JP2006111817A - Interlayer insulator material comprising aryl ester oligomer and cured product of the same - Google Patents

Interlayer insulator material comprising aryl ester oligomer and cured product of the same Download PDF

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顕治 島村
Kazufumi Kai
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an interlayer insulating material consisting of an allyl ester oligomer, which has excellent characteristics for processing and excellent storage stability, and also to provide an allyl ester resin prepared by curing the allyl ester oligomer for an interlayer insulating material, which has excellent electric characteristics, thermal resistance and mechanical strength. <P>SOLUTION: The interlayer insulating material comprises an allyl oligomer having a group represented by formula (1), a group represented by formula (2) in the figure and/or a group represented by formula (3). In formula (1), R<SB>1</SB>represents an allyl group or a methallyl group and when there are more than one group in one oligomer molecule, they can be either the same or different. In formulae (2) and (3), X<SB>1</SB>, X<SB>2</SB>and X<SB>3</SB>are each independently a 1-10C organic group, X<SB>2</SB>and X<SB>3</SB>are bonded through a chain having above formula (1) and an ester bond. R<SB>2</SB>represents H atom or a 1-10C organic group. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、プリント配線基板などの層間絶縁膜に適用されるアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料およびその製造方法、ならびにこのアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料の硬化物に関する。さらに詳しくは、保存安定性および加工性に優れたアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料、および耐熱性、電気特性、機械的強度に優れたアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料の硬化物に関する。   The present invention relates to an interlayer insulating material composed of an allyl ester oligomer applied to an interlayer insulating film such as a printed wiring board, a manufacturing method thereof, and a cured product of the interlayer insulating material composed of this allyl ester oligomer. More specifically, the present invention relates to an interlayer insulating material composed of an allyl ester oligomer excellent in storage stability and processability, and a cured product of the interlayer insulating material composed of an allyl ester oligomer excellent in heat resistance, electrical characteristics, and mechanical strength.

電子材料分野における耐熱性高分子材料には、耐熱性、電気特性、加工性、機械的強度などの諸特性の向上が求められている。このうち、耐熱性の向上は、ハンダの鉛フリー化の進展に伴うハンダの溶融温度の上昇を主な理由として要求されている。また、電気特性については、電子部品の小型化、高速化による素子内や基板上での信号伝搬速度の向上に伴い、誘電損失の少ない低誘電材料等が求められている。加工性については、熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とで異なるが、要求される耐熱性に応じて使い分けているのが現状である。さらに、電子部品に用いられる熱硬化性樹脂材料は耐熱性が高くなると硬くて脆くなる傾向があり、さらなる機械的強度の向上が求められている。   Heat resistant polymer materials in the field of electronic materials are required to improve various properties such as heat resistance, electrical properties, workability, and mechanical strength. Among these, improvement in heat resistance is required mainly due to an increase in the melting temperature of solder accompanying the progress of lead-free soldering. In addition, with respect to electrical characteristics, with the improvement of signal propagation speed in the element and on the substrate due to the downsizing and speeding up of electronic components, low dielectric materials and the like with low dielectric loss are required. Although the processability differs between thermoplastic resins and thermosetting resins, the present situation is that they are properly used according to the required heat resistance. Furthermore, thermosetting resin materials used for electronic components tend to be hard and brittle as heat resistance increases, and further improvement in mechanical strength is required.

電気特性に優れた耐熱性の熱可塑性樹脂としては、たとえば、ポリイミド、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル等が知られているが、これらの樹脂は常温では固体であり、成形する際には、融点以上に加熱溶融したり、あるいは溶剤に溶解させて流動性を持たせたりする必要がある。加熱溶融して成形する場合には、電子材料に求められる耐熱温度より遥かに高い温度で溶融させなければならない。また、溶剤に溶解できる熱可塑性樹脂は成形しやすいが、耐溶剤性が低いという問題点がある。   As heat-resistant thermoplastic resins having excellent electrical properties, for example, polyimide, polyamide, polyphenylene ether, and the like are known. However, these resins are solid at room temperature and are heated to a melting point or higher when molding. It must be melted or dissolved in a solvent to provide fluidity. When molding by heating and melting, it must be melted at a temperature much higher than the heat-resistant temperature required for electronic materials. In addition, a thermoplastic resin that can be dissolved in a solvent is easy to mold, but has a problem of low solvent resistance.

これに対して、熱硬化性樹脂では、硬化させる前のモノマーまたはオリゴマー(少なくとも1種類以上の繰り返し単位を有する化合物)が常温で液体または比較的低温で溶融もしくは溶剤に溶解でき、電子材料に求められる耐熱温度よりも低い温度で加工が可能であるため、加工性が良いという特徴がある。また、多くの熱硬化性樹脂は耐溶剤性、耐薬品性に優れている。   In contrast, in a thermosetting resin, a monomer or oligomer (a compound having at least one repeating unit) before being cured can be liquid at room temperature or melted or dissolved in a solvent at a relatively low temperature, and is required for electronic materials. Since it can be processed at a temperature lower than the heat-resistant temperature that can be obtained, it is characterized by good workability. Many thermosetting resins are excellent in solvent resistance and chemical resistance.

しかしながら、熱硬化性樹脂の前駆体であるモノマーまたはオリゴマーは一般的に保存安定性が良くない。たとえば、ラジカル硬化性樹脂では、モノマーまたはオリゴマーへの重合禁止剤の添加が必須である。さらにモノマーまたはオリゴマーと硬化剤とを別個に保存し、使用直前に混合することが多い。たとえば、ラジカル硬化性のスチレン、(メタ)アクリル酸エステルモノマーまたは(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーでは、常温でもラジカル硬化する恐れがあるため、少なくとも100ppm以上の重合禁止剤を添加するか、あるいは低温で保存しなければならず、かつ使用直前に硬化剤を添加しなければならない。また、高粘度または固体のモノマーやオリゴマーでは、塗工性をよくするために使用開始前にラジカル硬化が進行しない程度に加熱して低粘度化した後、硬化剤を加え、短時間で十分に撹拌混合して成形しければならないという問題点がある。   However, monomers or oligomers that are precursors of thermosetting resins are generally not good in storage stability. For example, in a radical curable resin, it is essential to add a polymerization inhibitor to the monomer or oligomer. Furthermore, the monomer or oligomer and the curing agent are often stored separately and mixed immediately before use. For example, since radically curable styrene, (meth) acrylic acid ester monomer or (meth) acrylic acid ester oligomer may be radically cured even at room temperature, at least 100 ppm of polymerization inhibitor is added, or at low temperature It must be preserved and a curing agent must be added just before use. For high-viscosity or solid monomers and oligomers, in order to improve the coatability, after heating to such an extent that radical curing does not proceed before starting use, the viscosity is lowered, and then a curing agent is added, and sufficient in a short time. There is a problem that the mixture must be mixed by stirring.

ラジカル硬化性樹脂以外の代表的な熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂が挙げられる。硬化前のエポキシ樹脂もラジカル硬化性樹脂と同様に、エポキシ樹脂と硬化剤とを別個に保存する必要がある。また、硬化剤と混合して保存する場合には、硬化剤と混合した後に常温で放置すると粘度上昇や硬化が起こる可能性があるため、冷暗所での保存が必要であることが多い。   Epoxy resin is mentioned as typical thermosetting resin other than radical curable resin. Similarly to the radical curable resin, the epoxy resin before curing needs to store the epoxy resin and the curing agent separately. In addition, in the case of storing in a mixture with a curing agent, if it is left at room temperature after mixing with a curing agent, there is a possibility that viscosity increase or curing may occur, so it is often necessary to store in a cool and dark place.

一方、アリルエステル樹脂(硬化物)は、光学材料、人造大理石、化粧板、不飽和ポリエステル樹脂のクラック防止材として用いられる熱硬化性樹脂として知られている。アリルエステル樹脂は、アリルアルコールまたはメタリルアルコール、多塩基酸エステル、多価アルコールを原料として得られたアリルエステルオリゴマーをラジカル硬化剤によりラジカル硬化させることによって得られる。アリルエステルオリゴマーは他のラジカル硬化性モノマーやオリゴマーと異なり硬化速度が遅く、このため、成形時のクラックが少なく、保存安定性に優れているという特徴を有している。詳しくは、非特許文献1(熱硬化性樹脂、15巻、No.1、(1994)、合成樹脂工業協会)の17頁に記載されている。   On the other hand, allyl ester resin (cured product) is known as a thermosetting resin used as a crack preventing material for optical materials, artificial marble, decorative plates, and unsaturated polyester resins. The allyl ester resin is obtained by radical curing an allyl ester oligomer obtained using allyl alcohol or methallyl alcohol, polybasic acid ester, and polyhydric alcohol as a raw material with a radical curing agent. Unlike other radical curable monomers and oligomers, allyl ester oligomers have a slow curing rate, and therefore have few cracks during molding and excellent storage stability. Specifically, it is described in page 17 of Non-Patent Document 1 (thermosetting resin, Vol. 15, No. 1, (1994), Synthetic Resin Industry Association).

