JP2006036750A - Oxime ester compound, photopolymerizable composition and color filter using the same - Google Patents

Oxime ester compound, photopolymerizable composition and color filter using the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an oxime ester compound useful as a photopolymerization initiator, a photopolymerizable composition containing the same and a highly sensitive photopolymerization initiator. <P>SOLUTION: The oxime ester compound has a specific structure. In particular, in the photopolymerizable composition containing (a) a black color material, (b) an organic binder and (c) the photopolymerization initiator, the oxime ester compound constitutes the component (c). The oxime ester compound can be used as the highly sensitive photopolymerization initiator. The photopolymerizable composition using the same in the form of a thin film is excellent in sensitivity and resolving power and exhibits a high light-blocking effect, so it is capable of forming a high-quality resin black matrix (BM) at a low cost. A color filter using the resin BM is excellent in precision, flatness and durability and is therefore capable of improving the display quality of a liquid crystal device. Moreover, the production process and the color filter itself do not involve any hazardous substance, so the danger to human body is reduced and environmental safety is enhanced. The oxime ester compound can be applied to usage wherein no color material is used, such as a photospacer and a rib (liquid crystal divided-alignment protrusion). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光重合開始剤として有用なオキシムエステル系化合物、及びこれを含有する光重合性組成物に関する。詳しくは、本発明はカラーテレビ、液晶表示素子、固体撮像素子、カメラ等に使用される光学的カラーフィルターの製造で使用されるカラーフィルター用光重合性組成物及び該組成物より得られるカラーフィルターに有効であり、高遮光性でありながら高感度で解像性に優れたブラックマトリックス(Black Matrix。以下、BMと略称する。)製造に適したカラーフィルター用光重合性組成物及び高精度、高遮光性の樹脂BMを有するカラーフィルターに関する。   The present invention relates to an oxime ester compound useful as a photopolymerization initiator and a photopolymerizable composition containing the oxime ester compound. More specifically, the present invention relates to a photopolymerizable composition for a color filter used in the production of an optical color filter used in a color television, a liquid crystal display element, a solid-state imaging element, a camera, etc. The photopolymerizable composition for a color filter suitable for manufacturing a black matrix (Black Matrix, hereinafter abbreviated as BM) and high accuracy, which is effective for the above-mentioned, has a high light-shielding property but is highly sensitive and has excellent resolution. The present invention relates to a color filter having a highly light-shielding resin BM.

更に本発明にかかるオキシムエステル系化合物は高感度の光重合開始剤であるので、BM用に限定されることなく、フォトスペーサーやリブ(液晶分割配向突起)等、色材を用いない透明な感光性組成物にも利用可能であり、応用技術分野は広範である。   Further, since the oxime ester-based compound according to the present invention is a highly sensitive photopolymerization initiator, it is not limited to BM, and is a transparent photosensitive material that does not use a color material such as a photo spacer or a rib (liquid crystal dividing alignment protrusion). It can also be used for active compositions and has a wide range of applied technical fields.

カラーフィルターは、通常、ガラス、プラスチックシート等の透明基板の表面に黒色のマトリックスを形成し、続いて、赤、緑、青等の3種以上の異なる色相を順次、ストライプ状あるいはモザイク状等の色パターンで形成したものである。パターンサイズはカラーフィルターの用途並びにそれぞれの色により異なるが5〜700μm程度である。また、重ね合わせの位置精度は数〜数十μmであり、寸法精度の高い微細加工技術により製造されている。   A color filter usually forms a black matrix on the surface of a transparent substrate such as glass or plastic sheet, and then sequentially applies three or more different hues such as red, green and blue in a striped or mosaic shape. It is formed with a color pattern. The pattern size varies depending on the use of the color filter and each color, but is about 5 to 700 μm. Further, the positional accuracy of superposition is several to several tens of μm, and is manufactured by a fine processing technique with high dimensional accuracy.

カラーフィルターの代表的な製造方法としては、染色法、印刷法、顔料分散法、電着法等がある。これらのうち、特に、色材料を含有する光重合性組成物を、透明基板上に塗布し、画像露光、現像、必要により硬化を繰り返すことでカラーフィルター画像を形成する顔料分散法は、カラーフィルター画素の位置、膜厚等の精度が高く、耐光性・耐熱性等の耐久性に優れ、ピンホール等の欠陥が少ないため、広く採用されている。   Typical methods for producing a color filter include a dyeing method, a printing method, a pigment dispersion method, and an electrodeposition method. Among these, in particular, a pigment dispersion method for forming a color filter image by coating a photopolymerizable composition containing a color material on a transparent substrate and repeating image exposure, development, and curing as necessary is a color filter. It is widely used because it has high accuracy such as pixel position and film thickness, excellent durability such as light resistance and heat resistance, and few defects such as pinholes.

BMは、赤、緑、青の色パターンの間に格子状、ストライプ状またはモザイク状に配置するのが一般的であり、各色間の混色抑制によるコントラスト向上あるいは光漏れによる薄膜トランジスター(Thin Film Transistor:TFT)の誤動作を防ぐ役割を果たしている。このため、BMには高い遮光性が要求される。従来、BMはクロム等の金属膜で形成する方法が一般的であった。この手法は透明基板上にクロム等の金属を蒸着し、フォトリソ工程を経てクロム層をエッチング処理するものであるため、薄い膜厚で高遮光性が高精度で得られる。その反面、製造工程が長く且つ生産性の低い手法であり高コストであり、また、エッチング処理の廃液などによる環境問題が生じる等の問題を抱えていた。   BMs are generally arranged in a grid, stripe, or mosaic between red, green, and blue color patterns, and thin film transistors (Thin Film Transistors) that improve contrast by suppressing color mixture between colors or leak light. : TFT) to prevent malfunction. For this reason, the BM is required to have high light shielding properties. Conventionally, BM is generally formed by a metal film such as chromium. In this method, a metal such as chromium is vapor-deposited on a transparent substrate, and the chromium layer is etched through a photolithography process. Therefore, a high light-shielding property can be obtained with high accuracy with a thin film thickness. On the other hand, it has a long manufacturing process, low productivity and high cost, and has problems such as environmental problems caused by waste liquid of etching treatment.

このため、遮光性の顔料、染料を分散させた感光性樹脂で低コスト、無公害の樹脂BMを形成する手法が精力的に研究されている。しかしながら、樹脂BMは後述するような問題を抱えているため、いまだ実用化できていないのが現状である。樹脂BMにおいて、クロム等の金属膜によるBMと同等の遮光性(光学濃度)を発現させるためには、遮光性の顔料、染料等の含有量を多くするか、あるいは、膜厚を厚くする必要がある。   For this reason, a method for forming a low-cost, pollution-free resin BM with a photosensitive resin in which a light-shielding pigment or dye is dispersed has been energetically studied. However, since the resin BM has problems as described later, it has not been put into practical use yet. In the resin BM, in order to develop a light-shielding property (optical density) equivalent to that of a BM made of a metal film such as chromium, it is necessary to increase the content of light-shielding pigments and dyes or to increase the film thickness. There is.

膜厚を厚くする方法においては、BMの凹凸の影響を受けて、その上に形成するRGBの着色画素の平坦性が損なわれる。このため、液晶セルギャップの不均一化あるいは液晶の配向の乱れを発生させ表示能力の低下を起こす。また、カラーフィルター上に設ける透明電極ITO(インジウム錫酸化物)膜の断線(平面状膜の破損)が発生する等の問題も生じる。   In the method of increasing the film thickness, the flatness of the RGB colored pixels formed thereon is impaired due to the influence of the unevenness of the BM. For this reason, non-uniformity of the liquid crystal cell gap or disorder of the alignment of the liquid crystal occurs to cause a reduction in display capability. In addition, problems such as disconnection of the transparent electrode ITO (indium tin oxide) film provided on the color filter (breakage of the planar film) occur.

また、遮光性の顔料、染料の含有量を多くする方法においては、感光性樹脂(ブラックレジスト)の感度、現像性、解像性、密着性等が悪化する問題があり、生産性の低下のみならずカラーフィルターに要求される精度、信頼性が得られなくなる。すなわち、薄膜、高遮光性の条件下で感度、解像性を発揮できる感光材料が実現できていないため樹脂BMの実用化を阻んでいる。   In addition, in the method of increasing the content of light-shielding pigments and dyes, there is a problem that the sensitivity, developability, resolution, adhesion, etc. of the photosensitive resin (black resist) deteriorate, and only a decrease in productivity. The accuracy and reliability required for the color filter cannot be obtained. That is, since a photosensitive material that can exhibit sensitivity and resolution under conditions of a thin film and high light-shielding properties has not been realized, the practical use of the resin BM is hindered.

従来、一般的感光性樹脂、あるいは、カラーフィルター用の着色感光性組成物等一定の光透過性を有する感光性樹脂においては感度、解像性の性能を改善する手法について知られている。例えば、顔料を分散させたカラーフィルター用着色組成物としてバインダー樹脂、多官能アクリルモノマー、トリアジン化合物からなる開始剤を含有する感光性組成物が知られている(特許文献1〜4参照)。また、同様な組成において開始剤がビスイミダゾールであるものも知られている(特許文献5〜6参照)が、これらに開示の組成物の場合、空気中で露光した場合には酸素による重合阻害を受けるため、実用的な感度を得ることができなかった。   Conventionally, a technique for improving sensitivity and resolution performance is known for a general photosensitive resin or a photosensitive resin having a certain light transmittance such as a colored photosensitive composition for a color filter. For example, a photosensitive composition containing an initiator composed of a binder resin, a polyfunctional acrylic monomer, and a triazine compound is known as a coloring composition for a color filter in which a pigment is dispersed (see Patent Documents 1 to 4). In addition, it is also known that the initiator is bisimidazole in the same composition (see Patent Documents 5 to 6). However, in the case of the compositions disclosed therein, the polymerization inhibition by oxygen occurs when exposed in air. Therefore, practical sensitivity could not be obtained.

樹脂BMのように光の全波長領域において遮光能力が要求される場合では、(1)露光部分と未露光部分における架橋密度の差をつけるのが著しく困難なこと、(2)露光された部分でも膜厚方向に対する架橋密度の差が発生すること、つまり、光照射面で十分硬化しても、基底面では硬化しないこと、(3)現像液に不溶な多量な黒色色材を配合するため現像性の低下が著しいこと等、著しく感光特性を付与する上で障害となっている。   When light blocking capability is required in the entire wavelength region of light as in the case of resin BM, (1) it is extremely difficult to make a difference in crosslink density between the exposed portion and the unexposed portion, and (2) the exposed portion. However, there is a difference in crosslink density with respect to the film thickness direction. That is, even when sufficiently cured on the light-irradiated surface, it does not cure on the base surface. (3) To blend a large amount of black color material insoluble in the developer. This is a hindrance in imparting significant photosensitivity such as a significant decrease in developability.

特に、上記(1)と(2)の現象は相反するものであり、露光部分がより硬化する組成にする程、膜厚方向での硬化密度差が大となるため解像力低下に繋がる。また、露光部/未露光部の架橋密度差並びに露光部の硬化密度を均一化できないと溶解力の強い現像液の使用も困難となるため現像性の改良も困難となる。従来知られている樹脂BM形成用感光性組成物(例えば、特許文献7〜8参照)は、このような状況を避けたものであり、金属BMと同程度の遮光ができる樹脂BMを形成するのではなく、ある程度光透過させて感光能力をもたせたものであり遮光能力は著しく低く実用的ではなかった。このため、高膜厚、低遮光性の樹脂BMを一旦形成したあとキュアー工程における膜収縮により、薄膜で高遮光度をもった樹脂BMも提案もなされている(特許文献9参照)が、工程が複雑になること、膜収縮時のひずみ蓄積により密着性が低下する等の問題があり実用化が困難である。このように、遮光という、本来光反応と相反する条件下において光反応を起こすという一見矛盾する課題のため、実用的な樹脂BMの実現は困難であった。   In particular, the above phenomena (1) and (2) are contradictory, and as the exposed portion is more cured, the difference in the curing density in the film thickness direction becomes larger, leading to lower resolution. Further, if the difference in cross-linking density between the exposed area / unexposed area and the cured density of the exposed area cannot be made uniform, it becomes difficult to use a developing solution having a strong dissolving power, so that it is difficult to improve developability. Conventionally known photosensitive compositions for forming a resin BM (see, for example, Patent Documents 7 to 8) avoid such a situation, and form a resin BM that can shield light at the same level as a metal BM. Instead, the light was transmitted to some extent to give a photosensitive ability, and the light shielding ability was remarkably low, which was not practical. For this reason, a resin BM having a high light-shielding degree with a thin film has also been proposed due to film shrinkage in the curing process after once forming a resin BM having a high film thickness and low light-shielding properties (see Patent Document 9). However, it is difficult to put it into practical use due to problems such as the complexity of adhesion and the decrease in adhesion due to strain accumulation during film shrinkage. Thus, due to the seemingly contradictory problem of causing a photoreaction under the condition of light shielding, which is inherently opposite to the photoreaction, it has been difficult to realize a practical resin BM.

また、光重合開始剤として特定のオキシムエステル化合物を使用する技術が知られている(特許文献10参照)が、従来の樹脂BMで使用されている開始剤(例えば、ビスイミダゾールやトリアジン系開始剤)を、単に該オキシム化合物に置き換えるだけでは、樹脂BMに求められる画像特性、すなわち感度や解像性を改善することはできなかった。   Moreover, although the technique which uses a specific oxime ester compound as a photoinitiator is known (refer patent document 10), the initiator (for example, bisimidazole and a triazine type | system | group initiator) currently used by resin BM is known. ) Was simply replaced with the oxime compound, the image characteristics required for the resin BM, that is, sensitivity and resolution could not be improved.

また、高感度の光重合性組成物は、黒色顔料を有するBM用途向け以外に、レッド、グリーン、ブルーの色画素形成用組成物、フォトスペーサ用組成物、リブ用組成物等においても広く求められており、その技術上の問題点は主として光重合開始剤の選択にあった。   Highly sensitive photopolymerizable compositions are widely required not only for BM applications having black pigments but also for red, green, and blue color pixel forming compositions, photospacer compositions, and rib compositions. The technical problem has mainly been the selection of the photopolymerization initiator.

特開平1−152449号公報Japanese Patent Laid-Open No. 1-152449 特開平1−254918号公報JP-A-1-254918 特開平2−153353号公報JP-A-2-153353 特開平2−804号公報JP-A-2-804 特開平6−75372号公報JP-A-6-75372 特開平6−75373号公報JP-A-6-75373 特開平6−51499号公報JP-A-6-51499 特開平6−3518号公報JP-A-6-3518 特開平8−44050号公報JP-A-8-44050 特開2000−80068号公報JP 2000-80068 A

本発明は上述の問題点を解決し薄膜、高遮光性を有するパターンをフォトリソグラフィー法で容易に形成でき、十分な感度、解像性をもつレジスト材料を提供するものであり、カラーフィルターの樹脂BMを高精度、低コストで製造可能とするものである。また、このようにして製造されたカラーフィルターを使用した液晶表示装置はコントラスト等の表示能力に優れたものである。また、BMを樹脂化することによりカラーフィルターの高画質化、無公害化をはかるものである。   The present invention solves the above-mentioned problems and provides a resist material that can easily form a thin film and a highly light-shielding pattern by a photolithography method and has sufficient sensitivity and resolution. BM can be manufactured with high accuracy and low cost. In addition, a liquid crystal display device using the color filter manufactured in this way is excellent in display capability such as contrast. Further, by making BM resin, the color filter can be improved in image quality and non-polluted.

また、近年、カラーフィルタに要求される「高濃度」を達成するためは、使用する着色組成物中の色材濃度を上げる必要があったが、反面、着色樹脂組成物の光透過性が下がるため、画像形成性能を維持、向上するためには、更に高感度の光重合性材料が求められていた。本発明は上記課題を解決するものである。   In recent years, in order to achieve the “high density” required for color filters, it has been necessary to increase the color material concentration in the colored composition to be used, but on the other hand, the light transmittance of the colored resin composition is lowered. Therefore, in order to maintain and improve the image forming performance, a photopolymerizable material with higher sensitivity has been demanded. The present invention solves the above problems.

また、液晶表示装置の製造に用いられる、フォトスペーサー、リブ用感光性組成物、さらには光重合性材料を用いた感光性組成物一般においても同様に高精度、低コスト化での製造の要求が高まり、さらなる高感度な光重合性画像形成材料が求められており、本発明は上記課題を解決するものである。   In addition, photo spacers used for the manufacture of liquid crystal display devices, photosensitive compositions for ribs, and photosensitive compositions using photopolymerizable materials in general are also required to be manufactured with high accuracy and low cost. Therefore, there is a demand for a photopolymerizable image-forming material with higher sensitivity, and the present invention solves the above problems.

本発明者等は鋭意研究を進めた結果、光重合開始剤としてより光重合の効率を向上させる構造を有する特定のオキシムエステル化合物を、かつ有機結合剤としてカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂を組み合わせて含有する光重合性組成物を使用することで、かかる目的を達成できることを見出した。   As a result of diligent research, the present inventors have combined a specific oxime ester compound having a structure that improves the efficiency of photopolymerization as a photopolymerization initiator, and an epoxy acrylate resin having a carboxyl group as an organic binder. It has been found that this object can be achieved by using the photopolymerizable composition contained therein.

更に、かかる特定のオキシムエステル系化合物は、それ自体新規な化合物であり、かつ優れた光重合開始剤として、色材の存在有無にかかわらず有効であることを見出し、本発明を完成するに至った。   Furthermore, the specific oxime ester-based compound is a novel compound in itself and is found to be effective as an excellent photopolymerization initiator regardless of the presence or absence of a coloring material, and has led to the completion of the present invention. It was.

すなわち、本発明の要旨は、一般式(1)又は(2)で示されるオキシムエステル系化合物に存する。   That is, the gist of the present invention resides in the oxime ester compound represented by the general formula (1) or (2).

Figure 2006036750
(式中、R1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数0〜20のアミノ基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、また、R1aは、R1'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数3〜25のアルケノイル基、炭素数3〜8のシクロアルカノイル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数1〜20のヘテロアリーロイル基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基又は炭素数7〜20のフェノキシカルボニル基を示し、R1'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。):
Figure 2006036750
Wherein R 1a is an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroarylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and 8 to 8 carbon atoms. A phenoxycarbonylalkyl group having 20 carbon atoms, a heteroaryloxycarbonylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a heteroarylthioalkyl group, an amino group having 0 to 20 carbon atoms, or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, R 1a may form a ring together with R 1 ′, and the linking group is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms that may have a substituent, — (CH═CH) n —, — ( C≡C) n — or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), and R 2a is an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, 3 to 2 carbon atoms 5 alkenoyl group, C3-C8 cycloalkanoyl group, C7-C20 benzoyl group, C1-C20 heteroaryloyl group, C2-C10 alkoxycarbonyl group, or C7-C20 And R1 ′ represents an optional substituent containing an aromatic ring or a heteroaromatic ring.):

Figure 2006036750
(式中、R1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数6〜20のフェニル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルカノイル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数1〜20のアミド基、ニトロ基、炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数1〜10のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数0〜20のアミノ基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、またR1bは、R1'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10アルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数3〜20のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基を示し、 R1'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。)
Figure 2006036750
(In the formula, R 1b is a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, and an alkanoyl having 2 to 20 carbon atoms, each of which may be substituted. Group, benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, alkoxycarbonyl group or phenoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, amide group having 1 to 20 carbon atoms, nitro group, alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, 1 to carbon atoms 10 heteroarylalkyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkyl group, C8-C20 phenoxycarbonylalkyl group, C1-C20 heteroaryloxycarbonylalkyl group or heteroarylthioalkyl group, carbon number Represents an amino group having 0 to 20 or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 1b forms a ring together with R 1 ′. The linking group may be an optionally substituted alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, — (CH═CH) n —, — (C≡C) n —, or a combination thereof ( n is an integer of 0 to 3), and R 2b is an optionally substituted heteroaryl group having 1 to 20 carbon atoms, a heteroarylalkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms. A phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, a heteroaryloxyxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, or an aminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, and R1 ′ represents an aromatic ring or a heteroaromatic ring. Any optional substituent is shown.)

また、本発明の他の要旨は、前記一般式(1)において、R1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数1〜20のアミノアルキル基であるか、またはR1aは、R1'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aが、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。 Another aspect of the present invention is that, in the general formula (1), R 1a is an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and carbon. It is a phenoxycarbonylalkyl group having 8 to 20 carbon atoms or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or R 1a may form a ring together with R 1 ′, and each linking group has a substituent. Or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, — (CH═CH) n —, — (C≡C) n — or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), and R 2a is substituted. It is an oxime ester compound characterized by being an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms which may be used.

また、本発明の他の要旨は、前記一般式(2)において、R1bが、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、R2bが、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。 Another gist of the present invention is that, in the general formula (2), R 1b is an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 2b may be substituted. C1-C20 heteroaryl group, C1-C20 heteroarylalkanoyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkanoyl group, C8-C20 phenoxycarbonylalkanoyl group, or C2-C10 amino An oxime ester compound characterized by being a carbonyl group.

また、本発明の他の要旨は、 一般式(3)又は(4)で示されるオキシムエステル系化合物に存する。   Another gist of the present invention resides in the oxime ester compound represented by the general formula (3) or (4).

Figure 2006036750
(式中、R1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数0〜20のアミノ基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、また、R1aは、R3あるいはR7とともに環を形成してもよく、その場合、R1aとR3あるいは/およびR7は互いに結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数3〜25のアルケノイル基、炭素数3〜8のシクロアルカノイル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数1〜20のヘテロアリーロイル基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基又は炭素数7〜20のフェノキシカルボニル基を示し、R3、R4、R5、R6及びR7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数1〜20のヘテロアリーロイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数3〜20のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基又は、−OR8、−SR9、−SOR9、−SO29もしくは−NR1011を示し、かつ、R3、R4、R5、R6及びR7の少なくとも一つは、−OR8、−SR9又は−NR1011を示す。ただし、R8は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜8のアルカノイル基、炭素数3〜12のアルケニル基、炭素数3〜20のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、−(CH2 CH2O)mH(mは1〜20の整数)、又は炭素数3〜15のトリアルキルシリル基を示し、R9は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜8のアルカノイル基、炭素数3〜12のアルケニル基、炭素数6〜20のフェニル基又は炭素数3〜15のトリアルキルシリル基を示し、R10およびR11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜4のヒドロキシルアルキル基、炭素数3〜5のアルケニル基または炭素数6〜20のフェニル基を表し、R3〜R7は互いに結合して、またR1と共に環構造を形成してもよい。):
Figure 2006036750
Wherein R 1a is an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroarylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and 8 to 8 carbon atoms. A phenoxycarbonylalkyl group having 20 carbon atoms, a heteroaryloxycarbonylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a heteroarylthioalkyl group, an amino group having 0 to 20 carbon atoms, or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, R 1a may form a ring with R 3 or R 7 , in which case R 1a and R 3 or / and R 7 are bonded together to form a divalent or trivalent linking group, linking groups each substituent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - or a combination thereof ( Is an integer of 0 to 3), R 2a are each optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, alkenoyl of 3 to 25 carbon atoms, cycloalkanoyl group having 3 to 8 carbon atoms, 7 carbon atoms Represents a benzoyl group having 20 to 20 carbon atoms, a heteroaryloyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a phenoxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 , R 6 And R 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms. , A phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, a benzyl group having 7 to 20 carbon atoms, a benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a heteroaryloyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a carbon number 3 20 alkoxycarbonyl alkanoyl group, phenoxycarbonyl alkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, heteroaryl having 3 to 20 carbon atoms - Luo Kishikishi carbonyl alkanoyl group, or an alkoxycarbonyl group or a phenoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, -OR 8 , -SR 9 , -SOR 9 , -SO 2 R 9 or -NR 10 R 11 , and at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 is -OR 8 ,- SR 9 or —NR 10 R 11 , wherein R 8 is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 8 carbon atoms, or 3 to 12 carbon atoms. alkenyl group, alkenoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, - (CH 2 CH 2 O ) m H (m is an integer of 1 to 20), or 3 carbon 15 represents a trialkylsilyl group, and R 9 is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, A phenyl group having 6 to 20 carbon atoms or a trialkylsilyl group having 3 to 15 carbon atoms, wherein R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, and an optionally substituted alkyl having 1 to 12 carbon atoms; Represents a hydroxyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms or a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, wherein R 3 to R 7 are bonded to each other and have a ring structure together with R 1. You may form. ):

Figure 2006036750
(式中、R1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数6〜20のフェニル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルカノイル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数1〜20のアミド基、ニトロ基、炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数1〜10のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数0〜20のアミノ基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、またR1bは、R3あるいはR7とともに環を形成してもよく、その場合、R1bとR3あるいは/およびR7は互いに結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、 R2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数3〜20のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基を示し、R3、R4、R5、R6及びR7は前記一般式(3)におけると同義である。)
Figure 2006036750
(In the formula, R 1b is an optionally substituted phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, and an alkanoyl having 2 to 20 carbon atoms. Group, benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, alkoxycarbonyl group or phenoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, amide group having 1 to 20 carbon atoms, nitro group, alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, 1 to carbon atoms 10 heteroarylalkyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkyl group, C8-C20 phenoxycarbonylalkyl group, C1-C20 heteroaryloxycarbonylalkyl group or heteroarylthioalkyl group, carbon number Represents an amino group having 0 to 20 or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 1b is together with R 3 or R 7 In this case, R 1b and R 3 or / and R 7 may be bonded to each other to form a divalent or trivalent linking group, each of which has a substituent. Or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, — (CH═CH) n —, — (C≡C) n — or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), and R 2b is each substituted. C1-20 heteroaryl group, C1-20 heteroarylalkanoyl group, C3-20 alkoxycarbonylalkanoyl group, C8-20 phenoxycarbonylalkanoyl group, C3 20 of heteroaryl - Luo Kishikishi carbonyl alkanoyl group, or an amino carbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, synonymous with R 3, R 4, R 5 , R 6 and R 7 are definitive in the general formula (3) A.)

また、本発明の他の要旨は、前記一般式(3)において、R1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数1〜20のアミノアルキル基であるか、またはR1aは、R3あるいはR7とともに環を形成してもよく、その場合、R1bとR3あるいは/およびR7は互いに結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aが、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基であり、R3、R4、R5、R6及びR7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数1〜20のヘテロアリーロイル基又は−NR1011を示し、かつ、R3、R4、R5、R6及びR7の少なくとも一つは、−NR1011を示し(ただし、R10およびR11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜4のヒドロキシルアルキル基、炭素数3〜5のアルケニル基または炭素数6〜20のフェニル基を表す)、R3〜R7は互いに結合して、またR1aと共に環構造を形成してもよいことを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。 Another aspect of the present invention is that, in the general formula (3), R 1a is an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and carbon. It is a phenoxycarbonylalkyl group having 8 to 20 carbon atoms or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or R 1a may form a ring together with R 3 or R 7 , in which case R 1b and R 3 Alternatively, and / or R 7 are bonded to each other to form a divalent or trivalent linking group, and each of the linking groups has a C 1-10 alkylene group that may have a substituent, — (CH═CH ) N -,-(C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), R 2a is an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, and R 3 , R 4, R 5, R 6 and R 7, Independently you are, a hydrogen atom, a halogen atom, each optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, heteroarylene acryloyl group or -NR 1 to 20 carbon atoms 10 R 11 , and at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 represents —NR 10 R 11 (provided that R 10 and R 11 are each independently hydrogen An atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyl alkyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms or a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms), R 3 to R 7 are bonded to each other and may form a ring structure together with R 1a .

また、本発明の他の要旨は、前記一般式(4)において、R1bが、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、R2bが、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基であり、R3、R4、R5、R6及びR7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数1〜20のヘテロアリーロイル基又は−NR1011を示し、かつ、R3、R4、R5、R6及びR7の少なくとも一つは、−NR1011を示し(ただし、R10およびR11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜4のヒドロキシルアルキル基、炭素数3〜5のアルケニル基または炭素数6〜20のフェニル基を表す)、R3〜R7は互いに結合して、またR1bと共に環構造を形成してもよいことを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。 Another gist of the present invention is that, in the general formula (4), R 1b is an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 2b may be substituted. C1-C20 heteroaryl group, C1-C20 heteroaryl alkanoyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkanoyl group, C8-C20 phenoxycarbonylalkanoyl group, or C2-C10 amino R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a carbon number. A phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaryloyl group having 1 to 20 carbon atoms or —NR 10 R 11 , and at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 is —NR 10 indicates R 11 (However, R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyl alkyl group having 2 to 4 carbon atoms, or a 3 to 5 carbon atoms. An alkenyl group or a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms), R 3 to R 7 are bonded to each other and may form a ring structure together with R 1b , which is an oxime ester compound.

また、本発明の他の要旨は、一般式(5)〜(7)のいずれかで示されるオキシムエステル系化合物に存する。   Another gist of the present invention resides in an oxime ester compound represented by any one of the general formulas (5) to (7).

Figure 2006036750
(式中、R1a、R2aは、請求項4に記載の前記一般式(3)におけると同義であり、 R3、R6、R7、R12〜R16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−NR1011であり、R3、R6、R7、R12〜R16は互いに結合して環構造を形成してもよい。 )
Figure 2006036750
(In the formula, R 1a and R 2a have the same meaning as in the general formula (3) according to claim 4, and R 3 , R 6 , R 7 , and R 12 to R 16 are a hydrogen atom and a halogen atom. , An optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, a benzyl group or benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, or -NR 10 R 11 , and R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 may be bonded to each other to form a ring structure.

