JP2006099936A - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及びガラス基板用の円柱状ガラス母材 - Google Patents

Abstract

【課題】 磁気ディスク用ガラス基板の端面部分の良好な研磨を低廉なコストにより実現し、耐衝撃牲に優れ、例えば、外径が３０ｍｍ以下のような小型化が可能であり、また、「ＬＵＬ方式」のハードディスクドライブに搭載され得る磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供する。
【解決手段】 円柱状のガラス母材３をこのガラス母材３の中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作成する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス母材３の側面の研磨、または、鏡面加工を行ってから、切断処理を行う。
【選択図】 図３

Description

本発明は、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）などの情報記録装置における記録媒体となる磁気ディスクに使用される磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に関する。

また、本発明は、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）などの情報記録装置における記録媒体となる磁気ディスクの製造方法に関する。

さらに、本発明は、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）などの情報記録装置における記録媒体となる磁気ディスクの材料となるガラス基板用の円柱状ガラス母材に関する。

近年、情報化社会の高度化に伴って種々の情報処理装置が提案されており、これら情報処理装置において使用される情報記録装置としてハードディスクドライブ（ＨＤＤ）が提案されている。このハードディスクドライブにおいては、情報処理装置の小型化、高性能化のために、情報記録容量の大量化、記録密度の高密度化が求められるとともに、製造コストの低廉化も求められている。

ハードディスクドライブにおいて、情報記録密度を高密度化するためには、いわゆるスペーシングロスを低減させる必要があり、記録媒体となる磁気ディスクに対して記録再生を行なう磁気ヘッドの浮上量（グライド・ハイト）を少なくする必要がある。ところで、記録再生時には、磁気ディスクが高速回転するため、磁気ヘッドの浮上量を少なくすると、磁気ヘッドが磁気ディスクの表面に接触する虞れが生ずる。このような磁気ヘッドと磁気ディスクの表面との接触を防止するためには、磁気ディスク表面を、極めて平滑な面として仕上げておく必要がある。

このような磁気ディスク表面の平滑性を実現するため、磁気ディスク用基板としては、従来より広く用いられていたアルミニウム基板に代えて、「２．５インチディスク」に代表されるように、ガラス基板が用いられるようになっている。ガラス基板は、アルミニウム基板に比較して、表面の平坦性及び基板強度において優れているからである。このようなガラス基板としては、化学強化により強度を向上させたガラス基板や、結晶化によって基板強度を向上させた結晶化ガラス基板などが挙げられる。

ところで、一般に磁気ディスク用ガラス基板は、ガラス原料を加熱融解させて溶融ガラスを準備する工程、この溶融ガラスを板状のガラスディスクに成形する工程、及び、板状に成形されたガラスディスクを加工し研磨してガラス基板を作成する工程が順次実行されることにより作成される。

溶融ガラスを板状のガラスディスクに成形するにあたっては、プレス法、フロー卜法、フュージョン法等の成形方法が採用されている。プレス法を用いる場合には、溶融ガラスから直接的に板状のガラスディスクを成形する。フロート法、フュージョン法を用いる場合には、溶融ガラスを矩形状の枚ガラスに成形し、この板ガラスからガラスディスクを切り出す。これらのうち、現在、最も普及している方法は、プレス法によりガラスディスクを作成する方法である。

また、他の方法としては、特許文献１に記載されているように、円柱状のガラス母材から、ガラスディスクを切り出す方法も提案されている。

また、特許文献２及び特許文献３には、円柱状ガラス母材をマルチワイヤソーによって切断して、ガラスディスクを作成する方法が記載されている。

以上のようにして作成されたガラスディスクの端面及び主表面を研磨し、化学強化等の強化処理を行って、磁気ディスク用ガラス基板が製造されている。

特開平４−１６８６２９号公報 特開平８−００７２７２号公報 特許第２６３９２７０号公報

ところで、前述のような高い情報記録面密度が実現可能となったガラス基板を用いたハードディスクドライブは、小型の磁気ディスクを用いたものでも十分な情報量を格納できるようになってきた。したがって、このようなハードディスクドライブは、いわゆる据置型のコンピュータ装置などに搭載されるもののみならず、いわゆる「カーナビゲーションシステム（Car Navigation System）」や「ＰＤＡ（Personal Digital Assistance）」、「携帯電話」などのように、車載用、あるいは、携帯用といった筐体スペースの小さなモバイル機器の情報ストレージ用として使用されるものにも用途が広がっている。

このような小型のハードディスクドライブに搭載される小型磁気ディスクのサイズとしては、例えば、外径が３０ｍｍ以下、内径が１０ｍｍ以下、ディスク厚が０．５ｍｍ以下となされており、代表的には、外径２７．４ｍｍ、内径７ｍｍ、ディスク厚０．３８１ｍｍの「１インチ型ディスク」や、外径２２ｍｍ、内径６ｍｍ、ディスク厚０．３８１ｍｍの「０．８５インチ型ディスク」等が挙げられる。

このような「モバイル用途」の小型ハードディスクドライブは、常に、落下、振動、急激な移動加速などによる撃力に曝される虞れがあるので、このようなハードディスクドライブにおける磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクは、従来の「２．５インチ型ディスク」（外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、ディスク厚０．６３５ｍｍ）等の相対的に大きな磁気ディスクに比較して、十分に高い耐衝撃性が要求されるに至っている。

一方、最近のハードディスクドライブでは、「ＬＵＬ（ロードアンロード）方式」により起動停止動作を行うものが提案されている。「ＬＵＬ方式」のハードディスクドライブに搭載される磁気ディスクにおいては、従来の磁気ディスクに比較して、その表面はより平滑、かつ、清浄であることが求められる。すなわち、「ＬＵＬ方式」のハードディスクドライブにおける磁気ヘッドの浮上量は、１０ｎｍ、あるいは、それ以下とされ、従来の「ＣＳＳ（コンタクトスタートストップ）方式」のハードディスクドライブに比較してクラッシュ障害を生じやすい。したがって、「ＬＵＬ方式」のハードディスクドライブに用いる磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクの表面は、従来に比較して十分に清浄でなければならないのである。