このように、アリルエステルオリゴマーは保存安定性に優れ、加工性にも優れているが、誘電率に代表される電気特性や、耐熱性、機械的強度のいずれにも優れたアリルエステル樹脂はあまり知られていない。耐熱性および機械的強度に優れたアリルエステル樹脂用のアリルエステルオリゴマーとしては、特許文献1(特開平4−272921号)に記載された窒素原子含有ポリオールとジカルボン酸エステルとを重縮合したアリルエステルオリゴマーが知られている。しかしながら、たとえば、特許文献1の実施例4に記載されたジアリルテレフタレート(以下、DATPと略す)とトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート(以下、THEICと略す)との重縮合物は高いガラス転移点(以下、Tgと略す)を有するが、曲げ強度についてはさらなる向上が求められている。また、特許文献1の実施例2に記載されたジアリルイソフタレート(以下、DAIPと略す)と、THEICおよびプロピレングリコールとの重縮合物は高い曲げ強度を有するが、Tgについてはさらなる向上が求められている。一方、電気特性に優れたアリルエステル樹脂としては、非特許文献1の23頁に記載された市販のアリルエステル樹脂が知られているが、これらの樹脂は機械的強度またはTgのいずれかが低い。   In this way, allyl ester oligomers are excellent in storage stability and processability, but allyl ester resins excellent in both electrical properties represented by dielectric constant, heat resistance, and mechanical strength are not so much. unknown. As an allyl ester oligomer for an allyl ester resin excellent in heat resistance and mechanical strength, an allyl ester obtained by polycondensation of a nitrogen atom-containing polyol and a dicarboxylic acid ester described in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 4-272922) Oligomers are known. However, for example, a polycondensate of diallyl terephthalate (hereinafter abbreviated as DATP) and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate (hereinafter abbreviated as THEIC) described in Example 4 of Patent Document 1 has a high glass transition. Although it has a point (hereinafter abbreviated as Tg), further improvement in bending strength is required. Further, the polycondensation product of diallyl isophthalate (hereinafter abbreviated as DAIP) described in Example 2 of Patent Document 1 with THEIC and propylene glycol has high bending strength, but further improvement is required for Tg. ing. On the other hand, as allyl ester resins having excellent electrical properties, commercially available allyl ester resins described on page 23 of Non-Patent Document 1 are known, but these resins have either low mechanical strength or Tg. .

このように電気特性、耐熱性、機械的強度のいずれにも優れたアリルエステル樹脂は未だ知られていない。
特開平4−272921号公報 熱硬化性樹脂、15巻、No.1、17(1994)、合成樹脂工業協会
Thus, an allyl ester resin excellent in any of electric characteristics, heat resistance and mechanical strength has not been known yet.
JP-A-4-272921 Thermosetting resin, Volume 15, No. 1, 17 (1994), Japan Plastics Industry Association

本発明は、プリント配線基板の層間絶縁膜やソルダーレジストに好適に使用でき、保存安定性および加工性に優れたアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料、および耐熱性、電気特性、機械的強度に優れたアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料の硬化物を提供することを目的としている。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be suitably used for an interlayer insulating film or a solder resist of a printed wiring board, and is an interlayer insulating material composed of an allyl ester oligomer excellent in storage stability and processability, and excellent in heat resistance, electrical characteristics, and mechanical strength. Another object of the present invention is to provide a cured product of an interlayer insulating material comprising an allyl ester oligomer.

本発明者らは、上記課題を解決するために、鋭意研究を重ねた。その結果、テレフタル酸ではなく、イソフタル酸残基とイソシアヌル環とを含有するアリルエステルオリゴマーの硬化物が、加工性および保存安定性に優れるという、従来のアリルエステルオリゴマーの特徴に加え、耐熱性、電気特性および機械的強度のいずれにも優れていることを見出し、本発明を完成させるに至った。   In order to solve the above problems, the present inventors have conducted intensive research. As a result, in addition to the characteristics of conventional allyl ester oligomers, the cured product of allyl ester oligomers containing isophthalic acid residues and isocyanuric rings instead of terephthalic acid has excellent processability and storage stability, The present inventors have found that it is excellent in both electrical characteristics and mechanical strength, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は以下の[1]〜[18]事項に関する。
[1]下記式(1)で表される基と下記式(2)で表される基および/または下記式(3)で表される基とを有するアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料。
That is, the present invention relates to the following items [1] to [18].
[1] An interlayer insulating material comprising an allyl ester oligomer having a group represented by the following formula (1), a group represented by the following formula (2) and / or a group represented by the following formula (3).

Figure 2006111817
Figure 2006111817

(式中、R1は、アリル基またはメタリル基を表し、該オリゴマー1分子中にこの基が複
数存在する場合には、互いに同じであっても異なっていてもよい。)
(In the formula, R 1 represents an allyl group or a methallyl group, and when there are a plurality of these groups in one molecule of the oligomer, they may be the same or different from each other.)

Figure 2006111817
Figure 2006111817

(式中、X1、X2およびX3は、それぞれ独立に炭素数1〜10の有機基を表し、X2およびX3は、上記(1)で表される基を有する鎖とエステル結合を介して結合している。R2は、水素原子または炭素数1〜10の有機基を表す。)。
[2]アリルエステルオリゴマー中の繰り返し単位が上記式(2)で表される基および/または上記式(3)で表される基のみからなることを特徴とする上記[1]に記載の層間絶縁材料。
[3]上記式(2)および(3)に記載のX1〜X3が、置換または無置換のアルキレン基であることを特徴とする上記[1]に記載の層間絶縁材料。
[4]置換または無置換のアルキレン基が、エチレン、2−メチルエチレン、2−エチルエチレン、2−クロロメチルエチレン、2−ブロモメチルエチレン、2−アリロキシメチルエチレン、2−フェノキシメチルエチレン、シクロヘキシレン、2−フェニルエチレン、2−メタクリロキシメチルエチレンおよび2−アクリロキシメチルエチレンからなる群より選ばれる1種以上のアルキレン基であることを特徴とする上記[3]に記載の層間絶縁材料。
[5]上記式(2)および(3)に記載のX1〜X3が、エチレン基および/または2−メチルエチレン基であることを特徴とする上記[1]に記載の層間絶縁材料。
[6]ジ(メタ)アリルイソフタレートと、イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物とのエステル交換重縮合反応によって得られるアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料。
[7]イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物が、イソシアヌル酸とアルキレンモノエポキシドを反応させて得られる化合物であることを特徴とする上記[6]に
記載の層間絶縁材料。
[8]アルキレンモノエポキシドが、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシドおよびグリシジル(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる1種以上のアルキレンモノエポキシドであることを特徴とする上記[7]に記載の層間絶縁材料。
[9]イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物が、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートおよびトリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレートからなる群より選ばれる1種以上のイソシアヌレートであることを特徴とする上記[6]に記載の層間絶縁材料。
[10]イソフタル酸とイソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物とがエステル結合した構造と、末端にアリル基および/またはメタリル基とを有するアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料。
[11]イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物が、イソシアヌル酸とアルキレンモノエポキシドを反応させて得られる化合物であることを特徴とする上記[10]に記載の層間絶縁材料。
[12]アルキレンモノエポキシドが、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシドおよびグリシジル(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる1種以上のアルキレンモノエポキシドであることを特徴とする上記[11]に記載の層間絶縁材料。
[13]イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物が、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートおよびトリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレートからなる群より選ばれる1種以上のイソシアヌレートであることを特徴とする上記[10]に記載の層間絶縁材料。
[14]ジ(メタ)アリルイソフタレートと、イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物とをエステル交換重縮合反応させることを特徴とする上記[1]〜[5]のいずれかに記載のアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料の製造方法。
[15]上記[1]〜[13]のいずれかに記載の層間絶縁材料および硬化剤を含むことを特徴とする層間絶縁材料組成物。
[16]上記[15]に記載の層間絶縁材料組成物の硬化物。
[17]上記[15]に記載の層間絶縁材料組成物を硬化して得られる層間絶縁膜。
[18]上記[1]〜[13]のいずれかに記載の層間絶縁材料を使用したプリント配線基板。
(In the formula, X 1 , X 2 and X 3 each independently represent an organic group having 1 to 10 carbon atoms, and X 2 and X 3 are a chain having an ester group and an ester bond having the group represented by (1) above) R 2 represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 10 carbon atoms).
[2] The interlayer according to the above [1], wherein the repeating unit in the allyl ester oligomer consists only of a group represented by the above formula (2) and / or a group represented by the above formula (3) Insulating material.
[3] The interlayer insulating material according to the above [1], wherein X 1 to X 3 described in the formulas (2) and (3) are substituted or unsubstituted alkylene groups.
[4] A substituted or unsubstituted alkylene group is selected from ethylene, 2-methylethylene, 2-ethylethylene, 2-chloromethylethylene, 2-bromomethylethylene, 2-allyloxymethylethylene, 2-phenoxymethylethylene, and cyclohexene. The interlayer insulating material according to [3] above, which is one or more alkylene groups selected from the group consisting of silene, 2-phenylethylene, 2-methacryloxymethylethylene, and 2-acryloxymethylethylene.
[5] The interlayer insulating material according to the above [1], wherein X 1 to X 3 described in the formulas (2) and (3) are an ethylene group and / or a 2-methylethylene group.
[6] An interlayer insulating material comprising an allyl ester oligomer obtained by a transesterification polycondensation reaction between di (meth) allyl isophthalate and a compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups.
[7] The interlayer insulating material as described in [6] above, wherein the compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is a compound obtained by reacting isocyanuric acid and an alkylene monoepoxide.
[8] The alkylene monoepoxide is selected from the group consisting of ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, epichlorohydrin, epibromohydrin, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, cyclohexene oxide, styrene oxide, and glycidyl (meth) acrylate. The interlayer insulating material according to [7], wherein the interlayer insulating material is at least one kind of alkylene monoepoxide.
[9] The compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is selected from the group consisting of bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate and tris (2-hydroxypropyl) isocyanurate. The interlayer insulating material as described in [6] above, which is at least one kind of isocyanurate.
[10] An interlayer insulating material comprising an allyl ester oligomer having a structure in which isophthalic acid, an isocyanuric ring and a compound having two or more hydroxyl groups are ester-bonded, and an allyl group and / or a methallyl group at the terminal.
[11] The interlayer insulating material according to the above [10], wherein the compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is a compound obtained by reacting isocyanuric acid and an alkylene monoepoxide.
[12] The alkylene monoepoxide is selected from the group consisting of ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, epichlorohydrin, epibromohydrin, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, cyclohexene oxide, styrene oxide, and glycidyl (meth) acrylate. The interlayer insulating material as described in [11] above, which is an alkylene monoepoxide of a kind or more.
[13] The compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is selected from the group consisting of bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate and tris (2-hydroxypropyl) isocyanurate. The interlayer insulating material according to [10], wherein the interlayer insulating material is one or more isocyanurates.
[14] The transesterification polycondensation reaction of di (meth) allylisophthalate with a compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is carried out as described in any one of [1] to [5] above A method for producing an interlayer insulating material comprising an allyl ester oligomer.
[15] An interlayer insulating material composition comprising the interlayer insulating material according to any one of [1] to [13] and a curing agent.
[16] A cured product of the interlayer insulating material composition according to [15].
[17] An interlayer insulating film obtained by curing the interlayer insulating material composition according to [15].
[18] A printed wiring board using the interlayer insulating material according to any one of [1] to [13].