Figure 2006036750
(式中、R1b、R2bは、前記一般式(4)におけると同義であり、R3、R6、R7、R12〜R16は、前記一般式(5)におけると同義である。 )
Figure 2006036750
(In the formula, R 1b and R 2b have the same meaning as in the general formula (4), and R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 have the same meaning as in the general formula (5). )

Figure 2006036750
(式中、R1aは、それぞれ前記の一般式(4)におけると同義であり、R2bは、前記の一般式(3)におけるR2a及び一般式(4)におけるR2bを示し、 R3、R6、R7、R12〜R16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−NR1011であり、R3、R6、R7、R12〜R16は互いに結合して環構造を形成してもよく、且つR3、R6、R7、R12〜R16のうち少なくとも一つがそれぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルカノイル基もしくはヘテロアリーロイル基及び炭素数3〜15のトリアルキルシリル基からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む。)
Figure 2006036750
(Wherein, R 1a has the same meaning as in the general formula respectively (4), R 2b represents an R 2b in R 2a and formula (4) in the above general formula (3), R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 2 to 12 carbon atoms, or 6 to 20 carbon atoms. A phenyl group, a benzyl group having 7 to 20 carbon atoms or a benzoyl group, or —NR 10 R 11 , wherein R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 are bonded to each other to form a ring structure. And a heteroarylalkyl group, a heteroarylalkanoyl group or a heteroaryloyl group having 1 to 20 carbon atoms, wherein at least one of R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 may be substituted. And trialkyl having 3 to 15 carbon atoms Containing at least one selected from the group consisting of Lil group.)

また、本発明の他の要旨は、一般式(5)において、R1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数 3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数1〜20のアミノアルキル基であるか、またはR1aは、R3あるいはR7とともに環を形成してもよく、その場合R1aとR3あるいは/およびR7は互い結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−、あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aは、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基であり、R3、R6、R7、R12〜R16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−NR1011であり、R3、R6、R7、R12〜R16は互いに結合して環構造を形成してもよいことを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。 Another gist of the present invention is that in general formula (5), R 1a is an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and a carbon number. It is an 8-20 phenoxycarbonylalkyl group or an aminoalkyl group having 1-20 carbon atoms, or R 1a may form a ring together with R 3 or R 7 , in which case R 1a and R 3 or / And R 7 are bonded to each other to form a divalent or trivalent linking group, each of which is a C 1-10 alkylene group which may have a substituent, — (CH═CH) n -,-(C≡C) n- , or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), R 2a is an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 are hydrogen atoms A C 1-12 alkyl group, a C 2-12 alkenoyl group, a C 6-20 phenyl group, a C 7-20 benzyl group or a benzoyl group, each of which may be substituted. Or NR 10 R 11 , and R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 may be bonded to each other to form a ring structure.

また、本発明の他の要旨は、一般式(6)において、R1bが、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、R2bが、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基であり、R3、R6、R7、R12〜R16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−NR1011であり、R3、R6、R7、R12〜R16は互いに結合して環構造を形成してもよいことを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。 Another gist of the present invention is that, in General Formula (6), R 1b is an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 2b is an optionally substituted carbon. A heteroarylalkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, or an aminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, It is a benzyl group or benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, or —NR 10 R 11 , and R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 may be bonded to each other to form a ring structure. Features It resides in the oxime ester compound.

また、本発明の他の要旨は、一般式(8)又は(9)で示されるオキシムエステル系化合物に存する。   Moreover, the other summary of this invention exists in the oxime ester type compound shown by General formula (8) or (9).

Figure 2006036750
(式中、R1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数0〜20のアミノ基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、また、R1aは、Ar1とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aは、請求項1に記載の一般式(1)におけると同義であり、Ar1は、置換基を有していてもよい芳香環、ヘテロ芳香環、縮合芳香環又は縮合ヘテロ芳香環を表し、pは、2〜5の整数を表す。):
Figure 2006036750
Wherein R 1a is an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroarylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and 8 to 8 carbon atoms. A phenoxycarbonylalkyl group having 20 carbon atoms, a heteroaryloxycarbonylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a heteroarylthioalkyl group, an amino group having 0 to 20 carbon atoms, or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, R 1a may form a ring together with Ar 1 , and each of the linking groups thereof may have a substituent, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, — (CH═CH) n —, — ( C≡C) n — or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), R 2a has the same meaning as in the general formula (1) according to claim 1, and Ar 1 has a substituent. Shi Represents an aromatic ring, a heteroaromatic ring, a condensed aromatic ring or a condensed heteroaromatic ring which may be present, and p represents an integer of 2 to 5):

Figure 2006036750
(式中、R1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数6〜20のフェニル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルカノイル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数1〜20のアミド基、ニトロ基、炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数1〜10のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数0〜20のアミノ基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、またR1bは、Ar1とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10アルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2bは、請求項1に記載の一般式(2)におけると同義であり、Ar1は、置換基を有していてもよい芳香環、ヘテロ芳香環、縮合芳香環又は縮合ヘテロ芳香環を表し、pは、2〜5の整数を表す。)
Figure 2006036750
(In the formula, R 1b is an optionally substituted phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, and an alkanoyl having 2 to 20 carbon atoms. Group, benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, alkoxycarbonyl group or phenoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, amide group having 1 to 20 carbon atoms, nitro group, alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, 1 to carbon atoms 10 heteroarylalkyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkyl group, C8-C20 phenoxycarbonylalkyl group, C1-C20 heteroaryloxycarbonylalkyl group or heteroarylthioalkyl group, carbon number 0-20 amino group, or an amino alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, also R 1b is, form a ring with Ar 1 At best, the linkage is respectively substituent may number 1 to 10 alkylene carbon atoms which may have a, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - or a combination thereof ( n is an integer of 0 to 3), R 2b has the same meaning as in general formula (2) according to claim 1, Ar 1 is an aromatic ring, heteroaromatic ring optionally having a substituent, Represents a condensed aromatic ring or a condensed heteroaromatic ring, and p represents an integer of 2 to 5.)

また、本発明の他の要旨は、一般式(8)において、R1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、また、R1aは、Ar1とともに環を形成してもよく、その場合、R1aとAr1は互いに結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aが、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。 Another gist of the present invention is that in general formula (8), R 1a is an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and a carbon number. An phenoxycarbonylalkyl group having 8 to 20 carbon atoms or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 1a may form a ring together with Ar 1 , in which case R 1a and Ar 1 are bonded to each other; Together, a divalent or trivalent linking group is formed, and each of the linking groups is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent,-(CH = CH) n -,-( C≡C) n — or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), and R 2a is an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, Exist.

また、本発明の他の要旨は、一般式(9)において、R1bは、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、R2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物に存する。 Another gist of the present invention is that, in General Formula (9), R 1b is an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 2b is an optionally substituted carbon. A heteroaryl group having 1 to 20 carbon atoms, a heteroarylalkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, or an aminocarbonyl having 2 to 10 carbon atoms It exists in the oxime ester type compound characterized by being a group.

また、本発明の他の要旨は、(b)有機結合材及び(c)光重合開始剤を含有する光重合性組成物であって、(c)が上記オキシムエステル系化合物であることを特徴とする光重合性組成物に存する。   Another gist of the present invention is a photopolymerizable composition containing (b) an organic binder and (c) a photopolymerization initiator, wherein (c) is the oxime ester compound. In the photopolymerizable composition.

また、本発明の他の要旨は、(b)有機結合材が、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂である前記のいずれかに記載の光重合性組成物に存する。   Moreover, the other summary of this invention exists in the photopolymerizable composition in any one of the said which is (b) the organic binder is the epoxy acrylate resin which has a carboxyl group.

また、本発明の他の要旨は、(b)有機結合材が、ノボラック型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物に(ヒドロ)フタル酸無水物を反応させて得られるエポキシアクリレートである前記のいずれかに記載の光重合性組成物に存する。   Another gist of the present invention is (b) an epoxy acrylate obtained by reacting (hydro) phthalic anhydride with a reaction product of a novolac type epoxy resin and (meth) acrylic acid. The photopolymerizable composition according to any one of the above.

また、本発明の他の要旨は、光重合性組成物が、更に(d)光重合性単量体を含有することを特徴とする前記のいずれかに記載の光重合性組成物に存する。   Another gist of the present invention resides in the photopolymerizable composition according to any one of the above, wherein the photopolymerizable composition further contains (d) a photopolymerizable monomer.

また、本発明の他の要旨は、光重合性組成物が、更に(e)塩基性官能基を有する高分子分散剤を含有することを特徴とする前記のいずれかに記載の光重合性組成物に存する。   Another gist of the present invention is that the photopolymerizable composition further comprises (e) a polymer dispersant having a basic functional group. It exists in things.

また、本発明の他の要旨は、光重合性組成物が、更に(a)色材を含有することを特徴とする前記のいずれかに記載の光重合性組成物に存する。   Another gist of the present invention resides in any of the above photopolymerizable compositions, wherein the photopolymerizable composition further contains (a) a coloring material.

また、本発明の他の要旨は、前記のいずれかに記載の光重合性組成物により形成された画像を有することを特徴とするカラーフィルターに存する。   Further, another gist of the present invention resides in a color filter having an image formed by any of the photopolymerizable compositions described above.

また、本発明の他の要旨は、前記のいずれかに記載の光重合性組成物により形成された画像を有することを特徴とする液晶表示装置に存する。   Another gist of the present invention resides in a liquid crystal display device having an image formed by any of the photopolymerizable compositions described above.

本発明のオキシムエステル系化合物は、新規かつ高感度な光重合開始剤として利用することができる。これを有機結合剤及び色材と組合わせることによりカラーフィルター用途に有用な光重合性組成物を構成することができる。特に黒色色材と組合わせて利用する場合には、光重合性組成物は、薄膜において高遮光性でありながら感度、解像性に優れるため、低コストで高品質の樹脂BMを形成することができる。本発明の樹脂BMを用いたカラーフィルターは精度、平坦性、耐久性において優れるため、液晶素子の表示品位を向上させることができる。また、製造工程およびカラーフィルター自体にも有害な物質を含まないため、人体に対する危険性を低減し環境安全性が向上する。更に、BM用に限定されることなく、フォトスペーサーやリブ(液晶分割配向突起)等、色材を用いない透明な感光性組成物にも利用可能であり、応用技術分野は広範である。   The oxime ester compound of the present invention can be used as a novel and highly sensitive photopolymerization initiator. By combining this with an organic binder and a coloring material, a photopolymerizable composition useful for color filter applications can be constituted. Particularly when used in combination with a black color material, the photopolymerizable composition is excellent in sensitivity and resolution while being highly light-shielding in a thin film, so that a high-quality resin BM is formed at low cost. Can do. Since the color filter using the resin BM of the present invention is excellent in accuracy, flatness and durability, the display quality of the liquid crystal element can be improved. In addition, since the manufacturing process and the color filter itself do not contain harmful substances, the danger to the human body is reduced and the environmental safety is improved. Furthermore, the present invention is not limited to BM use, and can be used for transparent photosensitive compositions that do not use color materials such as photo spacers and ribs (liquid crystal division alignment protrusions), and the application technical fields are wide.

(a)色材
本発明の実施において色材は必須の成分ではないが、多くの用途において色材を組合わせて利用する。ここに、色材とは感光性組成物を着色するものをいう。色材としては、染顔料が使用できるが、耐熱性、耐光性等の点から顔料が好ましい。顔料としては青色顔料、緑色顔料、赤色顔料、黄色顔料、紫色顔料、オレンジ顔料、ブラウン顔料、黒色顔料等各種の色の顔料を使用することができる。また、その構造としてはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンズイミダゾロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、インダンスレン系、ペリレン系等の有機顔料の他に種々の無機顔料等も利用可能である。以下、使用できる顔料の具体例をピグメントナンバーで示す。以下に挙げる「C.I.ピグメントレッド2」等の用語は、カラーインデックス(C.I.)を意味する。
(A) Coloring material Coloring material is not an essential component in the practice of the present invention, but is used in combination in many applications. Here, the coloring material means a colorant for the photosensitive composition. As the coloring material, dyes and pigments can be used, but pigments are preferable from the viewpoint of heat resistance, light resistance and the like. As the pigment, pigments of various colors such as a blue pigment, a green pigment, a red pigment, a yellow pigment, a purple pigment, an orange pigment, a brown pigment, and a black pigment can be used. In addition to organic pigments such as azo, phthalocyanine, quinacridone, benzimidazolone, isoindolinone, dioxazine, indanthrene and perylene, various inorganic pigments can be used. It is. Hereinafter, specific examples of usable pigments are indicated by pigment numbers. Terms such as “CI Pigment Red 2” mentioned below mean the color index (CI).

赤色顔料としては、C.I.ピグメントレッド1、2、3、4、5、6、7、8、9、12、14、15、16、17、21、22、23、31、32、37、38、41、47、48、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、50:1、52:1、52:2、53、53:1、53:2、53:3、57、57:1、57:2、58:4、60、63、63:1、63:2、64、64:1、68、69、81、81:1、81:2、81:3、81:4、83、88、90:1、101、101:1、104、108、108:1、109、112、113、114、122、123、144、146、147、149、151、166、168、169、170、172、173、174、175、176、177、178、179、181、184、185、187、188、190、193、194、200、202、206、207、208、209、210、214、216、220、221、224、230、231、232、233、235、236、237、238、239、242、243、245、247、249、250、251、253、254、255、256、257、258、259、260、262、263、264、265、266、267、268、269、270、271、272、273、274、275、276を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントレッド48:1、122、168、177、202、206、207、209、224、242、254、さらに好ましくはC.I.ピグメントレッド177、209、224、254を挙げることができる。   Examples of red pigments include C.I. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 52: 2, 53, 53: 1, 53: 2, 53: 3, 57, 57: 1, 57: 2, 58: 4, 60, 63, 63: 1, 63: 2, 64, 64: 1, 68, 69, 81, 81: 1, 81: 2, 81: 3, 81: 4, 83, 88, 90: 1, 101, 101: 1, 104, 108, 108: 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 17 , 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276. Of these, C.I. I. Pigment Red 48: 1, 122, 168, 177, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, more preferably C.I. I. Pigment red 177, 209, 224, 254.

青色顔料としては、C.I.ピグメントブルー1、1:2、9、14、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、17、19、25、27、28、29、33、35、36、56、56:1、60、61、61:1、62、63、66、67、68、71、72、73、74、75、76、78、79を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントブルー15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、さらに好ましくはC.I.ピグメントブルー15:6を挙げることができる。   Examples of blue pigments include C.I. I. Pigment Blue 1, 1: 2, 9, 14, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56: 1, 60, 61, 61: 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79. Of these, C.I. I. Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, more preferably C.I. I. Pigment blue 15: 6.

緑色顔料としては、C.I.ピグメントグリーン1、2、4、7、8、10、13、14、15、17、18、19、26、36、45、48、50、51、54、55を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントグリーン7、36を挙げることができる。   Examples of green pigments include C.I. I. Pigment green 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55. Of these, C.I. I. And CI Pigment Green 7 and 36.

黄色顔料としては、C.I.ピグメントイエロー1、1:1、2、3、4、5、6、9、10、12、13、14、16、17、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、41、42、43、48、53、55、61、62、62:1、63、65、73、74、75,81、83、87、93、94、95、97、100、101、104、105、108、109、110、111、116、117、119、120、126、127、127:1、128、129、133、134、136、138、139、142、147、148、150、151、153、154、155、157、158、159、160、161、162、163、164、165、166、167、168、169、170、172、173、174、175、176、180、181、182、183、184、185、188、189、190、191、191:1、192、193、194、195、196、197、198、199、200、202、203、204、205、206、207、208を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントイエロー83、117、129、138、139、150、154、155、180、185、さらに好ましくはC.I.ピグメントイエロー83、138、139、150、180を挙げることができる。   Examples of yellow pigments include C.I. I. Pigment Yellow 1, 1: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62: 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127: 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 17 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191: 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202 , 203, 204, 205, 206, 207, 208. Of these, C.I. I. Pigment yellow 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, more preferably C.I. I. Pigment yellow 83, 138, 139, 150, 180.

オレンジ顔料としては、C.I.ピグメントオレンジ1、2、5、13、16、17、19、20、21、22、23、24、34、36、38、39、43、46、48、49、61、62、64、65、67、68、69、70、71、72、73、74、75、77、78、79を挙げることができる。この中でも、好ましくは、C.I.ピグメントオレンジ38、71を挙げることができる。   Examples of orange pigments include C.I. I. Pigment Orange 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79. Of these, C.I. I. And CI pigment oranges 38 and 71.

紫色顔料としては、C.I.ピグメントバイオレット1、1:1、2、2:2、3、3:1、3:3、5、5:1、14、15、16、19、23、25、27、29、31、32、37、39、42、44、47、49、50を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントバイオレット19、23、さらに好ましくはC.I.ピグメントバイオレット23を挙げることができる。   Examples of purple pigments include C.I. I. Pigment Violet 1, 1: 1, 2, 2: 2, 3, 3: 1, 3: 3, 5, 5: 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50. Of these, C.I. I. Pigment violet 19, 23, more preferably C.I. I. And CI Pigment Violet 23.

黒色色材としては、単独の黒色色材、又は赤、緑、青色等の混合による黒色色材が使用可能である。これら黒色色材は、無機または有機の顔料、染料の中から適宜選択することができ、単独使用もしくは複数種混合して使用することができる。   As the black color material, a single black color material or a black color material obtained by mixing red, green, blue, or the like can be used. These black color materials can be appropriately selected from inorganic or organic pigments and dyes, and can be used alone or in combination.

単独の黒色色材としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック、ボーンブラック、黒鉛、鉄黒、アニリンブラック、シアニンブラック、チタンブラック等が挙げられる。これらの中で、特にカーボンブラック、チタンブラックが遮光率、画像特性の観点から好ましい。カーボンブラックの市販品の例としては、以下のような銘柄が挙げられる。   Examples of the single black color material include carbon black, acetylene black, lamp black, bone black, graphite, iron black, aniline black, cyanine black, and titanium black. Among these, carbon black and titanium black are particularly preferable from the viewpoints of light shielding rate and image characteristics. Examples of commercially available carbon black include the following brands.

三菱化学社製:MA7、MA8、MA11、MA100、MA220、MA230、#52、#50、#47、#45、#2700、#2650、#2200、#1000、#990、#900等。   Mitsubishi Chemical Corporation: MA7, MA8, MA11, MA100, MA220, MA230, # 52, # 50, # 47, # 45, # 2700, # 2650, # 2200, # 1000, # 990, # 900, etc.

デグサ社製:Printex95、Printex90、Printex85、Printex75、Printex55、Printex45、Printex40、Printex30、Printex3、PrintexA、PrintexG、Special Black550、Special Black350、Special Black250、Special Black100等。   Made by Degussa: Printex95, Printex90, Printex85, Printex75, Printex55, Printex45, Printex40, Printex30, Printex3, PrintexA, PrintexG, Special BlackS, 350c, p

キャボット社製:Monarch460、Monarch430、Monarch280、Monarch120、Monarch800、Monarch4630、REGAL99、REGAL99R、REGAL415、REGAL415R、REGAL250、REGAL250R、REGAL330、BLACK PEARLS480、PEARLS130等。   Manufactured by Cabot Corporation: Monarch 460, Monarch 430, Monarch 280, Monarch 120, Monarch 800, Monarch 4630, REGAL99, REGAL99R, REGAL415, REGAL415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, BLACK PEARLS480, PEARLS480, etc.

コロンビヤンカーボン社製:RAVEN11、RAVEN15、RAVEN30、RAVEN35、RAVEN40、RAVEN410、RAVEN420、RAVEN450、RAVEN500、RAVEN780、RAVEN850、RAVEN890H、RAVEN1000、RAVEN1020、RAVEN1040等。   Made by Colombian Carbon: Raven11, Raven15, Raven30, Raven35, Raven40, Raven410, Raven420, Raven450, Raven500, Raven780, Raven850, Raven890H, Raven1000, Raven1020, Raven1040 and the like.

次に、混合による黒色色材について説明する。混合のベースとなる色材の具体例としては、ビクトリアピュアブルー(42595)、オーラミンO(41000)、カチロンブリリアントフラビン(ベーシック13)、ローダミン6GCP(45160)、ローダミンB(45170)、サフラニンOK70:100(50240)、エリオグラウシンX(42080)、No.120/リオノールイエロー(21090)、リオノールイエローGRO(21090)、シムラーファーストイエロー8GF(21105)、ベンジジンイエロー4T−564D(21095)、シムラーファーストレッド4015(12355)、リオノールレッド7B4401(15850)、ファーストゲンブルーTGR−L(74160)、リオノールブルーSM(26150)、リオノールブルーES(ピグメントブルー15:6)、リオノーゲンレッドGD(ピグメントレッド168)、リオノールグリーン2YS(ピグメントグリーン36)等が挙げられる(なお、上記の( )内の数字は、カラーインデックス(C.I.)を意味する)。   Next, the black color material by mixing is demonstrated. Specific examples of the color material used as a base for mixing include Victoria Pure Blue (42595), Auramin O (41000), Catillon Brilliant Flavin (Basic 13), Rhodamine 6GCP (45160), Rhodamine B (45170), Safranin OK70: 100 (50240), Erioglaucine X (42080), no. 120 / Lionol Yellow (21090), Lionol Yellow GRO (21090), Shimla First Yellow 8GF (21105), Benzidine Yellow 4T-564D (21095), Shimler First Red 4015 (12355), Lionol Red 7B4401 (15850), Fast Gen Blue TGR-L (74160), Lionol Blue SM (26150), Lionol Blue ES (Pigment Blue 15: 6), Lionogen Red GD (Pigment Red 168), Lionol Green 2YS (Pigment Green 36), etc. (The numbers in parentheses above mean the color index (CI)).

また、更に他の混合使用可能な顔料についてC.I.ナンバーにて示すと、例えば、C.I.黄色顔料20,24,86,93,109,110,117,125,137,138,147,148,153,154,166、C.I.オレンジ顔料36,43,51,55,59,61、C.I.赤色顔料9,97,122,123,149,168,177,180,192,215,216,217,220,223,224,226,227,228,240、C.I.バイオレット顔料19,23,29,30,37,40,50、C.I.青色顔料15,15:1,15:4,22,60,64、C.I.緑色顔料7、C.I.ブラウン顔料23,25,26等を挙げることができる。   Further, other pigments that can be used in combination are C.I. I. For example, C.I. I. Yellow pigments 20, 24, 86, 93, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 147, 148, 153, 154, 166, C.I. I. Orange pigments 36, 43, 51, 55, 59, 61, C.I. I. Red pigments 9, 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, C.I. I. Violet pigments 19, 23, 29, 30, 37, 40, 50, C.I. I. Blue pigment 15, 15: 1, 15: 4, 22, 60, 64, C.I. I. Green pigment 7, C.I. I. Examples thereof include brown pigments 23, 25, and 26.

なお、上記のカーボンブラックは、他の黒色または有色の無機、有機顔料と併用してもよい。他の顔料は、カーボンブラックより遮光性または画像特性が低いため自ずと混合比率は制限される。   The carbon black may be used in combination with other black or colored inorganic or organic pigments. Other pigments naturally have a light shielding property or image characteristic lower than that of carbon black, so the mixing ratio is naturally limited.

チタンブラックの製造方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気で加熱し還元する方法(特開昭49−5432号公報)、四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細二酸化チタンを水素を含む還元雰囲気中で還元する方法(特開昭57−205322号公報)、二酸化チタンまたは水酸化チタンをアンモニア存在下で高温還元する方法(特開昭60−65069号公報、特開昭61−201610号公報)、二酸化チタンまたは水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法(特開昭61−201610号公報)などがあるが、これらに限定されるものではない。   Titanium black is produced by heating a mixture of titanium dioxide and metal titanium in a reducing atmosphere (Japanese Patent Laid-Open No. 49-5432), ultrafine dioxide obtained by high-temperature hydrolysis of titanium tetrachloride. A method of reducing titanium in a reducing atmosphere containing hydrogen (Japanese Patent Laid-Open No. 57-205322), a method of reducing titanium dioxide or titanium hydroxide at a high temperature in the presence of ammonia (Japanese Patent Laid-Open No. 60-65069, Japanese Patent Laid-Open No. Sho 61-201610), a method in which a vanadium compound is attached to titanium dioxide or titanium hydroxide and reduced at a high temperature in the presence of ammonia (Japanese Patent Laid-Open No. 61-201610), etc. is not.

チタンブラックの市販品の例としては、三菱マテリアル社製チタンブラック10S、12S、13R、13M、13M−Cなどが挙げられる。
(b)有機結合材
本発明において光重合性組成物を構成する場合、(b)有機結合材が使用される。有機結合剤は特に限定されるものではないが、特にカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂が好ましく用いられる。
Examples of commercially available titanium black include Titanium Black 10S, 12S, 13R, 13M, and 13M-C manufactured by Mitsubishi Materials Corporation.
(B) Organic Binder When the photopolymerizable composition is constituted in the present invention, (b) an organic binder is used. The organic binder is not particularly limited, but an epoxy acrylate resin having a carboxyl group is particularly preferably used.

上記エポキシアクリレート樹脂は、エポキシ樹脂にα,β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、さらに、多塩基酸無水物を反応させることにより合成される。かかる反応生成物は化学構造上、実質的にエポキシ基を有さず、かつ「アクリレート」に限定されるものではないが、エポキシ樹脂が原料であり、かつ「アクリレート」が代表例であるので、慣用に従いこのように命名したものである。   In the epoxy acrylate resin, an α, β-unsaturated monocarboxylic acid or an α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group is added to the epoxy resin, and a polybasic acid anhydride is further reacted. Is synthesized. Such a reaction product has substantially no epoxy group in terms of chemical structure and is not limited to “acrylate”, but epoxy resin is a raw material, and “acrylate” is a representative example. It is named like this according to common usage.

原料となるエポキシ樹脂として、(o,m,p−)クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、下式で示されるエポキシ樹脂等を好適に用いることができる(特許第2878486号公報参照)。   As the raw material epoxy resin, (o, m, p-) cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin, represented by the following formula The epoxy resin etc. which can be used can be used suitably (refer patent 2878486).

Figure 2006036750
Figure 2006036750

エポキシ樹脂の分子量は、GPCで測定した重量平均分子量として、通常200〜20万、好ましくは300〜100000の範囲である。分子量が上記範囲未満であると皮膜形成性に問題を生じる場合が多く、逆に、上記範囲を越えた樹脂ではα,β−不飽和モノカルボン酸の付加反応時にゲル化が起こりやすく製造が困難となるおそれがある。   The molecular weight of an epoxy resin is 200-200000 normally as a weight average molecular weight measured by GPC, Preferably it is the range of 300-100000. If the molecular weight is less than the above range, there are many cases where problems occur in the film-forming property. Conversely, resins exceeding the above range are prone to gelation during the addition reaction of α, β-unsaturated monocarboxylic acid, and are difficult to produce. There is a risk of becoming.

α,β−不飽和モノカルボン酸としては、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられ、好ましくは、アクリル酸及びメタクリル酸であり、特にアクリル酸が反応性に富むため好ましい。エステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステルとしては、アクリル酸−2−サクシノイルオキシエチル、アクリル酸−2−マレイノイルオキシエチル、アクリル酸−2−フタロイルオキシエチル、アクリル酸−2−ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、メタクリル酸−2−サクシノイルオキシエチル、メタクリル酸−2−マレイノイルオキシエチル、メタクリル酸−2−フタロイルオキシエチル、メタクリル酸−2−ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、クロトン酸−2−サクシノイルオキシエチル等を挙げられ、好ましくは、アクリル酸−2−マレイノイルオキシエチル及びアクリル酸−2−フタロイルオキシエチルであり、特にアクリル酸−2−マレイノイルオキシエチルが好ましい。   Examples of the α, β-unsaturated monocarboxylic acid include itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid, acrylic acid, methacrylic acid and the like, preferably acrylic acid and methacrylic acid, and particularly acrylic acid is highly reactive. Therefore, it is preferable. The α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group in the ester portion includes acrylic acid-2-succinoyloxyethyl, acrylic acid-2-malenoyloxyethyl, acrylic acid-2-phthaloyloxyethyl, Acrylic acid-2-hexahydrophthaloyloxyethyl, methacrylic acid-2-succinoyloxyethyl, methacrylic acid-2-malenoyloxyethyl, methacrylic acid-2-phthaloyloxyethyl, methacrylic acid-2-hexahydrophthalo Yloxyethyl, crotonic acid-2-succinoyloxyethyl, and the like. Preferred are acrylic acid-2-malenoyloxyethyl acrylate and 2-phthaloyloxyethyl acrylate, and particularly acrylic acid-2-maleic acid. Noyloxyethyl is preferred.

α,β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルとエポキシ樹脂との付加反応は、公知の手法を用いることができ、例えば、エステル化触媒存在下、50〜150℃の温度で反応させることができる。エステル化触媒としてはトリエチルアミン、トリメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、ベンジルジエチルアミン等の3級アミン、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩等を用いることができる。   A known method can be used for the addition reaction of α, β-unsaturated monocarboxylic acid or an ester thereof with an epoxy resin, for example, the reaction can be performed at a temperature of 50 to 150 ° C. in the presence of an esterification catalyst. . As the esterification catalyst, tertiary amines such as triethylamine, trimethylamine, benzyldimethylamine, and benzyldiethylamine, and quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, and dodecyltrimethylammonium chloride can be used.