また、最近のハードディスクドライブにおいては、磁気ヘッドとして、磁気抵抗効果型素子や大型磁気抵抗効果型素子が搭載されたものが使用されるようになっている。このことによっても、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクの表面は、従来に比較して、より平滑、かつ、清浄であることが求められる。すなわち、磁気抵抗効果型素子や大型磁気抵抗効果型素子を搭載した磁気ヘッドは、磁気ディスク表面の平滑性や清浄度が不十分であると、サーマルアスペリティ障害を発生させる場合があるからである。したがって、磁気抵抗効果型素子によって情報が再生される磁気ディスクにおいては、従来の薄膜型素子により情報が再生される磁気ディスクに比較して、表面が十分に平滑、かつ、清浄でなければならない。

また、携帯電話機用など「モバイル用途」の小型化されたハードディスクドライブについては、より一層のコストダウン及び大量生産の要望が強く、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に供給する必要がある。

従来、磁気ディスク用ガラス基板の製造においては、上述したように、プレス法を利用して、溶融ガラスからガラスディスクを作成する方法が主流であった。また、フロート法等で溶融ガラスからシートガラスを作成し、このシートガラスからガラスディスクを切り出す方法も行われてきた。このような方法でガラスディスクを作成すると、多くのガラス屑やガラスの切れ端が排出されてしまうという問題が生じている。すなわち、原料となる溶融ガラスのうち、最終的にガラスディスクに加工されずに廃棄されるガラスが多く、言い換えれば、材料利用率を向上させることが困難であるという問題が生じている。また、単位時間当たりに作成可能なガラスディスクの数、すなわち、ガラスディスクの量産性を向上させることが困難であるという問題が生じている。

したがって、ガラスディスクの作成においては、従来より主流として用いられている方法を援用しているのみでは、十分に製造の容易化及び製造原価の低減を図ることが困難である。

このような課題を解決する方法の―つとして、上述した特許文献１乃至特許文献３に記載されているようなガラスディスクの製造方法も考えられる。しかし、このような製造方法においては、円柱状ガラス母材を切断して得られたガラスディスクの端面部分の付近においてバリや欠けが生じたり、あるいは、ガラスディスクの板厚が不均一になるという問題が生じる。また、このような製造方法においては、表裏の両主表面が互いに高精度に平行となされたガラスディスクを得ることが困難であるという課題が生じる。

そして、磁気ディスク用ガラス基板の端面部分の鏡面品質は、前述のような磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクに求められる耐衝撃性、平滑性及び清浄度の向上を阻害する因子の一つであると考えられる。すなわち、磁気ディスク用ガラス基板が衝撃によって破損する場合としては、端面部分から破損する場合が多いという事情がある。これは、曲面である磁気ディスク用ガラス基板の端面部分を、製造コストの高騰を抑えつつ優れた平滑面に仕上げることが困難であるために、この端面部分に微小なクラック等が残存してしまう場合があることが原因と考えられる。

そして、円柱状ガラス母材を切断して得られたガラスディスクにおいては、端面部分の付近においてバリや欠けが生じている虞れがあり、この端面部分を研磨しても、微小なクラック等が残存してしまう場合があると考えられる。

また、磁気ディスク用ガラス基板の端面部分は、主表面部分ほどには表面粗度が小さくないので、この端面部分が発塵の原因となったり、端面部分が微小な塵挨を捕捉しやすいという事情もある。

なお、従来、小型化された磁気ディスク用ガラス基板の端面部分を研磨するにあたっては、多数の磁気ディスク用ガラス基板を同軸状に積層させて保持して、これら磁気ディスク用ガラス基板の外周側の各端面部分及び内周側の各端面部分を同時に加工することが行われている。

そこで、本発明は、上述の実情に鑑みて提案されるものであって、本発明の第１の目的は、端面部分の形状、両主表面の平行度及び板厚の均一性が良好な磁気ディスク用ガラス基板を低廉なコストにより提供し、また、磁気ディスク用ガラス基板の端面部分の良好な研磨を低廉なコストにより実現し、廉価な磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを大量に提供することにある。

また、本発明の第２の目的は、耐衝撃牲に優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することにある。

また、本発明の第３の目的は、例えば、外径が３０ｍｍ以下のような小型の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することにある。

さらに、本発明の第４の目的は、「ＬＵＬ方式」のハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することにある。

そして、本発明の第５の目的は、第１乃至第４の目的を達成することを可能とするガラス基板用の円柱状ガラス母材を提供することにある。

前述の課題を解決し、上記目的を達成するため、本発明は、以下のいずれかの構成を備えるものである。

〔構成１〕
円柱状のガラス母材をこのガラス母材の中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作成する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、切断処理を行う前に、ガラス母材の側面の研磨を行うことを特徴とするものである。

〔構成２〕
円柱状のガラス母材をこのガラス母材の中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作成する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、切断処理を行う前に、ガラス母材の側面の鏡面加工を行うことを特徴とするものである。

〔構成３〕
構成１、または、構成２を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス母材として、中心軸に沿って円孔が形成されたものを用いることを特徴とするものである。

〔構成４〕
構成１乃至構成３のいずれか一にを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、切断処理を行う前に、ガラス母材の側面に、ガラスディスクの周縁部の面取面となる円環状の溝を形成することを特徴とするものである。