本発明によると、従来のジアリルテレフタレート系オリゴマーからなる層間絶縁材料に比べて、加工性および保存安定性に優れたアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料、および耐熱性、電気特性および機械的強度に優れた層間絶縁材料用アリルエステル樹脂(硬化物)を得ることができる。   According to the present invention, compared to a conventional interlayer insulating material made of diallyl terephthalate oligomer, an interlayer insulating material made of an allyl ester oligomer having excellent processability and storage stability, and excellent heat resistance, electrical properties and mechanical strength. Further, an allyl ester resin (cured product) for an interlayer insulating material can be obtained.

以下、本発明についてより詳細に説明する。
本発明に係る層間絶縁材料は、下記式(1)で表される基と下記式(2)で表される基および/または下記式(3)で表される基とを有するアリルエステルオリゴマーからなる。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The interlayer insulating material according to the present invention is an allyl ester oligomer having a group represented by the following formula (1), a group represented by the following formula (2) and / or a group represented by the following formula (3). Become.

Figure 2006111817
Figure 2006111817

(式中、R1は、アリル基またはメタリル基を表し、該オリゴマー1分子中にこの基が複
数存在する場合には、互いに同じであっても異なっていてもよい。)
(In the formula, R 1 represents an allyl group or a methallyl group, and when there are a plurality of these groups in one molecule of the oligomer, they may be the same or different from each other.)

Figure 2006111817
Figure 2006111817

(式中、X1、X2およびX3は、それぞれ独立に炭素数1〜10の有機基を表し、X2およびX3は、上記(1)で表される基を有する鎖とエステル結合を介して結合している。R2は、水素原子または炭素数1〜10の有機基を表す。)
このようなアリルエステルオリゴマーとして、たとえば、イソフタル酸と、下記式(4)で表されるイソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物とがエステル結合した構造と、末端にアリル基および/またはメタリル基とを有するアリルエステルオリゴマーが挙げられる。
(In the formula, X 1 , X 2 and X 3 each independently represent an organic group having 1 to 10 carbon atoms, and X 2 and X 3 are a chain having an ester group and an ester bond having the group represented by (1) above) R 2 represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 10 carbon atoms.)
As such an allyl ester oligomer, for example, a structure in which an isophthalic acid and an isocyanuric ring represented by the following formula (4) and a compound having two or more hydroxyl groups are ester-bonded, an allyl group and / or methallyl at the terminal And allyl ester oligomers having a group.

Figure 2006111817
Figure 2006111817

上記アリルエステルオリゴマーは、エチレングリコールやプロピレングリコールなどの炭素のみからなる2価の飽和アルコール、ジエチレングリコールやジプロピレングリコールなどのエーテル基を含有する2価の飽和アルコールなどの飽和グリコールから水酸基が脱離した有機残基を含有せず、特に、その繰り返し単位が上記式(2)で表される基およ
び/または上記式(3)で表される基のみからなることが好ましい。
In the allyl ester oligomer, a hydroxyl group is eliminated from a saturated glycol such as a divalent saturated alcohol composed only of carbon such as ethylene glycol or propylene glycol, or a divalent saturated alcohol containing an ether group such as diethylene glycol or dipropylene glycol. It does not contain an organic residue, and it is particularly preferred that the repeating unit consists only of a group represented by the above formula (2) and / or a group represented by the above formula (3).

上記式(1)において、R1はアリル基またはメタリル基を表す。上記式(1)で表さ
れる基は、上記アリルエステルオリゴマーの分子末端基であり、通常、アリルエステルオリゴマー1分子中に複数個存在する。この場合、アリルエステルオリゴマー1分子中に存在する複数のR1は、それぞれ独立にアリル基またはメタリル基を表す。
In the above formula (1), R 1 represents an allyl group or a methallyl group. The group represented by the above formula (1) is a molecular end group of the allyl ester oligomer, and a plurality of groups are usually present in one molecule of the allyl ester oligomer. In this case, a plurality of R 1 present in the allyl ester oligomer in a molecule, each independently represents an allyl group or methallyl group.

上記アリルエステルオリゴマーは、上記式(1)で表される基以外に、下記式(5)で表される基を末端基として有していてもよい。   The allyl ester oligomer may have a group represented by the following formula (5) as a terminal group in addition to the group represented by the above formula (1).

Figure 2006111817
Figure 2006111817

上記式(5)において、R3はメチル基またはエチル基等の非重合性基を表す。
アリルエステルオリゴマー分子中の全ての末端基に対する上記式(1)で表される基の割合は、機械的強度に優れた硬化物が得られるという観点から、60〜100モル%が好ましく、さらに好ましくは80〜100モル%、最も好ましくは90〜100モル%であることが望ましい。上記式(1)で表される基の割合が60モル%未満であると得られたアリルエステルオリゴマーの硬化物の機械強度が低くなることがあり、好ましくない。
In the above formula (5), R 3 represents a non-polymerizable group such as a methyl group or an ethyl group.
The ratio of the group represented by the above formula (1) to all terminal groups in the allyl ester oligomer molecule is preferably 60 to 100 mol%, more preferably from the viewpoint of obtaining a cured product having excellent mechanical strength. Is desirably 80 to 100 mol%, most preferably 90 to 100 mol%. When the ratio of the group represented by the above formula (1) is less than 60 mol%, the mechanical strength of the cured product of the obtained allyl ester oligomer may be lowered, which is not preferable.

上記式(2)および(3)において、X1〜X3は、それぞれ独立に炭素数1〜10の有機基を表す。ただし、X1〜X3は、通常、同一の基であることが多い。炭素数1〜10の有機基としては、エチレン、プロピレン、2−メチルエチレン、ブチレン、2−エチルエチレン、2−クロロメチルエチレン、2−ブロモメチルエチレン、2−アリロキシメチルエチレン、2−フェノキシメチルエチレン、ヘキシレン、シクロヘキシレン、2−フェニルエチレン、2−メタクリロキシメチルエチレンおよび2−アクリロキシメチルエチレンなどの置換または無置換のアルキレン基が挙げられる。これらのうち、エチレン基、2−メチルエチレン基が好ましい。 In the above formulas (2) and (3), X 1 to X 3 each independently represents an organic group having 1 to 10 carbon atoms. However, X 1 to X 3 are usually the same group in many cases. Examples of the organic group having 1 to 10 carbon atoms include ethylene, propylene, 2-methylethylene, butylene, 2-ethylethylene, 2-chloromethylethylene, 2-bromomethylethylene, 2-allyloxymethylethylene, and 2-phenoxymethyl. Examples include substituted or unsubstituted alkylene groups such as ethylene, hexylene, cyclohexylene, 2-phenylethylene, 2-methacryloxymethylethylene and 2-acryloxymethylethylene. Of these, an ethylene group and a 2-methylethylene group are preferable.

また、上記式(2)において、R2は、水素原子または炭素数1〜10の有機基を表す
。炭素数1〜10の有機基としては、たとえば、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基;ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチルなどのヒドロキシアルキル基などが挙げられる。
In the above formula (2), R 2 represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the organic group having 1 to 10 carbon atoms include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, and butyl; and hydroxyalkyl groups such as hydroxyethyl, hydroxypropyl, and hydroxybutyl.

上記イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物は、イソシアヌル環および2個以上の水素含有基を有する化合物が好ましく、たとえば、下記式(6)または(7)で表される化合物が挙げられる。   The compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is preferably a compound having an isocyanuric ring and two or more hydrogen-containing groups, and examples thereof include compounds represented by the following formula (6) or (7).

Figure 2006111817
Figure 2006111817

(式中、X1〜X3およびR2は、それぞれ、上記式(2)および(3)のX1〜X3および
2と同義である。)
このような化合物は、たとえば、イソシアヌル酸とアルキレンモノエポキシドとを反応させることにより得られる。この反応は必要に応じて触媒および溶媒を用いて行うことができる。
(Wherein, X 1 to X 3 and R 2, respectively, the same meanings as X 1 to X 3 and R 2 in the formula (2) and (3).)
Such a compound can be obtained, for example, by reacting isocyanuric acid with an alkylene monoepoxide. This reaction can be performed using a catalyst and a solvent, if necessary.

イソシアヌル酸とアルキレンモノエポキシドの仕込み比は、形成されるイソシアヌル環1モルに対するアルキレンモノエポキシド残基のモル比が、好ましくは1〜10、さらに好ましくは1.5〜8、最も好ましくは2〜6となるように設定する。この比率が1未満であると未反応のイソシアヌル酸が反応混合物中に残留している可能性が高くなり好ましくない。10以上であると、たとえば、トリス(ヒドロキシアルキル)イソシアヌレートの合成を目的とする場合には、その選択率が低くなることがあり、好ましくない。つまり、ヒドロキシアルキル基にさらにアルキレンモノエポキシドが付加した化合物の生成量が多くなり、得られたアリルエステル樹脂の耐熱性が低くなることがあるため好ましくない。   The charging ratio of isocyanuric acid and alkylene monoepoxide is such that the molar ratio of alkylene monoepoxide residue to 1 mol of isocyanuric ring formed is preferably 1 to 10, more preferably 1.5 to 8, and most preferably 2 to 6. Set to be. If this ratio is less than 1, the possibility that unreacted isocyanuric acid remains in the reaction mixture increases, which is not preferable. When it is 10 or more, for example, when the purpose is to synthesize tris (hydroxyalkyl) isocyanurate, the selectivity may be low, which is not preferable. That is, it is not preferable because the amount of the compound in which an alkylene monoepoxide is further added to the hydroxyalkyl group is increased, and the heat resistance of the obtained allyl ester resin may be lowered.