α,β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルの使用量は、原料エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対し0.5〜1.2当量の範囲が好ましく、さらに好ましくは0.7〜1.1当量の範囲である。α,β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルの使用量が少ないと不飽和基の導入量が不足し、引き続く多塩基酸無水物との反応も不十分となる。また、多量のエポキシ基が残存することも有利ではない。一方、該使用量が多いとα,β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルが未反応物として残存する。いずれの場合も硬化特性が悪化する傾向が認められる。   The amount of α, β-unsaturated monocarboxylic acid or ester thereof used is preferably in the range of 0.5 to 1.2 equivalents, more preferably 0.7 to 1.1, relative to 1 equivalent of the epoxy group of the raw material epoxy resin. Equivalent range. If the amount of α, β-unsaturated monocarboxylic acid or ester thereof used is small, the amount of unsaturated groups introduced is insufficient, and the subsequent reaction with the polybasic acid anhydride becomes insufficient. Also, it is not advantageous that a large amount of epoxy groups remain. On the other hand, if the amount used is large, α, β-unsaturated monocarboxylic acid or ester thereof remains as an unreacted product. In either case, there is a tendency for the curing properties to deteriorate.

α,β−不飽和カルボン酸又はそのエステルが付加したエポキシ樹脂に、更に付加させる多塩基酸無水物としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、好ましくは、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、特に好ましい化合物は、無水テトラヒドロフタル酸及びビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。   The polybasic acid anhydride to be further added to the epoxy resin to which the α, β-unsaturated carboxylic acid or ester thereof is added includes maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, Hexahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, biphenyltetra Carboxylic acid dianhydride and the like, preferably maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, Biphenyltetracarboxylic dianhydride Particularly preferred compounds are tetrahydrophthalic anhydride and biphenyltetracarboxylic dianhydride.

多塩基酸無水物の付加反応に関しても公知の手法を用いることができ、α,β−不飽和カルボン酸又はそのエステルの付加反応と同様な条件下で継続反応させることにより得ることができる。多塩基酸無水物の付加量は、生成するエポキシアクリレート樹脂の酸価が10〜150mgKOH/gの範囲となるのが好ましく、更に20〜140mgKOH/gが特に好ましい。樹脂酸価が上記範囲以下であるとアルカリ現像性に乏しくなり、また、上記範囲を越えると硬化性能に劣る傾向が認められる。   A known method can also be used for the addition reaction of polybasic acid anhydride, and it can be obtained by continuing the reaction under the same conditions as in the addition reaction of α, β-unsaturated carboxylic acid or ester thereof. The addition amount of the polybasic acid anhydride is preferably such that the acid value of the resulting epoxy acrylate resin is in the range of 10 to 150 mgKOH / g, more preferably 20 to 140 mgKOH / g. When the resin acid value is below the above range, the alkali developability is poor, and when the resin acid value exceeds the above range, the curing performance tends to be inferior.

(b)有機結合剤としては、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂以外に、次のような樹脂も使用することができる。なお、以下に説明する樹脂にはエポキシアクリレート樹脂に属するものも一部重複的に含んでおり、完全に異なる別物質という分類ではない。   (B) In addition to the epoxy acrylate resin having a carboxyl group, the following resins can also be used as the organic binder. In addition, some of the resins described below partially overlap with those belonging to the epoxy acrylate resin, and are not classified as different substances.

即ち、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、マレイン酸、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、マレイミド等の単独重合体又は共重合体、又はカルボキシル基含有ビニル系樹脂、並びに、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アセチルセルロース等も好適に挙げられる。中でも、アルカリ現像性と画像形成性の面から、上記カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂及びカルボキシル基含有ビニル系樹脂が好ましく、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂が更に好ましい。   That is, a homopolymer or copolymer such as (meth) acrylic acid, (meth) acrylic ester, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, maleic acid, styrene, vinyl acetate, vinylidene chloride, maleimide, or a carboxyl group Preferable examples include a vinyl-containing resin, polyamide, polyester, polyether, polyurethane, polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, and acetyl cellulose. Among these, from the viewpoint of alkali developability and image formability, the epoxy acrylate resin having a carboxyl group and the carboxyl group-containing vinyl resin are preferable, and the epoxy acrylate resin having a carboxyl group is more preferable.

そのカルボキシル基含有ビニル系樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸と、スチレン、α−メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−(メタ)アクリロイルモルホリン、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、酢酸ビニル等のビニル化合物との共重合体等が挙げられる。   As the carboxyl group-containing vinyl resin, for example, (meth) acrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, citraconic acid, and other unsaturated carboxylic acids, styrene, α-methylstyrene , Hydroxystyrene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl ( (Meth) acrylate, hydroxymethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, N, N-dimethyl Aminoethyl (meth) acrylate, N- (meth) acryloylmorpholine, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminoethyl And copolymers with vinyl compounds such as (meth) acrylamide and vinyl acetate.

上記の共重合体の中では、スチレン−(メタ)アクリレート−(メタ)アクリル酸共重合体が好ましく、スチレン3〜30モル%、(メタ)アクリレート10〜70モル%、(メタ)アクリル酸10〜60モル%からなる共重合体が更に好ましく、スチレン5〜25モル%、(メタ)アクリレート20〜60モル%、(メタ)アクリル酸15〜55モル%からなる共重合体が特に好ましい。また、これらカルボキシル基含有ビニル系樹脂は、酸価が30〜250mg−KOH/g、好ましくは、50〜200mg−KOH/g、更に好ましくは、70〜150mg−KOH/gである。   Among the above copolymers, a styrene- (meth) acrylate- (meth) acrylic acid copolymer is preferable, and 3-30 mol% styrene, 10-70 mol% (meth) acrylate, 10 (meth) acrylic acid. A copolymer composed of ˜60 mol% is more preferred, and a copolymer composed of 5-25 mol% styrene, 20-60 mol% (meth) acrylate, and 15-55 mol% (meth) acrylic acid is particularly preferred. These carboxyl group-containing vinyl resins have an acid value of 30 to 250 mg-KOH / g, preferably 50 to 200 mg-KOH / g, and more preferably 70 to 150 mg-KOH / g.

更に、上記カルボキシル基含有ビニル系樹脂として、側鎖にエチレン性不飽和結合を有するものが好適であり、例えば、カルボキシル基含有重合体に、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート、α−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマル酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、又は、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、2,3−エポキシシクロペンチルメチル(メタ)アクリレート、7,8−エポキシ〔トリシクロ[5.2.1.0]デシ−2−イル〕オキシメチル(メタ)アクリレート等の脂環式エポキシ基含有不飽和化合物を、カルボキシル基含有重合体の有するカルボキシル基の5〜90モル%、好ましくは30〜70モル%程度を反応させて得られた反応生成物、及び、アリル(メタ)アクリレート、3−アリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、シンナミル(メタ)アクリレート、クロトニル(メタ)アクリレート、メタリル(メタ)アクリレート、N,N−ジアリル(メタ)アクリルアミド等の2種以上の不飽和基を有する化合物、又は、ビニル(メタ)アクリレート、1−クロロビニル(メタ)アクリレート、2−フェニルビニル(メタ)アクリレート、1−プロペニル(メタ)アクリレート、ビニルクロトネート、ビニル(メタ)アクリルアミド等の2種以上の不飽和基を有する化合物と、(メタ)アクリル酸等の不飽和カルボン酸、又は更に不飽和カルボン酸エステルとを、前者の不飽和基を有する化合物の全体に占める割合を10〜90モル%、好ましくは30〜80モル%程度となるように共重合させて得られた反応生成物等が挙げられる。   Furthermore, as the carboxyl group-containing vinyl resin, those having an ethylenically unsaturated bond in the side chain are suitable. For example, allyl glycidyl ether, glycidyl (meth) acrylate, α-ethylglycidyl is added to the carboxyl group-containing polymer. (Meth) acrylate, glycidyl crotonate, glycidyl isocrotonate, crotonyl glycidyl ether, itaconic acid monoalkyl monoglycidyl ester, fumaric acid monoalkyl monoglycidyl ester, maleic acid monoalkyl monoglycidyl ester, etc. Saturated compound, or 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2,3-epoxycyclopentylmethyl (meth) acrylate, 7,8-epoxy [tricyclo [5.2.1.0] dec-2 Yl] An alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound such as oxymethyl (meth) acrylate is obtained by reacting 5 to 90 mol%, preferably about 30 to 70 mol% of the carboxyl group of the carboxyl group-containing polymer. Reaction products and allyl (meth) acrylate, 3-allyloxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, cinnamyl (meth) acrylate, crotonyl (meth) acrylate, methallyl (meth) acrylate, N, N-diallyl A compound having two or more unsaturated groups such as (meth) acrylamide, or vinyl (meth) acrylate, 1-chlorovinyl (meth) acrylate, 2-phenylvinyl (meth) acrylate, 1-propenyl (meth) acrylate , Vinyl crotonate, vinyl (meth) acrylamide The ratio of the compound having two or more kinds of unsaturated groups such as, and unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid, or further unsaturated carboxylic acid ester to the whole compound having the former unsaturated group Examples include reaction products obtained by copolymerization so as to be about 10 to 90 mol%, preferably about 30 to 80 mol%.

また、液晶分割配向突起の形成に用いるときは、特に、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量が、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂の場合は、通常1,000以上、好ましくは1,500以上であり、通常30,000以下、好ましくは20,000以下、更に好ましくは10,000以下、特に好ましくは5,000以下である。カルボキシル基含有ビニル系樹脂の場合、通常1,000以上、好ましくは1500以上、更に好ましくは2000以上であり、通常100,000以下、好ましくは50,000万以下、更に好ましくは20,000以下、特に好ましくは10,000以下である。上記範囲の有機結合材を含有する場合は、光重合性組成物の加熱時の変形が大きいため、液晶分割配向突起の良好な形状であるアーチ状の突起が形成されるので好ましい。   In addition, when used for forming the liquid crystal split alignment protrusions, in particular, when the weight average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) measurement is an epoxy acrylate resin having a carboxyl group, it is usually 1,000 or more. , Preferably 1,500 or more, usually 30,000 or less, preferably 20,000 or less, more preferably 10,000 or less, particularly preferably 5,000 or less. In the case of a carboxyl group-containing vinyl resin, it is usually 1,000 or more, preferably 1500 or more, more preferably 2000 or more, and usually 100,000 or less, preferably 50,000,000 or less, more preferably 20,000 or less, Especially preferably, it is 10,000 or less. When the organic binder in the above range is contained, deformation of the photopolymerizable composition upon heating is large, and therefore, an arch-shaped protrusion that is a good shape of the liquid crystal split alignment protrusion is formed, which is preferable.

(c)光重合開始剤
本発明の光重合性組成物は、光重合開始剤として一般式(1)又は(2)で示されるオキシムエステル系化合物を含有する。
(C) Photopolymerization initiator The photopolymerizable composition of the present invention contains an oxime ester compound represented by the general formula (1) or (2) as a photopolymerization initiator.

Figure 2006036750
(式中、符号の意味は前記の一般式(1)で定義したものと同一である。)
Figure 2006036750
(In the formula, the meanings of the symbols are the same as those defined in the general formula (1).)

一般式(1)中、好ましくは、R1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、また、R1aは、R1'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aは、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基を示し、R1'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。 In general formula (1), R 1a is preferably an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or a phenoxycarbonylalkyl having 8 to 20 carbon atoms. A group or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 1a may form a ring together with R 1 ′, and the linking group may have a substituent, each having 1 to 1 carbon atoms. 10 alkylene group, — (CH═CH) n —, — (C≡C) n — or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), and R 2a has 2 carbon atoms which may be substituted. R12 'shows the arbitrary substituents containing an aromatic ring or a heteroaromatic ring.

Figure 2006036750
(式中、符号の意味は前記の一般式(2)で定義したものと同一である。)
Figure 2006036750
(In the formula, the meanings of the symbols are the same as those defined in the general formula (2).)

一般式(2)中、好ましくは、R1bは、炭素数1〜20のアルキル基を示し、R2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基を示し、R1'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。 In general formula (2), Preferably, R <1b > shows a C1-C20 alkyl group, R <2b> is the C1-C20 heteroaryl group each substituted, C3-C3, respectively. 20 represents an alkoxycarbonylalkanoyl group, 8 to 20 phenoxycarbonylalkanoyl group or 2 to 10 aminocarbonyl group, and R1 ′ represents an optional substituent containing an aromatic ring or a heteroaromatic ring.

一般式(1)又は(2)で示されるオキシムエステル系化合物中、好ましい化合物は一般式(3)又は(4)で表される化合物である。   Among the oxime ester compounds represented by the general formula (1) or (2), preferred compounds are those represented by the general formula (3) or (4).

Figure 2006036750
(式中、符号の意味は前記の一般式(3)で定義したものと同一である。)
Figure 2006036750
(In the formula, the meanings of the symbols are the same as those defined in the general formula (3).)

一般式(3)中、好ましくは、R1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、またR1aは、R3あるいはR7とともに環を形成してもよく、その場合、R1とR3あるいは/およびR7は互いに結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、 R2aは、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基を示し、R3、R4、R5、R6及びR7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数1〜20のヘテロアリーロイル基又は−NR1011を示し、かつ、R3、R4、R5、R6及びR7の少なくとも一つは、−NR1011を示す。ただし、R10およびR11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜4のヒドロキシルアルキル基、炭素数3〜5のアルケニル基または炭素数6〜20のフェニル基を表し、R3〜R7は互いに結合して、またR1と共に環構造を形成してもよい。 In general formula (3), R 1a is preferably an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or a phenoxycarbonylalkyl having 8 to 20 carbon atoms. R 1a represents a group or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 1a may form a ring together with R 3 or R 7 , in which case R 1 and R 3 or / and R 7 are bonded to each other. Together form a divalent or trivalent linking group, each of which may have a substituent, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, — (CH═CH) n —, — (C≡C). ) N -or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), R 2a represents an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7, independently of one another, a hydrogen atom, c Gen atoms, each optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, indicates heteroarylene acryloyl group or -NR 10 R 11 having 1 to 20 carbon atoms, and, R At least one of 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 represents —NR 10 R 11 . R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyl alkyl group having 2 to 4 carbon atoms, or an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms. Or a C6-C20 phenyl group is represented, R < 3 > -R < 7 > may couple | bond together and may form a ring structure with R < 1 >.

Figure 2006036750
(式中、符号の意味は前記の一般式(4)で定義したものと同一である。)
Figure 2006036750
(In the formula, the meanings of the symbols are the same as those defined in the general formula (4)).

一般式(4)中、好ましくはR1bは、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、R2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基であり、R3、R4、R5、R6及びR7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数1〜20のヘテロアリーロイル基又は−NR1011を示し、かつ、R3、R4、R5、R6及びR7の少なくとも一つは、−NR1011を示し(ただし、R10およびR11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜4のヒドロキシルアルキル基、炭素数3〜5のアルケニル基または炭素数6〜20のフェニル基を表す)、R3〜R7は互いに結合して、またR1bと共に環構造を形成してもよい。 In general formula (4), R 1b is preferably an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 2b is an optionally substituted heteroaryl group having 1 to 20 carbon atoms. A heteroarylalkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, or an aminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, or a carbon number. 1 to 20 heteroarylloyl group or —NR 10 R 11 , and at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 represents —NR 10 R 11 (where R 10 and R 11 Are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyl alkyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms, or 6 to 20 carbon atoms. R 3 to R 7 may be bonded to each other and may form a ring structure together with R 1b .

更に好ましいオキシムエステル系化合物は、下記一般式(5)〜(7)のいずれかで示される化合物である。   Further preferred oxime ester compounds are compounds represented by any one of the following general formulas (5) to (7).

Figure 2006036750
(式中、符号の意味は前記の一般式(5)で定義したものと同一である。)
Figure 2006036750
(In the formula, the meanings of the symbols are the same as those defined in the general formula (5)).

好ましくは、R1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜15のアルケニル基、炭素数1〜10のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜15のヘテロアリールチオアルキル基、炭素数2〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜15のジアルキルアミノアルキル基、炭素数3〜15のN−アシルオキシ−N−アシルアミノアルキル基であるか、R1aとR3あるいは/およびR7が互いに結合してそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜15のアルキレン基、−(CH=CH)n−あるいはその組み合わせを形成する場合である。 Preferably, R 1a is an optionally substituted alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, a heteroarylalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or 8 to 20 carbon atoms. Phenoxycarbonylalkyl group, heteroarylthioalkyl group having 1 to 15 carbon atoms, dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, dialkylaminoalkyl group having 1 to 15 carbon atoms, N-acyloxy-N having 3 to 15 carbon atoms An acylaminoalkyl group, or an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms, which R 1a and R 3 or / and R 7 may be bonded to each other and may have a substituent, — (CH═CH) n -Or a combination thereof.

さらに好ましくは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数3〜12のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜10のヘテロアリールチオアルキル基、炭素数2〜8のアミノ基であるか、R1aとR3あるいは/およびR7が互いに結合してそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−あるいはその組み合わせを形成する場合である。なお、上記においてnは0〜3の整数であるが、1又は2が好ましい。 More preferably, the alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, the alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, the phenoxycarbonylalkyl group having 8 to 20 carbon atoms, and the heteroaryl having 1 to 10 carbon atoms, each of which may be substituted. A ruthioalkyl group, an amino group having 2 to 8 carbon atoms, or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms that R 1a and R 3 or / and R 7 may be bonded to each other, This is a case where-(CH = CH) n -or a combination thereof is formed. In the above, n is an integer of 0 to 3, but 1 or 2 is preferable.

好ましくは、R2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数3〜12のアルケノイル基、炭素数3〜8のシクロアルカノイル基、炭素数7〜15のベンゾイル基、炭素数1〜15のヘテロアリーロイル基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基又は炭素数7〜20のフェノキシカルボニル基、炭素数3〜12のジアルキルアミノカルボニル基又は炭素数7〜15のフェニルアミノカルボニル基を示す。 Preferably, R 2a is an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 12 carbon atoms, a cycloalkanoyl group having 3 to 8 carbon atoms, and a benzoyl group having 7 to 15 carbon atoms. , A heteroarylloyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, a phenoxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, a dialkylaminocarbonyl group having 3 to 12 carbon atoms, or phenyl having 7 to 15 carbon atoms An aminocarbonyl group is shown.

好ましくは、R3、R6、R7、R12〜R15は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のフェニル基、炭素数3〜20のヘテロアリ−ル基、炭素数7〜12のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数3〜20のヘテロアリーロイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数3〜20のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数3〜20のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルキル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基又は、−OR8もしくは−NR1011を示し、R3、R6、R7、R12〜R15は互いに結合して、また、R1aとともに環構造を形成してもよい。 Preferably, R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or 2 to 2 carbon atoms. 12 alkenyl groups, C2-C12 alkenoyl groups, C5-C8 cycloalkyl groups, C6-C12 phenyl groups, C3-C20 heteroaryl groups, C7-C12 Benzoyl group, C2-C12 alkanoyl group, C3-C20 heteroaryloyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkanoyl group, C8-C20 phenoxycarbonylalkanoyl group, C3-C20 A heteroaryloxyxycarbonylalkanoyl group, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkyl group having 8 to 20 carbon atoms, carbon A heteroaryloxyoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group or phenoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, or —OR 8 or —NR 10 R 11 , and R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 15 may be bonded to each other and may form a ring structure with R 1a .

好ましくは、R16は、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のフェニル基、炭素数3〜20のヘテロアリ−ル基、炭素数7〜12のベンジル基、炭素数7〜12のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数3〜20のヘテロアリーロイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数3〜20のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルキル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数3〜15のトリアルキルシリル基又は炭素数2〜4のヒドロキシルアルキル基を表す。ここに、R3、R6、R7、R12〜R16は、互いに結合して、また、R1aとともに環構造を形成してもよい。 Preferably, R 16 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 2 to 12 carbon atoms, and a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms. A phenyl group having 6 to 12 carbon atoms, a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, a benzyl group having 7 to 12 carbon atoms, a benzoyl group having 7 to 12 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, and a carbon number Heteroarylloyl group having 3 to 20 carbon atoms, alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, phenoxycarbonylalkyl group having 8 to 20 carbon atoms, heteroaryloxyoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, 2 to 12 carbon atoms An alkoxycarbonyl group or phenoxycarbonyl group, a trialkylsilyl group having 3 to 15 carbon atoms, or a hydroxylalkyl group having 2 to 4 carbon atoms. It is. Here, R < 3 >, R < 6 >, R < 7 >, R < 12 > -R < 16 > may combine with each other and form a ring structure with R <1a> .

ただし、R8は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜8のアルカノイル基、炭素数3〜12のアルケニル基、炭素数3〜20のアルケノイル基、炭素数6〜12のフェニル基、−(CH2CH2O)mH(mは1〜20の整数、好ましくは1〜5)又は炭素数3〜15のトリアルキルシリル基を示し、R9は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜8のアルカノイル基、炭素数3〜12のアルケニル基又は炭素数6〜12のフェニル基を示し、R10およびR11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜4のヒドロキシルアルキル基、炭素数3〜5のアルケニル基または炭素数6〜20のフェニル基を表す。 R 8 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkenoyl having 3 to 20 carbon atoms. group, a phenyl group having 6 to 12 carbon atoms, - (CH 2 CH 2 O ) m H (m is an integer of 1 to 20, preferably 1 to 5) or shows a trialkylsilyl group having from 3 to 15 carbon atoms, R 9 represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a phenyl group having 6 to 12 carbon atoms. R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyl alkyl group having 2 to 4 carbon atoms, or an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms. Or 6-20 carbon atoms Represents a phenyl group.

Figure 2006036750
(式中、符号の意味は前記の一般式(6)で定義したものと同一である。)
Figure 2006036750
(In the formula, the meanings of the symbols are the same as those defined in the general formula (6)).

好ましくは、R1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数6〜15のフェニル基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜15のアルカノイル基、炭素数7〜15のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくは炭素数7〜12のフェノキシカルボニル基、炭素数1〜15のアミド基、ニトロ基、炭素数2〜15のアルケニル基、炭素数1〜10のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜15のヘテロアリールチオアルキル基、炭素数2〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜15のジアルキルアミノアルキル基、炭素数3〜15のN−アシルオキシ−N−アシルアミノアルキル基であるか、R1aとR3あるいは/およびR7が互いに結合してそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜15のアルキレン基、−(CH=CH)n−あるいはその組み合わせを形成する場合である。 Preferably, R 1b is an optionally substituted phenyl group having 6 to 15 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, and an alkanoyl group having 2 to 15 carbon atoms. A benzoyl group having 7 to 15 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms or a phenoxycarbonyl group having 7 to 12 carbon atoms, an amide group having 1 to 15 carbon atoms, a nitro group, and an alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms , A C1-C10 heteroarylalkyl group, a C3-C20 alkoxycarbonylalkyl group, a C1-C15 heteroarylthioalkyl group, a C2-C12 dialkylamino group, a C1-C15 A dialkylaminoalkyl group of the above, an N-acyloxy-N-acylaminoalkyl group having 3 to 15 carbon atoms, or R 1a and R 3 or / and R 7 are This is a case where they are bonded to each other to form an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms which may have a substituent, — (CH═CH) n — or a combination thereof.

さらに好ましくは、それぞれ置換されていてもよい炭素数6〜15のフェニル基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数7〜12のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくは炭素数7〜12のフェノキシカルボニル基、炭素数1〜10のアミド基、ニトロ基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数3〜12のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜10のヘテロアリールチオアルキル基、炭素数2〜8のアミノ基であるか、R1aとR3あるいは/およびR7が互いに結合してそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−あるいはその組み合わせを形成する場合である。なお、上記においてnは0〜3の整数であるが、1又は2が好ましい。 More preferably, each optionally substituted phenyl group having 6 to 15 carbon atoms, alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, carbon number 7-12 benzoyl group, C2-C12 alkoxycarbonyl group or C7-C12 phenoxycarbonyl group, C1-C10 amide group, nitro group, C2-C12 alkenyl group, carbon number An alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkyl group having 8 to 20 carbon atoms, a heteroarylthioalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an amino group having 2 to 8 carbon atoms, R 1a and R 3 or / And R 7 may be bonded to each other and may have a substituent, each having 1 to 10 carbon atoms, — (CH═CH) n — or a combination thereof This is a case of forming a gutter. In the above, n is an integer of 0 to 3, but 1 or 2 is preferable.

好ましくは、R2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜15のヘテロアリール基、炭素数1〜15のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜15のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜15のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数3〜15のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、炭素数2〜10のアミノカルボニル基である。好ましいR3、R6、R7、R12〜R15は、前記の一般式(6)におけるR3、R6、R7、R12〜R15の好ましい範囲と同じである。 Preferably, R 2a is an optionally substituted heteroaryl group having 1 to 15 carbon atoms, a heteroarylalkanoyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 15 carbon atoms, or 8 to 8 carbon atoms. A phenoxycarbonylalkanoyl group having 15 carbon atoms, a heteroaryloxyoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 15 carbon atoms, and an aminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms. Preferred R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 15 are the same as the preferred ranges of R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 15 in the general formula (6).

Figure 2006036750
(式中、R1aは、それぞれ前記の一般式(4)におけると同義であり、R2bは、前記の一般式(3)におけるR2a及び一般式(4)におけるR2bを示し、R3、R6、R7、R12〜R16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−NR1011であり、R3、R6、R7、R12〜R16は互いに結合して環構造を形成してもよく、且つR3、R6、R7、R12〜R16のうち少なくとも一つがそれぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルカノイル基もしくはヘテロアリーロイル基及び炭素数3〜15のトリアルキルシリル基からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む。)
Figure 2006036750
(Wherein, R 1a has the same meaning as in the general formula respectively (4), R 2b represents an R 2b in R 2a and formula (4) in the above general formula (3), R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 2 to 12 carbon atoms, or 6 to 20 carbon atoms. A phenyl group, a C 7-20 benzyl group or benzoyl group, or —NR 10 R 11 , wherein R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 are bonded to each other to form a ring structure. And a heteroarylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a heteroarylalkanoyl group or a heteroaryloyl group in which at least one of R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 may be substituted. And a trialkyl group having 3 to 15 carbon atoms. Including at least one selected from the group consisting of ryl groups.)

本発明のオキシムエステル化合物を示す化学式中、R1a、R1a、R2a、R2b、R2〜R16の「それぞれ置換されていてもよい置換基」としては、それぞれ独立に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子;水酸基;ニトロ基;シアノ基;任意の有機基などを挙げることができ、その任意の有機基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、アミル基、t−アミル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、t−オクチル基等の炭素数1〜18の直鎖又は分岐のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の炭素数3〜18のシクロアルキル基;ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数2〜18の直鎖又は分岐のアルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数3〜18のシクロアルケニル基;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、アミルオキシ基、t−アミルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、t−オクチルオキシ基等の炭素数1〜18の直鎖又は分岐のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、n−ブチルチオ基、s−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、アミルチオ基、t−アミルチオ基、n−ヘキシルチオ基、n−ヘプチルチオ基、n−オクチルチオ基、t−オクチルチオ基等の炭素数1〜18の直鎖又は分岐のアルキルチオ基;フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の炭素数6〜18のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7〜18のアラルキル基;ビニルオキシ基、プロペニルオキシ基、ヘキセニルオキシ基等の炭素数2〜18の直鎖又は分岐のアルケニルオキシ基;ビニルチオ基、プロペニルチオ基、ヘキセニルチオ基等の炭素数2〜18の直鎖又は分岐のアルケニルチオ基;−COR17で表されるアシル基;カルボキシル基;−OCOR18で表されるアシルオキシ基;−NR1920で表されるアミノ基;−NHCOR21で表されるアシルアミノ基;−NHCOOR22で表されるカーバメート基;−CONR2324で表されるカルバモイル基;−COOR25で表されるカルボン酸エステル基;−SO3NR2627で表されるスルファモイル基;−SO328で表されるスルホン酸エステル基;2−チエニル基、2−ピリジル基、フリル基、オキサゾリル基、ベンゾキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリノ基、ピロリジニル基、テトラヒドロチオフェンジオキサイド基等の飽和もしくは不飽和の複素環基、トリメチルシリル基などのトリアルキルシリル基等が挙げられる。 In the chemical formulas representing the oxime ester compound of the present invention, R 1a , R 1a , R 2a , R 2b , R 2 to R 16 may each independently represent a fluorine atom, Halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom and iodine atom; hydroxyl group; nitro group; cyano group; any organic group and the like. Examples of the arbitrary organic group include methyl group, ethyl group and n-propyl group. , Isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, amyl group, t-amyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, t-octyl group, etc. 18 linear or branched alkyl groups; C 3-18 cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, adamantyl group; vinyl group, propeni A linear or branched alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, such as a ruthenium group or a hexenyl group; a cycloalkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, such as a cyclopentenyl group or a cyclohexenyl group; a methoxy group, an ethoxy group, or an n-propoxy group , Isopropoxy group, n-butoxy group, s-butoxy group, t-butoxy group, amyloxy group, t-amyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, t-octyloxy A linear or branched alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms such as a group; methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, isopropylthio group, n-butylthio group, s-butylthio group, t-butylthio group, amylthio group, 1 carbon atom such as t-amylthio group, n-hexylthio group, n-heptylthio group, n-octylthio group, t-octylthio group 18 linear or branched alkylthio groups; aryl groups having 6 to 18 carbon atoms such as phenyl, tolyl, xylyl and mesityl groups; aralkyl groups having 7 to 18 carbon atoms such as benzyl and phenethyl groups; vinyloxy groups A linear or branched alkenyloxy group having 2 to 18 carbon atoms such as a propenyloxy group or a hexenyloxy group; a linear or branched alkenylthio group having 2 to 18 carbon atoms such as a vinylthio group, a propenylthio group or a hexenylthio group acylamino group represented by -NHCOR 21;; amino group represented by -NR 19 R 20; acyloxy group represented by -OCOR 18; carboxyl group; an acyl group represented by -COR 17; group -NHCOOR 22 A carbamate group represented by —CONR 23 R 24 ; a carboxylic acid ester group represented by —COOR 25 ; Sulfomoyl group represented by SO 3 NR 26 R 27 ; Sulfonate group represented by —SO 3 R 28 ; 2-thienyl group, 2-pyridyl group, furyl group, oxazolyl group, benzoxazolyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl Groups, morpholino groups, pyrrolidinyl groups, saturated or unsaturated heterocyclic groups such as tetrahydrothiophene dioxide groups, and trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl groups.

