging, and the sample rotation angle. The sample map information is sample map information such as the size and center coordinates of the chip divided in the sample, the number of divisions, and the coordinates and shape information of the region to be inspected.
検査パラメータ情報は、Die to Die検査とRef比較検査といった検査モード、欠陥分類の有無、リファレンスとして使用されている画像データの名称等の情報である。欠陥抽出パラメータ情報は、検査領域内にある非検査領域、検査閾値を含む検査の詳細パラメータの情報である。パターンマッチング情報は、検査対象画像データとリファレンス画像データとの位置ズレを補正するためにパターンマッチングさせる画像位置及びそのパラメータを含む情報である。判定条件情報は、欠陥分類のためのパラメータ及び分類名称、検査で不合格となった部分の面積や数、該当チップ数、欠陥分類結果及び分類による優先度に応じて試料の合否を判定する情報である。リワーク情報は、製造工程のやり直しの回数をカウントする機能の有無の情報である。警告条件情報は、警告する条件を定めた情報である。 The inspection parameter information is information such as inspection modes such as Die to Die inspection and Ref comparison inspection, presence / absence of defect classification, and the name of image data used as a reference. The defect extraction parameter information is information on detailed parameters of inspection including a non-inspection area and an inspection threshold within the inspection area. The pattern matching information is information including an image position to be subjected to pattern matching and its parameters in order to correct a positional deviation between the inspection target image data and the reference image data. Judgment condition information is information that determines pass / fail of a sample according to parameters and classification names for defect classification, area and number of parts that failed in inspection, number of corresponding chips, defect classification results, and priority by classification It is. The rework information is information on the presence / absence of a function for counting the number of times the manufacturing process is redone. The warning condition information is information that defines a warning condition.
上記の検査条件ファイルに含まれる情報の中で、試料マップ情報、検査対象領域、パターンマッチング情報等はリファレンス画像データに基づいて作成され、検査時にパターンマッチングによって検査画像とリファレンス画像データとのマッチングが取られている。また、検査条件ファイルは、上記の情報の他にも撮像画像を使った計測機能等の条件やパラメータなどの情報を含んでいる。 Among the information included in the above inspection condition file, sample map information, inspection target area, pattern matching information, etc. are created based on reference image data, and matching between the inspection image and reference image data is performed by pattern matching during inspection. Has been taken. In addition to the above information, the inspection condition file includes information such as conditions and parameters for a measurement function using a captured image.
リファレンス画像データは、Ref比較検査において比較の基準とされる画像データである。リファレンス作成用画像関連付けファイルは、リファレンス画像データが検査データ保存部24に格納されているどの画像データから作成されたものかを示す情報が記録されたファイルである。検査条件ファイルと、リファレンス画像データと、リファレンス作成用画像関連付けファイルは工程と品種ごとに作成され、これらの組み合わせをまとめてレシピファイル25aと呼ぶ。
The reference image data is image data used as a reference for comparison in the Ref comparison inspection. The reference creation image association file is a file in which information indicating from which image data the reference image data is stored in the examination
次に、図5から図7を参照して、欠陥検査の検査工程の流れについて説明する。図5は、欠陥検査処理の流れを示したフローチャートである。
最初に、欠陥検査装置12に、試料が投入されると(ステップS1)、欠陥検査装置12の画面には、図6に示すような画面(符号12a)が表示される。ここで、試料の形式を示す品種名(符号12a−1)と、製造工程を示す工程名(符号12a−2)によって検査条件が特定される。次に、欠陥検査装置12は、品種名と工程名をキーワードとして、画像サーバ20のレシピファイル保存部25からレシピファイル25aをダウンロードする(ステップS2)。そして、欠陥検査装置12は、ダウンロードしたレシピファイル25aに含まれている検査条件やリファレンス画像データに基づいて、試料を撮像して欠陥検出を行う(ステップS3)。
Next, the flow of the inspection process for defect inspection will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a flowchart showing the flow of the defect inspection process.
First, when a sample is loaded into the defect inspection apparatus 12 (step S1), a screen (reference numeral 12a) as shown in FIG. 6 is displayed on the screen of the
欠陥検出が終了すると、欠陥検査装置12は、検査結果を画像サーバ20の仮保存部26に記録する(ステップS4)。仮保存部26に新たな検査結果のデータが記録されると、画像サーバ20の検索部22が、新たに記録された検査結果のデータに基づいてキーワードなどを生成し、参照情報DB23のデータに追加する(ステップS5)。また、所定のファイル名・フォルダ構成に変換して、仮保存部26のデータを検査データ保存部24に移動する。
When the defect detection is completed, the
検査終了後にオペレータはクライアント端末11を操作して、画像サーバ20に接続し、クライアント端末11のウェブブラウザによって検査結果を参照することが可能である。検査結果を参照した場合のクライアント端末11の画面には図7に示す検査結果表示画面(符号11a)が表示される。当該検査結果表示画面では、試料を撮像した画像データに欠陥(符号11a−2、符号11a−3)が重ねられて表示されている。オペレータは、当該画面のボタンなどを操作することによって、撮像した画像データのみを表示したり、欠陥のみを表示することが可能である。また、検査結果表示画面の左側の表(符号11a−4)には、欠陥の情報として、上述したロット情報ファイル24aに記録されている欠陥の個数や面積、ADC(Analog Digital Converter)によって分類された分類結果が表示されている(ステップS6)。
After the inspection is completed, the operator can operate the
欠陥検査装置12は図示しない生産工場内の通信インフラとも接続されており、試料の検査結果は、生産工場の管理システムに通知される。この情報を基に管理システムは、レビュー装置13に試料を投入するよう、工場の搬送システムに指示を出す。試料が投入されたレビュー装置13は、レビューを実行する(ステップS7)。レビュー装置13は、レビュー結果を仮保存部26に保存し(画像含む)、検索部22によってロット情報ファイル24aの「レビュー」の欄に記録する(ステップS8)と共に、画像及び検査情報ファイルを検査データ保存部24に所定のフォーマットに変換して移動する。
The
次に、チューニングサーバ30が行う閾値やリファレンス画像などの検査条件の設定処理に関する3つの実施形態について説明する。
(第1実施形態)
図8から図10を参照して、第1実施形態における検査条件の設定処理を説明する。
最初に、画像サーバ20の参照情報DB23に新たにロット情報ファイル24aの情報が登録されると、チューニングサーバ30のデータベース監視部32は、新たなロット情報ファイル24aが登録されたことを検出する。データベース監視部32から、新たなロット情報ファイル24aが登録された情報を受信した閾値設定部31は、通信部33を介して画像サーバ20に接続する。閾値設定部31は、参照情報DB23から検査データ保存部24に格納されている新たに登録されたロット情報ファイル24aへの参照情報を検索する。そして、ロット情報ファイル24aを検索データ保存部24から読み出す。読み出したロット情報ファイル24aに基づいて、検査条件設定処理に必要な検査データとして、検索されたロット情報ファイル24aに対応する画像データを検査データ保存部24から読み出すとともに、当該ロット情報ファイル24aに対応するレシピファイル25aをレシピ保存部25から読み出す(ステップSa1)。
Next, three embodiments relating to setting processing of inspection conditions such as threshold values and reference images performed by the tuning
(First embodiment)
The inspection condition setting process in the first embodiment will be described with reference to FIGS.