反応温度は特に限定されないが、適切に反応が進行する観点から、好ましくは0℃〜130℃、さらに好ましくは10℃〜100℃が望ましい。0℃未満では反応の進行が著しく遅くなることがある。また、130℃を超えると反応が暴走する危険性があるため好ましくない。   Although reaction temperature is not specifically limited, From a viewpoint that reaction advances appropriately, Preferably it is 0 to 130 degreeC, More preferably, 10 to 100 degreeC is desirable. Below 0 ° C., the progress of the reaction may be remarkably slow. On the other hand, if the temperature exceeds 130 ° C., there is a risk that the reaction may run away.

上記合成は無触媒下でも酸触媒の存在下でも行うことができる。溶媒は特に限定されないが、たとえば、ジメチルホルムアミドなどの反応性が低く、溶解性の高いものが好ましい。   The above synthesis can be carried out in the absence of a catalyst or in the presence of an acid catalyst. The solvent is not particularly limited. For example, a solvent having low reactivity and high solubility such as dimethylformamide is preferable.

得られた反応混合物はそのまま次のエステル交換反応を行ってもよいが、必要に応じて未反応のアルキレンモノエポキシド、溶媒、触媒を除去し、さらに精製を行った後でエステル反応を行うことが好ましい。   The resulting reaction mixture may be subjected to the next transesterification reaction as it is, but if necessary, the unreacted alkylene monoepoxide, solvent and catalyst may be removed and further the esterification may be carried out after further purification. preferable.

上記合成におけるアルキレンモノエポキシドとして、たとえば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、シクロヘキセンオキシド、
スチレンオキシドおよびグリシジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
As the alkylene monoepoxide in the above synthesis, for example, ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, epichlorohydrin, epibromohydrin, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, cyclohexene oxide,
Examples thereof include styrene oxide and glycidyl (meth) acrylate.

このようにして合成されるイソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物としては、たとえば、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートおよびトリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレートなどのポリ(ヒドロキシアルキル)イソシアヌレートが挙げられる。   Examples of the compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups synthesized in this way include bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate and tris (2-hydroxypropyl). Poly (hydroxyalkyl) isocyanurates such as isocyanurates are mentioned.

上記式(2)および(3)において、X2およびX3は、上記(1)で表される基を有する鎖とエステル結合を介して結合している。これにより、特に、上記式(3)で表される基は分岐構造を形成することができる。後述するアリルエステルオリゴマーの製造方法によれば、イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物の水酸基の数が3個以上の場合、エステル交換による重縮合で3方向にオリゴマー鎖が伸び、アリルエステルオリゴマーは分岐構造を形成する。この分岐構造は分岐鎖中にも形成され、最終的には網目構造を形成することもある。ただし、本発明に用いられるアリルエステルオリゴマーでは、層間絶縁材料としてプリント基板等への塗布性や加工性の面から、網目構造や高度の分岐、極端な高分子量化は好ましくない。したがって、反応原料の仕込み比や、反応時間などを調整して、アリルエステルオリゴマーの分岐度、分子量、粘度等を制御する必要がある。 In the above formulas (2) and (3), X 2 and X 3 are bonded to the chain having the group represented by the above (1) through an ester bond. Thereby, in particular, the group represented by the above formula (3) can form a branched structure. According to the method for producing an allyl ester oligomer described later, when the number of hydroxyl groups of the compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is 3 or more, the oligomer chain extends in three directions by polycondensation by transesterification, and the allyl ester The oligomer forms a branched structure. This branched structure is also formed in the branched chain, and may eventually form a network structure. However, in the case of the allyl ester oligomer used in the present invention, a network structure, a high degree of branching, and an extremely high molecular weight are not preferable from the viewpoints of application properties to a printed board or the like as an interlayer insulating material. Therefore, it is necessary to control the branching degree, molecular weight, viscosity, etc. of the allyl ester oligomer by adjusting the charging ratio of the reaction raw materials and the reaction time.

本発明に用いられるアリルエステルオリゴマーの製造方法は特に限定されないが、合成の容易さから、エステル交換反応用触媒の存在下、アリル基含有イソフタレートおよび/またはメタリル基含有イソフタレート(以下、アリルイソフタレートと略す。)とイソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物とのエステル交換反応による合成方法が好ましく適用される。上記エステル交換反応用触媒としては、ジブチル錫オキサイド、ジオクチル錫オキサイド、テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、ジルコニウムアセチルアセトナートなどが挙げられる。この合成方法では、たとえば、下記のように反応が進行する。   The method for producing the allyl ester oligomer used in the present invention is not particularly limited. However, from the viewpoint of ease of synthesis, allyl group-containing isophthalate and / or methallyl group-containing isophthalate (hereinafter referred to as allyl isolate) in the presence of a catalyst for transesterification. A synthetic method by transesterification of a compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is preferably applied. Examples of the transesterification catalyst include dibutyltin oxide, dioctyltin oxide, tetraisopropyl titanate, tetrabutyl titanate, and zirconium acetylacetonate. In this synthesis method, for example, the reaction proceeds as follows.

Figure 2006111817
Figure 2006111817

アリルイソフタレートとイソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物との仕込みモル比は、成形性および機械的強度の観点から、イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物1モルに対して、アリルイソフタレートが好ましくは1.0モル〜1
0.0モル、さらに好ましくは1.2モル〜5モル、最も好ましくは2モル〜4モルの範囲が望ましい。アリルイソフタレートのモル比が1.0モルより低いと、得られるアリルエステルオリゴマーが高粘度になることがあり、成形性が悪くなることがあるため、好ましくない。また、5モルより大きいと、得られるアリルエステルオリゴマーの硬化物の機械的強度が低くなることがあり、好ましくない。
The charged molar ratio of allyl isophthalate to the compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is allyl to one mole of the compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups from the viewpoint of moldability and mechanical strength. Isophthalate is preferably 1.0 mol-1
A range of 0.0 mol, more preferably 1.2 mol to 5 mol, and most preferably 2 mol to 4 mol is desirable. If the molar ratio of allyl isophthalate is lower than 1.0 mol, the resulting allyl ester oligomer may have a high viscosity and the moldability may be deteriorated. On the other hand, when the amount is larger than 5 mol, the mechanical strength of the resulting cured product of allyl ester oligomer may be lowered, which is not preferable.

反応温度は、100℃〜250℃の範囲が好ましく、更に130℃〜220℃の範囲が好ましく、最も好ましくは150〜200℃の範囲が好ましい。反応温度が100℃未満であると反応速度が著しく遅くなりことがあり、好ましくない。250℃を超えるとアリル基が熱重合反応を起こし暴走することがあり、好ましくない。   The reaction temperature is preferably in the range of 100 ° C to 250 ° C, more preferably in the range of 130 ° C to 220 ° C, and most preferably in the range of 150 to 200 ° C. If the reaction temperature is less than 100 ° C., the reaction rate may be remarkably slow, which is not preferable. If it exceeds 250 ° C., the allyl group may cause a thermal polymerization reaction and run away, which is not preferable.

反応雰囲気は、ヘリウム、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下が好ましい。空気雰囲気下から不活性ガス雰囲気下への置換は、加圧置換、減圧置換、バブリングなどの従来公知の方法で行うことができる。特に、本発明において、反応雰囲気の酸素濃度は、1体積%以下が好ましく、更に好ましくは1000体積ppm以下、最も好ましくは100体積ppm以下であることが好ましい。酸素濃度が1体積%より高いと、着色や重合反応などの副反応が進行する恐れがあり、好ましくない。   The reaction atmosphere is preferably an inert gas atmosphere such as helium, nitrogen, or argon. The replacement from the air atmosphere to the inert gas atmosphere can be performed by a conventionally known method such as pressure replacement, reduced pressure replacement, or bubbling. In particular, in the present invention, the oxygen concentration in the reaction atmosphere is preferably 1% by volume or less, more preferably 1000 volume ppm or less, and most preferably 100 volume ppm or less. If the oxygen concentration is higher than 1% by volume, side reactions such as coloring and polymerization reaction may proceed, which is not preferable.

反応圧力は、0.1Pa〜0.2MPaの範囲が好ましく、更に好ましくは0.5Pa〜1.0MPa、最も好ましくは1Pa〜0.1MPaの範囲が望ましい。0.1Pa未満だと原料のアリルエステルモノマーが反応系から留出してしまう恐れがあり、好ましくない。0.2MPaより高いと反応速度が著しく遅くなることがあり、好ましくない。   The reaction pressure is preferably in the range of 0.1 Pa to 0.2 MPa, more preferably in the range of 0.5 Pa to 1.0 MPa, and most preferably in the range of 1 Pa to 0.1 MPa. If it is less than 0.1 Pa, the raw material allyl ester monomer may be distilled from the reaction system, which is not preferable. If it is higher than 0.2 MPa, the reaction rate may be extremely slow, which is not preferable.

溶媒は必要に応じて使用しても構わないが、反応後の溶媒分離の手間を考慮すると無溶媒で行うことが好ましい。
本発明に用いられるアリルエステルオリゴマーは、たとえば、以下のような構造をとることができるが、これらに限定されるものではない。
Although a solvent may be used as needed, it is preferable to carry out without a solvent in consideration of the solvent separation after the reaction.
The allyl ester oligomer used in the present invention can have, for example, the following structures, but is not limited thereto.