また、本発明の置換基としては、この他に、=N−OC(=O)R2のような置換基が挙げられる。このような化合物として、R1a、R1bが、=N−OC(=O)R2で置換されている炭素数1〜20のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルカノイル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、又は炭素数1〜20のアミド基であってもよい。 In addition, examples of the substituent of the present invention include a substituent such as ═N—OC (═O) R 2 . As such compounds, R 1a and R 1b are substituted with ═N—OC (═O) R 2 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, and 2 carbon atoms. It may be a -20 alkanoyl group, a benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group or phenoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, or an amide group having 1 to 20 carbon atoms.

上記において、複数の置換基同士が結合して環を形成してもよく、形成された環は飽和あるいは不飽和の芳香環あるいは複素環であってもよく、環状にさらにそれぞれ置換基を有していてよく、置換基がさらに環を形成してもよい。   In the above, a plurality of substituents may be bonded to each other to form a ring, and the formed ring may be a saturated or unsaturated aromatic ring or heterocyclic ring, and each ring further has a substituent. And the substituent may further form a ring.

17〜R28は、それぞれ水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基、または置換されていてもよいアラルキル基を表す。これらの位置関係は特に限定されず、複数の置換基を有する場合、同種でも異なっていてもよい。 R 17 to R 28 each represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted aryl group, or an optionally substituted aralkyl group. These positional relationships are not particularly limited, and when they have a plurality of substituents, they may be the same or different.

以上、一般式(5)〜(7)で示される化合物について詳述したが、各置換基の組み合わせにおいて好ましい化合物を総括すると、次の通りである。   As mentioned above, although the compound shown by General formula (5)-(7) was explained in full detail, it is as follows when a preferable compound is put together in the combination of each substituent.

一般式(5)において、R1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数1〜20のアミノアルキル基であるか、またはR1aは、R3あるいはR7とともに環を形成してもよく、その場合R1aとR3あるいは/およびR7は互い結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−、あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数) 、R2aは、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基であり、R3、R6、R7、R12〜R16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−NR1011であり、R3、R6、R7、R12〜R16は互いに結合して環構造を形成してもよい化合物。 In General Formula (5), R 1a is an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkyl group having 8 to 20 carbon atoms, or carbon. R 1a may form a ring together with R 3 or R 7 , in which case R 1a and R 3 or / and R 7 are bonded to each other to form 2 A trivalent or trivalent linking group, each of which may have a substituent, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, — (CH═CH) n —, — (C≡C) n — Or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), R 2a is an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 is a hydrogen atom, a halogen atom, An optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, a benzyl group or a benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, or —NR 10 R 11 , a compound in which R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 may be bonded to each other to form a ring structure.

一般式(6)において、R1bが、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、 R2bが、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基であり、R3、R6、R7、R12〜R16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−NR1011であり、R3、R6、R7、R12〜R16は互いに結合して環構造を形成してもよい化合物。 In General Formula (6), R 1b is an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 2b is an optionally substituted heteroarylalkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, An alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms or an aminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, and R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 A hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, a benzyl group having 7 to 20 carbon atoms, or benzoyl Or a compound represented by —NR 10 R 11 , wherein R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 may be bonded to each other to form a ring structure.

一般式(7)において、R1bが、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数1〜20のアミノアルキル基であるか、またはR1aは、R3あるいはR7とともに環を形成してもよく、その場合R1aとR3あるいは/およびR7は互い結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−、あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2が、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基であり、R3、R6、R7、R12〜R16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−NR1011であり、R3、R6、R7、R12〜R16は互いに結合して環構造を形成してもよく、且つR3、R6、R7、R12〜R16のうち少なくとも一つがそれぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルカノイル基もしくはヘテロアリーロイル基及び炭素数3〜15のトリアルキルシリル基からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む化合物。 In General Formula (7), R 1b is an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or 8 to 8 carbon atoms. 20 phenoxycarbonylalkyl groups or aminoalkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, or R 1a may form a ring together with R 3 or R 7 , in which case R 1a and R 3 or / and R 7 are bonded to each other to form a divalent or trivalent linking group, and each of the linking groups may have a substituent, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, — (CH═CH) n —, -(C≡C) n- , or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), and R 2 is an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, or 1 to 20 carbon atoms. Heteroarylalkanoyl group , An alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, or an aminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, and R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 are , A hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, a benzyl group having 7 to 20 carbon atoms, or A benzoyl group, or —NR 10 R 11 , R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 may be bonded to each other to form a ring structure, and R 3 , R 6 , R 7 , at least one of the respective optionally substituted good having 1 to 20 carbon atoms heteroarylalkyl group, the heteroaryl alkanoyl group or heteroarylene acryloyl group and having 3 to 15 carbon atoms bets of R 12 to R 16 A compound containing at least one selected from the group consisting of a realkylsilyl group.

その他、好ましいオキシムエステル系化合物は、下記一般式(8)又は(9)で示される化合物である。   In addition, a preferable oxime ester compound is a compound represented by the following general formula (8) or (9).

Figure 2006036750
(式中、符号の意味は前記一般式(8)で定義したものと同一である。)
Figure 2006036750
(In the formula, the meaning of the symbols is the same as defined in the general formula (8).)

一般式(8)において、好ましくは、R1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示す。また、R1aは、Ar1とともに環を形成してもよく、その場合、R1aとAr1は互いに結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aが、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基である。 In the general formula (8), R 1a is preferably an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or a phenoxycarbonylalkyl having 8 to 20 carbon atoms. Group or a C1-C20 aminoalkyl group is shown. R 1a may form a ring together with Ar 1 , in which case R 1a and Ar 1 are bonded together to form a divalent or trivalent linking group, and each linking group is substituted. An alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a group, — (CH═CH) n —, — (C≡C) n — or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), R 2a is an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms.

Figure 2006036750
(式中、符号の意味は前記一般式(9)で定義したものと同一である。)
Figure 2006036750
(In the formula, the meanings of the symbols are the same as those defined in the general formula (9).)

一般式(9)において、好ましくは、R1bは、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、R2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基である。 In the general formula (9), preferably, R 1b is an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 2b is an optionally substituted heteroaryl having 1 to 20 carbon atoms. Group, a C1-C20 heteroarylalkanoyl group, a C3-C20 alkoxycarbonylalkanoyl group, a C8-C20 phenoxycarbonylalkanoyl group, or a C2-C10 aminocarbonyl group.

また、Ar1は、本発明の化合物が光を吸収するために必要な部分であり、200nm以上、好ましくは200〜500nm、さらに好ましくは250〜500nmに吸収をもつような化合物であれば好ましく用いられる。具体的にはAr1は、ベンゼン環、フェナントレン環、アズレン環、フルオレン環、アセナフチレン環、インデン環およびその縮合環からなる芳香環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、チアジゾール環、オキサジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、およびその縮合環からなる環、さらにはアクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、カルバゾール環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、ベンゾチアゾール環等の芳香環と複素環からなる縮合環などがあげられる。 Ar 1 is a part necessary for the compound of the present invention to absorb light, and is preferably used as long as it is a compound having absorption at 200 nm or more, preferably 200 to 500 nm, more preferably 250 to 500 nm. It is done. Specifically, Ar 1 is an aromatic ring composed of a benzene ring, a phenanthrene ring, an azulene ring, a fluorene ring, an acenaphthylene ring, an indene ring and a condensed ring thereof, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, an oxazole ring, an isoxazole ring, A thiazole ring, an isothiazole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a furazane ring, a triazole ring, a pyran ring, a thiadizole ring, an oxadiazole ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, and a condensed ring thereof, Further examples include condensed rings composed of aromatic and heterocyclic rings such as acridine ring, phenanthridine ring, xanthene ring, carbazole ring, phenazine ring, phenothiazine ring, phenoxazine ring, and benzothiazole ring.

pは、上記の芳香環、ヘテロ芳香環、縮合芳香環又は縮合ヘテロ芳香環から選ばれるAr1中に存在する置換可能な水素原子数に対応するもので、通常2〜5、好ましくは2〜3の範囲から選択される。 p corresponds to the number of substitutable hydrogen atoms present in Ar 1 selected from the above aromatic ring, heteroaromatic ring, condensed aromatic ring or condensed heteroaromatic ring, and is usually 2 to 5, preferably 2 to A range of 3 is selected.

本発明の好ましい化合物の具体例を各置換基の組み合わせをもって、以下の表1(1)〜表1(6)に示す。   Specific examples of preferred compounds of the present invention are shown in Table 1 (1) to Table 1 (6) below with combinations of substituents.

Figure 2006036750
Figure 2006036750

Figure 2006036750
Figure 2006036750

Figure 2006036750
Figure 2006036750

Figure 2006036750
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Figure 2006036750
Figure 2006036750

Figure 2006036750
Figure 2006036750

また、本発明の光重合開始剤として上記オキシムエステル系化合物を単独で使用することができるが、他の光重合開始剤と併用することもでき、併用による高感度化が期待できる。例えば、以下のような化合物を挙げることができる。   Moreover, although the said oxime ester type compound can be used independently as a photoinitiator of this invention, it can also use together with another photoinitiator and can anticipate the high sensitivity by combined use. For example, the following compounds can be mentioned.

2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシカルボニルナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等のハロメチル化トリアジン誘導体、2−トリクロロメチル−5−(2′−ベンゾフリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−〔β−(2′−ベンゾフリル)ビニル〕−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−〔β−(2′−(6″ベンゾフリル)ビニル)〕−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−フリル−1,3,4−オキサジアゾール等のハロメチル化オキサジアゾール誘導体、2−(2′−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2−(2′−クロロフェニル)−4,5−ビス(3′−メトキシフェニル)イミダゾール2量体、2−(2′−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2−(2′−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、(4′−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体等のイミダゾール誘導体、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル類、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアントラキノン誘導体、ベンズアンスロン誘導体、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチル−(4′−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2、4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、9−フェニルアクリジン、9−(p−メトキシフェニル)アクリジン等のアクリジン誘導体、9,10−ジメチルベンズフェナジン等のフェナジン誘導体、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−ジクロライド、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル)、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル)、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−(2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル)、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ビス−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル)、ビス−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−(2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル)、ビス−シクロペンタジエニル−Ti−2,6−ジ−フルオロ−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1−イル等のチタノセン誘導体等が挙げられる。   2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4 Halomethylated triazine derivatives such as -ethoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxycarbonylnaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, -Trichloromethyl-5- (2'-benzofuryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5-[[beta]-(2'-benzofuryl) vinyl] -1,3,4-oxadi Azole, 2-trichloromethyl-5- [β- (2 '-(6 "benzofuryl) vinyl)]-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5-furyl Halomethylated oxadiazole derivatives such as ru-1,3,4-oxadiazole, 2- (2'-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2'-chlorophenyl) -4, 5-bis (3'-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (2'-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2'-methoxyphenyl) -4,5-diphenyl Imidazole dimers, imidazole derivatives such as (4'-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, benzoin alkyl ethers such as benzoin methyl ether, benzoin phenyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, 2 -Methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butyl Anthraquinone derivatives such as luanthraquinone and 1-chloroanthraquinone, benzanthrone derivatives, benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone, etc. Benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (P-isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1 Acetophenone derivatives such as propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone, thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2, Thioxanthone derivatives such as 4-diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone, benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 9- (p-methoxyphenyl) Acridine derivatives such as acridine, phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine, bis-cyclopentadienyl-Ti-dichloride, bis-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, bis-cycl Pentadienyl-Ti-bis- (2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl), bis-cyclopentadienyl-Ti-bis- (2,3,5,6-tetrafluoropheny- 1-yl), bis-cyclopentadienyl-Ti-bis- (2,4,6-trifluorophen-1-yl), bis-cyclopentadienyl-Ti-2,6-difluorophenyl- 1-yl, bis-cyclopentadienyl-Ti-2,4-di-fluorophen-1-yl, bis-methylcyclopentadienyl-Ti-bis- (2,3,4,5,6-penta Fluorophen-1-yl), bis-methylcyclopentadienyl-Ti-bis- (2,6-di-fluorophen-1-yl), bis-cyclopentadienyl-Ti-2,6-di- Fluoro-3- (pill- - yl) - titanocene derivatives of 1-yl and the like, and the like.

本発明の光重合性組成物には、上記開始剤成分以外にさらに増感色素を加えることもできる。高遮光下で光重合反応を起こさせるためには、増感色素を添加するのは好ましい。このような増感色素としては、例えば特開平3−239703号公報、特開平5−289335号公報に記載の複素環を有するクマリン化合物、特開昭63−221110号公報に記載の3−ケトクマリン化合物、特開平4−221958号公報、特開平4−219756号公報に記載のキサンテン色素、特開平6−19240号公報に記載のピロメテン色素、特開昭47−2528号公報、特開昭54−155292号公報、特開昭56−166154号公報、特開昭59−56403号公報に記載の(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトン、スチリル系色素、特開平6−295061号公報に記載のジュロリジル基を有する増感色素、特開平11−326624号公報に記載のジアミノベンゼン化合物等を挙げることができる。   In addition to the initiator component, a sensitizing dye can be further added to the photopolymerizable composition of the present invention. In order to cause a photopolymerization reaction under high light shielding, it is preferable to add a sensitizing dye. Examples of such a sensitizing dye include a coumarin compound having a heterocyclic ring described in JP-A-3-239703 and JP-A-5-289335, and a 3-ketocoumarin compound described in JP-A 63-221110. Xanthene dyes described in JP-A-4-221958 and JP-A-4-219756, pyromethene dyes described in JP-A-6-19240, JP-A-47-2528, JP-A-54-155292. (P-dialkylaminobenzylidene) ketone and styryl dye described in JP-A-56-166154 and JP-A-59-56403, and a julolidyl group described in JP-A-6-295061. Examples thereof include sensitizing dyes and diaminobenzene compounds described in JP-A No. 11-326624.

これらの増感色素のなかで特に好ましいのはアミノ基含有増感色素およびキサンテン色素である。   Of these sensitizing dyes, amino group-containing sensitizing dyes and xanthene dyes are particularly preferable.

(d)光重合性単量体
本発明の光重合性単量体としては、エチレン性不飽和基を一個以上有する化合物(以下、エチレン性化合物という)が使用される。具体的には、脂肪族(ポリ)ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、芳香族(ポリ)ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物により得られるエステル、芳香族ポリヒドロキシ化合物のエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加物と不飽和カルボン酸とのエステル化反応物、脂肪族ポリヒドロキシ化合物のエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加物と不飽和カルボン酸とのエステル化反応物、カプロラクトン変性多価アルコールと不飽和カルボン酸とのエステル、多価アルコールと多価イソシアナートと不飽和カルボン酸との反応物、スチリル末端化合物、含リン酸不飽和化合物、ポリエポキシと不飽和カルボン酸との付加物等が挙げられる。
(D) Photopolymerizable monomer As the photopolymerizable monomer of the present invention, a compound having one or more ethylenically unsaturated groups (hereinafter referred to as an ethylenic compound) is used. Specifically, an ester of an aliphatic (poly) hydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid, an ester of an aromatic (poly) hydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid, an unsaturated carboxylic acid, a polyvalent carboxylic acid, and an aliphatic poly Esters obtained by hydroxy compounds, ethylene oxide of aromatic polyhydroxy compounds, esterification reaction products of propylene oxide adducts and unsaturated carboxylic acids, ethylene oxides of aliphatic polyhydroxy compounds, propylene oxide adducts and unsaturated carboxylic acids Esterification reaction product, ester of caprolactone-modified polyhydric alcohol and unsaturated carboxylic acid, reaction product of polyhydric alcohol, polyisocyanate and unsaturated carboxylic acid, styryl-terminated compound, phosphoric acid unsaturated compound, polyepoxy And an adduct of carboxylic acid with unsaturated carboxylic acid.

これらのうち、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては具体的には、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート等のアクリル酸エステル、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル、クロトネートに代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル等が挙げられる。   Among these, specific examples of the ester of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, hexanediol diacrylate, trimethylol propane tri Acrylate esters such as acrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, glycerol acrylate, etc. Methacrylic acid with the acrylate of the exemplified compound replaced with methacrylate Ether, similarly itaconic acid ester instead itaconate, maleic acid esters, and the like was replaced with crotonic acid ester or maleate was replaced crotonate.

芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等が挙げられる。不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエステルとしては必ずしも単一物では無いが代表的な具体例としては、(メタ)アクリル酸、フタル酸及びエチレングリコールの縮合物、(メタ)アクリル酸、マレイン酸及びジエチレングリコールの縮合物、(メタ)アクリル酸、テレフタル酸及びペンタエリスリトールの縮合物、(メタ)アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合物等が挙げられる。   Examples of the ester of an aromatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid include hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate, and pyrogallol triacrylate. The ester obtained by the esterification reaction of an unsaturated carboxylic acid with a polyvalent carboxylic acid and a polyvalent hydroxy compound is not necessarily a single substance, but typical examples include (meth) acrylic acid, phthalic acid and ethylene. Condensate of glycol, condensate of (meth) acrylic acid, maleic acid and diethylene glycol, condensate of (meth) acrylic acid, terephthalic acid and pentaerythritol, condensate of (meth) acrylic acid, adipic acid, butanediol and glycerin Etc.

その他本発明に用いられるエチレン性化合物の例としては、エチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類;フタル酸ジアリル等のアリルエステル類;ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物なども有用である。   Other examples of the ethylenic compound used in the present invention include acrylamides such as ethylene bisacrylamide; allyl esters such as diallyl phthalate; vinyl group-containing compounds such as divinyl phthalate.

以上挙げたエチレン性化合物の中で好ましいものは、(メタ)アクリロイル基、さらに好ましくはアクリロイル基を有するものである。このような化合物としてトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。   Among the ethylenic compounds listed above, preferred are those having a (meth) acryloyl group, more preferably an acryloyl group. Such compounds include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc. Is mentioned.

以上挙げた本発明の光重合性組成物の配合量は、(b)有機結合材100重量部に対して(c)光重合開始剤は通常0.1〜50重量部、好ましくは1〜45重量部、(d)光重合性単量体は通常0〜200重量部、好ましくは3〜180重量部である。また、(a)黒色色材は溶剤を除いた全固形分中、通常30〜70重量%、好ましくは35〜65重量%である。更に増感色素は、(b)有機結合材100重量部に対して通常0〜30重量部、好ましくは0〜10重量部である。   The blending amount of the photopolymerizable composition of the present invention described above is usually 0.1 to 50 parts by weight, preferably 1 to 45 parts of (c) photopolymerization initiator with respect to 100 parts by weight of (b) organic binder. Part by weight, (d) the photopolymerizable monomer is usually 0 to 200 parts by weight, preferably 3 to 180 parts by weight. Moreover, (a) black color material is 30 to 70 weight% normally in the total solid content except a solvent, Preferably it is 35 to 65 weight%. Further, the sensitizing dye is usually 0 to 30 parts by weight, preferably 0 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (b) organic binder.

光重合開始剤が上記範囲未満であると低感度となり作業効率の点で劣り、また、上記範囲を越えると塗膜形成機能に悪影響を与えやすい。光重合性単量体(エチレン性化合物)が上記未満であると架橋密度低下による耐久性、耐熱性等に問題が出やすく、また、上記範囲を越えると現像性が低下する問題が発生することがある。黒色色材が上記範囲未満であると遮光性が低下するため、充分な光学濃度の樹脂BMを形成するのが困難となる。逆に、上記範囲を越えると感度、解像性、現像性等の低下が激しくなるため画像形成が困難となる。   If the photopolymerization initiator is less than the above range, the sensitivity becomes low and the working efficiency is poor, and if it exceeds the above range, the coating film forming function is liable to be adversely affected. If the photopolymerizable monomer (ethylenic compound) is less than the above, problems such as durability and heat resistance due to a decrease in crosslink density are likely to occur, and if the above range is exceeded, developability may be degraded. There is. If the black color material is less than the above range, the light shielding property is lowered, and it becomes difficult to form a resin BM having a sufficient optical density. On the other hand, if the above range is exceeded, the sensitivity, resolution, developability and the like are drastically lowered, making it difficult to form an image.

本発明の光重合性組成物は通常、(a)黒色色材、(b)有機結合材(カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂)、(c)光重合開始剤(オキシムエステル系化合物)、更に必要に応じて(d)光重合性単量体(エチレン性化合物)を溶剤に溶かした状態で使用される。   The photopolymerizable composition of the present invention usually requires (a) a black color material, (b) an organic binder (epoxy acrylate resin having a carboxyl group), (c) a photopolymerization initiator (oxime ester compound), and further necessary. Depending on (d), it is used in the state which melt | dissolved the photopolymerizable monomer (ethylenic compound) in the solvent.

溶剤としては、組成物を構成する各成分を溶解または分散させることができるもので、沸点が100〜200℃の範囲のものを選択するのが好ましい。より好ましくは120〜170℃の沸点をもつものである。   As the solvent, it is preferable to select a solvent that can dissolve or disperse each component constituting the composition and has a boiling point in the range of 100 to 200 ° C. More preferably, it has a boiling point of 120-170 ° C.

このような溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−t−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、メトキシメチルペンタノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、3−メチル−3−メトキシブタノール、トリプロピレングリコールメチルエーテルのようなグリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルのようなグリコールジアルキルエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテートのようなグリコールアルキルエーテルアセテート類;
ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルエーテル、ジアミルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジヘキシルエーテルのようなエーテル類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソアミルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアミルケトン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルノニルケ
トンのようなケトン類;
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリンのような1価又は多価アルコール類;
n−ペンタン、n−オクタン、ジイソブチレン、n−ヘキサン、ヘキセン、イソプレン、ジペンテン、ドデカンのような脂肪族炭化水素類;
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキセン、ビシクロヘキシルのような脂環式炭化水素類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンのような芳香族炭化水素類;
アミルホルメート、エチルホルメート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、エチレングリコールアセテート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、イソ酪酸メチル、エチルカプリレート、ブチルステアレート、エチルベンゾエート、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトンのような鎖状又は環状エステル類;
3−メトキシプロピオン酸、3−エトキシプロピオン酸のようなアルコキシカルボン酸類;
ブチルクロライド、アミルクロライドのようなハロゲン化炭化水素類;
メトキシメチルペンタノンのようなエーテルケトン類;
アセトニトリル、ベンゾニトリルのようなニトリル類等が挙げられる。
Examples of such a solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol-t-butyl ether, diethylene glycol monomethyl. Glycol mono, such as ether, diethylene glycol monoethyl ether, methoxymethyl pentanol, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, tripropylene glycol methyl ether Alkyl ethers;
Glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether;
Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, 3- Glycol alkyl ether acetates such as methyl-3-methoxybutyl acetate;
Ethers such as diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, butyl ether, diamyl ether, ethyl isobutyl ether, dihexyl ether;
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isoamyl ketone, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl amyl ketone, methyl butyl ketone, methyl hexyl ketone, methyl nonyl ketone;
Mono- or polyhydric alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycerin;
aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-octane, diisobutylene, n-hexane, hexene, isoprene, dipentene, dodecane;
Cycloaliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexene, bicyclohexyl;
Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cumene;
Amyl formate, ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, propyl acetate, amyl acetate, ethylene glycol acetate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl butyrate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, ethyl caprylate, butyl stearate Rate, ethyl benzoate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 3-methoxy Linear or cyclic esters such as propyl propionate, butyl 3-methoxypropionate, γ-butyrolactone;
Alkoxycarboxylic acids such as 3-methoxypropionic acid and 3-ethoxypropionic acid;
Halogenated hydrocarbons such as butyl chloride and amyl chloride;
Ether ketones such as methoxymethylpentanone;
Examples thereof include nitriles such as acetonitrile and benzonitrile.

上記に該当する溶剤としては、ミネラルスピリット、バルソル#2、アプコ#18ソルベント、アプコシンナー、ソーカルソルベントNo.1及びNo.2、ソルベッソ#150、シェルTS28 ソルベント、カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、ジグライムのような商品名の市販品が挙げられる。   Solvents corresponding to the above include mineral spirit, Valsol # 2, Apco # 18 Solvent, Apco Thinner, Soal Solvent No. 1 and no. 2, Solvesso # 150, Shell TS28 Solvent, carbitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, diglyme and other commercial products.

これらの溶剤は、単独もしくは数種混合して使用することができる。本発明の光重合性組成物は、これらの溶剤を用いて、固形分濃度が5〜50重量%、好ましくは10〜30重量%の範囲となるように調液するのが望ましい。   These solvents can be used alone or in combination. The photopolymerizable composition of the present invention is desirably prepared using these solvents so that the solid content concentration is in the range of 5 to 50% by weight, preferably 10 to 30% by weight.

本発明ではこれら必須成分(a)、(b)及び(c)に、必要に応じて任意成分(d)が加えられるが、それ以外に顔料分散剤、密着向上剤、塗布性向上剤、現像改良剤等を好適に添加することができる。特に、本発明の組成物では黒色色材を微細に分散し、且つ、その分散状態を安定化させることが品質安定上重要なため顔料分散剤を配合するのが望ましい。   In the present invention, an optional component (d) is added to these essential components (a), (b) and (c) as necessary, but in addition to these, a pigment dispersant, an adhesion improver, a coatability improver, a development An improver or the like can be suitably added. In particular, in the composition of the present invention, since it is important for quality stability to finely disperse the black color material and stabilize the dispersion state, it is desirable to incorporate a pigment dispersant.

顔料分散剤は、(a)黒色色材及び(b)有機結合材の双方に親和性を有するものであり、ノニオン、カチオン、アニオン等の界面活性剤、高分子分散剤等が挙げられるが、なかでも、高分子分散剤が好ましく、特に1級、2級、若しくは3級アミノ基、ピリジン、ピリミジン、ピラジン等の含窒素ヘテロ環等の(e)塩基性官能基を有する高分子分散剤が有利に使用される。   The pigment dispersant has affinity for both (a) the black color material and (b) the organic binder, and examples thereof include surfactants such as nonions, cations and anions, and polymer dispersants. Among these, a polymer dispersant is preferable, and in particular, a polymer dispersant having a basic functional group (e) such as a primary, secondary, or tertiary amino group, a nitrogen-containing heterocycle such as pyridine, pyrimidine, and pyrazine. Advantageously used.

(e)塩基性官能基を有する高分子分散剤として好ましい化学構造を具体的に例示するならば、例えば、ポリイソシアネート化合物、分子内に水酸基を1個または2個有する化合物および同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物とを反応することによって得られる分散樹脂等が挙げられる。   (E) If the chemical structure preferable as a polymer dispersant having a basic functional group is specifically exemplified, for example, a polyisocyanate compound, a compound having one or two hydroxyl groups in the molecule, and an activity in the same molecule Examples thereof include a dispersion resin obtained by reacting hydrogen with a compound having a tertiary amino group.

上記のポリイソシアネート化合物の例としては、パラフェニレンジイソシアネート、2 ,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレン−1,5−ジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4′−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、ω,ω′−ジイソシネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、α,α,α′,α′−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニルメタン)、トリス(イソシアネートフェニル)チオホスフェート等のトリイソシアネート、およびこれらの三量体、水付加物、およびこれらのポリオール付加物等が挙げられる。ポリイソシアネートとして好ましいのは有機ジイソシアネートの三量体で、最も好ましいのはトリレンジイソシアネートの三量体とイソホロンジイソシアネートの三量体であり、これらを単独で用いても、併用してもよい。   Examples of the polyisocyanate compounds include paraphenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, and tolidine diisocyanate. Aromatic diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, lysine methyl ester diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, dimer acid diisocyanate and other aliphatic diisocyanates, isophorone diisocyanate, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), ω, ω Alicyclic diisocyanates such as '-diisocyanate dimethylcyclohexane, xylylene diisocyanate, α, α, α', α'-tetramethyl Aliphatic diisocyanates having aromatic rings such as tilxylylene diisocyanate, lysine ester triisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyloctane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate Examples thereof include triisocyanates such as isocyanate, bicycloheptane triisocyanate, tris (isocyanatephenylmethane), tris (isocyanatephenyl) thiophosphate, trimers thereof, water adducts, and polyol adducts thereof. Preferred as the polyisocyanate is a trimer of an organic diisocyanate, and most preferred is a trimer of tolylene diisocyanate and a trimer of isophorone diisocyanate, which may be used alone or in combination.