First, when the
次に、閾値設定部31のDie to Die検査手段31aは、読み出した画像データに対してDie to Die検査を行い、閾値を変動させながら擬似欠陥を検出しない閾値を試料ごとに求める。ここで、擬似欠陥を検出しない閾値を求めることは、閾値の最小値を検出することとなる。(ステップSa2)。閾値設定部31は、図9に示す閾値リスト40をメモリ上に生成し、Die to Die検査手段31aによって求められた試料ごとの閾値を閾値リスト40に記録する(ステップSa3)。閾値設定部31は、読み出した画像データの全てについて検索が完了したか否かを判定し、完了していない場合にはステップSa1からステップSa3の処理を繰り返す(ステップSa4)。
Next, the Die to Die
一方、全ての画像データに対するDie to Die検査が完了した場合には、閾値設定部31は、閾値リスト40の中からDie to Die検査手段31aによって試料ごとに求められた閾値の中で最小の閾値を検出し、当該閾値に対応する画像データをRef比較検査におけるリファレンス画像データとして登録する(ステップSa5)。次に、閾値設定部31のRef比較検査手段31bは、リファレンス画像データに基づいてRef比較検査を行い、擬似欠陥を検出しない閾値を求める。ここで、擬似欠陥を検出しない閾値を求めることは、閾値の最小値を検出することとなる。(ステップSa6)。閾値設定部31は、擬似欠陥を検出しない閾値を求める過程で、Ref比較検査手段31bによって求められた試料ごとの閾値を閾値リスト40に記録する(ステップSa7)。閾値設定部31は、読み出した画像データの全てについて検索が終了したか否かを判定し、終了していない場合にはステップSa6からステップSa7の処理を繰り返す(ステップSa8)。
On the other hand, when the Die to Die inspection for all the image data is completed, the threshold
上記の処理が終了した後に、閾値設定部31は、閾値リスト40からステップSa3で登録された閾値の最大値とステップSa7で登録された閾値の最大値とを求める。そして、Die to Die検査手段31aによって求められた全ての試料で擬似欠陥を検出しない閾値と、Ref比較検査手段31bによって求められた全ての試料で擬似欠陥を検出しない閾値とリファレンス画像データとをレシピファイル保存部25の当該検査に対応するレシピファイル25aに登録する。この時、製造工程でのばらつき等の要因で擬似欠陥発生することを考慮した係数(経験値として1.2〜2)を乗じた閾値をレシピファイル25aに登録する。また、以前のレシピファイルに復元できるよう、レシピファイルのバージョンを上げて保存することが望ましい。
After the above process is completed, the
また、閾値設定部31は、閾値リスト40の情報をロット情報ファイル24aに登録する。Die to Die検査手段31aによって求められた試料ごとの擬似欠陥を検出しない閾値は、ロット情報ファイル24aの「Die閾値」の欄に記録される。また、Ref比較検査手段31bによって求められた試料ごとの閾値は、ロット情報ファイル24aの「Ref閾値」の欄に記録される。ロット情報ファイル24aの「検索状態」の欄には、検索が行われた画像データについては、「1:検査済み」が記録され、さらに、リファレンス画像データとして選択された画像データについては、「2:リファレンス画像」が記録される(ステップSa9)。
Further, the
なお、Die to Die検査手段31aによって求められた全ての試料で欠陥を検出しない閾値の情報をレシピファイル25aに設定するのではなく、Die to Die検査手段31aによって求められた全ての閾値の標準偏差から平均値を算出し、当該平均値に上記の係数を乗じた値をレシピファイル25aに登録するようにしてもよい。
It should be noted that the threshold information that does not detect defects in all samples obtained by the Die to Die
図10は、クライアント端末11の画面に表示された、ロット情報ファイル24aから読み出したウェハIDごとのRef比較検査手段31bによって求められた擬似欠陥を検出しない閾値を示したグラフである。
図10の画面をクライアント端末11から参照する場合には、オペレータはクライアント端末11を操作して、画像サーバ20に接続し、画像サーバ20の検索部22に参照したいレシピの情報を入力する。検索部22からの応答を受信したクライアント端末11は、画面に当該レシピの情報によって検索された幾つかの情報を表示する。オペレータの操作を受けたクライアント端末11が表示された情報の中から統計情報の文字列を選択すると、チューニングサーバ30の閾値設定部31に接続することができ、図10の画面を表示することができる。
FIG. 10 is a graph showing threshold values for detecting a pseudo defect obtained by the Ref
When referring to the screen of FIG. 10 from the
図10では、擬似欠陥を検出しない閾値に対応する画像データの欠陥検査装置12における検査結果がマークの種類あるいは色(赤及び青)で分類されて表示されている。また、欠陥検査装置12とレビュー装置13での判定がことなる画像データについては更に別のマーク(星型)あるいは色(黄)で分類されて表示されている。また、さらに、画像データが欠陥検査において不合格(欠陥検査NG)の画像データとそれ以外の画像データを分類する閾値ライン40aも表示されている。また、ウェハIDが時系列に並べられている場合には、このグラフから検査結果の時間的な変化も参照することができる。
In FIG. 10, the inspection result in the
オペレータはクライアント端末11を操作し、マウス等のポインタデバイスによってマークを選択することにより、検査結果表示画面(符号11a)を画面上に表示することができ、どのような欠陥かをオペレータが目視して確認することができる。また、オペレータの目視によって、レビュー装置13でのレビュー結果が合格(レビューOK)となっている画像データ(図中の星型)に欠陥がないことが確認された場合には、オペレータはクライアント端末11を操作し、閾値ライン40aを40bの位置まで移動させ、レビュー結果が合格の画像データの閾値が閾値ラインを越えないようにすることができる。閾値設定部31は、閾値ライン40bに対応する閾値の値を検出し、画像サーバ20内のレシピファイル保存部25のレシピファイル25aに閾値ライン40bに対応する閾値を登録する。
By operating the
このように、オペレータが適宜閾値の設定を画面上に表示された統計情報を参照し、クライアント端末11を操作して変更することで、欠陥検査装置12における検査が最適な条件で実行されることになり、検査条件の精度の向上を図ることができる。
As described above, the inspection by the
なお、第1実施形態では、各画像データの擬似欠陥を検出しない閾値を求める処理を閾値設定部31が行っているが、検査時間の短縮を図るのであれば、欠陥検査装置12にチューニングサーバ30の構成を備えるようにしてもよい。また、画像サーバ20に、チューニングサーバ30の構成を備えるようにしてもよい。
In the first embodiment, the
第1実施形態の構成によって、Die to Die検査において擬似欠陥を検出しない閾値を求めることが可能となる。また、Die to Die検査において求められた擬似欠陥を検出しない閾値の中で最小の閾値を持つ画像を利用してRef比較検査を行い、Ref比較検査における擬似欠陥を検出しない閾値を求め、またリファレンス画像データを抽出することができる。それによって、欠陥検査装置12における欠陥検査でこれらの閾値及びリファレンス画像を検査条件として使用することで現実の製造ラインによる影響度合いを取り込んだ検査条件の選定を行うことができ、好適に欠陥検出を行うことが可能となる。
With the configuration of the first embodiment, it is possible to obtain a threshold value at which no pseudo defect is detected in the Die to Die inspection. In addition, a Ref comparison inspection is performed using an image having a minimum threshold value among threshold values that do not detect a pseudo defect obtained in the Die to Die inspection, and a threshold value that does not detect a pseudo defect in the Ref comparison inspection is obtained. Image data can be extracted. As a result, by using these threshold values and reference images as inspection conditions in defect inspection in the
また、試料ごとの閾値をグラフ表示することで、オペレータが目視して閾値の状態を確認することができ、さらに、オペレータがクライアント端末を操作することで、適切な閾値を選択してレシピファイルに登録することが可能となる。それによって、異常な閾値が検出されていたとしても、オペレータの操作によって削除することができ、より精度の高い閾値を求めることが可能となる。 In addition, by displaying the threshold value for each sample in a graph, the operator can visually check the threshold state, and further, the operator operates the client terminal to select an appropriate threshold value in the recipe file. It becomes possible to register. Accordingly, even if an abnormal threshold value is detected, it can be deleted by an operator's operation, and a more accurate threshold value can be obtained.