Figure 2006111817
Figure 2006111817

Figure 2006111817
Figure 2006111817

式中、mおよびnはそれぞれ独立に0〜20の整数である。ただし、mとnは同時に0にはならない。
本発明に用いられるアリルエステルオリゴマーの重量平均分子量は300〜10000、好ましくは500〜9000、さらに好ましくは800〜8000が望ましい。重量平均分子量が300未満のアリルエステルオリゴマーには、アリルイソフタレートが多量に含まれることが多く、硬化物であるアリルエステル樹脂が脆くなることがあり、好ましくない。一方、10000を超えるとアリルエステルオリゴマーが高粘度になるため、成形性が悪くなることがある。なお、分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(カラム:昭和電工(株)製、Shodex K−G、K801、K802およびK802
.5を4本直列、溶媒:クロロホルム)にて測定し、標準ポリスチレン換算した値である。
In the formula, m and n are each independently an integer of 0 to 20. However, m and n are not 0 at the same time.
The weight average molecular weight of the allyl ester oligomer used in the present invention is 300 to 10,000, preferably 500 to 9000, and more preferably 800 to 8000. An allyl ester oligomer having a weight average molecular weight of less than 300 often contains a large amount of allyl isophthalate, and the allyl ester resin as a cured product may become brittle, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 10,000, the allyl ester oligomer has a high viscosity, which may deteriorate the moldability. The molecular weight is determined by gel permeation chromatography (column: manufactured by Showa Denko KK, Shodex KG, K801, K802 and K802.
. It is a value obtained by measuring 5 with 4 in series, solvent: chloroform) and converting to standard polystyrene.

本発明に用いられるアリルエステルオリゴマーの粘度は、特に限定されない。また、加工性を考慮して粘度を調整することもできる。たとえば、アリルエステルオリゴマーを各種溶剤に溶解して得られるワニスとして使用してもよい。加工性の面から、アリルエステルオリゴマーまたはアリルエステルオリゴマーを含むワニスの粘度は、0.1〜2000Pa・sが好ましく、さらに好ましくは1〜1000Pa・s、最も好ましくは5〜500Ps・sの範囲にあることが望ましい。アリルエステルオリゴマーの粘度が0.1Pa・sより小さいとアリルエステルオリゴマーの重量平均分子量が低く、硬化したアリルエステル樹脂が脆くなることがあり、好ましくない。また、アリルエステルオリゴマーを含むワニスの粘度が0.1Pa・sより小さいと溶剤を大量に含んでいることが多く、硬化させる前に大量の溶剤を除去しなければならないため、経済的に好ましくない。アリルエステルオリゴマーまたはそのワニスの粘度が2000(Pa・s)を超えると流動性が著しく低下し、作業性が悪くなることがあり、好ましくない。なお、アリルエステルオリゴマーおよびそのワニスの粘度の測定方法は、JIS K6901に準拠して、25℃にてB型粘度計によって測定される。   The viscosity of the allyl ester oligomer used in the present invention is not particularly limited. In addition, the viscosity can be adjusted in consideration of workability. For example, you may use as a varnish obtained by melt | dissolving an allyl ester oligomer in various solvents. From the viewpoint of processability, the viscosity of the varnish containing the allyl ester oligomer or the allyl ester oligomer is preferably 0.1 to 2000 Pa · s, more preferably 1 to 1000 Pa · s, and most preferably 5 to 500 Ps · s. It is desirable to be. If the viscosity of the allyl ester oligomer is less than 0.1 Pa · s, the weight average molecular weight of the allyl ester oligomer is low, and the cured allyl ester resin may become brittle, which is not preferable. In addition, if the viscosity of the varnish containing the allyl ester oligomer is less than 0.1 Pa · s, it often contains a large amount of solvent, and a large amount of solvent must be removed before curing, which is not economically preferable. . If the viscosity of the allyl ester oligomer or its varnish exceeds 2000 (Pa · s), the fluidity is remarkably lowered, and the workability may be deteriorated. In addition, the measuring method of the viscosity of an allyl ester oligomer and its varnish is measured with a B-type viscometer at 25 ° C. according to JIS K6901.

次に、本発明に係る層間絶縁材料組成物について説明する。本発明に係る層間絶縁材料組成物は、上記アリルエステルオリゴマーまたはそのワニスからなる層間絶縁材料を含有する。この層間絶縁材料組成物は、さらに、必要に応じて、硬化剤、反応性モノマー、ならびにフェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、グアナミン樹脂、フラン樹脂、イミド樹脂、ウレタン樹脂、ユリア樹脂等の熱硬化性樹脂を含んでもよい。これらの成分は、反応速度のコントロール、粘度調整、架橋密度の向上、機能付加等を目的に添加される。   Next, the interlayer insulating material composition according to the present invention will be described. The interlayer insulating material composition according to the present invention contains an interlayer insulating material comprising the allyl ester oligomer or its varnish. This interlayer insulating material composition further includes a curing agent, a reactive monomer, and a phenol resin, an unsaturated polyester resin, an epoxy resin, a vinyl ester resin, an alkyd resin, an acrylic resin, a melamine resin, a xylene resin, if necessary. A thermosetting resin such as a guanamine resin, a furan resin, an imide resin, a urethane resin, or a urea resin may be included. These components are added for the purpose of controlling the reaction rate, adjusting the viscosity, improving the crosslinking density, adding functions, and the like.

反応性モノマーは、アリルエステルオリゴマーの架橋密度を上げたり、層間絶縁材料組成物の粘度を調整するための希釈用溶媒を兼ねるものが好ましい。この場合、粘度調整用溶媒が不要となり、溶媒を揮発等により除去する工程を省略できるという利点がある。このような反応性モノマーとしては、たとえば、ビニル基、アリル基等の炭素−炭素不飽和二重結合を含有するラジカル反応性の、単官能または架橋性多官能モノマー等が挙げられる。   The reactive monomer is preferably used also as a diluent solvent for increasing the crosslink density of the allyl ester oligomer or adjusting the viscosity of the interlayer insulating material composition. In this case, there is an advantage that a viscosity adjusting solvent is not necessary, and the step of removing the solvent by volatilization or the like can be omitted. Examples of such reactive monomers include radical reactive monofunctional or crosslinkable polyfunctional monomers containing a carbon-carbon unsaturated double bond such as a vinyl group or an allyl group.

上記単官能モノマーとして、不飽和脂肪酸エステル、芳香族ビニル化合物、飽和脂肪酸または芳香族カルボン酸のビニルエステルおよびその誘導体などが挙げられ、より具体的にはメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ターシャリーブチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ビニルアセテート、アクリロニトリル、アリルアセテート、アセト酢酸アリル、安息香酸アリル、シクロヘキサンカルボン酸アリル、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられる。   Examples of the monofunctional monomer include unsaturated fatty acid esters, aromatic vinyl compounds, vinyl esters of saturated fatty acids or aromatic carboxylic acids, and derivatives thereof, and more specifically methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate. , Propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tertiary butyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) ) Acrylate, stearyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) Acrylate, vinyl acetate, acrylonitrile, allyl acetate, allyl acetoacetate, allyl benzoate, cyclohexanecarboxylic acid allyl, styrene, vinyl toluene, and the like.

また、上記架橋性多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、オリゴエステルジ(メタ)アクリレート、ポリブタジエンジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ω−(メタ)アクリロイロキシピリエトキシ)フェニル)プロパン等のジ(メタ)アクリレート類;フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジメタアリル、トリメリット酸トリアリル、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジアリル、1,5−ナフタレンジカルボン酸ジアリル、1,4−キシレンジカルボン酸アリル、4,4’−ジフェニルジカルボン酸ジアリル等の芳香族カルボン酸ジアリル類;シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、ジビニルベンゼン等の二官能の架橋性モノマー類;トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリストーリルトリ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アリルイソシアヌレート、トリ(メタ)アリルシアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジアリルクロレンデート等の三官能の架橋性モノマー類;ペンタエリストールテトラ(メタ)アクリレート等の四官能の架橋性モノマー類等が挙げられる。
Examples of the crosslinkable polyfunctional monomer include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, and tripropylene glycol di (meth). ) Acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate,
1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentadiol di (meth) acrylate, 1,6-hexadiol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, oligoester di (meth) ) Acrylate, polybutadiene di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-ω- (meth) acryloyloxypyriethoxy) phenyl) propane, etc. Di (meth) acrylates: diallyl phthalate, diallyl isophthalate, dimethallyl isophthalate, triallyl trimellitic acid, diallyl 2,6-naphthalenedicarboxylate, diallyl 1,5-naphthalenedicarboxylate, 1,4-xylenedicarboxylic acid Allyl, 4,4'-diphenyldicarbo Aromatic carboxylic acid diallyls such as diallyl acid; bifunctional crosslinkable monomers such as diallyl cyclohexanedicarboxylate and divinylbenzene; trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri Trifunctional crosslinkable monomers such as (meth) acrylate, tri (meth) allyl isocyanurate, tri (meth) allyl cyanurate, triallyl trimellitate, diallyl chlorendate; pentaerythritol tetra (meth) acrylate, etc. And tetrafunctional crosslinkable monomers.

フェノール樹脂として、具体的には、レゾール型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等が挙げられる。
不飽和ポリエステル樹脂は、多価アルコールと不飽和多塩基酸と、必要に応じて飽和多塩基酸とのエステル化反応による縮合生成物を、さらに必要に応じてスチレンなどの重合性不飽和化合物に溶解したものであり、たとえば、「ポリエステル樹脂ハンドブック(日刊工業新聞社、1988年発行)」、「塗料用語辞典(色材協会編、1993年発行)」などに記載されており、その製造は公知の方法で行われる。
Specific examples of the phenol resin include a resol type phenol resin and a novolac type phenol resin.
Unsaturated polyester resin can be obtained by converting a condensation product obtained by esterification reaction of polyhydric alcohol, unsaturated polybasic acid and, if necessary, saturated polybasic acid into a polymerizable unsaturated compound such as styrene. Dissolved and described in, for example, “Polyester resin handbook (Nikkan Kogyo Shimbun, published in 1988)”, “painting glossary (edited by Color Material Association, published in 1993)”, etc., and its production is publicly known It is done by the method.

エポキシ樹脂として、具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。   Specific examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin and the like.