イソシアネートの三量体の製造方法としては、前記ポリイソシアネート類を適当な三量化触媒、例えば第3級アミン類、ホスフィン類、アルコキシド類、金属酸化物、カルボン酸塩類等を用いてイソシアネート基の部分的な三量化を行い、触媒毒の添加により三量化を停止させた後、未反応のポリイソシアネートを溶剤抽出、薄膜蒸留により除去して目的のイソシアヌレート基含有ポリイソシアネートを得る方法が挙げられる。   As a method for producing an isocyanate trimer, the polyisocyanate may be converted into an isocyanate group using an appropriate trimerization catalyst such as tertiary amines, phosphines, alkoxides, metal oxides, carboxylates and the like. And the trimerization is stopped by adding a catalyst poison, and then the unreacted polyisocyanate is removed by solvent extraction and thin-film distillation to obtain the desired isocyanurate group-containing polyisocyanate.

同一分子内に水酸基を1個または2個有する化合物としては、ポリエーテルグリコール、ポリエステルグリコール、ポリカーボネートグリコール、ポリオレフィングリコール等、およびこれらの化合物の片末端水酸基が炭素数1〜25のアルキル基でアルコキシ化されたものおよびこれら2種類以上の混合物が挙げられる。   Examples of compounds having one or two hydroxyl groups in the same molecule include polyether glycol, polyester glycol, polycarbonate glycol, polyolefin glycol, and the like, and one terminal hydroxyl group of these compounds is alkoxylated with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms. And mixtures of two or more of these.

ポリエーテルグリコールとしては、ポリエーテルジオール、ポリエーテルエステルジオール、およびこれら2種類以上の混合物が挙げられる。ポリエーテルジオールとしては、アルキレンオキシドを単独または共重合させて得られるもの、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレン−プロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリオキシヘキサメチレングリコール、ポリオキシオクタメチレングリコールおよびそれらの2種以上の混合物が挙げられる。   Polyether glycols include polyether diols, polyether ester diols, and mixtures of two or more of these. Examples of polyether diols are those obtained by homopolymerizing or copolymerizing alkylene oxides, such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene-propylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polyoxyhexamethylene glycol, polyoxyoctamethylene glycol and the like. The mixture of 2 or more types of these is mentioned.

ポリエーテルエステルジオールとしては、エーテル基含有ジオールもしくは他のグリコールとの混合物をジカルボン酸とまたはそれらの無水物と反応させるか、またはポリエステルグリコールにアルキレンオキシドを反応させることによって得られるもの、例えばポリ(ポリオキシテトラメチレン)アジペート等が挙げられる。ポリエーテルグリコールとして最も好ましいのはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコールまたはこれらの化合物の片末端水酸基が炭素数1〜25のアルキル基でアルコキシ化された化合物である。   Polyether ester diols include those obtained by reacting a mixture of an ether group-containing diol or other glycol with a dicarboxylic acid or an anhydride thereof, or reacting a polyester glycol with an alkylene oxide, such as poly ( And polyoxytetramethylene) adipate. Most preferred as the polyether glycol is polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol or a compound in which one terminal hydroxyl group of these compounds is alkoxylated with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms.

ポリエステルグリコールとしては、ジカルボン酸(コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、フタル酸等)またはそれらの無水物とグリコール(エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル− 2−エチル−1,3−プロパンジーオル、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、1,8−オクタメチレングリコール、2−メチル−1,8−オクタメチレングリコール、1,9−ノナンジオール等の脂肪族グリコール、ビスヒドロキシメチルシクロヘキサン等の脂環族グリコール、キシリレングリコール、ビスヒドロキシエトキシベンゼン等の芳香族グリコール、N−メチルジエタノールアミン等のN−アルキルジアルカノールアミン等)とを重縮合させて得られたもの、例えばポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリエチレン/プロピレンアジペート等、または前記ジオール類または炭素数1〜25の1価アルコールを開始剤として用いて得られるポリラクトンジオールまたはポリラクトンモノオール、例えばポリカプロラクトングリコール、ポリメチルバレロラクトンおよびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。ポリエステルグリコールとして最も好ましいのはポリカプロラクトングリコールまたは炭素数1〜25のアルコールを開始剤としたポリカプロラクトンである。   Polyester glycols include dicarboxylic acids (succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, phthalic acid, etc.) or their anhydrides and glycols (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, Dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol 2-methyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2-methyl-2,4 -Pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 1,8-octamethylene glycol Aliphatic glycols such as 2-methyl-1,8-octamethylene glycol and 1,9-nonanediol, alicyclic glycols such as bishydroxymethylcyclohexane, aromatic glycols such as xylylene glycol and bishydroxyethoxybenzene, Obtained by polycondensation with N-alkyldialkanolamine such as N-methyldiethanolamine), such as polyethylene adipate, polybutylene adipate, polyhexamethylene adipate, polyethylene / propylene adipate, or the diols or carbon Number 1-25 Polylactone diol or polylactone monool obtained by using a monovalent alcohol as an initiator, for example, polycaprolactone glycol, poly methyl valerolactone and mixtures of two or more thereof. Most preferred as the polyester glycol is polycaprolactone glycol or polycaprolactone starting with an alcohol having 1 to 25 carbon atoms.

ポリカーボネートグリコールとしては、ポリ(1,6−ヘキシレン)カーボネート、ポリ(3−メチル−1,5−ペンチレン)カーボネート等、ポリオレフィングリコールとしてはポリブタジエングリコール、水素添加型ポリブタジエングリコール、水素添加型ポリイソプレングリコール等が挙げられる。同一分子内に水酸基を1個または2個有する化合物の数平均分子量は300〜10,000、好ましくは500〜6,000、さらに好ましくは1,000〜4,000である。   Examples of polycarbonate glycol include poly (1,6-hexylene) carbonate and poly (3-methyl-1,5-pentylene) carbonate. Examples of polyolefin glycol include polybutadiene glycol, hydrogenated polybutadiene glycol, and hydrogenated polyisoprene glycol. Is mentioned. The number average molecular weight of the compound having one or two hydroxyl groups in the same molecule is 300 to 10,000, preferably 500 to 6,000, and more preferably 1,000 to 4,000.

本発明に用いられる同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物を説明する。活性水素、即ち、酸素原子、窒素原子またはイオウ原子に直接結合している水素原子としては、水酸基、アミノ基、チオール基等の官能基中の水素原子が挙げられ、中でもアミノ基、特に1級アミノ基の水素原子が好ましい。3級アミノ基は特に限定されない。また、3級アミノ基としては、炭素数1〜4のアルキル基を有するアミノ基、またはヘテロ環構造、より具体的には、イミダゾール環またはトリアゾール環が挙げられる。   A compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule used in the present invention will be described. Examples of the active hydrogen, that is, a hydrogen atom directly bonded to an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom include a hydrogen atom in a functional group such as a hydroxyl group, an amino group, and a thiol group. A hydrogen atom of an amino group is preferred. The tertiary amino group is not particularly limited. Moreover, as a tertiary amino group, the amino group which has a C1-C4 alkyl group, or a heterocyclic structure, More specifically, an imidazole ring or a triazole ring is mentioned.

このような同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物を例示するならば、N,N−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジエチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジプロピル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジブチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジメチルエチレンジアミン、N,N−ジエチルエチレンジアミン、N,N−ジプロピルエチレンジアミン、N,N−ジブチルエチレンジアミン、N,N−ジメチル−1,4−ブタンジアミン、N,N−ジエチル−1,4−ブタンジアミン、N,N−ジプロピル−1,4−ブタンジアミン、N,N−ジブチル−1,4−ブタンジアミン等が挙げられる。   Examples of such compounds having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule include N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl-1,3-propanediamine, N , N-dipropyl-1,3-propanediamine, N, N-dibutyl-1,3-propanediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N-diethylethylenediamine, N, N-dipropylethylenediamine, N, N -Dibutylethylenediamine, N, N-dimethyl-1,4-butanediamine, N, N-diethyl-1,4-butanediamine, N, N-dipropyl-1,4-butanediamine, N, N-dibutyl-1 , 4-butanediamine and the like.

また、3級アミノ基がN含有ヘテロ環であるものとして、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、インドール環、カルバゾール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチアジアゾール環等のN含有ヘテロ5員環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、アクリジン環、イソキノリン環、等のN含有ヘテロ6員環が挙げられる。これらのN含有ヘテロ環として好ましいものはイミダゾール環またはトリアゾール環である。   In addition, the tertiary amino group is an N-containing heterocycle, such as pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, indole ring, carbazole ring, indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzo Examples thereof include N-containing hetero 5-membered rings such as thiazole ring and benzothiadiazole ring, N-containing hetero 6-membered rings such as pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, acridine ring, and isoquinoline ring. Preferred as these N-containing heterocycles are an imidazole ring or a triazole ring.

これらのイミダゾール環とアミノ基を有する化合物を具体的に例示するならば、1−(3−アミノプロピル)イミダゾール、ヒスチジン、2−アミノイミダゾール、1−(2−アミノエチル)イミダゾール等が挙げられる。また、トリアゾール環とアミノ基を有する化合物を具体的に例示するならば、3−アミノ−1,2,4−トリアゾール、5−(2−アミノ−5−クロロフェニル)−3−フェニル−1H−1,2,4−トリアゾール、4−アミノ−4H−1,2,4−トリアゾール−3,5−ジオール、3−アミノ−5−フェニル−1H−1,3,4−トリアゾール、5−アミノ−1,4−ジフェニル−1,2,3−トリアゾール、3−アミノ−1−ベンジル−1H−2,4−トリアゾール等が挙げられる。   Specific examples of these compounds having an imidazole ring and an amino group include 1- (3-aminopropyl) imidazole, histidine, 2-aminoimidazole, 1- (2-aminoethyl) imidazole and the like. Further, specific examples of the compound having a triazole ring and an amino group include 3-amino-1,2,4-triazole, 5- (2-amino-5-chlorophenyl) -3-phenyl-1H-1 , 2,4-triazole, 4-amino-4H-1,2,4-triazole-3,5-diol, 3-amino-5-phenyl-1H-1,3,4-triazole, 5-amino-1 , 4-diphenyl-1,2,3-triazole, 3-amino-1-benzyl-1H-2,4-triazole and the like.

なかでも、N,N−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジエチル−1,3−プロパンジアミン、1−(3−アミノプロピル)イミダゾール、3−アミノ−1,2,4−トリアゾールが好ましい。分散剤原料の好ましい配合比率はポリイソシアネート化合物100重量部に対し、同一分子内に水酸基を1個または2個有する数平均分子量300〜10,000の化合物が10〜200重量部、好ましくは20〜190重量部、さらに好ましくは30〜180重量部、同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物は0.2〜25重量部、好ましくは0.3〜24重量部である。   Among them, N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl-1,3-propanediamine, 1- (3-aminopropyl) imidazole, 3-amino-1,2,4-triazole Is preferred. A preferable blending ratio of the dispersant raw material is 10 to 200 parts by weight, preferably 20 to 200 parts by weight of a compound having a number average molecular weight of 300 to 10,000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule with respect to 100 parts by weight of the polyisocyanate compound. 190 parts by weight, more preferably 30 to 180 parts by weight, and the compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule is 0.2 to 25 parts by weight, preferably 0.3 to 24 parts by weight.

(e)塩基性官能基を有する高分子分散剤のGPC換算重量平均分子量は1,000〜200,000、好ましくは2,000〜100,000、より好ましくは3,000〜50,000の範囲である。分子量1,000以下では分散性および分散安定性が劣り、200,000以上では溶解性が低下し分散性が劣ると同時に反応の制御が困難となる。高分子分散剤の製造はポリウレタン樹脂製造の公知の方法に従って行われる。   (E) The weight average molecular weight in terms of GPC of the polymer dispersant having a basic functional group is 1,000 to 200,000, preferably 2,000 to 100,000, more preferably 3,000 to 50,000. It is. When the molecular weight is 1,000 or less, the dispersibility and dispersion stability are poor, and when it is 200,000 or more, the solubility is lowered and the dispersibility is poor, and at the same time, the reaction is difficult to control. The polymer dispersant is produced according to a known method for producing a polyurethane resin.

製造する際の溶媒としては、通常、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン等の炭化水素類、ダイアセトンアルコール、イソプロパノール、第二ブタノール、第三ブタノール等一部のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム等の塩化物、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキサイド等の非プロトン性極性溶媒等が用いられる。   As a solvent for production, usually, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, isophorone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, benzene, toluene, xylene, hexane Hydrocarbons such as diacetone alcohol, isopropanol, sec-butanol, tert-butanol, etc., chlorides such as methylene chloride and chloroform, ethers such as tetrahydrofuran and diethyl ether, dimethylformamide, N-methyl Aprotic polar solvents such as pyrrolidone and dimethyl sulfoxide are used.

上記製造に際して、通常、ウレタン化反応触媒が用いられる。例えば、ジブチルチンジラウレート、ジオクチルチンジラウレート、ジブチルチンジオクトエート、スタナスオクトエート等の錫系、鉄アセチルアセトナート、塩化第二鉄等の鉄系、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン等の3級アミン系等が挙げられる。   In the above production, a urethanization reaction catalyst is usually used. For example, tin such as dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, dibutyltin dioctoate, stanas octoate, iron such as iron acetylacetonate and ferric chloride, tertiary amine such as triethylamine and triethylenediamine, etc. Can be mentioned.

同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物の導入量は反応後のアミン価で1〜100mgKOH/gの範囲に制御するのが好ましい。より好ましくは5〜95mgKOH/gの範囲である。アミン価は、塩基性アミノ基を酸により中和滴定し、酸価に対応させてKOHのmg数で表わした値である。アミン価が上記範囲以下であると分散能力が低下する傾向があり、また、上記範囲を超えると現像性が低下しやすくなる。なお、以上の反応で高分子分散剤にイソシアネート基が残存する場合にはさらに、アルコールやアミノ化合物でイソシアネート基を潰すと生成物の経時安定性が高くなるので好ましい。尚、高分子分散剤を使用する場合、その使用割合は(a)黒色色材に対して0.1〜30重量%が好ましく、特に0.5〜25重量%が好ましい。   The introduction amount of the compound having active hydrogen and tertiary amino group in the same molecule is preferably controlled in the range of 1 to 100 mgKOH / g in terms of the amine value after the reaction. More preferably, it is the range of 5-95 mgKOH / g. The amine value is a value obtained by neutralizing and titrating a basic amino group with an acid, and representing the acid value in mg of KOH. When the amine value is less than the above range, the dispersing ability tends to decrease, and when it exceeds the above range, the developability tends to decrease. In addition, when an isocyanate group remains in a polymer dispersing agent by the above reaction, it is preferable to crush the isocyanate group with an alcohol or an amino compound because the stability of the product with time increases. In addition, when using a polymer dispersing agent, 0.1 to 30 weight% is preferable with respect to (a) black color material, and 0.5 to 25 weight% is especially preferable.

次に本発明の光重合性組成物の製造方法について説明する。本発明においては、通常色材は、あらかじめペイントコンディショナー、サンドグラインダー、ボールミル、ロールミル、ストーンミル、ジェットミル、ホモジナイザー等を用いて分散処理するのが好ましい。分散処理により色材が微粒子化されるためレジストの塗布特性の向上が達成される。また、色材として黒色色材を使用した場合は遮光能力の向上に寄与する。   Next, the manufacturing method of the photopolymerizable composition of this invention is demonstrated. In the present invention, it is preferable to disperse the normal color material in advance using a paint conditioner, a sand grinder, a ball mill, a roll mill, a stone mill, a jet mill, a homogenizer or the like. Since the color material is finely divided by the dispersion treatment, the coating characteristics of the resist are improved. Moreover, when a black color material is used as a color material, it contributes to the improvement of light-shielding capability.

分散処理においては黒色色材と溶剤または分散機能を有する有機結合剤、あるいは前記した顔料分散剤をさらに併用した系にて処理するのが好ましい。特に高分子分散剤を用いると経時の分散安定性に優れるので好ましい。また、レジスト液として配合する全成分を同時に混合した液での分散処理は、分散時に生じる発熱のため高反応性の成分が変性するおそれがあるので好ましくない。   In the dispersion treatment, the treatment is preferably carried out in a system in which a black color material and a solvent or an organic binder having a dispersion function or the above-described pigment dispersant are further used in combination. In particular, it is preferable to use a polymer dispersant because it is excellent in dispersion stability over time. Dispersion treatment with a solution in which all components to be blended as a resist solution are mixed at the same time is not preferable because a highly reactive component may be denatured due to heat generated during dispersion.

サンドグラインダーで分散させる場合には、0.1〜8mm径のガラスビーズ又はジルコニアビーズが好ましく用いられる。分散させる条件は、通常、温度は0℃から100℃であり、好ましくは、室温から80℃の範囲である。分散時間はインキの組成(色材、溶剤、分散剤)及びサンドグラインダーの装置サイズ等により適正時間が異なるため適宜調節する。レジストの20度光沢値が100〜200の範囲となるようにインキの光沢を制御するのが分散の目安である。レジスト光沢が低い場合には分散処理が十分でなく荒い顔料粒子が残っていることが多く、現像性、密着性、解像性等の点で不十分である。また、光沢値を上記範囲を越えるまで分散処理すると超微粒子が多数生じるために却って分散安定性が損なわれることになりやすい。   In the case of dispersing with a sand grinder, glass beads or zirconia beads having a diameter of 0.1 to 8 mm are preferably used. The conditions for the dispersion are usually that the temperature is from 0 ° C. to 100 ° C., and preferably from room temperature to 80 ° C. The dispersion time is appropriately adjusted because the appropriate time varies depending on the composition of the ink (coloring material, solvent, dispersant) and the size of the sand grinder. The standard of dispersion is to control the gloss of the ink so that the 20-degree gloss value of the resist is in the range of 100 to 200. When the resist gloss is low, the dispersion treatment is not sufficient and rough pigment particles often remain, which is insufficient in terms of developability, adhesion, resolution, and the like. In addition, when the dispersion treatment is performed until the gloss value exceeds the above range, a large number of ultrafine particles are generated, and the dispersion stability tends to be impaired.

次に上記分散処理により得られたインキとレジスト成分として必要な上記の他の成分を添加、混合し均一な溶液とする。製造工程においては微細なゴミが感光液に混じることが多いため、得られたレジスト感光液はフィルター等により濾過処理するのが望ましい。続いて、本発明の光重合性組成物を用いたカラーフィルターの製造方法について説明する。   Next, the ink obtained by the above dispersion treatment and the above-mentioned other components necessary as a resist component are added and mixed to obtain a uniform solution. In the manufacturing process, fine dust is often mixed with the photosensitive solution. Therefore, the obtained resist photosensitive solution is preferably filtered through a filter or the like. Then, the manufacturing method of the color filter using the photopolymerizable composition of this invention is demonstrated.

以下、本発明の光重合性組成物の応用例について説明する。   Hereinafter, application examples of the photopolymerizable composition of the present invention will be described.

[1]カラーフィルター
まず、透明基板上に、本発明の光重合性組成物をスピナー,ワイヤーバー,フローコーター,ダイコーター,ロールコーター,スプレー等の塗布装置により塗布して乾燥した後、該試料の上にフォトマスクを置き、該フォトマスクを介して画像露光,現像,必要に応じて熱硬化或いは光硬化により遮光用BM画像を形成させ、さらにこの操作をRGB3色について各々繰り返し、カラーフィルター画像を形成させる。
[1] Color filter First, the photopolymerizable composition of the present invention is coated on a transparent substrate with a coating device such as a spinner, a wire bar, a flow coater, a die coater, a roll coater, or a spray, and then dried. A photomask is placed on the surface, and a light-shielding BM image is formed through image exposure, development, and heat curing or photocuring as necessary through the photomask, and this operation is repeated for each of the three RGB colors. To form.

[1−1]光重合性組成物の塗布及び乾燥
なお、本発明の光重合性組成物を用いてカラーフィルターの画素を形成する場合には、非常に高感度、高解像力であるため、ポリビニルアルコール等の酸素遮断層を設けることなしに露光、現像して画像を形成することが可能である。ここで用いる透明基板は、カラーフィルター用の透明基板であり、その材質は特に限定されるものではないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン等、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン等の熱可塑性プラスチックシート、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ(メタ)アクリル樹脂等の熱硬化性プラスチックシート、或いは各種ガラス板等を挙げることができる。特に、耐熱性の点からガラス板、耐熱性プラスチックが好ましく用いられる。
[1-1] Application and Drying of Photopolymerizable Composition In addition, when forming a pixel of a color filter using the photopolymerizable composition of the present invention, it has very high sensitivity and high resolution. An image can be formed by exposure and development without providing an oxygen barrier layer such as alcohol. The transparent substrate used here is a transparent substrate for a color filter, and its material is not particularly limited. For example, polyester such as polyethylene terephthalate, polypropylene, polyolefin such as polyethylene, polycarbonate, polymethyl methacrylate, A thermoplastic plastic sheet such as polysulfone, an epoxy resin, a polyester resin, a thermosetting plastic sheet such as poly (meth) acrylic resin, or various glass plates can be used. In particular, a glass plate and a heat resistant plastic are preferably used from the viewpoint of heat resistance.

このような透明基板には、表面の接着性等の物性を改良するために、あらかじめ、コロナ放電処理、オゾン処理、シランカップリング剤やウレタンポリマー等の各種ポリマーの薄膜処理等を行うこともできる。塗布方法は特に限定されないが、塗布、乾燥後の樹脂ブラックマトリックスの膜厚が0.1〜2μm、好ましくは0.1〜1.5μm、さらに好ましくは0.1〜1μmの範囲とするのがよい。尚、本発明のカラーフィルターは、遮光性の点から膜厚1μmにおいて、光学濃度が3.0以上であるのが好ましい。又、顔料等の固型分の分散状態の指標として、BMの20度光沢値が100〜200であるのが有利である。   In order to improve physical properties such as surface adhesion, such a transparent substrate can be previously subjected to corona discharge treatment, ozone treatment, thin film treatment of various polymers such as silane coupling agents and urethane polymers, and the like. . The coating method is not particularly limited, but the thickness of the resin black matrix after coating and drying is 0.1 to 2 μm, preferably 0.1 to 1.5 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. Good. The color filter of the present invention preferably has an optical density of 3.0 or more at a film thickness of 1 μm from the viewpoint of light shielding properties. Further, it is advantageous that the 20 degree gloss value of BM is 100 to 200 as an indicator of the dispersion state of solid components such as pigments.

[1−2]露光及び現像
乾燥においてはホットプレート、IRオーブン、コンベクションオーブン等を用いることができ、好ましい乾燥条件は40〜150℃、乾燥時間は10秒〜60分の範囲である。また、露光に用いる光源は、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯等のランプ光源やアルゴンイオンレーザー、YAGレーザー、エキシマーレーザー、窒素レーザー等のレーザー光源等が挙げられる。特定の照射光の波長のみを使用する場合には光学フィルターを利用することもできる。
[1-2] Exposure and development In drying, a hot plate, an IR oven, a convection oven, or the like can be used. Preferred drying conditions are 40 to 150 ° C., and the drying time is in the range of 10 seconds to 60 minutes. The light source used for exposure is, for example, a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a medium-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, or the like, an argon ion laser, a YAG laser, an excimer laser, Examples include a laser light source such as a nitrogen laser. An optical filter can also be used when only the wavelength of specific irradiation light is used.

現像処理は、未露光部のレジスト膜を溶解させる能力のある溶剤であれば特に制限は受けない。例えばアセトン、塩化メチレン、トリクレン、シクロヘキサノン等の有機溶剤を使用することができる。しかしながら、有機溶剤は環境汚染、人体に対する有害性、火災危険性などをもつものが多いため、このような危険性の無いアルカリ現像液を使用するの方が好ましい。このようなアルカリ現像液として、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機のアルカリ剤、或いはジエタノールアミン、トリエタノールアミン、水酸化テトラアルキルアンモニウム塩等の有機のアルカリ剤を含有した水溶液が挙げられる。アルカリ現像液には、必要に応じ、界面活性剤、水溶性の有機溶剤、水酸基又はカルボキシル基を有する低分子化合物等を含有させることもできる。特に、界面活性剤は現像性、解像性、地汚れなどに対して改良効果をもつものが多いため添加するのは好ましい。   The development treatment is not particularly limited as long as it is a solvent capable of dissolving the resist film in the unexposed area. For example, an organic solvent such as acetone, methylene chloride, trichlene, and cyclohexanone can be used. However, since many organic solvents have environmental pollution, harmfulness to human body, fire risk, etc., it is preferable to use an alkaline developer without such danger. Examples of such an alkali developer include inorganic alkali agents such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or diethanolamine, triethanolamine, tetraalkylammonium hydroxide salt, etc. And an aqueous solution containing an organic alkali agent. If necessary, the alkaline developer may contain a surfactant, a water-soluble organic solvent, a low molecular compound having a hydroxyl group or a carboxyl group, and the like. In particular, it is preferable to add a surfactant since many surfactants have an improving effect on developability, resolution, and background stains.

例えば、現像液用の界面活性剤としては、ナフタレンスルホン酸ナトリウム基、ベンゼンスルホン酸ナトリウム基を有するアニオン性界面活性剤、ポリアルキレンオキシ基を有するノニオン性界面活性剤、テトラアルキルアンモニウム基を有するカチオン性界面活性剤等を挙げることができる。現像処理方法については特に制限は無いが、通常、10〜50℃、好ましくは15〜45℃の現像温度で、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の方法により行われる。   For example, as a surfactant for a developer, an anionic surfactant having a sodium naphthalenesulfonate group, a sodium benzenesulfonate group, a nonionic surfactant having a polyalkyleneoxy group, a cation having a tetraalkylammonium group Can be mentioned. Although there is no restriction | limiting in particular about the image development processing method, Usually, it is carried out by methods, such as immersion image development, spray image development, brush image development, ultrasonic wave development, at 10-50 degreeC, Preferably it is 15-45 degreeC.

[2]液晶表示装置(パネル)
本発明の液晶表示装置は、前記のカラーフィルターを使用して、次の様にして製造することが出来る。 先ず、カラーフィルター上に配向膜を形成し、この配向膜上にスペーサーを配置した後、対向基板と貼り合わせて液晶セルを形成する。次いで、形成した液晶セルに液晶を注入し、対向電極に結線して完成する。
[2] Liquid crystal display device (panel)
The liquid crystal display device of the present invention can be manufactured as follows using the color filter. First, an alignment film is formed on a color filter, a spacer is disposed on the alignment film, and then a liquid crystal cell is formed by being bonded to a counter substrate. Next, liquid crystal is injected into the formed liquid crystal cell and connected to the counter electrode to complete.

配向膜は、ポリイミド等の樹脂膜が好適である。配向膜の形成には、通常、グラビア印刷法やフレキソ印刷法が採用され、配向膜の厚さは、通常、10〜100nmとされる。熱焼成によって配向膜の硬化処理を行った後、紫外線の照射やラビング布による処理によって表面処理し、液晶の傾きを調節し得る表面状態に加工される。   The alignment film is preferably a resin film such as polyimide. For the formation of the alignment film, a gravure printing method or a flexographic printing method is usually employed, and the thickness of the alignment film is usually 10 to 100 nm. After the alignment film is cured by thermal baking, it is surface-treated by irradiation with ultraviolet rays or a rubbing cloth to be processed into a surface state capable of adjusting the tilt of the liquid crystal.

スペーサーは、対向基板とのギャップ(隙間)に応じた大きさのものが使用され、通常2〜8μmのものが好適である。カラーフィルター基板上に、フォトリソグラフィ法によって透明樹脂膜のフォトスペーサー(PS)を形成し、これをスペーサーの代わりに活用することも出来る。対向基板としては、通常、アレイ基板が使用され、特にTFT(薄膜トランジスター)基板が好適である。   A spacer having a size corresponding to a gap (gap) with the counter substrate is used, and a spacer of 2 to 8 μm is usually preferable. A photo spacer (PS) of a transparent resin film is formed on the color filter substrate by photolithography, and this can be used instead of the spacer. As the counter substrate, an array substrate is usually used, and a TFT (thin film transistor) substrate is particularly preferable.

対向基板との貼り合わせのギャップは、液晶表示装置の用途によって異なるが、通常2〜8μmの範囲で選ばれる。対向基板と貼り合わせた後、液晶注入口以外の部分は、エポキシ樹脂などのシール材によって封止する。シール材は、UV照射および/または加熱によって硬化させ、液晶セル周辺がシールされる。   The gap for bonding to the counter substrate varies depending on the use of the liquid crystal display device, but is usually selected in the range of 2 to 8 μm. After bonding to the counter substrate, portions other than the liquid crystal injection port are sealed with a sealing material such as an epoxy resin. The sealing material is cured by UV irradiation and / or heating, and the periphery of the liquid crystal cell is sealed.

