JP2006024915A - Exposure system, exposing method, and device manufacturing method - Google Patents

Exposure system, exposing method, and device manufacturing method Download PDF

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Hiroyuki Nagasaka
Minoru Onda
稔 恩田
博之 長坂
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株式会社ニコン
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<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an exposure system which can prevent the deterioration of exposing precision caused from contamination of an element(optical element) and can inhibits expansion of liquid-soaked region. <P>SOLUTION: The exposure system EX exposes a substrate P via a projection optical system PL and a liquid P. The projection optical system PL has a first optical element LS1 nearest to its imaging surface and a second optical element LS2 nearer to the imaging surface next to the first optical element LS1. The first optical element LS1 has a lower surface T1 located so as to face the surface of the substrate P and an upper surface T2 located to be opposed to the second optical element LS2. The space between the upper surface T2 of the first optical element LS1 and the second optical element LS2 is filled with a second liquid LQ2 so that only a part of the area of the upper surface T2 containing a region AR', where exposure light EL passes through, is the liquid-soaked region, and the exposure light EL is emitted on the substrate P via the first liquid LQ1 of the lower surface T1 side of the first optical element LS1 and the second liquid LQ2 of the upper surface T2 side. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液体を介して基板を露光する露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法に関するものである。 The present invention relates to an exposure apparatus and an exposure method for exposing a substrate through a liquid, and a device manufacturing method.

半導体デバイスや液晶表示デバイスは、マスク上に形成されたパターンを感光性の基板上に転写する、いわゆるフォトリソグラフィの手法により製造される。 Semiconductor devices and liquid crystal display devices, to transfer a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate, is manufactured by a so-called photolithography technique. このフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置は、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながらマスクのパターンを投影光学系を介して基板に転写するものである。 An exposure apparatus used in this photolithographic process, and a substrate stage that supports the mask stage and the substrate supporting the mask, the pattern of the mask through a projection optical system while moving the mask stage and the substrate stage sequentially it is transferred onto the substrate. 近年、デバイスパターンのより一層の高集積化に対応するために投影光学系の更なる高解像度化が望まれている。 Recently for higher resolution of the projection optical system in order to cope with higher integration of the device pattern it is desired. 投影光学系の解像度は、使用する露光波長が短いほど、また投影光学系の開口数が大きいほど高くなる。 Resolution of the projection optical system, as the exposure wavelength to be used is shorter, the higher the larger the numerical aperture of the projection optical system. そのため、露光装置で使用される露光波長は年々短波長化しており、投影光学系の開口数も増大している。 Therefore, the exposure wavelength used in exposure apparatuses has shortened year by year wavelength has increased numerical aperture of projection optical systems. そして、現在主流の露光波長はKrFエキシマレーザの248nmであるが、更に短波長のArFエキシマレーザの193nmも実用化されつつある。 The mainstream exposure wavelength currently is a 248nm from a KrF excimer laser, it is being put to practical use yet ArF excimer laser of short wavelength 193 nm. また、露光を行う際には、解像度と同様に焦点深度(DOF)も重要となる。 Further, when exposure is performed, similarly to the resolution depth of focus (DOF) is also important. 解像度R、及び焦点深度δはそれぞれ以下の式で表される。 The resolution R, and the depth of focus δ are represented by the following expressions.

R=k ・λ/NA … (1) R = k 1 · λ / NA ... (1)
δ=±k ・λ/NA … (2) δ = ± k 2 · λ / NA 2 ... (2)
ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k 、k はプロセス係数である。 Here, lambda is the exposure wavelength, NA is the numerical aperture of the projection optical system, k 1, k 2 represent the process coefficients. (1)式、(2)式より、解像度Rを高めるために、露光波長λを短くして、開口数NAを大きくすると、焦点深度δが狭くなることが分かる。 (1) and (2), in order to enhance the resolution R, then shorten the exposure wavelength lambda, and the numerical aperture NA is increased, it can be seen that the depth of focus δ becomes narrower.

焦点深度δが狭くなり過ぎると、投影光学系の像面に対して基板表面を合致させることが困難となり、露光動作時のフォーカスマージンが不足するおそれがある。 If the depth of focus δ is too narrowed, it is difficult to match the substrate surface with respect to the image plane of the projection optical system, the focus margin during the exposure operation may be insufficient. そこで、実質的に露光波長を短くして、且つ焦点深度を広くする方法として、例えば下記特許文献1に開示されている液浸法が提案されている。 Therefore, by substantially shortening the exposure wavelength and a method of widening the depth of focus, for example, immersion method disclosed in Patent Document 1 it has been proposed. この液浸法は、投影光学系の下面と基板表面との間を水や有機溶媒等の液体で満たして液浸領域を形成し、液体中での露光光の波長が空気中の1/n(nは液体の屈折率で通常1.2〜1.6程度)になることを利用して解像度を向上するとともに、焦点深度を約n倍に拡大するというものである。 This liquid immersion method forms an immersion area between the lower surface and the substrate surface of the projection optical system is filled with liquid such as water or an organic solvent, 1 / n of the wavelength of the exposure light in the liquid in the air (n is usually about 1.2 to 1.6 in the refractive index of the liquid) as well as improving the resolution as well be a, is that the depth of focus is magnified about n times.
国際公開第99/49504号パンフレット International Publication No. WO 99/49504

ところで、上記特許文献1に開示されているような液浸露光装置においては、投影光学系を構成する複数のエレメント(光学素子)のうち最も像面の近くに配置された光学素子に、基板上に形成された液浸領域の液体が接触する構成である。 Incidentally, in the immersion exposure apparatus as disclosed in Patent Document 1, to an optical element placed close to the most image plane of the plurality of elements constituting the projection optical system (optical element) onto a substrate liquid of the formed liquid immersion area is configured to contact the. その場合において、液浸領域の液体中に例えば基板上から発生した不純物等が混入し、液浸領域の液体が汚染すると、その汚染された液浸領域の液体により、前記最も像面の近くに配置された光学素子が汚染される可能性がある。 In that case, or the like is mixed impurities generated from the liquid immersion area for example on a substrate, the liquid immersion area is contaminated, the liquid of the contaminated liquid immersion area, close to the most image plane arranged optical elements can be contaminated. 光学素子が汚染すると、その光学素子の光透過率が低下したり光透過率に分布が生じる等の不都合が生じ、投影光学系を介した露光精度及び計測精度の劣化を招く可能性がある。 When the optical element is polluted, the light transmittance of the optical element inconvenience such distribution occurs in the light transmittance may decrease, which may lead to deterioration of the exposure accuracy and measurement accuracy via the projection optical system.

また、上記特許文献1には、マスクと基板とを走査方向に同期移動しつつマスクに形成されたパターンを基板に露光する走査型露光装置も開示されているが、走査型露光装置においては、デバイスの生産性向上等を目的として、走査速度(スキャン速度)の高速化が要求される。 The aforementioned Patent Document 1, although the scanning type exposure apparatus that exposes a pattern formed on the mask while synchronously moving the mask and the substrate in the scanning direction of the substrate is also disclosed, in the scanning type exposure apparatus, the purpose of the device productivity, etc., faster scanning speed (scanning speed) is required. ところが、スキャン速度を高速化した場合、液浸領域を所望の大きさに維持することが困難となる可能性がある。 However, when faster scanning speed, there is a case that it is difficult to maintain the liquid immersion area in a desired size.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、エレメント(光学素子)の汚染に起因する露光精度及び計測精度の劣化を防止できる露光装置、及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供することを目的とする。 The present invention was made in view of such circumstances, elements exposure device capable of preventing the deterioration of the exposure accuracy and the measurement accuracy due to contamination of the (optical element), and a device manufacturing method using the exposure apparatus an object of the present invention is to provide. また、本発明は、液浸領域を所望状態に維持する露光装置、及び露光方法、並びにデバイス製造方法を提供することを目的とする。 Further, the present invention relates to an exposure apparatus for maintaining the liquid immersion area in a desired state, and an exposure method, and an object of the invention to provide a device manufacturing method.

上記の課題を解決するため、本発明は実施の形態に示す図1〜図16に対応付けした以下の構成を採用している。 To solve the above problems, the present invention adopts the following constructions corresponding to Figs. 1 to 16 as illustrated in embodiments. 但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。 However, parenthesized reference numerals affixed to respective elements merely exemplify the elements by way of example and are not intended to limit the respective elements.

本発明の第1の態様に従えば、複数のエレメント(LS1〜LS7)を含む投影光学系(PL)と液体(LQ1)とを介して基板(P)上に露光光(EL)を照射して、基板(P)を露光する露光装置において、投影光学系(PL)は、投影光学系(PL)の像面に最も近い第1エレメント(LS1)と、第1エレメント(LS1)に次いで像面に近い第2エレメント(LS2)とを有し、第1エレメント(LS1)は、基板(P)の表面と対向するように配置され、露光光(EL)が通過する第1面(T1)と、第2エレメント(LS2)と対向するように配置され、露光光(EL)が通過する第2面(T2)とを有し、第1エレメント(LS1)及び第2エレメント(LS2)は、投影光学系(PL)の光軸(AX)に対してほぼ静止状 According to a first aspect of the present invention, it is irradiated with exposure light (EL) via the projection optical system including a plurality of elements (LS1~LS7) and (PL) and a liquid (LQ1) on the substrate (P) Te, an exposure apparatus that exposes a substrate (P), a projection optical system (PL) is the projection optical system and the closest first element to the image plane of the (PL) (LS1), next to the first element (LS1) image and a second element near the surface (LS2), the first element (LS1) is arranged so as to face the surface of the substrate (P), a first surface of the exposure light (EL) passes (T1) When being arranged to face the second element (LS2), and a exposure light a second surface (EL) passes (T2), the first element (LS1) and a second element (LS2) is substantially stationary manner with respect to the optical axis of the projection optical system (PL) (AX) で支持され、第1エレメント(LS1)の第2面(T2)のうち露光光(EL)が通過する領域(AR')を含む一部の領域のみが液浸領域(LR2)となるように、第1エレメント(LS1)の第2面(T2)と第2エレメント(LS2)との間が液体(LQ2)で満たされ、第1エレメント(LS1)の第1面(T1)側の第1液体(LQ1)と第2面(T2)側の第2液体(LQ2)とを介して基板(P)上に露光光(EL)を照射して、基板(P)を露光する露光装置(EX)が提供される。 In is supported, so that only a portion of the region including the region (AR ') which the exposure light (EL) passes in the second surface of the first element (LS1) (T2) becomes the liquid immersion area (LR2) , between the second face of the first element (LS1) and (T2) and the second element (LS2) is filled with a liquid (LQ2), first first first surface element (LS1) (T1) side liquid (LQ1) and is irradiated with exposure light (EL) onto the substrate (P) through a second surface (T2) of the second liquid (LQ2), an exposure apparatus which exposes a substrate (P) (EX ) is provided.

本発明によれば、第1エレメントの第1面と基板との間を第1液体で満たすとともに、第1エレメントの第2面と第2エレメントとの間を第2液体で満たすことで、投影光学系PLの大きな像側開口数を確保した状態で、基板を良好に露光することができる。 According to the present invention, fulfills between the first surface and the substrate of the first element with the first liquid, by filling the space between the second surface and the second element of the first element with the second liquid, the projection while securing a large image side numerical aperture of the optical system PL, it can be satisfactorily exposed substrates. また、第1面側の第1液体が基板と接触する場合には、第1エレメントの第1面側が汚染する可能性が高くなるが、第1エレメントの第1面側及び第2面側のそれぞれが液体で満たされるので、第1エレメントを容易に交換可能な構成とすることができる。 When the first liquid in the first surface side is in contact with the substrate is likely to first surface side of the first element contamination is high, the first surface and the second surface side of the first element since each of which is filled with liquid, it can be the first element easily interchangeable configurable. したがって、その汚染された第1エレメントのみを清浄なものと交換することができ、その清浄な第1エレメントを備えた投影光学系及び液体を介した露光及び計測を良好に行うことができる。 Therefore, the only polluted first element was a can be replaced with a clean, can be satisfactorily exposed and measured via the projection optical system and the liquid with the clean first element. また、第2液体は、第1エレメントの第2面上のうち露光光が通過する領域を含む一部の領域のみに局所的に液浸領域を形成するため、第1エレメントの第2面の周囲からの第2液体の漏出を防止することができる。 The second liquid, to form a locally immersion area only a part of the area including the area through which the exposure light passes out of the second face of the first element, the second face of the first element it is possible to prevent leakage of the second liquid from the surroundings. したがって、漏出した第2液体に起因する第1エレメント周辺の機械部品などの劣化を防止できる。 Accordingly, it is possible to prevent the deterioration of such mechanical parts around the first element due to the second liquid leaked. また、第1エレメントの第2面上に第2液体の液浸領域を局所的に形成することで、例えば第1エレメントを支持する支持部への液体の浸入を防止することができ、その支持部の劣化を防止できる。 Moreover, by locally forming the liquid immersion area of ​​the second liquid on the second surface of the first element, it is possible to prevent penetration of the liquid, for example to the support portion for supporting the first element, the support the deterioration of the part can be prevented. また、第2液体は、第2面上において局所的に液浸領域を形成するため、例えばエレメントを支持する支持部等には接触しない。 The second liquid, to form a locally immersion area on the second surface, for example not in contact with the support portion or the like for supporting the element. したがって、液浸領域を形成する第2液体に対して支持部等から発生する不純物が混入する等の不都合を防止できる。 Therefore, it is possible to prevent the inconvenience such as the impurities generated from the supporting portion or the like to the second liquid forming the liquid immersion area is mixed. したがって、第2液体の清浄度を維持した状態で、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる。 Therefore, while maintaining the cleanness of the second liquid, it is possible to satisfactorily perform the exposure process and measurement process.

なお、本発明における第1エレメントは、無屈折力の透明部材(例えば、平行平面板)であってもよく、例えば最も像面の近くに配置された透明部材が投影光学系の結像性能にまったく寄与しない場合にも、その透明部材を第1エレメントとみなす。 The first element in the present invention, a transparent member no refractive power (for example, plane-parallel plate) may be, for example, a transparent member disposed close to the most image plane within imaging performance of the projection optical system even if all do not contribute, it views the transparent member and the first element. また、本発明における第1エレメント及び第2エレメントは投影光学系の光軸(露光光)に対してほぼ静止状態で支持されているが、第1エレメントと第2エレメントの少なくとも一方が、その位置や姿勢を調整するために微小移動可能に支持されている場合も、“ほぼ静止状態に支持されている”とみなす。 The first element and the second element in the present invention is supported by the substantially stationary relative to the projection optical system of the optical axis (exposure light), but at least one of the first element and the second element, its position even if it is small movably supported for adjusting the or posture, regarded as "is supported by the substantially stationary state".

本発明の第2の態様に従えば、複数のエレメント(LS1〜LS7)を含む投影光学系(PL)と液体(LQ1)とを介して基板(P)上に露光光(EL)を照射して、基板(P)を露光する露光装置において、投影光学系(PL)は、投影光学系(PL)の像面に最も近い第1エレメント(LS1)と、第1エレメント(LS1)に次いで像面に近い第2エレメント(LS2)とを有し、第1エレメント(LS1)は、基板(P)の表面と対向するように配置され、露光光(EL)が通過する第1面(T1)と、第2エレメント(LS2)と対向するように配置され、露光光(EL)が通過する第2面(T2)とを有し、第1エレメント(LS1)と対向する第2エレメント(LS2)の面(T3)の外径(D3)が、第1エレメント(L According to a second aspect of the present invention, it is irradiated with exposure light (EL) via the projection optical system including a plurality of elements (LS1~LS7) and (PL) and a liquid (LQ1) on the substrate (P) Te, an exposure apparatus that exposes a substrate (P), a projection optical system (PL) is the projection optical system and the closest first element to the image plane of the (PL) (LS1), next to the first element (LS1) image and a second element near the surface (LS2), the first element (LS1) is arranged so as to face the surface of the substrate (P), a first surface of the exposure light (EL) passes (T1) When being arranged to face the second element (LS2), the exposure light (EL) has a second surface that passes through (T2), the second element opposite the first element (LS1) (LS2) the outer diameter of the surface (T3) (D3) is the first element (L 1)の第2面(T2)の外径(D2)よりも小さく、第1エレメント(LS1)及び第2エレメント(LS2)は、投影光学系(PL)の光軸(AX)に対してほぼ静止状態で支持され、第1エレメント(LS1)の第1面(T1)側の第1液体(LQ1)と第2面(T2)側の第2液体(LQ2)とを介して基板(P)上に露光光(EL)を照射して、基板(P)を露光する露光装置(EX)が提供される。 Smaller than the outer diameter (D2) of the second surface of 1) (T2), the first element (LS1) and a second element (LS2) is approximately with respect to the optical axis of the projection optical system (PL) (AX) It is supported in a stationary state, the first face of the first element (LS1) (T1) a first liquid-side (LQ1) and the second surface (T2) a second liquid side (LQ2) substrate via the (P) by irradiating exposure light (EL) above, an exposure apparatus which exposes a substrate (P) (EX) is provided.

本発明によれば、第1エレメントと対向する第2エレメントの面を第2液体で覆いつつ、第1エレメントの第2面上に、第2エレメントの面に応じた大きさの液浸領域を局所的に形成することができる。 According to the present invention, while covering the surface of the second element opposed to the first element with the second liquid, on the second surface of the first element, the size of the liquid immersion area corresponding to the surface of the second element it can be locally formed. したがって、第1エレメントの第2面の周囲からの第2液体の漏出を防止することができ、漏出した第2液体に起因する第1エレメント周辺の機械部品などの劣化を防止できる。 Therefore, it is possible to prevent the second leakage of liquid from the periphery of the second surface of the first element, the deterioration of the machine parts surrounding the first element due to the second liquid leaked can be prevented. また、第1エレメントの第2面上に第2液体の液浸領域を局所的に形成することで、例えば第1エレメントを支持する支持部への液体の浸入を防止することができ、その支持部の劣化を防止できる。 Moreover, by locally forming the liquid immersion area of ​​the second liquid on the second surface of the first element, it is possible to prevent penetration of the liquid, for example to the support portion for supporting the first element, the support the deterioration of the part can be prevented. また、第2液体は、第2面上において局所的に液浸領域を形成するため、例えばエレメントを支持する支持部等には接触しない。 The second liquid, to form a locally immersion area on the second surface, for example not in contact with the support portion or the like for supporting the element. したがって、液浸領域を形成する第2液体に対して支持部等から発生する不純物が混入する等の不都合を防止できる。 Therefore, it is possible to prevent the inconvenience such as the impurities generated from the supporting portion or the like to the second liquid forming the liquid immersion area is mixed. したがって、第2液体の清浄度を維持することができる。 Therefore, it is possible to maintain the cleanness of the second liquid. そして、第2面上に局所的に形成された液浸領域の第2液体と、第1面側に形成された液浸領域の第1液体とを介して基板上に露光光を照射することで、投影光学系の大きな像側開口数を確保した状態で、基板を良好に露光することができる。 Then, by irradiating a second liquid locally formed liquid immersion area, the exposure light onto the substrate through the first liquid immersion area formed on the first surface side on the second surface in, while securing a large image side numerical aperture of the projection optical system, it can be satisfactorily exposed substrates. また、第1エレメントの第1面側及び第2面側のそれぞれが液体で満たされているので、第1エレメントを容易に交換可能な構成とすることができる。 Further, since each of the first surface side and the second surface side of the first element is filled with liquid, it can be the first element easily interchangeable configurable. したがって、汚染された第1エレメントのみを清浄なものと交換することができ、その清浄な第1エレメントを備えた投影光学系及び液体を介した露光及び計測を良好に行うことができる。 Therefore, only the first element, which is contaminated can be replaced with a clean, can be satisfactorily exposed and measured via the projection optical system and the liquid with the clean first element.

なお、本発明における第1エレメントは、無屈折力の透明部材(例えば、平行平面板)であってもよく、例えば最も像面の近くに配置された透明部材が投影光学系の結像性能にまったく寄与しない場合にも、その透明部材を第1エレメントとして投影光学系の一部とみなす。 The first element in the present invention, a transparent member no refractive power (for example, plane-parallel plate) may be, for example, a transparent member disposed close to the most image plane within imaging performance of the projection optical system even if all does not contribute, regarded as part of the projection optical system and the transparent member as the first element. また、本発明における第1エレメントと第2エレメントは投影光学系の光軸(露光光)に対してほぼ静止状態で支持されているが、第1エレメントと第2エレメントの少なくとも一方が、その位置や姿勢を調整するために微小移動可能に支持されている場合も、“ほぼ静止状態に支持されている”とみなす。 The first element and the second element in the present invention is supported by the substantially stationary relative to the projection optical system of the optical axis (exposure light), but at least one of the first element and the second element, its position even if it is small movably supported for adjusting the or posture, regarded as "is supported by the substantially stationary state".

本発明の第3の態様に従えば、複数のエレメント(LS1〜LS7)を含む投影光学系(PL)と第1液体(LQ1)とを介して基板(P)上に露光光(EL)を照射して、基板(P)を露光する露光装置において、第1液体(LQ1)を供給するための第1液浸機構(11など)を備え、投影光学系(PL)は、投影光学系(PL)の像面に最も近い第1エレメント(LS1)と、第1エレメント(LS1)に次いで像面に近い第2エレメント(LS2)とを有し、第1エレメント(LS1)は、基板(P)の表面と対向するように配置され、露光光(EL)が通過する第1面(T1)と、第2エレメント(LS2)と対向するように配置され、第1面(T1)と略平行な第2面(T2)とを有し、第1エレメント(LS1)の第2面(T According to a third aspect of the present invention, a projection optical system including a plurality of elements (LS1~LS7) (PL) and the first liquid (LQ1) and the exposure light onto the substrate (P) via the (EL) by irradiating an exposure apparatus that exposes a substrate (P), comprising a first liquid immersion mechanism for supplying the first liquid (LQ1) (such as 11), a projection optical system (PL) is the projection optical system ( closest first element to the image plane of the PL) (LS1), and a second element closer to the image plane (LS2) next to the first element (LS1), the first element (LS1), the substrate (P ) it is arranged so as to face the opposite, substantially parallel to the first surface exposure light (EL) passes (T1), is arranged so as to face the second element (LS2), the first surface and (T1) a second surface (T2) and has a a second surface of the first element (LS1) (T )の外径(D2)は、第1エレメント(LS1)の第1面(T1)の外径(D1)より大きく、第1エレメント(LS1)と基板(P)との間の第1液体(LQ1)を介して基板(P)上に露光光(EL)を照射して、基板(P)を露光する露光装置(EX)が提供される。 Outer diameter (D2) of) the first surface of the first element (LS1) (T1) greater than the outer diameter (D1) of the first liquid between the first element (LS1) and the substrate (P) ( LQ1) by irradiating exposure light (EL) onto the substrate (P) via an exposure apparatus which exposes a substrate (P) (EX) is provided.

本発明によれば、第1エレメントの第2面の外径を、第1面の外径より大きくしたので、第1エレメントを支持部で支持する場合、その第1エレメントを支持する支持部を、第1エレメントの光軸から離れた位置(第2面の端部)に設けることができる。 According to the present invention, the outer diameter of the second surface of the first element, since larger than the outer diameter of the first surface, to support the first element in the support portion, the support portion for supporting the first element it can be provided in a position away from the optical axis of the first element (end of the second surface). したがって、第1エレメントの周辺に配置する部材や機器等と支持部との干渉を防ぐことができ、前記部材や機器等の配置の自由度及び設計の自由度を向上することができる。 Therefore, it is possible to members and devices such as that disposed around the first element and the interference can be prevented between the support portion, to improve the flexibility of freedom and design of the arrangement, such as the members and devices. また、第1エレメントの第1面の外径は第2面に対して十分に小さいので、第1液浸機構によって第1面と基板との間に形成される液浸領域の大きさを小さくすることができる。 Further, since the outer diameter of the first surface of the first element is sufficiently smaller than the second surface, reducing the size of the liquid immersion area formed between the first surface and the substrate by the first liquid immersion mechanism can do.

なお、本発明における第1エレメントは、無屈折力の透明部材(例えば、平行平面板)であってもよく、例えば最も像面の近くに配置された透明部材が投影光学系の結像性能にまったく寄与しない場合にも、その透明部材を第1エレメントとして投影光学系の一部とみなす。 The first element in the present invention, a transparent member no refractive power (for example, plane-parallel plate) may be, for example, a transparent member disposed close to the most image plane within imaging performance of the projection optical system even if all does not contribute, regarded as part of the projection optical system and the transparent member as the first element.

本発明の第4の態様に従えば、第1液体(LQ1)を介して基板(P)上に露光光(EL)を照射して、基板(P)を露光する露光装置であって、第1液体を基板上にもたらす第1液浸機構(11など)と、像面に最も近い第1エレメント(LS1)と第1エレメント(LS1)に次いで像面に近い第2エレメント(LS2)とを含む複数のエレメント(LS1〜LS7)を有する投影光学系(PL)とを備え、第1エレメント(LS1)は、第1面(T1)が基板(P)の表面と対向するように、且つ第2面(T2)が第2エレメント(LS2)と対向するように配置され、投影光学系(PL)の光軸(AX)上における第1エレメント(LS1)の第1面(T1)と第2面(T2)との距離(H1)は15mm以上であり、第1エレメン According to a fourth aspect of the present invention, by irradiating the exposure light (EL) onto the substrate through the first liquid (LQ1) (P), there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate (P), the a first liquid immersion mechanism which brings one liquid onto a substrate (such as 11), and a second element near the image plane next to closest first element to the image plane (LS1) and the first element (LS1) (LS2) and a projection optical system (PL) having a plurality of elements (LS1~LS7) comprising, first element (LS1), as the first surface (T1) faces the surface of the substrate (P), and the dihedral (T2) is arranged so as to face the second element (LS2), the projection first face of the first element on the optical axis (AX) of the optical system (PL) (LS1) (T1) and the second distance between the surface (T2) (H1) is at 15mm or more, the first elementary (LS1)の第1面(T1)側の第1液体(LQ1)と第2面(T2)側の第2液体(LQ2)とを介して基板(P)上に露光光(EL)を照射して、基板(P)を露光する露光装置(EX)が提供される。 Irradiating the first surface of the (LS1) (T1) side first liquid (LQ1) in the second surface (T2) of the second liquid (LQ2) and the exposure light onto the substrate (P) through the (EL) and an exposure apparatus which exposes a substrate (P) (EX) is provided.

本発明によれば、第1エレメントの第1面と第2面との距離、すなわち第1エレメントの厚みを15mm以上とし、第1エレメントを厚くしたので、その第1エレメントを支持する支持部を第1エレメントの光軸から離れた位置に設けることができる。 According to the present invention, the distance between the first surface and the second surface of the first element, i.e. the thickness of the first element not less than 15 mm, since thicker first element, a support portion for supporting the first element it can be provided in a position away from the optical axis of the first element. したがって、第1エレメントの周辺に配置する部材や機器等と支持部との干渉を防ぐことができ、前記部材や機器等の配置の自由度及び設計の自由度を向上することができる。 Therefore, it is possible to members and devices such as that disposed around the first element and the interference can be prevented between the support portion, to improve the flexibility of freedom and design of the arrangement, such as the members and devices. 特に、第1液体の液浸領域を形成するための液浸機構の配置及び設計の自由度を向上することで、第1液体の液浸領域の大きさを小さくすることができる。 In particular, by improving the flexibility of arrangement and design of the liquid immersion mechanism for forming the liquid immersion area of ​​the first liquid, it is possible to reduce the size of the liquid immersion area of ​​the first liquid. そして、第1エレメントと基板との間の第1液体と、第1エレメントと第2エレメントとの間の第2液体とを介して基板上に露光光を照射することで、投影光学系の大きな像側開口数を確保した状態で、基板を良好に露光することができる。 Then, by irradiating the first liquid between the first element and the substrate, the exposure light onto the substrate via the second liquid between the first element and the second element, it size of the projection optical system while securing the image side numerical aperture, it can be satisfactorily exposed substrates. そして、第1エレメントの第1面側及び第2面側のそれぞれが液体で満たされるので、第1エレメントを容易に交換可能な構成とすることができる。 Since each of the first surface side and the second surface side of the first element is filled with the liquid, it can be the first element easily interchangeable configurable. したがって、汚染された第1エレメントのみを清浄なものと交換することができ、その清浄な第1エレメントを備えた投影光学系及び液体を介した露光及び計測を良好に行うことができる。 Therefore, only the first element, which is contaminated can be replaced with a clean, can be satisfactorily exposed and measured via the projection optical system and the liquid with the clean first element. また、第1エレメントを15mm以上とすることで、液体から受ける力によって発生する第1エレメントの形状変化を抑制することができる。 In addition, by setting the first element 15mm or more, it is possible to suppress the shape change of the first element caused by the force received from the liquid. したがって、投影光学系の高い結像性能を維持することが可能となる。 Therefore, it is possible to maintain a high projection optical system imaging performance.

なお、本発明における第1エレメントは、無屈折力の透明部材(例えば、平行平面板)であってもよく、例えば最も像面の近くに配置された透明部材が投影光学系の結像性能にまったく寄与しない場合にも、その透明部材を第1エレメントとして投影光学系の一部とみなす。 The first element in the present invention, a transparent member no refractive power (for example, plane-parallel plate) may be, for example, a transparent member disposed close to the most image plane within imaging performance of the projection optical system even if all does not contribute, regarded as part of the projection optical system and the transparent member as the first element.

本発明の第5の態様によれば、第1液体(LQ1)を介して基板(P)上に露光光(EL)を照射して基板を露光する露光装置であって、第1液体(LQ1)を基板(P)上にもたらす第1液浸機構(11など)と、像面に最も近い第1エレメント(LS1)と、第1エレメントに次いで像面に近い第2エレメント(LS2)とを含む複数のエレメントを有する投影光学系(PL)とを備え、第1エレメントは、基板の表面と対向するように配置され、露光光が通過する第1面(T1)と、第2エレメントと対向するように配置され、露光光が通過する第2面(T2)とを有し、投影光学系の光軸(AX)上における第1エレメントの第1面(T1)と第2面(T2)との距離は、投影光学系の光軸上(AX)における第1エレメントの第1 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus by irradiating exposing a substrate with exposure light (EL) onto the substrate through the first liquid (LQ1) (P), the first liquid (LQ1 ) and the like first liquid immersion mechanism (11 result on the substrate (P)), the nearest first element to the image plane (LS1), and a second element near the image surface next to the first element (LS2) and a projection optical system having a plurality of elements (PL) including, first element is arranged so as to face the surface of the substrate, the first surface exposure light passes and (T1), a second element and facing It is arranged to, and a second surface through which the exposure light passes (T2), the first surface (T1) and the second surface of the first element on the projection optical system of the optical axis (AX) (T2) the distance between the first of the first element on the optical axis of the projection optical system (AX) (T1)と基板(P)の表面との距離よりも大きく、第1エレメント(LS1)と基板(P)との間の第1液体(LQ1)と、第1エレメント(LS1)と第2エレメント(LS2)の間の第2液体(LQ2)とを介して基板上に露光光が照射されて、基板が露光される露光装置(EX)が提供される。 Greater than the distance (T1) and the surface of the substrate (P), the first liquid (LQ1), the first element (LS1) the second element between the first element (LS1) and the substrate (P) (LS2) the second liquid (LQ2) and the exposure light onto the substrate through is irradiated during the exposure apparatus in which the substrate is exposed (EX) is provided.

本発明によれば、第1液体及び第2液体を介して基板上に露光光を照射することで、投影光学系の大きな像側開口数を確保した状態で、基板を良好に露光することができる。 According to the present invention, by through the first liquid and the second liquid is irradiated with exposure light onto the substrate, while securing a large image side numerical aperture of the projection optical system, it is possible to satisfactorily expose the substrate it can. また、第1エレメントを厚くしたので、第1エレメントを支持する支持部を光軸から離れた位置に設けることが可能となり、第1エレメントの周辺に配置する部材や機器の配置等の自由度が増す。 Further, since the thickness of the first element, it is possible to provide a support unit for supporting the first element at a position away from the optical axis, degree of freedom of arrangement of the members and devices to be arranged around the first element increase. また、液体から受ける力によって発生する第1エレメントの形状変化を抑制することができる。 Further, it is possible to suppress the shape change of the first element caused by the force received from the liquid. したがって、投影光学系の高い結像性能を維持することが可能となる。 Therefore, it is possible to maintain a high projection optical system imaging performance.

本発明の第6の態様によれば、第1液体(LQ1)を介して基板(P)上に露光光(EL)を照射して基板(P)を露光する露光装置であって、第1液体(LQ1)を基板(P)上にもたらし、基板(P)上の一部に第1液体(LQ1)の液浸領域(LR1)を形成する第1液浸機構(11など)と、像面に最も近い第1エレメント(LS1)と、第1エレメントに次いで像面に近い第2エレメント(LS2)とを含む複数のエレメントを有する投影光学系(PL)とを備え、第1エレメントは、基板の表面と対向するように配置され、露光光が通過する第1面(T1)と、第2エレメントと対向するように配置され、露光光が通過する第2面(T2)とを有し、第1液浸機構は、基板の表面と対向するように配置された平坦な液体接触面( According to a sixth aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate (P) with a first through a liquid (LQ1) is irradiated with exposure light (EL) onto the substrate (P), first liquid (LQ1) brought onto the substrate (P), the substrate first liquid immersion mechanism which forms a liquid immersion area of ​​the first liquid (LQ1) (LR1) on part of the (P) (such as 11), the image closest first element to the surface (LS1), and a projection optical system (PL) having a plurality of elements and a second element (LS2) close to the image surface next to the first element, the first element, are arranged so as to face the surface of the substrate has a first surface exposure light passes (T1), it is arranged to face the second element, a second surface through which the exposure light passes and (T2) , the first liquid immersion mechanism, a flat liquid contact surface disposed so as to face the surface of the substrate ( 2D)を有し、その液体接触面は、第1エレメントの第1面と基板との間で露光光の光路を囲むように配置され、第1エレメントと基板との間の第1液体(LQ1)と、第1エレメントと第2エレメントとの間の第2液体(LQ2)とを介して基板上に露光光が照射されて、基板が露光される露光装置(EX)が提供される。 Has a 2D), the liquid contact surface is arranged to surround the optical path of the exposure light between the first surface and the substrate of the first element, the first liquid between the first element and the substrate (LQ1 ), a first element with the exposure light is irradiated onto the substrate via the second liquid (LQ2) between the second element, an exposure apparatus in which the substrate is exposed (EX) is provided.

本発明によれば、第1液体及び第2液体を介して基板上に露光光を照射することで、投影光学系の大きな像側開口数を確保した状態で、基板を良好に露光することができる。 According to the present invention, by through the first liquid and the second liquid is irradiated with exposure light onto the substrate, while securing a large image side numerical aperture of the projection optical system, it is possible to satisfactorily expose the substrate it can. また、第1エレメントと基板との間で露光光の光路の周囲に基板の表面と対向するように平坦な液体接触面が配置されているので、第1エレメントと基板との間の光路を第1液体で確実に満たし続けることが可能となる。 Further, since the flat liquid contact surface so as to face the surface of the substrate around the optical path of the exposure light between the first element and the substrate are disposed, the optical path between the first element and the substrate first it is possible to continue reliably filled with first liquid.

本発明の第7の態様に従えば、像面に最も近い第1エレメント(LS1)と第1エレメントに次いで像面に近い第2エレメント(LS2)とを含む投影光学系(PL)及び液体(LQ1)を介して基板(P)上に露光光を照射して基板を露光する露光方法であって、第1エレメントの基板と対向する第1面(T1)は、第1エレメントの第2エレメントと対向する第2面(T2)よりも小さく、第2エレメントの第1エレメントと対向する面(T3)は、第1エレメントの第2面(T2)よりも小さく、第1エレメント(LS1)と基板(P)との間に第1液体(LQ1)をもたらし、第1エレメント(LS1)と第2エレメント(LS2)との間に第2液体(LQ2)をもたらし、第1液体(LQ1)と第2液体(LQ2)とを介して基板 According to a seventh aspect of the present invention, the second element (LS2) and a projection optical system including a near image plane is then the in the first element closest first element to the image plane (LS1) (PL) and the liquid ( LQ1) there is provided an exposure method for exposing a substrate by radiating an exposure light beam onto the substrate (P) through the first surface of the substrate facing the first element (T1), the second element of the first element a second surface opposite (T2) smaller than the first element and the facing surfaces of the second element (T3), the second surface of the first element (T2) smaller than a first element (LS1) led to the first liquid (LQ1) between the substrate (P), it resulted in a second liquid (LQ2) between the first element (LS1) and the second element (LS2), the first liquid (LQ1) substrate via the second liquid (LQ2) に露光光を照射して基板を露光することを含む露光方法が提供される。 The exposure method comprising exposing a substrate by radiating an exposure light beam is provided.

本発明の露光方法によれば、第1エレメントと基板との間の光路を第1液体で、且つ第1エレメントと第2エレメントとの間の光路を第2液体で満たすことができ、第1液体及び第2液体を介して基板上に露光光を照射することで、投影光学系の大きな像側開口数を確保した状態で、基板を良好に露光することができる。 According to the exposure method of the present invention, the optical path between the first element and the substrate with the first liquid, and the optical path between the first element and the second element can be filled with the second liquid, the first by irradiating the exposure light onto the substrate through a liquid and the second liquid, while securing a large image side numerical aperture of the projection optical system, it can be satisfactorily exposed substrates.

本発明のさらに別の態様に従えば、上記記載の露光装置または露光方法を用いることを特徴とするデバイス製造方法が提供される。 According to yet another aspect of the present invention, a method for producing a device, comprising using the exposure apparatus or the exposure method described above is provided.

本発明によれば、良好な露光精度及び計測精度を維持できるので、所望の性能を有するデバイスを製造することができる。 According to the present invention, it is possible to maintain good exposure accuracy and measurement accuracy, it is possible to produce the device having the desired performance.

本発明によれば、露光精度及び計測精度の劣化を防止できるため、精度良い露光処理及び計測処理を行うことができる。 According to the present invention, it is possible to prevent the deterioration of the exposure accuracy and measurement accuracy, it is possible to perform accurate exposure process and measurement process. また本発明によれば、液浸領域を小さくできるので、装置自身をコンパクト化することができる。 According to the present invention, since the liquid immersion area can be reduced, it is possible to compact the device itself.

以下、本発明について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。 It will now be described with reference to the drawings the present invention, the present invention is not limited thereto. 図1は本実施形態の露光装置を示す概略構成図である。 Figure 1 is a schematic block diagram showing an exposure apparatus of the present embodiment.

図1において、露光装置EXは、マスクMを保持して移動可能なマスクステージMSTと、基板Pを保持して移動可能な基板ステージPSTと、マスクステージMSTに保持されているマスクMを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターン像を基板ステージPSTに保持されている基板Pに投影露光する投影光学系PLと、露光装置EX全体の動作を統括制御する制御装置CONTとを備えている。 1, the exposure apparatus EX includes a mask stage MST which is movable while holding a mask M, a substrate stage PST which is movable while holding a substrate P, the mask M held by the mask stage MST exposure light an illumination optical system IL that illuminates with EL, a projection optical system PL the pattern image of the mask M illuminated with the exposure light EL onto exposed substrate P held on the substrate stage PST, the operation of the entire exposure apparatus EX and a control unit CONT which integrally controls.

本実施形態の露光装置EXは、露光波長を実質的に短くして解像度を向上するとともに焦点深度を実質的に広くするために液浸法を適用した液浸露光装置であって、投影光学系PLを構成する複数の光学素子LS1〜LS7のうち、投影光学系PLの像面に最も近い第1光学素子LS1の下面T1と基板Pとの間を第1液体LQ1で満たすための第1液浸機構1を備えている。 The exposure apparatus EX of the present embodiment, the exposure wavelength to a liquid immersion exposure apparatus that applies the liquid immersion method to substantially widen the depth of focus is improved substantially shortened by resolution, the projection optical system among the plurality of optical elements LS1~LS7 constituting the PL, the first liquid for filling the space between the lower surface T1 and the substrate P of the first optical element LS1 closest to the image plane of the projection optical system PL with the first liquid LQ1 It has an immersion mechanism 1. 基板Pは投影光学系PLの像面側に設けられており、第1光学素子LS1の下面T1は基板Pの表面と対向するように配置されている。 The substrate P is provided on the image plane side of the projection optical system PL, the lower surface T1 of the first optical element LS1 is arranged so as to face the surface of the substrate P. 第1液浸機構1は、第1光学素子LS1の下面T1と基板Pとの間に第1液体LQ1を供給する第1液体供給機構10と、第1液体供給機構10で供給された第1液体LQ1を回収する第1液体回収機構20とを備えている。 The first liquid immersion mechanism 1 includes a first liquid supply mechanism 10 supplies the first liquid LQ1 between lower surface T1 and the substrate P of the first optical element LS1, which is supplied with the first liquid supply mechanism 10 first and a first liquid recovery mechanism 20 which recovers the liquid LQ1. 第1液浸機構1の動作は制御装置CONTにより制御される。 The first operation of the liquid immersion mechanism 1 is controlled by the control unit CONT.