〔構成５〕
構成１乃至構成４のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、外径が３０ｍｍ以下の小型の磁気ディスク用ガラス基板を製造することを特徴とするものである。

〔構成６〕
磁気ディスクの製造方法であって、構成１乃至構成５のいずれか一にを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面部に対し、少なくとも磁性層を形成することを特徴とするものである。

〔構成７〕
中心軸に対して垂直に切断処理されてガラスディスクとなされることにより磁気ディスク用ガラス基板の材料となる円柱状ガラス母材であって、側面が研磨されていることを特徴とするものである。

〔構成８〕
中心軸に対して垂直に切断処理されてガラスディスクとなされることにより磁気ディスク用ガラス基板の材料となる円柱状ガラス母材であって、側面の表面粗さが、Ｒａで０．３μｍ以下及び／又はＲmaxで３μｍ以下であることを特徴とするものである。

〔構成９〕
構成７、または、構成８を有するガラス基板用の円柱状ガラス母材であって、側面には、ガラスディスクの周縁部の面取面となる円環状の溝が形成されていることを特徴とするものである。

〔構成１０〕
構成７乃至構成９のいずれか一を有するガラス基板用の円柱状ガラス母材であって、結晶化ガラスにより形成されていることを特徴とするものである。

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、円柱状のガラス母材をこのガラス母材の中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作成する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、切断処理を行う前に、ガラス母材の側面の研磨を行うので、ガラスディスクの端面部分を一枚一枚研磨する方法に比較して、研磨加工の対象物が大きく、平滑な面を容易に得ることができる。

特に、磁気ディスク用ガラス基板の小型化を図った場合、ガラスディスク一枚一枚の端面部分を研磨することは長大な時間を要し、コストダウンが困難であるが、本発明においては、研磨加工が容易であり、低廉なコストにより、大量の磁気ディスク用ガラス基板を提供することができる。

また、本発明においては、ガラスディスク一枚一枚の端面部分を研磨する場合においても、ガラス母材の側面の研磨を行っていることにより、この円柱状ガラス母材を切断して得られたガラスディスクにおいて、端面部分の付近におけるバリや欠けの発生が防止され、この端面部分を研磨により、微小なクラック等の残存を防止することができる。

また、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、円柱状のガラス母材をこのガラス母材の中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作成する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、切断処理を行う前に、ガラス母材の側面の鏡面加工を行うので、ガラスディスクの端面部分を一枚一枚鏡面加工する方法に比較して、鏡面加工の対象物が大きく、平滑な鏡面を容易に得ることができる。

特に、磁気ディスク用ガラス基板の小型化を図った場合、ガラスディスク一枚一枚の端面部分を鏡面加工することは長大な時間を要し、コストダウンが困難であるが、本発明においては、鏡面加工が容易であり、低廉なコストにより、大量の磁気ディスク用ガラス基板を提供することができる。

また、本発明においては、ガラスディスク一枚一枚の端面部分を鏡面加工する場合においても、ガラス母材の側面の鏡面加工を行っていることにより、この円柱状ガラス母材を切断して得られたガラスディスクにおいて、端面部分の付近におけるバリや欠けの発生が防止され、この端面部分を鏡面加工することにより、微小なクラック等の残存を防止することができる。

さらに、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス母材として、中心軸に沿って円孔が形成されたものを用いるようにすれば、特に研磨加工が困難であるガラスディスクの内周側の端面部分に対して、容易に研磨加工、または、鏡面加工を施すことができる。

また、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、切断処理を行う前に、ガラス母材の側面に、ガラスディスクの周縁部の面取面となる円環状の溝を形成するようにすれば、特に研磨加工が困難であるガラスディスクの内外周の面取面に対して、容易に研磨加工、または、鏡面加工を施すことができる。

また、本発明に係る磁気ディスクの製造方法は、前述の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面部に対し、少なくとも磁性層を形成するので、「ＬＵＬ方式」のハードディスクドライブに搭載されてもサーマルアスペリティ障害を生ずることのない磁気ディスクを廉価に大量に供給することができる。

そして、本発明に係るガラス基板用の円柱状ガラス母材においては、側面が研磨されていることにより、この円柱状ガラス母材を切断処理してガラスディスクを製造した場合において、ガラスディスクの端面部分を一枚一枚研磨する方法に比較して研磨加工の対象物が大きく平滑な面を容易に得ることができ、また、ガラスディスク一枚一枚の端面部分を研磨する場合においても、ガラス母材の側面の研磨を行っていることにより、切断処理により得られたガラスディスクにおいて、端面部分の付近におけるバリや欠けの発生が防止され、この端面部分を研磨により、微小なクラック等の残存を防止することができる。

そして、本発明に係るガラス基板用の円柱状ガラス母材においては、側面の表面粗さがＲａで０．３μｍ以下及び／又はＲmaxで３μｍ以下であることにより、この円柱状ガラス母材を切断処理してガラスディスクを製造した場合において、ガラスディスクの端面部分が良好な表面粗さとなされ、また、ガラスディスク一枚一枚の端面部分を研磨する場合においても、ガラス母材の側面の表面粗さが良好であることにより、切断処理により得られたガラスディスクにおいて、端面部分の付近におけるバリや欠けの発生が防止され、この端面部分を研磨により、微小なクラック等の残存を防止することができる。

すなわち、磁気ディスク用ガラス基板の小型化を図った場合、ガラスディスク一枚一枚の端面部分を研磨することは長大な時間を要し、コストダウンが困難であるが、本発明においては、研磨加工が容易であり、低廉なコストにより、大量の磁気ディスク用ガラス基板を提供することができる。

また、このガラス基板用の円柱状ガラス母材において、側面に、ガラスディスクの周縁部の面取面となる円環状の溝を形成しておくことにより、この溝に沿って切断処理を行うようにすれば、特に研磨加工が困難であるガラスディスクの内外周の面取面について、容易な研磨加工、または、良好な表面粗さを実現することができる。