周辺がシールされた液晶セルは、パネル単位に切断した後、真空チャンバー内で減圧とし、上記の液晶注入口を液晶に浸漬した後、チャンバー内をリークすることによって、液晶セル内に液晶を注入する。液晶セル内の減圧度は、通常1×10-2〜1×10-7Pa、好ましくは1×10-3〜1×10-6Paである。また、減圧時に液晶セルを加温するのが好ましく、加温温度は、通常30〜100℃、好ましくは50〜90℃である。減圧時の加温保持は、通常10〜60分間の範囲とされ、その後に液晶中に浸漬される。液晶が注入された液晶セルは、UV硬化樹脂の硬化により、液晶注入口を封止することによって、液晶表示装置(パネル)が完成する。 The liquid crystal cell whose periphery is sealed is cut into panel units, then the pressure is reduced in the vacuum chamber, the liquid crystal injection port is immersed in the liquid crystal, and then the liquid crystal is injected into the liquid crystal cell by leaking in the chamber. To do. The degree of vacuum in the liquid crystal cell is usually 1 × 10 −2 to 1 × 10 −7 Pa, preferably 1 × 10 −3 to 1 × 10 −6 Pa. Moreover, it is preferable to heat a liquid crystal cell at the time of pressure reduction, and heating temperature is 30-100 degreeC normally, Preferably it is 50-90 degreeC. The warming holding at the time of depressurization is usually in the range of 10 to 60 minutes, and then immersed in the liquid crystal. In the liquid crystal cell into which the liquid crystal is injected, a liquid crystal display device (panel) is completed by sealing the liquid crystal injection port by curing the UV curable resin.

液晶の種類は、特に制限されず、芳香族系、脂肪族系、多環状化合物など、従来公知の液晶であって、リオトロピック液晶、サーモトロピック液晶などの何れでもよい。サーモトロピック液晶には、ネマティック液晶、スメスティック液晶、コレステリック液晶などが知られているが、これらの何れであってもよい。   The type of the liquid crystal is not particularly limited, and is a conventionally known liquid crystal such as an aromatic, aliphatic, or polycyclic compound, and may be any of a lyotropic liquid crystal, a thermotropic liquid crystal, and the like. As the thermotropic liquid crystal, nematic liquid crystal, smectic liquid crystal, cholesteric liquid crystal and the like are known, but any of these may be used.

[3]フォトスペーサー
[3−1]基板への供給方法
本発明の樹脂組成物は、通常溶剤に溶解或いは分散された状態で、基板上へ供給される。その供給方法としては、従来公知の方法、例えば、スピナー法、ワイヤーバー法、フローコート法、ダイコート法、ロールコート法、スプレーコート法などによって行うことができる。中でも、ダイコート法によれば、塗布液使用量が大幅に削減され、かつ、スピンコート法によった際に付着するミストなどの影響が全くない、異物発生が抑制されるなど、総合的な観点から好ましい。塗布量は、乾燥膜厚として、通常、0.5〜10μm、好ましくは1〜8μm、特に好ましくは1〜5μmの範囲である。また乾燥膜厚あるいは最終的に形成されたスペーサーの高さが、基板全域に渡って均一であることが重要である。ばらつきが大きい場合には、液晶パネルにムラ欠陥を生ずることとなる。またインクジェット法や印刷法などにより、パターン状に供給されても良い。
[3] Photospacer [3-1] Supplying Method to Substrate The resin composition of the present invention is usually supplied onto the substrate in a state dissolved or dispersed in a solvent. As the supply method, a conventionally known method such as a spinner method, a wire bar method, a flow coating method, a die coating method, a roll coating method, a spray coating method, or the like can be used. Above all, according to the die coating method, the amount of coating solution used is greatly reduced, there is no influence of mist adhering to the spin coating method, and the generation of foreign matter is suppressed. To preferred. The coating amount is usually in the range of 0.5 to 10 μm, preferably 1 to 8 μm, particularly preferably 1 to 5 μm as a dry film thickness. It is also important that the dry film thickness or the height of the finally formed spacer is uniform across the entire substrate. When the variation is large, a nonuniformity defect occurs in the liquid crystal panel. Further, it may be supplied in a pattern by an inkjet method or a printing method.

[3−2]乾燥方法
基板上に樹脂組成物を供給した後の乾燥は、ホットプレート、IRオーブン、コンベクションオーブンを使用した乾燥法によるのが好ましい。また温度を高めず、減圧チャンバー内で乾燥を行う、減圧乾燥法を組み合わせても良い。乾燥の条件は、溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて適宜選択することができる。乾燥時間は、溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて、通常は、40〜100℃の温度で15秒〜5分間の範囲で選ばれ、好ましくは50〜90℃の温度で30秒〜3分間の範囲で選ばれる。
[3-2] Drying method The drying after supplying the resin composition onto the substrate is preferably performed by a drying method using a hot plate, an IR oven, or a convection oven. Moreover, you may combine the reduced pressure drying method of drying in a reduced pressure chamber, without raising temperature. Drying conditions can be appropriately selected according to the type of solvent component, the performance of the dryer used, and the like. The drying time is usually selected within a range of 15 seconds to 5 minutes at a temperature of 40 to 100 ° C., preferably 50 to 90 ° C., depending on the type of solvent component, the performance of the dryer used, and the like. It is selected in the range of 30 seconds to 3 minutes.

[3−3]露光方法
露光は、樹脂組成物の塗布膜上に、ネガのマスクパターンを重ね、このマスクパターンを介し、紫外線または可視光線の光源を照射して行う。またレーザー光による走査露光方式によっても良い。この際、必要に応じ、酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐため、光重合性層上にポリビニルアルコール層などの酸素遮断層を形成した後に露光を行ってもよい。上記の露光に使用される光源は、特に限定されるものではない。光源としては、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、蛍光ランプなどのランプ光源や、アルゴンイオンレーザー、YAGレーザー、エキシマレーザー、窒素レーザー、ヘリウムカドミニウムレーザー、青紫色半導体レーザー、近赤外半導体レーザーなどのレーザー光源などが挙げられる。特定の波長の光を照射して使用する場合には、光学フィルタを利用することもできる。
[3-3] Exposure Method Exposure is performed by superimposing a negative mask pattern on the coating film of the resin composition and irradiating an ultraviolet or visible light source through the mask pattern. Further, a scanning exposure method using a laser beam may be used. At this time, if necessary, exposure may be performed after an oxygen blocking layer such as a polyvinyl alcohol layer is formed on the photopolymerizable layer in order to prevent a decrease in sensitivity of the photopolymerizable layer due to oxygen. The light source used for said exposure is not specifically limited. As the light source, for example, a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a medium pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a fluorescent lamp, a lamp light source, an argon ion laser, a YAG laser, Examples include laser light sources such as excimer laser, nitrogen laser, helium cadmium laser, blue-violet semiconductor laser, and near infrared semiconductor laser. An optical filter can also be used when used by irradiating light of a specific wavelength.

[3−4]現像方法
上記の露光を行った後、アルカリ性化合物と界面活性剤とを含む水溶液、または有機溶剤を用いる現像によって、基板上に画像パターンを形成することができる。この水溶液には、さらに有機溶剤、緩衝剤、錯化剤、染料または顔料を含ませることができる。
[3-4] Development Method After performing the above exposure, an image pattern can be formed on the substrate by development using an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant or an organic solvent. This aqueous solution may further contain an organic solvent, a buffering agent, a complexing agent, a dye or a pigment.

アルカリ性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、水酸化アンモニウムなどの無機アルカリ性化合物や、モノ−・ジ−またはトリエタノールアミン、モノ−・ジ−またはトリメチルアミン、モノ−・ジ−またはトリエチルアミン、モノ−またはジイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノ−・ジ−またはトリイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)、コリンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられる。これらのアルカリ性化合物は、2種以上の混合物であってもよい。   Alkaline compounds include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium phosphate Inorganic alkaline compounds such as sodium hydrogen phosphate, potassium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, ammonium hydroxide, mono-di- or triethanolamine, mono-di- or trimethylamine Mono-di- or triethylamine, mono- or diisopropylamine, n-butylamine, mono-di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediimine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), co The organic alkaline compound such emissions and the like. These alkaline compounds may be a mixture of two or more.

界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類などのノニオン系界面活性剤、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類などのアニオン性界面活性剤、アルキルベタイン類、アミノ酸類などの両性界面活性剤が挙げられる。   Examples of the surfactant include nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, monoglyceride alkyl esters, and alkylbenzene sulfonic acids. Examples include anionic surfactants such as salts, alkylnaphthalene sulfonates, alkyl sulfates, alkyl sulfonates, and sulfosuccinate esters, and amphoteric surfactants such as alkylbetaines and amino acids.

有機溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。有機溶剤は、単独でも水溶液と併用して使用できる。   Examples of the organic solvent include isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, diacetone alcohol and the like. The organic solvent can be used alone or in combination with an aqueous solution.

[3−5]熱硬化処理
現像の後の基板には、熱硬化処理を施すのが好ましい。この際の熱硬化処理条件は、温度は100〜280℃の範囲、好ましくは150〜250℃の範囲で選ばれ、時間は5〜60分間の範囲で選ばれる。
[3-5] Thermosetting treatment The substrate after development is preferably subjected to thermosetting treatment. The thermosetting treatment conditions in this case are selected such that the temperature is in the range of 100 to 280 ° C, preferably 150 to 250 ° C, and the time is in the range of 5 to 60 minutes.

[4]リブ(液晶分割配向突起)
リブ(液晶分割配向突起)とは、液晶表示装置の視野角を改善するために、透明電極上に形成する突起をいい、前記突起のスロープを利用して液晶を局所的に傾け、一画素内で液晶を多方向に分割させるものである。以下、リブの形成方法を詳述する。
[4] Ribs (Liquid crystal alignment protrusions)
Ribs (liquid crystal split alignment protrusions) are protrusions formed on a transparent electrode in order to improve the viewing angle of a liquid crystal display device, and the liquid crystal is locally tilted using the slope of the protrusions within one pixel. The liquid crystal is divided into multiple directions. Hereinafter, a method for forming the rib will be described in detail.

[4−1]塗布及び現像工程
ブラックマトリクスとレッド、ブルー、グリーンのカラーフィルターを設け、さらにその上に、150nm厚のITOを蒸着した通常0.1〜2mm厚透明基板上に、本発明の感光性組成物をスピナー、ワイヤーバー、フローコーター、ダイコーター、ロールコーター、スプレー等の塗布装置を用いて塗布する。組成物の塗布膜厚は通常0.5〜5μmである。該組成物からなる塗布膜を乾燥した後、乾燥塗膜上にフォトマスクを置き、該フォトマスクを介して画像露光する。露光後、未露光の未硬化部分を現像にて除去することにより、画素を形成する。通常、現像後得られる画像は、5〜20μmの巾の細線再現性が求められ、高画質のディスプレーの要求からより高精細な細線再現性が要求さる傾向にある。高精細な細線を安定し再現する上で、現像後の細線画像の断面形状は、非画像と画像部のコントラストが明瞭な矩形型が、現像時間、現像液経時、現像シャワーの物理刺激などの現像マージンが広く好ましい。
[4-1] Application and development process A black matrix and red, blue, and green color filters are provided, and a 150-nm thick ITO is vapor-deposited thereon. The photosensitive composition is applied using an application device such as a spinner, a wire bar, a flow coater, a die coater, a roll coater, or a spray. The coating film thickness of the composition is usually 0.5 to 5 μm. After the coating film made of the composition is dried, a photomask is placed on the dried coating film, and image exposure is performed through the photomask. After exposure, an unexposed uncured portion is removed by development to form a pixel. Usually, an image obtained after development is required to have a fine line reproducibility with a width of 5 to 20 μm, and there is a tendency that a finer fine line reproducibility is required due to a demand for a high-quality display. In order to stably reproduce high-definition fine lines, the cross-sectional shape of the fine line image after development is a rectangular shape with a clear contrast between the non-image and the image area, such as development time, developer aging, physical stimulation of the development shower, etc. A wide development margin is preferable.

[4−2]加熱工程
本発明では、現像後の画像は、矩形型に近い断面形状を有している。リブの形状に必要なアーチ状の形状を得るために、通常150℃以上、好ましくは180℃以上、更に好ましくは200℃以上、通常400℃以下、好ましくは300℃以下、更に好ましくは28 0℃以下で、且つ、通常10分以上、好ましくは15分以上、さらに好ましくは20分以上、通常120分以下、好ましくは60分以下、更に好ましくは40分以下の加熱処理を施し、矩形状の断面形状をアーチ状の形状に変形させ、巾0.5〜20μm高さ0.2〜5μmのリブを形成させる。この加熱時の変形の範囲としては感光性組成物と加熱条件を適宜調整し、加熱前の細線画像(矩形画像断面形状)の側面と基板平面から形成される接触角(W1)が上記加熱処理後の細線画像の側面と基板平面から形成される接触角(W2)を比較した場合、W1/W2が1.2以上、好ましくは1.3以上、更に好ましくは1.5以上、通常10以下、好ましくは8以下になるようにする。加熱温度が高い程、又は加熱時間が長い程変形率が大きく、反対に加熱温度が低い程、又は加熱時間が短い程その変形率は低い。
[4-2] Heating Process In the present invention, the developed image has a cross-sectional shape close to a rectangular shape. In order to obtain an arched shape necessary for the rib shape, it is usually 150 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher, usually 400 ° C. or lower, preferably 300 ° C. or lower, more preferably 280 ° C. In the following, a heat treatment is performed for 10 minutes or more, preferably 15 minutes or more, more preferably 20 minutes or more, usually 120 minutes or less, preferably 60 minutes or less, more preferably 40 minutes or less, and a rectangular cross section. The shape is deformed into an arch shape to form ribs having a width of 0.5 to 20 μm and a height of 0.2 to 5 μm. As the range of deformation during heating, the photosensitive composition and heating conditions are appropriately adjusted, and the contact angle (W1) formed from the side surface of the thin line image (rectangular image cross-sectional shape) before heating and the substrate plane is the above heat treatment. When the contact angle (W2) formed from the side surface of the subsequent thin line image and the substrate plane is compared, W1 / W2 is 1.2 or more, preferably 1.3 or more, more preferably 1.5 or more, usually 10 or less. , Preferably 8 or less. The higher the heating temperature or the longer the heating time, the higher the deformation rate. Conversely, the lower the heating temperature or the shorter the heating time, the lower the deformation rate.

以下実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated still in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.

合成例−1(高分子分散剤溶液の調製)
トリレンジイソシアネートの三量体(三菱化学社製、マイテックGP750A、樹脂固形分50重量%、酢酸ブチル溶液)32gと触媒としてジブチルチンジラウレート0.02gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)47gで希釈溶解した。攪拌下に、これに、片末端がメトキシ基となっている数平均分子量1,000のポリエチレングリコール(日本油脂社製、ユニオックスM−1000)14.4gと数平均分子量1,000のポリプロピレングリコール(三洋化成工業社製、サンニックスPP−1000)9.6gとの混合物を滴下した後、70℃でさらに3時間反応させた。次に、N,N−ジメチルアミノ−1,3−プロパンジアミン1gを加え、40℃でさらに1時間反応させた。このようにして得られた高分子分散剤を含有する溶液のアミン価を中和滴定によりもとめたところ14mgKOH/gであった。また、樹脂含有量をドライアップ法(150℃で30分間、ホットプレート上で溶剤を除去し重量変化量により樹脂濃度を算出)により求めたところ40重量%であった。
Synthesis Example 1 (Preparation of polymer dispersant solution)
32 g of tolylene diisocyanate trimer (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., Mytec GP750A, resin solid content 50 wt%, butyl acetate solution) and 0.02 g of dibutyltin dilaurate as a catalyst were diluted with 47 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) Dissolved. While stirring, 14.4 g of polyethylene glycol (manufactured by NOF Corporation, UNIOX M-1000) having a methoxy group at one end and polypropylene glycol having a number average molecular weight of 1,000. After adding 9.6 g of a mixture with Sanyo Chemical Industries, Ltd. (SANNICS PP-1000), the mixture was further reacted at 70 ° C. for 3 hours. Next, 1 g of N, N-dimethylamino-1,3-propanediamine was added, and the mixture was further reacted at 40 ° C. for 1 hour. The amine value of the solution containing the polymer dispersant thus obtained was determined by neutralization titration to be 14 mg KOH / g. The resin content was 40% by weight as determined by the dry-up method (at 150 ° C. for 30 minutes, the solvent was removed on a hot plate and the resin concentration was calculated from the amount of change in weight).

合成例−2(有機結合材の合成)
エポキシ当量200g/eq、軟化点65℃のo−クレゾールノボラックエポキシ樹脂200g、アクリル酸72g、p−メトキシフェノール0.2g、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド0.2g、PGMEA272gをフラスコに仕込み100℃の温度で8時間反応させた(エポキシ基1当量に対し、アクリル酸1当量が反応)。さらに、テトラヒドロ無水フタル酸42gを加え80℃で3時間反応させた。この反応液を水に再沈殿、真空乾燥させてカルボキシル基を有するノボラックエポキシアクリレート樹脂を得た。KOHによる中和滴定を行ったところ樹脂の酸価は50mgKOH/gであった。
Synthesis Example 2 (Synthesis of organic binder)
200 g / eq of epoxy equivalent, 200 g of o-cresol novolak epoxy resin having a softening point of 65 ° C., 72 g of acrylic acid, 0.2 g of p-methoxyphenol, 0.2 g of dodecyltrimethylammonium chloride, and 272 g of PGMEA were charged in a flask at a temperature of 100 ° C. The reaction was continued for 1 hour (1 equivalent of acrylic acid reacted with 1 equivalent of epoxy group). Further, 42 g of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 80 ° C. for 3 hours. This reaction solution was re-precipitated in water and vacuum-dried to obtain a novolak epoxy acrylate resin having a carboxyl group. When neutralization titration with KOH was performed, the acid value of the resin was 50 mgKOH / g.

(カーボンブラックの分散)
カラー用カーボンブラック(三菱化学社製、MA−220)50重量部、合成例−1に示した高分子分散剤を固形分として5重量部の割合で、かつ固形分濃度が50重量%となるようにカーボンブラック、高分子分散剤溶液及びPGMEAを加えた。分散液の全重量は50gであった。これを攪拌機によりよく攪拌しプレミキシングを行った。
(Dispersion of carbon black)
Carbon black for color (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., MA-220) 50 parts by weight, the polymer dispersant shown in Synthesis Example-1 as a solid content at a ratio of 5 parts by weight, and the solid content concentration becomes 50% by weight Carbon black, polymer dispersant solution and PGMEA were added as described above. The total weight of the dispersion was 50 g. This was thoroughly stirred with a stirrer and premixed.

次に、ペイントシェーカーにより25〜45℃の範囲で6時間分散処理を行った。ビーズは0.5mmφのジルコニアビーズを用い、分散液と同じ重量を加えた。分散終了後、フィルターによりビーズと分散液を分離した。   Next, the dispersion process was performed in the range of 25-45 degreeC with the paint shaker for 6 hours. As beads, 0.5 mmφ zirconia beads were used, and the same weight as the dispersion was added. After the completion of dispersion, the beads and the dispersion were separated by a filter.

合成例−3(オキシムエステル系化合物C−1の合成)
[1]カルバゾール誘導体(ケトン)の製造
エチルカルバゾール3.9g(20mmol)をジクロロメタン20mlに溶解し、塩化アルミニウム2.9g(22mmol)を加えた。氷浴で冷却しながらo−メチルベンゾイルクロライド4.1g(22mmol)を反応液を5℃以下に保ちながら滴下した。1時間かけて徐々に室温まで上げながら攪拌し、その後室温でさらに3時間反応させた。さらに反応液を氷浴で冷却し、塩化アルミニウム2.9g(22mmol)を加えた後、氷浴で冷却しながらメタクリル酸クロライド2.3g(22mmol)を、反応液の温度を5℃以下に保ちながら滴下した。1時間かけて徐々に室温まで上げながら攪拌し、その後室温でさらに3時間反応させた。
Synthesis Example 3 (Synthesis of oxime ester compound C-1)
[1] Production of carbazole derivative (ketone) 3.9 g (20 mmol) of ethylcarbazole was dissolved in 20 ml of dichloromethane, and 2.9 g (22 mmol) of aluminum chloride was added thereto. While cooling in an ice bath, 4.1 g (22 mmol) of o-methylbenzoyl chloride was added dropwise while keeping the reaction solution at 5 ° C or lower. The mixture was stirred while gradually raising to room temperature over 1 hour, and then reacted at room temperature for another 3 hours. Further, the reaction solution was cooled in an ice bath, and after adding 2.9 g (22 mmol) of aluminum chloride, 2.3 g (22 mmol) of methacrylic acid chloride was kept at 5 ° C. or lower while cooling in the ice bath. While dripping. The mixture was stirred while gradually raising to room temperature over 1 hour, and then reacted at room temperature for another 3 hours.

反応液を氷水150mlに滴下し、酢酸エチル100mlを加え抽出し、さらに水層を酢酸エチル50mlで抽出し、有機層を合わせて、10%炭酸ナトリウム水溶液150mlで抽出した。さらに有機層を水150mlで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレータで溶媒溜去したところ橙赤色オイルが得られた。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=1/1)にて生成を行い、淡黄色固体(1)3.1g、及び淡黄色固体(2)0.7gを得た。得られた固体(1)及び固体(2)について、NMRスペクトル分析を行い、下記の結果(シフト値)を得た。
固体(1);7.9-8.8,m,3H; 7.4,m,7H; 5.9(1H, ) 5.6,s,1H; 5.6,s,1H; 4.4(2H, ), 2.4,s,3H; 2.1,2.4,d3H,1.5,t,3H
固体(2); 8.6,dd,1H; 8.0,dd,1H; 7.9,d,1H; 7.4,m,6H; 4.5,q,2H; 3.6,d,2H, 2.6,s,1H; 2.4,s,3H; 2.2,s,3H; 1.5,t,3H
上記NMR分析結果から、淡黄色固体(1)は、3−メタクリロイル−9−エチル−6−(o−トルオイル)−9H−カルバゾールと同定された。淡黄色固体(2)は、下記式で示されるケトン化合物であることが確認された。
The reaction solution was added dropwise to 150 ml of ice water, 100 ml of ethyl acetate was added for extraction, the aqueous layer was further extracted with 50 ml of ethyl acetate, and the organic layers were combined and extracted with 150 ml of 10% aqueous sodium carbonate solution. Further, the organic layer was extracted with 150 ml of water, the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off with an evaporator to obtain an orange-red oil. It was generated by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / n-hexane = 1/1) to obtain 3.1 g of pale yellow solid (1) and 0.7 g of pale yellow solid (2). About the obtained solid (1) and solid (2), NMR spectrum analysis was performed and the following result (shift value) was obtained.
Solid (1); 7.9-8.8, m, 3H; 7.4, m, 7H; 5.9 (1H,) 5.6, s, 1H; 5.6, s, 1H; 4.4 (2H,), 2.4, s, 3H; 2.1, 2.4, d3H, 1.5, t, 3H
Solid (2); 8.6, dd, 1H; 8.0, dd, 1H; 7.9, d, 1H; 7.4, m, 6H; 4.5, q, 2H; 3.6, d, 2H, 2.6, s, 1H; 2.4, s , 3H; 2.2, s, 3H; 1.5, t, 3H
From the NMR analysis results, the pale yellow solid (1) was identified as 3-methacryloyl-9-ethyl-6- (o-toluoyl) -9H-carbazole. The pale yellow solid (2) was confirmed to be a ketone compound represented by the following formula.

Figure 2006036750
Figure 2006036750

[2]オキシムエステル化合物の製造
上記淡黄色固体(2)(0.38g,0.001mol)をエタノール5mlに溶解し、塩酸ヒドロキシルアミン(0.075g,0.00105mol)、ピリジン(0.084g,0.00105mol)を加え、2時間還流した。エタノールを留去したのち、水を加えて無機物を溶解し、濾過した。濾過物を酢酸エチルに溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥し、エバポレートしてオキシム体を得た。得られた固体をTHF3mlに溶解し、アセチルクロライド(0.23g,0.0022mol)を加え攪拌した。反応液にトリエチルアミン(0.21g,0.0023mol)を室温で滴下した。滴下とともに塩の沈降が認められた。2時間攪拌後、水20mlを入れ、酢酸エチル40mlで抽出した。有機層を水20mlで2回洗浄、飽和炭酸カリウム水溶液20mlで2回洗浄を行い、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートした。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて(展開溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=1/1)にて精製を行い、淡黄色固体(3)0.3gを得た。
[2] Production of Oxime Ester Compound The pale yellow solid (2) (0.38 g, 0.001 mol) was dissolved in 5 ml of ethanol, hydroxylamine hydrochloride (0.075 g, 0.00105 mol), pyridine (0.084 g, 0.00105 mol) was added and refluxed for 2 hours. After distilling off ethanol, water was added to dissolve the inorganic substance, followed by filtration. The filtrate was dissolved in ethyl acetate, dried over magnesium sulfate, and evaporated to obtain an oxime form. The obtained solid was dissolved in 3 ml of THF, and acetyl chloride (0.23 g, 0.0022 mol) was added and stirred. Triethylamine (0.21 g, 0.0023 mol) was added dropwise to the reaction solution at room temperature. Sedimentation was observed as the salt was added. After stirring for 2 hours, 20 ml of water was added and extracted with 40 ml of ethyl acetate. The organic layer was washed twice with 20 ml of water and twice with 20 ml of a saturated aqueous potassium carbonate solution. The organic layer was dried over magnesium sulfate and then evaporated. Purification was performed by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / n-hexane = 1/1) to obtain 0.3 g of a pale yellow solid (3).

得られた固体(3)について、以下の条件でH−NMRスペクトル分析を行ない、下記の結果(シフト値)を得た。
・溶剤:重クロロホルム(CDCl3
・周波数:270MHz
・基準化合物:(CH34Si
8.5,dd,1H;8.1,dd,1H;7.9,dd,1H;7.4,m,6H;4.4,q,2H;3.6,d,2H,2.4,s,3H;2.3,s,3H;2.2,s,3H;2.0,s,3H;1.5,t,3H
上記NMR分析結果から淡黄色固体(3)は、下記式で示されるオキシムエステル化合物(後記の実施例1で使用した光重合開始剤C−1)であることが確認された。
The obtained solid (3) was subjected to H-NMR spectrum analysis under the following conditions to obtain the following results (shift value).
・ Solvent: Deuterated chloroform (CDCl 3 )
・ Frequency: 270 MHz
Reference compound: (CH 3 ) 4 Si
8.5, dd, 1H; 8.1, dd, 1H; 7.9, dd, 1H; 7.4, m, 6H; 4.4, q, 2H; 3.6, d, 2H, 2.4, s, 3H; 2.3, s, 3H; 2.2, s, 3H; 2.0, s, 3H; 1.5, t, 3H
From the NMR analysis results, it was confirmed that the pale yellow solid (3) was an oxime ester compound represented by the following formula (photopolymerization initiator C-1 used in Example 1 described later).

Figure 2006036750
Figure 2006036750

合成例−4(オキシムエステル系化合物C−2の合成)
合成例−3において、淡黄色固体(2)の代わりに、3−メタクリロイル−9−エチル−6−(o−トルオイル)−9H−カルバゾールを用いた以外は、C−1の合成と同様にしてC−2を合成した。NMRシフト値は、次の通りであった。
8.5,d,1H; 8.4,d,1H; 8.1,dd,1H; 7.9,dd,1H; 7.4,m,6H; 7.2,d,1H; 5.6,s,1H; 5.1,s,1H; 4.4,q,2H; 2.4,s,3H; 2.2,s,3H; 2.0,s,3H; 1.5,t,3H
Synthesis Example 4 (Synthesis of oxime ester compound C-2)
In Synthesis Example-3, the same procedure as in the synthesis of C-1 except that 3-methacryloyl-9-ethyl-6- (o-toluoyl) -9H-carbazole was used instead of the pale yellow solid (2). C-2 was synthesized. NMR shift values were as follows.
8.5, d, 1H; 8.4, d, 1H; 8.1, dd, 1H; 7.9, dd, 1H; 7.4, m, 6H; 7.2, d, 1H; 5.6, s, 1H; 5.1, s, 1H; 4.4, q, 2H; 2.4, s, 3H; 2.2, s, 3H; 2.0, s, 3H; 1.5, t, 3H

合成例−5(オキシムエステル系化合物C−3の合成)
合成例−3において、メタクリル酸クロリドをクロトン酸クロリドに変更した以外はC−1の合成と同様にしてC−3を合成した。NMRシフト値は、次の通りであった。
8.5,d,1H; 8.4,d,1H; 8.1,dd,1H; 7.9,dd,1H; 7.4,m,6H; 4.4,q,2H; 2.4,s,3H; 2.2,s,3H; 2.0,s,3H; 1.5,t,3H
Synthesis Example 5 (Synthesis of oxime ester compound C-3)
In Synthesis Example-3, C-3 was synthesized in the same manner as the synthesis of C-1, except that methacrylic acid chloride was changed to crotonic acid chloride. NMR shift values were as follows.
8.5, d, 1H; 8.4, d, 1H; 8.1, dd, 1H; 7.9, dd, 1H; 7.4, m, 6H; 4.4, q, 2H; 2.4, s, 3H; 2.2, s, 3H; 2.0, s, 3H; 1.5, t, 3H

合成例−6(オキシムエステル系化合物C−4の合成)
合成例−3において、メタクリル酸クロリドをアセチルクロリドに変更し、最終工程で用いるアセチルクロリドをコハク酸モノエチルクロリドに変更した以外は、C−1の合成と同様にしてC−4を合成した。NMRシフト値は、次の通りであった。
8.6,d,1H; 8.5,d,1H; 8.1,dd,1H; 8.0,dd,1H; 7.9,dd,1H; 7.5,m,6H; 4.5,q,2H; 4.2,m,6H; 2.9,t,2H; 2.8,t,2H; 2.7,t,2H; 2.6,s,3H; 2.5,s,3H; 1.5,t,3H; 1.3,s,3H
Synthesis Example 6 (Synthesis of oxime ester compound C-4)
In Synthesis Example-3, C-4 was synthesized in the same manner as in C-1, except that methacrylic acid chloride was changed to acetyl chloride and acetyl chloride used in the final step was changed to succinic acid monoethyl chloride. NMR shift values were as follows.
8.5, d, 1H; 8.5, d, 1H; 8.1, dd, 1H; 8.0, dd, 1H; 7.9, dd, 1H; 7.5, m, 6H; 4.5, q, 2H; 4.2, m, 6H; 2.9, t, 2H; 2.8, t, 2H; 2.7, t, 2H; 2.6, s, 3H; 2.5, s, 3H; 1.5, t, 3H; 1.3, s, 3H

合成例−7(オキシムエステル系化合物C−5の合成)
合成例−3において、メタクリル酸クロリドをアセチルクロリドに変更し、最終工程で用いるアセチルクロリドをモルホリニルカルボニルクロリドに変更した以外は、C−1の合成と同様にしてC−5を合成した。
Synthesis Example 7 (Synthesis of oxime ester compound C-5)
In Synthesis Example-3, C-5 was synthesized in the same manner as the synthesis of C-1, except that methacrylic acid chloride was changed to acetyl chloride and acetyl chloride used in the final step was changed to morpholinylcarbonyl chloride.