また、露光装置EXは、第1光学素子LS1と、第1光学素子LS1に次いで投影光学系PLの像面に近い第2光学素子LS2との間を第2液体LQ2で満たすための第2液浸機構2を備えている。 The exposure apparatus EX includes a first optical element LS1, the second liquid for filling the space between the second optical element LS2 is close to the image plane of the projection optical system PL in the second liquid LQ2 next to the first optical element LS1 It has an immersion mechanism 2. 第2光学素子LS2は第1光学素子LS1の上方に配置されている。 The second optical element LS2 is arranged above the first optical element LS1. すなわち、第2光学素子LS2は第1光学素子LS1の光入射面側に配置されており、第1光学素子LS1の上面T2は、第2光学素子LS2の下面T3と対向するように配置されている。 That is, the second optical element LS2 is arranged on the light incident side of the first optical element LS1, the upper surface T2 of the first optical element LS1 is arranged so as to face the lower surface T3 of the second optical element LS2 there. 第2液浸機構2は、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との間に第2液体LQ2を供給する第2液体供給機構30と、第2液体供給機構30で供給された第2液体LQ2を回収する第2液体回収機構40とを備えている。 The second liquid immersion mechanism 2, first the first optical element LS1 and the second liquid supply mechanism 30 supplies the second liquid LQ2 between the second optical element LS2, which is supplied with the second liquid supply mechanism 30 2 and a second liquid recovery mechanism 40 which recovers the liquid LQ2. 第2液浸機構2の動作は制御装置CONTにより制御される。 The second operation of the liquid immersion mechanism 2 is controlled by the control unit CONT.

また、本実施形態において、第1光学素子LS1は露光光ILを透過可能な無屈折力の平行平面板であって、第1光学素子LS1の下面T1と上面T2とはほぼ平行である。 Further, in the present embodiment, the first optical element LS1 is a plane-parallel plate of permeable no refractive power of the exposure light IL, the lower surface T1 and the upper surface T2 of the first optical element LS1 are substantially parallel. なお、投影光学系PLは第1光学素子LS1を含めて収差などの結像特性が所定の許容範囲内に収められている。 The projection optical system PL imaging characteristic such as the aberration, including the first optical element LS1 is contained within a predetermined tolerance.

本実施形態においては、第1光学素子LS1と基板Pとの間の空間(第1空間)K1と、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との間の空間(第2空間)K2とは独立した空間である。 In this embodiment, the space (first space) K1 between the first optical element LS1 and the substrate P, a first optical element LS1 and the space (second space) K2 between the second optical element LS2 is an independent space. 制御装置CONTは、第1液浸機構1による第1空間K1に対する第1液体LQ1の供給動作及び回収動作と、第2液浸機構2による第2空間K2に対する第2液体LQ2の供給動作及び回収動作とを互いに独立して行うことができ、第1空間K1及び第2空間K2の一方から他方への液体(LQ1、LQ2)の出入りは生じない。 The control unit CONT, the supply operation and the recovery operation of the first liquid LQ1 to the first space K1 by the first liquid immersion mechanism 1, the supply operation and the recovery of the second liquid LQ2 by the second liquid immersion mechanism 2 to the second space K2 operation and can be a carried out independently of each other, out of the liquid from one to the other of the first space K1 and the second space K2 (LQ1, LQ2) does not occur.

露光装置EXは、少なくともマスクMのパターン像を基板P上に転写している間、第1液浸機構1を使って、第1光学素子LS1とその像面側に配置された基板Pとの間に第1液体LQ1を満たして第1液浸領域LR1を形成するとともに、第2液浸機構2を使って、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との間に第2液体LQ2を満たして第2液浸領域LR2を形成する。 The exposure apparatus EX, while transferring the pattern image of at least the mask M onto the substrate P, by using the first liquid immersion mechanism 1, and the substrate P arranged between the first optical element LS1 on the image plane side together meet the first liquid LQ1 forming the first liquid immersion area LR1 between, with the second liquid immersion mechanism 2, the first optical element LS1 and the second liquid LQ2 between the second optical element LS2 meet to form the second liquid immersion area LR2 by. 本実施形態においては、露光装置EXは、投影光学系PLの投影領域ARを含む基板P上の一部に、投影領域ARよりも大きく且つ基板Pよりも小さい第1液浸領域LR1を局所的に形成する局所液浸方式を採用している。 In the present embodiment, the exposure apparatus EX, the part on the substrate P including the projection area AR of the projection optical system PL, and locally first liquid immersion area LR1 smaller than larger and the substrate P than the projection area AR It adopts a local liquid immersion method of forming a. また、本実施形態においては、露光装置EXは、第1光学素子LS1の上面T2のうち露光光ELが通過する領域AR'を含む一部の領域のみに第2液体LQ2の第2液浸領域AR2を局所的に形成する。 In the present embodiment, the exposure apparatus EX, the second liquid immersion area of ​​the second liquid LQ2 only part of the area including the area AR 'through which the exposure light EL of the upper surface T2 of the first optical element LS1 passes AR2 is locally formed a. 露光装置EXは、投影光学系PL、第2液浸領域LR2の第2液体LQ2、及び第1液浸領域LR1の第1液体LQ1を介して、マスクMを通過した露光光ELを基板Pに照射することによってマスクMのパターンを基板Pに投影露光する。 The exposure apparatus EX, a projection optical system PL, a second liquid LQ2 in the second liquid immersion area LR2, and through the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1, the exposure light EL passing through the mask M onto the substrate P projecting and exposing a pattern of the mask M onto the substrate P by irradiating.

投影光学系PLの像面近傍、具体的には投影光学系PLの像面側端部の光学素子LS1の近傍には、後に詳述するノズル部材70が配置されている。 Image plane vicinity of the projection optical system PL, and in particular in the vicinity of the optical element LS1 of the image plane-side end portion of the projection optical system PL, a nozzle member 70 to be described later is disposed. ノズル部材70は、基板P(基板ステージPST)の上方において投影光学系PLの先端部の周りを囲むように設けられた環状部材である。 The nozzle member 70 is an annular member provided so as to surround the end portion of the projection optical system PL above the substrate P (substrate stage PST). 本実施形態において、ノズル部材70は第1液浸機構1の一部を構成している。 In this embodiment, the nozzle member 70 constitutes a first part of the liquid immersion mechanism 1.

本実施形態では、露光装置EXとしてマスクMと基板Pとを走査方向における互いに異なる向き(逆方向)に同期移動しつつマスクMに形成されたパターンを基板Pに露光する走査型露光装置(所謂スキャニングステッパ)を使用する場合を例にして説明する。 In the present embodiment, the scanning type exposure apparatus that exposes the substrate P different orientations of the (reverse) formed on the mask M while synchronously moving the pattern from each other in the scanning direction of the mask M and the substrate P as the exposure apparatus EX (so-called It will be described as an example when using a scanning stepper). 以下の説明において、投影光学系PLの光軸AXと一致する方向をZ軸方向、Z軸方向に垂直な平面内でマスクMと基板Pとの同期移動方向(走査方向)をX軸方向、Z軸方向及びX軸方向に垂直な方向(非走査方向)をY軸方向とする。 In the following description, the optical axis AX as the Z-axis direction and a direction matching of the projection optical system PL, and the synchronous movement direction (scanning direction) of the X-axis direction between the mask M and the substrate P in the Z axis direction perpendicular to the plane, Z-axis and X-axis directions perpendicular to the direction (non-scanning direction) is the Y-axis direction. また、X軸、Y軸、及びZ軸まわりの回転(傾斜)方向をそれぞれ、θX、θY、及びθZ方向とする。 Further, X-axis, Y-axis, and rotation about the Z-axis (inclination) directions, .theta.X, [theta] Y, and the θZ direction.

露光装置EXは、床面上に設けられたベースBPと、そのベースBP上に設置されたメインコラム9とを備えている。 The exposure apparatus EX includes a base BP provided on the floor surface, and a main column 9 which is installed on the base BP. メインコラム9には、内側に向けて突出する上側段部7及び下側段部8が形成されている。 The main column 9, the upper step portion 7 and the lower step 8 protruding toward the inside is formed. 照明光学系ILは、マスクステージMSTに支持されているマスクMを露光光ELで照明するものであって、メインコラム9の上部に固定された支持フレーム3により支持されている。 The illumination optical system IL is for illuminating the mask M supported by the mask stage MST with exposure light EL, and is supported by a support frame 3 fixed to the top of the main column 9.

照明光学系ILは、露光光ELを射出する露光用光源、露光用光源から射出された露光光ELの照度を均一化するオプティカルインテグレータ、オプティカルインテグレータからの露光光ELを集光するコンデンサレンズ、リレーレンズ系、及び露光光ELによるマスクM上の照明領域をスリット状に設定する可変視野絞り等を有している。 The illumination optical system IL includes an exposure light source that emits the exposure light EL, an optical integrator for uniforming the illuminance of the exposure light EL from the exposure light source, a condenser lens which collects the exposure light EL from the optical integrator, a relay lens system, and the illumination area on the mask M illuminated with the exposure light EL has a variable field diaphragm which sets a slit shape. マスクM上の所定の照明領域は照明光学系ILにより均一な照度分布の露光光ELで照明される。 The predetermined illumination area on the mask M is illuminated with the exposure light EL having a uniform illuminance distribution by the illumination optical system IL. 露光用光源から射出される露光光ELとしては、例えば水銀ランプから射出される輝線(g線、h線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)や、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)及びF2レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV光)などが用いられる。 As the exposure light EL emitted from the exposure light source, for example, emission lines (g-ray, h-ray, i-ray) and KrF excimer laser beam (wavelength 248 nm) deep ultraviolet light (DUV light beam) such as Ya , ArF excimer laser light (wavelength 193 nm) and F2 laser light (wavelength 157 nm) vacuum ultraviolet light (VUV light) and the like. 本実施形態においてはArFエキシマレーザ光が用いられる。 ArF excimer laser light is used in this embodiment.

本実施形態においては、第1液体供給機構10から供給される第1液体LQ1、及び第2液体供給機構30から供給される第2液体LQ2として純水が用いられる。 In the present embodiment, pure water is used as the second liquid LQ2 supplied from the first liquid LQ1, and the second liquid supply mechanism 30 is supplied from the first liquid supply mechanism 10. すなわち、本実施形態においては、第1液体LQ1と第2液体LQ2とは同一の液体である。 That is, in the present embodiment, the first liquid LQ1 and the second liquid LQ2 are the same liquid. 純水はArFエキシマレーザ光のみならず、例えば水銀ランプから射出される輝線(g線、h線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)も透過可能である。 Not only the ArF excimer laser light but, for example, emission lines (g-ray, h-ray, i-ray) and KrF excimer laser beam (wavelength 248 nm) deep ultraviolet light (DUV light) such as permeable it is.

マスクステージMSTは、マスクMを保持して移動可能である。 The mask stage MST is movable while holding the mask M. マスクステージMSTは、マスクMを真空吸着(又は静電吸着)により保持する。 The mask stage MST holds the mask M by vacuum suction (or electrostatic adsorption). マスクステージMSTの下面には非接触軸受である気体軸受(エアベアリング)85が複数設けられている。 The lower surface of the mask stage MST air bearings 85 is provided with a plurality of non-contact bearings. マスクステージMSTは、エアベアリング85によりマスク定盤4の上面(ガイド面)に対して非接触支持されている。 The mask stage MST is supported in a non-contact manner with respect to the upper surface of the mask plate 4 (guide surface) by the air bearing 85. マスクステージMST及びマスク定盤4の中央部にはマスクMのパターン像を通過させる開口部MK1、MK2がそれぞれ形成されている。 The central portion of the mask stage MST and the mask surface plate 4 opening MK1, MK2 passing the pattern image of the mask M are formed. マスク定盤4は、メインコラム9の上側段部7に防振装置86を介して支持されている。 Mask surface plate 4 is supported via a vibration isolating apparatus 86 to the upper step portion 7 of the main column 9. すなわち、マスクステージMSTは、防振装置86及びマスク定盤4を介してメインコラム9(上側段部7)に支持された構成となっている。 In other words, the mask stage MST has a supported configurations in main column 9 (upper step 7) via the anti-vibration device 86 and the mask surface plate 4. また、防振装置86によって、メインコラム9の振動が、マスクステージMSTを支持するマスク定盤4に伝わらないように、マスク定盤4とメインコラム9とが振動的に分離されている。 Also, the vibration isolator 86, the vibration of the main column 9, so as not transmitted to the mask surface plate 4 which supports the mask stage MST, and the mask surface plate 4 and the main column 9 are vibrationally separated.

マスクステージMSTは、制御装置CONTにより制御されるリニアモータ等を含むマスクステージ駆動装置MSTDの駆動により、マスクMを保持した状態で、マスク定盤4上において、投影光学系PLの光軸AXに垂直な平面内、すなわちXY平面内で2次元移動可能及びθZ方向に微少回転可能である。 The mask stage MST is driven by mask stage driving unit MSTD including a linear motor or the like controlled by the control device CONT, while holding the mask M, on the mask surface plate 4, the optical axis AX of the projection optical system PL plane perpendicular, i.e. it is possible small rotation to the two-dimensional movable and θZ directions in the XY plane. マスクステージMSTは、X軸方向に指定された走査速度で移動可能となっており、マスクMの全面が少なくとも投影光学系PLの光軸AXを横切ることができるだけのX軸方向の移動ストロークを有している。 The mask stage MST is movable at a designated scanning speed in the X-axis direction, have a movement stroke in the X-axis direction by the entire surface of the mask M can cross the optical axis AX of at least the projection optical system PL are doing.

マスクステージMST上には移動鏡81が設けられている。 Movement mirror 81 is provided on the mask stage MST. また、移動鏡81に対向する位置にはレーザ干渉計82が設けられている。 A laser interferometer 82 is provided at a position opposed to the movement mirror 81. マスクステージMST上のマスクMの2次元方向の位置、及びθZ方向の回転角(場合によってはθX、θY方向の回転角も含む)はレーザ干渉計82によりリアルタイムで計測される。 Dimensional position of the mask M on the mask stage MST, and θZ directions rotation angle (sometimes .theta.X, also including the rotational angle of the θY direction) are measured in real time by the laser interferometer 82. レーザ干渉計82の計測結果は制御装置CONTに出力される。 Measurement results of the laser interferometer 82 is outputted to the control unit CONT. 制御装置CONTは、レーザ干渉計82の計測結果に基づいてマスクステージ駆動装置MSTDを駆動し、マスクステージMSTに保持されているマスクMの位置制御を行う。 The control unit CONT drives the mask stage drive apparatus MSTD based on the measurement results of the laser interferometer 82, to control the position of the mask M held on the mask stage MST.

投影光学系PLは、マスクMのパターンを所定の投影倍率βで基板Pに投影露光するものであって、基板P側の先端部に設けられた第1光学素子LS1を含む複数の光学素子LS1〜LS7で構成されており、複数の光学素子LS1〜LS7は鏡筒PKで支持されている。 Projection optical system PL is for projection exposing the substrate P with the pattern of the mask M at a predetermined projection magnification beta, the plurality of optical elements LS1 including the first optical element LS1 provided at the end portion of the substrate P side It is composed of ~LS7, a plurality of optical elements LS1~LS7 are supported by a lens barrel PK. 本実施形態において、投影光学系PLは、投影倍率βが例えば1/4、1/5、あるいは1/8の縮小系である。 In this embodiment, the projection optical system PL is the reduction system having the projection magnification β of, for example, 1 / 4,1 / 5, or 1/8. なお、投影光学系PLは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。 The projection optical system PL may be either a unity magnification system or an enlargement system. また、投影光学系PLは、屈折素子と反射素子とを含む反射屈折系、反射素子を含まない屈折系、屈折素子を含まない反射系のいずれであってもよい。 Further, the projection optical system PL, a catadioptric system including a refracting element and the reflective element, the dioptric system including no catoptric element, may be either of a reflection system including no dioptric element. 照明光学系ILより射出された露光光ELは、投影光学系PLに物体面側より入射し、複数の光学素子LS7〜LS1を通過した後、投影光学系PLの像面側より射出され、基板P上に到達する。 The illumination optical system exposure light EL emitted from the IL is incident from the object plane side to the projection optical system PL, it passes through the plurality of optical elements LS7~LS1, emitted from the image plane side of the projection optical system PL, the substrate reaching the P. 具体的には、露光光ELは、複数の光学素子LS7〜LS3のそれぞれを通過した後、第2光学素子LS2の上面T4の所定領域を通過し、下面T3の所定領域を通過した後、第2液浸領域LR2に入射する。 Specifically, the exposure light EL passes through the plurality of optical elements LS7~LS3, passes through a predetermined region of the upper surface T4 of the second optical element LS2, passes through a predetermined area of ​​the lower surface T3, the It enters the second liquid immersion area LR2. 第2液浸領域LR2を通過した露光光ELは、第1光学素子LS1の上面T2の所定領域を通過した後、下面T1の所定領域を通過し、第1液浸領域LR1に入射した後、基板P上に到達する。 Exposure light EL having passed through the second liquid immersion area LR2, after after having passed through a predetermined region of the upper surface T2 of the first optical element LS1, through a predetermined area of ​​the lower surface T1, and enters the first liquid immersion area LR1, to arrive on the substrate P.

投影光学系PLを保持する鏡筒PKの外周にはフランジPFが設けられており、投影光学系PLはこのフランジPFを介して鏡筒定盤5に支持されている。 The outer circumference of the barrel PK which holds the projection optical system PL has a flange PF is provided, the projection optical system PL is supported by the barrel surface plate 5 via the flange PF. 鏡筒定盤5は、メインコラム9の下側段部8に防振装置87を介して支持されている。 Barrel surface plate 5 is supported via the vibration isolating apparatus 87 to the lower step 8 of the main column 9. すなわち、投影光学系PLは、防振装置87及び鏡筒定盤5を介してメインコラム9(下側段部8)に支持された構成となっている。 That is, the projection optical system PL has a supported configurations in main column 9 (lower step 8) via the anti-vibration device 87 and the barrel surface plate 5. また、防振装置87によって、メインコラム9の振動が、投影光学系PLを支持する鏡筒定盤5に伝わらないように、鏡筒定盤5とメインコラム9とが振動的に分離されている。 Also, the vibration isolator 87, the vibration of the main column 9, so not transmitted to the barrel surface plate 5 which supports the projection optical system PL, a lens barrel surface plate 5 and the main column 9 is vibrationally isolated there.

基板ステージPSTは、基板Pを保持する基板ホルダPHを支持して移動可能である。 The substrate stage PST is movable while supporting a substrate holder PH which holds the substrate P. 基板ホルダPHは、例えば真空吸着等により基板Pを保持する。 The substrate holder PH holds the substrate P, for example, by vacuum suction or the like. 基板ステージPSTの下面には非接触軸受である気体軸受(エアベアリング)88が複数設けられている。 The lower surface of the substrate stage PST air bearings 88 is provided with a plurality of non-contact bearings. 基板ステージPSTは、エアベアリング88により基板定盤6の上面(ガイド面)に対して非接触支持されている。 The substrate stage PST is supported in a non-contact manner with respect to the upper surface of the substrate plate 6 (guide surface) by the air bearing 88. 基板定盤6は、ベースBP上に防振装置89を介して支持されている。 Substrate surface plate 6 is supported via the vibration isolator 89 on the base BP. また、防振装置89によって、ベースBP(床面)やメインコラム9の振動が、基板ステージPSTを支持する基板定盤6に伝わらないように、基板定盤6とメインコラム9及びベースBP(床面)とが振動的に分離されている。 Also, the vibration isolator 89, the base BP vibration of (floor) and the main column 9, so as not transmitted to the substrate surface plate 6 which supports the substrate stages PST, the substrate surface plate 6 and the main column 9 and the base BP ( floor) and are vibrationally separated.

基板ステージPSTは、制御装置CONTにより制御されるリニアモータ等を含む基板ステージ駆動装置PSTDの駆動により、基板Pを基板ホルダPHを介して保持した状態で、基板定盤6上において、XY平面内で2次元移動可能及びθZ方向に微小回転可能である。 The substrate stage PST is driven by a substrate stage-driving unit PSTD including a linear motor or the like controlled by the control device CONT, the substrate P while holding via the substrate holder PH, on the substrate surface plate 6, the XY plane in a two-dimensional movable and θZ directions can be microspheroidal. 更に基板ステージPSTは、Z軸方向、θX方向、及びθY方向にも移動可能である。 Further, the substrate stage PST is also movable in the Z axis direction, the θX direction, and the θY direction.

基板ステージPST上には移動鏡83が設けられている。 Movement mirror 83 is provided on the substrate stage PST. また、移動鏡83に対向する位置にはレーザ干渉計84が設けられている。 A laser interferometer 84 is provided at a position opposed to the movement mirror 83. 基板ステージPST上の基板Pの2次元方向の位置、及び回転角はレーザ干渉計84によりリアルタイムで計測される。 Dimensional position of the substrate P on the substrate stages PST, and the angle of rotation are measured in real time by the laser interferometer 84. また、不図示ではあるが、露光装置EXは、基板ステージPSTに支持されている基板Pの表面の位置情報を検出するフォーカス・レベリング検出系を備えている。 Further, although not shown, the exposure apparatus EX comprises a focus leveling detection system that detects the position information of the surface of the substrate P supported by the substrate stage PST. フォーカス・レベリング検出系としては、基板Pの表面に斜め方向より検出光を照射する斜入射方式、あるいは静電容量型センサを用いた方式等を採用することができる。 The focus leveling detection system may employ an oblique incidence type or method or the like using a capacitance type sensor, which irradiates a detection light from an oblique direction to the surface of the substrate P. フォーカス・レベリング検出系は、第1液体LQ1を介して、あるいは第1液体LQ1を介さずに、基板P表面のZ軸方向の位置情報、及び基板PのθX及びθY方向の傾斜情報を検出する。 Focus leveling detection system, through the first liquid LQ1, or not through the first liquid LQ1, the position information in the Z axis direction of the surface of the substrate P, and detects the inclination information of the θX and θY directions of the substrate P . 液体LQ1を介さずに基板P表面の面情報を検出するフォーカス・レベリング検出系の場合、投影光学系PLから離れた位置で基板P表面の面情報を検出するものであってもよい。 If not through the liquid LQ1 of the focus leveling detection system that detects the surface information of the substrate P surface, it may be configured to detect the surface information of the substrate P surface at a position away from projection optical system PL. 投影光学系PLから離れた位置で基板P表面の面情報を検出する露光装置は、例えば米国特許第6,674,510号に開示されている。 An exposure device for detecting the surface information of the substrate P surface at a position away from projection optical system PL is, for example, disclosed in U.S. Patent No. 6,674,510.

レーザ干渉計84の計測結果は制御装置CONTに出力される。 Measurement results of the laser interferometer 84 is outputted to the control unit CONT. フォーカス・レベリング検出系の検出結果も制御装置CONTに出力される。 Detection results of the focus leveling detection system is also outputted to the control unit CONT. 制御装置CONTは、フォーカス・レベリング検出系の検出結果に基づいて、基板ステージ駆動装置PSTDを駆動し、基板Pのフォーカス位置及び傾斜角を制御して基板Pの表面を投影光学系PLの像面に合わせ込むとともに、レーザ干渉計84の計測結果に基づいて、基板PのX軸方向及びY軸方向における位置制御を行う。 The control unit CONT based on the detection results of the focus leveling detection system, drives the substrate stage drive apparatus PSTD, the image plane of the projection optical system PL of the surface of the substrate P by controlling the focus position and inclination angle of the substrate P with Komu suit, based on the measurement results of the laser interferometer 84, controls the position in the X-axis direction and the Y-axis direction of the substrate P.

基板ステージPST上には凹部90が設けられており、基板Pを保持するための基板ホルダPHは凹部90に配置されている。 The substrate stage PST has the recess 90 is provided, the substrate holder PH for holding the substrate P is disposed in the recess 90. そして、基板ステージPSTのうち凹部90以外の上面91は、基板ホルダPHに保持された基板Pの表面とほぼ同じ高さ(面一)になるような平坦面(平坦部)となっている。 The upper surface 91 other than the recess 90 of the substrate stage PST is substantially the same height as the surface of the substrate P held by the substrate holder PH flat surface such that the (flush) (flat portion). また本実施形態においては、移動鏡83の上面も、基板ステージPSTの上面91とほぼ面一に設けられている。 In the present embodiment, the upper surface of the movement mirror 83 is also provided substantially flush with the upper surface 91 of the substrate stage PST.

基板Pの周囲に基板P表面とほぼ面一の上面91を設けたので、基板Pのエッジ領域を液浸露光するときにおいても、基板Pのエッジ部の外側には段差部がほぼ無いので、投影光学系PLの像面側に液体LQを保持して液浸領域LR1を良好に形成することができる。 It is provided with the substantially flush upper surface 91 and the surface of the substrate P on the periphery of the substrate P, even when the immersion exposure of the edge area of ​​the substrate P, since almost no step portion outside of the edge portion of the substrate P, the liquid immersion area LR1 can be satisfactorily formed by retaining the liquid LQ on the image plane side of the projection optical system PL. なお、液浸領域LR1を維持可能であれば、基板Pの表面と基板ステージPSTの上面91との間に段差が存在してもよい。 Incidentally, it maintained if the liquid immersion area LR1, there may be a step between the upper surface 91 of the surface and the substrate stage PST of the substrate P. また、基板Pのエッジ部とその基板Pの周囲に設けられた平坦面(上面)91との間には0.1〜2mm程度の隙間があるが、液体LQの表面張力によりその隙間に液体LQが流れ込むことはほとんどなく、基板Pの周縁近傍を露光する場合にも、上面91により投影光学系PLの下に液体LQを保持することができる。 The liquid in the gap there is a gap of about 0.1 to 2 mm, the surface tension of the liquid LQ between the edge portion of the substrate P and the flat surface (upper surface) 91 provided around the substrate P seldom LQ flows, when exposing the vicinity of the circumferential edge of the substrate P also can hold liquid LQ under the projection optical system PL by the upper surface 91.

第1液浸機構1の第1液体供給機構10は、第1液体LQ1を投影光学系PLの第1光学素子LS1と基板Pとの間の第1空間K1に供給するためのものであって、第1液体LQ1を送出可能な第1液体供給部11と、第1液体供給部11にその一端部を接続する第1供給管13とを備えている。 First the first liquid supply mechanism 10 of the liquid immersion mechanism 1 is for supplying the first liquid LQ1 in the first space K1 between the first optical element LS1 and the substrate P of the projection optical system PL includes a first liquid supply unit 11 capable of delivering the first liquid LQ1, and a first supply pipe 13 that connects one end to the first liquid supply unit 11. 第1供給管13の他端部はノズル部材70に接続されている。 The other end of the first supply pipe 13 is connected to the nozzle member 70. 本実施形態においては、第1液体供給機構10は純水を供給するものであって、第1液体供給部11は、純水製造装置、及び供給する第1液体(純水)LQ1の温度を調整する温調装置等を備えている。 In this embodiment, the first liquid supply mechanism 10 has been made to supply the pure water, the first liquid supply unit 11, pure water production apparatus, and the temperature of the first liquid (pure water) LQ1 supplied and a temperature controller for adjusting. なお、所定の品質条件を満たしていれば、露光装置EXに純水製造装置を設けずに、露光装置EXが配置される工場の純水製造装置(用力)を用いるようにしてもよい。 Incidentally, if they meet the predetermined quality condition, without providing the pure water production device in the exposure apparatus EX, it is also possible to use pure water producing system of the factory in which the exposure apparatus EX is arranged (the utility). 第1液体供給機構10(第1液体供給部11)の動作は制御装置CONTにより制御される。 Operation of the first liquid supply mechanism 10 (first liquid supply section 11) is controlled by the control unit CONT. 基板P上に第1液浸領域LR1を形成するために、第1液体供給機構10は、制御装置CONTの制御の下で、投影光学系PLの像面側に配置された基板P上に第1液体LQ1を所定量供給する。 To form the first liquid immersion area LR1 on the substrate P, the first liquid supply mechanism 10, under the control of the control device CONT, a on the substrate P arranged on the image plane side of the projection optical system PL the first liquid LQ1 supplied in a predetermined amount.

また、第1供給管13の途中には、第1液体供給部11から送出され、投影光学系PLの像面側に供給される単位時間あたりの液体量を制御するマスフローコントローラと呼ばれる流量制御器16が設けられている。 Further, in the middle of the first supply pipe 13, it is fed from the first liquid supply unit 11, flow controller called mass flow controller for controlling the liquid amount per unit time supplied to the image plane side of the projection optical system PL 16 is provided. 流量制御器16による液体供給量の制御は制御装置CONTの指令信号の下で行われる。 Control of the liquid supply amount by the flow controller 16 is performed under the instruction signal of the control unit CONT.

第1液浸機構1の第1液体回収機構20は、投影光学系PLの像面側の第1液体LQ1を回収するためのものであって、第1液体LQ1を回収可能な第1液体回収部21と、第1液体回収部21にその一端部を接続する第1回収管23とを備えている。 First the first liquid recovery mechanism of the liquid immersion mechanism 1 20 is for recovering the first liquid LQ1 on the image plane side of the projection optical system PL, the first liquid recovery is capable of recovering the first liquid LQ1 and parts 21, and a first recovery pipe 23 which connects one end to the first liquid recovery unit 21. 第1回収管23の他端部はノズル部材70に接続されている。 The other end of the first recovery pipe 23 is connected to the nozzle member 70. 第1液体回収部21は例えば真空ポンプ等の真空系(吸引装置)、及び回収された第1液体LQ1と気体とを分離する気液分離器等を備えている。 The first liquid recovery unit 21 includes, for example, a vacuum system such as a vacuum pump (suction device), and the gas-liquid separator for separating the recovered first liquid LQ1 and the gas was. なお真空系と気液分離器などのすべてを、露光装置EXに設けずに、その少なくとも一部の代わりに露光装置EXが配置される工場などの設備を用いるようにしてもよい。 Note all vacuum system and the gas-liquid separator is not provided in the exposure apparatus EX, may be used facilities such that at least a part of the factory where the exposure apparatus EX is arranged instead. 第1液体回収機構20(第1液体回収部21)の動作は制御装置CONTにより制御される。 Operation of the first liquid recovery mechanism 20 (first liquid recovery section 21) is controlled by the control unit CONT. 基板P上に第1液浸領域LR1を形成するために、第1液体回収機構20は、制御装置CONTの制御の下で、第1液体供給機構10より供給された基板P上の第1液体LQ1を所定量回収する。 To form the first liquid immersion area LR1 on the substrate P, the first liquid recovery mechanism 20, under the control of the control unit CONT, the first liquid on the substrate P supplied from the first liquid supply mechanism 10 LQ1 to a predetermined amount recovered.

第2液浸機構2の第2液体供給機構30は、第2液体LQ2を投影光学系PLの第2光学素子LS2と第1光学素子LS1との間の第2空間K2に供給するためのものであって、第2液体LQ2を送出可能な第2液体供給部31と、第2液体供給部31にその一端部を接続する第2供給管33とを備えている。 The second liquid supply mechanism 30 of the second liquid immersion mechanism 2 for supplying the second liquid LQ2 to the second space K2 between the second optical element LS2 and the first optical element LS1 of the projection optical system PL a is provided with a second liquid supply unit 31 capable of delivering the second liquid LQ2, and a second supply pipe 33 that connects the one end portion to the second liquid supply unit 31. 第2供給管33の他端部は、後述する供給流路(34)等を介して、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との間の第2空間K2に接続されている。 The other end of the second supply pipe 33, via the supply channel (34) to be described later, is connected to the second space K2 between the first optical element LS1 and the second optical element LS2. 第1液体供給機構10同様、第2液体供給機構30は純水を供給するものであって、第2液体供給部31は、純水製造装置、及び供給する第2液体(純水)LQ2の温度を調整する温調装置等を備えている。 Similarly the first liquid supply mechanism 10, the second liquid supply mechanism 30 has been made to supply the pure water, the second liquid supply unit 31, pure water production system, and the second liquid supplies (pure water) LQ2 of and a temperature controller for adjusting the temperature. なお、露光装置EXに純水製造装置を設けずに、露光装置EXが配置される工場の純水製造装置(用力)を用いるようにしてもよい。 Incidentally, without providing the pure water production device in the exposure apparatus EX, it is also possible to use pure water producing system of the factory in which the exposure apparatus EX is arranged (the utility). 第2液体供給機構30(第2液体供給部31)の動作は制御装置CONTにより制御される。 Operation of the second liquid supply mechanism 30 (second liquid supply section 31) is controlled by the control unit CONT. 第1光学素子LS1の上面T2上に第2液浸領域LR2を形成するために、第2液体供給機構30は、制御装置CONTの制御の下で、第1光学素子LS1の上面T2上に第2液体LQ2を所定量供給する。 To form the second liquid immersion area LR2 on the upper surface T2 of the first optical element LS1, the second liquid supply mechanism 30, under the control of the control device CONT, a on the upper surface T2 of the first optical element LS1 the second liquid LQ2 supplied in a predetermined amount.

なお、純水製造装置は第1液浸機構1と第2液浸機構とで共通に用いるようにしてもよい。 Incidentally, the pure water production device may be used in common to the first liquid immersion mechanism 1 and the second liquid immersion mechanism.

なお、第2供給管33の途中にも、第2液体供給部31から送出され、第2空間K2に供給される単位時間あたりの液体量を制御するマスフローコントローラを設けてもよい。 Incidentally, the way to be the second supply pipe 33, is delivered from the second liquid supply section 31 may be provided with a mass flow controller for controlling the liquid amount per unit time supplied to the second space K2.

第2液浸機構2の第2液体回収機構40は、投影光学系PLの第2光学素子LS2と第1光学素子LS1との間の第2空間K2の第2液体LQ2を回収するためのものであって、第2液体LQ2を回収可能な第2液体回収部41と、第2液体回収部41にその一端部を接続する第2回収管43とを備えている。 The second liquid recovery mechanism 40 of the second liquid immersion mechanism 2 is for recovering the second liquid LQ2 in the second space K2 between the second optical element LS2 and the first optical element LS1 of the projection optical system PL a is provided with a second liquid recovery unit 41 capable of recovering the second liquid LQ2, and a second recovery pipe 43 for connecting the one end portion to the second liquid recovery unit 41. 第2回収管43の他端部は、後述する回収流路(44)等を介して、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との間の第2空間K2に接続されている。 The other end of the second recovery pipe 43 via the recovery flow passage (44) to be described later, is connected to the second space K2 between the first optical element LS1 and the second optical element LS2. 第2液体回収部41は例えば真空ポンプ等の真空系(吸引装置)、及び回収された第2液体LQ2と気体とを分離する気液分離器等を備えている。 The second liquid recovery unit 41 includes, for example, a vacuum system such as a vacuum pump (suction device), and the gas-liquid separator for separating the recovered second liquid LQ2 and gas. なお真空系や気液分離器などのすべてを、露光装置EXに設けずに、その少なくとも一部の代わりに露光装置EXが配置される工場などの設備(用力)を用いるようにしてもよい。 Note all vacuum system and the gas-liquid separator is not provided in the exposure apparatus EX, it is also possible to use a facility (the utility), such that at least a part of the factory where the exposure apparatus EX is arranged instead. 第2液体回収機構40(第2液体回収部41)の動作は制御装置CONTにより制御される。 Operation of the second liquid recovery mechanism 40 (second liquid recovery section 41) is controlled by the control unit CONT. 第2液体回収機構40は、制御装置CONTの制御の下で、第2液体供給機構30より供給された第1光学素子LS1の上面T2上の第2液体LQ2を回収する。 The second liquid recovery mechanism 40, under the control of the control unit CONT, recovers the second liquid LQ2 on the upper surface T2 of the first optical element LS1, which is supplied from the second liquid supply mechanism 30.

ノズル部材70はノズルホルダ92に保持されており、そのノズルホルダ92はメインコラム9の下側段部8に接続されている。 The nozzle member 70 is held by a nozzle holder 92, the nozzle holder 92 is connected to the lower step 8 of the main column 9. ノズル部材70をノズルホルダ92を介して支持しているメインコラム9と、投影光学系PLの鏡筒PKをフランジPFを介して支持している鏡筒定盤5とは、防振装置87を介して振動的に分離されている。 A main column 9 which the nozzle member 70 is supported through the nozzle holder 92, a lens barrel surface plate 5 which supports the barrel PK of the projection optical system PL via the flange PF is a vibration isolator 87 It is vibrationally separated through. したがって、ノズル部材70で発生した振動が投影光学系PLに伝達されることは防止されている。 Therefore, the vibration generated by the nozzle member 70 is transmitted to the projection optical system PL is prevented. また、ノズル部材70をノズルホルダ92を介して支持しているメインコラム9と、基板ステージPSTを支持している基板定盤6とは、防振装置89を介して振動的に分離している。 Further, the main column 9 which supports the nozzle member 70 via the nozzle holder 92, the substrate surface plate 6 which supports the substrate stages PST, are vibrationally isolated via the vibration isolating apparatus 89 . したがって、ノズル部材70で発生した振動が、メインコラム9及びベースBPを介して基板ステージPSTに伝達されることが防止されている。 Accordingly, vibration generated by the nozzle member 70 are prevented from being transmitted to the substrate stage PST via the main column 9 and the base BP. また、ノズル部材70をノズルホルダ92を介して支持しているメインコラム9と、マスクステージMSTを支持しているマスク定盤4とは、防振装置86を介して振動的に分離されている。 Further, the main column 9 which supports the nozzle member 70 via the nozzle holder 92, and the mask surface plate 4 which supports the mask stage MST, is vibrationally isolated via the vibration isolating apparatus 86 . したがって、ノズル部材70で発生した振動がメインコラム9を介してマスクステージMSTに伝達されることが防止されている。 Accordingly, there is prevented that the vibration generated by the nozzle member 70 is transmitted to the mask stage MST via the main column 9.

次に、図2、図3、及び図4を参照しながら第1液浸機構1及びノズル部材70について説明する。 Next, FIGS. 2, 3, and the first liquid immersion mechanism 1 and the nozzle member 70 will be described with reference to FIG. 図2はノズル部材70近傍を示す概略斜視図の一部破断図、図3はノズル部材70を下側から見た斜視図、図4は側断面図である。 Figure 2 is a partially cutaway view of a schematic perspective view showing the vicinity of the nozzle member 70, FIG. 3 is a perspective view of the nozzle member 70 from below, FIG. 4 is a side sectional view.

ノズル部材70は、投影光学系PLの像面側先端部の近傍に配置されており、基板P(基板ステージPST)の上方において投影光学系PLの周りを囲むように設けられた環状部材である。 The nozzle member 70 is disposed in the vicinity of the image plane side end portion of the projection optical system PL, is the annular member which is provided to surround the projection optical system PL over the substrate P (substrate stage PST) . 本実施形態においては、ノズル部材70は、第1液浸機構1の一部を構成するものである。 In the present embodiment, the nozzle member 70 constitutes a first part of the liquid immersion mechanism 1. ノズル部材70は、その中央部に投影光学系PLを配置可能な穴部70Hを有している。 The nozzle member 70 has a deployable hole 70H of the projection optical system PL at its center. 図4に示すように、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2とは同一の鏡筒(支持部材)PKで支持されており、本実施形態においては、ノズル部材70の穴部70Hの内側面70Tと、鏡筒PKの側面PKTとが対向するように設けられている。 As shown in FIG. 4, the first optical element LS1 and the second optical element LS2 are supported by the same barrel (support member) PK, in the present embodiment, among the hole 70H of the nozzle member 70 and side 70T, and the side surface PKT of the barrel PK is provided so as to face. そして、ノズル部材70の穴部70Hの内側面70Tと投影光学系PLの鏡筒PKの側面PKTとの間には間隙が設けられている。 Then, a gap is provided between the inner side surface 70T of the hole 70H of the nozzle member 70 and the side surface PKT of the barrel PK of the projection optical system PL. この間隙は、投影光学系PLとノズル部材70とを振動的に分離するために設けられたものである。 This gap is to the projection optical system PL and the nozzle member 70 is provided for vibrationally isolated. これにより、ノズル部材70で発生した振動が、投影光学系PL側に直接的に伝達することが防止されている。 Accordingly, vibration generated by the nozzle member 70 is prevented from being directly transmitted to the projection optical system PL side.

なお、ノズル部材70の孔部70Hの内側面は液体LQに対して撥液性(撥水性)であり、投影光学系PLの側面とノズル部材70の内側面との間隙への液体LQの浸入が抑制されている。 Incidentally, the inner surface of the hole portion 70H of the nozzle member 70 is liquid-repellent (water-repellent) with respect to the liquid LQ, penetration of the liquid LQ into the gap between the side surface and the inner surface of the nozzle member 70 of the projection optical system PL There has been suppressed.