さらに、このガラス基板用の円柱状ガラス母材において、結晶化ガラスにより形成することにより、化学強化処理を施すことなく、切断処理により、高硬度、かつ、高剛性のガラスディスクを得ることができる。

すなわち、本発明は、端面部分の形状、両主表面の平行度及び板厚の均一性が良好な磁気ディスク用ガラス基板を低廉なコストにより提供し、また、磁気ディスク用ガラス基板の端面部分の良好な研磨を低廉なコストにより実現し、廉価な磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを大量に提供することができるものである。

また、本発明は、耐衝撃牲に優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することができるものである。

また、本発明は、例えば、外径が３０ｍｍ以下のような小型の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することができるものである。

さらに、本発明は、「ＬＵＬ方式」のハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することができるものである。

そして、本発明は、前述の各効果を奏することを可能とするガラス基板用の円柱状ガラス母材を提供することができるものである。

以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら説明する。

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、例えば、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）等に搭載される磁気ディスクのガラス基板として使用される磁気ディスク用ガラス基板を製造するものである。この磁気ディスクは、例えば、垂直磁気記録方式によって高密度の情報信号記録及び再生を行うことができる記録媒体である。

この磁気ディスク用ガラス基板は、外径１５ｍｍ乃至３０ｍｍ、内径５ｍｍ乃至１２ｍｍ、板厚０．３５ｍｍ乃至０．５ｍｍであり、例えば、「０．８インチ（inch）型磁気ディスク」（内径６ｍｍ、外径２１．６ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、「１．０インチ型磁気ディスク」（内径７ｍｍ、外径２７．４ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）などの所定の直径を有する磁気ディスクとして作製される。また、「２．５インチ型磁気ディスク」、「３．５インチ型磁気ディスク」など磁気ディスクとして作製されるものとしてもよい。なお、ここで、「内径」とは、ガラス基板の中心部の円孔の内径である。

図１は、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造される磁気ディスク用ガラス基板の構成を示す斜視図である。

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、図１に示すように、中心部に円孔１を有する磁気ディスク用ガラス基板２を製造する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。この磁気ディスク用ガラス基板は、ガラスからなることにより、鏡面研磨によって優れた平滑性を実現することができ、硬度が高く、また、剛性が高いので、耐衝撃性に優れている。特に、携帯（持運び）用、あるいは、車載用の情報器機に搭載されるハードディスクドライブに使用される磁気ディスクには、高い耐衝撃性が要求されるので、このような磁気ディスクにおいてガラス基板を用いることには有用性が高い。ガラスは脆性材料であるが、化学強化や風冷強化などの強化処理、あるいは、結晶化の手段により、破壊強度を向上させることができる。

このようなガラス基板の材料として好ましいガラスとしては、アルミノシリケートガラスを挙げることができる。アルミノシリケートガラスは、優れた平滑鏡面を実現することができるとともに、例えば、化学強化を行なうことによって、破壊強度を高めることができるからである。また、このようなガラス基板の材料として好ましいガラスとしては、結晶化（アモルファス）ガラスを挙げることができる。

アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ_２：６２乃至７５重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：５乃至１５重量％、Ｌｉ_２Ｏ：４乃至１０重量％、Ｎａ_２Ｏ：４乃至１２重量％、ＺｒＯ_２：５．５乃至１５重量％を主成分として含有するとともに、Ｎａ_２ＯとＺｒＯ_２との重量比が０．５乃至２．０、Ａｌ_２Ｏ_３とＺｒＯ_２との重量比が０．４乃至２．５である化学強化用ガラスが好ましい。

また、このようなガラス基板において、ＺｒＯ_２の未溶解物が原因で生じるガラス基板表面の突起をなくすためには、ＳｉＯ_２を５７乃至７４mol％、ＺｒＯ_２を０乃至２．８mol％、Ａｌ_２Ｏ_３を３乃至１５mol％、ＬｉＯ_２を７乃至１６mol％、Ｎａ_２Ｏを４乃至１４mol％含有する化学強化用ガラスを使用することが好ましい。このような組成のアルミノシリケートガラスは、化学強化することによって、抗折強度が増加し、圧縮応力層の深さも深く、ヌープ硬度にも優れている。

また、本発明において製造する磁気ディスク用ガラス基板をなす材料は、前述したものに限定されるわけではない。すなわち、ガラスディスクの材質としては、前述したアルミノシリケートガラスの他に、例えば、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラス、または、結晶化ガラス等のガラスセラミックなどを挙げることができる。

図２は、前記磁気ディスク用ガラス基板２の円孔１の内周側端面の形状を示す断面図である。

本発明により製造される磁気ディスク用ガラス基板は、端面部分の両側の稜部が面取りされたものであることが好ましい。すなわち、この磁気ディスク用ガラス基板２の円孔１の内周側端面部分は、図２に示すように、この内周側端面部分から両側の主平面に向けて、面取り部（Ｃ面）１ｂ，１ｂが形成された状態となっており、また、この磁気ディスク用ガラス基板２の外周側端面部分は、この外周側端面部分から両側の主平面に向けて、面取り部（Ｃ面）が形成された状態となっている。

この磁気ディスク用ガラス基板２の内周側端面部分において、面取り部１ｂ，１ｂの間の部分は、磁気ディスク用ガラス基板２の主平面に対して垂直面からなる円筒状の側面（Ｔ面）１ａとなっている。前述の円孔１の内径とは、この側面１ａの内径のことである。また、この磁気ディスク用ガラス基板２の外周側端面部分において、面取り部の間の部分は、磁気ディスク用ガラス基板２の主平面に対して垂直面からなる円筒状の側面（Ｔ面）となっている。前述の磁気ディスク用ガラス基板の直径とは、この側面の直径のことである。この磁気ディスク用ガラス基板は、端面部分の稜部が面取りされていることにより、破壊強度が高まる。なお、本発明についての説明においては、側面と面取り面とを合わせて、端面部分と言うこととする。