合成例−8(オキシムエステル系化合物C−8の合成)
合成例−3において、メタクリル酸クロリドをコハク酸モノエチルクロリドに変更した以外は、C−1の合成と同様にしてC−8を合成した。NMRシフト値は、次の通りであった。
8.5,d,1H; 8.4,d,1H; 8.1,dd,1H; 7.9,dd,1H; 7.4,m,6H; 4.4,q,2H; 4.1,q,2H; 3.3,t,2H; 2.6,s,3H; 2.4,s,3H; 2.3,s,3H; 1.5,t,3H; 1.2,d,3H
Synthesis Example-8 (Synthesis of oxime ester compound C-8)
In Synthesis Example-3, C-8 was synthesized in the same manner as the synthesis of C-1, except that methacrylic acid chloride was changed to succinic acid monoethyl chloride. NMR shift values were as follows.
8.5, d, 1H; 8.4, d, 1H; 8.1, dd, 1H; 7.9, dd, 1H; 7.4, m, 6H; 4.4, q, 2H; 4.1, q, 2H; 3.3, t, 2H; 2.6, s, 3H; 2.4, s, 3H; 2.3, s, 3H; 1.5, t, 3H; 1.2, d, 3H

[実施例1〜9及び比較例1〜3]
(1)レジスト液の調合
上述したカーボンブラック分散インキを用いて固形分として下記の配合割合となるように各成分(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、有機溶剤及び界面活性剤を加え、スターラーにより攪拌、溶解させ、ブラックレジスト感光液を調整した。
[Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3]
(1) Preparation of resist solution Each component (a), (b), (c), (d), (e), organic so as to have the following mixing ratio as a solid content using the carbon black dispersion ink described above A solvent and a surfactant were added, and the mixture was stirred and dissolved with a stirrer to prepare a black resist photosensitive solution.

(a)黒色色材
カーボンブラック(三菱化学社製、MA−220) 50g
(b)有機結合剤 (表2に記載) 30g
(d)光重合性単量体:エチレン性化合物
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 10g
(c)光重合開始剤 (表2に記載)
有機溶剤
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 300g
(e)高分子分散剤(合成例−1) 5g
界面活性剤 (住友3M社製、FC−430) 100ppm
(A) Black color material Carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MA-220) 50 g
(B) Organic binder (described in Table 2) 30 g
(D) Photopolymerizable monomer: ethylenic compound dipentaerythritol hexaacrylate 10 g
(C) Photopolymerization initiator (described in Table 2)
300g organic solvent propylene glycol monomethyl ether acetate
(E) Polymer dispersant (Synthesis Example 1) 5 g
Surfactant (Sumitomo 3M, FC-430) 100ppm

(2)レジストの評価
ブラックレジスト感光液をスピンコーターにてガラス基板(コーニング社製、7059)に塗布し、ホットプレートで80℃、1分間乾燥した。乾燥後のレジストの膜厚を触針式膜厚計(テンコール社製、α−ステップ)で測定したところ1μmであった。次に、このサンプルをマスクを通して高圧水銀灯で露光量を変えて像露光した。温度25℃、濃度0.8%炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像することによりレジストパターンを得た。
(2) Evaluation of resist A black resist photosensitive solution was applied to a glass substrate (Corning Corp., 7059) with a spin coater, and dried on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute. The film thickness of the resist after drying was measured with a stylus type film thickness meter (manufactured by Tencor, α-step) and found to be 1 μm. Next, this sample was image-exposed through a mask while changing the exposure amount with a high-pressure mercury lamp. A resist pattern was obtained by spray development using a sodium carbonate aqueous solution having a temperature of 25 ° C. and a concentration of 0.8%.

感度、解像力及び遮光性を下記の基準で評価し、表2の結果を得た。
1.感度
20μmのマスクパターンを寸法通り形成できる適正露光量(mj/cm2)をもって
表示した。すなわち、露光量の少ないレジストは低露光量で画像形成が可能であるため高感度であることを示す。
2.解像力
20μmのマスクパターンを忠実に再現する露光量における解像可能なレジスト最小パターン寸法を200倍の倍率で顕微鏡観察した。
最小パターン寸法が10μm以下 : ○
最小パターン寸法が10μmを超える: ×
The sensitivity, resolution, and light shielding properties were evaluated according to the following criteria, and the results shown in Table 2 were obtained.
1. Sensitivity A 20 μm mask pattern was displayed with an appropriate exposure amount (mj / cm 2 ) that can be formed according to dimensions. That is, a resist with a small exposure amount has high sensitivity because an image can be formed with a low exposure amount.
2. Resolution The minimum resist pattern size that can be resolved at an exposure amount that faithfully reproduces a 20 μm mask pattern was observed with a microscope at a magnification of 200 times.
Minimum pattern dimension is 10μm or less: ○
Minimum pattern dimension exceeds 10 μm: ×

3.遮光性
画線部の光学濃度(OD)をマクベス反射濃度計(コルモルグン社製、TR927)で測定した。なお、OD値は遮光能力を示す数値であり数値が大きい程高遮光性であることを示す。
4.耐キズ性
得られた画像パターンを有するガラス基板を、無処理のガラス基板(コーニング社製、7059)の上に、画像パターンが無処理のガラス面に接するように載せ、下記に示す荷重をかけながら3cm/秒の速度で5回、摺り合わせる作業を行った。擂り合わせ後、キズの発生の有無を肉眼により、下記の基準で目視評価を行った。
荷重 g/cm2 キズの有無 評価
60 認められた △
60 全く認められず ○
100 全く認められず ◎
3. Light-shielding property The optical density (OD) of the image area was measured with a Macbeth reflection densitometer (TR927, manufactured by Kolmorgun). The OD value is a numerical value indicating the light shielding ability, and the larger the numerical value, the higher the light shielding property.
4). Scratch resistance A glass substrate having the obtained image pattern was placed on an untreated glass substrate (Corning Corp., 7059) so that the image pattern was in contact with the untreated glass surface, and the load shown below was applied. However, it was rubbed 5 times at a speed of 3 cm / sec. After twisting, the presence or absence of scratches was visually evaluated according to the following criteria with the naked eye.
Load g / cm 2 Scratch evaluation
60 accepted △
60 Not recognized at all ○
100 Not recognized at all ◎

[実施例10]
実施例9において、黒色色材として使用したカーボンブラック(三菱化学社製、MA−220)の代わりに、チタンブラック(三菱マテリアル社製、13M−C)を使用した以外は実施例9と同様の処理を行い、ブラックマトリックスパターンを得た。結果を表2に示した。
[Example 10]
In Example 9, it was the same as Example 9 except that titanium black (Mitsubishi Materials Corporation, 13M-C) was used instead of carbon black (Mitsubishi Chemical Corporation, MA-220) used as a black color material. Processing was performed to obtain a black matrix pattern. The results are shown in Table 2.

[比較例4]
比較例3において、黒色色材として使用したカーボンブラック(三菱化学社製、MA−220)の代わりに、チタンブラック(三菱マテリアル社製、13M−C)を使用した以外は比較例3と同様の処理を行い、ブラックマトリックスパターンを得た。結果を表2に示した。
[Comparative Example 4]
Comparative Example 3 was the same as Comparative Example 3 except that titanium black (Mitsubishi Materials Corporation, 13M-C) was used instead of carbon black (Mitsubishi Chemical Corporation, MA-220) used as a black color material. Processing was performed to obtain a black matrix pattern. The results are shown in Table 2.

Figure 2006036750
尚、表2中、記号の意味は次の通りである。
ACA−200M:アクリルポリマー(ダイセル化学工業社製、ACA−200M)
C−1:表1記載のNo.22の化合物
Figure 2006036750
In Table 2, the meanings of the symbols are as follows.
ACA-200M: Acrylic polymer (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., ACA-200M)
C-1: No. in Table 1 22 compounds

Figure 2006036750
C−2:表1記載のNo.3の化合物
Figure 2006036750
C-2: No. described in Table 1. 3 compounds

Figure 2006036750
C−3:表1記載のNo.4の化合物
Figure 2006036750
C-3: No. in Table 1 4 compounds

Figure 2006036750
C−4:表1記載のNo.16の化合物
Figure 2006036750
C-4: No. in Table 1 16 compounds

Figure 2006036750
C−5:表1記載のNo.19の化合物
Figure 2006036750
C-5: No. in Table 1 19 compounds

Figure 2006036750
C−7:表1記載のNo.28の化合物
Figure 2006036750
C-7: No. in Table 1 28 compounds

Figure 2006036750
C−8:表1記載のNo.29の化合物
Figure 2006036750
C-8: No. in Table 1 29 compounds

Figure 2006036750
C−9:表1記載のNo.37の化合物
Figure 2006036750
C-9: No. in Table 1 37 compounds

Figure 2006036750
トリアジンA:4−(m−ブロモ−p−メトキシフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン(5g)
Figure 2006036750
Triazine A: 4- (m-bromo-p-methoxyphenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine (5 g)

Figure 2006036750
CGI−124:: 光重合開始剤(チバ・スペシャルティーケミカル社製、CGI−124)(5g)
Figure 2006036750
CGI-124 :: Photopolymerization initiator (CGI-124, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) (5 g)

Figure 2006036750
3種混合系:2,2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール(2g)+4,4'−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン(1g)+ 2−メルカプトベンゾチアゾール(1g)
Figure 2006036750
Three kinds of mixed systems: 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole (2 g) + 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone (1 g) + 2− Mercaptobenzothiazole (1g)

Figure 2006036750
Figure 2006036750

[実施例11〜12]及び[比較例5]
各試験溶液を、スピンコーターにて150nm厚のITOをスパッタしたAN100ガラス基板上に塗布し、ホットプレート上で80℃にて3分間乾燥し、乾燥膜厚1.7μmの 塗布膜を得た。その後、塗布膜側から15μm巾の細線パターンマスクを介して3kW高圧水銀を用い25、50、100、200mJ/cm-2の各種露光条件にて画像露光を施した。ついで、1重量%の炭酸カリウムと4重量%のノニオン性界面活性剤(「エマルゲンA−60」花王社製)を含有する水溶液よりなる現像液を用い、23℃において水圧0.25メガパスカルのシャワー現像を施した後、純水にて現像を停止し、水洗スプレーにてリンスした。シャワー現像時間は、10〜120秒の間で調整し、感光層が溶解除去される時間(ブレーク時間)の2倍とした。こうして画像形成されたガラス基板を230℃、30分間加熱し、アーチ状に変形させた細線パターンを形成させた。得られた、加熱前後の細線の断面形状をVK9500にて測定、基板平面と細線画像側面との接触角を求め、加熱前後における接触角の変化率を下記の方法により評価をした。結果を表3に示した。
[Examples 11 to 12] and [Comparative Example 5]
Each test solution was applied onto an AN100 glass substrate sputtered with 150 nm ITO by a spin coater, and dried on a hot plate at 80 ° C. for 3 minutes to obtain a coating film having a dry film thickness of 1.7 μm. Thereafter, image exposure was performed from the coating film side through various fine exposure conditions of 25, 50, 100, and 200 mJ / cm −2 using 3 kW high-pressure mercury through a fine line pattern mask having a width of 15 μm. Next, a developer comprising an aqueous solution containing 1% by weight of potassium carbonate and 4% by weight of a nonionic surfactant (“Emulgen A-60” manufactured by Kao Corporation) was used, and the water pressure was 0.25 megapascals at 23 ° C. After shower development, development was stopped with pure water and rinsed with a water spray. The shower development time was adjusted between 10 and 120 seconds, and was twice as long as the photosensitive layer was dissolved and removed (break time). The glass substrate thus imaged was heated at 230 ° C. for 30 minutes to form a thin line pattern deformed into an arch shape. The obtained cross-sectional shape of the thin wire before and after heating was measured with VK9500, the contact angle between the substrate plane and the side surface of the thin wire image was determined, and the change rate of the contact angle before and after heating was evaluated by the following method. The results are shown in Table 3.

表3から明らかなように、本発明の感光性組成物を用いた実施例11及び実施例12は、接触角の変形率が高く、アーチ状の突起が良好に形成され、更に、画像の形成が良好な液晶分割配向突起の形成が可能であることが分かった。
<加熱による接触角の変化率の評価>
加熱前後の細線の断面形状をVK9500にて測定、接触角を求め、加熱前細線画像の側面と基板平面から形成されるの接触角(W1)と加熱後の細線画像の側面と基板平面から形成される接触角(W2)を求め、接触角の変化率(W1/W2)の値から、加熱による接触角の変化を下記のように評価した。図1を参照。
As is apparent from Table 3, Examples 11 and 12 using the photosensitive composition of the present invention have a high contact angle deformation rate, good arch-like protrusions, and image formation. It was found that it is possible to form a liquid crystal split alignment protrusion.
<Evaluation of rate of change of contact angle by heating>
The cross-sectional shape of the thin line before and after heating is measured with VK9500, the contact angle is obtained, and the contact angle (W1) formed from the side surface and substrate plane of the pre-heating thin line image and the side surface and substrate plane of the thin line image after heating are formed. The contact angle (W2) to be obtained was determined, and the change in the contact angle due to heating was evaluated as follows from the value of the contact angle change rate (W1 / W2). See FIG.

A: W1/W2が2以上
B: W1/W2が1.5以上2未満
C: W1/W2が1.2以上1.5未満
D: W1/W2が1.2未満
A: W1 / W2 is 2 or more B: W1 / W2 is 1.5 or more and less than 2 C: W1 / W2 is 1.2 or more and less than 1.5 D: W1 / W2 is less than 1.2

<画像形成>
上記の露光および現像処理で得られた画像を下記のように評価した。
A: 塗布膜厚に対して、70%以上の膜厚の画像が形成された。
B: 塗布膜厚に対して、70%未満の膜厚の画像が形成された。
C: 感光層が完全に溶解し画像形成されなかった
<Image formation>
Images obtained by the above exposure and development processes were evaluated as follows.
A: An image having a film thickness of 70% or more with respect to the coating film thickness was formed.
B: An image having a film thickness of less than 70% with respect to the coating film thickness was formed.
C: The photosensitive layer was completely dissolved and no image was formed.

Figure 2006036750
Figure 2006036750

表3中、記号の意味は下記の通りである。
・M−1:日本化薬社製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)
・M−2:新中村科学社製、2官能リン酸エステル「PM−21」
・S−1:チバスペシャリティケミカルズ社製、「イルガキュアー907」
・S−2:日本化薬社製、2,4−ジエチルチオキサントン
・P−1:重量平均分子量2000、酸価100のアルカリ可溶性樹脂。構造式を[化47]に示した。
・F−1:大日本インキ社製、フッソ系界面活性剤「F475」
・PGMA:東京化成社製、イソプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ テートまた、表3中、適性感度mJ/cm-2とは、15μmの細線パターンが再現できる最低露
光量をいう。
In Table 3, the meanings of the symbols are as follows.
M-1: Nippon Kayaku Co., Ltd., dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA)
M-2: Shin-Nakamura Science Co., Ltd. bifunctional phosphate "PM-21"
S-1: “Irgacure 907” manufactured by Ciba Specialty Chemicals
S-2: Nippon Kayaku Co., Ltd., 2,4-diethylthioxanthone P-1: Alkali-soluble resin having a weight average molecular weight of 2000 and an acid value of 100. The structural formula is shown in [Chemical Formula 47].
・ F-1: Fluorosurfactant “F475” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.
PGMA: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., isopropylene glycol monomethyl ether acetate In Table 3, aptitude sensitivity mJ / cm -2 refers to the minimum exposure that can reproduce a fine line pattern of 15 μm.

Figure 2006036750
Figure 2006036750

本発明の光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルターは、カラーテレビ、液晶表示素子、固体撮像素子、カメラ等に利用可能である。   The photopolymerizable composition of the present invention and a color filter using the same can be used for color televisions, liquid crystal display elements, solid-state image sensors, cameras, and the like.

加熱による接触角の変化の状態を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the state of the change of the contact angle by heating.

符号の説明Explanation of symbols

W1:加熱前細線画像の側面と基板平面から形成されるの接触角
W2:加熱後の細線画像の側面と基板平面から形成される接触角
W1: Contact angle formed from the side surface of the pre-heating thin line image and the substrate plane W2: Contact angle formed from the side surface of the thin line image after heating and the substrate plane

Claims (20)