(第2実施形態)
次に、図11を参照して、第2実施形態における検査条件の設定処理を説明する。第2実施形態における検査条件の設定処理は、試料となる半導体ウェハがあまり大量に製造されておらず、検査条件を安定して選定できない場合に行われる処理である。
(Second Embodiment)
Next, the inspection condition setting process in the second embodiment will be described with reference to FIG. The inspection condition setting process in the second embodiment is a process performed when a large number of semiconductor wafers as samples are not manufactured and the inspection conditions cannot be selected stably.
最初に、画像サーバ20の参照情報DB23に新たにロット情報ファイル24aが登録されると、チューニングサーバ30のデータベース監視部32は、新たなロット情報ファイル24aが登録されたことを検出する。データベース監視部32から、新たなロット情報ファイル24aが登録された情報を受信した閾値設定部31は、通信部33を介して画像サーバ20に接続する。閾値設定部31は、参照情報DB23から検査データ保存部24に格納されている新たに登録されたロット情報ファイル24aへの参照情報を検索する。そして、ロット情報ファイル24aを検索データ保存部24から読み出し、ロット情報ファイル24aに対応するレシピファイル25aをレシピ保存部25から読み出す。読み出したレシピファイル25aのリファレンス画像データを削除し、またリファレンス作成用画像関連付けファイルの内容を削除して初期化を行う(ステップSb1)。
First, when a
次に、閾値設定部31は、検査条件設定処理に必要な検査データとして、検索されたロット情報ファイル24aに対応する画像データを検査データ保存部24から読み出す(ステップSb2)。次に、閾値設定部31のDie to Die検査手段31aは、読み出した画像データに対してDie to Die検査によって閾値を変動させながら擬似欠陥を検出しない閾値を画像データごとに求める。ここで、擬似欠陥を検出しない閾値を求めることは、閾値の最小値を検出することとなる。(ステップSb3)。閾値設定部31は、閾値リスト40をメモリ上に生成し、Die to Die検査手段31aによって求められた試料ごとの閾値を閾値リスト40に記録する(ステップSb4)。閾値設定部31は、読み出した画像データの全てについて検索が完了したか否かを判定し、完了していない場合にはステップSb2からステップSb4の処理を繰り返す(ステップSb5)。
Next, the threshold
読み出した全ての画像データに対するDie to Die検査が完了した場合には、閾値設定部31は、閾値リスト40の中からDie to Die検査手段31aによって試料ごとに求められた閾値の中で最小の閾値を検出し、当該閾値に対応する画像データをRef比較検査のリファレンス画像データとして登録する。Die to Die検査の特徴として試料全体にムラや変化の少ない試料ほど閾値が低く設定される傾向があり、上記の処理によって検索された画像データの中で最もムラの少ない画像データがリファレンス画像データとして登録されることになる(ステップSb6)。
When the Die to Die inspection for all the read image data is completed, the
次に、閾値設定部31のRef比較検査手段31bは、登録されたリファレンス画像データに基づいてRef比較検査を行い、擬似欠陥を検出しない閾値を求める。ここで、擬似欠陥を検出しない閾値を求めることは、閾値の最小値を検出することとなる。(ステップSb7)。閾値を求める過程で、閾値設定部31は、画像データから閾値が求めることが可能か否かの判定を行う(ステップSb8)。閾値を求めることができない異常な画像データと判定された場合には、閾値設定部31は、画面に警告表示を行い、当該画像データに関連する情報を閾値リスト40に記録しない(ステップSb9)。一方、閾値を求めることができる画像データの場合には、閾値設定部31は、Ref比較検査手段31bによって求められた閾値を閾値リスト40に記録する(ステップSb10)。閾値設定部31は、読み出した画像データの全てについて検索が終了したか否かを判定し、終了していない場合にはステップSb7からステップSb10の処理を繰り返す(ステップSb11)。
Next, the Ref
一方、読み出した画像全てについて検索が終了している場合には、閾値設定部31は、閾値リスト40から、Ref比較検査手段31bによって試料ごとに求められた閾値の中で最大の閾値を検出し、当該閾値に対応する画像データを検査データ保存部24から読み出す(ステップSb12)。そして、読み出した画像データのレビューの結果をロット情報ファイル24aから読み出し、合格であったか不合格であったか否かを判定する(ステップSb13)。レビュー結果が合格の場合、若しくはレビュー結果が無い場合には、当該画像データのRef比較検査、またはDie to Die検査の閾値が予め定められた異常を示す異常値を超えていないか否かを判定する。ここで、異常値とは明らかに異常と認められる程度に大きな値が設定される(ステップSb14)。異常値を超えている場合及びレビュー結果がNGの場合には、当該画像データに関連する情報を閾値リスト40から削除する(ステップSb15)。そして、画面に警告表示を表示する(ステップSb16)。
On the other hand, when the search has been completed for all the read images, the threshold
次に、Ref比較検査及びDie to Die検査の閾値がステップSb14において上記の異常値を超えていない場合には、Ref比較検査によって試料ごとに求められた閾値の最大値が予め設定されている閾値の収束度合いを示す収束値以下になっているか否かを判定する(ステップSb17)。収束値以下になっていない場合は、最大の閾値に対応する画像データを2枚目のリファレンス画像データとしてレシピファイル25aに登録する。この時、リファレンス画像データは2枚の画像データの合成画像に変換されるとともに、レシピファイル25aのリファレンス作成用画像関連付けファイルに2枚目の画像データの情報を記録する(ステップSb18)。次に、閾値設定部31は、リファレンス画像データが所定の登録枚数以上登録されたか否かを判定する。ここで、所定の登録枚数とは閾値が安定する充分な枚数となる(ステップSb19)。所定の登録枚数以上登録されていない場合にはステップSb7へ戻り、再びリファレンス画像データの抽出を行う。
Next, when the threshold values of the Ref comparison inspection and the Die to Die inspection do not exceed the abnormal values in step Sb14, the threshold value that is preset with the maximum threshold value obtained for each sample by the Ref comparison inspection is set. It is determined whether or not the value is equal to or less than the convergence value indicating the degree of convergence (step Sb17). If it is not less than the convergence value, the image data corresponding to the maximum threshold is registered in the recipe file 25a as the second reference image data. At this time, the reference image data is converted into a composite image of two pieces of image data, and information of the second piece of image data is recorded in the reference creation image association file of the recipe file 25a (step Sb18). Next, the