ビニルエステル樹脂はエポキシ(メタ)アクリレート樹脂とも呼ばれ、一般にエポキシ樹脂に代表されるエポキシ化合物のエポキシ基と、(メタ)アクリル酸などの重合性不飽和基を有するカルボキシル化合物のカルボキシル基との開環反応により生成する重合性不飽和基を有するエステル樹脂、または、カルボキシル基を有する化合物と、グリシジル(メタ)アクリレートなどの分子内に重合性不飽和基とエポキシ基とを有する化合物のエポキシ基との開環反応により生成する重合性不飽和基を有するエステル樹脂であり、たとえば、「ポリエステル樹脂ハンドブック(日刊工業新聞社、1988年発行)」、「塗料用語辞典(色材協会編、1993年発行)」などに記載されており、その製造は公知の方法により行われる。   The vinyl ester resin is also called an epoxy (meth) acrylate resin, and is generally an open group between an epoxy group of an epoxy compound represented by an epoxy resin and a carboxyl group of a carboxyl compound having a polymerizable unsaturated group such as (meth) acrylic acid. An ester resin having a polymerizable unsaturated group produced by a ring reaction, or a compound having a carboxyl group, and an epoxy group of a compound having a polymerizable unsaturated group and an epoxy group in the molecule such as glycidyl (meth) acrylate An ester resin having a polymerizable unsaturated group produced by the ring-opening reaction of, for example, “Polyester Resin Handbook (Nikkan Kogyo Shimbun, published in 1988)”, “Paint Glossary of Terms (Color Material Association, published in 1993) And the like, and the production thereof is carried out by a known method.

ビニルエステル樹脂の原料となるエポキシ樹脂としては、ビスフェノールAジグリシジルエーテルおよびその高分子量同族体、ビスフェノールAアルキレンオキサイド付加物のグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテルおよびその高分子量同族体、ビスフェノールFアルキレンオキサイド付加物のグリシジルエーテル、ノボラック型ポリグリシジルエーテル類等が挙げられる。   The epoxy resin used as the raw material for the vinyl ester resin includes bisphenol A diglycidyl ether and its high molecular weight homologue, glycidyl ether of bisphenol A alkylene oxide adduct, bisphenol F diglycidyl ether and its high molecular weight homologue, bisphenol F alkylene oxide. Examples include adduct glycidyl ethers and novolac-type polyglycidyl ethers.

これらの反応性モノマー、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、グアナミン樹脂、フラン樹脂、イミド樹脂、ウレタン樹脂、ユリア樹脂等の熱硬化性樹脂は、1種単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。   Heat of these reactive monomers, phenol resins, unsaturated polyester resins, epoxy resins, vinyl ester resins, alkyd resins, acrylic resins, melamine resins, xylene resins, guanamine resins, furan resins, imide resins, urethane resins, urea resins, etc. A curable resin can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

これらの使用量は特に制限はないが、反応速度のコントロール、粘度調整、架橋密度の
向上、機能付加といった効果を発現する点で、アリルエステルオリゴマー100質量部に対して、1〜150質量部であることが好ましく、より好ましくは2〜120質量部、さらに好ましくは3質量部〜100質量部が望ましい。上記熱硬化性樹脂等の使用量が1質量部未満であると、反応速度、粘度、架橋密度、機能付加などに対して添加効果が小さく、また、150質量%を超えると本発明に係る層間絶縁材料を用いる効果が現れないことがあり、好ましくない。
The amount of these used is not particularly limited, but is 1 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the allyl ester oligomer in that the effects of controlling the reaction rate, adjusting the viscosity, improving the crosslinking density, and adding functions are exhibited. It is preferable that it is preferably 2 to 120 parts by mass, and more preferably 3 to 100 parts by mass. When the use amount of the thermosetting resin or the like is less than 1 part by mass, the effect of addition is small with respect to reaction rate, viscosity, crosslinking density, function addition, etc., and when it exceeds 150% by mass, the interlayer according to the present invention The effect of using an insulating material may not appear, which is not preferable.

硬化剤としては、本発明に係る層間絶縁材料組成物を硬化できるものであれば、特に制限はなく用いることができる。中でも、ラジカル重合開始剤が望ましい。ラジカル重合開始剤としては、有機過酸化物、光重合開始剤、アゾ化合物等が挙げられるが、有機過酸化物がより好ましい。   As a hardening | curing agent, if the interlayer insulation material composition which concerns on this invention can be hardened | cured, there will be no restriction | limiting in particular and it can use. Among these, radical polymerization initiators are desirable. Examples of the radical polymerization initiator include organic peroxides, photopolymerization initiators, azo compounds, and the like, but organic peroxides are more preferable.

有機過酸化物としては、ジアルキルパーオキサイド、アシルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、ケトンパーオキサイド、パーオキシエステル等の公知の有機過酸化物が使用できる。より具体的には、ベンゾイルパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパオーキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(4,4−ジブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート、2,5−ジメチル2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルクミルパーオキサイド、p−メタンパイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジブチルパーオキシヘキシン−3等が挙げられる。   As the organic peroxide, known organic peroxides such as dialkyl peroxide, acyl peroxide, hydroperoxide, ketone peroxide, and peroxyester can be used. More specifically, benzoyl peroxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (4,4-dibutylperoxycyclohexyl) propane, t-butylperoxy-2-ethylhexanate 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl2,5-di (benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxybenzoate, t-butylcumyl peroxide , P-methane pydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-dibutylperoxyhexyne- 3 etc. are mentioned.

また、本発明に係る層間絶縁材料組成物をビルドアップ配線板用層間絶縁膜に使用する場合には、硬化剤として光重合開始剤を使用することもできる。この光重合開始剤としては、たとえば、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モンフォリノプロパン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。   Moreover, when using the interlayer insulation material composition which concerns on this invention for the interlayer insulation film for buildup wiring boards, a photoinitiator can also be used as a hardening | curing agent. Examples of the photopolymerization initiator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzophenone, and 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2. -Monfolinopropane-1,2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2, Examples include 4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.

これらの硬化剤は1種でも、2種以上を混合して用いてもよい。
硬化剤の配合量は特に制限はないが、アリルエステルオリゴマー、反応性モノマー(単官能および架橋性多官能モノマー)の合計を100質量部に対して、0.1質量部〜10質量部配合することが好ましく、より好ましくは0.5質量部〜5質量部である。上記配合量が0.1質量部より少ないと十分な硬化速度が得られず、また10質量部を超えると電気特性が悪化する恐れがあり、好ましくない。
These curing agents may be used alone or in combination of two or more.
The blending amount of the curing agent is not particularly limited, but is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total of allyl ester oligomer and reactive monomer (monofunctional and crosslinkable polyfunctional monomer). It is preferably 0.5 to 5 parts by mass. If the blending amount is less than 0.1 parts by mass, a sufficient curing rate cannot be obtained, and if it exceeds 10 parts by mass, the electrical characteristics may be deteriorated.

さらに、本発明に係る層間絶縁材料組成物には、硬度、強度、成形性、耐久性、耐水性を改良する目的で、紫外線吸収剤、酸化防止剤、消泡剤、レベリング剤、離型剤、滑剤、撥水剤、難燃剤、低収縮剤、架橋助剤などの添加剤を必要に応じて添加することができる。   Furthermore, the interlayer insulating material composition according to the present invention includes an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antifoaming agent, a leveling agent, and a release agent for the purpose of improving hardness, strength, moldability, durability, and water resistance. Additives such as lubricants, water repellents, flame retardants, low shrinkage agents, and crosslinking aids can be added as necessary.

酸化防止剤としては、特に制限はなく、従来公知のものを用いることができる。中でも、ラジカル連鎖禁止剤であるフェノール系酸化防止剤やアミン系酸化防止剤が好ましい。フェノール系酸化防止剤としては、2,6−t−ブチル−p−クレゾール、2,6−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン等が挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as antioxidant, A conventionally well-known thing can be used. Among these, phenolic antioxidants and amine antioxidants that are radical chain inhibitors are preferred. Examples of phenolic antioxidants include 2,6-t-butyl-p-cresol, 2,6-t-butyl-4-ethylphenol, and 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol). 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane and the like.

本発明に係る層間絶縁材料組成物の硬化物(アリルエステル樹脂)は、上記層間絶縁材料組成物を熱硬化または光硬化させることにより製造することができる。
この硬化物からなるフィルムおよび本発明に係る層間絶縁膜は、上記層間絶縁材料組成物を、たとえば、押し出し成形、カレンダー成形法または溶媒キャスト方法などによりフィルム成形することによって製造することができる。フィルムを加熱硬化する場合、加熱温度は50℃〜300℃の範囲が好ましい。50℃以下で加熱すると硬化速度が著しく遅くなることがあり、300℃よりも高い温度で加熱すると硬化物が変質する恐れがあるため、好ましくない。また、硬化する際には一定温度を保持して硬化するよりも、50℃〜150℃の範囲の温度と151℃〜300℃の範囲の温度の2段階以上の温度で硬化することが好ましい。一定温度に保持して硬化した場合、十分に硬化しない可能性が高くなる。硬化時間は、0.1時間〜4時間が好ましく、さらに好ましくは0.2時間〜3時間、最も好ましくは0.3時間〜4時間である。硬化時間が0.1時間未満であると十分に硬化しない可能性があり、好ましくない。また、4時間以上になると経済的に好ましくない。
The cured product (allyl ester resin) of the interlayer insulating material composition according to the present invention can be produced by thermosetting or photocuring the interlayer insulating material composition.
The film made of the cured product and the interlayer insulating film according to the present invention can be produced by film-forming the above-mentioned interlayer insulating material composition by, for example, extrusion molding, calendar molding method or solvent casting method. When the film is cured by heating, the heating temperature is preferably in the range of 50 ° C to 300 ° C. When heated at 50 ° C. or lower, the curing rate may be remarkably slow, and when heated at a temperature higher than 300 ° C., the cured product may be deteriorated. Further, when curing, it is preferable to cure at two or more stages of a temperature in the range of 50 ° C. to 150 ° C. and a temperature in the range of 151 ° C. to 300 ° C., rather than maintaining at a constant temperature. When it hardens | cures by hold | maintaining at a fixed temperature, possibility that it will not fully harden | cure becomes high. The curing time is preferably 0.1 hours to 4 hours, more preferably 0.2 hours to 3 hours, and most preferably 0.3 hours to 4 hours. If the curing time is less than 0.1 hour, it may not be sufficiently cured, which is not preferable. Moreover, when it becomes 4 hours or more, it is economically unpreferable.