図３は、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の各工程を示す工程図である。

以下、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について、工程順に説明する。

（１）円柱状のガラス母材を得る工程
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、図３に示すように、まず、本発明に係る円柱状ガラス母材３を用意する。このガラス母材３は、前述したように、アルミノシリケートガラスからなることが好ましい。このガラス母材３は、製造する磁気ディスク用ガラス基板２の直径よりもやや大きな直径を有し、この磁気ディスク用ガラス基板２が多数枚積層された状態における厚さに相当する長さを有している。

（２）ガラス母材に中心孔を形成する工程
次に、このガラス母材３の中心軸にそって、所定の大きさの中心孔３ａを形成する。この中心孔３ａは、磁気ディスク用ガラス基板２における中心孔１となるものであり、この中心孔１の内径よりもやや小径の内径の孔として形成する。

なお、ガラス母材３において中心孔３ａを形成せずに、後述するガラス母材３の切断処理（スライス）後に、この切断処理によって形成されるガラスディスクに対して、中心孔１を形成するようにしてもよい。

（３）ガラス母材の内外周の側面を研磨（鏡面加工）する工程
次に、ガラス母材３の内外周の側面を研磨し、鏡面加工する。この工程における研磨は、研磨剤を用いて、ブラシ等により行う。なお、この研磨工程に先だって、図４に示すように、ガラス母材３の内外周の側面に、磁気ディスク用ガラス基板となったときに内外周の面取面となるＶ字状の溝４を周方向に沿って円環状に設けておいてもよい。

この工程において使用する研磨剤に含まれる研磨砥粒としては、ガラス母材３に対して研磨能力を奏する研磨砥粒であれば、特に制限なく使用することができる。例えば、酸化セリウム（ＣｅＯ_２）砥粒、コロイダルシリカ砥粒、アルミナ砥粒、ダイヤモンド砥粒などを挙げることができ、特に、酸化セリウム研磨砥粒が好ましい。研磨砥粒の粒径については、適宜選択することができるが、例えば、０．５μｍ乃至３μｍ程度とすることが好ましい。また、研磨剤は、研磨砥粒を含む研磨剤に、水（純水）などの液体を加え、この研磨剤をスラリーとして用いることが好ましい。

この研磨加工により、ガラス母材３の内外周側面の表面粗さは、Ｒａで０．３μｍ以下とされる。また、ガラス母材３の内外周側面の表面粗さは、Ｒmaxで３μｍ以下とされる。さらに、ガラス母材３の内外周側面の表面粗さとしては、Ｒａで０．１μｍ以下及び／又はＲmaxで１μｍ以下の鏡面とすることがより好ましい。

（４）ガラス母材を切断処理（スライス）する工程
次に、ガラス母材３を、中心軸に対して垂直に切断処理することにより、磁気ディスク用ガラス基板の厚さよりもやや厚い厚さのガラスディスクを得る。このとき、１本のガラス母材３から、多数のガラスディスクが得られる。

この工程におけるガラス母材３の切断処理は、例えば、図５に示すように、マルチワイヤソーを用いることによって行うことができる。マルチワイヤソーは、複数個の多溝ローラを所定間隔で配置しこれら多溝ローラの各溝に無端ワイヤを多数巻き付けて走行させ、この無端ワイヤをガラス母材の側面に押し当てることにより、このガラス母材３を切断する装置である。

（５）形状加工工程、ラッピング工程
この工程では、ガラス母材３を切断処理することにより得られたガラスディスクの形状を整えるとともに、主表面をラッピング加工する。ラッピング加工では、両面ラッピング装置とアルミナ砥粒を用いて加工を行い、ガラスディスクの寸法精度と形状精度を所定のものとする。

なお、前述したように、ガラス母材３に中心孔３ａを設けず、この工程において、ガラスディスクに中心孔１を形成してもよい。また、ガラス母材３の側面にＶ字状の溝を設けず、この工程において、ガラスディスクの外周側端面部分及び内周側端面部分に面取り加工を施すようにしてもよい。

さらに、ここで、ガラスディスクの外周側端面部分及び内周側端面部分の研磨を行ってもよい。

（６）第１研磨工程
次に、主表面研磨工程として、第１研磨工程を施す。この第１研磨工程は、前述のラッピング工程で主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする。この工程は、両面研磨装置と硬質樹脂ポリッシャとを用い、遊星歯車機構を用いて行うことができる。研磨剤としては酸化セリウム砥粒を用いることが好ましい。

（７）第２研磨工程
次に、主表面の鏡面研磨工程として、第２研磨工程を施す。この第２研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この工程は、両面研磨装置と軟質発泡樹脂ポリッシャを用い、遊星歯車機構を用いて行うことができる。研磨剤としては、第１研磨工程で用いる酸化セリウム砥粒に比べて微細な酸化セリウム砥粒を用いることが好ましい。

（８）第１洗浄工程
第二研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する。なお、各洗浄槽には、超音波を印加することが好ましい。

（９）化学強化工程
次に、前述の研削及び研磨工程を終えたガラスディスクに化学強化を施す。化学強化は、例えば、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００°Ｃ程度に加熱し、３００°Ｃに予熱された洗浄済みのガラスディスクを約３時間程度浸漬して行う。この浸漬の際に、ガラスディスクの表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラスディスクが端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行うことが好ましい。

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラスディスク表層のリチウムイオン、ナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラスディスクが強化される。