ステップSb17においてRef比較検査の最大閾値が収束値以下になっている場合、あるいはステップSb19において所定の登録枚数以上登録されている場合には、閾値設定部31は、Die to Die検査手段31aによって求められた閾値の中で最大の閾値の情報と、Ref比較検査手段31bによって求められた閾値の中で最大の閾値とリファレンス画像データとをレシピファイル保存部25のレシピファイル25aに登録する。この時、製造工程でのばらつき等の要因で擬似欠陥発生することを考慮した係数(経験値として1.2〜2)を乗じた閾値をレシピファイル25aに登録する。
If the maximum threshold value of the Ref comparison inspection is equal to or less than the convergence value in step Sb17, or if a predetermined number of registered sheets or more are registered in step Sb19, the
また、閾値設定部31は、閾値リスト40の情報をロット情報ファイル24aに登録する。Die to Die検査手段31aによって求められた試料ごとの擬似欠陥を検出しない閾値は、ロット情報ファイル24aの「Die閾値」の欄に記録される。また、Ref比較検査手段31bによって求められた試料ごとの閾値は、ロット情報ファイル24aの「Ref閾値」の欄に記録される。ロット情報ファイル24aの「検索状態」の欄には、検索が行われた画像データについては、「1:検査済み」が記録され、さらに、リファレンス画像データとして選択された画像データについては、「2:リファレンス画像」が記録される(ステップSb20)。その後、検索データ保存部24のロット情報ファイル24aが更新されたことを検出した検索部22が、当該ロット情報ファイル24aに追加された情報に基づいて参照情報DB23を更新する。
Further, the
なお、Die to Die検査手段31aによって求められた閾値の中で最大の閾値の情報をレシピファイル25aに登録するのではなく、Die to Die検査手段31aによって求められた全ての閾値の標準偏差から平均値を算出し、当該平均値に上記の係数を乗じた値をレシピファイル25aに登録するようにしてもよい。 It should be noted that the information on the maximum threshold value among the threshold values obtained by the Die to Die inspection means 31a is not registered in the recipe file 25a, but is averaged from the standard deviations of all the threshold values obtained by the Die to Die inspection means 31a. A value may be calculated and a value obtained by multiplying the average value by the above coefficient may be registered in the recipe file 25a.
また、警告表示をする場合に、閾値設定部31とクライアント端末11とが接続している場合には警告表示をクライアント端末11の画面に表示するようにしてもよい。
Further, when the warning is displayed, if the
第2実施形態の構成によって、レビュー装置13によるレビュー結果の情報を取り込んだ閾値を求め、またリファレンス画像を抽出することができる。それによって、欠陥検査装置12における欠陥検査でこれらの閾値及びリファレンス画像を検査条件として使用することで製造ラインによる影響度合いに加え、レビュー装置13による精度を取り込んだ欠陥検査を行うことが可能となる。
With the configuration of the second embodiment, it is possible to obtain a threshold value that incorporates information on the review result by the
(第3実施形態)
次に、図12から図18を参照して、第3実施形態における検査条件の設定処理を説明する。第3実施形態における検査条件の設定処理は、試料のロット数の増加状況に従い、Die to Die検査方式とRef比較検査方式を組み合わせて検査条件の設定を行う処理である。
(Third embodiment)
Next, the inspection condition setting process in the third embodiment will be described with reference to FIGS. The inspection condition setting process in the third embodiment is a process for setting an inspection condition by combining the Die to Die inspection method and the Ref comparison inspection method in accordance with the increase in the number of sample lots.
最初に、データベース監視部32が、新たなロットに関連する情報が参照情報DB23に登録されたことを検出する(ステップSc1)。閾値設定部31は、データベース監視部32から新たなロットが検出された情報を受信する。そして、検査対象の総ロット数が予め設定されているn1よりも小さいか否かを判定する(ステップSc2)。総ロット数がn1よりも小さい場合には、Die to Die検査に基づく閾値設定を行う第1処理を実行する(ステップSc3)。一方、総ロット数がn1を超えた場合に、総ロット数がn1と等しいか否かを判定する(ステップSc4)。
First, the
総ロット数がn1と等しい場合にはDie to Die検査とRef比較検査を組み合わせた検査条件の設定を行う第2処理を実行する(ステップSc5)。次に、総ロット数がn1を超えている場合でかつ、総ロット数が予め設定されている複数の所定の個数(n1+N×m:m=1,2,3…)であるか否かを判定する(ステップSc6)。総ロット数が所定の個数でない場合にはステップSc1に戻り新たなロットの登録を監視する。総ロット数が所定の個数の場合には、次に総ロット数がn2より小さいか否かを判定する。ここで、n2は、閾値を安定して選定することが可能な程度の数である(ステップSc7)。 If the total number of lots is equal to n1, a second process for setting an inspection condition that combines the die-to-die inspection and the Ref comparison inspection is executed (step Sc5). Next, whether the total number of lots exceeds n1 and whether the total number of lots is a predetermined number (n1 + N × m: m = 1, 2, 3,...) Determine (step Sc6). If the total number of lots is not a predetermined number, the process returns to step Sc1 to monitor registration of a new lot. If the total number of lots is a predetermined number, it is next determined whether or not the total number of lots is smaller than n2. Here, n2 is a number that allows the threshold to be selected stably (step Sc7).