一般式(1)又は(2)で示されるオキシムエステル系化合物。
Figure 2006036750
(式中、R1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数0〜20のアミノ基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、また、R1aは、R1'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、 R2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数3〜25のアルケノイル基、炭素数3〜8のシクロアルカノイル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数1〜20のヘテロアリーロイル基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基又は炭素数7〜20のフェノキシカルボニル基を示し、R1'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。):
Figure 2006036750
(式中、R1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数6〜20のフェニル基、炭素数1 〜20のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルカノイル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数1〜20のアミド基、ニトロ基、炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数1〜10のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数0〜20のアミノ基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、またR1bは、R1'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10アルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数3〜20のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基を示し、R1'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。)
An oxime ester compound represented by the general formula (1) or (2).
Figure 2006036750
Wherein R 1a is an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroarylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and 8 to 8 carbon atoms. A phenoxycarbonylalkyl group having 20 carbon atoms, a heteroaryloxycarbonylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a heteroarylthioalkyl group, an amino group having 0 to 20 carbon atoms, or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, R 1a may form a ring together with R 1 ′, and the linking group is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms that may have a substituent, — (CH═CH) n —, — ( C [identical to] C) n - or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), R 2a are each optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, 3 carbon 5 alkenoyl group, C3-C8 cycloalkanoyl group, C7-C20 benzoyl group, C1-C20 heteroaryloyl group, C2-C10 alkoxycarbonyl group, or C7-C20 And R1 ′ represents an optional substituent containing an aromatic ring or a heteroaromatic ring.):
Figure 2006036750
(In the formula, R 1b is an optionally substituted phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, and an alkanoyl having 2 to 20 carbon atoms. Group, benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, alkoxycarbonyl group or phenoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, amide group having 1 to 20 carbon atoms, nitro group, alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, 1 to carbon atoms 10 heteroarylalkyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkyl group, C8-C20 phenoxycarbonylalkyl group, C1-C20 heteroaryloxycarbonylalkyl group or heteroarylthioalkyl group, carbon number 0-20 amino group, or an amino alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, also R 1b is, form a ring with R1 ' At best, the linkage is respectively substituent may number 1 to 10 alkylene carbon atoms which may have a, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - or a combination thereof ( n is an integer of 0 to 3), and R 2b is an optionally substituted heteroaryl group having 1 to 20 carbon atoms, a heteroarylalkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms. A phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, a heteroaryloxyoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, or an aminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, and R1 ′ represents an aromatic ring or a heteroaromatic ring. Any optional substituents are included.)
請求項1に記載の一般式(1)において、R1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数1〜20のアミノアルキル基であるか、またはR1aは、R1'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aが、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物。 In general formula (1) of Claim 1, R <1a> is respectively C2-C25 alkenyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkyl group, C8-C20 which may be substituted, respectively. It is a phenoxycarbonylalkyl group or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or R 1a may form a ring together with R 1 ′, and each of the linking groups may have a substituent. An alkylene group of 1 to 10,-(CH = CH) n -,-(C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), and R 2a may be substituted. An oxime ester compound having an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms. 請求項1に記載の一般式(2)において、R1bが、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、R2bが、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物。 In General formula (2) of Claim 1, R <1b > is a C1-C20 alkyl group which may be substituted, R <2b > is C1-C20 which may be respectively substituted. A heteroaryl alkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, or an aminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms. An oxime ester compound characterized by 一般式(3)又は(4)で示されるオキシムエステル系化合物。
Figure 2006036750
(式中、R1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数0〜20のアミノ基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、また、R1aは、R3あるいはR7とともに環を形成してもよく、その場合、R1aとR3あるいは/およびR7は互いに結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数3〜25のアルケノイル基、炭素数3〜8のシクロアルカノイル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数1〜20のヘテロアリーロイル基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基又は炭素数7〜20のフェノキシカルボニル基を示し、R3、R4、R5、R6及びR7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数1〜20のヘテロアリーロイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数3〜20のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基又は、−OR8、−SR9、−SOR9、−SO29もしくは−NR1011を示し、かつ、R3、R4、R5、R6及びR7の少なくとも一つは、−OR8、−SR9又は−NR1011を示す。ただし、R8は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜8のアルカノイル基、炭素数3〜12のアルケニル基、炭素数3〜20のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、−(CH2 CH2O)mH(mは1〜20の整数)、又は炭素数3〜15のトリアルキルシリル基を示し、R9は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜8のアルカノイル基、炭素数3〜12のアルケニル基、炭素数6〜20のフェニル基又は炭素数3〜15のトリアルキルシリル基を示し、R10およびR11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜4のヒドロキシルアルキル基、炭素数3〜5のアルケニル基または炭素数6〜20のフェニル基を表し、R3〜R7は互いに結合して、またR1と共に環構造を形成してもよい。):
Figure 2006036750
(式中、R1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数6〜20のフェニル基、炭素数1 〜20のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルカノイル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数1〜20のアミド基、ニトロ基、炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数1〜10のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数0〜20のアミノ基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、またR1bは、R3あるいはR7とともに環を形成してもよく、その場合、R1bとR3あるいは/およびR7は互いに結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数3〜20のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基を示し、R3、R4、R5、R6及びR7は一般式(3)におけると同義である。)
An oxime ester compound represented by the general formula (3) or (4).
Figure 2006036750
Wherein R 1a is an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroarylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and 8 to 8 carbon atoms. A phenoxycarbonylalkyl group having 20 carbon atoms, a heteroaryloxycarbonylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a heteroarylthioalkyl group, an amino group having 0 to 20 carbon atoms, or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, R 1a may form a ring with R 3 or R 7 , in which case R 1a and R 3 or / and R 7 are bonded together to form a divalent or trivalent linking group, linking groups each substituent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - or a combination thereof ( Is an integer of 0 to 3), R 2a are each optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, alkenoyl of 3 to 25 carbon atoms, cycloalkanoyl group having 3 to 8 carbon atoms, 7 carbon atoms Represents a benzoyl group having 20 to 20 carbon atoms, a heteroaryloyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a phenoxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 , R 6 And R 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms. , A phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, a benzyl group having 7 to 20 carbon atoms, a benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a heteroaryloyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a carbon number 3 20 alkoxycarbonyl alkanoyl group, phenoxycarbonyl alkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, heteroaryl having 3 to 20 carbon atoms - Luo Kishikishi carbonyl alkanoyl group, or an alkoxycarbonyl group or a phenoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, -OR 8 , -SR 9 , -SOR 9 , -SO 2 R 9 or -NR 10 R 11 , and at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 is -OR 8 ,- SR 9 or —NR 10 R 11 , wherein R 8 is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 8 carbon atoms, or 3 to 12 carbon atoms. alkenyl group, alkenoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, - (CH 2 CH 2 O ) m H (m is an integer of 1 to 20), or 3 carbon 15 represents a trialkylsilyl group, and R 9 is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, A phenyl group having 6 to 20 carbon atoms or a trialkylsilyl group having 3 to 15 carbon atoms, wherein R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, and an optionally substituted alkyl having 1 to 12 carbon atoms; Represents a hydroxyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms or a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, wherein R 3 to R 7 are bonded to each other and have a ring structure together with R 1. You may form. ):
Figure 2006036750
(In the formula, R 1b is an optionally substituted phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, and an alkanoyl having 2 to 20 carbon atoms. Group, benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, alkoxycarbonyl group or phenoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, amide group having 1 to 20 carbon atoms, nitro group, alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, 1 to carbon atoms 10 heteroarylalkyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkyl group, C8-C20 phenoxycarbonylalkyl group, C1-C20 heteroaryloxycarbonylalkyl group or heteroarylthioalkyl group, carbon number 0-20 amino group, or an amino alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, also R 1b are both with R 3 or R 7 It may form a ring, in which case, by combining R 1b and R 3 or / and R 7 together together form a divalent or trivalent linking group, have their respective linking group substituent Or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, — (CH═CH) n —, — (C≡C) n — or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), and each R 2b is substituted. C1-20 heteroaryl group, C1-20 heteroarylalkanoyl group, C3-20 alkoxycarbonylalkanoyl group, C8-20 phenoxycarbonylalkanoyl group, C3 20 of heteroaryl - Luo Kishikishi carbonyl alkanoyl group, or an amino carbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, R 3, R 4, R 5, R 6 and R 7 are synonymous der as in the general formula (3) .)
請求項4に記載の一般式(3)において、R1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数1〜20のアミノアルキル基であるか、またはR1aは、R3あるいはR7とともに環を形成してもよく、その場合、R1bとR3あるいは/およびR7は互いに結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aが、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基であり、 R3、R4、R5、R6及びR7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数1〜20のヘテロアリーロイル基又は−NR1011を示し、かつ、R3、R4、R5、R6及びR7の少なくとも一つは、−NR1011を示し(ただし、R10およびR11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜4のヒドロキシルアルキル基、炭素数3〜5のアルケニル基または炭素数6〜20のフェニル基を表す)、R3〜R7は互いに結合して、またR1aと共に環構造を形成してもよいことを特徴とするオキシムエステル系化合物。 In general formula (3) of Claim 4, R <1a> is respectively C2-C25 alkenyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkyl group, C8-C20 which may be substituted, respectively. It is a phenoxycarbonylalkyl group or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or R 1a may form a ring together with R 3 or R 7 , in which case R 1b and R 3 or / and R 7 Are bonded to each other to form a divalent or trivalent linking group, each of which may have a substituent, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, — (CH═CH) n —, — (C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), R 2a is an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are independently of each other , A hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaryloyl group having 1 to 20 carbon atoms, or —NR 10 R 11 , And at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 represents —NR 10 R 11 (provided that R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom or a hydrogen atom. An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyl alkyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms, or a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms), R 3 to R 7 may be An oxime ester-based compound which is bonded to each other and may form a ring structure with R 1a . 請求項4に記載の一般式(4)において、R1bが、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、R2bが、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基であり、R3、R4、R5、R6及びR7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数1〜20のヘテロアリーロイル基又は−NR1011を示し、かつ、R3、R4、R5、R6及びR7の少なくとも一つは、−NR1011を示し(ただし、R10およびR11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜4のヒドロキシルアルキル基、炭素数3〜5のアルケニル基または炭素数6〜20のフェニル基を表す)、R3〜R7は互いに結合して、またR1bと共に環構造を形成してもよいことを特徴とするオキシムエステル系化合物。 In general formula (4) of Claim 4, R <1b > is a C1-C20 alkyl group which may be substituted, R <2b > is C1-C20 which may be respectively substituted. A heteroarylalkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, or an aminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or phenyl having 6 to 20 carbon atoms. group, a heteroarylene acryloyl group or -NR 10 R 11 having 1 to 20 carbon atoms, and at least one of R 3, R 4, R 5 , R 6 and R 7 represents an -NR 10 R 11 (However, R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyl alkyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms, or a carbon number An oxime ester compound, wherein R 3 to R 7 may be bonded to each other and may form a ring structure with R 1b . 一般式(5)乃至(7)のいずれかで示されるオキシムエステル系化合物。
Figure 2006036750
(式中、R1a、R2aは、請求項4に記載の一般式(3)におけると同義であり、R3、R6、R7、R12〜R16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−NR1011であり、R3、R6、R7、R12〜R16は互いに結合して環構造を形成してもよい。 ):
Figure 2006036750
(式中、R1b、R2bは、請求項4に記載の一般式(4)におけると同義であり、R3、R6、R7、R12〜R16は、一般式(5)におけると同義である。 )
Figure 2006036750
(式中、R1bは、請求項4に記載の一般式(4)におけると同義であり、R2は、請求項4に記載の一般式(3)におけるR2a及び一般式(4)におけるR2bを示し、R3、R6、R7、R12〜R16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−NR1011であり、R3、R6、R7、R12〜R16は互いに結合して環構造を形成してもよく、且つR3、R6、R7、R12〜R16のうち少なくとも一つがそれぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルカノイル基もしくはヘテロアリーロイル基及び炭素数3〜15のトリアルキルシリル基からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む。)
An oxime ester compound represented by any one of the general formulas (5) to (7).
Figure 2006036750
(In the formula, R 1a and R 2a have the same meaning as in the general formula (3) according to claim 4, and R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 are a hydrogen atom, a halogen atom, Each optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkenoyl group having 2 to 12 carbon atoms, phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, benzyl group or benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, or -NR 10 R 11 and R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 may be bonded to each other to form a ring structure.
Figure 2006036750
(In the formula, R 1b and R 2b have the same meanings as in the general formula (4) described in claim 4, and R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 are the same as those in the general formula (5). Is synonymous with
Figure 2006036750
(Wherein, R 1b has the same meaning as in the general formula (4) according to claim 4, R 2 is in the R 2a and formula in the formula of claim 4 (3) (4) R 2b represents R 3 , R 6 , R 7 and R 12 to R 16 are a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkenoyl having 2 to 12 carbon atoms. Group, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, a benzyl group or benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, or —NR 10 R 11 , and R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 are bonded to each other. A heteroarylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, which may form a ring structure, and at least one of R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 may be substituted. An alkanoyl group or a heteroaryloyl group and a C 3-15 Containing at least one selected from the group consisting of alkyl silyl group.)
請求項7に記載の一般式(5)において、R1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数1〜20のアミノアルキル基であるか、またはR1aは、R3あるいはR7とともに環を形成してもよく、その場合R1aとR3あるいは/およびR7は互い結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−、あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aは、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基であり、 R3、R6、R7、R12〜R16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−NR1011であり、R3、R6、R7、R12〜R16は互いに結合して環構造を形成してもよいことを特徴とするオキシムエステル系化合物。 In general formula (5) of Claim 7, R <1a> is respectively C2-C25 alkenyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkyl group, C8-C20 which may be substituted, respectively. It is a phenoxycarbonylalkyl group or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or R 1a may form a ring together with R 3 or R 7 , in which case R 1a and R 3 or / and R 7 are They are bonded to each other to form a divalent or trivalent linking group, and each of the linking groups may have a substituent, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms,-(CH = CH) n -,-( C≡C) n- or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), R 2a is an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 are a hydrogen atom, halogen Each having 1 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, a benzyl group or benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, or An oxime ester compound, which is —NR 10 R 11 , wherein R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 may be bonded to each other to form a ring structure. 請求項7に記載の一般式(6)において、R1bが、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、R2bが、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基であり、R3、R6、R7、R12〜R16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケノイル基、炭素数6〜20のフェニル基、炭素数7〜20のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−NR1011であり、R3、R6、R7、R12〜R16は互いに結合して環構造を形成してもよいことを特徴とするオキシムエステル系化合物。 In General formula (6) of Claim 7, R <1b > is a C1-C20 alkyl group which may be substituted, and R <2b > is C1-C20 which may be respectively substituted. A heteroarylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms or an aminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, and R 3 , R 6 , R 7 , R 12 to R 16 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, or 7 to 7 carbon atoms. 20 benzyl or benzoyl group, or an -NR 10 R 11, R 3, R 6, R 7, R 12 ~R 16 is an oxime, characterized in that it may be bonded together to form a ring structure Ester-based compounds. 一般式(8)又は(9)で示されるオキシムエステル系化合物。
Figure 2006036750
(式中、R1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数0〜20のアミノ基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示す。また、R1aは、Ar1とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、 R2aは、請求項1に記載の一般式(1)におけると同義であり、Ar1は、置換基を有していてもよい芳香環、ヘテロ芳香環、縮合芳香環又は縮合ヘテロ芳香環を表し、pは、2〜5の整数を表す。):
Figure 2006036750
(式中、R1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数6〜20のフェニル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルカノイル基、炭素数7〜20のベンゾイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数1〜20のアミド基、ニトロ基、炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数1〜10のヘテロアリールアルキル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数0〜20のアミノ基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、またR1bは、Ar1とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10アルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、 R2bは、請求項1に記載の一般式(2)におけると同義であり、Ar1は、置換基を有していてもよい芳香環、ヘテロ芳香環、縮合芳香環又は縮合ヘテロ芳香環を表し、pは、2〜5の整数を表す。)
An oxime ester compound represented by the general formula (8) or (9).
Figure 2006036750
Wherein R 1a is an optionally substituted alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroarylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and 8 to 8 carbon atoms. A phenoxycarbonylalkyl group having 20 carbon atoms, a heteroaryloxycarbonylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a heteroarylthioalkyl group, an amino group having 0 to 20 carbon atoms, or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms; R 1a may form a ring together with Ar 1 , and the linking group is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms that may have a substituent, — (CH═CH) n —, — ( C [identical to] C) n - or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), R 2a is the same meaning as in formula (1) according to claim 1, Ar 1 may have a substituent Aromatic ring optionally heteroaromatic ring represents a fused aromatic ring or a fused heteroaromatic ring, p is represents an integer of from 2 to 5).:
Figure 2006036750
(In the formula, R 1b is an optionally substituted phenyl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, and an alkanoyl having 2 to 20 carbon atoms. Group, benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms, alkoxycarbonyl group or phenoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, amide group having 1 to 20 carbon atoms, nitro group, alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, 1 to carbon atoms 10 heteroarylalkyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkyl group, C8-C20 phenoxycarbonylalkyl group, C1-C20 heteroaryloxycarbonylalkyl group or heteroarylthioalkyl group, carbon number 0-20 amino group, or an amino alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, also R 1b is, form a ring with Ar 1 At best, the linkage is respectively substituent may number 1 to 10 alkylene carbon atoms which may have a, - (CH = CH) n -, - (C≡C) n - or a combination thereof ( n is an integer of 0 to 3), R 2b has the same meaning as in general formula (2) according to claim 1, and Ar 1 is an aromatic ring, heteroaromatic ring, which may have a substituent, Represents a condensed aromatic ring or a condensed heteroaromatic ring, and p represents an integer of 2 to 5.)
請求項10に記載の一般式(8)において、R1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数2〜25のアルケニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルキル基、又は炭素数1〜20のアミノアルキル基を示し、また、R1aは、Ar1とともに環を形成してもよく、その場合、R1aとAr1は互いに結合してともに2価あるいは3価の連結基を形成し、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基、−(CH=CH)n−、−(C≡C)n−あるいはその組み合わせであり(nは0〜3の整数)、R2aが、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルカノイル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物。 In general formula (8) of Claim 10, R <1a> is respectively substituted C2-C25 alkenyl group, C3-C20 alkoxycarbonylalkyl group, C8-C20, A phenoxycarbonylalkyl group or an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 1a may form a ring together with Ar 1 , in which case R 1a and Ar 1 are bonded to each other to form 2 A trivalent or trivalent linking group, each of which may have a substituent, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, — (CH═CH) n —, — (C≡C) n -or a combination thereof (n is an integer of 0 to 3), and R 2a is an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms. 請求項10に記載の一般式(9)において、R1bは、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、 R2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数1〜20のヘテロアリール基、炭素数1〜20のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数8〜20のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数2〜10のアミノカルボニル基であることを特徴とするオキシムエステル系化合物。 In General formula (9) of Claim 10, R <1b> is a C1-C20 alkyl group which may be substituted, R <2b > is C1-C20 which may be respectively substituted. A heteroaryl alkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, or an aminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms. An oxime ester compound characterized by (b)有機結合材及び(c)光重合開始剤を含有する光重合性組成物であって、(c)が請求項1〜12のいずれか1項に記載のオキシムエステル系化合物を含有することを特徴とする光重合性組成物。   It is a photopolymerizable composition containing (b) an organic binder and (c) a photopolymerization initiator, and (c) contains the oxime ester compound according to any one of claims 1 to 12. The photopolymerizable composition characterized by the above-mentioned. (b)有機結合材が、カルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂である請求項13に記載の光重合性組成物。   (B) The photopolymerizable composition according to claim 13, wherein the organic binder is an epoxy acrylate resin having a carboxyl group. (b)有機結合材が、ノボラック型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物に(ヒドロ)フタル酸無水物を反応させて得られるエポキシアクリレートである請求項14に記載の光重合性組成物。   15. The photopolymerizable material according to claim 14, wherein the organic binder is an epoxy acrylate obtained by reacting a reaction product of a novolac type epoxy resin and (meth) acrylic acid with (hydro) phthalic anhydride. Composition. 光重合性組成物が、更に(d)光重合性単量体を含有することを特徴とする請求項13〜15のいずれか1項に記載の光重合性組成物。   The photopolymerizable composition according to any one of claims 13 to 15, wherein the photopolymerizable composition further contains (d) a photopolymerizable monomer. 光重合性組成物が、更に(e)塩基性官能基を有する高分子分散剤を含有することを特徴とする請求項13〜16のいずれか1項に記載の光重合性組成物。   The photopolymerizable composition according to any one of claims 13 to 16, wherein the photopolymerizable composition further contains (e) a polymer dispersant having a basic functional group. 光重合性組成物が、更に(a)色材を含有することを特徴とする請求項13〜17のいずれか1項に記載の光重合性組成物。   The photopolymerizable composition according to any one of claims 13 to 17, wherein the photopolymerizable composition further contains (a) a coloring material. 請求項13〜18のいずれか1項に記載の光重合性組成物により形成された画像を有することを特徴とするカラーフィルター。   A color filter comprising an image formed by the photopolymerizable composition according to claim 13. 請求項13〜18のいずれか1項に記載の光重合性組成物により形成された画像を有することを特徴とする液晶表示装置。
A liquid crystal display device comprising an image formed by the photopolymerizable composition according to claim 13.
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Cited By (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006039140A (en) * 2004-07-26 2006-02-09 Jsr Corp Radiation sensitive composition for colored layer formation, color filter and color liquid crystal display panel
JP2006053557A (en) * 2004-08-09 2006-02-23 Dongjin Semichem Co Ltd Photosensitive resin composition for spacer, spacer and liquid crystal display element
JP2007078894A (en) * 2005-09-12 2007-03-29 Fujifilm Corp Photosensitive composition, pattern forming material, photosensitive laminate, pattern forming apparatus, and pattern forming method
WO2007105644A1 (en) * 2006-03-14 2007-09-20 Asahi Kasei Emd Corporation Photosensitive-resin layered product
WO2007111000A1 (en) * 2006-03-28 2007-10-04 Fujifilm Corporation Photopolymerization initiator, photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive laminate, method of forming permanent pattern and printed board
JP2007316445A (en) * 2006-05-26 2007-12-06 Fujifilm Corp Curable composition, color filter and method for producing the same
WO2008075564A1 (en) * 2006-12-20 2008-06-26 Mitsubishi Chemical Corporation Oxime ester compound, photopolymerization initiator, photopolymerizable composition, color filter, and liquid crystal display device
JP2008146042A (en) * 2006-11-15 2008-06-26 Taiyo Ink Mfg Ltd Paste composition, forming method of pattern using same, and its pattern
JP2008164730A (en) * 2006-12-27 2008-07-17 Mitsubishi Chemicals Corp Composition for forming hologram recording layer, and hologram recording material and hologram optical recording medium using the same
WO2008090640A1 (en) 2007-01-23 2008-07-31 Fujifilm Corporation Oxime compound, photosensitive composition, color filter, method for production of the color filter, and liquid crystal display element
WO2008102990A1 (en) * 2007-02-21 2008-08-28 Lg Chem, Ltd. Photo-sensitive resin composition for black matrix, black matrix produced by the composition and liquid crystal display including the black matrix
JP2008216290A (en) * 2007-02-28 2008-09-18 Sanyo Chem Ind Ltd Photosensitive resin composition
JP2008242377A (en) * 2007-03-29 2008-10-09 Nippon Steel Chem Co Ltd Photosensitive resin composition for black resist
JP2009042751A (en) * 2007-07-17 2009-02-26 Fujifilm Corp Photosensitive composition, curable composition, curable composition for color filter, color filter and method for producing the same
EP2103966A2 (en) 2008-03-18 2009-09-23 FUJIFILM Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same and solid-state image sensor
EP2105792A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor
WO2009122789A1 (en) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 Polymerizable composition, light-blocking color filter for solid-state imaging device, and solid-state imaging device
JP2009244741A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor
JP2009244408A (en) * 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, light shielding color filter and production process therefor, and solid-state image sensor
JP2009244414A (en) * 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and solid-state image sensor
EP2112182A1 (en) 2008-04-25 2009-10-28 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition, light-shielding color filter, black curable composition, light-shielding color filter for solid-state image pickup device and method of producing the same, and solid-state image pickup device
JP2009258657A (en) * 2008-03-18 2009-11-05 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same, and solid-state image sensor
JP2009265518A (en) * 2008-04-28 2009-11-12 Fujifilm Corp Photosensitive composition, photosensitive composition for solid-state imaging element, light-shielding color filter for solid-state imaging element, and solid-state imaging element
JP2010032985A (en) * 2008-06-30 2010-02-12 Fujifilm Corp Novel compound, polymerizable composition, color filter and production method thereof, solid-state imaging device, and planographic printing plate precursor
US7696257B2 (en) * 2004-08-20 2010-04-13 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing such compound
KR20110005233A (en) 2008-04-25 2011-01-17 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Ketoxime ester compound and use thereof
CN102103327A (en) * 2009-12-22 2011-06-22 株式会社Lg化学 Black matrix composition with high light-shielding and improved adhesion properties
KR101067188B1 (en) 2004-07-20 2011-09-22 제이에스알 가부시끼가이샤 Radiation Sensitive Resin Composition, Spacer for Display Panel and Display Panel
WO2012045736A1 (en) 2010-10-05 2012-04-12 Basf Se Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
JP2012093396A (en) * 2010-10-22 2012-05-17 Fujifilm Corp Photopolymerizable composition, color filter and manufacturing method thereof, low refractive index cured film, solid state image sensor, and novel compound
US20120202154A1 (en) * 2009-09-30 2012-08-09 Fujifilm Corporation Black curable composition for wafer level lens and wafer level lens
KR20120096427A (en) * 2011-02-22 2012-08-30 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 Photosensitive resin composition, color filter using the same and display device
JP2013042096A (en) * 2011-08-19 2013-02-28 Dainippon Printing Co Ltd Photosensitive resin composition for optical imprint, hardened material, resist substrate, and manufacturing method of semiconductor device
WO2013083505A1 (en) 2011-12-07 2013-06-13 Basf Se Oxime ester photoinitiators
KR101340352B1 (en) 2006-02-24 2013-12-11 후지필름 가부시키가이샤 Oxime derivative, photopolymerizable composition, color filter, and process for producing the same
JP2014028861A (en) * 2007-05-11 2014-02-13 Basf Se Oxime ester photopolymerization initiator
WO2014050738A1 (en) 2012-09-28 2014-04-03 ダイトーケミックス株式会社 Fluorene-type compound, photopolymerization initiator comprising said fluorene-type compound, and photosensitive composition containing said photopolymerization initiator
US8728686B2 (en) 2007-07-17 2014-05-20 Fujifilm Corporation Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors
US8828629B2 (en) 2010-03-25 2014-09-09 Fujifilm Corporation Black curable composition, light-shielding color filter for a solid-state imaging device and method of producing the same, solid-state imaging device, wafer level lens, and camera module
US8872099B2 (en) 2008-03-18 2014-10-28 Fujifilm Corporation Solid-state image sensor including a light-shielding color filter formed from a photosensitive resin composition, photosensitive resin composition and method of producing a light-shielding color filter
US8916621B2 (en) 2009-03-23 2014-12-23 Basf Se Photoresist compositions
US20150064623A1 (en) * 2012-03-22 2015-03-05 Adeka Corporation Novel compound and photosensitive resin composition
US9017583B2 (en) 2012-12-26 2015-04-28 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition, and light blocking layer and liquid crystal display using the same
US9051397B2 (en) 2010-10-05 2015-06-09 Basf Se Oxime ester
US9110205B2 (en) 2009-12-11 2015-08-18 Fujifilm Corporation Black curable composition, light-shielding color filter, light-shielding film and method for manufacturing the same, wafer level lens, and solid-state imaging device
KR20170014833A (en) 2015-07-31 2017-02-08 (주)켐이 Fluorene derivatives, photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same
KR20170023448A (en) 2015-08-24 2017-03-06 (주)켐이 Fluorene derivatives, photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same
JP2017523465A (en) * 2014-07-15 2017-08-17 常州強力電子新材料股▲ふん▼有限公司Cahngzhou Tronly New Electronic Materials Co.,Ltd. Oxime ester photoinitiator-containing photosensitive composition and use thereof
JPWO2022264987A1 (en) * 2021-06-15 2022-12-22

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5533195A (en) * 1978-08-25 1980-03-08 Agfa Gevaert Nv Improved photopolymerizable recording material
JPS55100543A (en) * 1979-01-24 1980-07-31 Agfa Gevaert Nv Photosensitive composition containing ethylenic unsaturated comound* initiator* and sensitizer
JPS604502A (en) * 1983-06-22 1985-01-11 Daicel Chem Ind Ltd Photopolymerization initiator
JPS60166306A (en) * 1984-02-09 1985-08-29 Daicel Chem Ind Ltd Photo-polymerization initiator
JPH05214012A (en) * 1992-02-05 1993-08-24 Nippon Oil & Fats Co Ltd Crosslinking agent for ethylene polymer and crosslinking method
JP2002323762A (en) * 2001-04-25 2002-11-08 Nippon Kayaku Co Ltd Negative type colored photosensitive composition
JP2004534797A (en) * 2001-06-11 2004-11-18 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド Oxime ester photoinitiators with combined structures
JP2004359639A (en) * 2003-06-06 2004-12-24 Asahi Denka Kogyo Kk Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same
JP2006516246A (en) * 2002-12-03 2006-06-29 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5533195A (en) * 1978-08-25 1980-03-08 Agfa Gevaert Nv Improved photopolymerizable recording material
JPS55100543A (en) * 1979-01-24 1980-07-31 Agfa Gevaert Nv Photosensitive composition containing ethylenic unsaturated comound* initiator* and sensitizer
JPS604502A (en) * 1983-06-22 1985-01-11 Daicel Chem Ind Ltd Photopolymerization initiator
JPS60166306A (en) * 1984-02-09 1985-08-29 Daicel Chem Ind Ltd Photo-polymerization initiator
JPH05214012A (en) * 1992-02-05 1993-08-24 Nippon Oil & Fats Co Ltd Crosslinking agent for ethylene polymer and crosslinking method
JP2002323762A (en) * 2001-04-25 2002-11-08 Nippon Kayaku Co Ltd Negative type colored photosensitive composition
JP2004534797A (en) * 2001-06-11 2004-11-18 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド Oxime ester photoinitiators with combined structures
JP2006516246A (en) * 2002-12-03 2006-06-29 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups
JP2004359639A (en) * 2003-06-06 2004-12-24 Asahi Denka Kogyo Kk Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same

Cited By (72)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101067188B1 (en) 2004-07-20 2011-09-22 제이에스알 가부시끼가이샤 Radiation Sensitive Resin Composition, Spacer for Display Panel and Display Panel
JP2006039140A (en) * 2004-07-26 2006-02-09 Jsr Corp Radiation sensitive composition for colored layer formation, color filter and color liquid crystal display panel
JP4492238B2 (en) * 2004-07-26 2010-06-30 Jsr株式会社 Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display panel
JP2006053557A (en) * 2004-08-09 2006-02-23 Dongjin Semichem Co Ltd Photosensitive resin composition for spacer, spacer and liquid crystal display element
US7696257B2 (en) * 2004-08-20 2010-04-13 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing such compound
JP2007078894A (en) * 2005-09-12 2007-03-29 Fujifilm Corp Photosensitive composition, pattern forming material, photosensitive laminate, pattern forming apparatus, and pattern forming method
KR101340352B1 (en) 2006-02-24 2013-12-11 후지필름 가부시키가이샤 Oxime derivative, photopolymerizable composition, color filter, and process for producing the same
JP4954194B2 (en) * 2006-03-14 2012-06-13 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Photosensitive resin laminate
WO2007105644A1 (en) * 2006-03-14 2007-09-20 Asahi Kasei Emd Corporation Photosensitive-resin layered product
WO2007111000A1 (en) * 2006-03-28 2007-10-04 Fujifilm Corporation Photopolymerization initiator, photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive laminate, method of forming permanent pattern and printed board
KR101357733B1 (en) 2006-03-28 2014-02-04 후지필름 가부시키가이샤 Photopolymerization initiator, photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive laminate, method of forming permanent pattern and printed board
JP2007262224A (en) * 2006-03-28 2007-10-11 Fujifilm Corp Photo-polymerization initiator, photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive layered product, permanent pattern forming method, and printed wiring board
JP2007316445A (en) * 2006-05-26 2007-12-06 Fujifilm Corp Curable composition, color filter and method for producing the same
JP2008146042A (en) * 2006-11-15 2008-06-26 Taiyo Ink Mfg Ltd Paste composition, forming method of pattern using same, and its pattern
JP2008179611A (en) * 2006-12-20 2008-08-07 Mitsubishi Chemicals Corp Oxime ester-based compound, photopolymerization initiator, photopolymerizable composition, color filter and liquid crystal display
KR101370818B1 (en) * 2006-12-20 2014-03-07 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Oxime ester compound, photopolymerization initiator, photopolymerizable composition, color filter, and liquid crystal display device
KR101337283B1 (en) 2006-12-20 2013-12-06 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Oxime ester compound, photopolymerization initiator, photopolymerizable composition, color filter, and liquid crystal display device
WO2008075564A1 (en) * 2006-12-20 2008-06-26 Mitsubishi Chemical Corporation Oxime ester compound, photopolymerization initiator, photopolymerizable composition, color filter, and liquid crystal display device
JP2008164730A (en) * 2006-12-27 2008-07-17 Mitsubishi Chemicals Corp Composition for forming hologram recording layer, and hologram recording material and hologram optical recording medium using the same
WO2008090640A1 (en) 2007-01-23 2008-07-31 Fujifilm Corporation Oxime compound, photosensitive composition, color filter, method for production of the color filter, and liquid crystal display element
WO2008102990A1 (en) * 2007-02-21 2008-08-28 Lg Chem, Ltd. Photo-sensitive resin composition for black matrix, black matrix produced by the composition and liquid crystal display including the black matrix
JP2008216290A (en) * 2007-02-28 2008-09-18 Sanyo Chem Ind Ltd Photosensitive resin composition
JP2008242377A (en) * 2007-03-29 2008-10-09 Nippon Steel Chem Co Ltd Photosensitive resin composition for black resist
JP2014028861A (en) * 2007-05-11 2014-02-13 Basf Se Oxime ester photopolymerization initiator
JP2009042751A (en) * 2007-07-17 2009-02-26 Fujifilm Corp Photosensitive composition, curable composition, curable composition for color filter, color filter and method for producing the same
KR101458562B1 (en) 2007-07-17 2014-11-07 후지필름 가부시키가이샤 Novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, method for producing color filter, solid-state imaging device and planographic printing plate precursors
US8728686B2 (en) 2007-07-17 2014-05-20 Fujifilm Corporation Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors
EP2204677A1 (en) 2008-03-18 2010-07-07 Fujifilm Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same and solid-state image sensor
EP2103966A3 (en) * 2008-03-18 2009-11-18 FUJIFILM Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same and solid-state image sensor
US8872099B2 (en) 2008-03-18 2014-10-28 Fujifilm Corporation Solid-state image sensor including a light-shielding color filter formed from a photosensitive resin composition, photosensitive resin composition and method of producing a light-shielding color filter
JP2009258657A (en) * 2008-03-18 2009-11-05 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same, and solid-state image sensor
US8895909B2 (en) 2008-03-18 2014-11-25 Fujifilm Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same and solid-state image sensor
EP2103966A2 (en) 2008-03-18 2009-09-23 FUJIFILM Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same and solid-state image sensor
JP2009244414A (en) * 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and solid-state image sensor
JP2009244408A (en) * 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, light shielding color filter and production process therefor, and solid-state image sensor
US8110324B2 (en) 2008-03-28 2012-02-07 Fujifilm Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor
US8119311B2 (en) 2008-03-28 2012-02-21 Fujifilm Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor
EP2105792A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor
WO2009122789A1 (en) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 Polymerizable composition, light-blocking color filter for solid-state imaging device, and solid-state imaging device
JP2009244741A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor
US8735026B2 (en) 2008-03-31 2014-05-27 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, light-blocking color filter for solid-state imaging device, and solid-state imaging device
EP2112182A1 (en) 2008-04-25 2009-10-28 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition, light-shielding color filter, black curable composition, light-shielding color filter for solid-state image pickup device and method of producing the same, and solid-state image pickup device
KR20110005233A (en) 2008-04-25 2011-01-17 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Ketoxime ester compound and use thereof
JP2009265518A (en) * 2008-04-28 2009-11-12 Fujifilm Corp Photosensitive composition, photosensitive composition for solid-state imaging element, light-shielding color filter for solid-state imaging element, and solid-state imaging element
JP2010032985A (en) * 2008-06-30 2010-02-12 Fujifilm Corp Novel compound, polymerizable composition, color filter and production method thereof, solid-state imaging device, and planographic printing plate precursor
KR101260712B1 (en) 2008-06-30 2013-05-10 후지필름 가부시키가이샤 Novel compound, polymerizable composition, color filter and production method thereof, solid-state imaging device, and planographic printing plate precursor
US8916621B2 (en) 2009-03-23 2014-12-23 Basf Se Photoresist compositions
US8975005B2 (en) * 2009-09-30 2015-03-10 Fujifilm Corporation Black curable composition for wafer level lens and wafer level lens
US20120202154A1 (en) * 2009-09-30 2012-08-09 Fujifilm Corporation Black curable composition for wafer level lens and wafer level lens
US9110205B2 (en) 2009-12-11 2015-08-18 Fujifilm Corporation Black curable composition, light-shielding color filter, light-shielding film and method for manufacturing the same, wafer level lens, and solid-state imaging device
CN102103327A (en) * 2009-12-22 2011-06-22 株式会社Lg化学 Black matrix composition with high light-shielding and improved adhesion properties
CN102103327B (en) * 2009-12-22 2014-06-18 株式会社Lg化学 Black matrix composition with high light-shielding and improved adhesion properties
US8828629B2 (en) 2010-03-25 2014-09-09 Fujifilm Corporation Black curable composition, light-shielding color filter for a solid-state imaging device and method of producing the same, solid-state imaging device, wafer level lens, and camera module
US9051397B2 (en) 2010-10-05 2015-06-09 Basf Se Oxime ester
WO2012045736A1 (en) 2010-10-05 2012-04-12 Basf Se Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
JP2014500852A (en) * 2010-10-05 2014-01-16 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
JP2012093396A (en) * 2010-10-22 2012-05-17 Fujifilm Corp Photopolymerizable composition, color filter and manufacturing method thereof, low refractive index cured film, solid state image sensor, and novel compound
KR20120096427A (en) * 2011-02-22 2012-08-30 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 Photosensitive resin composition, color filter using the same and display device
KR101887241B1 (en) 2011-02-22 2018-08-09 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 Photosensitive resin composition, color filter using the same and display device
JP2013042096A (en) * 2011-08-19 2013-02-28 Dainippon Printing Co Ltd Photosensitive resin composition for optical imprint, hardened material, resist substrate, and manufacturing method of semiconductor device
WO2013083505A1 (en) 2011-12-07 2013-06-13 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US9365515B2 (en) 2011-12-07 2016-06-14 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US20150064623A1 (en) * 2012-03-22 2015-03-05 Adeka Corporation Novel compound and photosensitive resin composition
US9594302B2 (en) * 2012-03-22 2017-03-14 Adeka Corporation Compound and photosensitive resin composition
WO2014050738A1 (en) 2012-09-28 2014-04-03 ダイトーケミックス株式会社 Fluorene-type compound, photopolymerization initiator comprising said fluorene-type compound, and photosensitive composition containing said photopolymerization initiator
US9684238B2 (en) 2012-09-28 2017-06-20 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Fluorene-type compound, photopolymerization initiator comprising said fluorene-type compound, and photosensitive composition containing said photopolymerization initiator
US9017583B2 (en) 2012-12-26 2015-04-28 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition, and light blocking layer and liquid crystal display using the same
JP2017523465A (en) * 2014-07-15 2017-08-17 常州強力電子新材料股▲ふん▼有限公司Cahngzhou Tronly New Electronic Materials Co.,Ltd. Oxime ester photoinitiator-containing photosensitive composition and use thereof
KR20170014833A (en) 2015-07-31 2017-02-08 (주)켐이 Fluorene derivatives, photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same
KR20170023448A (en) 2015-08-24 2017-03-06 (주)켐이 Fluorene derivatives, photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same
JPWO2022264987A1 (en) * 2021-06-15 2022-12-22
WO2022264987A1 (en) * 2021-06-15 2022-12-22 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, resin sheet, multilayer printed wiring board and semiconductor device

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