ノズル部材70の下面には、第1液体LQ1を供給する液体供給口12、及び第1液体LQ1を回収する液体回収口22が形成されている。 The lower surface of the nozzle member 70, the liquid recovery port 22 for recovering the liquid supply port 12, and the first liquid LQ1 supplied to the first liquid LQ1 is formed. 以下の説明においては、第1液浸機構1の液体供給口12を第1供給口12と、第1液浸機構1の液体回収口22を第1回収口22と適宜称する。 In the following description, the first liquid supply port 12 of the liquid immersion mechanism 1 and the first supply port 12, referred to as first liquid immersion mechanism 1 of the liquid recovery port 22 as appropriate with the first recovery port 22.

ノズル部材70の内部には、第1供給口12に接続する第1供給流路14、及び第2回収口22に接続する第2回収流路24が形成されている。 Inside the nozzle member 70, the second recovery flow passage 24 is formed to be connected to the first supply flow passage 14, and the second recovery port 22 connected to the first supply port 12. また、第1供給流路14には第1供給管13の他端部が接続されており、第1回収流路24には第1回収管23の他端部が接続されている。 Further, the first supply passage 14 is connected the other end of the first supply pipe 13, the first recovery flow path 24 is connected to the other end of the first recovery pipe 23. 第1供給口12、第1供給流路14、及び第1供給管13は第1液体供給機構10(第1液浸機構1)の一部を構成するものであり、第1回収口22、第1回収流路24、及び第1回収管23は第1液体回収機構20(第1液浸機構1)の一部を構成するものである。 The first supply port 12, the first supply flow passage 14, and the first supply pipe 13 constitutes a part of the first liquid supply mechanism 10 (first liquid immersion mechanism 1), the first recovery port 22, the first recovery flow passage 24 and the first recovery tube 23, and constitutes a part of the first liquid recovery mechanism 20 (first liquid immersion mechanism 1).

第1供給口12は、基板ステージPSTに支持された基板Pの上方において、その基板P表面と対向するように設けられている。 The first supply port 12, above the substrate P supported by the substrate stages PST, are provided so as to opposite the substrate P surface. 第1供給口12と基板P表面とは所定距離だけ離れている。 The first supply port 12 and the surface of the substrate P are separated by a predetermined distance. 第1供給口12は、露光光ELが照射される投影光学系PLの投影領域ARを囲むように配置されている。 The first supply port 12, the exposure light EL is arranged to surround the projection area AR of the projection optical system PL to be irradiated. 本実施形態においては、第1供給口12は、図3に示したように、投影領域ARを囲むように、ノズル部材70の下面において環状のスリット状に形成されている。 In the present embodiment, the first supply port 12, as shown in FIG. 3, so as to surround the projection area AR, it is formed on the annular slit in the lower surface of the nozzle member 70. また、本実施形態においては、投影領域ARは、Y軸方向(非走査方向)を長手方向とする矩形状に設定されている。 In the present embodiment, the projection area AR is set to a rectangular shape of the Y-axis direction (non-scanning direction) is the longitudinal direction.

第1供給流路14は、第1供給管13の他端部にその一部を接続されたバッファ流路部14Hと、その上端部をバッファ流路部14Hに接続し、下端部を第1供給口12に接続した傾斜流路部14Sとを備えている。 The first supply flow passage 14, and the buffer flow passage portion 14H that are connected to a portion to the other end of the first supply pipe 13 connects the upper end thereof to the buffer flow passage portion 14H, the lower end portion first and a inclined channel portion 14S connected to the supply port 12. 傾斜流路部14Sは第1供給口12に対応した形状を有し、そのXY平面に沿った断面は第1光学素子LS1を囲む環状のスリット状に形成されている。 Inclined channel portion 14S has a shape corresponding to the first supply port 12, a cross-section which along its XY plane is formed in an annular slit-shaped to surround the first optical element LS1. 傾斜流路部14Sは、その内側に配置されている第1光学素子LS1の側面に応じた傾斜角度を有しており、図4から分るように側断面視において、投影光学系PLの光軸AXから離れるにつれて、基板Pの表面との間隔が大きくなるように形成されている。 Inclined flow passage portion 14S has an angle of inclination corresponding to the side surface of the first optical element LS1 disposed on the inner side, in the side cross-sectional view as seen from FIG. 4, the light of the projection optical system PL increasing distance from the axis AX, are formed so that the distance between the surface of the substrate P becomes large.

バッファ流路部14Hは、傾斜流路部14Sの上端部を囲むようにその外側に設けられており、XY方向(水平方向)に拡がるように形成された空間部である。 Buffer flow passage portion 14H is the provided outside so as to surround the upper end of the inclined flow passage portion 14S, a space portion formed so as to extend in the XY direction (horizontal direction). バッファ流路部14Hの内側(光軸AX側)と傾斜流路部14Sの上端部とは接続しており、その接続部は曲がり角部17となっている。 Inside the buffer flow passage portion 14H (the optical axis AX side) and the upper end of the inclined flow passage portion 14S are connected, the connection portion has a corner portion 17. そして、その接続部(曲がり角部)17の近傍、具体的にはバッファ流路部14Hの内側(光軸AX側)の領域には、傾斜流路部14Sの上端部を囲むように形成された堤防部15が設けられている。 The vicinity of the connecting portion (corner portion) 17, in the region of the concrete inside the buffer flow passage portion 14H (optical axis AX side), which is formed to surround the upper end of the inclined flow passage portion 14S bank portion 15 is provided. 堤防部15はバッファ流路部14Hの底面より+Z方向に突出するように設けられている。 Bank portion 15 is provided so as to protrude in the + Z direction from the bottom surface of the buffer flow passage portion 14H. 堤防部15とノズル部材の上面(後述する天板部72B)との間に、バッファ流路部14Hよりも狭い狭流路部14Nが形成されている。 Between the upper surface (top plate portion 72B described later) of the bank portion 15 and the nozzle member, the narrow flow passage portion 14N is formed narrower than the buffer flow passage portion 14H.

本実施形態においては、ノズル部材70は、第1部材71と、第2部材72とを組み合わせて形成されている。 In the present embodiment, the nozzle member 70 includes a first member 71 is formed by combining the second member 72. 第1、第2部材71、72は、例えばアルミニウム、チタン、ステンレス鋼、ジュラルミン、またはこれらを少なくとも二つ含む合金によって形成可能である。 First, second members 71 and 72, for example, aluminum, can be formed by titanium, stainless steel, duralumin, or they at least two containing alloy.

第1部材71は、側板部71Aと、側板部71Aの上部の所定位置にその外側端部を接続した天板部71Bと、天板部71Bの内側端部にその上端部を接続した傾斜板部71Cと、傾斜板部71Cの下端部に接続した底板部71D(図3参照)とを有しており、それら各板部は互いに接合されて一体化されている。 The first member 71 includes a side plate portion 71A, a top plate portion 71B which connect the outer end at a predetermined position the upper portion of the side plate portion 71A, the inclined plate connected to its upper end to the inner end of the top plate portion 71B and part 71C, the inclined plate portion a bottom plate portion is connected to the lower end of the 71C 71D has a (see FIG. 3), they each plate portion are integrally joined together. 第2部材72は、第1部材71の上端部にその外側端部を接続した天板部72Bと、天板部72Bの内側端部にその上端部を接続した傾斜板部72Cと、傾斜板部72Cの下端部に接続した底板部72Dとを有しており、それら各板部は互いに接合されて一体化されている。 The second member 72 includes a top plate portion 72B which connect the outer ends to the upper end portion of the first member 71, and the inclined plate portion 72C which connect the upper end to the inner end of the top plate portion 72B, the inclined plate the bottom plate portion is connected to the lower end portion of the part 72C has a 72D, their respective plate portions are integrally joined together. そして、第1部材71の天板部71Bによってバッファ流路部14Hの底面が形成され、第2部材72の天板部72Bの下面によってバッファ流路部14Hの天井面が形成されている。 Then, the bottom surface of the buffer flow passage portion 14H by the top plate portion 71B of the first member 71 is formed, the ceiling surface of the buffer flow passage portion 14H is formed by the lower surface of the top plate portion 72B of the second member 72. また、第1部材71の傾斜板部71Cの上面(投影光学系PL側に向く面)によって傾斜流路部14Sの底面が形成され、第2部材72の傾斜板部72Cの下面(投影光学系PLとは反対側に向く面)によって傾斜流路部14Sの天井面が形成されている。 Further, the bottom surface of the inclined flow passage portion 14S is formed by the upper surface of the inclined plate portion 71C of the first member 71 (surface facing the projection optical system PL side), the lower surface of the inclined plate portion 72C of the second member 72 (the projection optical system PL ceiling surface of the inclined flow passage portion 14S is formed by the surface) facing the side opposite to the. 第1部材71の傾斜板部71C及び第2部材72の傾斜板部72Cのそれぞれはすり鉢状に形成されている。 Each of the inclined plate portion 72C of the inclined plate portion 71C and the second member 72 of the first member 71 is formed in a mortar shape. これら第1、第2部材71、72を組み合わせることによってスリット状の供給流路14が形成される。 The first supply passage 14 of the slit is formed by combining the second members 71 and 72. また、バッファ流路部14Hの外側は、第1部材71の側板部71Aの上部領域によって閉塞されており、第2部材72の傾斜板部72Cの上面(すなわちノズル部材70の内側面70T)は、投影光学系PLの鏡筒PKの側面PKTと対向している。 The outer buffer flow passage portion 14H, which is closed by the upper area of ​​the side plate portion 71A of the first member 71, (inner surface i.e. the nozzle member 70 70T) upper surface of the inclined plate portion 72C of the second member 72 faces the side surface PKT of the barrel PK of the projection optical system PL.

第1回収口22は、基板ステージPSTに支持された基板Pの上方において、その基板P表面と対向するように設けられている。 The first recovery port 22 is above the substrate P supported by the substrate stage PST, are provided so as to opposite the substrate P surface. 第1回収口22と基板P表面とは所定距離だけ離れている。 The first recovery port 22 and the surface of the substrate P are separated by a predetermined distance. 第1回収口22は、投影光学系PLの投影領域ARに対して第1供給口12の外側に、第1供給口12よりも離れて設けられており、第1供給口12、及び露光光ELが照射される投影領域ARを囲むように形成されている。 The first recovery port 22 is on the outer side of the first supply ports 12 with respect to the projection area AR of the projection optical system PL, and is provided apart than the first supply port 12, the first supply port 12, and the exposure light EL is formed to surround the projection area AR is irradiated. 具体的には、第1部材71の側板部71A、天板部71B、及び傾斜板部71Cによって下向きに開口する空間部24が形成されており、空間部24の前記開口部により第1回収口22が形成されており、前記空間部24により第1回収流路24が形成されている。 Specifically, the side plate portion 71A, the top plate portion 71B, and is formed with a space 24 which is open downward by the inclined plate portion 71C, a first recovery port by the opening of the space portion 24 of the first member 71 22 is formed, the first recovery flow passage 24 is formed by the space 24. そして、第1回収流路(空間部)24の一部に、第1回収管23の他端部が接続されている。 Then, a part of the first recovery line (space) 24, the other end of the first recovery pipe 23 are connected.

第1回収口22には、その第1回収口22を覆うように複数の孔を有する多孔部材25が配置されている。 The first recovery port 22, the porous member 25 is arranged to have a plurality of holes so as to cover the first recovery port 22. 多孔部材25は複数の孔を有したメッシュ部材により構成されている。 Porous member 25 is formed of a mesh member having a plurality of holes. 多孔部材25としては、例えば略六角形状の複数の孔からなるハニカムパターンを形成されたメッシュ部材によって構成可能である。 As the porous member 25, it can be configured by a mesh member formed with a honeycomb pattern composed of substantially hexagonal shape of the plurality of holes, for example. 多孔部材25は薄板状に形成されており、例えば100μm程度の厚みを有するものである。 The porous member 25 is formed of a thin plate and has, for example, 100μm thickness of about.

多孔部材25は、ステンレス鋼(例えばSUS316)などからなる多孔部材の基材となる板部材に孔あけ加工を施すことで形成可能である。 Porous member 25 may be formed by performing drilling in the plate member as a base material of the porous member made of stainless steel (e.g., SUS316). また、第1回収口22に、複数の薄板状の多孔部材25を重ねて配置することも可能である。 Further, the first recovery port 22, can be arranged to overlap the plurality of thin plate-shaped porous member 25. また、多孔部材25に、第1液体LQ1への不純物の溶出を抑えるための表面処理、あるいは親液性を高めるための表面処理を施してもよい。 Further, the porous member 25, a surface treatment for suppressing elution of impurities into the first liquid LQ1, or may be subjected to a surface treatment to enhance the lyophilic. そのような表面処理としては、多孔部材25に酸化クロムを付着する処理が挙げられ、例えば株式会社神鋼環境ソリューションの「GOLDEP」処理あるいは「GOLDEP WHITE」処理が挙げられる。 Such surface treatment, a process of attaching the chromium oxide porous member 25 can be mentioned, for example, "GOLDEP" process or "GOLDEP WHITE" treatment Kobelco Eco-Solutions Co., Ltd. can be mentioned. このような表面処理を施すことにより、多孔部材25から第1液体LQ1に不純物が溶出する等の不都合を防止できる。 By performing such surface treatment, it is possible to prevent the inconvenience such as the impurities from the porous member 25 to the first liquid LQ1 is eluted. また、ノズル部材70(第1、第2部材71、72)に上述した表面処理を施してもよい。 The nozzle member 70 (first, second members 71 and 72) may be subjected to the above-mentioned surface treatment. なお、第1液体LQ1への不純物の溶出が少ない材料(チタンなど)を用いて多孔部材25を形成してもよい。 It is also possible to form the porous member 25 using elution less material of impurities into the first liquid LQ1 (such as titanium).

ノズル部材70は平面視四角形状である。 The nozzle member 70 is a plan view a square shape. 図3に示すように、第1回収口22は、ノズル部材70の下面において、投影領域AR及び第1供給口12を取り囲むように平面視枠状(口の字状)に形成されている。 As shown in FIG. 3, the first recovery port 22, the lower surface of the nozzle member 70, is formed in plan view frame shape (mouth-like shape) so as to surround the projection area AR and the first supply port 12. そして、その第1回収口22に薄板状の多孔部材25が配置されている。 Then, thin plate-shaped porous member 25 is arranged on a first recovery port 22. また、第1回収口22(多孔部材25)と第1供給口12との間には、第1部材71の底板部71Dが配置されている。 Further, between the first recovery port 22 (porous member 25) and the first supply port 12, the bottom plate portion of the first member 71 71D are arranged. 第1供給口12は、第1部材71の底板部71Dと、第2部材72の底板部72Dとの間において平面視環状のスリット状に形成されたものである。 The first supply port 12 has a bottom plate portion 71D of the first member 71, and is formed in plan view an annular slit-shaped between the bottom plate portion 72D of the second member 72.

ノズル部材70のうち、底板部71D、72Dそれぞれの基板Pと対向する面(下面)は、XY平面と平行な平坦面となっている。 Of the nozzle member 70, the bottom plate portion 71D, each of the substrate P and the surface facing 72D (lower surface) has a XY plane parallel to the flat surface. すなわち、ノズル部材70は、基板ステージPSTに支持された基板Pの表面(XY平面)と対向するように、且つ基板Pの表面と略平行となるように形成された下面を有する底板部71D、72Dを備えた構成となっている。 That is, the nozzle member 70 so as to face the surface (XY plane) of the substrate P supported by the substrate stage PST, and the bottom plate portion 71D having the formed lower surface so as to be approximately parallel to the surface of the substrate P, and it has a configuration which includes a 72D. また、本実施形態においては、底板部71Dの下面と底板部72Dの下面とは略面一であり、基板ステージPSTに配置された基板P表面とのギャップが最も小さくなる部分となる。 In the present embodiment, the lower surface and the lower surface of the bottom plate portion 72D of the bottom plate portion 71D is substantially flush, the gap between the arranged surface of the substrate P on the substrate stage PST is smallest portion. これにより、底板部71D、72Dの下面と基板Pとの間で第1液体LQ1を良好に保持して第1液浸領域LR1を形成することができる。 Thus, it is possible to form the bottom plate portion 71D, the first liquid immersion area LR1 and good retention of the first liquid LQ1 between the lower surface and the substrate P 72D. 以下の説明においては、基板ステージPSTに支持された基板Pの表面と対向するように、且つ基板Pの表面(XY平面)と略平行となるように形成された底板部71D、72Dの下面(平坦部)を合わせて、「ランド面75」と適宜称する。 In the following description, so as to face the surface of the substrate P supported by the substrate stage PST, and the surface of the substrate P (XY plane) and substantially formed in parallel to the bottom plate portion 71D, the lower surface of 72D ( the combined flat portion), appropriately referred to as "land surface 75".

ランド面75は、ノズル部材70のうち、基板ステージPSTに支持された基板Pに最も近い位置に配置された面である。 Land surface 75 of the nozzle member 70, is a surface which is arranged at a position closest to the substrate P supported by the substrate stage PST. なお本実施形態においては、底板部71Dの下面と底板部72Dの下面とは略面一となっているため、底板部71Dの下面及び底板部72Dの下面を合わせてランド面75としているが、底板部71Dの下面にも多孔部材25を配置して第1回収口22の一部としてもよい。 Note in the present embodiment, since that is substantially flush to the lower surface and the lower surface of the bottom plate portion 72D of the bottom plate portion 71D, but the combined lower surfaces and the bottom plate portion 72D of the bottom plate portion 71D is the land surface 75, also on the lower surface of the bottom plate portion 71D disposed a porous member 25 may be part of the first recovery port 22. この場合は、底板部72Dの下面のみがランド面75となる。 In this case, only the lower surface of the bottom plate portion 72D is the land surface 75.

多孔部材25は、基板ステージPSTに支持された基板Pと対向する下面26を有している。 Porous member 25 has a lower surface 26 facing the substrate P supported by the substrate stage PST. そして、多孔部材25は、その下面26が基板ステージPSTに支持された基板Pの表面(すなわちXY平面)に対して傾斜するように第1回収口22に設けられている。 Then, the porous member 25 has its lower surface 26 is provided on the first recovery port 22 so as to be inclined with respect to the surface (i.e., the XY plane) of the substrate P supported by the substrate stage PST. すなわち、第1回収口22に設けられた多孔部材25は、基板ステージPSTに支持された基板Pの表面と対向する斜面(下面)26を有している。 That is, the porous member 25 provided in the first recovery port 22 has an inclined surface (lower surface) 26 which faces the surface of the substrate P supported by the substrate stage PST. 第1液体LQ1は、第1回収口22に配置された多孔部材25の斜面26を介して回収される。 The first liquid LQ1 is recovered via the inclined surface 26 of the porous member 25 arranged in the first recovery port 22. すなわち第1回収口22は斜面26に形成された構成となっている。 That first recovery port 22 has a structure which is formed on the slope 26. また、第1回収口22は、露光光ELが照射される投影領域ARを囲むように形成されているため、その第1回収口22に配置された多孔部材25の斜面26は、露光光ELが照射される投影領域ARを囲むように形成された構成となっている。 The first recovery port 22, since the exposure light EL is formed to surround the projection area AR is irradiated, the slope 26 of the porous member 25 disposed on the first recovery port 22, the exposure light EL There has to have been formed to surround the projection area AR is irradiated configuration.

基板Pと対向する多孔部材25の斜面26は、投影光学系PL(露光光EL)の光軸AXから離れるにつれて、基板Pの表面との間隔が大きくなるように形成されている。 Slope 26 of the porous member 25 facing the substrate P, with increasing distance from the optical axis AX of the projection optical system PL (exposure light EL), are formed so that the distance between the surface of the substrate P becomes large. 図3に示すように、本実施形態においては、第1回収口22は平面視ロの字状に形成され、その第1回収口22には4枚の多孔部材25A〜25Dが組み合わされて配置されている。 As shown in FIG. 3, the arrangement in the present embodiment, the first recovery port 22 is formed in a shape in plan view (b), the the first recovery port 22 is combined four porous member 25A~25D It is. このうち、投影領域ARに対してX軸方向(走査方向)両側のそれぞれに配置されている多孔部材25A、25Cは、その表面とXZ平面とを直交させつつ、光軸AXから離れるにつれて基板Pの表面との間隔が大きくなるように配置されている。 Of these, porous member 25A which is disposed in each X-axis direction (scanning direction) of both sides of the projection area AR, 25C, while are perpendicular to its surface and XZ plane, the substrate with increasing distance from the optical axis AX P distance between the surface of which is arranged such increases. また、投影領域ARに対してY軸方向の両側のそれぞれに配置されている多孔部材25B、25Dは、その表面とYZ平面とを直交させつつ、光軸AXから離れるにつれて基板Pの表面との間隔が大きくなるように配置されている。 The porous member 25B which is arranged on each of both sides in the Y axis direction with respect to the projection area AR, 25D is while perpendicular to its surface and the YZ plane, with the surface of the substrate P moves away from the optical axis AX intervals are arranged such increases.

第1部材71の傾斜板部71Cの下端部に接続された底板部71Dの下面と側板部71Aの下端部とは、Z軸方向においてほぼ同じ位置(高さ)に設けられている。 The lower end of the inclined plate portion 71C of the lower end portion connected to the bottom plate portion 71D bottom surface and the side plate portion 71A of the first member 71, is provided at substantially the same position (height) in the Z-axis direction. また、多孔部材25は、その斜面26の内縁部と底板部71Dの下面(ランド面75)とがほぼ同じ高さになるように、且つ斜面26の内縁部と底板部71Dの下面(ランド面75)とが連続するように、ノズル部材70の第1回収口22に取り付けられている。 The porous member 25, the inner edge portion and the lower surface of the bottom plate portion 71D as (land surface 75) and is approximately the same height, and the lower surface (land surface of the inner edge of the inclined surface 26 and the bottom plate portion 71D of the slope 26 as 75) and are continuous, is attached to the first recovery port 22 of the nozzle member 70. すなわち、ランド面75は、多孔部材25の斜面26と連続的に形成されている。 That is, the land surface 75 is continuously formed with the inclined surface 26 of the porous member 25. また、多孔部材25は光軸AXから離れるにつれて基板Pの表面との間隔が大きくなるように配置されている。 The porous member 25 is arranged so that the distance between the surface of the substrate P moves away from the optical axis AX is larger. そして、斜面26(多孔部材25)の外縁部の外側には、側板部71Aの下部の一部の領域によって形成された壁部76が設けられている。 And, on the outside of the outer edge portion of the inclined surface 26 (porous member 25), the wall portion 76 is provided which is formed by a partial area of ​​the lower portion of the side plate portion 71A. 壁部76は、多孔部材22(斜面26)を囲むように、その周縁に設けられたものであって、投影領域ARに対して第1回収口22の外側に設けられており、第1液体LQ1の漏出を抑制するためのものである。 The wall portion 76 so as to surround the porous member 22 (inclined surface 26), there is provided in its periphery, it is provided outside the first recovery port 22 with respect to the projection area AR, the first liquid it is intended to suppress the leakage of LQ1.

ランド面75を形成する底板部72Dの一部は、Z軸方向に関して、投影光学系PLの第1光学素子LS1の下面T1と基板Pとの間に配置されている。 Part of the bottom plate portion 72D which forms the land surface 75 with respect to the Z axis direction is disposed between the lower surface T1 and the substrate P of the first optical element LS1 of the projection optical system PL. すなわち、ランド面75を形成する底板部72Dの一部が、投影光学系PLの光学素子LS1の下面T1の下にもぐり込んでいる。 That is, part of the bottom plate portion 72D which forms the land surface 75 has sunk to below the lower surface T1 of the optical element LS1 of the projection optical system PL. また、ランド面75を形成する底板部72Dの中央部には、露光光ELが通過する開口部74が形成されている。 The central portion of the bottom plate portion 72D which forms the land surface 75, opening 74 through which the exposure light EL passes is formed. 開口部74は、投影領域ARに応じた形状を有しており、本実施形態においてはY軸方向(非走査方向)を長手方向とする楕円状に形成されている。 Opening 74 has a shape corresponding to the projection area AR, in the present embodiment is formed in an elliptical shape with the Y-axis direction (non-scanning direction) is the longitudinal direction. 開口部74は投影領域ARよりも大きく形成されており、投影光学系PLを通過した露光光ELは、底板部72Dに遮られることなく、基板P上に到達できる。 Opening 74 is formed larger than the projection area AR, the exposure light EL that has passed through the projection optical system PL is not shielded by the bottom plate portion 72D, you can reach the substrate P. すなわち、ランド面75を形成する底板部72Dは、露光光ELの光路を囲むように、露光光ELの光路を妨げない位置において、第1光学素子LS1の下面T1の下にもぐり込むようにして配置されている。 That is, the bottom plate portion 72D which forms the land surface 75 so as to surround the optical path of the exposure light EL, in a position that does not interfere with the optical path of the exposure light EL, so as slips under the lower surface T1 of the first optical element LS1 arranged It is. 換言すれば、ランド面75は、第1光学素子LS1の下面T1と基板Pとの間において、投影領域ARを囲むように配置されている。 In other words, the land surface 75, between the lower surface T1 and the substrate P of the first optical element LS1, which is arranged to surround the projection area AR. また、底板部72Dは、その下面をランド面75として、基板Pの表面と対向するように配置されており、第1光学素子LS1の下面T1及び基板Pとは接触しないように設けられている。 Further, the bottom plate portion 72D is the lower surface as the land surface 75 is disposed so as to face a counter substrate P, and the lower surface T1 and the substrate P of the first optical element LS1 is provided so as not to contact . なお、開口部74のエッジ部74Eは、直角状であってもよいし、鋭角に形成されていてもよいし、円弧状に形成されていてもよい。 Incidentally, the edge portion 74E of the opening 74 may be a right-angled, may be formed at an acute angle, it may be formed in an arc shape.

そして、ランド面75は、露光光ELが照射される投影領域ARと第1回収口22に配置された多孔部材25の斜面26との間に配置された構成となっている。 Then, the land surface 75, the exposure light EL is in the deployed configuration between the inclined surface 26 of the porous member 25 disposed in the projection area AR and the first recovery port 22 to be irradiated. 第1回収口22は、投影領域ARに対してランド面75の外側で、且つランド面75を囲むように配置された構成となっている。 The first recovery port 22 is outside the land surface 75, and a deployed configuration so as to surround the land surface 75 with respect to the projection area AR. また、第1供給口12も、投影領域ARに対してランド面75(底板部72D)の外側に配置された構成となっている。 The first supply port 12 also has a configuration which is arranged outside the land surface 75 (bottom plate portion 72D) with respect to the projection area AR. 第1供給口12は、投影光学系PLの投影領域ARと第1回収口22との間に設けられた構成となっており、第1液浸領域LR1を形成するための第1液体LQ1は、第1供給口12を介して、投影光学系PLの投影領域ARと第1回収口22との間で供給される。 The first supply port 12 has a structure which is provided between the projection area AR and the first recovery port 22 of the projection optical system PL, and the first liquid LQ1 for forming the first liquid immersion area LR1 is , through the first supply port 12 is supplied between the projection area AR and the first recovery port 22 of the projection optical system PL.

なお本実施形態においては、第1回収口22は口の字状に形成され、ランド面75を囲むように配置された構成であるが、投影領域ARに対してランド面75よりも外側であれば、ランド面75を囲まないように配置されていてもよい。 In the present embodiment, the first recovery port 22 is formed in the mouth-shape, but it is arranged configured to surround the land surface 75, there outside than the land surface 75 with respect to the projection area AR if, may be arranged so as not to enclose the land surface 75. 例えば、第1回収口22は、ノズル部材70の下面のうち、投影領域ARに対して走査方向(X軸方向)両側のランド面75よりも外側の所定領域に分割して配置されていてもよい。 For example, the first recovery port 22, of the lower surface of the nozzle member 70, be arranged by dividing the outside of the predetermined area than the land surface 75 scanning direction (X axis direction) on both sides with respect to the projection area AR good. あるいは、第1回収口22は、ノズル部材70の下面のうち、投影領域ARに対して非走査方向(Y軸方向)両側に、ランド面75よりも外側の所定領域に分割して配置されていてもよい。 Alternatively, the first recovery port 22, of the lower surface of the nozzle member 70, the non-scanning direction (Y axis direction) on both sides with respect to the projection area AR, is arranged by dividing the outside of the predetermined area than the land surface 75 it may be. 一方、第1回収口22をランド面75を囲むように配置することで、第1回収口22を介して第1液体LQ1をより確実に回収することができる。 On the other hand, the first recovery port 22 by arranging so as to surround the land surface 75, can be the first liquid LQ1 via the first recovery port 22 more reliably recovered.

上述したように、ランド面75は、第1光学素子LS1の下面T1と基板Pとの間に配置されており、基板P表面と第1光学素子LS1の下面T1との距離は、基板P表面とランド面75との距離よりも長くなっている。 As described above, the land surface 75 is disposed between the lower surface T1 and the substrate P of the first optical element LS1, the distance between the lower surface T1 of the surface of the substrate P and the first optical element LS1, the substrate P surface It is longer than the distance between the land surface 75 and. すなわち、第1光学素子LS1の下面T1は、ランド面75より高い位置に(基板Pに対して遠くなるように)形成されている。 That is, the lower surface T1 of the first optical element LS1, (so far with respect to the substrate P) to a position higher than the land surface 75 is formed.

また、ランド面75に連続的に形成された斜面26を含む第1回収口22の少なくとも一部は、Z軸方向に関して、第1光学素子LS1の下面T1と基板Pとの間で基板Pの表面と対向するように配置されている。 Further, at least part of the first recovery port 22 including the inclined surface 26 that is continuously formed on the land surface 75, the Z-axis direction, of the substrate P between the lower surface T1 and the substrate P of the first optical element LS1 It is disposed so as to face the opposite. すなわち、第1回収口22の少なくとも一部は、第1光学素子LS1の下面T1より低い位置に(基板Pに対して近くなるように)設けられている。 That is, at least a portion of the first recovery port 22 is (as close to the substrate P) to below the lower surface T1 of the first optical element LS1 position is provided. そして、斜面26を含む第1回収口22は、第1光学素子LS1の下面T1の周囲に配置された構成となっている。 The first recovery port 22 including the inclined surface 26 has a structure which is disposed around the lower surface T1 of the first optical element LS1.

本実施形態においては、第1光学素子LS1の下面T1と第1光学素子LS1の上面T2との距離は4mm程度であり、第1光学素子LS1の下面T1と基板Pとの距離、すなわち露光光ELの光路における液体LQ1の厚さは3mm程度であり、ランド面75と基板Pとの距離は1mm程度である。 In the present embodiment, the distance between the lower surface T1 of the first optical element LS1 and the upper surface T2 of the first optical element LS1 is about 4 mm, the distance between the lower surface T1 and the substrate P of the first optical element LS1, i.e. exposure light the thickness of the liquid LQ1 in the optical path of the EL is about 3 mm, the distance between the land surface 75 and the substrate P is about 1 mm. そして、ランド面75には第1液浸領域LR1の第1液体LQ1が接触するようになっており、第1光学素子LS1の下面T1にも第1液浸領域LR1の第1液体LQ1が接触するようになっている。 Then, the land surface 75 is adapted to the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1 makes contact, the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1 to the lower surface T1 of the first optical element LS1 contact It has become way. すなわち、ランド面75及び下面T1は、第1液浸領域LR1の第1液体LQ1と接触する液体接触面となっている。 That is, the land surface 75 and the lower surface T1 has a liquid contact surface that contacts the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1.

なお、第1光学素子LS1の下面T1と第1光学素子LS1の上面T2との距離は上記4mmに限られず、3〜10mmの範囲で設定することができ、第1光学素子LS1の下面T1と基板Pとの距離は、上記3mmに限られず、液体LQ1による露光光ELの吸収と、第1空間K1での液体LQ1の流れとを考慮して、1〜5mmの範囲で設定することができる。 The distance between the lower surface T1 of the first optical element LS1 and the upper surface T2 of the first optical element LS1 is not limited to the above 4 mm, can be set in the range of 3 to 10 mm, and the lower surface T1 of the first optical element LS1 the distance between the substrate P is not limited to the above 3 mm, considering the absorption of the exposure light EL by the liquid LQ1, and a flow of the liquid LQ1 in the first space K1, it can be set in the range of 1~5mm . また、ランド面75と基板Pとの距離も、上記1mmに限られず、0.5〜1mmの範囲で設定することができる。 The distance between the land surface 75 and the substrate P is also not limited to the above 1 mm, it can be set in the range of 0.5 to 1 mm.

投影光学系PLの第1光学素子LS1の下面(液体接触面)T1は、親液性(親水性)を有している。 T1 lower surface (liquid contact surface) of the first optical element LS1 of the projection optical system PL has lyophilic property (hydrophilic). 本実施形態においては、下面T1に対して親液化処理が施されており、その親液化処理によって、第1光学素子LS1の下面T1が親液性となっている。 In the present embodiment has lyophilic treatment is performed on the lower surface T1, by the lyophilic process, the lower surface T1 of the first optical element LS1 has a lyophilic. また、ランド面75も親液化処理されて親液性を有している。 Furthermore, the land surface 75 be lyophilic treatment has a lyophilic property. なお、ランド面75の一部は撥液化処理されて撥液性を有していてもよい。 A part of the land surface 75 may have been repelling treatment liquid repellency.

第1光学素子LS1の下面T1等の所定部材を親液性にするための親液化処理としては、例えば、MgF2、Al2O3、SiO2等の親液性材料を付着させる等の処理が挙げられる。 The lyophilic process for a predetermined member such as the lower surface T1 of the first optical element LS1 lyophilic, for example, MgF2, Al2 O3, SiO2 processing such adhering a lyophilic material, and the like. あるいは、本実施形態における液体LQは極性の大きい水であるため、親液化処理(親水化処理)としては、例えばアルコールなどOH基を持った極性の大きい分子構造の物質で薄膜を形成することで、親液性(親水性)を付与することもできる。 Alternatively, the liquid LQ in the present embodiment, since a great water polarity, as the lyophilic treatment (hydrophilic treatment), by forming, for example, a thin film with high polarity molecular structure having a OH group such as an alcohol substance It can also be imparted lyophilic property (hydrophilic). また、第1光学素子LS1を蛍石又は石英で形成することにより、これら蛍石又は石英は水との親和性が高いため、親液化処理を施さなくても、良好な親液性を得ることができ、第1光学素子LS1の下面T1のほぼ全面に第1液体LQ1を密着させることができる。 Further, by the first optical element LS1 is formed of fluorite or quartz, because these fluorite or quartz has a high affinity for water, even without applying the lyophilic processing, to obtain good lyophilic can be, it can be brought into close contact with the first liquid LQ1 on substantially the entire surface of the lower surface T1 of the first optical element LS1. なお、ランド面75の一部(例えば、底板部71Dの下面)を第1液体LQ1に対して撥液性にしてもよい。 A part of the land surface 75 (e.g., the lower surface of the bottom plate portion 71D) may be liquid-repellent with respect to the first liquid LQ1.

また、ランド面75の一部を撥液性にするための撥液化処理としては、例えば、ポリ四フッ化エチレン(テフロン(登録商標))等のフッ素系樹脂材料、アクリル系樹脂材料、シリコン系樹脂材料等の撥液性材料を付着させる等の処理が挙げられる。 Further, part of the land surface 75 as repelling treatment for the liquid repellency include fluorine-based resin material such as polytetrafluoroethylene (Teflon (registered trademark)), acrylic resin materials, silicon-based processing such adhering a liquid-repellent material such as a resin material. また、基板ステージPSTの上面91を撥液性にすることにより、液浸露光中における基板P外側(上面91外側)への第1液体LQ1の流出を抑え、また液浸露光後においても第1液体LQ1を円滑に回収できて上面91に第1液体LQ1が残留する不都合を防止できる。 Further, by making the top surface 91 of the substrate stage PST in the liquid repellency, suppress the outflow of the first liquid LQ1 on the substrate P outside (upper surface 91 outside) during liquid immersion exposure, and even after immersion exposure first the liquid LQ1 made smoothly recover can prevent a disadvantage that the first liquid LQ1 remains on the upper surface 91.

基板P上に第1液体LQ1を供給するために、制御装置CONTは、第1液体供給部11を駆動して第1液体供給部11より第1液体LQ1を送出する。 In order to supply the first liquid LQ1 onto the substrate P, controller CONT delivers the first liquid LQ1 from the first liquid supply unit 11 drives the first liquid supply unit 11. 第1液体供給部11より送出された第1液体LQ1は、第1供給管13を流れた後、ノズル部材70の第1供給流路14のうちバッファ流路部14Hに流入する。 The first liquid LQ1, which is sent from the first liquid supply unit 11, after flowing through the first supply pipe 13, flows into the buffer flow passage portion 14H of the first supply flow passage 14 of the nozzle member 70. バッファ流路部14Hは水平方向に拡がる空間部であり、バッファ流路部14Hに流入した第1液体LQ1は水平方向に拡がるように流れる。 Buffer flow passage portion 14H is a space that extends in the horizontal direction, the first liquid LQ1, which has flown into the buffer flow passage portion 14H flows so as to extend in the horizontal direction. バッファ流路部14Hの流路下流側である内側(光軸AX側)の領域には堤防部15が形成されているため、第1液体LQ1はバッファ流路部14Hの全域に拡がった後、一旦貯められる。 Since the region of the inner is a flow path downstream of the buffer flow passage portion 14H (optical axis AX side) bank portion 15 is formed, after the first liquid LQ1 is to spread the entire buffer flow passage portion 14H, once it is pooled. そして、バッファ流路部14Hに第1液体LQ1が所定量以上貯まった後(第1液体LQ1の液面が堤防部15の高さ以上になった後)、狭流路部14Nを介して傾斜流路部14Sに流入する。 Then, (after the liquid level of the first liquid LQ1 is equal to or higher than the height of the bank portion 15) after the first liquid LQ1 is accumulated over a predetermined amount in the buffer flow passage portion 14H, inclined through the narrow channel portion 14N and it flows into the flow passage portion 14S. 傾斜流路部14Sに流入した第1液体LQ1は、傾斜流路部14Sを下方に向かって流れ、第1供給口12より投影光学系PLの像面側に配置された基板P上に供給される。 The first liquid LQ1, which has flown into the inclined flow passage portion 14S flows toward the inclined flow passage portion 14S downward, is supplied to the first supply port 12 from being arranged on the image plane side of the projection optical system PL the substrate P that. 第1供給口12は基板Pの上方より基板P上に第1液体LQ1を供給する。 The first supply port 12 supplies the first liquid LQ1 onto the substrate P from above the substrate P.

このように、堤防部15を設けたことにより、バッファ流路部14Hから流れ出た第1液体LQ1は、投影領域ARを囲むように環状に形成された第1供給口12の全域からほぼ均一に基板P上に供給される。 Thus, by providing the bank portion 15, the first liquid LQ1, which has flown out from the buffer flow passage portion 14H is substantially uniformly from the entire area of ​​the first supply port 12 formed annularly to surround the projection area AR It is supplied onto the substrate P. つまり、堤防部15(狭流路部14N)が形成されていないと、傾斜流路部14Sを流れる第1液体LQ1の流量は、第1供給管13とバッファ流路部14Hとの接続部近傍の領域のほうが他の領域よりも多くなるため、環状に形成された第1供給口12の各位置において基板P上に対する液体供給量が不均一となる場合がある。 That is, when bank portion 15 (narrow flow passage portion 14N) is not formed, the flow rate of the first liquid LQ1 flowing through the inclined flow passage portion 14S is near the connecting portion between the first supply pipe 13 and the buffer flow passage portion 14H because more of the area is larger than other areas, there is a case where the liquid supply amount with respect to the upper substrate P at respective positions of the first supply port 12 formed annularly becomes uneven. しかしながら、狭流路部14Nを設けてバッファ流路部14Hを形成し、そのバッファ流路部14Hに所定量以上の第1液体LQ1が貯められた後、第1供給口12への液体供給が開始されるようにしたので、第1供給口12の各位置における流量分布や流速分布を均一化した状態で基板P上に第1液体LQ1を供給することができる。 However, the narrow channel portion forming a buffer flow passage portion 14H provided with a 14N, after a predetermined amount or more of the first liquid LQ1 was accumulated in the buffer flow passage portion 14H, the liquid supply to the first supply port 12 since to be started, it is possible to supply the first liquid LQ1 onto the substrate P while equalizing the flow rate distribution and the flow velocity distribution at each position in the first supply port 12. ここで、第1供給流路14の曲がり角部17近傍には例えば供給開始時などに気泡が残存しやすいが、この曲がり角部17近傍の第1供給流路14を狭めて狭流路部14Nを形成したことにより、狭流路部14Nを流れる第1液体LQ1の流速を高速化でき、その高速化された第1液体LQ1の流れにより気泡を第1供給口12を介して第1供給流路14外部に排出できる。 Here, easy to corner portions 17 near the first supply flow passage 14 and remaining air bubbles, such as during start example supply, but the narrow channel section 14N by narrowing the first supply flow passage 14 of the corner portion 17 near by forming the flow velocity of the first liquid LQ1 flowing through the narrow flow passage portion 14N can speed up the first supply passage bubbles through the first supply port 12 by the flow of the first liquid LQ1, which is the speed 14 can be discharged to the outside. そして、気泡を排出した後、液浸露光動作を実行することにより、第1液浸領域LR1に気泡がない状態で露光処理できる。 Then after exhausting the bubble, by performing the liquid immersion exposure operation, it can be the exposure process in the absence of air bubbles in the first liquid immersion area LR1. なお堤防部15は、バッファ流路14Hの天井面より−Z方向に突出するように設けられていてもよい。 Incidentally bank portion 15 may be provided so as to protrude in the -Z direction from the ceiling surface of the buffer flow passage 14H. 要は、バッファ流路部14Hよりも狭い狭流路部14Nが、バッファ流路部14Hよりも流路下流側に設けられていればよい。 In short, the narrow flow passage portion 14N is narrower than the buffer flow passage portion 14H may be provided on the flow path downstream of the buffer flow passage portion 14H.