総ロット数がn2より小さい場合には、Ref検査による閾値設定処理を行う第3処理を実行する(ステップSc11)。一方、総ロット数がn2以上の場合には、レビュー結果と判定結果が相異する画像データが存在するか否かをロット情報ファイル24aに基づいて判定する(ステップSc8)。レビュー結果と相異する画像データが存在しない場合には、ステップSc1に戻り新たなロットの登録を監視する。一方、レビュー結果と相異する画像データが存在する場合には、次に、レビュー結果と相異している画像データの数が予め設定されている安定数を超えているか否かを判定する。ここで安定数とは、閾値が安定する程度の充分な値である(ステップSc9)。レビュー結果と相異している画像データの数が安定数を超えていない場合にはステップSc11に進み、第3処理を実行する。一方、レビュー結果と相異している画像データの数が安定数を超えていない場合には、第2処理を行う(ステップSc10)。
When the total number of lots is smaller than n2, a third process for performing a threshold setting process by Ref inspection is executed (step Sc11). On the other hand, when the total number of lots is equal to or greater than n2, it is determined based on the
図13は、図12の処理の流れを、総ロット数を横軸にして示したタイミングチャートである。図13に示す通り、総ロット数がn1より少ない場合、即ちまだそれほど多くの半導体ウェハが検査されていない場合には、Die to Die検査に基づく第1処理によって検査条件の設定を行い、総ロット数がn1になった時に、Die to Die検査とRef比較検査を組み合わせた閾値設定を行う第2処理を実行する。その後、総ロット数が所定の個数(n1+N×m:m=1,2,3…)、即ちある程度の数の半導体ウェハが検査された場合になるまでは、第2処理によって求められた検査条件を使用する。総ロット数が所定の個数(n1+N×m:m=1,2,3…)になると、次は、総ロット数がn2より小さい間、即ちDie to Die検査を必要としない程度の数の半導体ウェハが検査された場合には、Ref検査のみに基づく閾値設定処理を行う第3処理を行う。総ロット数がn2以上になった時はレビュー結果に相異する画像データの数に基づいて第2処理あるいは第3処理を選択して閾値設定処理を行うこととなる。 FIG. 13 is a timing chart showing the processing flow of FIG. 12 with the total number of lots on the horizontal axis. As shown in FIG. 13, when the total number of lots is less than n1, that is, when so many semiconductor wafers are not yet inspected, the inspection conditions are set by the first process based on the die-to-die inspection, When the number reaches n1, a second process is performed in which a threshold is set by combining the Die to Die inspection and the Ref comparison inspection. Thereafter, until the total number of lots is a predetermined number (n1 + N × m: m = 1, 2, 3,...), That is, when a certain number of semiconductor wafers are inspected, the inspection conditions determined by the second process Is used. When the total number of lots reaches a predetermined number (n1 + N × m: m = 1, 2, 3,...), Next, the number of semiconductors is smaller than the total number of lots, that is, does not require a die-to-die inspection. When the wafer is inspected, a third process for performing a threshold setting process based only on the Ref inspection is performed. When the total number of lots is equal to or greater than n2, the threshold setting process is performed by selecting the second process or the third process based on the number of image data different from the review result.
次に、図14から図16を参照して上述した第1処理について説明する。図14は、上述した第1処理の流れを示したフローチャートである。
最初に、閾値設定部31は、参照情報DB23から検査データ保存部24に格納されている新たに登録されたロット情報ファイル24aへの参照情報を検索する。そして、ロット情報ファイル24aを検索データ保存部24から読み出す。読み出したロット情報ファイル24aに基づいて、検査条件設定処理に必要な検査データとして、検索されたロット情報ファイル24aに対応する画像データを検査データ保存部24から読み出すとともに、当該ロット情報ファイル24aに対応するレシピファイル25aをレシピ保存部25から読み出す(ステップSd1)。
Next, the first process described above will be described with reference to FIGS. FIG. 14 is a flowchart showing the flow of the first process described above.
First, the
次に、閾値設定部31のDie to Die検査手段31aは、読み出した画像データに対してDie to Die検査を行い、閾値を変動させながら擬似欠陥を検出しない閾値を試料ごとに求める。ここで、擬似欠陥を検出しない閾値を求めることは、閾値の最小値を検出することとなる。(ステップSd2)。閾値設定部31は、閾値リスト40をメモリ上に生成し、Die to Die検査手段31aによって求められた試料ごとの閾値を閾値リスト40に記録する(ステップSd3)。閾値設定部31は、読み出した画像データの全てについて検索が完了したか否かを判定し、完了していない場合にはステップSd1からステップSd3の処理を繰り返す(ステップSd4)。
Next, the Die to Die
一方、全ての画像データに対するDie to Die検査が完了した場合には、閾値設定部31は、閾値リスト40に記録されている閾値の標準偏差を算出し最適な閾値を求める。例えば、1ロット分の閾値が図15に示すような関係になっている場合であっても、図16に示すように標準偏差を算出することで閾値の平均値を求めるができ、当該平均値を最適な閾値として選択することができる(ステップSd5)。そして、閾値設定部31は、最適な閾値に、製造工程でのばらつき等の要因で擬似欠陥発生することを考慮した係数(経験値として1.2〜2)を乗じてレシピファイル25aに登録する。
On the other hand, when the Die to Die inspection for all the image data is completed, the threshold
また、閾値設定部31は、閾値リスト40の情報をロット情報ファイル24aに登録する。Die to Die検査手段31aによって求められた試料ごとの閾値は、ロット情報ファイル24aの「Die閾値」の欄に記録される。ロット情報ファイル24aの「検索状態」の欄には、検索が行われた画像データについては、「1:検査済み」が記録され、図12の処理に戻る(ステップSd6)。
Further, the
第1処理において、Die to Die検査の試料ごとの閾値の標準偏差を算出し、平均値を求めることで、異常な試料による影響を避けて適切な閾値を選択することが可能となる。 In the first process, by calculating the standard deviation of the threshold value for each sample of the Die to Die test and obtaining the average value, it is possible to select an appropriate threshold value while avoiding the influence of the abnormal sample.
図17は、上述した第2処理の流れを示したフローチャートである。
最初に、閾値設定部31は、参照情報DB23から検査データ保存部24に格納されている新たに登録されたロット情報ファイル24aへの参照情報を検索する。そして、ロット情報ファイル24aを検索データ保存部24から読み出し、ロット情報ファイル24aに対応するレシピファイル25aをレシピ保存部25から読み出す。読み出したレシピファイル25aのリファレンス画像データを削除し、リファレンス作成用画像関連付けファイルの内容を削除して初期化を行う(ステップSe1)。
FIG. 17 is a flowchart showing the flow of the second process described above.