なお、この化学強化工程は、ガラス母材が結晶化ガラスにより形成されている場合には行う必要がない。また、この化学強化工程を行う場合においては、ガラス母材を切断処理（スライス）する工程の前に行ってもよい。

（１０）第２洗浄工程
化学強化処理を終えたガラスディスクを、４０°Ｃ程度に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行い、さらに、硫酸洗浄を終えたガラスディスクを、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する。なお、各洗浄槽には、超音波を印加することが好ましい。

なお、この第２洗浄工程は、化学強化工程を行わない場合には、行う必要がない。

（１１）磁気ディスクの製造工程
このようにして作成された磁気ディスク用ガラス基板を用いて、この磁気ディスク用ガラス基板の主表面部上に少なくとも磁性層を形成することにより、ヘッドクラッシュやサーマルアスペリティー障害の防止が図られた磁気ディスクを構成することができる。

磁性層としては、高い異方性磁場（Ｈｋ）を備えるＣｏ−Ｐｔ系合金磁性層が好ましい。また、磁気ディスク用ガラス基板と磁性層との間には、磁性層の結晶配向性やグレインの均一化、微細化を図る観点から、適宜下地層を形成するようにしてもよい。これら下地層及び磁性層の成膜方法としては、例えば、ＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いることができる。

また、磁性層上には、磁性層を保護するための保護層を設けることが好ましい。保護層の材料としては、炭素系保護層を挙げることができる。炭素系保護層としては水素化炭素、窒素化炭素を用いることができる。この保護層の形成には、プラズマＣＶＤ法、または、ＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いることができる。

さらに、保護層上には、磁気ヘッドからの衝撃を緩和するための潤滑層を形成することが好ましい。潤滑層としては、パーフルオロポリエーテル系潤滑層を挙げることができる。特に、保護層との親和性に優れる水酸基を具備するアルコール変性パーフルオロポリエーテル潤滑層が好ましい。この潤滑層は、ディップ法を用いて形成することができる。

以下、本発明の実施例について、詳細に説明する。

〔実施例１〕
この実施例１においては、以下の工程を経て磁気ディスク用ガラス基板を製造した。

（１）円柱状ガラス母材を得る工程
この実施例においては、アルミノシリケートガラスからなるガラス母材を用意した。

このガラス母材の大きさは、直径が２８．６ｍｍであった。

（２）ガラス母材に中心孔を形成する工程
次に、ガラス母材の中心軸にそって、中心孔を形成した。この中心孔の内径は、５．９ｍｍであった。

（３）ガラス母材の内外周の側面を研磨（鏡面加工）する工程
ガラス母材の外周側側面について、研磨ブラシ研磨方法により鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。

次に内周側側面（中心孔内）について、研磨ブラシ研磨方法により鏡面研磨を行った。ガラス母材の内周側側面の研磨においては、中心孔内に、研磨ブラシを挿入するとともに、ポンプにより、研磨剤を所定の圧力で圧送した。そして、研磨ブラシを回転させるとともに、ガラス母材を回転させた。研磨加工の所定時間が満了したならば、研磨ブラシの回転、ガラス母材の回転を停止させ、また、研磨剤の圧送を停止させた後、研磨ブラシをガラス母材の中心孔内より引抜いた。

この工程における研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。（研磨剤の粒径としては、０．５μｍ乃至５μｍが使用できる。鏡面性という点で、０．５μｍ乃至２μｍ程度のものを用いた。）
その後、ガラス母材の側面部の寸法測定を行ったところ、直径（外径）が２７．４ｍｍ、中心孔の内径は、７ｍｍであった。また、側面部が鏡面状態であることを確認した。側面部の表面粗さは、Ｒａで０．０１μｍ乃至０．０２μｍ、Ｒmaxで０．３μｍ乃至０．４μｍであることが確認された。

（４）ガラス母材を切断処理（スライス）する工程
次に、ガラス母材を、中心軸に対して垂直に切断処理することにより、磁気ディスク用ガラス基板の厚さよりもやや厚い厚さ０．６ｍｍのガラスディスクを得た。このとき、１本のガラス母材３から、多数のガラスディスクが得られた。

この工程におけるガラス母材３の切断処理は、マルチワイヤソーを用いることによって行った。

なお、この切断処理によって、ガラスディスクの主面部の表面粗さが十分に良好な面粗度とできる場合には、後述するラッピング工程を省略することができる。この場合には、切断処理により、磁気ディスク用ガラス基板の厚さに近い厚さ０．４５ｍｍのガラスディスクを得るようにする。

（５）ラッピング工程
ここで、切断処理によって得られたガラスディスクの内径は７．０ｍｍ、外径は２７．４ｍｍ、板厚は０．６ｍｍであり、主表面部のラッピング加工及び研磨加工後に、「１．０インチ型」磁気ディスク用ガラス基板の所定寸法となるガラスディスクとなっている。また、主表面の平坦度は１０μｍ以下であることを確認した。さらに、面取面の幅が０．２１ｍｍ、面取面の主表面部に対する角度が４５°であることを確認した。

そして、このガラスディスクの主表面をラッピング加工した。ラッピング加工では両面ラッピング装置とアルミナ砥粒を用いて加工を行い、ガラス基板の寸法精度と形状精度を所定とする。得られたガラスディスクの内径は７．０ｍｍ、外径は２７．４ｍｍ、板厚は０．４５ｍｍであり、主表面部の研磨加工後に、「１．０インチ型」磁気ディスク用ガラス基板の所定寸法となるガラスディスクであることを確認した。

ガラスディスクの表面の面形状を観察したところ、主表面の平坦度は３μｍ以下であることを確認した。主表面の表面粗さはＲmaxで２μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度であった。