なお、堤防部15を部分的に低く(高く)してもよい。 Note that the bank portion 15 partially lowered (higher) may be. 堤防部15に部分的に高さの異なる領域を設けておくことによって、第1供給口12からの第1液体LQ1の供給が部分的に異なるタイミングで開始することができるので、第1液体LQ1の供給を開始したときに液浸領域AR2を形成する液体中への気体(気泡)の残留を防止することができる。 By preferably provided partially different regions of heights bank portion 15, the supply of the first liquid LQ1 from the first supply port 12 can be started at different times in portions, the first liquid LQ1 the residual gas (bubbles) in the liquid which forms the liquid immersion area AR2 when starting the supply can be prevented. またバッファ流路部14Hを複数の流路に分割して、スリット状の液体供給口12の位置に応じて異なる量の液体LQを供給できるようにしてもよい。 Also divide the buffer flow passage portion 14H into a plurality of flow passages, may be able to provide different amounts of the liquid LQ in accordance with the position of the slit-shaped liquid supply port 12.

また、基板P上の第1液体LQ1を回収するために、制御装置CONTは、第1液体回収部21を駆動する。 Further, in order to recover the first liquid LQ1 on the substrate P, controller CONT drives the first liquid recovery unit 21. 真空系を有する第1液体回収部21が駆動されることにより、基板P上の第1液体LQ1は、多孔部材25を配置された第1回収口22を介して第1回収流路24に流入する。 By first liquid recovery section 21 having the vacuum system is driven flows, the first liquid LQ1 on the substrate P, the first recovery flow passage 24 via the first recovery port 22 arranged with the porous member 25 to. 第1液浸領域LR1の第1液体LQ1を回収するとき、その第1液体LQ1には多孔部材25の下面(斜面)26が接触する。 When recovering the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1, the lower surface of the porous member 25 (inclined surface) 26 is in contact on its first liquid LQ1. 第1回収口22(多孔部材25)は基板Pの上方において、基板Pに対向するように設けられているため、基板P上の第1液体LQ1を上方より回収する。 The first recovery port 22 (porous member 25) above the substrate P, for which is provided so as to face the substrate P, and recovered from above the first liquid LQ1 on the substrate P. 第1回収流路24に流入した第1液体LQ1は、第1回収管23を流れた後、第1液体回収部21に回収される。 The first liquid LQ1, which has flown into the first recovery flow path 24, after flowing through the first recovery tube 23 is recovered in the first liquid recovery unit 21.

次に、図4、図5、図6、及び図7を参照しながら第2液浸機構2について説明する。 Next, FIGS. 4, 5, 6, and the second liquid immersion mechanism 2 with reference describing FIG.

図4において、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2とは、同一の鏡筒(支持部材)PKに支持されており、露光光ELの光路に対してほぼ静止した状態で支持されている。 4, the first optical element LS1 and the second optical element LS2, the same barrel is supported by the (support member) PK, and is supported in a state of being substantially stationary with respect to the optical path of the exposure light EL . 第1光学素子LS1は、鏡筒PKの下端部に設けられた第1支持部91に支持されている。 The first optical element LS1 is supported by the first support portion 91 provided at the lower end of the barrel PK. 第2光学素子LS2は、鏡筒PKの内部において第1支持部91よりも上方に設けられた第2支持部92に支持されている。 The second optical element LS2 is supported by the second support portion 92 provided above the first supporting portion 91 in the barrel PK. 第2光学素子LS2の上部には被支持部であるフランジ部F2が設けられており、第2支持部92はフランジ部F2を支持することによって、第2光学素子LS2を支持している。 The upper portion of the second optical element LS2 is provided with a flange portion F2 is a supported portion, the second support portion 92 by supporting the flange portion F2, which supports the second optical element LS2. また、第1光学素子LS1は、鏡筒PKの第1支持部91に対して容易に取り付け・外し可能となっている。 The first optical element LS1 is easily become insert or remove the first support portion 91 of the barrel PK. すなわち、第1光学素子LS1は交換可能に設けられている。 That is, the first optical element LS1 is provided exchangeably. なお、第1光学素子LS1を支持する第1支持部91を、第2支持部92に対して取り付け/取り外し可能とし、第1支持部91と第1光学素子LS1とを一緒に交換してもよい。 Incidentally, the first supporting portion 91 for supporting the first optical element LS1, and the attachment / detachable with respect to the second support portion 92, be replaced with the first support portion 91 and the first optical element LS1 with good.

第1光学素子LS1は平行平面板であって、下面T1と上面T2とは平行である。 The first optical element LS1 is a parallel flat plate, which is parallel to the lower surface T1 and the upper surface T2. また、下面T1及び上面T2はXY平面とほぼ平行となっている。 The lower surface T1 and the upper surface T2 are substantially parallel to the XY plane. 基板ステージPSTに支持された基板Pの表面とXY平面とはほぼ平行であるため、下面T1及び上面T2は基板ステージPSTに支持された基板Pの表面とほぼ平行となっている。 Because the surface and the XY plane of the substrate P supported by the substrate stage PST is substantially parallel lower surface T1 and the upper surface T2 are substantially parallel and supported by the surface of the substrate P on the substrate stage PST. また、第1支持部91に支持された第1光学素子LS1の下面T1と、鏡筒PKの下面PKAとはほぼ面一となっている。 Further, the lower surface T1 of the first optical element LS1 supported by the first support portion 91, it is substantially flush with the lower surface PKA of the barrel PK. ランド面75を形成する底板部72Dは、下面T1及び下面PKAの下にもぐり込むようにして配置されている。 Bottom plate portion 72D which forms the land surface 75 is disposed so as slips under the lower surface T1 and the lower surface PKA. すなわち、底板部72Dは、第1光学素子LS1の下面T1及び鏡筒PKの下面PKAの下方に延在している。 That is, the bottom plate portion 72D extends below the lower surface PKA of the lower surface T1 and the barrel PK of the first optical element LS1.

第2光学素子LS2の下面T3は平面状に形成されており、第2支持部92に支持された第2光学素子LS2の下面T3と、第1支持部91に支持された第1光学素子LS1の上面T2とは、ほぼ平行となっている。 The lower surface T3 of the second optical element LS2 is formed in a planar shape, and the lower surface T3 of the second optical element LS2 supported by the second supporting portion 92, the first optical element is supported by the first support portion 91 LS1 and the upper surface T2 are substantially parallel. 一方、第2光学素子LS2の上面T4は、物体面側(マスクM側)に向かって凸状に形成されており、正の屈折率を有している。 On the other hand, the upper surface T4 of the second optical element LS2 is formed to be convex toward the object plane side (mask M side), and has a positive refractive index. これにより、上面T4に入射する光(露光光EL)の反射損失が低減されており、ひいては投影光学系PLの大きい像側開口数が確保されている。 Accordingly, and reflection loss of incident light (exposure light EL) is reduced on the upper surface T4, therefore large image side numerical aperture of the projection optical system PL is secured. また、屈折率(レンズ作用)を有する第2光学素子LS2は、良好に位置決めされた状態で鏡筒PKの第2支持部92に支持されている。 The second optical element LS2 having a refractive index (lens function) is supported by the second support portion 92 of the barrel PK in the state of being satisfactorily positioned.

また、本実施形態においては、第1光学素子LS1と対向する第2光学素子LS2の下面T3の外径D3は、第1光学素子LS1の上面T2の外径D2よりも小さく形成されている。 In the present embodiment, the outer diameter D3 of the lower surface T3 of the second optical element LS2 opposed to the first optical element LS1 is smaller than the outer diameter D2 of the upper surface T2 of the first optical element LS1.

そして、上述したように、露光光ELは、第2光学素子LS2の上面T4及び下面T3それぞれの所定領域を通過するとともに、第1光学素子LS1の上面T2及び下面T1それぞれの所定領域を通過する。 Then, as described above, the exposure light EL is adapted to pass through the upper surface T4 and the lower surface T3 a predetermined area of ​​each of the second optical element LS2, passes through the respective predetermined areas top T2 and the lower surface T1 of the first optical element LS1 .

鏡筒PKと第1光学素子LS1との接続部などはシールされている。 Like connecting portion between the barrel PK and the first optical element LS1 is sealed. すなわち、第1光学素子LS1の下面T1側の第1空間K1と上面T2側の第2空間K2とは互いに独立した空間であり、第1空間K1と第2空間K2との間での液体の流通が阻止されている。 That is, the second space K2 of the first space K1 and the upper surface T2 side of the lower surface T1 of the first optical element LS1 is independent spaces together, the liquid between the first space K1 and the second space K2 circulation is blocked. 上述したように、第1空間K1は、第1光学素子LS1と基板Pとの間の空間であって、その第1空間K1に第1液体LQ1の第1液浸領域LR1が形成される。 As described above, the first space K1 is the space between the first optical element LS1 and the substrate P, the first liquid immersion area LR1 of the first liquid LQ1 is formed on the first space K1. 一方、第2空間K2は、鏡筒PKの内部空間の一部であって、第1光学素子LS1の上面T2とその上方に配置された第2光学素子LS2の下面T3との間の空間である。 On the other hand, the second space K2 is a part of the inner space of the barrel PK, in the space between the lower surface T3 of the second optical element LS2 disposed and the upper surface T2 of the first optical element LS1 thereabove is there. そして、第2空間K2に第2液体LQ2の第2液浸領域LR2が形成される。 The second liquid immersion area LR2 of the second liquid LQ2 is formed in the second space K2. また、第2光学素子LS2の側面C2と、鏡筒PKの内側面PKCとの間には間隙が設けられている。 Further, the side surface C2 of the second optical element LS2, the gap is provided between the inner surface PKC of the barrel PK.

図4に示すように、第2供給管33の他端部は、鏡筒PKの内部に形成された第2供給流路34の一端部に接続している。 As shown in FIG. 4, the other end of the second supply pipe 33 is connected to one end of the second supply flow passage 34 formed in the barrel PK. 一方、鏡筒PKの第2供給流路34の他端部は、鏡筒PKの内側(内部空間)に配置された供給部材35に接続されている。 On the other hand, the other end of the second supply flow passage 34 of the barrel PK is connected to a supply member 35 arranged inside the barrel PK (inner space). 鏡筒PKの内側に配置された供給部材35は、第2空間K2に対して第2液体LQ2を供給する液体供給口32を有している。 Supply member 35 arranged inside the barrel PK has a liquid supply port 32 for supplying the second liquid LQ2 to the second space K2. 供給部材35の内部には、第2液体LQ2が流れる供給流路36が形成されている。 Inside the supply member 35, the supply passage 36 in which the second liquid LQ2 flows is formed. 供給部材35(供給流路36)に対する第2供給流路34の接続部は、鏡筒PKの内側面PKCにおいて第2空間K2の近傍に設けられている。 Connection of the second supply flow passage 34 for supply member 35 (supply flow passage 36) is provided in the vicinity of the second space K2 on the inner side surface PKC of the barrel PK.

また、第2回収管43の他端部は、鏡筒PKの内部に形成された第2回収流路44の一端部に接続している。 The other end of the second recovery tube 43 is connected to one end of the second recovery flow passage 44 formed in the barrel PK. 一方、鏡筒PKの第2回収流路44の他端部は、鏡筒PKの内側(内部空間)に配置された回収部材45に接続されている。 On the other hand, the other end of the second recovery flow passage 44 of the barrel PK is connected to the recovery member 45 arranged inside the barrel PK (inner space). 鏡筒PKの内側に配置された回収部材45は、第2空間K2の第2液体LQ2を回収する液体回収口42を有している。 Recovery member 45 arranged inside the barrel PK has a liquid recovery port 42 for recovering the second liquid LQ2 in the second space K2. 回収部材45の内部には、第2液体LQ2が流れる回収流路46が形成されている。 Inside the collecting member 45, the recovery flow passage 46 in which the second liquid LQ2 flows is formed. 回収部材45(回収流路46)に対する第2回収流路44の接続部は、鏡筒PKの内側面PKCにおいて第2空間K2の近傍に設けられている。 Connection of the second recovery flow passage 44 for the recovery member 45 (recovery flow passage 46) is provided in the vicinity of the second space K2 on the inner side surface PKC of the barrel PK.

液体供給口32、供給部材35(供給流路36)、第2供給流路34、及び第2供給管33は第2液体供給機構30(第2液浸機構2)の一部を構成するものであり、液体回収口42、回収部材45(回収流路46)、第2回収流路44、及び第2回収管43は第2液体回収機構40(第2液浸機構2)の一部を構成するものである。 Liquid supply ports 32, the supply member 35 (supply flow passage 36), the second supply flow passage 34, and the second supply pipe 33 constitutes a part of the second liquid supply mechanism 30 (second liquid immersion mechanism 2) , and the liquid recovery port 42, the recovery member 45 (recovery flow passage 46), the second recovery flow passage 44 and the second recovery tube 43, a portion of the second liquid recovery mechanism 40 (second liquid immersion mechanism 2) and it constitutes. 以下の説明においては、第2液浸機構2の液体供給口32を第2供給口32と、第2液浸機構2の液体回収口42を第2回収口42と適宜称する。 In the following description, the liquid supply port 32 of the second liquid immersion mechanism 2 and the second supply port 32, is referred to as the liquid recovery port 42 of the second liquid immersion mechanism 2 as appropriate with the second recovery port 42.

図5は、第2液浸領域LR2を形成するための第2液浸機構2を説明するための図であって、図5(a)は側面図、図5(b)は図5(a)のA−A線矢視図である。 Figure 5 is a view for explaining the second liquid immersion mechanism 2 for forming the second liquid immersion area LR2, 5 (a) is a side view, FIG. 5 (b) FIG. 5 (a ) is an a-a sectional view taken along line diagram. 図5に示すように、供給部材35は水平方向に延びる軸状部材によって構成されている。 As shown in FIG. 5, the supply member 35 is constituted by a shaft-like member extending in the horizontal direction. 本実施形態においては、供給部材35は、第1光学素子LS1の上面T2のうち露光光ELが通過する所定領域AR'の+X側に配置され、X軸方向に沿って延びるように設けられている。 In the present embodiment, the supply member 35 is arranged on the + X side of the predetermined area AR 'through which the exposure light EL of the upper surface T2 of the first optical element LS1 passes, provided so as to extend along the X-axis direction there. そして、供給部材35の内部に形成されている供給流路36の一端部が鏡筒PKの内部に形成されている第2供給流路34(図4参照)の他端部に接続されており、供給流路36の他端部が第2供給口32に接続されている。 Then, is connected to the other end of the second supply flow passage 34 having one end portion is formed in the barrel PK of the supply channel 36 formed inside of the supply member 35 (see FIG. 4) the other end of the supply channel 36 is connected to the second supply port 32. 第2供給口32は−X側に向くように形成されており、第2液体LQ2を第1光学素子LS1の上面T2と略平行すなわちXY平面と略平行に(横方向に)吹き出す。 The second supply port 32 is formed to face the -X side, the second liquid LQ2 substantially in parallel i.e. the substantially parallel XY plane and the upper surface T2 of the first optical element LS1 blown (in the lateral direction). 第2液浸機構2の第2供給口32は第2空間K2に配置されているため、第2液体供給部31は、第2供給管33、第2供給流路34、及び第2供給口32等を介して、第2空間K2に接続された構成となっている。 Since the second second supply port 32 of the liquid immersion mechanism 2 is disposed in the second space K2, the second liquid supply unit 31, the second supply pipe 33, the second supply flow passage 34, and the second supply port through 32 and the like, it has become connected to each to the second space K2.

供給部材35と第1光学素子LS1の上面T2との間、及び供給部材35と第2光学素子LS2の下面T3との間にはそれぞれ間隙が設けられている。 Between the supply member 35 and the upper surface T2 of the first optical element LS1, and each gap between the supply member 35 and the lower surface T3 of the second optical element LS2 is provided. すなわち、供給部材35は、第1光学素子LS1及び第2光学素子LS2のそれぞれに対して非接触状態となるように、鏡筒PKあるいは所定の支持機構に支持されている。 That is, the supply member 35, so that a non-contact state with respect to each of the first optical element LS1 and the second optical element LS2, is supported by the barrel PK or a predetermined support mechanism. これにより、供給部材35で発生した振動が、第1、第2光学素子LS1、LS2側に直接的に伝達することが防止されている。 Accordingly, the vibration generated in the supply member 35, is prevented from being directly transmitted to the first and second optical elements LS1, LS2 side. また供給部材35を、第1光学素子LS1、第2光学素子LS2のそれぞれに対して非接触状態にすることで、第1光学素子LS1及び第2光学素子LS2の形状変化を抑制することができ、投影光学系PLの高い結像性能を維持することが可能となる。 The supply member 35, the first optical element LS1, by a non-contact state with respect to each of the second optical element LS2, can be suppressed shape change of the first optical element LS1 and the second optical element LS2 , it is possible to maintain a high projection optical system PL imaging performance.

また、供給部材35は、露光光ELの照射を妨げない位置、すなわち第1光学素子LS1の上面T2のうち露光光ELが通過する所定領域AR'の外側に設けられている。 The supply member 35 is a position that does not interfere with the irradiation of the exposure light EL, that is, the exposure light EL of the upper surface T2 of the first optical element LS1 is provided outside the predetermined area AR 'passing. 第2供給口32は、第2空間K2のうち、所定領域AR'と第1光学素子LS1の上面T2のエッジ部との間の所定位置に配置されている。 The second supply port 32, of the second space K2, are arranged at a predetermined position between the edge portion of the upper surface T2 of the predetermined area AR 'and the first optical element LS1.

第2液浸領域LR2を形成するために、制御装置CONTが、第2液体供給機構30の第2液体供給部31より第2液体LQ2を送出すると、その第2液体供給部31より送出された第2液体LQ2は、第2供給管33を流れた後、鏡筒PKの内部に形成された第2供給流路34の一端部に流入する。 To form the second liquid immersion area LR2, the control unit CONT is, when from the second liquid supply section 31 of the second liquid supply mechanism 30 delivers the second liquid LQ2, which is transmitted from the second liquid supply section 31 thereof the second liquid LQ2, after flowing through the second supply pipe 33, flows into one end of the second supply flow passage 34 formed in the barrel PK. そして、第2供給流路34の一端部に流入した液体LQ2は、第2供給流路34を流れた後、その他端部に接続されている供給部材35の供給流路36の一端部に流入する。 The liquid LQ2, which has flown into one end of the second supply flow passage 34, flows through the second supply passage 34, flows into one end of the supply channel 36 of the feed member 35 connected to the other end to. 供給流路36の一端部に流入した第2液体LQ2は、供給流路36を流れた後、第2供給口32を介して第2空間K2に供給される。 The second liquid LQ2, which has flown into one end of the supply channel 36, after flowing through supply channel 36, is supplied to the second space K2 via the second supply port 32. 第2供給口32より供給された第2液体LQ2は、第1光学素子LS1の上面T2のうち、露光光ELが通過する所定領域AR'よりも大きく、且つ上面T2よりも小さい一部の領域のみに、第2液浸領域LR2を局所的に形成する。 The second liquid LQ2 supplied from the second supply port 32, of the upper surface T2 of the first optical element LS1, greater than the predetermined area AR 'through which the exposure light EL passes, and a small part of the area than the upper surface T2 only, locally forming a second liquid immersion area LR2. 第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との間に供給された第2液体LQ2は、表面張力によって、第1光学素子LS1の上面T2と第2光学素子LS2の下面T3との間に保持される。 The second liquid LQ2, which is fed between the first optical element LS1 and the second optical element LS2 is the surface tension, held between the lower surface T3 of the upper surface T2 of the first optical element LS1 second optical element LS2 It is. 第2液浸領域LR2の第2液体LQ2は、第1光学素子LS1の上面T2の一部の領域に接触するとともに、第2光学素子LS2の下面T3のほぼ全域に接触する。 The second liquid LQ2 of the second liquid immersion area LR2 is configured to contact a portion of the area of ​​the upper surface T2 of the first optical element LS1, contacts substantially the entire lower surface T3 of the second optical element LS2. 上述したように、第2光学素子LS2の下面T3の外径D3は、第1光学素子LS1の上面T2の外径D2よりも小さいので、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との間に満たされた第2液体LS2は、第1光学素子LS1の上面T2よりも小さい第2液浸領域LR2を、第2光学素子LS2の下面T3の下((第1光学素子LS1の上面T2の上)に形成することができる。 As described above, the outer diameter D3 of the lower surface T3 of the second optical element LS2, the first smaller than the outer diameter D2 of the upper surface T2 of the optical element LS1, between the first optical element LS1 and the second optical element LS2 the second liquid LS2 filled, the second liquid immersion area LR2 is smaller than the upper surface T2 of the first optical element LS1, below the lower surface T3 of the second optical element LS2 ((the upper surface T2 of the first optical element LS1 it can be formed above).

なお、本実施形態においては、第1光学素子LS1の上面T2と第2光学素子LS2の下面T3との距離、すなわち露光光ELの光路における液体LQ2の厚さは3mm程度である。 In the present embodiment, the distance between the upper surface T2 of the first optical element LS1 and the lower surface T3 of the second optical element LS2, i.e. the thickness of the liquid LQ2 in the optical path of the exposure light EL is about 3 mm. ただし、第1光学素子LS1の上面T2と第2光学素子LS2の下面T3との距離は、上記3mmに限られず、液体LQ2による露光光ELの吸収と、第2空間K2における液体LQ2の流れとを考慮して、0.5〜5mmの範囲で設定することができる。 However, the upper surface T2 of the first optical element LS1 distance between the lower surface T3 of the second optical element LS2 is not limited to the above 3 mm, and the absorption of the exposure light EL by the liquid LQ2, and the flow of the liquid LQ2 in the second space K2 taking into account, it can be set in the range of 0.5 to 5 mm.

ここで、図6に示すように、第2空間K2に面している第1光学素子LS1の上面T2のうち、第2液浸領域LR2となる一部の領域である第1領域HR1の表面の第2液体LQ2との親和性は、その第1領域HR1の周囲の領域である第2領域HR2の表面の第2液体LQ2との親和性よりも高くなっている。 Here, as shown in FIG. 6, of the upper surface T2 of the first optical element LS1 facing the second space K2, the surface of the first region HR1 is a part of the region to be the second liquid immersion area LR2 affinity with the second liquid LQ2 in is higher than the affinity with the second liquid LQ2 in the second region HR2 surface of a region surrounding the first region HR1. すなわち、第1領域HR1の表面の第2液体LQ2との接触角は、第2領域HR2の表面の第2液体LQ2との接触角よりも小さくなっている。 That is, the contact angle between the second liquid LQ2 of the surface of the first region HR1 is smaller than the contact angle between the second liquid LQ2 of the surface of the second region HR2. 具体的には、第2領域HR2の表面は第2液体LQ2に対して撥液性を有している。 Specifically, the surface of the second region HR2 is liquid-repellent with respect to the second liquid LQ2. これにより、第1光学素子LS1の上面T2の一部の領域(第1領域HR1)に第2液体LQ2の第2液浸領域LR2を形成したとき、第2液体LQ2が上面T2の外側に流出する不都合を防止することができる。 Thus, when forming the second liquid immersion area LR2 of the second liquid LQ2 in the partial region of the upper surface T2 of the first optical element LS1 (first area HR1), the second liquid LQ2 outflows to the outside of the upper surface T2 the disadvantage of can be prevented. また、第1領域HR1は、露光光ELが通過する所定領域AR'を含んでおり、その所定領域HR'を含む第1領域HR1の表面を親液性としておくことにより、第2液体LQ2を第1領域HR1の表面に良好に密着させることができる。 The first area HR1 includes 'includes a, the predetermined region HR' predetermined area AR where the exposure light EL passes by leaving the surface of the first region HR1 comprising lyophilic, the second liquid LQ2 it can be favorably adhered to the surface of the first region HR1.

本実施形態においては、第2領域HR2の表面に対して撥液化処理を施すことで、第2領域HR2の表面に撥液性を付与している。 In the present embodiment, by performing lyophobic treatment to the surface of the second region HR2, it is imparted liquid repellency to the surface of the second region HR2. 第2領域HR2の表面を撥液性にするための撥液化処理としては、例えば、ポリ四フッ化エチレン等のフッ素系樹脂材料、アクリル系樹脂材料、シリコン系樹脂材料等の撥液性材料を塗布、あるいは前記撥液性材料からなる薄膜を貼付する等の処理が挙げられる。 The liquid-repelling treatment to the surface of the second region HR2 liquid-repellent, for example, polyquaternary fluorine-based resin material polytetrafluoroethylene, etc., an acrylic resin material, a liquid repellent material such as silicon-based resin material coating, or the like process, such as attaching a thin film made of the liquid-repellent material. 本実施形態においては、旭硝子社製「サイトップ」を第2領域HR2の表面に塗布している。 In the present embodiment, the coating Asahi Glass Co., Ltd. to "CYTOP" on the surface of the second region HR2.

また、本実施形態においては、複数の光学素子LS1〜LS7のうち、少なくとも第1、第2液体LQ1、LQ2と接触する第1、第2光学素子LS1、LS2は石英によって形成されている。 In the present embodiment, among the plurality of optical elements LS1~LS7, at least a first, first and second optical elements LS1, LS2 in contact with the second liquid LQ1, LQ2 is formed of quartz. 石英は、水である第1、第2液体LQ1、LQ2との親和性が高いので、第1光学素子LS1の液体接触面である下面T1及び上面T2の第1領域HR1、及び第2光学素子LS2の液体接触面である下面T3のほぼ全域に第1、第2液体LQ1、LQ2を密着させることができる。 Quartz, first a water because of the high affinity with the second liquid LQ1, LQ2, a first region HR1 of the lower surface T1 and the upper surface T2 is a liquid contact surface of the first optical element LS1, and a second optical element the first substantially the entire lower surface T3 which is a liquid contact surface of the LS2, can be brought into close contact with the second liquid LQ1, LQ2. したがって、第1、第2光学素子LS1、LS2の液体接触面に第1、第2液体LQ1、LQ2を密着させて、第2光学素子LS2と第1光学素子LS1との間の光路を第2液体LQ2で確実に満たすことができるとともに、第1光学素子LS1と基板Pとの間の光路を第1液体LQ1で確実に満たすことができる。 Therefore, first, in the first, it brought into close contact with the second liquid LQ1, LQ2 in the liquid contact surface of the second optical element LS1, LS2, and the second optical element LS2 optical path between the first optical element LS1 second together can be reliably filled with the liquid LQ2, it is possible to fill the optical path between the first optical element LS1 and the substrate P reliably with the first liquid LQ1.

また、石英は屈折率の大きい材料であるため、例えば第2光学素子LS2などの大きさを小さくすることができ、投影光学系PL全体や露光装置EX全体をコンパクト化できる。 Moreover, quartz is because a material having large refractive index, for example, it is possible to reduce the size of such second optical element LS2, it can be made compact overall and exposure apparatus entire EX projection optical system PL. また、石英は耐水性があるので、例えば上記液体接触面に保護膜を設ける必要がないなどの利点がある。 Further, quartz because of the water resistance, for example, there is an advantage such as it is not necessary to provide a protective film on the liquid contact surface.

なお、第1、第2光学素子LS1、LS2の少なくとも一方は、水との親和性が高い蛍石であってもよい。 Incidentally, at least one of the first and second optical elements LS1, LS2 are affinity for water may be a high fluorite. また、例えば光学素子LS3〜LS7を蛍石で形成し、光学素子LS1、LS2を石英で形成してもよいし、光学素子LS1〜LS7の全てを石英(あるいは蛍石)で形成してもよい。 Further, for example, an optical element LS3~LS7 formed of fluorite, to an optical element LS1, LS2 may be formed of quartz, may be any optical element LS1~LS7 formed of quartz (or fluorite) .

また、第1光学素子LS1の上面T2の第1領域HR1を含む第1、第2光学素子LS1、LS2の液体接触面に、MgF 、Al 、SiO 等の親液性材料を付着させる等の親水化(親液化)処理を施して、第1、第2液体LQ1、LQ2との親和性をより高めるようにしてもよい。 The first including a first area HR1 of the upper surface T2 of the first optical element LS1, the liquid contact surface of the second optical element LS1, LS2, the MgF 2, Al 2 O 3, lyophilic material such as SiO 2 subjected to hydrophilization, such as to deposit (lyophilic) treatment, first, it may be further enhance the affinity for the second liquid LQ1, LQ2. あるいは、本実施形態における第1、第2液体LQ1、LQ2は極性の大きい水であるため、親液化処理(親水化処理)としては、例えばアルコールなど極性の大きい分子構造の物質で薄膜を形成することで、この光学素子LS1、LS2の液体接触面に親水性を付与することもできる。 Alternatively, the first, second liquid LQ1, LQ2 in the embodiment, since a large water polarity, as the lyophilic treatment (hydrophilic treatment) to form a thin film for example, with a substance of high polarity molecular structure such as alcohol it is also possible to impart hydrophilicity to the liquid contact surface of the optical element LS1, LS2.

なおここでは、第1光学素子LS1の上面T2のうち露光光ELが通過する所定領域AR'を含む第1領域HR1の周囲の第2領域HR2を撥液性にしているが、第2光学素子LS2の下面T3のうち露光光ELが通過する所定領域を含む一部の領域の周囲の領域を撥液性にしてもよい。 Note here that, while the second region HR2 surrounding the first region HR1 including the predetermined area AR 'through which the exposure light EL passes of the upper surface T2 of the first optical element LS1 and the liquid-repellent, the second optical element the area around the part of the region including the predetermined region through which the exposure light EL passes of the lower surface T3 of LS2 may be liquid-repellent.

図5(b)に戻って、回収部材45は、軸部45Aと、その軸部45Aに接続する環状部45Bとを備えている。 Returning to FIG. 5 (b), the recovery member 45 includes a shaft portion 45A, and an annular portion 45B to be connected to the shaft portion 45A. 軸部45Aは水平方向に延びるように設けられ、本実施形態においては、所定領域AR'に関して−X側に配置され、X軸方向に沿って延びるように設けられている。 Shank 45A is provided to extend in the horizontal direction, in this embodiment, is disposed on the -X side with respect to the predetermined area AR ', it is provided so as to extend along the X-axis direction. 環状部45Bは、第1光学素子LS1の上面T2のエッジ部よりも小さく形成されており、その−X側の一部が軸部45Aと接続されている。 Annular portion 45B is formed smaller than the edge portion of the upper surface T2 of the first optical element LS1, some of the -X side is connected to the shaft portion 45A. 一方、環状部45Bの+X側の一部は開口しており、その開口部45Kに供給部材35が配置されている。 On the other hand, a part of the + X side of the annular portion 45B is open, the supply member 35 is arranged in the opening 45K.

回収部材45の内部には、回収部材45の形状に応じた回収流路46が形成されている。 Inside the collecting member 45, the recovery flow passage 46 corresponding to the shape of the recovery member 45 are formed. 回収部材45のうち軸部45Aの内部に形成された回収流路46の一端部が、鏡筒PKの内部に形成されている第2回収流路44(図4参照)の他端部に接続されている。 One end of the recovery flow passage 46 formed inside the shaft portion 45A of the recovery member 45, connected to the other end of the second recovery flow passage 44 formed in the barrel PK (see FIG. 4) It is. また、回収部材45の環状部45Bの内部には、所定領域AR'を囲むように環状の回収流路46が形成されている。 Inside the annular portion 45B of the recovery member 45, an annular recovery flow passage 46 is formed so as to surround the predetermined area AR '. そして、軸部45Aの内部に形成された回収流路46の他端部が、環状部45Bの内部に形成された環状の回収流路46の一部に接続されている。 The other end of the recovery flow passage 46 formed inside the shaft portion 45A is connected to a part of the annular recovery flow passage 46 formed inside the annular portion 45B.

第2回収口42は、環状部45Bの所定領域AR'を向く内側面に形成されている。 The second recovery port 42 is formed on the inner surface facing the predetermined area AR 'of the annular portion 45B. 第2回収口42は、第2空間K2の第2液体LQ2を回収するためのものであって、第1光学素子LS1の上面T2に形成される第2液浸領域LR2を囲むように、環状部45Bの内側面に複数設けられている。 The second recovery port 42 is for recovering the second liquid LQ2 in the second space K2, so as to surround the second liquid immersion area LR2 formed on the upper surface T2 of the first optical element LS1, cyclic It is provided with a plurality on an inner surface of the part 45B. 環状部45Bの内側面に設けられている複数の第2回収口42のそれぞれは、環状部45Bの内部に形成された回収流路46に接続されている。 Each of the second recovery ports 42 of the plurality are provided on the inner side surface of the annular portion 45B, are connected to the recovery flow passage 46 formed inside the annular portion 45B. 第2液浸機構2の第2回収口42は第2空間K2に配置されているため、第2液体回収部41は、第2回収管43、第2回収流路44、及び第2回収口42等を介して、第2空間K2に接続された構成となっている。 Since the second second recovery port 42 of the liquid immersion mechanism 2 are arranged in the second space K2, the second liquid recovery unit 41, the second recovery tube 43, the second recovery flow passage 44, and the second recovery port through 42, etc., it has become connected to each to the second space K2.

また、回収部材45(環状部45B)は、露光光ELの照射を妨げない位置、すなわち第1光学素子LS1の上面T2のうち露光光ELが通過する所定領域AR'を囲むように、その所定領域AR'の外側に設けられている。 The recovery member 45 (annular portion 45B) is a position that does not interfere with the irradiation of the exposure light EL, i.e. so as to surround the predetermined area AR 'through which the exposure light EL passes of the upper surface T2 of the first optical element LS1, the predetermined It is provided outside of the area AR '. そして、第2回収口42は、第2空間K2のうち、所定領域AR'と上面T2のエッジ部との間の所定位置に配置されている。 The second recovery port 42, of the second space K2, are arranged at a predetermined position between the edge portion of the upper surface T2 to the predetermined area AR '.

回収部材45と第1光学素子LS1の上面T2との間、及び回収部材45と第2光学素子LS2の下面T3との間にはそれぞれ間隙が設けられている。 Between the recovery member 45 and the upper surface T2 of the first optical element LS1, and each gap between the recovery member 45 and the lower surface T3 of the second optical element LS2 is provided. すなわち、回収部材45は、第1光学素子LS1及び第2光学素子LS2のそれぞれに対して非接触状態となるように、鏡筒PKあるいは所定の支持機構に支持されている。 That is, the recovery member 45, so that a non-contact state with respect to each of the first optical element LS1 and the second optical element LS2, is supported by the barrel PK or a predetermined support mechanism. これにより、回収部材45で発生した振動が、第1、第2光学素子LS1、LS2側に直接的に伝達することが防止されている。 Accordingly, vibration generated by the recovery member 45 is prevented from being directly transmitted to the first and second optical elements LS1, LS2 side.

第2液浸領域LR2の第2液体LQ2を回収するとき、制御装置CONTは、第2液体回収機構40の第2液体回収部41を駆動する。 When recovering the second liquid LQ2 of the second liquid immersion area LR2, the control unit CONT drives the second liquid recovery section 41 of the second liquid recovery mechanism 40. 真空系を有する第2液体回収部41の駆動により、第2液浸領域LR2の第2液体LQ2は、第2回収口42を介して回収部材45のうち環状部45Bの内部に形成された回収流路46に流入する。 By driving the second liquid recovery section 41 having the vacuum system recovery, the second liquid LQ2 of the second liquid immersion area LR2 is formed inside of the annular portion 45B of the recovery member 45 via the second recovery port 42 and it flows into the flow path 46. 第2回収口42は第2液浸領域LR2を囲むように配置されているため、第2液浸領域LR2の第2液体LQ2は、その周囲より第2回収口42を介して回収される。 Since the second recovery port 42 are disposed so as to surround the second liquid immersion area LR2, the second liquid LQ2 of the second liquid immersion area LR2 is recovered via the second collection inlet 42 than its surroundings. なお、第2回収口42にも多孔部材を配置して、第2液体LQ2を回収する際の振動を抑制することが望ましい。 Incidentally, also disposed a porous member to the second recovery port 42, it is desirable to suppress vibration at the time of recovering the second liquid LQ2.

ここで、図6に示すように、第1光学素子LS1の上面T2のうち、撥液性を有する第2領域HR2には、内側(所定領域AR'側)に突出する凸領域HRTを備えている。 Here, as shown in FIG. 6, of the upper surface T2 of the first optical element LS1, the second region HR2 having liquid repellency is provided with a protruding area HRT, which protrudes inwardly (predetermined area AR 'side) there. 本実施形態においては、凸領域HRTは、回収部材45の環状部45Bの開口部45Kに対応する位置に設けられている。 In the present embodiment, the convex area HRT is provided at a position corresponding to the opening 45K of the annular portion 45B of the recovery member 45. こうすることにより、第2供給口32からの第2液体LQ2の供給を停止した状態で、第2液浸領域AR2の周囲から第2回収口42を介して第2液体LQ2を回収するとき、第2液浸領域AR2の第2液体LQ2は、図7に示す模式図のように、凸領域HRTを基準として分割されるように、その周囲に配置された第2回収口42を介して回収される。 Thereby, in a state of stopping the supply of the second liquid LQ2 from the second supply port 32, when recovering the second liquid LQ2 from the circumference of the second liquid immersion area AR2 via the second collection inlet 42, the second liquid LQ2 of the second liquid immersion area AR2, as schematically shown in FIG. 7, as dividing a convex area HRT as a reference, via the second collection inlet 42 disposed around the recovery It is. こうすることにより、第2液体LQ2が回収しきれず、例えば第1領域HR1の中央部に残存する等の不都合を防止することができる。 Thus, it is the second liquid LQ2 are not completely recovered, to prevent problems such as remaining example in a central portion of the first region HR1. したがって、残存した第2液体LQ2が気化して上面T2に付着跡(所謂ウォーターマーク)が形成される等、残存した第2液体LQ2に起因する不都合の発生を防止することができる。 Therefore, it is possible to prevent such second liquid LQ2 remaining traces deposited on the upper surface T2 is vaporized (so-called water mark) is formed, the occurrence of inconveniences caused by the second liquid LQ2 remaining.

なお、本実施形態においては、凸領域HRTは、回収部材45の環状部45Bの開口部45Kに対応する位置に設けられているが、開口部45Kに対応する位置以外の位置に設けるようにしてもよい。 In the present embodiment, the convex area HRT is provided in a position corresponding to the opening 45K of the annular portion 45B of the recovery member 45, it is provided at a position other than the position corresponding to the opening 45K it may be. また、図に示す凸領域HRTは、平面視においてほぼ矩形状であるが、三角形状や半円状など、任意の形状を採用することができる。 Further, protruding area HRT shown in the figures, is substantially rectangular in plan view, such as a triangle shape or a semicircular shape, it is possible to employ any shape.

そして、環状部45Bの内部に形成された回収流路46に流入した第2液体LQ2は、軸部45Aの内部に形成された回収流路46で集合した後、鏡筒PKの内部に形成された第2回収流路44に流入する。 The second liquid LQ2, which has flown into the recovery flow passage 46 formed inside the annular portion 45B, after collection at recovery flow passage 46 formed inside the shaft portion 45A, formed in the barrel PK It flows into the second recovery flow passage 44. 第2回収流路44を流れた第2液体LQ2は、第2回収管43を介して第2液体回収部41に吸引回収される。 The second liquid LQ2, which flows through the second recovery flow passage 44 is sucked and recovered in the second liquid recovery section 41 via the second recovery tube 43.

次に、上述した構成を有する露光装置EXを用いてマスクMのパターン像を基板Pに露光する方法について説明する。 Next, the pattern image of the mask M will be described a method for exposing the substrate P by using the exposure apparatus EX constructed as described above.