First, the
次に、閾値設定部31は、検査条件設定処理に必要な検査データとして、検索されたロット情報ファイル24aに対応する画像データを検査データ保存部24から読み出す(ステップSe2)。次に、閾値設定部31のDie to Die検査手段31aは、読み出した画像データに対してDie to Die検査によって閾値を変動させながら擬似欠陥を検出しない閾値を画像データごとに求める。ここで、擬似欠陥を検出しない閾値を求めることは、閾値の最小値を検出することとなる。(ステップSe3)。閾値設定部31、閾値リスト40をメモリ上に生成し、Die to Die検査手段31aによって求められた試料ごとの閾値を閾値リスト40に記録する(ステップSe4)。閾値設定部31は、読み出した画像データの全てについて検索が終了したか否かを判定し、完了していない場合にはステップSe2からステップSe4の処理を繰り返す(ステップSe5)。
Next, the threshold
読み出した全ての画像データに対するDie to Die検査が完了した場合には、閾値設定部31は、閾値リスト40の中からDie to Die検査手段31aによって試料ごとに求められた閾値の中で最小の閾値を検出し、当該閾値に対応する画像データをRef比較検査のリファレンス画像データとして登録する。Die to Die検査の特徴として試料全体にムラや変化の少ない試料ほど閾値が低く設定される傾向があり、上記の処理によって検索された画像データの中で最もムラの少ない画像データがリファレンス画像データとして登録されることとなる(ステップSe6)。
When the Die to Die inspection for all the read image data is completed, the
次に、閾値設定部31のRef比較検査手段31bは、登録されたリファレンス画像データに基づいてRef比較検査を行い、擬似欠陥を検出しない閾値を求める。ここで、擬似欠陥を検出しない閾値を求めることは、閾値の最小値を検出することとなる。(ステップSe7)。閾値を求める過程で、閾値設定部31は、画像データから閾値が求めることが可能か否かの判定を行う(ステップSe8)。閾値を求めることができない異常な画像データと判定された場合には、閾値設定部31は、画面に警告表示を行い、当該画像データに関連する情報を閾値リスト40に記録しない(ステップSe9)。一方、閾値を求めることができる画像データの場合には、閾値設定部31は、Ref比較検査手段31bによって求められた閾値を閾値リスト40に記録する(ステップSe10)。閾値設定部31は、読み出した画像データの全てについて検索が終了したか否かを判定し、終了していない場合にはステップSe7からステップSe10の処理を繰り返す(ステップSe11)。
Next, the Ref
一方、読み出した画像全てについて検索が終了している場合には、閾値設定部31は、閾値リスト40から、Ref比較検査手段31bによって試料ごとに求められた閾値の中で最大の閾値を検出し、当該閾値に対応する画像データを検査データ保存部24から読み出す(ステップSe12)。そして、読み出した画像データのレビューの結果をロット情報ファイル24aから読み出し、合格であったか不合格であったか否かを判定する(ステップSe13)。レビュー結果が合格の場合、若しくはレビュー結果が無い場合には、当該画像データのRef比較検査、またはDie to Die検査の閾値が予め定められた異常を示す異常値を超えていないか否かを判定する。ここで、異常値とは明らかに異常と認められる程度に大きな値が設定される(ステップSe14)。異常値を超えている場合及びレビュー結果がNGの場合には、当該画像データに関連する情報を閾値リスト40から削除する(ステップSe15)。そして、画面に警告表示を表示する(ステップSe16)。
On the other hand, when the search has been completed for all the read images, the threshold
次に、ステップSe13でレビュー結果が合格である場合、あるいは、Ref比較検査及びDie to Die検査の閾値がステップSe14において上記の異常値を超えていない場合には、Ref比較検査によって試料ごとに求められた閾値の最大値が予め設定されている閾値の収束度合いを示す収束値以下になっているか否かを判定する(ステップSe17)。収束値以下になっていない場合は、最大の閾値に対応する画像データを2枚目のリファレンス画像データとしてレシピファイル25aに登録する。この時、リファレンス画像データは2枚の画像データの合成画像に変換されるとともに、レシピファイル25aのリファレンス作成用画像関連付けファイルに2枚目の画像データの情報を記録する(ステップSe18)。次に、閾値設定部31は、リファレンス画像データが所定の登録枚数以上登録されたか否かを判定する。ここで、所定の登録枚数とは閾値が安定する充分な枚数となる(ステップSe19)。所定の登録枚数以上登録されていない場合にはステップSe7へ戻り、再びリファレンス画像データの抽出を行う。
Next, if the review result is acceptable in step Se13, or if the threshold values for the Ref comparison inspection and the Die to Die inspection do not exceed the above abnormal values in step Se14, they are obtained for each sample by the Ref comparison inspection. It is determined whether or not the maximum value of the threshold value is equal to or less than the convergence value indicating the degree of convergence of the preset threshold value (step Se17). If it is not less than the convergence value, the image data corresponding to the maximum threshold is registered in the recipe file 25a as the second reference image data. At this time, the reference image data is converted into a composite image of two pieces of image data, and information on the second piece of image data is recorded in the reference creation image association file of the recipe file 25a (step Se18). Next, the
ステップSe17においてRef比較検査の最大閾値が収束値以下になっている場合、あるいはステップSe19において所定の登録枚数以上登録されている場合には、閾値設定部31は、最終的に求められた閾値の情報やリファレンス画像データをレシピファイル保存部25のレシピファイル25aに登録する。この時、製造工程でのばらつき等の要因で擬似欠陥発生することを考慮した係数(経験値として1.2〜2)を乗じた閾値をレシピファイル25aに登録する。
If the maximum threshold value of the Ref comparison inspection is equal to or less than the convergence value in step Se17, or if a predetermined number of registered sheets or more are registered in step Se19, the
また、閾値設定部31は、閾値リスト40の情報をロット情報ファイル24aに登録する。Die to Die検査手段31aによって求められた試料ごとの閾値は、ロット情報ファイル24aの「Die閾値」の欄に記録される。Ref比較検査手段31bによって求められた試料ごとの閾値は、ロット情報ファイル24aの「Ref閾値」の欄に記録される。ロット情報ファイル24aの「検索状態」の欄には、検索が行われた画像データについては、「1:検査済み」が記録され、さらに、リファレンス画像データとして選択された画像データについては、「2:リファレンス画像」が記録され、図12の処理に戻る(ステップSe20)。
Further, the
図18は、上述した第3処理の流れを示したフローチャートである。第3処理では、Die to Die検査を必要としない程度の数の半導体ウェハが検査された場合に行われる処理であるため、第2処理におけるDie to Die検査の処理が省略された構成となっている。 FIG. 18 is a flowchart showing the flow of the third process described above. The third process is a process that is performed when a number of semiconductor wafers that do not require a Die to Die inspection are inspected, and thus the Die to Die inspection process in the second process is omitted. Yes.