なお、ここで、ガラスディスクの外周側端面部分及び内周側端面部分の研磨を行ってもよい。

（６）第１研磨工程
次に、主表面研磨工程として、第１研磨工程を施した。この第１研磨工程は、前述のラッピング工程で主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする。両面研磨装置と硬質樹脂ポリッシャとを用い、遊星歯車機構を用いて主表面研磨を行った。研磨剤としては酸化セリウム砥粒を用いた。

（７）第２研磨工程
次に、主表面の鏡面研磨工程として、第２研磨工程を施した。この第２研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。両面研磨装置と軟質発泡樹脂ポリッシャを用い、遊星歯車機構を用いて主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒に比べて微細な酸化セリウム砥粒を用いた。

得られたガラスディスクの板厚は０．３８１ｍｍであった。

（８）第１洗浄工程
第二研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。

（９）化学強化工程
次に、前述の研削及び研磨工程を終えたガラスディスクに化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００°Ｃに加熱し、３００°Ｃに予熱された洗浄済みのガラスディスクを約３時間浸漬して行った。この浸漬の際に、ガラスディスクの表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラスディスクが端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行った。

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラスディスク表層のリチウムイオン、ナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラスディスクが強化される。

ガラスディスクの表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約１００乃至２００μｍであった。

化学強化を終えたガラスディスクを、２０°Ｃの水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。

なお、この化学強化工程は、前述したように、ガラス母材を切断処理（スライス）する工程の前に行ってもよい。

（１０）第２洗浄工程
急冷を終えたガラスディスクを、約４０°Ｃに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラスディスクを、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。

（１１）最終検査工程
前述の工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板の内周側端面部分の表面粗さは、面取面（Ｃ面）、円筒面（Ｔ面）ともに、Ｒmaxで０．４μｍ、Ｒａで０．０２μｍであった。

外周側端面部分の表面粗さも、面取面（Ｃ面）、円筒面（Ｔ面）ともに、Ｒmaxで０．４μｍ、Ｒａで０．０２μｍであった。各端面部分は、鏡面状に仕上がっていた。

表面粗さの測定は、原子間力顕微鏡によって行い、数値の算出は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１に拠った。また、鏡面状態の確認は、電子顕微鏡による観察、光学顕微鏡による観察の双方で行った。

〔実施例２〕
この実施例２においては、以下の工程を経て磁気ディスク用ガラス基板を製造した。

（１）円柱状ガラス母材を得る工程
この実施例においては、結晶化ガラスからなるガラス母材を用意した。

このガラス母材の大きさは、直径が２８．６ｍｍであった。

（２）ガラス母材に中心孔を形成する工程
次に、ガラス母材の中心軸にそって、中心孔を形成した。この中心孔の内径は、５．９ｍｍであった。

（３）ガラス母材の内外周の側面を研磨（鏡面加工）する工程
ガラス母材の外周側側面について、研磨ブラシ研磨方法により鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。

次に内周側側面（中心孔内）について、研磨ブラシ研磨方法により鏡面研磨を行った。ガラス母材の内周側側面の研磨においては、中心孔内に、研磨ブラシを挿入するとともに、ポンプにより、研磨剤を所定の圧力で圧送した。そして、研磨ブラシを回転させるとともに、ガラス母材を回転させた。研磨加工の所定時間が満了したならば、研磨ブラシの回転、ガラス母材の回転を停止させ、また、研磨剤の圧送を停止させた後、研磨ブラシをガラス母材の中心孔内より引抜いた。

この工程における研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。（研磨剤の粒径としては、０．５μｍ乃至５μｍが使用できる。鏡面性という点で、０．５μｍ乃至２μｍ程度のものを用いた。）
その後、ガラス母材の側面部の寸法測定を行ったところ、直径（外径）が２７．４ｍｍ、中心孔の内径は、７ｍｍであった。また、側面部が鏡面状態であることを確認した。側面部の表面粗さは、Ｒａで０．０１μｍ乃至０．０２μｍ、Ｒmaxで０．３μｍ乃至０．４μｍであることが確認された。

（４）ガラス母材を切断処理（スライス）する工程
次に、ガラス母材を、中心軸に対して垂直に切断処理することにより、磁気ディスク用ガラス基板の厚さよりもやや厚い厚さ０．６ｍｍのガラスディスクを得た。このとき、１本のガラス母材３から、多数のガラスディスクが得られた。

この工程におけるガラス母材３の切断処理は、マルチワイヤソーを用いることによって行った。なお、結晶化ガラスは高硬度であるので、マルチワイヤソーを用いて切断処理を行う際には、十分な冷却を行うことが好ましい。そのため、通常のマルチワイヤソーによる切断加工の際に用いる研削液に代えて、または、この研削液に加えて、冷却液（クーラント）を供給しながら切断することが好ましい。

この切断処理によって、ガラスディスクの主面部の表面粗さが十分に良好な面粗度とできる場合には、後述するラッピング工程を省略することができる。この場合には、切断処理により、磁気ディスク用ガラス基板の厚さに近い厚さ０．４５ｍｍのガラスディスクを得るようにする。

（５）ラッピング工程
ここで、切断処理によって得られたガラスディスクの内径は７．０ｍｍ、外径は２７．４ｍｍ、板厚は０．６ｍｍであり、主表面部のラッピング加工及び研磨加工後に、「１．０インチ型」磁気ディスク用ガラス基板の所定寸法となるガラスディスクとなっている。また、主表面の平坦度は１０μｍ以下であることを確認した。さらに、面取面の幅が０．２１ｍｍ、面取面の主表面部に対する角度が４５°であることを確認した。