基板Pの露光を行うに際し、制御装置CONTは、第2液体供給機構30より第2空間K2に第2液体LQ2を供給する。 Upon performing exposure of the substrate P, controller CONT supplies a second liquid LQ2 from the second liquid supply mechanism 30 to the second space K2. 第2液体供給機構30が第2液体LQ2を供給することで、第1光学素子LS1の上面T2のうち露光光ELが通過する所定領域AR'を含む一部の領域のみが第2液浸領域LR2となるように、第1光学素子LS1の上面T2と第2光学素子LS2との間が第2液体LQ2で満たされる。 By the second liquid supply mechanism 30 supplies the second liquid LQ2, a partial region only the second liquid immersion area including a predetermined area AR 'through which the exposure light EL passes of the upper surface T2 of the first optical element LS1 so that LR2, between the upper surface T2 of the first optical element LS1 and the second optical element LS2 is filled with the second liquid LQ2. 第2液体供給機構30より供給された第2液体LQ2は、所定領域HR'を含む上面T2上の一部に、所定領域HR'よりも大きく且つ上面T2よりも小さい第2液浸領域LR2を局所的に形成する。 The second liquid LQ2 supplied from the second liquid supply mechanism 30, 'on a part of the upper surface T2 including the predetermined region HR' predetermined region HR the second liquid immersion area LR2 smaller than larger and the upper surface T2 than locally form. そして、第2液浸領域LR2が形成された後、制御装置CONTは、第2液体供給機構30による第2液体LQ2の供給を停止する。 After the second liquid immersion area LR2 is formed, the control unit CONT stops the supply of the second liquid LQ2 by the second liquid supply mechanism 30. 第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との間の第2液体LQ2は表面張力によって保持され、第2液浸領域AR2は維持される。 The second liquid LQ2 between the first optical element LS1 and the second optical element LS2 is retained by the surface tension, the second liquid immersion area AR2 is maintained.

ロード位置において基板Pが基板ステージPSTにロードされた後、制御装置CONTは、基板Pを保持した基板ステージPSTを投影光学系PLの下、すなわち露光位置に移動する。 After the substrate P is loaded on the substrate stage PST in the load position, the control unit CONT moves the substrate stage PST which holds the substrate P under the projection optical system PL, that is, the exposure position. そして、基板ステージPSTと投影光学系PLの第1光学素子LS1とを対向させた状態で、制御装置CONTは、第1液体供給機構10による単位時間あたりの第1液体LQ1の供給量及び第1液体回収機構20による単位時間あたりの第1液体LQ1の回収量を最適に制御しつつ、第1液体供給機構10及び第1液体回収機構20による液体LQ1の供給及び回収を行い、第1空間K1のうち、少なくとも露光光ELの光路上に第1液体LQ1の第1液浸領域LR1を形成し、その露光光ELの光路を第1液体LQ1で満たす。 Then, in a first state of being opposed to the optical element LS1 of the substrate stage PST and the projection optical system PL, the control unit CONT, the supply amount of the first liquid LQ1 per unit time by the first liquid supply mechanism 10 and the first while optimally controlling the recovery amount of the liquid recovery mechanism 20 first liquid LQ1 per unit time by performs supply and recovery of the liquid LQ1 by the first liquid supply mechanism 10 and the first liquid recovery mechanism 20, the first space K1 of, forming a first liquid immersion area LR1 of the first liquid LQ1 on the optical path of least exposure light EL, satisfying an optical path of the exposure light EL with the first liquid LQ1.

ここで、基板ステージPST上の所定位置には、例えば特開平4−65603号公報に開示されているような基板アライメント系、及び特開平7−176468号公報に開示されているようなマスクアライメント系によって計測される基準マークを備えた基準部材(計測部材)が設けられている。 Here, the predetermined position on the substrate stages PST, for example, JP-A 4-65603 Patent substrate alignment system as disclosed in Japanese, and the mask alignment system as disclosed in JP-A-7-176468 JP reference member (measuring member) is provided with a reference mark is measured by. 更に、基板ステージPST上の所定位置には、光計測部として例えば特開昭57−117238号公報に開示されているような照度ムラセンサ、例えば特開2002−14005号公報に開示されているような空間像計測センサ、及び例えば特開平11−16816号公報に開示されているような照射量センサ(照度センサ)などが設けられている。 Further, as the predetermined position on the substrate stages PST, is disclosed uneven illuminance sensor as disclosed as the optical measuring unit in JP 57-117238 Laid example, for example, in JP 2002-14005 and provided dose sensor as disclosed aerial image measuring sensor, and for example, in JP-a-11-16816 (illuminance sensor). 制御装置CONTは、基板Pの露光処理を行う前に、基準部材上のマーク計測や、光計測部を使った各種計測動作を行い、その計測結果に基づいて、基板Pのアライメント処理や、投影光学系PLの結像特性調整(キャリブレーション)処理を行う。 The control unit CONT, before performing the exposure process for the substrate P, performs mark measurement and on the reference member, various measuring operation using the optical measuring section, based on the measurement result, the alignment processing of the substrate P, the projection performing the imaging characteristics adjustment of the optical system PL (calibration) process. 例えば光計測部を使った計測動作を行う場合には、制御装置CONTは、基板ステージPSTをXY方向に移動することで第1液体LQ1の第1液浸領域LR1に対して基板ステージPSTを相対的に移動し、光計測部上に第1液体LQ1の第1液浸領域LR1を配置し、その状態で第1液体LQ1及び第2液体LQ2を介した計測動作を行う。 For example, when performing a measuring operation using the optical measuring unit, the control unit CONT, relative to the substrate stage PST with respect to the first liquid immersion area LR1 of the first liquid LQ1 by moving the substrate stage PST in the XY direction to move the first liquid immersion area LR1 of the first liquid LQ1 disposed on the optical measurement section performs measurement operation via the first liquid LQ1 and the second liquid LQ2 in that state. なお、マスクアライメント系によって計測される基準マークの計測、及び/又は光計測部を用いた各種のキャリブレーション処理は、露光対象の基板Pが基板ステージPSTに載せられる前に実行してもよい。 The measurement of the reference mark measured by the mask alignment system, and / or various calibration process using the optical measuring unit, the substrate P as the exposure objective may be executed prior to being placed on the substrate stage PST.

上記アライメント処理及びキャリブレーション処理を行った後、制御装置CONTは、第1液体供給機構10による基板P上に対する第1液体LQ1の供給と並行して、第1液体回収機構20による基板P上の第1液体LQ1の回収を行いつつ、基板Pを支持する基板ステージPSTをX軸方向(走査方向)に移動しながら、投影光学系PL、第1光学素子LS1の上面T2側に形成された第2液浸領域LR2の第2液体LQ2、及び第1光学素子LS1の下面T1側に形成された第1液浸領域LR1の第1液体LQ1を介して基板P上に露光光ELを照射して、マスクMのパターン像を基板P上に投影露光する。 After the alignment process and the calibration process, the control unit CONT, in parallel with the supply of the first liquid LQ1 with respect to the upper substrate P by the first liquid supply mechanism 10, on the substrate P by the first liquid recovery mechanism 20 while performing recovery of the first liquid LQ1, while moving the substrate stage PST which supports a substrate P in the X axis direction (scanning direction), a projection optical system PL, a formed on the upper surface T2 of the first optical element LS1 first by irradiating exposure light EL onto the substrate P through the 2 second liquid LQ2 of the immersion area LR2, and the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1 formed on the lower surface T1 of the first optical element LS1 projects and exposes the pattern image of the mask M onto the substrate P. 第1液供給機構10より供給された第1液体LQ1は、投影領域ARを含む基板P上の一部に、投影領域ARよりも大きく且つ基板Pよりも小さい第1液浸領域LR1を局所的に形成している。 The first liquid LQ1 supplied from the first liquid supply mechanism 10, the projection area on a part of the substrate P including the AR, local first liquid immersion area LR1 smaller than larger and the substrate P than the projection area AR It is formed in. また、第2液供給機構30より供給された第2液体LQ2は、第1光学素子LS1の上面T2のうち所定領域AR'を含む上面T2上の一部に、所定領域AR'よりも大きく且つ上面T2よりも小さい第2液浸領域LR2を局所的に形成している。 The second liquid LQ2 supplied from the second liquid supply mechanism 30, 'on a part of the upper surface T2 including the predetermined area AR' predetermined area AR of the upper surface T2 of the first optical element LS1 and greater than It is locally formed a small second liquid immersion area LR2 than the upper surface T2.

基板Pの露光中においては、第1液浸機構1による第1液体LQ1の供給動作及び回収動作が継続され、第1液浸領域LR1の大きさや形状を所望状態に維持しつつ、第1エレメントと基板Pとの間の露光光ELの光路が第1液体LQ1で満たされる。 In during the exposure of the substrate P, the supply operation and the recovery operation of the first liquid LQ1 of the first liquid immersion mechanism 1 is continued, while the size and shape of the first liquid immersion area LR1 is maintained in the desired state, the first element an optical path of the exposure light EL between the substrate P is filled with the first liquid LQ1. 一方、基板Pの露光中においては、第2液浸機構2による第2液体LQ2の供給動作及び回収動作は行われない。 On the other hand, in the during the exposure of the substrate P, the supply operation and the recovery operation of the second liquid LQ2 by the second liquid immersion mechanism 2 is not performed. すなわち、第2空間K2に溜められた(表面張力によって保持された)状態の第2液体LQ2を介して露光が行われる。 That is, exposure is performed through the second accumulated in the space K2 (held by surface tension) the second liquid LQ2 of the state. 基板Pの露光中に第2液体LQ2の供給及び回収を行わないようにすることで、基板Pの露光中には、第2液体LQ2の供給及び/又は回収に伴う振動が発生しない。 By not performing the supply and recovery of the second liquid LQ2 to during the exposure of the substrate P, the during the exposure of the substrate P, no vibration is generated due to the supply and / or the recovery of the second liquid LQ2. したがって、振動に起因する露光精度の劣化を防止することができる。 Therefore, it is possible to prevent the deterioration of the exposure accuracy caused by vibration.

また、第2液体LQ2は、第1光学素子LS1の上面T2上のうち露光光ELが通過する所定領域HR'を含む一部の領域のみに局所的に第2液浸領域LR2を形成するため、第1光学素子LS1の上面T2の外側への第2液体LQ2の漏出を防止することができる。 The second liquid LQ2, in order to form locally the second liquid immersion area LR2 only a portion of the region including the predetermined region HR 'through which the exposure light EL of the upper surface T2 of the first optical element LS1 passes , it is possible to prevent leakage of the second liquid LQ2 to the outside of the upper surface T2 of the first optical element LS1. したがって、第1光学素子LS1を支持する鏡筒PK(第1支持部91)への第2液体LQ2の付着や浸入を防止することができ、その鏡筒PK(第1支持部91)の劣化を防止できる。 Therefore, it is possible to prevent adhesion and penetration of the second liquid LQ2 to the barrel supporting the first optical element LS1 PK (first support section 91), the deterioration of the barrel PK (first support portion 91) It can be prevented. また、漏出した第2液体LQ2に起因する第1光学素子LS2周辺の機械部品や電気部品の劣化を防止できる。 In addition, it is possible to prevent the deterioration of the first optical element LS2 surrounding mechanical parts and electrical parts resulting from the second liquid LQ2 leaked.

また、第2液体LQ2は、第1光学素子LS1の上面T2上において局所的に第2液浸領域LR2を形成するため、例えば鏡筒PKや第1支持部91等には接触しない。 The second liquid LQ2, in order to form locally the second liquid immersion area LR2 on the upper surface T2 of the first optical element LS1, for example, the barrel PK and the like the first support portion 91 does not contact. したがって、第2液浸領域LR2を形成する第2液体LQ2に対して鏡筒PKや第1支持部91等から発生する金属イオン等の不純物が混入する等の不都合を防止できる。 Therefore, it is possible to prevent the inconvenience such that impurities such as metal ions generated from the barrel PK and the like the first support portion 91 to the second liquid LQ2 forming the second liquid immersion area LR2 is mixed. したがって、第2液体LQ2の清浄度を維持した状態で、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる。 Therefore, while maintaining the cleanness of the second liquid LQ2, it is possible to satisfactorily perform the exposure process and measurement process.

本実施形態における露光装置EXは、マスクMと基板PとをX軸方向(走査方向)に移動しながらマスクMのパターン像を基板Pに投影露光するものであって、走査露光時には、投影光学系PL、及び第1、第2液浸領域LR1、LR2の第1、第2液体LQ1、LQ2を介してマスクMの一部のパターン像が投影領域AR内に投影され、マスクMが−X方向(又は+X方向)に速度Vで移動するのに同期して、基板Pが投影領域ARに対して+X方向(又は−X方向)に速度β・V(βは投影倍率)で移動する。 The exposure apparatus EX of the present embodiment, the pattern image of the mask M while moving the mask M and the substrate P in the X axis direction (scanning direction) be one which projection exposure onto the substrate P, at the time of scanning exposure, projection optical system PL, and first, the first second liquid immersion area LR1, LR2, part of the pattern image of the mask M via the second liquid LQ1, LQ2 is projected in the projection area AR, the mask M is -X synchronously to move at a velocity V in a direction (or + X direction), the substrate P is (are beta projection magnification) speed beta · V in the + X direction (or -X direction) with respect to the projection area AR moves. 基板P上には複数のショット領域が設定されており、1つのショット領域への露光終了後に、基板Pのステッピング移動によって次のショット領域が走査開始位置に移動し、以下、ステップ・アンド・スキャン方式で基板Pを移動しながら各ショット領域に対する走査露光処理が順次行われる。 On the substrate P are set a plurality of shot areas, after exposure is completed for one shot area, the next shot region moves to the scanning start position by stepping movement of the substrate P, following a step-and-scan the scanning exposure process for the respective shot areas while moving the substrate P in a manner is sequentially performed.

本実施形態においては、レンズ作用を有する第2光学素子LS2の下に、平行平面板からなる第1光学素子LS1が配置されているが、第1光学素子LS1の下面T1側の第1空間K1、及び上面T2側の第2空間K2のそれぞれに第1液体LQ1、及び第2液体LQ2を満たすことで、第2光学素子LS2の下面T3や第1光学素子LS1の上面T2での反射損失が低減され、投影光学系PLの大きな像側開口数を確保した状態で、基板Pを良好に露光することができる。 In the present embodiment, under the second optical element LS2 having the lens function, the first optical element LS1 formed of the parallel flat plate is arranged, the first space of the lower surface T1 of the first optical element LS1 K1 and the first liquid LQ1 to each of the second space K2 on the upper surface T2 side, and by satisfying the second liquid LQ2, the reflection loss at the lower surface T3 and the upper surface T2 of the first optical element LS1 of the second optical element LS2 is it is reduced, while securing a large image side numerical aperture of the projection optical system PL, and can be satisfactorily exposed substrate P.

本実施形態においては、多孔部材25は基板Pの表面に対して傾斜しており、第1回収口22に配置された多孔部材25の斜面26を介して第1液体LQ1を回収する構成であって、第1液体LQ1は斜面26を含む第1回収口22を介して回収される構成である。 In the present embodiment, the porous member 25 is a configuration of recovering the first liquid LQ1 via the inclined surface 26 of the inclined with respect to the front surface of the substrate P, the porous member 25 arranged in the first recovery port 22 Te, the first liquid LQ1 is configured to be recovered via the first recovery port 22 including the inclined surface 26. また、ランド面75と斜面26とは連続的に形成されている。 Moreover, it is formed continuously to the land surface 75 and the inclined surface 26. その場合において、図8(a)に示す初期状態(ランド面75と基板Pとの間に第1液体LQ1の第1液浸領域LR1が形成されている状態)から、基板Pを第1液浸領域LR1に対して+X方向に所定速度で所定距離だけスキャン移動した場合、図8(b)に示すような状態となる。 In that case, from the initial state shown in FIG. 8 (a) (a state in which the first liquid immersion area LR1 of the first liquid LQ1 is formed between the land surface 75 and the substrate P), the first liquid substrate P If only the scanning motion predetermined distance in the + X direction with respect to immersion area LR1 at a predetermined speed, the state shown in Figure 8 (b). 図8(b)に示すようなスキャン移動後の所定状態においては、第1液浸領域LR1の第1液体LQ1には、斜面26に沿って斜め上方に移動する成分F1と、水平方向に移動する成分F2とが生成される。 In certain state after scanning movement as shown in FIG. 8 (b) moving, to the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1, the component F1 to move obliquely upward along the inclined surface 26, in a horizontal direction a component F2 which are generated. その場合、第1液浸領域LR1の第1液体LQ1とその外側の空間との界面(気液界面)LGの形状は維持される。 In that case, the shape of the interface (gas-liquid interface) LG of the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1 and the outside space is maintained. また、たとえ第1液浸領域LR1に対して基板Pを高速に移動したとしても、界面LGの形状の大きな変化を抑制できる。 Further, even if the substrate P with respect to the first liquid immersion area LR1 as moved at high speed, can be suppressed large changes in shape of the interface LG.

また、斜面26と基板Pとの間の距離は、ランド面75と基板Pとの間の距離よりも大きい。 The distance between the inclined surface 26 and the substrate P is greater than the distance between the land surface 75 and the substrate P. すなわち、斜面26と基板Pとの間の空間は、ランド面75と基板Pとの間の空間よりも大きい。 That is, the space between the inclined surface 26 and the substrate P is greater than the space between the land surface 75 and the substrate P. したがって、第1液浸領域LR1に対して基板Pを移動したとき、図8(a)に示す初期状態での界面LG'と、図8(b)に示すスキャン移動後の所定状態での界面LGとの距離Lを比較的小さくすることができる。 Therefore, when the substrate P is moved with respect to the first liquid immersion area LR1, the interface LG 'in the initial state shown in FIG. 8 (a), the interface of a predetermined state after the scanning movement shown in FIG. 8 (b) it is possible to relatively reduce the distance L between the LG. そのため、第1液浸領域LR1の大きさを小さくすることができる。 Therefore, it is possible to reduce the size of the first liquid immersion area LR1.

例えば、図9(a)に示すように、ランド面75と第1回収口22に配置された多孔部材25の下面26'とが連続的に形成されており、多孔部材25の下面26'が基板Pに対して傾斜しておらず、基板P表面と略平行である場合、換言すれば、下面26'を含む第1回収口22が傾斜していない場合においても、第1液浸領域LR1に対して基板Pを移動したとき、界面LGの形状は維持される。 For example, as shown in FIG. 9 (a), the land surface 75 'and a is continuously formed, the lower surface 26 of the porous member 25' underside 26 of the porous member 25 arranged in the first recovery port 22 is not inclined with respect to the substrate P, when it is approximately parallel to the surface of the substrate P, in other words, when the first recovery port 22 including the lower surface 26 'is not inclined also, the first liquid immersion area LR1 when the substrate P is moved with respect to the shape of the interface LG is maintained. ところが、下面26'は傾斜していないので、第1液体LQ1には水平方向に移動する成分F2のみが生成され、上方に移動する成分(F1)はほとんど生成されない。 However, since the lower surface 26 'is not inclined, only the component F2 in the first liquid LQ1 to be moved in the horizontal direction is generated, the component (F1) to move upwardly is hardly generated. その場合、界面LGは基板Pの移動量とほぼ同じ距離を移動するため、初期状態での界面LG'とスキャン移動後の所定状態での界面LGとの距離Lは比較的大きい値となり、それに伴って第1液浸領域LR1も大きくなる。 In that case, since the interface LG is to move the same distance as the movement amount of the substrate P, the distance L between the interface LG in the predetermined state after the scanning movement and the interface LG 'in the initial state becomes a relatively large value, it the first liquid immersion area LR1 with also increased. すると、その大きな第1液浸領域LR1に応じてノズル部材70も大型化しなければならず、また、第1液浸領域LR1の大きさに応じて基板ステージPST自体の大きさや基板ステージPSTの移動ストロークも大きくする必要があり、露光装置EX全体の巨大化を招く。 Then, the movement of the large nozzle member 70 in response to the first liquid immersion area LR1 also must be large, also, of the substrate stage PST itself according to the size of the first liquid immersion area LR1 size and the substrate stage PST It must be greater stroke, leading to huge the entire exposure apparatus EX. そして、第1液浸領域LR1の大型化は、第1液浸領域LR1に対する基板Pのスキャン速度が高速化するにつれて顕著になる。 The size of the first liquid immersion area LR1 becomes remarkable as the scan speed of the substrate P with respect to the first liquid immersion area LR1 to speed.

また、図9(b)に示すように、ランド面75と第1回収口22(多孔部材25の下面26')との間に段差を設けることによって、下面26'と基板Pとの間の距離を、ランド面75と基板Pとの間の距離よりも大きくした場合、換言すれば、下面26'と基板Pとの間の空間を、ランド面75と基板Pとの間の空間よりも大きくした場合、第1液体LQ1には上方に移動する成分F1'が生成されるので、距離Lを比較的小さい値にすることができ、第1液浸領域LR1の大型化を抑制することができる。 Further, as shown in FIG. 9 (b), 'by providing a step between the lower surface 26 and the land surface 75 first recovery port 22 (lower surface 26 of the porous member 25)' and between the substrate P the distance, when larger than the distance between the land surface 75 and the substrate P, in other words, the space between the lower surface 26 'and the substrate P, than the space between the land surface 75 and the substrate P If you increase, since the first liquid LQ1 is component F1 'to move upward is generated, it can be a distance L to a relatively small value, to suppress an increase in size of the first liquid immersion area LR1 it can. ところが、ランド面75と下面26'との間には段差が設けられており、ランド面75と下面26'とは連続的に形成されていないので、界面LGの形状が崩れやすくなる。 However, 'a step is provided between the land surface 75 and lower surface 26' land surface 75 and the lower surface 26 since not been continuously formed, the shape of the interface LG tends to collapse. 界面LGの形状が崩れると、第1液浸領域LR1の第1液体LQ1中に気体が噛み込んで第1液体LQ1中に気泡が生成される不都合が発生する可能性が高くなる。 When the shape of the interface LG is collapsed, a disadvantage that air bubbles are generated more likely to occur in the first liquid LQ1 crowded gas bite in the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1. また、例えば基板Pを+X方向に高速スキャンしたとき、段差があると、界面LGの形状が崩れるとともに上方に移動する成分F1'がより大きくなり、第1液浸領域LR1の最も+X側の領域の第1液体LQ1の膜厚が薄くなり、その状態で基板Pを−X方向(逆スキャン)に移動したとき、第1液体LQ1がちぎれる現象が発生する可能性が高くなる。 Further, for example, when the high-speed scanning the substrate P in the + X direction and there is a step, increases component F1 'Gayori to move upward together with the shape of the interface LG is collapsed, most + X side of the area of ​​the first liquid immersion area LR1 the thickness of the first liquid LQ1 becomes thin, and when the substrate P moves in the -X direction (reverse scan) in this state, a possibility that a phenomenon first liquid LQ1 is torn becomes high. そのちぎれた液体(図9(b)中、符号LQ'参照)が、例えば基板P上に残存すると、その液体LQ'の気化により基板P上に付着跡(所謂ウォーターマーク)が形成される不都合が生じる。 (In FIG. 9 (b), the code LQ its torn liquid disadvantages trace deposited on the substrate P (so-called water mark) is formed 'reference) is, for example, remaining on the substrate P, the liquid LQ' by vaporization of It occurs. また、界面LGの形状が崩れると、第1液体LQ1が基板Pの外側に流出し、周辺部材及び機器に錆びや漏電等の不都合を引き起こす可能性も高くなる。 Further, the shape of the interface LG is collapsed, the first liquid LQ1 flows out to the outside of the substrate P, it is also likely to cause inconveniences rust or electric leakage to the peripheral members and equipment. そして、前記不都合が発生する可能性は、第1液浸領域LR1に対する基板Pのスキャン速度が高速化するにつれて高くなる。 Then, a possibility that the inconvenience occurs increases as the scanning speed of the substrate P with respect to the first liquid immersion area LR1 to speed.

本実施形態においては、第1液浸機構1(第1液体回収機構20)の第1回収口22を、基板Pの表面と対向する斜面26に形成したので、投影光学系PLの像面側に形成された第1液浸領域LR1と基板Pとを相対移動させた場合においても、第1液浸領域LR1の第1液体LQ1とその外側の空間との界面LGの形状を維持することができ、第1液浸領域LR1の形状を所望状態に維持することができる。 In the present embodiment, the first recovery port 22 of the first liquid immersion mechanism 1 (first liquid recovery mechanism 20), so formed in the inclined surface 26 facing the the front surface of the substrate P, the image plane side of the projection optical system PL in case of a the substrate P first liquid immersion area LR1 is relatively moved formed also, to maintain the interface LG of the shape of the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1 and its outer space can, it is possible to maintain the shape of the first liquid immersion area LR1 in the desired state. したがって、第1液体LQ1中に気泡が生成されたり、あるいは液体を十分に回収できなかったり、液体が流出する等の不都合を回避することができる。 Therefore, it is possible can not be fully recovered or bubbles are generated in the first liquid LQ1, or liquid, the liquid to avoid a disadvantage such that outflow. また、第1回収口22を斜面26に設けることで、界面LGの移動量を抑えることができるので、第1液浸領域LR1の大きさを小さくすることができる。 Further, the first recovery port 22 by providing the inclined surface 26, it is possible to suppress the movement amount of the surface LG, it is possible to reduce the size of the first liquid immersion area LR1. したがって、露光装置EX全体のコンパクト化を図ることもできる。 Therefore, it is also possible to reduce the size of the entire exposure apparatus EX.

また、基板Pを高速スキャンした場合、第1液浸領域LR1の第1液体LQ1が外側に流出したり、第1液浸領域LR1の第1液体LQ1が周囲に飛散する可能性が高くなるが、斜面26の周縁に壁部76を設けたので、第1液体LQ1の漏出を抑制することができる。 Further, when the high-speed scanning of the substrate P, or the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1 flows out to the outside, the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1 is more likely to scatter around , since the wall portion 76 provided on the periphery of the inclined surface 26, it is possible to suppress the leakage of the first liquid LQ1. すなわち、多孔部材25の周縁に壁部76を設けることによって、壁部76の内側にバッファ空間が形成されるので、液体LQが壁部76の内側面に達しても、液浸領域AR2を形成する液体LQは壁部76の内側のバッファ空間に拡がるため、壁部76の外側への液体LQの漏出をより確実に防止することできる。 That is, by providing the wall portion 76 on the periphery of the porous member 25, since the buffer space on the inner side of the wall portion 76 is formed, even the liquid LQ reaches the inner surface of the wall portion 76, the liquid immersion area AR2 formed liquid LQ that since spread to the inside of the buffer space of the wall portion 76 can be more reliably prevent the leakage of the liquid LQ to the outside of the wall portion 76.

また、ランド面75の一部(底板部72Dの下面)が投影領域AR1を囲むように投影光学系PLの端面T1の下に配置されているので、ランド面75の一部(底板部72Dの下面)と基板P表面との間に形成される小さいギャップが、投影領域の近傍に、且つ投影領域を囲むように形成されるので、投影領域AR1を覆うために必要十分な小さな液浸領域を保ち続けることができる。 A part of the land surface 75 so (the lower surface of the bottom plate portion 72D) is arranged under the end surface T1 of the projection optical system PL to surround the projection area AR1, a part of the land surface 75 (bottom plate portion 72D small gaps formed between the lower surface) and the surface of the substrate P, in the vicinity of the projection area, and because it is formed to surround the projection area, the small liquid immersion area necessary and sufficient to cover the projection area AR1 it is possible to continue to maintain. したがって、基板Pをを高速に移動(スキャン)した場合にも、液浸領域AR2の液体LQ中への気体の混入や液体LQの流出などの不都合を抑えつつ、露光装置EX全体のコンパクト化を図ることができる。 Thus, moving the substrate P at a high speed even when the (scanning), while suppressing the inconvenience such as contamination and the liquid LQ flows out of the gas into the liquid LQ of the liquid immersion area AR2, the size of the entire exposure apparatus EX it is possible to achieve. また、ランド面75の一部(底板部72Dの下面)の外側に液体供給口12が配置されているので、液浸領域AR2を形成する液体LQ中への気体(気泡)の混入が防止され、基板Pを高速で移動させた場合にも、露光光ELの光路を液体で満たし続けることが可能となる。 Further, since the liquid supply port 12 to the outside of a part of the land surface 75 (lower surface of the bottom plate portion 72D) is arranged, mixing of gas (bubbles) in the liquid LQ that forms the immersion area AR2 is prevented , even when the substrate P is moved at a high speed, the optical path of the exposure light EL becomes possible to continue filled with the liquid.

上述した実施形態においては、薄板状の多孔部材25を基板Pに対して傾斜して取り付けることで、斜面26を形成しているが、ノズル部材70の下面に、露光光ELの光軸AXから離れるにつれて、基板Pの表面との間隔が大きくなるような斜面を設け、その斜面の所定位置(所定領域)に液体回収口22を形成するようにしてもよい。 In the embodiment described above, by attaching the thin plate-shaped porous member 25 is inclined with respect to the substrate P, but forms a slope 26, the lower surface of the nozzle member 70, from the optical axis AX of the exposure light EL increasing distance, the inclined surface such as distance between the surface of the substrate P is increased may be provided so as to form a liquid recovery port 22 in a predetermined position of the inclined surface (a predetermined region). そして、その液体回収口22に多孔部材25を設けるようにしてもよい。 Then, it may be provided a porous member 25 in the liquid recovery port 22.

なお、本実施形態においては、第1回収口22には多孔部材25が配置されているが、多孔部材25は無くてもよい。 In the present embodiment, the first recovery port 22 is the porous member 25 is arranged, the porous member 25 may be omitted. その場合においても、例えばノズル部材70の下面に、露光光ELの光軸AXから離れるにつれて、基板Pの表面との間隔が大きくなるような斜面を設け、その斜面の所定位置に液体回収口を設けることにより、界面LGの形状を維持し、第1液浸領域LR1の第1液体LQ1中に気泡が生成される等の不都合を防止することができる。 Also in this case, for example, on the lower surface of the nozzle member 70, with increasing distance from the optical axis AX of the exposure light EL, a slope such as distance between the surface of the substrate P increases provided, the liquid recovery port at a predetermined position of the slope by providing, it is possible to maintain the shape of the interface LG, to prevent a disadvantage such that bubbles are generated in the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1. また、第1液浸領域LR1の大きさを小さくすることもできる。 It is also possible to reduce the size of the first liquid immersion area LR1.

基板Pの露光が終了すると、制御装置CONTは、第1液体供給機構10による第1液体LQ1の供給を停止し、第1液体回収機構20等を使って、第1液浸領域LR1の第1液体LQ1(第1空間K1の第1液体LQ1)を回収する。 When the exposure of the substrate P is completed, the control unit CONT supplies the first liquid LQ1 of the first liquid supply mechanism 10 is stopped, using the first liquid recovery mechanism 20 or the like, first of the first liquid immersion area LR1 liquid LQ1 (first liquid LQ1 in the first space K1) is recovered. 更に、制御装置CONTは、第1液体回収機構20の第1回収口22等を使って基板P上や基板ステージPST上に残留している第1液体LQ1を回収する。 Furthermore, the control apparatus CONT uses the like first recovery port 22 of the first liquid recovery mechanism 20 for recovering the first liquid LQ1 remaining on the substrate P and the substrate on the stage PST.

また、制御装置CONTは、基板Pの露光が終了した後、図7を参照して説明したように、第2空間K2に形成されている第2液浸領域LR2の第2液体LQ2を、第2回収口42を介して回収する。 Further, the control unit CONT, after exposure of the substrate P is completed, as described with reference to FIG. 7, the second liquid LQ2 of the second liquid immersion area LR2 formed in the second space K2, the recovered through the second recovery port 42.

そして、基板P上の第1液体LQ1、及び第1光学素子LS1の上面T2上の第2液体LQ2が回収された後、制御装置CONTは、その基板Pを支持した基板ステージPSTをアンロード位置まで移動し、アンロードする。 After the second liquid LQ2 on the upper surface T2 of the first liquid LQ1, and the first optical element LS1 on the substrate P is recovered, the control unit CONT unloads the position of the substrate stage PST which supports the substrate P It moved to, to unload.

そして、次に露光処理されるべき基板Pが基板ステージPSTにロードされる。 Then, the substrate P to be exposed next processing are loaded on the substrate stage PST. 制御装置CONTは、基板ステージPSTにロードされた基板Pを露光するために、第2空間K2に第2液体LQ2を供給し、上述と同様のシーケンスでその基板Pを露光する。 The control unit CONT, to expose the substrate P loaded on the substrate stages PST, the second space K2 to supply the second liquid LQ2, exposes the substrate P in the sequence similar to that described above.

なお、本実施形態においては、露光する基板P毎に第2空間K2の第2液体LQ2を交換する構成であるが、第2空間K2の液体LQ2の温度変化や清浄度の劣化等が露光精度に影響を与えない程度であれば、所定時間間隔毎、所定処理基板枚数毎、あるいはロット毎に、第2空間K2の第2液体LQ2を交換するようにしてもよい。 In the present embodiment, is configured to exchange the second liquid LQ2 in the second space K2 on each substrate P to be exposed, deterioration of the temperature change or cleanliness of the liquid LQ2 in the second space K2 is exposure accuracy if influence the extent which does not give to, a predetermined time interval, a predetermined number of processed substrates each, or every lot, may be to replace the second liquid LQ2 in the second space K2.

なお、基板Pの露光中や露光前後においても、第2液体LQ2の供給及び回収を連続的に行うようにしてもよい。 Incidentally, before and after exposure or during exposure of the substrate P also may be supplying and recovering the second liquid LQ2 continuously. 第2液体LQ2の供給及び回収を連続的に行うことで、常に第2空間K2を温度管理された清浄な第2液体LQ2で満たすことができる。 By performing the supply and recovery of the second liquid LQ2 continuously always the second space K2 can be filled with temperature-controlled clean second liquid LQ2. 一方、本実施形態のように、第2空間K2に第2液体LQ2を溜めた状態で露光し、第2空間K2に対する第2液体LQ2の交換を間欠的に行うことで、上述したように、基板Pの露光中には、第2液体LQ2の供給及び回収に伴う振動が発生しない。 On the other hand, as in the present embodiment, the second space K2 is exposed in a state where the reservoir of the second liquid LQ2, by performing the replacement of the second liquid LQ2 to the second space K2 intermittently, as mentioned above, the during the exposure of the substrate P, no vibration is generated due to the supply and recovery of the second liquid LQ2. また、基板Pの露光中に第2液体LQ2の供給及び回収を連続的に行う構成では、例えば単位時間あたりの第2液体LQ2の供給量及び回収量が不安定になった場合、第2液浸領域LR2が巨大化して鏡筒PKの内側において第2液体LQ2が流出あるいは飛散し、被害が拡大する可能性がある。 Further, in the continuously performed constituting the supply and recovery of the second liquid LQ2 to during the exposure of the substrate P, when, for example, the supply amount and the recovery amount of the second liquid LQ2 per unit time becomes unstable, the second liquid immersion area LR2 is huge second liquid LQ2 flows out or scattered inside the barrel PK, there is a possibility to increase the damage. また、単位時間あたりの第2液体LQ2の供給量及び回収量が不安定になった場合、第2液浸領域LR2が枯渇し、露光精度が劣化する不都合が生じる。 Also, if the supply amount and the recovery amount of the second liquid LQ2 per unit time becomes unstable, the second liquid immersion area LR2 is exhausted, occur a disadvantage that the exposure accuracy is deteriorated. そのため、第2空間K2に対する第2液体LQ2の交換を間欠的に行うことで、第2液浸領域LR2を所望状態に形成し、上記不都合の発生を防止することができる。 Therefore, by the replacement of the second liquid LQ2 to the second space K2 intermittently, it can be the second liquid immersion area LR2 formed in the desired state, to prevent the occurrence of the above disadvantages.

ところで、第1液浸領域LR1(第1空間K1)の第1液体LQ1中に、例えば感光剤(フォトレジスト)に起因する異物など、基板P上から発生した不純物等が混入することによって、その第1液体LQ1が汚染する可能性がある。 Incidentally, in the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1 (first space K1), for example, foreign matter due to the photosensitive agent (photoresist), by impurities generated from the substrate P is mixed, the the first liquid LQ1 is likely to contaminate. 第1液浸領域LR1の第1液体LQ1は第1光学素子LS1の下面T1にも接触するため、その汚染された第1液体LQ1によって、第1光学素子2の下面T1が汚染する可能性がある。 Since the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1 is in contact to the lower surface T1 of the first optical element LS1, the first liquid LQ1, which is contamination, possibly first lower surface T1 of the optical element 2 is contamination is there. また、空中を浮遊している不純物が、投影光学系PLの像面側に露出している第1光学素子LS1の下面T1に付着する可能性もある。 Further, impurities that are floating in the air, there is a possibility of adhering to the lower surface T1 of the first optical element LS1 exposed on the image plane side of the projection optical system PL.

本実施形態においては、第1光学素子LS1は、鏡筒PKに対して容易に取り付け・外し可能(交換可能)となっているため、その汚染された第1光学素子LS1のみを清浄な第1光学素子LS1と交換することで、光学素子の汚染に起因する露光精度及び投影光学系PLを介した計測精度の劣化を防止できる。 In the present embodiment, the first optical element LS1, since has become easily insert or remove with respect to the barrel PK (exchangeable), the cleaning of only the first optical element LS1 which is contamination 1 by replacing the optical element LS1, it can be prevented measurement accuracy deterioration through exposure accuracy and the projection optical system PL due to contamination of the optical element. 一方、第2空間K2の第2液体LQ2は基板Pに接触しないようになっている。 On the other hand, the second liquid LQ2 in the second space K2 is prevented from having contact with the substrate P. また、第2空間K2は、第1光学素子LS1、第2光学素子LS2、及び鏡筒PKで囲まれたほぼ閉空間であるため、空中を浮遊している不純物は第2空間K2の第2液体LQ2に混入し難く、第2光学素子LS2の下面T3や第1光学素子LS1の上面T2には不純物が付着し難い。 Further, the second space K2, the first optical element LS1, the second optical element LS2, and of substantially since a closed space surrounded by a lens barrel PK, impurities floating in the air and the second in the second space K2 hardly mixed into the liquid LQ2, hard on the upper surface T2 of the lower surface T3, the first optical element LS1 of the second optical element LS2 adhering impurities. したがって、第2光学素子LS2の下面T3や第1光学素子LS1の上面T2の清浄度は維持されている。 Therefore, cleanness of the upper surface T2 of the second optical element underside T3, the first optical element LS1 of LS2 is maintained. したがって、第1光学素子LS1を交換するのみで、投影光学系PLの透過率の低下等を防止して露光精度及び計測精度を維持することができる。 Therefore, only replacing the first optical element LS1, to prevent deterioration or the like of the transmittance of the projection optical system PL can be maintained exposure and measurement accuracies.

平行平面板からなる第1光学素子LS1を設けずに、第2光学素子LS2に第1液浸領域LR1の液体を接触させる構成も考えられるが、投影光学系PLの像側開口数を大きくしようとすると、光学素子の有効径を大きくする必要があり、光学素子LS2を大型化せざるを得なくなる。 Without providing the first optical element LS1 formed of the parallel flat plate configuration it is also conceivable to contact the liquid in the first liquid immersion area LR1 to the second optical element LS2, trying to increase the image side numerical aperture of the projection optical system PL When, it is necessary to increase the effective diameter of the optical element, it is forced to increase the size of the optical element LS2. 光学素子LS2の周囲には、上述したようなノズル部材70や、不図示ではあるがアライメント系などといった各種計測装置が配置されるため、そのような大型の光学素子LS2を交換することは、作業性が低く、困難である。 Around the optical element LS2, the nozzle member 70 and as described above, since there is not shown but various measuring devices are disposed such as an alignment system, to replace the optical element LS2 of such large-sized, the work sex is low, it is difficult. 更に、光学素子LS2は屈折率(レンズ作用)を有しているため、投影光学系PL全体の光学特性(結像特性)を維持するために、その光学素子LS2を高い位置決め精度で鏡筒PKに取り付ける必要がある。 Furthermore, since the optical element LS2 has a refractive index (lens function), in order to maintain the projection optical system PL total optical characteristic (image formation characteristic), the lens barrel and the optical element LS2 with high positioning accuracy PK it is necessary to attach to. したがって、そのような光学素子LS2を鏡筒PKに対して頻繁に取り付け・外しする(交換する)ことは、投影光学系PLの光学特性(光学素子LS2の位置決め精度)を維持する観点からも好ましくない。 Accordingly, such a (exchange) often removed attached, with respect to the barrel PK of the optical element LS2 that is preferably from the standpoint of maintaining the optical characteristics of the projection optical system PL (positioning accuracy of the optical element LS2) Absent. 本実施形態では、第1光学素子LS1として比較的小型な平行平面板を設け、その第1光学素子LS1を交換する構成であるため、作業性良く容易に交換作業を行うことができ、投影光学系PLの光学特性を維持することもできる。 In this embodiment, relatively small-sized is provided plane-parallel plate, since it is configured to replace the first optical element LS1 that can perform good workability readily replacing the first optical element LS1, the projection optical it is also possible to maintain the optical properties of the system PL. そして、第1光学素子LS1の下面T1側の第1空間K1及び上面T2側の第2空間K2のそれぞれに対して第1、第2液体LQ1、LQ2を独立して供給及び回収可能な第1、第2液浸機構1、2を設けたことにより、第1、第2液体LQ1、LQ2の清浄度を維持しつつ、照明光学系ILから射出された露光光ELを投影光学系PLの像面側に配置された基板Pまで良好に到達させることができる。 The lower surface first with respect to each of the T1 side first space K1 and the upper surface T2 of the second space K2, the second liquid LQ1, the first LQ2 independent to allow supplying and recovering the first optical element LS1 , by providing the second liquid immersion mechanism 1, first, while maintaining the cleanliness of the second liquid LQ1, LQ2, the image of the projection optical system PL the exposure light EL emitted from the illumination optical system IL to the substrate P arranged on the surface side can be reached well.