最初に、閾値設定部31は、参照情報DB23から検査データ保存部24に格納されている新たに登録されたロット情報ファイル24aへの参照情報を検索する。そして、ロット情報ファイル24aを検索データ保存部24から読み出し、ロット情報ファイル24aに対応するレシピファイル25aをレシピ保存部25から読み出す。そして、検査条件設定処理に必要な検査データとして、検索されたロット情報ファイル24aに対応する画像データを検査データ保存部24から読み出す(ステップSf1)。
First, the
次に、閾値設定部31のRef比較検査手段31bは、レシピファイル25aのリファレンス画像データに基づいてRef比較検査を行い、擬似欠陥を検出しない閾値を求める。ここで、擬似欠陥を検出しない閾値を求めることは、閾値の最小値を検出することとなる。閾値設定部31は、閾値リスト40をメモリ上に生成し、Ref比較検査手段31bによって求められた閾値を記録する(ステップSf2)。閾値を求める過程で、閾値設定部31は、画像データから閾値が求めることが可能か否かの判定を行う(ステップSf3)。閾値を求めることができない異常な画像データと判定された場合には、閾値設定部31は、画面に警告表示を行い、当該画像データに関連する情報を閾値リスト40に記録しない(ステップSf4)。一方、閾値を求めることができる画像データの場合には、閾値設定部31は、Ref比較検査手段31bによって求められた閾値を閾値リスト40に記録する(ステップSf5)。閾値設定部31は、読み出した画像データの全てについて検索が終了したか否かを判定し、終了していない場合にはステップSf2からステップSf5の処理を繰り返す(ステップSf6)。
Next, the Ref
一方、読み出した画像全てについて検索が終了している場合には、閾値設定部31は、閾値リスト40から、Ref比較検査手段31bによって試料ごとに求められた閾値の中で最大の閾値を検出し、当該閾値に対応する画像データを検査データ保存部24から読み出す(ステップSf7)。そして、読み出した画像データのレビューの結果をロット情報ファイル24aから読み出し、合格であったか不合格であったか否かを判定する(ステップSf8)。レビュー結果が合格の場合、若しくはレビュー結果が無い場合には、当該画像データのRef比較検査の閾値が予め定められた異常を示す異常値を超えていないか否かを判定する。ここで、異常値とは明らかに異常と認められる程度に大きな値が設定される(ステップSf9)。異常値を超えている場合及びレビュー結果がNGの場合には、当該画像データに関連する情報を閾値リスト40から削除する(ステップSf10)。そして、クライアント端末11が接続している場合にはクライアント端末11の画面に警告表示を表示する(ステップSf11)。
On the other hand, when the search has been completed for all the read images, the threshold
次に、ステップSf8でレビュー結果が合格である場合、あるいは、Ref比較検査及びDie to Die検査の閾値がステップSf9において上記の異常値を超えていない場合には、Ref比較検査によって試料ごとに求められた閾値の最大値が予め設定されている閾値の収束度合いを示す収束値以下になっているか否かを判定する(ステップSf12)。収束値以下になっていない場合は、最大の閾値に対応する画像データを2枚目のリファレンス画像データとしてレシピファイル25aに登録する。この時、リファレンス画像データは2枚の画像データの合成画像に変換されるとともに、レシピファイル25aのリファレンス作成用画像関連付けファイルに2枚目の画像データの情報を記録する(ステップSf13)。次に、閾値設定部31は、リファレンス画像データが所定の登録枚数以上登録されたか否かを判定する。ここで、所定の登録枚数とは閾値が安定する充分な枚数となる(ステップSf14)。所定の登録枚数以上登録されていない場合にはステップSf2へ戻り、再びリファレンス画像データの抽出を行う。
Next, if the review result is acceptable in step Sf8, or if the threshold values for the Ref comparison inspection and the Die to Die inspection do not exceed the above abnormal values in step Sf9, they are obtained for each sample by the Ref comparison inspection. It is determined whether or not the maximum value of the threshold value is equal to or less than a convergence value indicating a convergence degree of a preset threshold value (step Sf12). If it is not less than the convergence value, the image data corresponding to the maximum threshold is registered in the recipe file 25a as the second reference image data. At this time, the reference image data is converted into a composite image of the two image data, and the information of the second image data is recorded in the reference creation image association file of the recipe file 25a (step Sf13). Next, the
ステップSf12においてRef比較検査の最大閾値が収束値以下になっている場合、あるいはステップSf14において所定の登録枚数以上登録されている場合には、閾値設定部31は、最終的に求められた閾値の情報やリファレンス画像データをレシピファイル保存部25のレシピファイル25aに登録する。この時、製造工程でのばらつき等の要因で擬似欠陥発生することを考慮した係数(経験値として1.2〜2)を乗じた閾値をレシピファイル25aに登録する。
If the maximum threshold value of the Ref comparison inspection is equal to or less than the convergence value in step Sf12, or if a predetermined number of registered sheets or more are registered in step Sf14, the
また、閾値設定部31は、閾値リスト40の情報をロット情報ファイル24aに登録する。Ref比較検査手段31bで求められた試料ごとの閾値は、ロット情報ファイル24aの「Ref閾値」の欄に記録される。そして、ロット情報ファイル24aの「検索状態」の欄に、検索が行われた画像データについては、「1:検査済み」を記録し、さらに、リファレンス画像データとして選択された画像データについては、「2:リファレンス画像」を記録し、図12の処理に戻る(ステップSf15)。
Further, the
第3実施形態の構成によって、製造ラインにおいて初めて試料が生産される時から大量に生産されるようになるまで、一貫して製造ラインによる影響度合いやレビュー装置13によるレビュー結果を取り込んだ閾値やリファレンス画像などの検査条件を求めることが可能となる。それによって、製造ラインを動作させた時点から、人手によって検査条件の調整を行うことなく欠陥検査を進めることができ、生産効率を向上させることが可能となる。
With the configuration of the third embodiment, the threshold and reference that consistently incorporate the degree of influence by the production line and the review result by the
なお、上述した第1実施形態、第2実施形態、第3実施形態では、データベース監視部32によって新たな情報が登録された際に検査条件の設定処理が開始されるようにしていたが、オペレータの操作によってクライアント端末11が閾値設定部31に接続し、オペレータの操作に基づいて検査条件の設定処理が開始されるようにしてもよい。
In the first embodiment, the second embodiment, and the third embodiment described above, the inspection condition setting process is started when new information is registered by the
上述のチューニングサーバ30及び画像サーバ20及びクライアント端末11は内部に、コンピュータシステムを有している。そして、上述した検査条件設定処理は、プログラムの形式でコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記憶されており、このプログラムをコンピュータが読み出して実行することによって、上記処理が行われる。ここでコンピュータ読み取り可能な記録媒体とは、磁気ディスク、光磁気ディスク、CD−ROM、DVD−ROM、半導体メモリ等をいう。また、このコンピュータプログラムを通信回線によってコンピュータに配信し、この配信を受けたコンピュータが当該プログラムを実行するようにしても良い。
The tuning
1 欠陥検査システム
12 欠陥検査装置
13 レビュー装置
20 画像サーバ
30 チューニングサーバ
31 閾値設定部
31a Die to Die検査手段
31b Ref比較検査手段
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記画像データの所定領域間を比較し、比較結果に基づいて第1の閾値を前記画像データごとに算出する第1の算出過程と、
前記第1の閾値に対応する前記画像データを参照画像として選択する選択過程と、
選択された前記参照画像データと他の画像データとを比較した比較結果に基づいて第2の閾値を前記他の画像データごとに算出する第2の算出過程と、
を含むことを特徴とする検査条件設定方法。 A defect inspection method for calculating a luminance difference between image data obtained by sequentially imaging a plurality of inspected objects and image data to be compared, and having a portion where the luminance difference exceeds a predetermined threshold as a defect An inspection condition setting method for setting inspection condition information used for
A first calculation step of comparing predetermined regions of the image data and calculating a first threshold value for each of the image data based on a comparison result;
A selection process of selecting the image data corresponding to the first threshold as a reference image;
A second calculation step of calculating a second threshold value for each of the other image data based on a comparison result obtained by comparing the selected reference image data with other image data;
The inspection condition setting method characterized by including.