本発明に係る層間絶縁材料組成物から得られる硬化物(アリルエステル樹脂)の耐熱性、電気特性および機械的強度は、それぞれガラス転移点(Tg)、誘電率(以下、εと略す)、ならびに引っ張り試験における引っ張り強さおよび引っ張り伸びで評価することができる。なお、TgはJIS K7197、εはJIS K6911、引っ張り強さおよび引っ張り伸びはJIS K7113に準拠した方法で測定される。   The heat resistance, electrical properties, and mechanical strength of the cured product (allyl ester resin) obtained from the interlayer insulating material composition according to the present invention are the glass transition point (Tg), dielectric constant (hereinafter abbreviated as ε), and The tensile strength and tensile elongation in the tensile test can be evaluated. Tg is measured by a method according to JIS K7197, ε is measured by JIS K6911, and tensile strength and tensile elongation are measured by a method according to JIS K7113.

Tgは好ましくは130℃以上、さらに好ましくは140℃以上、最も好ましくは150℃以上である。Tgが130℃未満であるとハンダ付け等の加熱時に大きく変形することがあり、好ましくない。   Tg is preferably 130 ° C. or higher, more preferably 140 ° C. or higher, and most preferably 150 ° C. or higher. If Tg is less than 130 ° C., it may be greatly deformed during heating such as soldering, which is not preferable.

εは好ましくは3.5以下、さらに好ましくは3.4以下、最も好ましくは3.3以下である。εが3.5より大きいと誘電損失が大きくなることがあり、好ましくない。
引っ張り強さは、好ましくは50MPa以上、さらに好ましくは70MPa以上、最も好ましくは80MPa以上である。引っ張り伸びは、好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1.5%以上、最も好ましくは2.0%以上である。引っ張り強さが50MPa未満および引っ張り伸びが0.5%未満であると、硬化物が脆くなることがあり、好ましくない。
ε is preferably 3.5 or less, more preferably 3.4 or less, and most preferably 3.3 or less. If ε is greater than 3.5, the dielectric loss may increase, which is not preferable.
The tensile strength is preferably 50 MPa or more, more preferably 70 MPa or more, and most preferably 80 MPa or more. The tensile elongation is preferably 0.5% or more, more preferably 1.5% or more, and most preferably 2.0% or more. When the tensile strength is less than 50 MPa and the tensile elongation is less than 0.5%, the cured product may become brittle, which is not preferable.

このような耐熱性、電気特性および機械的強度に優れた層間絶縁材料は、プリント配線基板や封止剤に好適に用いられる。
[実施例]
以下、実施例および比較例を挙げ、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの記載により何らの限定を受けるものではない。各物性は以下の方法により測定した。
Such an interlayer insulating material having excellent heat resistance, electrical characteristics, and mechanical strength is suitably used for a printed wiring board and a sealant.
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated further in detail, this invention does not receive any limitation by these description. Each physical property was measured by the following methods.

1.粘度の測定
アリルエステルオリゴマーおよび層間絶縁材料組成物の粘度は、JIS K 6901(1999)に従い測定した。東京計器株式会社製B型粘度計(形式B8U型)を用い、HH−4ローターを使用して、指定の容器に試料10.3mlを入れ、測定温度25℃、回転数20rpmで測定した。
1. Measurement of viscosity The viscosity of the allyl ester oligomer and the interlayer insulating material composition was measured according to JIS K 6901 (1999). Using a B-type viscometer (model B8U type) manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd., using an HH-4 rotor, 10.3 ml of a sample was placed in a specified container and measured at a measurement temperature of 25 ° C. and a rotation speed of 20 rpm.

2.曲げ強さおよび曲げ弾性率の測定
得られた硬化物の曲げ強さおよび曲げ弾性率は、JIS K7171に準拠した方法で測定した。65mm×25mm×3mmの試験片について、試験速度1.5mm/min、支点間距離48mm、圧子半径5mm、支持台半径2mm、n=5の条件で測定した。
2. Measurement of flexural strength and flexural modulus The flexural strength and flexural modulus of the obtained cured product were measured by a method based on JIS K7171. A test piece of 65 mm × 25 mm × 3 mm was measured under the conditions of a test speed of 1.5 mm / min, a fulcrum distance of 48 mm, an indenter radius of 5 mm, a support base radius of 2 mm, and n = 5.

3.引っ張り強さ、引っ張り弾性率および引っ張り伸びの測定
得られた硬化物の引っ張り強さ、引っ張り弾性率および引っ張り伸びは、JIS K7113に準拠した方法で測定した。試験片として1号ダンベルを用い、試験温度23℃、チャック間距離115mm、標線間距離25mm、試験速度は弾性率測定時が1mm/min、強さおよび伸び測定時が5mm/min、n=5の条件で測定した。
3. Measurement of Tensile Strength, Tensile Elastic Modulus, and Tensile Elongation Tensile strength, tensile elastic modulus, and tensile elongation of the obtained cured product were measured by a method based on JIS K7113. No. 1 dumbbell was used as a test piece, the test temperature was 23 ° C., the distance between the chucks was 115 mm, the distance between the marked lines was 25 mm, the test speed was 1 mm / min when measuring the elastic modulus, 5 mm / min when measuring the strength and elongation, and n = Measurement was performed under the conditions of 5.

4.誘電率および誘電正接の測定
得られた硬化物の誘電率および誘電正接は、JIS K6911(1995)に準拠した方法で測定した。測定温度23℃、湿度65RH%の条件で、ウェインカー社製高精度インピーダンス/LCRメータ 6440Aを用いて、自動平衡ブリッジ法にて、1MHzの値を測定した。
4). Measurement of dielectric constant and dielectric loss tangent The dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained cured product were measured by a method based on JIS K6911 (1995). Under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a humidity of 65 RH%, a value of 1 MHz was measured by an automatic equilibrium bridge method using a high-precision impedance / LCR meter 6440A manufactured by Weinker.

5.Tgおよび線膨張係数の測定
得られた硬化物のTgおよび線膨張係数は、JIS K 7197(1991)に準拠した方法で測定した。島津製作所(株)製のサーモアナライザー(TMA−50)を用い、3mm×3mm×5mmの試験片について、窒素50mL/min.の雰囲気下で、昇温速度5℃/min.で30℃から300℃までの線膨張係数を測定し、その不連続点からTgを決定した。硬化物の線膨張係数は30℃〜Tgの間の平均値により評価した。
5. Measurement of Tg and Linear Expansion Coefficient Tg and linear expansion coefficient of the obtained cured product were measured by a method based on JIS K 7197 (1991). Using a thermoanalyzer (TMA-50) manufactured by Shimadzu Corporation, about a test piece of 3 mm × 3 mm × 5 mm, nitrogen 50 mL / min. Temperature increase rate of 5 ° C./min. The linear expansion coefficient from 30 ° C. to 300 ° C. was measured and Tg was determined from the discontinuity point. The linear expansion coefficient of the cured product was evaluated by an average value between 30 ° C. and Tg.

撹拌機および精留器付き蒸留装置を備えた2リットルの三つ口フラスコに、ジアリルイソフタレート(昭和電工株式会社製)1478g(6.0mol)、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート(和光純薬工業株式会社製)392g(1.5mol)、およびジブチル錫オキサイド1.50g(6.0mmol)を仕込んだ後、窒素置換を行った。このフラスコを撹拌機および温度調節器を備えたシリコンオイルバスに浸し、フラスコ内を約10kPaまで蒸留装置側から減圧した。蒸留装置の冷却水路には約20℃の水を通水した。上記シリコンオイルを約3〜5℃/分の昇温速度で180℃まで加熱し、反応を行った。昇温途中からアリルアルコールの留出が開始した。留出温度は約64℃であった。留出液が約250gになった時点で窒素を導入してフラスコ内を大気圧に戻した。蒸留装置を精留器付還流管に切り替え、還流管の冷却水路には約20℃の水を通水した。突沸しないようにフラスコ内を約100Paまで徐々に減圧し、さらに1時間反応を行い、反応後直ちに冷却してアリルエステルオリゴマーを得た。なお、還流管を通過した留出ガスはドライアイス入りメタノールで冷却したトラップで捕集した。蒸留装置およびトラップに捕集された留出液の合計は263gであった。得られたアリルエステルオリゴマーの粘度および重量平均分子量を測定した。   In a 2 liter three-necked flask equipped with a stirrer and a distillation apparatus equipped with a rectifier, 1478 g (6.0 mol) of diallyl isophthalate (manufactured by Showa Denko KK), tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate (Wako Pure) After charging 392 g (1.5 mol) manufactured by Yakuhin Kogyo Co., Ltd. and 1.50 g (6.0 mmol) of dibutyltin oxide, nitrogen substitution was performed. This flask was immersed in a silicon oil bath equipped with a stirrer and a temperature controller, and the pressure in the flask was reduced to about 10 kPa from the distillation apparatus side. About 20 ° C. water was passed through the cooling water channel of the distillation apparatus. The above silicon oil was heated to 180 ° C. at a temperature rising rate of about 3 to 5 ° C./min to carry out the reaction. Distillation of allyl alcohol started from the middle of the temperature increase. The distillation temperature was about 64 ° C. When the distillate reached about 250 g, nitrogen was introduced to return the inside of the flask to atmospheric pressure. The distillation apparatus was switched to a reflux tube with a rectifier, and water at about 20 ° C. was passed through the cooling water channel of the reflux tube. The inside of the flask was gradually depressurized to about 100 Pa so as not to bump, and the reaction was further performed for 1 hour, followed by cooling immediately after the reaction to obtain an allyl ester oligomer. The distillate gas that passed through the reflux tube was collected by a trap cooled with methanol containing dry ice. The total amount of distillate collected in the distillation apparatus and trap was 263 g. The viscosity and weight average molecular weight of the obtained allyl ester oligomer were measured.