以上説明したように、第1光学素子LS1の下面T1と基板Pとの間を第1液体LQ1で満たすとともに、第1光学素子LS1の上面T2と第2光学素子LS2との間を第2液体LQ2で満たすことで、マスクMを通過した露光光ELを基板Pまで良好に到達させ、基板Pを良好に露光することができる。 As described above, fulfills between the lower surface T1 and the substrate P of the first optical element LS1 with the first liquid LQ1, and the upper surface T2 of the first optical element LS1 and between the second optical element LS2 second liquid is satisfied by LQ2, the exposure light EL passing through the mask M to the substrate P to reach good, it is possible to satisfactorily expose the substrate P. また、第1光学素子LS1の上面T2側に第2液体LQ2の第2液浸領域LR2を局所的に形成するようにしたので、第2液体LQ2が鏡筒PK等に接触することに起因して、第2液浸領域LR2の第2液体LQ2が汚染したり、第1支持部91を含む鏡筒PKが第2液体LQ2によって劣化する等の不都合を防止できる。 Further, since the second liquid immersion area LR2 of the second liquid LQ2 so as to locally formed on the upper surface T2 side of the first optical element LS1, due to the fact that the second liquid LQ2 makes contact with the barrel PK and the like Te, or the second liquid LQ2 is contamination of the second liquid immersion area LR2, an inconvenience such that the barrel PK including the first support portion 91 is deteriorated by the second liquid LQ2 can be prevented. また、第2液浸領域LR2を局所的に形成することで、鏡筒PKの外側に第2液体LQ2が漏出する不都合を抑制することができる。 Moreover, by locally forming the second liquid immersion area LR2, it is possible to suppress a disadvantage that the second liquid LQ2 leaks to the outside of the barrel PK. したがって、第2液体LQ2の漏出を防止するためのシール機構を設ける場合、そのシール機構を簡易な構成とすることができる。 Therefore, when providing a sealing mechanism for preventing the leakage of the second liquid LQ2, it is possible to the sealing mechanism and simple structure. あるいはシール機構を設けなくてすむ。 Or need not be provided a seal mechanism.

そして、第1光学素子LS1と対向する第2光学素子LS2の下面T3の外径D3が、第1光学素子LS1の上面T2の外径D2よりも小さいので、第1光学素子LS1の上面T2上に、第2光学素子LS2の下面T3に応じた大きさの第2液浸領域LR2を局所的に良好に形成することができ、第1光学素子LS1の上面T2の周囲からの第2液体LQ2の漏出を更に確実に防止することができる。 Then, since the outer diameter D3 of the lower surface T3 of the second optical element LS2 opposed to the first optical element LS1 is smaller than the outer diameter D2 of the upper surface T2 of the first optical element LS1, the upper top surface T2 of the first optical element LS1 in the second liquid immersion area LR2 magnitude corresponding to the lower surface T3 of the second optical element LS2 can be locally well formed, the second liquid from the surrounding upper surface T2 of the first optical element LS1 LQ2 it is possible to prevent leakage more reliably.

なお、上述した実施形態においては、第1光学素子LS1の上面T2は、第2液体LQ2の漏出等を防止するために、撥液性を有する第2領域HRが設けられているが、図10の模式図に示すように、第1光学素子LS1の上面T2に、第1領域HR1を囲むように堤防部DRを設けてもよい。 In the embodiment described above, the upper surface T2 of the first optical element LS1, in order to prevent leakage or the like of the second liquid LQ2, but the second region HR having a liquid repellency thereto, FIG. 10 as shown in the schematic diagram, the upper surface T2 of the first optical element LS1, the bank portion DR may be provided so as to surround the first region HR1. こうすることによっても、第1領域HRに形成された第2液浸領域LR2の第2液体LQ2の漏出を防止することができる。 By doing so, it is possible to prevent leakage of the second liquid LQ2 of the second liquid immersion area LR2 formed in the first region HR. この場合、堤防部DR内に所定量の第2液体LQ2を貯めることによって、第2空間K2内における露光光ELの光路を第2液体LQ2で満たし、堤防部DRからオーバーフローした、あるいはオーバーフローしそうな第2液体LQ2を回収するようにしてもよい。 In this case, by earning second liquid LQ2 of the predetermined amount in the bank portion DR, the optical path of the exposure light EL in the second space K2 is filled with the second liquid LQ2, overflowed from bank portion DR or overflowing it so, it may be recovered second liquid LQ2.

また、上述の実施形態においては、ノズル部材70の下面の斜面(多孔部材の下面)に液体回収口を設けているが、液体LQの漏出が抑えられる場合には、ノズル部材70の下面に斜面を形成せずに、ランド面75とほぼ平行(面一)な面に液体回収口を設けるようにしてもよい。 Further, in the above-described embodiment, the case is provided with the liquid recovery ports on the lower surface of the inclined surface of the nozzle member 70 (lower surface of the porous member), the leakage of the liquid LQ is suppressed, the slopes on the lower surface of the nozzle member 70 the without formation may be provided a liquid recovery port substantially parallel (flush) surface and the land surface 75. すなわち、基板Pに対する液体LQ1の接触角が大きい場合、あるいは第1回収機構20による第1回収口22からの液体LQ1の回収能力が高い場合など、基板Pの移動速度を大きくしても液体LQ1を漏出させることなく回収できるならば、図9(a),(b)に示すように第1液体回収口22を設けてもよい。 That is, a case when the contact angle of the liquid LQ1 with respect to the substrate P is large, or recovery capacity of the liquid LQ1 from the first recovery port 22 by the first recovery mechanism 20 is high, the liquid even by increasing the moving speed of the substrate P LQ1 if can be recovered without leak, FIG. 9 (a), the may be provided a first liquid recovery port 22, as shown in (b).

また、上述の実施形態においては、ノズル部材70の下面に形成されている斜面(多孔部材の下面)の周縁に壁部76を設けているが、液体LQの漏出が抑えられる場合には、壁部76を省くこともできる。 Further, in the above-described embodiment, when although the wall portion 76 provided on the periphery of the inclined surface (lower surface of the porous member) formed on the lower surface of the nozzle member 70, the leakage of the liquid LQ is prevented, the wall part 76 can be omitted.

また、上述の実施形態におけるノズル部材70は、ランド面(平坦部)75の一部が投影光学系PLと基板Pとの間に形成され、その外側に斜面(多孔部材の下面)が形成されているが、ランド面の一部を投影光学系PLの下に配置せずに、投影光学系PLの光軸に対して投影光学系PLの端面T1の外側(周囲)に配置するようにしてもよい。 Further, the nozzle member 70 in the above embodiment, a part of the land surface (flat portion) 75 is formed between the projection optical system PL and the substrate P, the inclined surface (lower surface of the porous member) is formed on the outer and that is, without placing a portion of the land surface under the projection optical system PL, be arranged on the outside (periphery) of the end face T1 of the projection optical system PL with respect to the optical axis of the projection optical system PL it may be. この場合、ランド面75は投影光学系PLの端面T1とほぼ面一でもよいし、ランド面75のZ軸方向の位置が、投影光学系PLの端面T1に対して+Z方向又は−Z方向に離れていてもよい。 In this case, the land surface 75 may be substantially flush with the end surface T1 of the projection optical system PL, the position of the Z-axis direction of the land surface 75 is in the + Z direction or -Z direction with respect to the end face T1 of the projection optical system PL it may be separated.

また、上述の実施形態においては、投影領域AR1を囲むように、液体供給口12は環状のスリット状に形成されているが、互いに離れた複数の供給口を設けるようにしてもよい。 In the embodiment described above, so as to surround the projection area AR1, but the liquid supply port 12 is formed in annular slit may be provided a plurality of supply ports spaced apart from each other. この場合、特に供給口の位置は限定されないが、投影領域AR1の両側(X軸方向の両側またはY軸方向の両側)に一つずつ供給口を設けることもできるし、投影領域AR1のX軸及びY軸方向の両側に一つずつ(計4つ)供給口を設けることもできる。 In this case, there is no particular position of the supply port is limited, and can be provided one by one feed opening on both sides (both sides in the X-axis direction on both sides or the Y-axis direction) of the projection area AR1, the X-axis of the projection area AR1 and one by one (four in total) on both sides in the Y axis direction can be provided the supply port. また所望の液浸領域AR2が形成可能であれば、投影領域AR1に対して所定方向に離れた位置に一つの供給口を設けるだけでもよい。 The desired liquid immersion area AR2 is formed if, may be provided only a single supply port at a position away in a predetermined direction with respect to the projection area AR1. また、上述の実施形態においては、第1供給口12は基板Pと対向する位置に設けられているが、これに限られず、例えば、第1光学素子LS1と底板部72Dとの間から第1液体LQ1を供給してもよい。 Further, in the above-described embodiment, the first supply port 12 is provided at a position opposed to the substrate P, but not limited thereto, for example, first from between the first optical element LS1 and the bottom plate portion 72D 1 liquid LQ1 may be supplied. この場合も、露光光の光路ELを囲むように供給口を設けてもよいし、露光光ELの光路の両側に一つづつ供給口を設けても良い。 Again, to the supply port may be provided to surround the optical path EL of the exposure light, on both sides of the optical path of the exposure light EL may be provided one by one feed opening. また複数の供給口から液体LQの供給を行う場合には、それぞれの供給口から供給される液体LQの量を調整可能にして、各供給口から異なる量の液体を供給するようにしてもよい。 In the case of performing the supply of the liquid LQ from a plurality of supply ports, the amount of the liquid LQ supplied from the respective supply ports and can be adjusted, may be supplied with different amounts of liquid from the supply ports .

また、図11に示すように、ノズル部材70の下面に形成されている斜面(多孔部材25の下面)に、複数のフィン部材150を形成してもよい。 Further, as shown in FIG. 11, the slope (the lower surface of the porous member 25) formed on the lower surface of the nozzle member 70 may be formed a plurality of fin members 150. フィン部材150は側面視略三角形状であって、図11の側断面図において、多孔部材25の下面2と壁部76の内側に形成されるバッファ空間とに配置される。 Fin member 150 is a side view triangular shape, in cross-sectional side view of FIG. 11, it is arranged in the buffer space formed on the inner side of the lower surface 2 and the wall portion 76 of the porous member 25. また、フィン部材150は、その長手方向を外側に向けるようにして放射状に、壁部76の内側面に取り付けられる。 Further, the fin member 150 is radially so as to direct the longitudinal direction on the outside, it is attached to the inner surface of the wall portion 76. ここで、複数のフィン部材150どうしは離間しており、各フィン部材150間には空間部が形成されている。 Here, how to multiple fin members 150 are spaced apart, between the fin members 150 are formed space. このように複数のフィン部材150を配置することによって、ノズル部材70の下面に形成されている斜面(多孔部材25の下面)での液体接触面積を増加させることができるので、ノズル部材70の下面における液体LQの保持性能を向上させることができる。 By arranging the plurality of fin members 150 in this manner, since the liquid contact area on the inclined surface (lower surface of the porous member 25) formed on the lower surface of the nozzle member 70 can be increased, the lower surface of the nozzle member 70 liquid LQ holding performance can be improved in. なお、複数のフィン部材150は等間隔で設けられてもよいし、不等間隔であってもよい。 The plurality of fin members 150 may be provided at equal intervals, or may be irregular intervals. 例えば、投影領域AR1に対してX軸方向の両側に配置されるフィン部材150の間隔を、投影領域AR1に対してY軸方向の両側に配置されるフィン部材150の間隔より小さく設定してもよい。 For example, the distance between the fin members 150 arranged on both sides in the X axis direction with respect to the projection area AR1, even if smaller than the distance between the fin members 150 arranged on both sides in the Y axis direction with respect to the projection area AR1 good. なお、フィン部材150の表面は液体LQに対して親液性であることが好ましい。 Incidentally, it is preferable that the surface of the fin member 150 is a parent with respect to the liquid LQ. また、フィン部材150はステンレス鋼(例えばSUS316)に「GOLDEP」処理あるいは「GOLDEP WHITE」処理することで形成してもよいし、ガラス(石英)などで形成することもできる。 Further, the fin member 150 may be formed by processing "GOLDEP" process or "GOLDEP WHITE" stainless steel (e.g. SUS316), it can also be formed by a glass (quartz).

次に、別の実施形態について図12を参照しながら説明する。 Next, referring to FIG. 12 for another embodiment. 以下の説明において、上述した実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略もしくは省略する。 In the following description, the same reference numerals are given to identical or similar to those in the embodiments described above, simplified or omitted.

本実施形態においても、第1光学素子LS1及び第2光学素子LS2はいずれも鏡筒PKに、露光光ELの光路に対してほぼ静止状態で支持される。 In this embodiment, the first optical element LS1 and the second optical element LS2 are both barrel PK, and is supported in a substantially stationary state with respect to the optical path of the exposure light EL.

図12において、第1光学素子LS1は平行平面板であって、下面T1と上面T2とは平行である。 12, the first optical element LS1 is a parallel flat plate, which is parallel to the lower surface T1 and the upper surface T2. また、下面T1及び上面T2はXY平面とほぼ平行となっている。 The lower surface T1 and the upper surface T2 are substantially parallel to the XY plane. 第1光学素子LS1は、鏡筒PKの下端部に設けられた第1支持部91に支持されている。 The first optical element LS1 is supported by the first support portion 91 provided at the lower end of the barrel PK. 第1光学素子LS1の上部には被支持部であるフランジ部F1が設けられており、第1支持部91はフランジ部F1の下面T5を支持することによって、第1光学素子LS1を支持している。 The upper portion of the first optical element LS1 and the flange portion F1 is provided a supported portion, by a first support portion 91 for supporting the lower surface T5 of the flange portion F1, and supports the first optical element LS1 there. ここで、フランジ部F1の下面T5もXY平面とほぼ平行であり、そのフランジ部F1の下面T5は第1光学素子LS1の下面T1の周囲に形成された構成となっている。 Here, the lower surface T5 of the flange portion F1 is also substantially parallel to the XY plane, the lower surface T5 of the flange portion F1 has a structure which is formed around the lower surface T1 of the first optical element LS1.

そして、投影光学系PLの光軸AX上における第1光学素子LS1の下面T1と上面T2との距離(厚み)H1は15mm以上となっている。 The distance (thickness) H1 between the lower surface T1 and the upper surface T2 of the first optical element LS1 on the optical axis AX of the projection optical system PL has a higher 15 mm. また、図12からも明らかなように、光軸AX上において、第1光学素子LS1の下面T1と上面T2との距離H1は、第1光学素子LS1の下面T1と基板Pとの距離よりも大きくなっている。 As is clear from FIG. 12, on the optical axis AX, the distance H1 between the lower surface T1 and the upper surface T2 of the first optical element LS1, than the distance between the lower surface T1 and the substrate P of the first optical element LS1 It is larger. すなわち、光軸AX上において、第1光学素子LS1の厚さは、液体LQ1よりも厚く形成されている。 That is, on the optical axis AX, the thickness of the first optical element LS1 is thicker than the liquid LQ1. 本実施形態においても液体LQ1の厚さは3mm程度であり、ランド面75と基板Pとの距離は1mm程度である。 The thickness of the liquid LQ1 in the present embodiment is about 3 mm, the distance between the land surface 75 and the substrate P is about 1 mm. 本実施形態においては、第1光学素子LS1の厚みH1は15mm程度であるが、これに限らず、15mm〜20mm程度の範囲で設定することができる。 In the present embodiment, the thickness H1 of the first optical element LS1 is about 15 mm, not limited to this and can be set in the range of about 15 mm to 20 mm.

第2光学素子LS2は、鏡筒PKの内部において第1支持部91よりも上方に設けられた第2支持部92に支持されている。 The second optical element LS2 is supported by the second support portion 92 provided above the first supporting portion 91 in the barrel PK. 第2光学素子LS2の上部には被支持部であるフランジ部F2が設けられており、第2支持部92はフランジ部F2を支持することによって、第2光学素子LS2を支持している。 The upper portion of the second optical element LS2 is provided with a flange portion F2 is a supported portion, the second support portion 92 by supporting the flange portion F2, which supports the second optical element LS2. 第2光学素子LS2の下面T3は平面状に形成されており、第2支持部92に支持された第2光学素子LS2の下面T3と、第1支持部91に支持された第1光学素子LS1の上面T2とはほぼ平行となっている。 The lower surface T3 of the second optical element LS2 is formed in a planar shape, and the lower surface T3 of the second optical element LS2 supported by the second supporting portion 92, the first optical element is supported by the first support portion 91 LS1 It is substantially parallel to the upper surface T2 of. 一方、第2光学素子LS2の上面T4は、物体面側(マスクM側)に向かって凸状に形成されており、正の屈折率を有している。 On the other hand, the upper surface T4 of the second optical element LS2 is formed to be convex toward the object plane side (mask M side), and has a positive refractive index.

第1光学素子LS1は、鏡筒PKの第1支持部91に対して容易に取り付け・外し可能となっている。 The first optical element LS1 is easily become insert or remove the first support portion 91 of the barrel PK. すなわち、第1光学素子LS1は交換可能に設けられている。 That is, the first optical element LS1 is provided exchangeably. また、屈折率(レンズ作用)を有する第2光学素子LS2は、良好に位置決めされた状態で鏡筒PKの第2支持部92に支持されている。 The second optical element LS2 having a refractive index (lens function) is supported by the second support portion 92 of the barrel PK in the state of being satisfactorily positioned.

フランジ部F1を有する第1光学素子LS1の上面T2は、第2光学素子LS2の下面T3よりも十分に大きく形成されており、第1光学素子LS1と対向する第2光学素子LS2の下面T3の外径D3は、第1光学素子LS1の上面T2の外径D2よりも小さくなっている。 The upper surface T2 of the first optical element LS1 having the flange portion F1 is formed sufficiently larger than the lower surface T3 of the second optical element LS2, the lower surface T3 of the second optical element LS2 opposed to the first optical element LS1 outer diameter D3 is smaller than the outer diameter D2 of the upper surface T2 of the first optical element LS1. そして、第1光学素子LS1の上面T2上には、第2液体LQ2による第2液浸領域LR2が局所的に形成されている。 Then, on the upper surface T2 of the first optical element LS1, the second liquid immersion area LR2 of the second liquid LQ2 is locally formed.

また、第1光学素子LS1の下面T1と上面T2との距離H1は、第1光学素子LS1の上面T2とフランジ部F1の下面T5との距離H2よりも長くなっている。 The distance H1 between the lower surface T1 and the upper surface T2 of the first optical element LS1 is longer than the distance H2 between the lower surface T5 of the upper surface T2 and the flange portion F1 of the first optical element LS1. また、本実施形態においては、フランジ部F1を有する第1光学素子LS1の上面T2の外径D2は、第1光学素子LS1の下面T1の外径D1の2倍以上に設定されている。 In the present embodiment, the outer diameter D2 of the upper surface T2 of the first optical element LS1 having the flange portion F1 is set to twice or more the outer diameter D1 of the lower surface T1 of the first optical element LS1. そして、フランジ部F1の下面T5を第1支持部91に支持されている第1光学素子LS1の下部は、鏡筒PKの下面PKAよりも下方に露出(突出)している。 The lower portion of the first optical element LS1, which is supporting the lower surface T5 of the flange portion F1 in the first support portion 91 is exposed (projected) to below the lower surface PKA of the barrel PK.

ノズル部材70の少なくとも一部は、第1光学素子LS1のフランジ部F1及びそのフランジ部F1を支持する第1支持部91と基板Pとの間に形成された空間に配置されている。 At least a portion of the nozzle member 70 is arranged in a space formed between the first support portion 91 and the substrate P for supporting the flange portion F1 and the flange portion F1 of the first optical element LS1. 換言すれば、第1光学素子LS1のフランジ部(被支持部)F1及びそのフランジ部F1を支持する第1支持部91が、ノズル部材70の上方に設けられている。 In other words, the first supporting portion 91 for supporting the flange portion (supported portion) F1 and its flange portion F1 of the first optical element LS1 is provided above the nozzle member 70. そして、ノズル部材70の上面70Bと、第1光学素子LS1のフランジ部F1の下面T5及び鏡筒PKの下面PKAとが対向している。 Then, the upper surface 70B of the nozzle member 70, and the lower surface PKA of the lower surface T5 and the barrel PK of the flange portion F1 of the first optical element LS1 is opposed. また、ノズル部材70の内側面70Tと第1光学素子LS1の側面C1とが対向している。 Further, the inner side surface 70T and the side surface C1 of the first optical element LS1 of the nozzle member 70 is opposed.

また、フランジ部F1の下側に配置されたノズル部材70は、第1光学素子LS1の側面C1に近接して配置されており、ノズル部材70に設けられている第1供給口12は、投影領域ARに近接して設けられている。 The nozzle member 70 arranged on the lower side of the flange portion F1 is positioned in proximity to the side surface C1 of the first optical element LS1, the first supply ports 12 provided in the nozzle member 70, the projection It is provided close to the area AR. また、投影領域ARを囲むように形成された第1回収口22も投影領域ARに近接して設けられており、その第1回収口22の外径D22は、第1光学素子LS1の上面T2の外径D2よりも小さく設けられている。 The first recovery port 22 formed to surround the projection area AR is also provided close to the projection area AR, the outer diameter D22 of the first recovery port 22, the upper surface T2 of the first optical element LS1 provided smaller than the outer diameter D2 of.

そして、ランド面75を形成する底板部72Dは、第1光学素子LS1の下面T1の下にもぐり込むようにして配置されている。 The bottom plate portion 72D which forms the land surface 75 is disposed so as slips under the lower surface T1 of the first optical element LS1.

以上説明したように、第1光学素子LS1の上面T2の外径D2を下面T1の外径D1より大きく、より具体的には、上面T2の外径D2を下面T1の外径D1の2倍以上としたので、第1光学素子LS1を第1支持部91で支持する場合、第1支持部91が上面T2(フランジ部F1)の端部を支持することで、その第1光学素子LS1を支持する第1支持部を、第1光学素子LS1の光軸AXから水平方向に関して離れた位置に設けることができる。 As described above, the outer diameter D2 of the upper surface T2 of the first optical element LS1 larger than the outer diameter D1 of the lower surface T1, and more specifically twice the outer diameter D1 of the lower surface T1 of the outer diameter D2 of the upper surface T2 since the above case for supporting the first optical element LS1 in the first support portion 91, since the first support portion 91 supports an end portion of the upper surface T2 (flange portion F1), the first optical element LS1 that a first support for supporting, can be provided at a position apart in the horizontal direction from the optical axis AX of the first optical element LS1. したがって、第1支持部91と第1光学素子LS1の側面C1との間の空間(第1光学素子LS1の周囲の空間)を確保することができ、その空間に第1液体LQ1のためのノズル部材70を配置することができる。 Therefore, it is possible to secure a space (space around the first optical element LS1) between the first support portion 91 and the side surface C1 of the first optical element LS1, the nozzle for the first liquid LQ1 to the space it is possible to arrange the member 70. また、ノズル部材70に限らず、アライメント系など各種計測機器等を配置するときの配置の自由度を向上することもできる。 Further, not only the nozzle member 70 can also improve the flexibility of arrangement when placing the alignment system such as various measuring devices or the like. また、前記空間が十分に確保されているので、その空間に配置する計測機器等の設計の自由度を向上することもできる。 Further, since the space is sufficiently secured, it is also possible to improve the degree of freedom in design, such as measuring devices disposed in the space. また、第1光学素子LS1の上面T2の外径D2は、下面T1の外径D1の2倍以上であって、第1光学素子LS1の下面T1の外径D1は上面T2に対して十分に小さいので、第1液浸機構1によって形成される第1液浸領域LR1の第1液体LQ1を下面T1に接触させることにより、その第1液浸領域LR1の大きさを下面T1に応じて小さくすることができる。 The outer diameter D2 of the upper surface T2 of the first optical element LS1 is a more than twice the outer diameter D1 of the lower surface T1, the outer diameter D1 of the lower surface T1 of the first optical element LS1 is sufficiently relative to the upper surface T2 because small, by contacting the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1 formed by the first liquid immersion mechanism 1 to the lower surface T1, reduced in accordance with the size of the first liquid immersion area LR1 on the lower surface T1 can do. したがって、第1液浸領域LR1の巨大化に伴う露光装置EX全体の巨大化といった不都合を防止することができる。 Therefore, it is possible to prevent the inconvenience giant of the entire exposure apparatus EX accompanying huge first liquid immersion area LR1. また、第1液浸領域LR1の大きさを決定する要因の一つとして、第1回収口22の大きさ(位置)が挙げられるが、その第1回収口22の外径D22を、第1光学素子LS1の上面T2の外径D2よりも小さくしたので、第1液浸領域LR1を小さくすることができる。 Further, as one of the factors that determine the size of the first liquid immersion area LR1, the size of the first recovery port 22 (position), but can be mentioned, the outer diameter D22 of the first recovery port 22, the first Having smaller than the outer diameter D2 of the upper surface T2 of the optical element LS1, it is possible to reduce the first liquid immersion area LR1.

また、第1光学素子LS1の下面T1と上面T2との距離H1を、第1光学素子LS1と基板Pの間の距離も大きく、より具体的には、距離H1を15mm以上とし、第1光学素子LS1を厚くしたので、第1光学素子LS1を第1支持部91で支持する場合、第1支持部91が第1光学素子LS1の上面T2近傍、本実施形態においては上面T2を形成するフランジ部F1を支持することで、その第1光学素子LS1を支持する第1支持部91を第1光学素子LS1の下面T1から鉛直方向に関して離れた位置に設けることができる。 Also, the distance H1 between the lower surface T1 and the upper surface T2 of the first optical element LS1, the distance between the first optical element LS1 and the substrate P is large, more specifically, the distance H1 is not less than 15 mm, the first optical Having thicker element LS1, when supporting the first optical element LS1 in the first support portion 91, the flange first support portion 91 is the upper surface T2 vicinity of the first optical element LS1, in the present embodiment for forming the upper surface T2 by supporting the parts F1, it is possible to provide the first support portion 91 for supporting the first optical element LS1 its position away with respect to the vertical direction from the lower surface T1 of the first optical element LS1. したがって、第1光学素子LS1のフランジ部F1の下面T5と基板Pとの間の空間(第1光学素子LS1の周囲の空間)を確保することができ、その空間にノズル部材70を配置することができる。 Therefore, it is possible to secure a space between the lower surface T5 and the substrate P of the flange portion F1 of the first optical element LS1 (space around the first optical element LS1), placing the nozzle member 70 in the space can. また、ノズル部材70に限らず、アライメント系など各種計測機器等を配置するときの配置の自由度や、設計の自由度を向上することもできる。 Further, not only the nozzle member 70, the degree of freedom and the arrangement when placing the alignment system such as various measuring devices, etc., can also improve the degree of freedom in design. そして、ノズル部材70を第1光学素子LS1の側面C1に近接して配置することができるので、ノズル部材70のコンパクト化を図ることができ、第1液体LQ1の第1液浸領域LR1の大きさを小さくすることができる。 Then, it is possible to disposed close to the nozzle member 70 to the side surface C1 of the first optical element LS1, can be made compact nozzle member 70, the size of the first liquid immersion area LR1 of the first liquid LQ1 it is possible to reduce the of. したがって、第1液浸領域LR1の巨大化に伴う露光装置EX全体の巨大化といった不都合を防止することができる。 Therefore, it is possible to prevent the inconvenience giant of the entire exposure apparatus EX accompanying huge first liquid immersion area LR1.

また、第1光学素子LS1の厚み(距離H1)を、第1光学素子LS1と基板Pの間の第1液体LQ1よりも厚く、より具体的には、距離H1を15mm以上とすることで、液体から受ける力によって発生する第1光学素子LS1の形状変化を抑制することができる。 Further, the thickness (distance H1) of the first optical element LS1, the first liquid thicker than LQ1 between the first optical element LS1 and the substrate P, more specifically, the distance H1 With more than 15 mm, it is possible to suppress the shape change of the first optical element LS1 which is generated by the force received from the liquid. したがって、投影光学系PLの高い結像性能を維持することが可能となる。 Therefore, it is possible to maintain a high projection optical system PL imaging performance.

なお、図12を参照して説明した実施形態においては、第1光学素子LS1は、距離(厚み)H1が15mm以上である条件と、上面T2の外径D2が下面T1の外径D1の2倍以上である条件との双方を満足しているが、いずれか一方の条件を満足する構成であってもよい。 Incidentally, in the embodiment described with reference to FIG. 12, the first optical element LS1, the distance and conditions is (thickness) H1 is 15mm or more, the outer diameter D2 of the upper surface T2 of the outer diameter D1 of the lower surface T1 2 Although satisfies both the conditions is more than twice it may be configured to satisfy one of the conditions. いずれか一方の条件を満足する構成であっても、ノズル部材70のコンパクト化を図ることができ、第1液浸領域LR1の巨大化を防止できる。 Be configured to satisfy one of the conditions, it can be made compact nozzle member 70, can be prevented huge first liquid immersion area LR1.

図12を参照して説明した実施形態においては、第1光学素子LS1は、フランジ部F1から下面T1に向かうに従ってその外径が小さくなる円錐状の側面を有しているが、第1光学素子LS1の形状は、この形状に限らない。 12 In reference to the embodiments described with the the first optical element LS1 is the outer diameter has a conical side surface becomes smaller toward the lower surface T1 of the flange portion F1, the first optical element LS1 shape of is not limited to this shape. 例えば、フランジ部F1を維持しつつ、側面が外径D1の円柱状の第1光学素子LS1であっても構わない。 For example, while maintaining the flange portion F1, sides may be a first optical element LS1 cylindrical outer diameter D1. あるいは、第1光学素子LS1内において、露光光ELは、走査方向(X方向)の径が非走査方向(Y方向)の径よりも小さくなるので、XY平面に沿った断面がX方向の径が小さい楕円であって、フランジ部F1から下面T1に向かうに従ってその外径が小さくなる側面を有する第1光学素子であってもよい。 Alternatively, in the first optical element LS1, the exposure light EL, the diameter of the scanning direction (X direction) is smaller than the diameter of the non-scanning direction (Y-direction), cross section taken along the XY plane in the X-direction diameter an elliptical is small, it may be a first optical element having an outer diameter smaller side toward the lower surface T1 of the flange portion F1. これに合わせてノズル部材の形状や配置を変更することができる。 It is possible to change the shape and arrangement of the nozzle member accordingly.

また、本実施形態においても、第1光学素子LS1の下面T1と基板Pとの距離は3mm程度であり、ランド面75と基板Pとの距離は1mm程度であり、第1光学素子LS1の上面T2と第2光学素子LS2の下面T3との距離は3mm程度である。 Also in this embodiment, the distance between the lower surface T1 and the substrate P of the first optical element LS1 is about 3 mm, the distance between the land surface 75 and the substrate P is about 1 mm, the upper surface of the first optical element LS1 T2 and the distance between the lower surface T3 of the second optical element LS2 is about 3 mm. しかしながら、上述の実施形態と同様に、第1光学素子LS1の下面T1と基板Pとの距離は、液体LQ1による露光光ELの吸収と、第1空間K1での液体LQ1の流れとを考慮して、1〜5mmの範囲で設定することができ、ランド面75と基板Pとの距離も、0.5〜1mmの範囲で設定することができ、第1光学素子LS1の上面T2と第2光学素子LS2の下面T3との距離も、液体LQ2の流れを考慮して、0.5〜5mmの範囲で設定することができる。 However, similarly to the above-mentioned embodiment, the distance between the lower surface T1 and the substrate P of the first optical element LS1, considering the absorption of the exposure light EL by the liquid LQ1, and a flow of the liquid LQ1 in the first space K1 Te, can be set in the range of 1 to 5 mm, the distance between the land surface 75 and the substrate P also can be set in the range of 0.5 to 1 mm, and the upper surface T2 of the first optical element LS1 second even if the distance between the lower surface T3 of the optical element LS2, considering the flow of the liquid LQ2, can be set in a range of 0.5 to 5 mm.

なお、本実施形態の鏡筒PKは、複数の分割鏡筒(サブバレル)を組み合わせることで構成されており、第1光学素子LS1を支持する第1支持部91を含む分割鏡筒が、他の光学素子L2〜L7を支持する部分鏡筒に対して取り付け・外し可能となっている。 Incidentally, the barrel PK of the present embodiment is constructed by combining a plurality of divided tube (the Sabubareru), divided tube including a first support portion 91 for supporting the first optical element LS1 is, other It has a mounting-detachable relative partial tube which supports the optical element L2~L7. そして、フランジ部F1を有する第1光学素子LS1は、分割鏡筒ごと部分鏡筒より外されることで、交換可能となっている。 The first optical element LS1 having the flange portion F1, by being removed from the split barrel each partial tube, and can exchange.

なお、本実施形態の第1光学素子LS1を用いる場合、図13に示すように、第2液浸領域LR2を形成しない構成を採用してもよい。 In the case of using the first optical element LS1 of this embodiment, as shown in FIG. 13, a configuration may be adopted that does not form a second liquid immersion area LR2. ここで、図13に示す第1光学素子LS1は、投影光学系PLの像面に最も近い光学素子であって、その上面T2は物体面側に向かって凸状に形成されており、正の屈折率を有している。 Here, the first optical element LS1 shown in FIG. 13 is a closest optical element to the image plane of projection optical system PL, the upper surface T2 are formed in a convex shape toward the object side, a positive It has a refractive index. そして、第1光学素子LS1には、第1液浸領域LR1の第1液体LQ1が接触する。 Then, the first optical element LS1, the first liquid LQ1 of the first liquid immersion area LR1 makes contact. その場合において、第1光学素子LS1が、光軸AX上における下面T1と上面T2との距離H1が15mm以上である条件と、上面T2の外径D2が下面T1の外径D1の2倍以上である条件との少なくともいずれか一方を満足することで、ノズル部材70のコンパクト化を図ることができ、第1液浸領域LR1の巨大化を防止できる。 In that case, the first optical element LS1 is, a condition distance H1 between the lower surface T1 and the upper surface T2 on the optical axis AX is 15mm or more, the outer diameter D2 of the upper surface T2 is at least twice the outer diameter D1 of the lower surface T1 by satisfying at least one of the conditions it is, can be made compact nozzle member 70, can be prevented huge first liquid immersion area LR1.

また、上述した各実施形態においては、第1光学素子LS1の上面T2上に第2液体LQ2の第2液浸領域LR2を局所的に形成しているが、図14に示すように、第2液浸領域LR2の第2液体LQ2が上面T2のほぼ全域に配置される構成であってもよい。 Further, in the above embodiments, although locally forming the second liquid immersion area LR2 of the second liquid LQ2 on the upper surface T2 of the first optical element LS1, as shown in FIG. 14, the second the second liquid LQ2 of the immersion area LR2 may be configured to be disposed on substantially the entire upper surface T2.

ここで、図14に示す実施形態においても、第1光学素子LS1が、光軸AX上における下面T1と上面T2との距離H1が15mm以上である条件と、上面T2の外径D2が下面T1の外径D1の2倍以上である条件との少なくともいずれか一方を満足している。 Here, also in the embodiment shown in FIG. 14, the first optical element LS1 is, a condition distance H1 between the lower surface T1 and the upper surface T2 on the optical axis AX is 15mm or more, the outer diameter D2 of the upper surface T2 lower surface T1 satisfies at least one of the conditions is at least 2 times the outer diameter D1 of. そして、図12等を参照して説明した実施形態同様、第1光学素子LS1は鏡筒PKより下方に露出(突出)しており、ノズル部材70は第1光学素子LS1に近接して配置されている。 The same embodiments described with reference to FIG. 12 or the like, the first optical element LS1 is exposed (projected) downwardly from the barrel PK, the nozzle member 70 is disposed proximate the first optical element LS1 ing.

鏡筒PKの内側面PKCには、第2液体供給機構30の一部を構成する第2供給口32が設けられている。 The inner side surface PKC of the barrel PK, the second supply port 32 which constitutes a part of the second liquid supply mechanism 30 is provided. 第2供給口32は、鏡筒PKの内側面PKCにおいて第2空間K2の近傍位置に形成されており、投影光学系PLの光軸AXに対して+X側に設けられている。 The second supply port 32, the inner side surface PKC of the barrel PK is formed in the vicinity of the second space K2, it is provided on the + X side with respect to the optical axis AX of the projection optical system PL. 第2供給口32は、第2液体供給部31から送出された第2液体LQ2を、第1光学素子2Gの上面T2と略平行、すなわちXY平面と略平行に(横方向に)吹き出す。 The second supply port 32, the second liquid LQ2, which is fed from the second liquid supply section 31, substantially parallel to the upper surface T2 of the first optical element 2G, blown i.e. a substantially parallel XY plane (in the lateral direction). 第2供給口32は、第1光学素子LS1の上面T2とほぼ平行に第2液体LQ2を吹き出すので、供給された第2液体LQ2が第1、第2光学素子LS1、LS2等に及ぼす力を低減できる。 The second supply port 32, since blow out the second liquid LQ2 substantially in parallel to the upper surface T2 of the first optical element LS1, the second liquid LQ2, which is supplied forces on the first and second optical elements LS1, LS2 or the like It can be reduced. したがって、供給した第2液体LQ2に起因して第1、第2光学素子LS1、LS2等が変形したり変位する等といった不都合の発生を防止することができる。 Therefore, it is possible to prevent the occurrence of problems such like the first due to the second liquid LQ2 which has been supplied, the second optical element LS1, LS2 or the like are displaced or deformed.

また、鏡筒PKの内側面PKCにおいて、第2供給口32に対して所定位置には、第2液体回収機構40の一部を構成する第2回収口42が設けられている。 Further, the inner side surface PKC of the barrel PK, has a predetermined position with respect to the second supply port 32, the second recovery port 42 which constitutes a part of the second liquid recovery mechanism 40 is provided. 第2回収口42は、鏡筒PKの内側面PKCにおいて第2空間K2の近傍位置に形成されており、投影光学系PLの光軸AXに対して−X側に設けられている。 The second recovery port 42, the inner side surface PKC of the barrel PK is formed in the vicinity of the second space K2, it is provided on the -X side with respect to the optical axis AX of the projection optical system PL. すなわち、第2供給口32及び第2回収口42は対向している。 That is, the second supply port 32 and the second recovery port 42 are opposed. 本実施形態においては、第2供給口32及び第2回収口42はそれぞれスリット状に形成されている。 In this embodiment, the second supply port 32 and the second recovery port 42 is formed in a slit shape, respectively. なお、第2供給口32及び第2回収口42は、略円形状、楕円形状、矩形状など任意の形状に形成されていてもよい。 Note that the second supply port 32 and the second recovery port 42 is substantially circular, elliptical, or may be formed into any shape such as a rectangular shape. また、本実施形態においては、第2供給口32、第2回収口42のそれぞれは互いにほぼ同じ大きさを有しているが、互いに異なる大きさであってもよい。 In the present embodiment, the second supply ports 32, although each of the second recovery port 42 has approximately the same size as each other, or may be different sizes.

第2供給管33の他端部は、鏡筒PKの内部に形成された第2供給流路34の一端部に接続している。 The other end of the second supply pipe 33 is connected to one end of the second supply flow passage 34 formed in the barrel PK. 一方、鏡筒PKの第2供給流路34の他端部は、鏡筒PKの内側面PKCに形成された第2供給口32に接続されている。 On the other hand, the other end of the second supply flow passage 34 of the barrel PK is connected to the second supply port 32 formed on the inner surface PKC of the barrel PK. 第2液体供給機構30の第2液体供給部31より送出された第2液体LQ2は、第2供給管33を流れた後、鏡筒PKの内部に形成された第2供給流路34の一端部に流入する。 The second liquid LQ2, which is fed from the second liquid supply portion 31 of the second liquid supply mechanism 30, flows through the second supply pipe 33, one end of the second supply flow passage 34 formed in the barrel PK and it flows into the part. そして、第2供給流路34の一端部に流入した第2液体LQ2は、鏡筒PKの内側面PKCに形成された第2供給口32より、第2光学素子LS2と第1光学素子LS1との間の第2空間K2に供給される。 The second liquid LQ2, which has flown into one end of the second supply flow passage 34, from the second supply port 32 formed on the inner surface PKC of the barrel PK, and the second optical element LS2 and the first optical element LS1 It is supplied to the second space K2 between.

第2回収管43の他端部は、鏡筒PKの内部に形成された第2回収流路44の一端部に接続している。 The other end of the second recovery tube 43 is connected to one end of the second recovery flow passage 44 formed in the barrel PK. 一方、第2回収流路44の他端部は、鏡筒PKの内側面PKCに形成された第2回収口42に接続されている。 On the other hand, the other end of the second recovery flow passage 44 is connected to the second recovery port 42 formed on the inner surface PKC of the barrel PK. 第2液体回収機構40の第2液体回収部41を駆動することにより、第2空間K2の第2液体LQ2は、第2回収口42を介して第2回収流路44に流入し、その後、第2回収管43を介して第2液体回収部41に吸引回収される。 By driving the second liquid recovery section 41 of the second liquid recovery mechanism 40, the second liquid LQ2 in the second space K2 flows into the second recovery flow passage 44 via the second recovery port 42, then, It is sucked and recovered in the second liquid recovery section 41 via the second recovery tube 43.