前記画像データの所定の領域間を比較し、比較結果に基づいて前記画像データから欠陥を検出しない第1の閾値を前記画像データごとに算出する第1の算出過程と、
前記画像データごとに算出された前記第1の閾値の中から最小値となる前記第1の閾値を検出し、最小値となる前記第1の閾値対応する前記画像データを参照画像データとして選択する選択過程と、
選択された前記参照画像データと他の画像データとを比較した比較結果に基づいて前記他の画像データから欠陥を検出しない第2の閾値を前記他の画像データごとに算出する第2の算出過程と、
前記第2の閾値と前記参照画像データとに基づいて前記検査条件情報を設定する検査条件設定過程と、
を含むことを特徴とする検査条件設定方法。 A defect inspection method for calculating a luminance difference between image data obtained by sequentially imaging a plurality of inspected objects and image data to be compared, and having a portion where the luminance difference exceeds a predetermined threshold as a defect An inspection condition setting method for setting inspection condition information used for
A first calculation step of comparing a predetermined area of the image data, and calculating a first threshold value for each of the image data that does not detect a defect from the image data based on a comparison result;
The first threshold value that is the minimum value is detected from the first threshold values calculated for each of the image data, and the image data corresponding to the first threshold value that is the minimum value is selected as reference image data. The selection process,
A second calculation step of calculating, for each of the other image data, a second threshold value that does not detect a defect from the other image data based on a comparison result obtained by comparing the selected reference image data with the other image data; When,
An inspection condition setting process for setting the inspection condition information based on the second threshold and the reference image data;
The inspection condition setting method characterized by including.
前記第2の算出過程によって算出された前記第2の閾値の中で最大値となる前記第2の閾値を検出し、検出した最大値となる前記第2の閾値に対応する前記画像データの前記再検査結果情報を前記再検査結果情報記憶手段から読み出す再検査情報読出過程と、
前記再検査情報読出過程によって読み出された前記再検査結果情報が不合格の場合に、当該画像データに対応する前記第2の閾値を削除する削除過程と、
を更に含むことを特徴とする請求項2に記載の検査条件設定方法。 A re-inspection information storage process for storing re-examination result information in which re-inspection information is recorded in the re-inspection information storage means in association with the image data;
The second threshold value that is the maximum value among the second threshold values calculated by the second calculation process is detected, and the image data corresponding to the second threshold value that is the detected maximum value is detected. Re-inspection information reading process for reading out re-inspection result information from the re-inspection result information storage means;
A deletion step of deleting the second threshold value corresponding to the image data when the re-examination result information read out by the re-inspection information reading step is unacceptable;
The inspection condition setting method according to claim 2, further comprising:
前記第1の閾値の標準偏差の値を算出し、前記標準偏差の値に基づいて前記第1の閾値の平均値を算出し、前記平均値に所定の係数を乗じた値を前記検査条件情報に設定する第1の設定過程と、
前記第2の閾値の中から最大値を検出し、前記最大値に所定の係数を乗じた値と前記参照画像データとを前記検査条件情報に設定する第2の設定過程と、
を更に含むことを特徴とする請求項2または3に記載の検査条件設定方法。 In the inspection condition setting process,
A standard deviation value of the first threshold value is calculated, an average value of the first threshold value is calculated based on the standard deviation value, and a value obtained by multiplying the average value by a predetermined coefficient is the inspection condition information. A first setting process to set to
A second setting step of detecting a maximum value from the second threshold, and setting a value obtained by multiplying the maximum value by a predetermined coefficient and the reference image data in the inspection condition information;
The inspection condition setting method according to claim 2, further comprising:
ユーザの指示を受けて前記閾値情報記憶手段から前記第2の閾値を読み出し、前記第2の閾値をグラフ化して画面に表示するとともに、前記第2の閾値に対応する前記検査結果情報と前記再検査結果情報とを表示する表示過程と、
前記画面上で前記ユーザの操作によって選択された箇所の前記グラフの座標軸における数値を検出する検出過程と、を含み、
前記検査条件設定過程は、
前記検出過程によって検出された前記数値に基づいて前記検査条件情報を設定する過程を更に含むことを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1つに記載の検査条件設定方法。 A threshold value recording step of recording the second threshold value calculated by the second threshold value calculation step in a threshold value information storage means;
In response to a user instruction, the second threshold value is read from the threshold value information storage means, the second threshold value is graphed and displayed on the screen, and the inspection result information corresponding to the second threshold value and the second threshold value are displayed. A display process for displaying test result information;
Detecting a numerical value on a coordinate axis of the graph at a location selected by the user's operation on the screen, and
The inspection condition setting process includes:
5. The inspection condition setting method according to claim 2, further comprising a step of setting the inspection condition information based on the numerical value detected by the detection process.
前記画像データの所定領域間を比較し、比較結果に基づいて第1の閾値を前記画像データごとに算出する第1の算出手段と、
前記第1の算出手段によって算出された前記第1の閾値に対応する前記画像データを参照画像として選択する選択手段と、
前記選択手段によって選択された前記参照画像データと他の画像データとを比較した比較結果に基づいて第2の閾値を前記他の画像データごとに算出する第2の算出手段と、
を備えたことを特徴とする検査条件設定装置。 Defect inspection in which a difference in brightness between image data to be compared is calculated for image data acquired by sequentially imaging a plurality of objects to be inspected, and a portion where the brightness difference exceeds a predetermined threshold is inspected as a defect An inspection condition setting device for setting inspection condition information used in the apparatus,
A first calculation unit that compares predetermined regions of the image data and calculates a first threshold value for each of the image data based on a comparison result;
Selection means for selecting, as a reference image, the image data corresponding to the first threshold value calculated by the first calculation means;
Second calculation means for calculating a second threshold value for each of the other image data based on a comparison result obtained by comparing the reference image data selected by the selection means with other image data;
An inspection condition setting device characterized by comprising:
前記画像データの所定領域間を比較し、比較結果に基づいて第1の閾値を前記画像データごとに算出する第1の算出手段、
前記第1の算出手段によって算出された前記第1の閾値に対応する前記画像データを参照画像として選択する選択手段、
前記選択手段によって選択された前記参照画像データと他の画像データとを比較した比較結果に基づいて第2の閾値を前記他の画像データごとに算出する第2の算出手段、
として機能させるためのコンピュータプログラム。
Defect inspection in which a difference in brightness between image data to be compared is calculated for image data acquired by sequentially imaging a plurality of objects to be inspected, and a portion where the brightness difference exceeds a predetermined threshold is inspected as a defect A computer of an inspection condition setting apparatus for setting inspection condition information used in the apparatus compares a predetermined area of the image data, and calculates a first threshold value for each image data based on the comparison result means,
Selecting means for selecting, as a reference image, the image data corresponding to the first threshold value calculated by the first calculating means;
Second calculation means for calculating a second threshold value for each of the other image data based on a comparison result obtained by comparing the reference image data selected by the selection means with other image data;
Computer program to function as.
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071017 |
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A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20100122 |