そして、このガラスディスクの主表面をラッピング加工した。ラッピング加工では両面ラッピング装置とアルミナ砥粒を用いて加工を行い、ガラス基板の寸法精度と形状精度を所定とする。得られたガラスディスクの内径は７．０ｍｍ、外径は２７．４ｍｍ、板厚は０．４５ｍｍであり、主表面部の研磨加工後に、「１．０インチ型」磁気ディスク用ガラス基板の所定寸法となるガラスディスクであることを確認した。

ガラスディスクの表面の面形状を観察したところ、主表面の平坦度は３μｍ以下であることを確認した。主表面の表面粗さはＲmaxで２μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度であった。

なお、ここで、ガラスディスクの外周側端面部分及び内周側端面部分の研磨を行ってもよい。

（６）第１研磨工程
次に、主表面研磨工程として、第１研磨工程を施した。この第１研磨工程は、前述のラッピング工程で主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする。両面研磨装置と硬質樹脂ポリッシャとを用い、遊星歯車機構を用いて主表面研磨を行った。研磨剤としては酸化セリウム砥粒を用いた。

（７）第２研磨工程
次に、主表面の鏡面研磨工程として、第２研磨工程を施した。この第２研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。両面研磨装置と軟質発泡樹脂ポリッシャを用い、遊星歯車機構を用いて主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒に比べて微細な酸化セリウム砥粒を用いた。

得られたガラスディスクの板厚は０．３８１ｍｍであった。

（８）洗浄工程
第二研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。

（９）最終検査工程
前述の工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板の内周側端面部分の表面粗さは、面取面（Ｃ面）、円筒面（Ｔ面）ともに、Ｒmaxで０．４μｍ、Ｒａで０．０２μｍであった。

外周側端面部分の表面粗さも、面取面（Ｃ面）、円筒面（Ｔ面）ともに、Ｒmaxで０．４μｍ、Ｒａで０．０２μｍであった。各端面部分は、鏡面状に仕上がっていた。

表面粗さの測定は、原子間力顕微鏡によって行い、数値の算出は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１に拠った。また、鏡面状態の確認は、電子顕微鏡による観察、光学顕微鏡による観察の双方で行った。

〔実施例３〕
この実施例３では、前述の実施例１及び実施例２において作製された磁気ディスク用ガラス基板を用いて、以下の工程により、磁気ディスクを製造した。

前述の磁気ディスク用ガラス基板の両主表面に、静止対向型のＤＣマグネトロンスパッタリング装置を用いて、Ｎｉ−Ｔａ合金第１下地層、Ｒｕ第２下地層、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ合金磁性層、水素化炭素保護層を順次成膜した。次に、アルコール変性パーフロロポリエーテル潤滑層をディップ法で成膜した。このようにして、垂直磁気記録方式用の磁気ディスクを得た。

得られた磁気ディスクについて、異物により磁性層等の膜に欠陥が発生していないことを確認した。また、グライドテストを実施したところ、ヒット（ヘッドが磁気ディスク表面の突起にかすること）やクラッシュ（ヘッドが磁気ディスク表面の突起に衝突すること）は認められなかった。さらに、磁気抵抗型ヘッドで再生試験を行ったところ、サーマルアスペリティ障害による再生の誤動作は認められなかった。

なお、以上の試験は１平方インチ当たりの情報記録密度が４０ギガビット相当の磁気ディスク用の試験方法として行った。具体的には磁気ヘッドの浮上量は１０ｎｍとし、記録再生試験では情報線記録密度を７００ｆｃｉとした。

すなわち、本発明による磁気ディスクにおいては、ガラス基板表面の異物による問題が回避できており、磁気抵抗型ヘッドにとって良好な磁気ディスクとして作製されていることがわかった。

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造される磁気ディスク用ガラス基板の構成を示す斜視図である。 前記磁気ディスク用ガラス基板の円孔の内周側端面の形状を示す断面図である。 本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の各工程を示す工程図である。 本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス母材の側面に設けられた溝の形状を示す断面図である。 本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、マルチワイヤソーによって円柱状ガラス母材を切断処理している状態を示す斜視図である。

符号の説明

１ 円孔
２ 磁気ディスク用ガラス基板
３ ガラス母材
３ａ 中心孔

Claims (10)

1. 円柱状のガラス母材をこのガラス母材の中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作成する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
   前記切断処理を行う前に、前記ガラス母材の側面の研磨を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
2. 円柱状のガラス母材をこのガラス母材の中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作成する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
   前記切断処理を行う前に、前記ガラス母材の側面の鏡面加工を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
3. 前記ガラス母材として、中心軸に沿って円孔が形成されたものを用いることを特徴とする請求項１、または、請求項２記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
4. 前記切断処理を行う前に、前記ガラス母材の側面に、ガラスディスクの周縁部の面取面となる円環状の溝を形成することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
5. 外径が３０ｍｍ以下の小型の磁気ディスク用ガラス基板を製造することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
6. 請求項１乃至請求項５のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面部に対し、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
7. 中心軸に対して垂直に切断処理されてガラスディスクとなされることにより、磁気ディスク用ガラス基板の材料となる円柱状ガラス母材であって、
   側面が研磨されていることを特徴とするガラス基板用の円柱状ガラス母材。
8. 中心軸に対して垂直に切断処理されてガラスディスクとなされることにより、磁気ディスク用ガラス基板の材料となる円柱状ガラス母材であって、
   側面の表面粗さが、Ｒａで０．３μｍ以下及び／又はＲmaxで３μｍ以下であることを特徴とするガラス基板用の円柱状ガラス母材。
9. 前記側面には、前記ガラスディスクの周縁部の面取面となる円環状の溝が形成されていることを特徴とする請求項７、または、請求項８記載のガラス基板用の円柱状ガラス母材。
10. 結晶化ガラスにより形成されていることを特徴とする請求項７乃至請求項９のいずれか一に記載のガラス基板用の円柱状ガラス母材。

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