鏡筒PKには第1支持部91に支持された第1光学素子LS1の上面T2の周縁領域と対向する対向面93が設けられている。 The barrel PK facing surface 93 is provided facing the peripheral region of the upper surface T2 of the first optical element LS1 supported by the first support portion 91. そして、上面T2の周縁領域と対向面93との間には第1シール部材94が設けられている。 The first seal member 94 is provided between the peripheral region and the facing surface 93 of the upper surface T2. 第1シール部材94は例えばOリング(例えば、デュポンダウ社製「カルレッツ」)あるいはCリングにより構成されている。 The first seal member 94 is, for example, O-ring (e.g., DuPont Dow Co. "Kalrez") is constituted by or C ring. 第1シール部材94により、上面T2上に配置された第2液体LQ2の上面T2の外側への漏出、ひいては鏡筒PKの外側への漏出が防止されている。 The first seal member 94, leakage to the outside of the upper surface T2 of the second liquid LQ2 arranged on the upper surface T2, and thus leakage into the outside of the barrel PK is prevented. また、第2光学素子LS2の側面C2と鏡筒PKの内側面PKCとの間には第2シール部材95が設けられている。 Between the inner surface PKC aspect C2 and the barrel PK of the second optical element LS2 is provided with a second sealing member 95. 第2シール部材95は例えばVリングにより構成されている。 The second seal member 95 is constituted by a V-ring for example. 第2シール部材95により、鏡筒PKの内側のうち、第2空間K2と第2光学素子LS2よりも上方の第3空間K3との間での流体(気体、第2流体LQ2、第2流体LQ2により発生した湿った気体を含む)の流通が規制されている。 The second seal member 95, of the inner barrel PK, fluid (gas between the second space K2 and the third space K3 of above the second optical element LS2, the second fluid LQ2, second fluid distribution including) the moist gas generated is regulated by LQ2. これにより、第3空間K3を含む鏡筒PKの内部空間の環境(温度・湿度等)を維持できるとともに、第2液浸領域LR2の第2液体LQ2中に、第3空間K3からの気体(気泡)が混入することを防止できる。 Thus, the environment of the interior space of the barrel PK including the third space K3 (the temperature, humidity, etc.) can be maintained, in the second liquid LQ2 of the second liquid immersion area LR2, the gas from the third space K3 ( possible to prevent the air bubbles) are mixed.

なお、第2シール部材95を設けずに、第2光学素子LS2の側面C2と鏡筒PKの内側面PKCとの距離を、例えば1〜5μm程度に狭めることによっても、第2光学素子LS2の側面C2と鏡筒PKの内側面PKCとの間の間隙を介して、第2空間K2と第3空間K3との間での流体の流通を阻止することができる。 Incidentally, without providing the second seal member 95, the distance between the inner surface PKC aspect C2 and the barrel PK of the second optical element LS2, for example, by narrowing to about 1 to 5 [mu] m, the second optical element LS2 through the gap between the inner surface PKC aspect C2 and the lens barrel PK, can be blocked and the second space K2 circulation of fluid between the third space K3.

基板Pの露光を行うに際し、制御装置CONTは、第2液体供給機構30による単位時間あたりの第2液体LQ2の供給量及び第2液体回収機構40による単位時間あたりの第2液体LQ2の回収量を最適に制御しつつ、第2液体供給機構30及び第2液体回収機構40による第2液体LQ2の供給及び回収を行い、第2空間K2のうち、少なくとも露光光ELの光路上を第2液体LQ2で満たす。 Upon performing exposure of the substrate P, controller CONT, the recovery amount of the second liquid LQ2 per unit time by the supply amount and the second liquid recovery mechanism 40 of the second liquid supply mechanism 30 and the second liquid LQ2 per unit time by while optimally controlling the performs supply and recovery of the second liquid LQ2 by the second liquid supply mechanism 30 and the second liquid recovery mechanism 40, of the second space K2, the second liquid light path of least exposure light EL filled with LQ2. 本実施形態においては、第2液体供給機構30は、第2空間K2に対して第2液体LQ2を、0.1cc/min〜100cc/minの流量で供給する。 In the present embodiment, the second liquid supply mechanism 30, the second liquid LQ2 to the second space K2, supplied at a flow rate of 0.1cc / min~100cc / min.

本実施形態においては、基板Pの露光中においても、第2液体供給機構30及び第2液体回収機構40による第2液体LQ2の供給動作及び回収動作は連続的に行われる。 In the present embodiment, even during the exposure of the substrate P, the supply operation and the recovery operation of the second liquid LQ2 by the second liquid supply mechanism 30 and the second liquid recovery mechanism 40 is carried out continuously. 更に、基板Pの露光前後においても、第2液体供給機構30及び第2液体回収機構40による第2液体LQ2の供給動作及び回収動作は連続的に行われる。 Further, before and after exposure of the substrate P also supply operation and recovery operation of the second liquid LQ2 by the second liquid supply mechanism 30 and the second liquid recovery mechanism 40 is carried out continuously. 第2液体供給機構30及び第2液体回収機構40による第2液体LQ2の供給及び回収を連続的に行うことで、第2空間K2の第2液体LQ2は常に清浄で温度管理された第2液体LQ2と交換され、第2空間K2は温度管理された清浄な第2液体LQ2で満たされる。 By performing the supply and recovery of the second liquid LQ2 by the second liquid supply mechanism 30 and the second liquid recovery mechanism 40 continuously, a second liquid second liquid LQ2 in the second space K2 is that always temperature controlled clean is exchanged with LQ2, the second space K2 is filled with the clean second liquid LQ2, which is temperature-controlled. また、基板Pの露光前後においても第2空間K2に対する第2液体LQ2の供給動作及び回収動作を継続することで、第2液体LQ2の気化(乾燥)に起因して第1光学素子LS1の上面T2や第2光学素子LS2の下面T3等に付着跡(所謂ウォーターマーク)が形成される等といった不都合の発生を防止することができる。 Also, before and after exposure of the substrate P by continuing the supply operation and the recovery operation of the second liquid LQ2 to the second space K2, the upper surface of the first optical element LS1 due to the vaporization of the second liquid LQ2 (dry) it is possible to prevent the occurrence of problems such like T2 and second attachment marks on the lower surface T3 of an optical element LS2 (so-called water mark) is formed.

なお、図14の実施形態においても、第2液浸機構2による第2液体LQ2の供給及び回収を間欠的に行ってもよい。 Also in the embodiment of FIG. 14, the supply and recovery of the second liquid LQ2 by the second liquid immersion mechanism 2 may be performed intermittently. 例えば、基板Pの露光中に第2液浸機構2の液体の供給動作及び/又は回収動作を停止するようにしてもよい。 For example, the supply operation and / or recovery operation of the second liquid immersion mechanism 2 liquids may be stopped during the exposure of the substrate P. こうすることによって、基板Pの露光中に、第2液体LQ2の供給及び/又は回収に伴う振動が発生せず、その振動に起因する露光精度の劣化を防止することができる。 By doing this, the during the exposure of the substrate P, the vibration caused by the supply and / or the recovery of the second liquid LQ2 is not generated, it is possible to prevent the deterioration of the exposure accuracy due to the vibration.

次に、上述の実施形態における第1液体回収機構20の回収方法の別の実施形態について説明する。 Next, a description will be given of another embodiment of the first method for recovering the liquid recovery mechanism 20 in the above embodiment. なお、本実施形態においては、第1回収口22から液体LQだけを回収するようにしており、これによって液体回収に起因する振動の発生を抑制するようにしている。 In the present embodiment, so that has a first recovery port 22 so as to recover only the liquid LQ, thereby suppressing the occurrence of vibration due to liquid recovery.

以下、図15の模式図を参照しながら、本実施形態における第1液体回収機構20による液体回収動作の原理について説明する。 Hereinafter, with reference to the schematic diagram of FIG. 15 will be described by the first liquid recovery mechanism 20 of this embodiment the principle of the liquid recovery operation. 第1液体回収機構20の第1回収口22には、多孔部材25として、例えば多数の孔が形成された薄板状にメッシュ部材を使用することができる。 The first recovery port 22 of the first liquid recovery mechanism 20, as the porous member 25, can be used thin plate mesh member, for example, a large number of holes are formed. 本実施形態においては、多孔部材(メッシュ部材)はチタンで形成されている。 In the present embodiment, the porous member (mesh member) is formed of titanium. また本実施形態においては、多孔部材25が濡れた状態で、多孔部材25の上面と下面との圧力差を後述の所定条件を満足するように制御することで、多孔部材25の孔から液体LQだけを回収するものである。 In the present embodiment, in a state where the porous member 25 is wet, by controlling so that the pressure difference between the upper and lower surfaces of the porous member 25 satisfies a predetermined condition described later, the liquid LQ from the pores of the porous member 25 it is intended to recover only. 上述の所定条件に係るパラメータとしては、多孔部材25の孔径、多孔部材25の液体LQとの接触角(親和性)、及び第1液体回収部21の吸引力(多孔部材25の上面に圧力)等が挙げられる。 The parameters of the predetermined conditions described above, the pore size of the porous member 25, the contact angle (affinity) of the liquid LQ of the porous member 25, and the suction force of the first liquid recovery section 21 (pressure on the upper surface of the porous member 25) etc. the.

図15は、多孔部材25の部分断面の拡大図であって、多孔部材25を介して行われる液体回収の具体例を示すものである。 Figure 15 is an enlarged view of a partial section of the porous member 25 shows a specific example of the liquid recovery to be performed through the porous member 25. 多孔部材25の下には、基板Pが配置されており、多孔部材25と基板Pとの間には、気体空間及び液体空間が形成されている。 Below the porous member 25, the substrate P is disposed, between the porous member 25 and the substrate P, gas space and the liquid space is formed. より具体的には、多孔部材25の第1孔25Haと基板Pとの間には気体空間が形成され、多孔部材25の第2孔25Hbと基板Pとの間には液体空間が形成されている。 More specifically, between the first hole 25Ha and the substrate P of the porous member 25 is a gas space is formed, between the second hole 25Hb and the substrate P of the porous member 25 is formed liquid space there. このような状況は、例えば、図4に示した液浸領域LR1の端部で生じ、あるいは何らかの原因で液浸領域LR1に生じた気体部分で生じ得る。 This situation, for example, occur at the end of the liquid immersion area LR1 shown in Fig. 4, or may occur in the gas portion occurring in the liquid immersion area LR1 for some reason. また、多孔部材25の上には、第1回収流路24の一部を形成する流路空間が形成されている。 Further, on the porous member 25, the flow path space which forms a part of the first recovery flow passage 24 is formed.

また、図15において、多孔部材25の第1孔25Haと基板Pとの間の空間の圧力(多孔部材25Hの下面の圧力)をPa、多孔部材25の上の流路空間の圧力(多孔部材25の上面での圧力)をPb、孔25Ha、25Hbの孔径(直径)をd、多孔部材25(孔25Hの内側)の液体LQとの接触角をθ、液体LQの表面張力をγとして、 Further, in FIG. 15, the pressure (the porous member of the flow path space above the pressure (the lower surface of the pressure of the porous member 25H) to Pa, the porous member 25 of the space between the first hole 25Ha and the substrate P of the porous member 25 pressure) of the upper surface of 25 Pb, as a pore 25Ha, pore size (diameter) d of 25 hb, the contact angle between the liquid LQ of the porous member 25 (inside the hole 25H) theta, the surface tension of the liquid LQ gamma,
(4×γ×cosθ)/d ≧ (Pa−Pb) …(3) (4 × γ × cosθ) / d ≧ (Pa-Pb) ... (3)
の条件が成立する場合、図15に示すように、多孔部材25の第1孔25Haの下側(基板P側)に気体空間が形成されても、多孔部材25の下側の空間の気体が孔25Haを介して多孔部材25の上側の空間に移動(侵入)することを防止することができる。 If the condition is satisfied, as shown in FIG. 15, be a gas space is formed below the first hole 25Ha of the porous member 25 (substrate P side), the gas in the lower space of the porous member 25 it is possible to prevent the through hole 25Ha move to the upper space of the porous member 25 (penetration). すなわち、上記(3)式の条件を満足するように、接触角θ、孔径d、液体LQの表面張力γ、圧力Pa、Pbを最適化することで、液体LQと気体との界面が多孔部材25の孔25Ha内に維持され、第1孔25Haからの気体の侵入を抑えることができる。 In other words, so as to satisfy the condition (3), the contact angle theta, pore size d, the surface tension of the liquid LQ gamma, by optimizing the pressure Pa, Pb, interface porous member between the liquid LQ and the gas is maintained within 25 of the hole 25Ha, it is possible to suppress the intrusion of the gas from the first hole 25Ha. 一方、多孔部材25の第2孔25Hbの下側(基板P側)には液体空間が形成されているので、第2孔25Hbを介して液体LQのみを回収することができる。 On the other hand, since the lower side of the second hole 25 hb of the porous member 25 (substrate P side) is formed the liquid space, it is possible to recover only the liquid LQ via the second hole 25 hb.

なお、上記(3)式の条件においては、説明を簡単にするために多孔部材25の上の液体LQの静水圧は考慮していない。 In the condition (3), the hydrostatic pressure of the liquid LQ on the porous member 25 in order to simplify the explanation is not considered.

また、本実施形態において、第1液体回収機構20は、多孔部材25の下の空間の圧力Pa、孔25Hの直径d、多孔部材25(孔25Hの内側面)の液体LQとの接触角θ、液体(純水)LQの表面張力γは一定として、第1液体回収部21の吸引力を制御して、上記(3)式を満足するように、多孔部材25の上の流路空間の圧力を調整している。 Further, in the present embodiment, the first liquid recovery mechanism 20, the pressure Pa of the space under the porous member 25, the diameter d of the hole 25H, the contact angle between the liquid LQ of the porous member 25 (inner surface of the hole 25H) theta , as a liquid (pure water) is LQ surface tension γ constant, by controlling the suction force of the first liquid recovery unit 21, so as to satisfy the equation (3), the flow path space above the porous member 25 so as to adjust the pressure. ただし、上記(3)式において、(Pa−Pb)が大きいほど、すなわち、((4×γ×cosθ)/d)が大きいほど、上記(3)式を満足するような圧力Pbの制御が容易になるので、孔25Ha、25Hbの直径d、及び多孔部材25の液体LQとの接触角θ(0<θ<90°)は可能な限り小さくすることが望ましい。 However, in the above (3), (Pa-Pb) The larger, i.e., as ((4 × γ × cosθ) / d) is large, the control pressure Pb that satisfies the expression (3) since facilitated, pore 25Ha, the diameter d of 25 hb, and the contact angle θ (0 <θ <90 °) with the liquid LQ of the porous member 25 is desirably as small as possible.

なお、上述の実施形態では、投影光学系PLは、第1光学素子LS1として、その上面T2が第2光学素子LS2の下面T3よりも外径が広い素子を有していた。 In the above embodiment, the projection optical system PL, the first optical element LS1, the upper surface T2 is the outer diameter than the lower surface T3 of the second optical element LS2 has had wide elements. しかし、本発明の第1の態様のように第1光学素子(第1エレメント)の上面(第2面)の一部の領域のみに液浸領域を形成することを達成するには、第2光学素子LS2の下面T3が第1光学素子LS1の上面T2がよりも外径が広くなってもかまわない。 However, to achieve that form part of the region only to the immersion region of the upper surface (second surface) of the first optical element (first element) as in the first aspect of the present invention, the second upper surface T2 Gayori of the lower surface T3 of the optical element LS2 has the first optical element LS1 also may be an outer diameter becomes wider. この場合、例えば、第2光学素子LS2の下面T3の外縁部を撥液性に処理し、液浸領域を形成する中央部分のみを親液性に処理することができる。 In this case, for example, it can be an outer edge of the lower surface T3 of the second optical element LS2 treated liquid-repellent, processing only the central portion for forming the liquid immersion area in lyophilic. あるいは図10に示したような堤防DRを第2光学素子LS2の下面T3の外縁部に設けてもよい。 Or embankment DR may be provided on the outer edge of the lower surface T3 of the second optical element LS2 as shown in FIG. 10.

また、図1〜図15の実施形態においては、第2液体供給機構30及び第2液体回収機構40による第2液体LQ2の供給動作及び回収動作は、第1液体供給機構10及び第1液体回収機構20による第1液体LQ1の供給動作及び回収動作と同一である必要は無く、それぞれの液体の供給量や回収量、あるいはそれぞれの液体の流速が異なっていてもよい。 Further, FIG. 1 in the embodiment of Figure 15, the supply operation and the recovery operation of the second liquid LQ2 by the second liquid supply mechanism 30 and the second liquid recovery mechanism 40, the first liquid supply mechanism 10 and the first liquid recovery not necessarily the same as the supply operation and the recovery operation of the first liquid LQ1 by mechanism 20, the supply amount and the recovery amount of each of the liquid, or may be different from the flow velocity of the respective liquid. 例えば、第2空間K2における液体LQ2の供給量及び回収量を、第1空間における液体LQ1の供給量及び回収量よりも少なくして、第2空間K2における液体LQ2の流速を、第1空間K1における液体LQ1の流速よりも遅くなるようにしてもよい。 For example, the supply amount and the recovery amount of the liquid LQ2 in the second space K2, and less than the supply amount and the recovery amount of the liquid LQ1 in the first space, the flow rate of the liquid LQ2 in the second space K2, the first space K1 it may be slower than the flow rate of the liquid LQ1 in.

また、上述の実施形態においては、第1液体供給機構10から第1空間K1に供給される液体(純水)と、第2液体供給機構30から第2空間K2に供給される液体(純水)とは同一(温度も同じ)であるが、液体の種類が同じでも、その質(温度、温度均一性、温度安定性など)が異なっていてもよい。 Further, in the above-described embodiment, the liquid (pure water) supplied from the first liquid supply mechanism 10 to the first space K1, the liquid supplied from the second liquid supply mechanism 30 to the second space K2 (pure water ) and it is the same (temperature versa), also a kind of liquid are the same, the quality (temperature, temperature uniformity, such temperature stability) may be different from. 例えば上述の実施形態のように、純水を用いる場合には、温度、温度均一性、温度安定性などに加えて、比抵抗値や全有機体炭素(TOC:total organic carbon)値、溶存気体濃度(溶存酸素濃度、溶存窒素濃度)、屈折率、透過率などが異なっていてもよい。 For example, as in the embodiment described above, in the case of using pure water, temperature, temperature uniformity, in addition to such temperature stability, specific resistance value and total organic carbon (TOC: total organic carbon) values, dissolved gas concentration (dissolved oxygen concentration, dissolved nitrogen concentration), the refractive index, such as the transmittance may be different.

上述したように、本実施形態における第1、第2液体LQ1、LQ2は純水により構成されている。 As described above, first, second liquid LQ1, LQ2 in the embodiment is constituted by pure water. 純水は、半導体製造工場等で容易に大量に入手できるとともに、基板P上のフォトレジストや光学素子(レンズ)等に対する悪影響がない利点がある。 Pure water can be obtained in large quantities at a semiconductor manufacturing plant or the like, that it has no adverse effects on the photoresist and the optical element (lens) and the like on the substrate P. また、純水は環境に対する悪影響がないとともに、不純物の含有量が極めて低いため、基板Pの表面、及び投影光学系PLの先端面に設けられている光学素子の表面を洗浄する作用も期待できる。 Further, pure water has no adverse effects on the environment and contains very few impurities, the action of cleaning the surface of the optical element provided at the end face of the surface, and the projection optical system PL of the substrate P can be expected . なお工場等から供給される純水の純度が低い場合には、露光装置が超純水製造器を持つようにしてもよい。 When the purity of pure water supplied from the factory or the like is low, the exposure apparatus may be provided with an ultrapure water-producing unit.

そして、波長が193nm程度の露光光ELに対する純水(水)の屈折率nはほぼ1.44程度と言われており、露光光ELの光源としてArFエキシマレーザ光(波長193nm)を用いた場合、基板P上では1/n、すなわち約134nm程度に短波長化されて高い解像度が得られる。 Then, when the wavelength is using pure water refractive index of the (water) n is said to approximately 1.44, ArF excimer laser light as the light source of the exposure light EL (wavelength 193nm) with respect to the exposure light EL of about 193nm , 1 / n, i.e. to reduce the wavelength is high resolution of about 134nm obtained on the substrate P. 更に、焦点深度は空気中に比べて約n倍、すなわち約1.44倍程度に拡大されるため、空気中で使用する場合と同程度の焦点深度が確保できればよい場合には、投影光学系PLの開口数をより増加させることができ、この点でも解像度が向上する。 Furthermore, approximately n times the depth of focus than in the air, namely to be enlarged to about 1.44 times, when the depth of focus approximately the same as that when used in air may be secured, the projection optical system It can be more increasing the numerical aperture of PL, and resolution improves on this point.

なお、上述した実施形態においては、第1、第2液体供給機構10、30は液体LQ1、LQ2として純水を供給しているが、互いに異なる種類の液体を供給し、第1空間K1に満たす第1液体LQ1と第2空間K2に満たす第2液体LQ2とを互いに異なる種類にしてもよい。 In the embodiment described above, the first, the second liquid supply mechanism 10 and 30 supplies the pure water as the liquid LQ1, LQ2, and supplying different kinds of liquids with each other, meet the first space K1 the first liquid LQ1 and the second liquid LQ2 may be different kinds from each other to satisfy the second space K2. この場合、第1液体と第2液体とで、露光光ELに対する屈折率及び/又は透過率が異なっていてもよい。 In this case, the first liquid and the second liquid may have different refractive indices and / or transmittance for the exposure light EL. 例えば、第2空間K2にフッ素系オイルをはじめとする純水以外の所定の液体を満たすことができる。 For example, it is possible to satisfy a predetermined liquid other than pure water including the fluorinated oil in the second space K2. オイルは、バクテリアなどの細菌の繁殖する確率が低い液体であるため、第2空間K2や第2液体LQ2(フッ素系オイル)の流れる流路の清浄度を維持することができる。 Oil, since the probability of bacterial growth, such as bacteria is low liquid, it is possible to maintain the cleanliness of the channel through the second space K2 and the second liquid LQ2 (fluorine-based oil).

また、第1、第2液体LQ1、LQ2の双方を水以外の液体にしてもよい。 The first, both the second liquid LQ1, LQ2 may be liquids other than water. 例えば、露光光ELの光源がF2レーザである場合、このF2レーザ光は水を透過しないので、第1、第2液体LQ1、LQ2としてはF2レーザ光を透過可能な例えば、過フッ化ポリエーテル(PFPE)やフッ素系オイル等のフッ素系流体であってもよい。 For example, if the light source of the exposure light EL is an F2 laser, the F2 laser beam is not transmitted through water, first, second liquid LQ1, for example which can transmit the F2 laser beam as LQ2, perfluorinated polyethers (PFPE) or may be a fluorine-based fluid such as fluorine-based oil. この場合、第1、第2液体LQ1、LQ2と接触する部分には、例えばフッ素を含む極性の小さい分子構造の物質で薄膜を形成することで親液化処理する。 In this case, first, the portion in contact with the second liquid LQ1, LQ2, lyophilic treatment by forming a thin film, for example having a molecular structure with small polarity including fluorine material. また、第1、第2液体LQ1、LQ2としては、その他にも、露光光ELに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系PLや基板P表面に塗布されているフォトレジストに対して安定なもの(例えばセダー油)を用いることも可能である。 The first, the second liquid LQ1, LQ2, Besides, if there is transparent to the exposure light EL high as possible refractive index, with respect to photo-resist coated on the projection optical system PL and the substrate P surface the use of stable ones Te (e.g. cedar oil) are also possible. この場合も表面処理は用いる第1、第2液体LQ1、LQ2の極性に応じて行われる。 In this case first the surface treatment is also used, it is performed depending on the polarity of the second liquid LQ1, LQ2.

なお、上述の実施形態において、投影光学系PLは、無屈折力の平行平面板である第1光学素子LS1を含めて所定の結像特性のなるように調整されているが、第1光学素子LS1が結像特性にまったく影響を及ばさない場合には第1光学素子LS1を除いて、投影光学系PLの結像特性が所定の結像特性となるように調整してもよい。 In the above embodiment, the projection optical system PL, including the first optical element LS1 is a parallel flat plate of no refractive power is adjusted to be a predetermined imaging properties, the first optical element LS1 is when not being inferior to no effect on the imaging properties with the exception of the first optical element LS1, the imaging characteristics of the projection optical system PL may be adjusted to a predetermined image formation characteristic.

また、上述の実施形態においては、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との両方が鏡筒PKに支持されているが、それぞれを別の支持部材で支持するようにしてもよい。 Further, in the above embodiment, both the first optical element LS1 and the second optical element LS2 is supported by the barrel PK, it may be supported each on a different supporting member.

また、上述の実施形態においては、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との両方が鏡筒PKにほぼ静止状態で支持されているが、第1光学素子LS1及び第2光学素子LS2の少なくとも一方の位置、姿勢を調整するために、微小移動可能に支持されていてもよい。 Further, in the above embodiment, both the first optical element LS1 and the second optical element LS2 is supported in substantially stationary state by the barrel PK, the first optical element LS1 and the second optical element LS2 at least one of the position, in order to adjust the attitude, may be small movably supported.

また、上述した実施形態においては、第1光学素子LS1は、その下面T1及び上面T2のそれぞれが平面であって、下面T1と上面T2とが互いに平行である無屈折力の平行平面板であるが、例えば第1光学素子LS1の上面T2は僅かに曲率を有していてもよい。 Further, in the embodiment described above, the first optical element LS1 is a respective plane of the lower surface T1 and the upper surface T2, is a plane parallel plate of no refractive power and the lower surface T1 and the upper surface T2 are in parallel to each other but for example, the upper surface T2 of the first optical element LS1 may have a slight curvature. すなわち、第1光学素子LS1はレンズ作用を有する光学素子であってもよい。 That is, the first optical element LS1 may be an optical element having a lens function. その場合において、第1光学素子LS1の上面T2の曲率は、第2光学素子LS2の上面T4及び下面T3の曲率よりも小さいことが好ましい。 In that case, the curvature of the upper surface T2 of the first optical element LS1 is preferably smaller than the curvature of the upper surface T4 and the lower surface T3 of the second optical element LS2.

なお、上述した実施形態において、第2液体LQ2の供給及び回収を行う第2液浸機構2は無くてもよい。 Incidentally, in the embodiment described above, the second liquid immersion mechanism 2 for supplying and recovering the second liquid LQ2 may be omitted. その場合、第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との間に第2液体LQ2を満たした状態で、第2空間K2の第2液体LQ2を交換することなく、露光が行われる。 In that case, in a state filled with the second liquid LQ2 between the first optical element LS1 and the second optical element LS2, without replacing the second liquid LQ2 in the second space K2, the exposure is performed. その場合において、露光光ELの照射により第2液浸領域LR2の第2液体LQ2の温度が変動する可能性があるので、第2液浸領域LR2の第2液体LQ2の温度を調整する温調装置を例えば第1光学素子LS1と第2光学素子LS2との間に設け、その温調装置を使った第2液体LQ2の温度を調整することができる。 In that case, by the irradiation of the exposure light EL the temperature of the second liquid LQ2 of the second liquid immersion area LR2 may fluctuate, temperature control for adjusting the temperature of the second liquid LQ2 of the second liquid immersion area LR2 the apparatus for example with the first optical element LS1 is provided between the second optical element LS2, you can adjust the temperature of the second liquid LQ2 using the temperature controller. また上述の各実施形態においては、主に、投影光学系PLと基板Pとが対向している場合について説明しているが、投影光学系PLと他の部材(基板ステージPSTの上面91など)が対向している場合にも、投影光学系PLと他の部材との間を第1液体LQ1で満たすことができる。 In each embodiment described above, mainly, it has described the case where the projection optical system PL and the substrate P are opposed, (such as the upper surface 91 of the substrate stage PST) projection optical system PL and the other member There even when opposed, it is possible to meet the space between the projection optical system PL and the other member with the first liquid LQ1. この場合、基板交換動作中など、投影光学系PLから基板ステージPSTが離れているときに、その他の部材を使って、投影光学系PLの像面側の空間を第1液体LQ1で満たし続けるようにしてもよい。 In this case, such as during substrate exchange operation, when the projection optical system PL is away substrate stages PST, with other members, to continue satisfying the space on the image plane side of the projection optical system PL with the first liquid LQ1 it may be.

上述したような液浸法においては、投影光学系の開口数NAが0.9〜1.3になることもある。 In the liquid immersion method as described above, the numerical aperture NA of the projection optical system is 0.9 to 1.3. このように投影光学系の開口数NAが大きくなる場合には、従来から露光光として用いられているランダム偏光光では偏光効果によって結像性能が悪化することもあるので、偏光照明を用いるのが望ましい。 Since the when the numerical aperture NA of the projection optical system becomes large, a random polarized light conventionally used as the exposure light sometimes the image formation performance is deteriorated due to the polarization effect, to use a polarized illumination desirable. その場合、マスク(レチクル)のライン・アンド・スペースパターンのラインパターンの長手方向に合わせた直線偏光照明を行い、マスク(レチクル)のパターンからは、S偏光成分(TE偏光成分)、すなわちラインパターンの長手方向に沿った偏光方向成分の回折光が多く射出されるようにするとよい。 In that case, it is appropriate that the linear polarized illumination, which is adjusted to the longitudinal direction of the line pattern of the line-and-space pattern of the mask (reticle), from the pattern of the mask (reticle), S-polarized light component (TE-polarized component), i.e. the line pattern may be as diffracted light of the polarization direction component along the longitudinal direction is many injection of. 投影光学系PLと基板P表面に塗布されたレジストとの間が液体で満たされている場合、投影光学系PLと基板P表面に塗布されたレジストとの間が空気(気体)で満たされている場合に比べて、コントラストの向上に寄与するS偏光成分(TE偏光成分)の回折光のレジスト表面での透過率が高くなるため、投影光学系の開口数NAが1.0を越えるような場合でも高い結像性能を得ることができる。 If between coated on the projection optical system PL and the substrate P surface resist it is filled with a liquid, between the resist coated on the projection optical system PL and the substrate P surface is filled with air (gas) as compared with the case where there, since the transmittance of the resist surface of the diffracted light that contributes S-polarized light component to improve the contrast (TE-polarized component) is high, the numerical aperture NA of the projection optical system that exceeds 1.0 it is possible to obtain high imaging performance even when. また、位相シフトマスクや特開平6−188169号公報に開示されているようなラインパターンの長手方向に合わせた斜入射照明法(特にダイポール照明法)等を適宜組み合わせると更に効果的である。 Moreover, it is further effective when combined oblique incidence illumination method, which is adjusted to the longitudinal direction of the line pattern as disclosed in JP-phase shift masks and JP 6-188169 (particularly dipole illumination method) or the like as appropriate. 特に、直線偏光照明法とダイポール照明法との組み合わせは、ライン・アンド・スペースパターンの周期方向が所定の一方向に限られている場合や、所定の一方向に沿ってホールパターンが密集している場合に有効である。 In particular, the combination of the linear polarized illumination method and the dipole illumination method, and if the periodic direction of the line-and-space pattern is limited to a predetermined direction, and densely hole patterns along a predetermined direction it is effective when you are. 例えば、透過率6%のハーフトーン型の位相シフトマスク(ハーフピッチ45nm程度のパターン)を、直線偏光照明法とダイポール照明法とを併用して照明する場合、照明系の瞳面においてダイポールを形成する二光束の外接円で規定される照明σを0.95、その瞳面における各光束の半径を0.125σ、投影光学系PLの開口数をNA=1.2とすると、ランダム偏光光を用いるよりも、焦点深度(DOF)を150nm程度増加させることができる。 For example, forming a transmittance of 6% halftone phase shift mask (pattern half pitch of about 45 nm), is illuminated by a combination of the linear polarized illumination method and the dipole illumination method, the dipole in the pupil plane of the illumination system to two-beam 0.95 illumination σ defined by a circumscribed circle of, 0.125Shiguma the radius of each light flux at the pupil plane, and the numerical aperture of the projection optical system PL is NA = 1.2, the random polarized light than used, it is possible to the the depth of focus (DOF) is increased about 150 nm.

また、例えばArFエキシマレーザを露光光とし、1/4程度の縮小倍率の投影光学系PLを使って、微細なライン・アンド・スペースパターン(例えば25〜50nm程度のライン・アンド・スペース)を基板P上に露光するような場合、マスクMの構造(例えばパターンの微細度やクロムの厚み)によっては、Wave guide効果によりマスクMが偏光板として作用し、コントラストを低下させるP偏光成分(TM偏光成分)の回折光よりS偏光成分(TE偏光成分)の回折光が多くマスクMから射出されるようになる。 Further, for example, ArF excimer laser as the exposure light, 1/4 about using the projection optical system PL having a reduction magnification, the substrate fine line-and-space pattern (e.g. 25~50nm line-and-space of about) If such is exposed on P, depending on the structure of the mask M (for example, the pattern fineness and the thickness of chromium), the mask M acts as a polarizing plate due to the Wave guide effect, P-polarized light component lowering the contrast (TM-polarized light and the diffracted light of the S polarized light component from the diffracted light component) (TE-polarized component) is radiated from the mask M. この場合、上述の直線偏光照明を用いることが望ましいが、ランダム偏光光でマスクMを照明しても、投影光学系PLの開口数NAが0.9〜1.3のように大きい場合でも高い解像性能を得ることができる。 In this case, it is preferable to use the linear polarized illumination as described above, even when the mask M is illuminated with random polarized light, high even when the numerical aperture NA of the projection optical system PL is large, for example 0.9 to 1.3 it is possible to obtain a resolution performance.

また、マスクM上の極微細なライン・アンド・スペースパターンを基板P上に露光するような場合、Wire Grid効果によりP偏光成分(TM偏光成分)がS偏光成分(TE偏光成分)よりも大きくなる可能性もあるが、例えばArFエキシマレーザを露光光とし、1/4程度の縮小倍率の投影光学系PLを使って、25nmより大きいライン・アンド・スペースパターンを基板P上に露光するような場合には、S偏光成分(TE偏光成分)の回折光がP偏光成分(TM偏光成分)の回折光よりも多くマスクMから射出されるので、投影光学系PLの開口数NAが0.9〜1.3のように大きい場合でも高い解像性能を得ることができる。 Further, when an extremely fine line-and-space pattern on the mask M such that the exposure on the substrate P, greater than P-polarized light components by Wire Grid effect (TM-polarized light component). The S-polarized light component (TE-polarized component) Although some potentially, for example, an ArF excimer laser as the exposure light, such as by using the projection optical system PL having a reduction magnification of about 1/4, to expose the 25nm line-and-space pattern larger than the substrate P in this case, since the diffracted light of the S-polarized component (TE-polarized component) is radiated from the mask M than the diffracted light of the P polarized light component (TM-polarized light component), the numerical aperture NA of the projection optical system PL is 0.9 it is possible to obtain the high resolution performance even when such large for 1.3.

更に、マスク(レチクル)のラインパターンの長手方向に合わせた直線偏光照明(S偏光照明)だけでなく、特開平6−53120号公報に開示されているように、光軸を中心とした円の接線(周)方向に直線偏光する偏光照明法と斜入射照明法との組み合わせも効果的である。 Further, the line pattern of the mask (reticle) aligned in the longitudinal direction linearly polarized light illumination (S polarized light illumination) as well, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-53120, of a circle centering on the optical axis the combination of a tangent (circumference) polarized illumination method that linearly polarizes in a direction oblique incidence illumination method is also effective. 特に、マスク(レチクル)のパターンが所定の一方向に延びるラインパターンだけでなく、複数の異なる方向に延びるラインパターンが混在(周期方向が異なるライン・アンド・スペースパターンが混在)する場合には、同じく特開平6−53120号公報に開示されているように、光軸を中心とした円の接線方向に直線偏光する偏光照明法と輪帯照明法とを併用することによって、投影光学系の開口数NAが大きい場合でも高い結像性能を得ることができる。 In particular, when the pattern of a mask (reticle) is not only the line pattern extending in one predetermined direction, line patterns extending in a plurality of different directions in a mixed (periodic direction is different line-and-space pattern mixed) is as also disclosed in Japanese Patent Laid-open No. 6-53120, in the tangential direction of a circle centering on the optical axis by a combination of a polarization illumination method and the zonal illumination method that linearly polarized, the opening of the projection optical system it is possible to obtain high imaging performance even when the number NA is large. 例えば、透過率6%のハーフトーン型の位相シフトマスク(ハーフピッチ63nm程度のパターン)を、光軸を中心とした円の接線方向に直線偏光する偏光照明法と輪帯照明法(輪帯比3/4)とを併用して照明する場合、照明σを0.95、投影光学系PLの開口数をNA=1.00とすると、ランダム偏光光を用いるよりも、焦点深度(DOF)を250nm程度増加させることができ、ハーフピッチ55nm程度のパターンで投影光学系の開口数NA=1.2では、焦点深度を100nm程度増加させることができる。 For example, the transmittance of 6% halftone phase shift mask (pattern half pitch of about 63 nm), polarized illumination method that linearly polarizes light in a direction tangential to a circle centered on the optical axis and the zonal illumination method (zonal ratio 3/4) is illuminated and in combination of the illumination sigma 0.95, and the numerical aperture of the projection optical system PL is NA = 1.00, than using random polarized light, depth of focus (DOF) can be increased by about 250 nm, the numerical aperture NA = 1.2 of the projection optical system by a half pitch 55nm approximately pattern, the depth of focus can be increased by about 100 nm.

なお、上記各実施形態の基板Pとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版(合成石英、シリコンウエハ)等が適用される。 Furthermore, the substrate P in each of the above embodiments, not only a semiconductor wafer for fabricating semiconductor devices but glass substrates for display devices, the original plate of a mask or reticle used in a ceramic wafer or an exposure apparatus, for a thin film magnetic head (synthetic quartz, silicon wafer) used by an exposure apparatus.

上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン(又は位相パターン・減光パターン)を形成した光透過型マスク(レチクル)を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第6,778,257号公報に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスクを用いても良い。 In the embodiment described above has a light transmitting type mask is used to form a predetermined light shielding pattern on a transparent substrate (or a phase pattern or a light attenuation pattern) (reticle), in place of the reticle, e.g., U.S. as disclosed in Japanese Patent No. 6,778,257, based on the electronic data of the pattern to be exposed, transmission pattern or reflection pattern, or may be an electron mask for forming a light-emitting pattern.

また、国際公開第2001/035168号パンフレットに開示されているように、干渉縞をウエハW上に形成することによって、ウエハW上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置(リソグラフィシステム)にも本発明を適用することができる。 Also, as disclosed in WO 2001/035168 pamphlet, the interference fringes by forming on the wafer W, an exposure apparatus that forms line-and-space patterns on a wafer W (lithography system) it is also possible to apply the present invention.

露光装置EXとしては、マスクMと基板Pとを同期移動してマスクMのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(スキャニングステッパ)の他に、マスクMと基板Pとを静止した状態でマスクMのパターンを一括露光し、基板Pを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)にも適用することができる。 As for the exposure apparatus EX, in the other scanning exposure apparatus by a step-and-scan method by synchronously moving the mask M and the substrate P to scan expose the pattern of the mask M (scanning stepper), and the mask M and the substrate P the pattern of the mask M collectively exposed, can also be applied to a projection exposure apparatus by a step-and-repeat system for moving sequentially steps the substrate P (stepper) while stationary.

また、露光装置EXとしては、第1パターンと基板Pとをほぼ静止した状態で第1パターンの縮小像を投影光学系(例えば1/8縮小倍率で反射素子を含まない屈折型投影光学系)を用いて基板P上に一括露光する方式の露光装置にも適用できる。 Further, As for the exposure apparatus EX, in the first pattern and the first pattern projection optical system a reduced image of the substrate P in a state where substantially stationary (e.g., 1/8 refractive type projection optical system including no catoptric element with a reduction magnification) It can also be applied to an exposure apparatus of a system that full-field exposure of the substrate P using. この場合、更にその後に、第2パターンと基板Pとをほぼ静止した状態で第2パターンの縮小像をその投影光学系を用いて、第1パターンと部分的に重ねて基板P上に一括露光するスティッチ方式の一括露光装置にも適用できる。 In this case, further subsequently, a reduced image of the second pattern in a state where the second pattern and the substrate P are substantially stationary with the projection optical system, the one-shot exposure in the first pattern partially superposes the substrate P It can also be applied to a stitching type full-field exposure apparatus that. また、スティッチ方式の露光装置としては、基板P上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Pを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。 Also, the stitching type exposure apparatus, and transferring at least two patterns are partially overlaid and the substrate P, it is also applicable to an exposure apparatus of step-and-stitch type and the substrate P is successively moved. また、基板Pを保持するステージとは別に測定用の部材やセンサを搭載した測定ステージを備えた露光装置にも本発明を適用することはできる。 Moreover, applying the present invention is also applicable to an exposure apparatus equipped with a measurement stage equipped with members and sensors for the measurement separately from the stage which holds the substrate P can. なお、測定ステージを備えた露光装置は、例えば欧州特許公開第1,041,357号公報に記載されている。 The exposure apparatus equipped with a measurement stage is disclosed, for example, European Patent Publication No. 1,041,357.