このアリルエステルオリゴマー100質量部に対してジクミルパーオキサイド(日本油脂株式会社製、商品名:パークミルD)を2質量部加え、十分に撹拌して層間絶縁材料組成物を調製した。この組成物の粘度を測定した。その後、この組成物を約80℃に加熱した後、所定のサイズに注型し、130℃で1時間、さらに160℃で1時間加熱して硬化させた。得られた硬化物を室温まで冷却し、電気特性、機械的強度および耐熱性を測定した。   2 parts by mass of dicumyl peroxide (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd., trade name: Park Mill D) was added to 100 parts by mass of this allyl ester oligomer and sufficiently stirred to prepare an interlayer insulating material composition. The viscosity of this composition was measured. Thereafter, the composition was heated to about 80 ° C., then cast into a predetermined size, and cured by heating at 130 ° C. for 1 hour and further at 160 ° C. for 1 hour. The obtained cured product was cooled to room temperature, and the electrical properties, mechanical strength and heat resistance were measured.

また、上記アリルエステルオリゴマーを密閉容器に入れ、40℃のオーブン内に保管し、一定時間毎に粘度を測定して粘度の経時変化を調べ、1ヶ月保管後の粘度で評価した。
以上の測定結果を表1に示す。
Further, the allyl ester oligomer was put in a sealed container, stored in an oven at 40 ° C., the viscosity was measured at regular time intervals, the change in viscosity with time was examined, and the viscosity after storage for 1 month was evaluated.
The above measurement results are shown in Table 1.

[比較例1]
撹拌機および精留器付き蒸留装置を備えた2リットルの三つ口フラスコに、ジアリルテ
レフタレート(昭和電工株式会社製)1478g(6.0mol)、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート(和光純薬工業株式会社製)392g(1.5mol)、およびジブチル錫オキサイド1.50g(6.0mmol)を仕込んだ以外は、実施例1と同様にしてアリルエステルオリゴマー合成した。
[Comparative Example 1]
In a 2 liter three-necked flask equipped with a stirrer and a distillation apparatus equipped with a rectifier, 1478 g (6.0 mol) of diallyl terephthalate (manufactured by Showa Denko KK), tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) An allyl ester oligomer was synthesized in the same manner as in Example 1 except that 392 g (1.5 mol) manufactured by Kogyo Co., Ltd. and 1.50 g (6.0 mmol) of dibutyltin oxide were charged.

得られたアリルエステルオリゴマーの粘度およびその経時変化、重量平均分子量を測定した。また、実施例1と同様にして硬化物を作製し、電気特性、機械的強度および耐熱性を測定した。測定結果を表1に示す。   The viscosity of the allyl ester oligomer obtained, its change with time, and the weight average molecular weight were measured. Further, a cured product was produced in the same manner as in Example 1, and the electrical characteristics, mechanical strength, and heat resistance were measured. The measurement results are shown in Table 1.

Figure 2006111817
Figure 2006111817

Claims (18)

下記式(1)で表される基と下記式(2)で表される基および/または下記式(3)で表される基とを有するアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料。
Figure 2006111817
(式中、R1は、アリル基またはメタリル基を表し、該オリゴマー1分子中にこの基が複
数存在する場合には、互いに同じであっても異なっていてもよい。)
Figure 2006111817
(式中、X1、X2およびX3は、それぞれ独立に炭素数1〜10の有機基を表し、X2およびX3は、上記(1)で表される基を有する鎖とエステル結合を介して結合している。R2は、水素原子または炭素数1〜10の有機基を表す。)
An interlayer insulating material comprising an allyl ester oligomer having a group represented by the following formula (1), a group represented by the following formula (2) and / or a group represented by the following formula (3).
Figure 2006111817
(In the formula, R 1 represents an allyl group or a methallyl group, and when there are a plurality of these groups in one molecule of the oligomer, they may be the same or different from each other.)
Figure 2006111817
(In the formula, X 1 , X 2 and X 3 each independently represent an organic group having 1 to 10 carbon atoms, and X 2 and X 3 are a chain having an ester group and an ester bond having the group represented by (1) above) R 2 represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 10 carbon atoms.)
アリルエステルオリゴマー中の繰り返し単位が上記式(2)で表される基および/または上記式(3)で表される基のみからなることを特徴とする請求項1に記載の層間絶縁材料。   2. The interlayer insulating material according to claim 1, wherein the repeating unit in the allyl ester oligomer consists only of the group represented by the formula (2) and / or the group represented by the formula (3). 上記式(2)および(3)に記載のX1〜X3が、置換または無置換のアルキレン基であることを特徴とする請求項1に記載の層間絶縁材料。 2. The interlayer insulating material according to claim 1, wherein X 1 to X 3 in the formulas (2) and (3) are substituted or unsubstituted alkylene groups. 置換または無置換のアルキレン基が、エチレン、2−メチルエチレン、2−エチルエチレン、2−クロロメチルエチレン、2−ブロモメチルエチレン、2−アリロキシメチルエチレン、2−フェノキシメチルエチレン、シクロヘキシレン、2−フェニルエチレン、2−メタクリロキシメチルエチレンおよび2−アクリロキシメチルエチレンからなる群より選ばれる1種以上のアルキレン基であることを特徴とする請求項3に記載の層間絶縁材料。   A substituted or unsubstituted alkylene group is selected from ethylene, 2-methylethylene, 2-ethylethylene, 2-chloromethylethylene, 2-bromomethylethylene, 2-allyloxymethylethylene, 2-phenoxymethylethylene, cyclohexylene, 2 The interlayer insulating material according to claim 3, wherein the interlayer insulating material is one or more alkylene groups selected from the group consisting of -phenylethylene, 2-methacryloxymethylethylene, and 2-acryloxymethylethylene. 上記式(2)および(3)に記載のX1〜X3が、エチレン基および/または2−メチルエチレン基であることを特徴とする請求項1に記載の層間絶縁材料。 The interlayer insulating material according to claim 1, wherein X 1 to X 3 described in the formulas (2) and (3) are an ethylene group and / or a 2-methylethylene group. ジ(メタ)アリルイソフタレートと、イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物とのエステル交換重縮合反応によって得られるアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料。   An interlayer insulating material comprising an allyl ester oligomer obtained by a transesterification polycondensation reaction between di (meth) allyl isophthalate and a compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups. イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物が、イソシアヌル酸とアルキレンモノエポキシドを反応させて得られる化合物であることを特徴とする請求項6に記載の層間絶縁材料。   The interlayer insulating material according to claim 6, wherein the compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is a compound obtained by reacting isocyanuric acid with an alkylene monoepoxide. アルキレンモノエポキシドが、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシドおよびグリシジル(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる1種以上のアルキレンモノエポキシドであることを特徴とする請求項7に記載の層間絶縁材料。   The alkylene monoepoxide is at least one selected from the group consisting of ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, epichlorohydrin, epibromohydrin, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, cyclohexene oxide, styrene oxide, and glycidyl (meth) acrylate. The interlayer insulating material according to claim 7, which is an alkylene monoepoxide. イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物が、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートおよびトリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレートからなる群より選ばれる1種以上のイソシアヌレートであることを特徴とする請求項6に記載の層間絶縁材料。   The compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is selected from the group consisting of bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate and tris (2-hydroxypropyl) isocyanurate The interlayer insulating material according to claim 6, which is the above isocyanurate. イソフタル酸とイソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物とがエステル結合した構造と、末端にアリル基および/またはメタリル基とを有するアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料。   An interlayer insulating material comprising an allyl ester oligomer having an ester-bonded structure of isophthalic acid, an isocyanuric ring and a compound having two or more hydroxyl groups, and an allyl group and / or a methallyl group at the terminal. イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物が、イソシアヌル酸とアルキレンモノエポキシドを反応させて得られる化合物であることを特徴とする請求項10に記載の層間絶縁材料。   The interlayer insulating material according to claim 10, wherein the compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is a compound obtained by reacting isocyanuric acid and an alkylene monoepoxide. アルキレンモノエポキシドが、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシドおよびグリシジル(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる1種以上のアルキレンモノエポキシドであることを特徴とする請求項11に記載の層間絶縁材料。   The alkylene monoepoxide is at least one selected from the group consisting of ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, epichlorohydrin, epibromohydrin, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, cyclohexene oxide, styrene oxide, and glycidyl (meth) acrylate. The interlayer insulating material according to claim 11, which is an alkylene monoepoxide. イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物が、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートおよびトリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレートからなる群より選ばれる1種以上のイソシアヌレートであることを特徴とする請求項10に記載の層間絶縁材料。   The compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups is selected from the group consisting of bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate and tris (2-hydroxypropyl) isocyanurate It is the above isocyanurate, The interlayer insulation material of Claim 10 characterized by the above-mentioned. ジ(メタ)アリルイソフタレートと、イソシアヌル環および2個以上の水酸基を有する化合物とをエステル交換重縮合反応させることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のアリルエステルオリゴマーからなる層間絶縁材料の製造方法。   6. An interlayer comprising an allyl ester oligomer according to claim 1, wherein di (meth) allyl isophthalate is subjected to an ester exchange polycondensation reaction between a compound having an isocyanuric ring and two or more hydroxyl groups. Insulating material manufacturing method. 請求項1〜13のいずれかに記載の層間絶縁材料および硬化剤を含むことを特徴とする層間絶縁材料組成物。   An interlayer insulating material composition comprising the interlayer insulating material according to claim 1 and a curing agent. 請求項15に記載の層間絶縁材料組成物の硬化物。   Hardened | cured material of the interlayer insulation material composition of Claim 15. 請求項15に記載の層間絶縁材料組成物を硬化して得られる層間絶縁膜。   An interlayer insulating film obtained by curing the interlayer insulating material composition according to claim 15. 請求項1〜13のいずれかに記載の層間絶縁材料を使用したプリント配線基板。   The printed wiring board using the interlayer insulation material in any one of Claims 1-13.
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