また、本発明は、特開平10−163099号公報、特開平10−214783号公報、特表2000−505958号公報などに開示されているツインステージ型の露光装置にも適用できる。 Further, the present invention, JP-A 10-163099, JP-A No. 10-214783, JP-can also be applied to a twin stage type exposure apparatus are disclosed in, JP-T-2000-505958.

また、上述の実施形態においては、投影光学系PLと基板Pとの間に局所的に液体を満たす露光装置を採用しているが、露光対象の基板の表面全体が液体で覆われる液浸露光装置にも本発明を適用可能である。 In the embodiment described above, locally adopts the exposure apparatus satisfying the liquid immersion exposure in which the entire surface of the substrate as the exposure objective is covered with the liquid between the projection optical system PL and the substrate P device can also be applied to the present invention. 露光対象の基板の表面全体が液体で覆われる液浸露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平6−124873号公報、特開平10−303114号公報、米国特許第5,825,043号などに詳細に記載されている。 The structure and the exposure operation of the liquid immersion exposure apparatus in which the entire surface of the substrate as the exposure objective is covered with the liquid, for example, JP-A 6-124873, JP-A No. 10-303114 and JP, US Patent No. 5,825,043 It is described in detail in.

露光装置EXの種類としては、基板Pに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。 The type of the exposure apparatus EX, the present invention is not limited to semiconductor device fabrication exposure apparatuses that expose a semiconductor element pattern onto a substrate P, an exposure apparatus and a liquid crystal display device for manufacturing or for display manufacturing, thin film magnetic heads, imaging devices (CCD ) or it can be widely applied to an exposure apparatus for manufacturing such as a reticle or mask.

基板ステージPSTやマスクステージMSTにリニアモータ(USP5,623,853またはUSP5,528,118参照)を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。 When the linear motor is used for the substrate stage PST or the mask stage MST (see USP5,623,853 or USP5,528,118), using either a magnetic levitation type that uses an air floating type Lorentz force or reactance force using air bearings it may be. また、各ステージPST、MSTは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。 Further, each of the stages PST, MST may be a type that moves along a guide or may be the guideless type in which no guide is provided.

各ステージPST、MSTの駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニットと、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージPST、MSTを駆動する平面モータを用いてもよい。 As each of the stages PST, MST driving mechanism, a magnet unit in which magnets are two-dimensional, each of the stages PST by an electromagnetic force is opposed to the armature unit in which to place the coils in a two-dimensional, MST is driven it may be used. この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージPST、MSTに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージPST、MSTの移動面側に設ければよい。 In this case, either one stage PST of the magnet unit and the armature unit is connected MST, and may be provided and the other of the magnet unit and the armature unit stage PST, the moving surface side of the MST.

基板ステージPSTの移動により発生する反力は、投影光学系PLに伝わらないように、特開平8−166475号公報(USP5,528,118)に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。 Generated by the movement of the substrate stage PST reaction force so as not transmitted to the projection optical system PL, as described in JP-A-8-166475 discloses (USP5,528,118), mechanically using a frame member it may be released to the floor (ground).

マスクステージMSTの移動により発生する反力は、投影光学系PLに伝わらないように、特開平8−330224号公報(US S/N 08/416,558)に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。 Reaction force generated by the movement of the mask stage MST, so as not transmitted to the projection optical system PL, as described in JP-A-8-330224 discloses (US S / N 08 / 416,558), using a frame member mechanically it may be released to the floor (ground) Te.

以上のように、本願実施形態の露光装置EXは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。 As described above, the exposure apparatus EX of the present embodiment is manufactured by assembling various subsystems, including each constituent element recited in the claims of the present application so that the predetermined mechanical accuracy, the optical accuracy , it is manufactured by assembling. これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。 To ensure these respective precisions, performed before and after the assembling include the adjustment for achieving the optical accuracy for various optical systems, an adjustment to achieve mechanical accuracy for various mechanical systems, the various electrical systems adjustment for achieving the electrical accuracy is performed. 各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。 The steps of assembling the various subsystems into the exposure apparatus includes various subsystems, the mechanical interconnection, electrical circuit wiring connections, and the piping connection of the air pressure circuit. この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。 Before the process of assembling the exposure apparatus from the various subsystems, there are also the processes of assembling each individual subsystem. 各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。 After completion of the assembling the various subsystems into the exposure apparatus, overall adjustment is performed and various kinds of accuracy as the entire exposure apparatus are secured. なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。 The manufacturing of the exposure apparatus is preferably performed in a clean room in which temperature and cleanliness are controlled.

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図16に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ202、デバイスの基材である基板を製造するステップ203、前述した実施形態の露光装置EXによりマスクのパターンを基板に露光する露光処理ステップ204、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)205、検査ステップ206等を経て製造される。 Microdevices such as semiconductor devices are manufactured, as shown in FIG. 16, a step 201 that performs microdevice function and performance design, a step 202 of manufacturing a mask (reticle) based on this design step, a base material for the device substrate a step 203 of producing the exposure process step 204 of exposing a pattern of a mask onto a substrate by the exposure apparatus EX of the embodiment described above, a device assembly step (dicing, bonding, including packaging step) 205, an inspection step 206, etc. It is produced through.

本発明の一実施形態の露光装置を示す概略構成図である。 It is a schematic block diagram showing an exposure apparatus of an embodiment of the present invention. ノズル部材近傍を示す概略斜視図である。 It is a schematic perspective view showing the nozzle member near. ノズル部材を下側から見た斜視図である。 It is a perspective view of the nozzle member from below. ノズル部材近傍を示す側断面図である。 It is a side sectional view showing a nozzle member near. 第2液浸機構を説明するための図である。 It is a diagram for explaining the second liquid immersion mechanism. 第1エレメントの第2面を示す平面図である。 It is a plan view showing a second surface of the first element. 第2液浸機構による第2液体の回収動作を説明するための図である。 It is a diagram for explaining the operation of recovering the second liquid by the second liquid immersion mechanism. 本発明に係る第1液浸機構の液体回収動作を説明するための模式図である。 It is a schematic diagram for explaining the liquid recovery operation of the first liquid immersion mechanism according to the present invention. 液体回収動作の比較例を示す模式図である。 It is a schematic diagram showing a comparative example of the liquid recovery operation. 第1エレメントの変形例を示す模式図である。 It is a schematic diagram showing a modification of the first element. ノズル部材の変形例を下側から見た斜視図である。 A modification of the nozzle member is a perspective view from the lower side. 本発明の別の実施形態を示す要部断面図である。 It is a fragmentary cross-sectional view showing another embodiment of the present invention. 本発明の別の実施形態を示す要部断面図である。 It is a fragmentary cross-sectional view showing another embodiment of the present invention. 本発明の別の実施形態を示す要部断面図である。 It is a fragmentary cross-sectional view showing another embodiment of the present invention. 本発明の別の実施形態における第1液体回収機構の回収動作を説明するための図である。 It is a diagram for explaining a recovery operation of the first liquid recovery mechanism in another embodiment of the present invention. 半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。 Is a flow chart showing an example of a manufacturing process of semiconductor devices.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1…第1液浸機構、2…第2液浸機構、10…第1液体供給機構、12…第1供給口、20…第1液体回収機構、22…第1回収口、25…多孔部材、26…斜面、30…第2液体供給機構、32…第2供給口、40…第2液体回収機構、42…第2回収口、71D、72D…底板部(板状部材)、74…開口部、75…ランド面(平坦部)、76…壁部、91…第1支持部、92…第2支持部、AR…投影領域、AR'…所定領域、AX…光軸、EL…露光光、EX…露光装置、HR1…第1領域、HR2…第2領域、LQ1…第1液体、LQ2…第2液体、LR1…第1液浸領域、LR2…第2液浸領域、LS1〜LS7…光学素子(エレメント)、LS1…第1光学素子(第1エレメント)、LS2…第2光学素子(第2エレメント)、 1 ... first liquid immersion mechanism, 2: second liquid immersion mechanism, 10 ... first liquid supply mechanism, 12 ... first supply port, 20 ... first liquid recovery mechanism, 22 ... first recovery port, 25 ... porous member , 26 ... inclined surface, 30 ... second liquid supply mechanism, 32 ... second supply port, 40: second liquid recovery mechanism, 42 ... second recovery port, 71D, 72D ... bottom plate portion (plate-shaped member), 74 ... opening parts, 75 ... land surface (flat portion), 76 ... wall portion, 91 ... first support portion, 92 ... second support section, AR ... projection area, AR '... predetermined area, AX ... optical axis, EL ... exposure light , EX ... exposure apparatus, HR1 ... first region, HR2 ... second region, LQ1 ... first liquid, LQ2 ... second liquid, LR1 ... first liquid immersion area, LR2 ... second liquid immersion area, LS1~LS7 ... optical element (element), LS1 ... first optical element (first element), LS2 ... second optical element (second element), P…基板、PK…鏡筒(支持部材)、PL…投影光学系、T1…下面(第1面)、T2…上面(第2面)、T3…下面 P ... substrate, PK ... barrel (support member), PL ... projection optical system, T1 ... lower surface (first surface), T2 ... top (second surface), T3 ... bottom surface

Claims (64)

  1. 複数のエレメントを含む投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、 By radiating an exposure light beam onto the substrate through a projection optical system and a liquid containing a plurality of elements, an exposure apparatus for exposing a substrate,
    前記投影光学系は、前記投影光学系の像面に最も近い第1エレメントと、前記第1エレメントに次いで前記像面に近い第2エレメントとを有し、 It said projection optical system has a closest first element to the image plane of the projection optical system, and a second element closer to the image surface next to the first element,
    前記第1エレメントは、前記基板の表面と対向するように配置され、前記露光光が通過する第1面と、第2エレメントと対向するように配置され、前記露光光が通過する第2面とを有し、 The first element is arranged so as to face the surface of said substrate, a first surface wherein the exposure light passes, is disposed so as to face the second element, and a second surface, wherein the exposure light passes have,
    前記第1エレメント及び前記第2エレメントは、前記投影光学系の光軸に対してほぼ静止状態で支持され、 It said first element and said second element is supported in a substantially stationary state with respect to the optical axis of the projection optical system,
    前記第1エレメントの第2面のうち前記露光光が通過する領域を含む一部の領域のみが液浸領域となるように、前記第1エレメントの第2面と前記第2エレメントとの間が液体で満たされ、 As only a part of the area is the immersion region including a region where the exposure light passes in the second surface of the first element, it is between the second surface and the second element of the first element is filled with liquid,
    前記第1エレメントの前記第1面側の第1液体と前記第2面側の第2液体とを介して前記基板上に前記露光光を照射して、前記基板を露光することを特徴とする露光装置。 Wherein by radiating an exposure light beam onto the first element of the first face side first liquid and the substrate via the second liquid in the second surface side of, characterized in that exposing the substrate exposure apparatus.
  2. 前記第1エレメントと前記第2エレメントとの間の液体は表面張力によって保持されることを特徴とする請求項1記載の露光装置。 The exposure apparatus according to claim 1, wherein the liquid is characterized in that it is held by surface tension between said first element and said second element.
  3. 前記第1エレメントと対向する前記第2エレメントの面の外径が、前記第1エレメントの第2面の外径よりも小さいことを特徴とする請求項1又は2記載の露光装置。 The outer diameter surface of said second element first to element and opposite, the exposure apparatus according to claim 1 or 2, wherein the smaller than the outer diameter of the second surface of the first element.
  4. 複数のエレメントを含む投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、 By radiating an exposure light beam onto the substrate through a projection optical system and a liquid containing a plurality of elements, an exposure apparatus for exposing a substrate,
    前記投影光学系は、前記投影光学系の像面に最も近い第1エレメントと、前記第1エレメントに次いで前記像面に近い第2エレメントとを有し、 It said projection optical system has a closest first element to the image plane of the projection optical system, and a second element closer to the image surface next to the first element,
    前記第1エレメントは、前記基板の表面と対向するように配置され、前記露光光が通過する第1面と、第2エレメントと対向するように配置され、前記露光光が通過する第2面とを有し、 The first element is arranged so as to face the surface of said substrate, a first surface wherein the exposure light passes, is disposed so as to face the second element, and a second surface, wherein the exposure light passes have,
    前記第1エレメントと対向する前記第2エレメントの面の外径が、前記第1エレメントの第2面の外径よりも小さく、 The outer diameter surface of the second element opposed to the first element is smaller than the outer diameter of the second surface of the first element,
    前記第1エレメント及び前記第2エレメントは、前記投影光学系の光軸に対してほぼ静止状態で支持され、 It said first element and said second element is supported in a substantially stationary state with respect to the optical axis of the projection optical system,
    前記第1エレメントの前記第1面側の第1液体と前記第2面側の第2液体とを介して前記基板上に前記露光光を照射して、前記基板を露光することを特徴とする露光装置。 Wherein by radiating an exposure light beam onto the first element of the first face side first liquid and the substrate via the second liquid in the second surface side of, characterized in that exposing the substrate exposure apparatus.
  5. 前記第1エレメントの前記第1面と前記第2面とは略平行であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載の露光装置。 Exposure apparatus according to any one of claims 1 to 4, characterized in that said the first surface and the second surface of the first element is substantially parallel.
  6. 前記投影光学系の光軸上における前記第1エレメントの前記第1面と前記第2面との距離は15mm以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項記載の露光装置。 The projection optical system exposure apparatus according to any one of claims 1 to 5 the distance between the first surface and the second surface of the first element on the optical axis is characterized in that at 15mm or more .
  7. 前記第1エレメントの第2面のうち前記液浸領域となる一部の領域を第1領域とし、その周囲の領域を第2領域として、 A part of the area to be the liquid immersion area of ​​the second surface of the first element is a first region, a region surrounding the second region,
    前記第1領域の表面の前記第2液体との親和性は、前記第2領域の表面の前記第2液体との親和性よりも高いことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項記載の露光装置。 The affinity between the second liquid in the first area surface of any one of claims 1 to 6, wherein the higher than the affinity between the second liquid surface of the second region the exposure apparatus according.
  8. 前記第2領域の表面は、前記第2液体に対して撥液性であることを特徴とする請求項7記載の露光装置。 The surface of the second region, the exposure apparatus according to claim 7, wherein the liquid-repellent with respect to the second liquid.
  9. 前記第1エレメントの第1面と前記基板との間を前記第1液体で満たすための第1液浸機構と、 A first liquid immersion mechanism for filling in the first liquid between the substrate and the first surface of the first element,
    前記第1エレメントと前記第2エレメントとの間を第2液体で満たすための第2液浸機構とを備えたことを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項記載の露光装置。 Exposure apparatus according to any one of claims 1 to 8, characterized in that the and a second liquid immersion mechanism for filling the second liquid between the second element and the first element.
  10. 前記第1液浸機構及び前記第2液浸機構のそれぞれは、液体の供給口と回収口とを有することを特徴とする請求項9記載の露光装置。 Wherein each of the first liquid immersion mechanism and the second liquid immersion mechanism, exposure apparatus according to claim 9, wherein the having a supply port and the recovery port of the liquid.
  11. 前記第1液体と前記第2液体とは同一の液体であることを特徴とする請求項9又は10記載の露光装置。 The exposure apparatus according to claim 9 or 10, wherein the said first liquid and said second liquid are the same liquid.
  12. 前記第2液浸機構は、前記第1エレメントの第2面に形成される液浸領域を囲むように配置された液体回収口を有することを特徴とする請求項9〜11のいずれか一項記載の露光装置。 The second liquid immersion mechanism, any one of claims 9 to 11, characterized in that it comprises a second surface liquid recovery port arranged so as to surround the liquid immersion area formed on the first element the exposure apparatus according.
  13. 前記第1液浸機構は、前記基板の表面と対向するように形成された斜面を有し、 Wherein the first liquid immersion mechanism has a formed slant so as to face the surface of said substrate,
    前記第1液浸機構の液体回収口が、前記斜面に形成されていることを特徴とする請求項9〜12のいずれか一項記載の露光装置。 The liquid recovery port of the first liquid immersion mechanism, exposure apparatus according to any one of claims 9-12, characterized in that it is formed on the inclined surface.
  14. 前記斜面は、前記露光光の光軸から離れるにつれて、前記基板の表面との間隔が大きくなるように形成されていることを特徴とする請求項13記載の露光装置。 Wherein the beveled surface, with increasing distance from the optical axis of the exposure light, the exposure apparatus according to claim 13, wherein the distance between the surface of the substrate is formed to be larger.
  15. 前記斜面は、前記露光光が照射される投影領域を囲むように形成され、 Wherein the beveled surface, the exposure light is formed to surround the projection area to be irradiated,
    前記第1液浸機構の液体回収口は、前記露光光が照射される投影領域を囲むように配置されていることを特徴とする請求項13又は14記載の露光装置。 The liquid recovery port of the first liquid immersion mechanism, exposure apparatus according to claim 13 or 14, wherein said exposing light is arranged to surround the projection area to be irradiated.
  16. 前記第1液浸機構の液体回収口には多孔部材が配置されていることを特徴とする請求項13〜15のいずれか一項記載の露光装置。 Exposure apparatus according to any one of claims 13 to 15, characterized in that it is arranged porous member to the liquid recovery port of the first liquid immersion mechanism.
  17. 前記第1液浸機構は、前記露光光が照射される投影領域と前記斜面との間に、前記基板の表面と略平行となるように、且つ前記斜面と連続的に形成された平坦部を有し、 Wherein the first liquid immersion mechanism, between the inclined surface and the projection region in which the exposure light is irradiated, so that the surface substantially parallel to the substrate, and a flat portion which is continuously formed with said inclined surface has,
    前記平坦部は、前記投影領域を囲むように形成されていることを特徴とする請求項13〜16のいずれか一項記載の露光装置。 The plateau exposure apparatus according to any one of claims 13 to 16, characterized in that it is formed so as to surround the projection area.
  18. 前記第1液浸機構の平坦部は、前記第1エレメントの第1面と前記基板との間に配置されることを特徴とする請求項17記載の露光装置。 The flat portion of the first liquid immersion mechanism, the exposure apparatus according to claim 17, characterized in that it is disposed between the first surface and the substrate of the first element.
  19. 前記第1液浸機構は、前記基板の表面と対向するように、且つ前記基板の表面と略平行となるように形成された平坦部を有し、 Wherein the first liquid immersion mechanism so as to face the surface of said substrate, and wherein has a flat portion which is formed so as the surface of the substrate and substantially parallel,
    前記平坦部は、前記第1エレメントの第1面と前記基板との間であって、前記露光光が照射される投影領域を囲むように配置されていることを特徴とする請求項9〜12のいずれか一項記載の露光装置。 The plateau claim 9 to 12 A between the first surface and the substrate of the first element, the exposure light, characterized in that it is arranged to surround the projection area to be irradiated exposure apparatus according to any one claim of.
  20. 前記第1液浸機構の液体回収口は、前記投影領域に対して前記平坦部の外側で、且つ前記平坦部を囲むように配置されていることを特徴とする請求項19記載の露光装置。 The liquid recovery port of the first liquid immersion mechanism, the projection outside the flat portion with respect to the region, and an exposure apparatus according to claim 19, wherein the said are arranged to surround the flat portion.
  21. 前記第1液浸機構の液体回収口は、前記露光光が照射される投影領域に対して前記平坦部の外側に配置されていることを特徴とする請求項17〜20のいずれか一項記載の露光装置。 The liquid recovery port of the first liquid immersion mechanism according to any one of claims 17-20, wherein said exposing light is disposed outside the flat portion with respect to the projection area to be irradiated of the exposure apparatus.
  22. 複数のエレメントを含む投影光学系と第1液体とを介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、 By radiating an exposure light beam onto the substrate through a projection optical system and a first liquid containing a plurality of elements, an exposure apparatus for exposing a substrate,
    前記第1液体を供給するための第1液浸機構を備え、 Comprising a first liquid immersion mechanism for supplying the first liquid,
    前記投影光学系は、前記投影光学系の像面に最も近い第1エレメントと、前記第1エレメントに次いで前記像面に近い第2エレメントとを有し、 It said projection optical system has a closest first element to the image plane of the projection optical system, and a second element closer to the image surface next to the first element,
    前記第1エレメントは、前記基板の表面と対向するように配置され、前記露光光が通過する第1面と、前記第2エレメントと対向するように配置され、前記第1面と略平行な第2面とを有し、 The first element is arranged so as to face the surface of said substrate, a first surface wherein the exposure light passes, is disposed so as to face the second element, the parallel substantially with said first surface and a second surface,
    前記第1エレメントの第2面の外径は、前記第1エレメントの前記第1面の外径より大きく、 The outer diameter of the second surface of the first element is larger than the outer diameter of the first surface of the first element,
    前記第1エレメントと前記基板との間の第1液体を介して前記基板上に前記露光光を照射して、前記基板を露光することを特徴とする露光装置。 Exposure apparatus via the first liquid by irradiating the exposure light onto the substrate, characterized by exposing the substrate between the substrate and the first element.
  23. 前記第1エレメントと前記第2エレメントとの間が第2液体で満たされており、 Between the first element second element is filled with the second liquid,
    前記第1液体と前記第2液体とを介して前記基板上に前記露光光を照射して、前記基板を露光することを特徴とする請求項22記載の露光装置。 Wherein the first and liquid above by radiating an exposure light beam onto the second on the substrate through a liquid, the exposure apparatus according to claim 22, wherein the exposing the substrate.
  24. 前記第2エレメントの前記第1エレメントの第2面と対向する面の外径が、前記第1エレメントの第2面の外径より小さいことを特徴とする請求項22又は23記載の露光装置。 The outer diameter of the second surface opposite to the surface of the first element of the second element, exposure apparatus according to claim 22 or 23, wherein the smaller than the outer diameter of the second surface of the first element.
  25. 前記第1エレメントと前記第2エレメントとの間を第2液体で満たすための第2液浸機構を更に備えたことを特徴とする請求項22〜24のいずれか一項記載の露光装置。 Exposure apparatus according to any one of claims 22 to 24, wherein the second further be provided with an immersion mechanism for filling the space between the first element and the second element with the second liquid.
  26. 前記第2液体は前記第1液体と同一であることを特徴とする請求項25記載の露光装置。 The exposure apparatus according to claim 25, wherein the second liquid is the same as the first liquid.
  27. 前記第2液浸機構は、前記第2液体を供給するための供給口と、前記第2液体を回収するための回収口とを有することを特徴とする請求項25又は26記載の露光装置。 The second liquid immersion mechanism, wherein a supply port for second supplying liquid, the exposure apparatus according to claim 25 or 26, wherein further comprising a recovery port for recovering the second liquid.
  28. 前記第2液浸機構は、前記第1エレメントの第2面のうちの一部の領域のみに液浸領域を形成することを特徴とする請求項25〜27のいずれか一項記載の露光装置。 The second liquid immersion mechanism, exposure apparatus according to any one of claims 25 to 27, characterized by forming only the immersion area part of the area of ​​the second surface of the first element .
  29. 前記第1エレメントの第2面の外径は、前記第1エレメントの前記第1面の外径の2倍以上である請求項22〜28のいずれか一項記載の露光装置。 The outer diameter of the second surface of the first element, the exposure apparatus according to any one claim of the at least twice a claim of the outer diameter of the first surface of the first element 22-28.
  30. 前記投影光学系の光軸上における前記第1エレメントの前記第1面と前記第2面との距離は15mm以上であることを特徴とする請求項22〜29のいずれか一項記載の露光装置。 Exposure apparatus according to any one of claims 22-29, wherein a distance between the first surface and the second surface of the first element on the optical axis of the projection optical system is 15mm or more .
  31. 複数のエレメントを含む投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、 By radiating an exposure light beam onto the substrate through a projection optical system and a liquid containing a plurality of elements, an exposure apparatus for exposing a substrate,
    第1液体を基板上にもたらす第1液浸機構を備え、 Comprising a first liquid immersion mechanism that provides a first liquid onto the substrate,
    前記投影光学系は、前記投影光学系の像面に最も近い第1エレメントと、前記第1エレメントに次いで前記像面に近い第2エレメントとを有し、 It said projection optical system has a closest first element to the image plane of the projection optical system, and a second element closer to the image surface next to the first element,
    前記第1エレメントは、第1面が前記基板の表面と対向するように、且つ第2面が前記第2エレメントと対向するように配置され、 It said first element, so that the first surface is opposed to the surface of the substrate, is arranged and such that the second surface is opposed to the second element,
    前記投影光学系の光軸上における前記第1エレメントの前記第1面と前記第2面との距離は15mm以上であり、 The distance between the first surface and the second surface of the first element on the optical axis of the projection optical system is at 15mm or more,
    前記第1エレメントの前記第1面側の第1液体と前記第2面側の第2液体とを介して前記基板上に前記露光光を照射して、前記基板を露光することを特徴とする露光装置。 Wherein by radiating an exposure light beam onto the first element of the first face side first liquid and the substrate via the second liquid in the second surface side of, characterized in that exposing the substrate exposure apparatus.
  32. 前記第1面と前記第2面とは略平行であることを特徴とする請求項31記載の露光装置。 The exposure apparatus according to claim 31, wherein it is the first surface and the second surface are substantially parallel.
  33. 前記第1液浸機構は、前記基板の表面と対向するように形成された斜面を有し、 Wherein the first liquid immersion mechanism has a formed slant so as to face the surface of said substrate,
    前記第1液浸機構の液体回収口が、前記斜面に形成されていることを特徴とする請求項22〜32のいずれか一項記載の露光装置。 The liquid recovery port of the first liquid immersion mechanism, exposure apparatus according to any one of claims 22 to 32, characterized in that it is formed on the inclined surface.
  34. 前記斜面は、前記露光光の光軸から離れるにつれて、前記基板の表面との間隔が大きくなるように形成されていることを特徴とする請求項33記載の露光装置。 Wherein the beveled surface, with increasing distance from the optical axis of the exposure light, the exposure apparatus according to claim 33, wherein the distance between the surface of the substrate is formed to be larger.
  35. 前記第1液浸機構の液体回収口には多孔部材が配置されていることを特徴とする請求項33又は34記載の露光装置。 The exposure apparatus according to claim 33 or 34, wherein the porous member is arranged in the liquid recovery port of the first liquid immersion mechanism.
  36. 前記斜面は、前記露光光が照射される投影領域を囲むように形成されていることを特徴とする請求項33〜35のいずれか一項記載の露光装置。 Wherein the beveled surface, the exposure apparatus according to any one of claims 33-35, wherein the exposure light is formed to surround the projection area to be irradiated.
  37. 前記第1液浸機構は、前記露光光が照射される投影領域と前記斜面との間に、前記基板の表面と略平行となるように、且つ前記斜面と連続的に形成された平坦部を有し、 Wherein the first liquid immersion mechanism, between the inclined surface and the projection region in which the exposure light is irradiated, so that the surface substantially parallel to the substrate, and a flat portion which is continuously formed with said inclined surface has,
    前記平坦部は、前記投影領域を囲むように形成されていることを特徴とする請求項36記載の露光装置。 The plateau exposure apparatus according to claim 36, wherein the formed so as to surround the projection area.
  38. 前記第1液浸機構は、前記基板の表面と対向するように、且つ前記基板の表面と略平行となるように形成された平坦部を有し、 Wherein the first liquid immersion mechanism so as to face the surface of said substrate, and wherein has a flat portion which is formed so as the surface of the substrate and substantially parallel,
    前記平坦部は、前記露光光が照射される投影領域を囲むように配置されていることを特徴とする請求項22〜32のいずれか一項記載の露光装置。 The plateau exposure apparatus according to any one of claims 22 to 32, wherein said exposing light is arranged to surround the projection area to be irradiated.
  39. 前記第1液浸機構の平坦部は、前記第1エレメントの第1面と前記基板との間で前記基板の表面と対向するように配置されていることを特徴とする請求項37又は38記載の露光装置。 The flat portion of the first liquid immersion mechanism according to claim 37 or 38, wherein that are disposed so as to face the surface of the substrate between the first surface and the substrate of the first element of the exposure apparatus.
  40. 前記第1液浸機構の液体供給口は、前記露光光が照射される投影領域に対して前記平坦部の外側に配置されていることを特徴とする請求項37〜39のいずれか一項記載の露光装置。 The liquid supply port of the first liquid immersion mechanism according to any one of claims 37-39, wherein said exposing light is disposed outside the flat portion with respect to the projection area to be irradiated of the exposure apparatus.
  41. 前記第1液浸機構は、第1エレメントと基板との間に配置され、露光光が通過するための開口が形成されたプレートを有し、 Wherein the first liquid immersion mechanism is arranged between the first element and the substrate has a plate having an opening formed for exposure light passes,
    前記平坦部が、その開口の周囲に形成されている請求項37〜40のいずれか一項記載の露光装置。 The flat portion is, the exposure apparatus according to any one of claims 37 to 40 which is formed around the opening.
  42. 前記第1液浸機構の液体回収口は、前記露光光が照射される投影領域を囲むように配置されることを特徴とする請求項22〜41のいずれか一項記載の露光装置。 The liquid recovery port of the first liquid immersion mechanism, exposure apparatus according to any one of claims 22 to 41, wherein said exposing light is arranged to surround the projection area to be irradiated.
  43. 前記投影領域を囲むように形成された前記第1液浸機構の液体回収口の外径が、前記第1エレメントの第2面の外径よりも小さいことを特徴とする請求項42記載の露光装置。 The outer diameter of the liquid recovery port of the formed so as to surround the projection area of ​​the first liquid immersion mechanism, exposure of claim 42, wherein a is smaller than the outer diameter of the second surface of the first element apparatus.
  44. 前記第1液浸機構の液体回収口は、前記第1エレメントと前記基板との間で前記基板の表面と対向するように、前記第1エレメントの第1面の周囲に配置されていることを特徴とする請求項42又は43記載の露光装置。 The liquid recovery port of the first liquid immersion mechanism so as to face the surface of the substrate between the first element and the substrate, that is disposed around the first surface of the first element the exposure apparatus according to claim 42 or 43 wherein.
  45. 前記第1エレメントは、前記第1面の周囲に形成された第3面を有し、 The first element has a third surface which is formed around the first surface,
    前記第1エレメントの第1面と第2面との距離が、前記第1エレメントの第2面と第3面との距離よりも長いことを特徴とする請求項22〜44のいずれか一項記載の露光装置。 The distance between the first surface and the second surface of the first element is any one of claims 22 to 44, wherein longer than the distance between the second and third surfaces of said first element the exposure apparatus according.
  46. 前記第1エレメントと対向する前記第2エレメントの面が、前記第1エレメントの第2面よりも小さいことを特徴とする請求項22〜45のいずれか一項記載の露光装置。 The surface of the second element first to element and opposite, the exposure apparatus according to any one of claims 22 to 45, characterized in that less than the second surface of the first element.
  47. 前記投影光学系の光軸上において、第1エレメントの第1面と第2面との距離が、第1エレメントの第1面と基板との距離よりも大きい請求項22〜46のいずれか一項記載の露光装置。 On the optical axis of the projection optical system, the distance between the first surface and the second surface of the first element, either the first surface and the claims from 22 to 46 greater than the distance between the substrate of the first element one exposure apparatus claim, wherein.
  48. 第1液体を介して基板上に露光光を照射して基板を露光する露光装置であって、 An exposure apparatus which exposes a substrate by radiating an exposure light beam onto the substrate through the first liquid,
    第1液体を基板上にもたらす第1液浸機構と、 A first liquid immersion mechanism that provides a first liquid onto the substrate,
    像面に最も近い第1エレメントと、第1エレメントに次いで像面に近い第2エレメントとを含む複数のエレメントを有する投影光学系とを備え、 With a closest first element in the image plane, and a projection optical system having a plurality of elements and a second element near the image surface next to the first element,
    第1エレメントは、基板の表面と対向するように配置され、露光光が通過する第1面と、第2エレメントと対向するように配置され、露光光が通過する第2面とを有し、 The first element is arranged so as to face the surface of the substrate, a first surface through which the exposure light passes, is disposed so as to face the second element, and a second surface through which the exposure light passes,
    前記投影光学系の光軸上における前記第1エレメントの前記第1面と前記第2面との距離は、前記投影光学系の光軸上における前記第1エレメントの第1面と基板の表面との距離よりも大きく、 The distance between the first surface and the second surface of the first element on the optical axis of said projection optical system includes a first surface and the surface of the substrate of the first element on the optical axis of the projection optical system greater than the distance,
    第1エレメントの第1面と基板との間の第1液体と、第1エレメントの第2面と第2エレメントとの間の第2液体とを介して基板上に露光光が照射されて、基板が露光される露光装置。 A first liquid between the first surface and the substrate of the first element, the exposure light onto the substrate via the second liquid between the second surface and the second element of the first element is irradiated, an exposure device in which the substrate is exposed.
  49. 前記第1液浸機構は、前記基板の表面と対向するように、且つ前記基板の表面と略平行となるように形成された平坦部を有し、 Wherein the first liquid immersion mechanism so as to face the surface of said substrate, and wherein has a flat portion which is formed so as the surface of the substrate and substantially parallel,
    前記平坦部が、前記第1エレメントの第1面と前記基板との間で、前記露光光の光路を囲むように配置されている請求項48記載の露光装置。 Said flat portion, the first surface and between the substrate, the exposure light exposure apparatus according to claim 48 wherein is disposed so as to surround the optical path of said first element.
  50. 前記第1液浸機構は、第1エレメントと基板との間に配置され、露光光が通過するための開口が形成されたプレートを有し、 Wherein the first liquid immersion mechanism is arranged between the first element and the substrate has a plate having an opening formed for exposure light passes,
    前記平坦部が、その開口の周囲に形成されている請求項49記載の露光装置。 The flat portion is, the exposure apparatus according to claim 49, characterized in that formed around the opening.
  51. 前記第1液浸機構とは独立に、前記第1エレメントと前記第2エレメントとの間に第2液体をもたらす第2液浸機構を備える請求項48〜50のいずれか一項記載の露光装置。 Independently from the first liquid immersion mechanism, exposure apparatus according to any one of claims 48 to 50 comprising a second liquid immersion mechanism that provides a second liquid between the second element and the first element .
  52. 第1液体を介して基板上に露光光を照射して基板を露光する露光装置であって、 An exposure apparatus which exposes a substrate by radiating an exposure light beam onto the substrate through the first liquid,
    像面に最も近い第1エレメントと、第1エレメントに次いで像面に近い第2エレメントとを含む複数のエレメントを有する投影光学系と、 A closest first element to the image plane, a projection optical system having a plurality of elements and a second element near the image surface next to the first element,
    第1エレメントと基板との間に第1液体をもたらす第1液浸機構と、 A first liquid immersion mechanism that provides a first liquid between the first element and the substrate,
    第1液浸機構とは独立して、第1エレメント第2エレメントとの間に第2液体をもたらす第2液浸機構とを備え、 The first liquid immersion mechanism independently, and a second liquid immersion mechanism that provides a second liquid between the first element second element,
    第1エレメントは、基板の表面と対向するように配置され、露光光が通過する第1面と、第2エレメントと対向するように配置され、露光光が通過する第2面とを有し、 The first element is arranged so as to face the surface of the substrate, a first surface through which the exposure light passes, is disposed so as to face the second element, and a second surface through which the exposure light passes,
    第1液浸機構は、基板の表面と対向するように配置された液体接触面を有し、その液体接触面は、第1エレメントの第1面と基板との間で露光光の光路を囲むように配置され、 The first liquid immersion mechanism has an arrangement liquid contact surfaces so as to face the surface of the substrate, the liquid contact surface that surrounds the optical path of the exposure light between the first surface and the substrate of the first element is arranged to,
    第1エレメントの第1面と基板との間の第1液体と、第1エレメントの第2面と第2エレメントとの間の第2液体とを介して基板上に露光光が照射されて、基板が露光される露光装置。 A first liquid between the first surface and the substrate of the first element, the exposure light onto the substrate via the second liquid between the second surface and the second element of the first element is irradiated, an exposure device in which the substrate is exposed.
  53. 前記第1液浸機構は、第1エレメントと基板との間に配置され、露光光が通過するための開口が形成されたプレートを有し、 Wherein the first liquid immersion mechanism is arranged between the first element and the substrate has a plate having an opening formed for exposure light passes,
    前記液体接触面が、その開口の周囲に形成されている請求項52記載の露光装置。 Wherein the liquid contact surface, the exposure apparatus of claim 52, which is formed around the opening.
  54. 前記第1液浸機構は、前記第1エレメントと前記基板との間の空間近傍に、第1液体を供給するための供給口と、前記基板の上方から第1液体を回収する回収口とを有し、 Wherein the first liquid immersion mechanism, the spatial neighborhood between the first element and the substrate, a supply port for supplying the first liquid and a recovery port for recovering the first liquid from above the substrate has,
    前記第2液浸機構は、前記第1エレメントと前記第2エレメントとの間の空間近傍に、第2液体を供給するための供給口を有する請求項51〜53のいずれか一項記載の露光装置。 The second liquid immersion mechanism, wherein the spatial neighborhood between the first element and the second element, the exposure of any one of claims 51 to 53 having a supply port for supplying the second liquid apparatus.
  55. 前記第1エレメントと対向する前記第2エレメントの面が、前記第1エレメントの第2面よりも小さい請求項48〜54のいずれか一項記載の露光装置。 The surface of the second element first to element and opposite, the exposure apparatus according to any one of claims 48 to 54 smaller than the second surface of the first element.
  56. 第1エレメントと第2エレメントとの間の空間と、第1エレメントと基板との間の空間との間で液体の行き来が阻止されている請求項1〜55のいずれか一項記載の露光装置。 And the space between the first element and the second element, exposure apparatus according to any one of claims 1-55 which traverse the liquid is blocked between the space between the first element and the substrate .
  57. 前記第1エレメントと前記第2エレメントとが、同一の支持部材で支持されていることを特徴とする請求項1〜56のいずれか一項記載の露光装置。 The first element and the second element is the same exposure apparatus according to any one of claims 1 to 56, characterized in that it is supported by the supporting member.
  58. 前記第1エレメントは無屈折力であることを特徴とする請求項1〜57のいずれか一項記載の露光装置。 Exposure apparatus according to any one of claims 1-57 wherein the first element, which is a no refractive power.
  59. 請求項1〜請求項58のいずれか一項記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。 Device manufacturing method comprising using the exposure apparatus according to any one of claims 1 to claim 58.
  60. 像面に最も近い第1エレメントと第1エレメントに次いで像面に近い第2エレメントとを含む投影光学系及び液体を介して基板上に露光光を照射して基板を露光する露光方法であって、 An exposure method for exposing a substrate by radiating an exposure light beam onto the substrate via the projection optical system and liquid and a second element near the image plane next to closest first element and the first element in the image plane ,
    第1エレメントの基板と対向する第1面は、第1エレメントの第2エレメントと対向する第2面よりも小さく、 First surface facing the substrate of the first element is smaller than the second surface facing the second element of the first element,
    第2エレメントの第1エレメントと対向する面は、第1エレメントの第2面よりも小さく、 The first element and the facing surfaces of the second element is smaller than the second face of the first element,
    第1エレメントの第1面と基板との間に第1液体をもたらし、 Led to the first liquid between the first surface and the substrate of the first element,
    第1エレメントと第2エレメントとの間に第2液体をもたらし、 Bring a second liquid between the first element and the second element,
    第1液体と第2液体とを介して基板上に露光光を照射して基板を露光することを含む露光方法。 The exposure method comprising exposing a substrate by radiating an exposure light beam onto the substrate through a first liquid and a second liquid.
  61. さらに、基板の露光中に、第1液体を第1エレメントの第1面と基板との間で供給及び回収することを含む請求項60記載の露光方法。 Further, during the exposure of the substrate, the exposure method of claim 60 including providing and recovering the first liquid between the first surface and the substrate of the first element.
  62. 基板の露光中に、第1エレメントと第2エレメントとの間の空間への第2液体の供給を停止することを含む請求項61記載の露光方法。 During exposure of the substrate, the exposure method of claim 61 further comprising stopping the second supply liquid to the space between the first element and the second element.
  63. 基板の露光中に、第1エレメントと第2エレメントとの間の空間からの第2液体の回収を停止することを含む請求項61又は62記載の露光方法。 During exposure of the substrate, the exposure method according to claim 61 or 62, wherein including stopping the second collection of liquid from the space between the first element and the second element.
  64. 請求項60〜63のいずれか一項記載の露光方法で基板を露光することを含むデバイス製造方法。 Device manufacturing method comprising exposing a substrate in any one claim of exposure method according to claim 60-63.
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