JP2006012552A - Manufacturing method of organic photoelectric conversion element - Google Patents

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Hiroshi Kishimoto
比呂志 岸本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an organic photoelectric conversion element like an organic EL element having good photoelectric conversion characteristics while preventing lowering of dispersion stability of photocatalyst containing painting liquid caused by a photoelectric conversion property improving material. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the organic photoelectric conversion element comprises a photocatalyst-containing layer forming process forming the photocatalyst-containing layer on a substrate in which a first electrode is formed; a doping process doping the photoelectric conversion property improving material in the photocatalyst-containing layer; and an organic photoelectric conversion layer forming process forming the organic photoelectric conversion layer on the photocatalyst-containing layer. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセント素子および有機薄膜太陽電池等の有機光電変換素子の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing an organic photoelectric conversion element such as an organic electroluminescent element and an organic thin film solar cell.

有機エレクトロルミネッセント(以下、ELと略すことがある。)素子は自発光の面状表示素子としての使用が注目されている。その中でも、有機物質を発光材料として用いた有機ELディスプレイは、印加電圧が10V弱であっても高輝度な発光が実現するなど発光効率が高く、単純な素子構造で発光が可能で、特定のパターンを発光表示させる広告その他低価格の簡易表示用ディスプレイへの応用が期待されている。   Organic electroluminescent (hereinafter abbreviated as EL) elements are attracting attention as self-luminous planar display elements. Among them, an organic EL display using an organic substance as a light emitting material has high luminous efficiency such as high luminance light emission even when an applied voltage is less than 10 V, and can emit light with a simple element structure. It is expected to be applied to advertisements for displaying patterns in light emission and other simple displays for low cost.

しかしながら、有機EL素子を用いたディスプレイを実際に製造するにあたっては、電極や有機EL層のパターニングが必要であって、典型的にはフォトリソ工程や複雑なパターン成膜装置によるパターニング工程を要し、工程の複雑化やコストの上昇を招く。また、有機EL材料をマスク蒸着によりパターニングする方法では、高価格の真空装置が必要となり、歩留まりやコストが問題となる。一方、インクジェット法によりパターン形成する方法は、工程は比較的簡便ではあるが、歩留まりや膜厚均一性の点で問題がある。さらに、広告用EL素子等多様な形状や大面積化が要求される場合には、生産性が著しく低下する問題がある。   However, when actually manufacturing a display using an organic EL element, patterning of an electrode and an organic EL layer is necessary, and typically requires a photolithography process and a patterning process by a complicated pattern film forming apparatus, This leads to process complexity and cost increase. In addition, in the method of patterning the organic EL material by mask vapor deposition, a high-priced vacuum device is required, and yield and cost are problematic. On the other hand, the method of forming a pattern by the ink jet method has a problem in terms of yield and film thickness uniformity although the process is relatively simple. Further, when various shapes such as EL elements for advertisement and an increase in area are required, there is a problem that productivity is significantly reduced.

このように、EL素子、特に有機ELディスプレイの製造においては、電極、有機EL層および絶縁層等のパターニングを行うために、工程数が非常に多くなり、歩留まり、生産性およびコストの面で大きな課題を抱えている。   As described above, in the manufacture of EL elements, particularly organic EL displays, the number of processes is very large in order to perform patterning of electrodes, organic EL layers, insulating layers and the like, which is large in terms of yield, productivity, and cost. I have a problem.

このような課題を解決するために、特許文献1には、EL素子の製造工程において光触媒含有層を用い、この光触媒含有層にパターン露光することにより、濡れ性の変化した濡れ性変化パターンを形成し、この濡れ性変化パターンを利用してEL層をパターニングすることで、より簡便に精度良く微細なEL層をパターニングできる方法が提案されている。しかしながら、上記光触媒含有層は抵抗率が低いために、EL素子に含まれると、発光特性(電流-電圧特性や発光輝度-電圧特性)が低下してしまうという問題がある。   In order to solve such problems, Patent Document 1 uses a photocatalyst-containing layer in the EL element manufacturing process, and forms a wettability change pattern with changed wettability by pattern exposure on the photocatalyst-containing layer. However, a method has been proposed in which a fine EL layer can be patterned more easily and accurately by patterning the EL layer using this wettability change pattern. However, since the photocatalyst-containing layer has a low resistivity, there is a problem that when it is included in an EL element, the light emission characteristics (current-voltage characteristics and light emission luminance-voltage characteristics) are deteriorated.

そこで、特許文献2には、上記光触媒含有層にFeやCuの金属塩等を含む光電変換特性向上物質を添加することにより、EL素子の発光特性を向上させる方法が提案されている。この方法は、光電変換特性向上物質が添加された光触媒含有層形成用塗工液をITO電極付基板上に塗布することにより、光電変換特性向上物質を含む光触媒含有層を形成し、この光触媒含有層上にEL層を形成するものである。しかしながら、上記光触媒含有層形成用塗工液は、細かいTiO等の光触媒が溶媒に高度に分散されたものであり、上述のFeやCuの金属塩等を添加すると、光触媒含有層形成用塗工液の分散安定性が崩れ、TiO粒子が凝集し、光触媒含有層形成用塗工液が白濁する場合がある。このような分散安定性が崩れて白濁した光触媒含有層形成用塗工液を用いて光触媒含有層を形成し、その上に有機EL層を形成した場合は、光電変換特性向上物質が添加されているにもかかわらず、有機EL素子の特性(電流-電圧特性、発光輝度-電圧特性、寿命等)が低下してしまうという問題がある。 Therefore, Patent Document 2 proposes a method for improving the light emission characteristics of an EL element by adding a photoelectric conversion characteristic improving substance containing a metal salt of Fe or Cu to the photocatalyst containing layer. In this method, a photocatalyst-containing layer-forming coating liquid to which a photoelectric conversion property-improving substance is added is applied on a substrate with an ITO electrode to form a photocatalyst-containing layer containing a photoelectric conversion characteristic-improving substance, and this photocatalyst-containing layer is formed. An EL layer is formed on the layer. However, the photocatalyst-containing layer forming coating solution is a solution in which a fine photocatalyst such as TiO 2 is highly dispersed in a solvent. When the above-described Fe or Cu metal salts are added, the photocatalyst-containing layer forming coating solution is used. In some cases, the dispersion stability of the working liquid is lost, the TiO 2 particles are aggregated, and the photocatalyst-containing layer forming coating liquid becomes cloudy. When the photocatalyst-containing layer is formed using the coating solution for forming the photocatalyst-containing layer that has become dispersible due to such dispersion stability, and the organic EL layer is formed thereon, the photoelectric conversion property improving substance is added. Nevertheless, there is a problem that the characteristics (current-voltage characteristics, light emission luminance-voltage characteristics, lifetime, etc.) of the organic EL element are deteriorated.

特開2001−257073号公報JP 2001-257073 A 特開2002−15867号公報JP 2002-15867 A

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、光電変換特性向上物質による光触媒含有層形成用塗工液の分散安定性の低下を防ぎ、光電変換特性の良好な有機EL素子等の有機光電変換素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above problems, and prevents a decrease in the dispersion stability of the photocatalyst-containing layer-forming coating liquid due to the photoelectric conversion property improving substance, such as an organic EL device having good photoelectric conversion properties, etc. The main object is to provide a method for producing an organic photoelectric conversion element.

本発明者は、上記実情に鑑み鋭意検討した結果、光触媒含有層形成用塗工液に光電変換特性向上物質を添加するのではなく、まず光電変換特性向上物質が添加されていない光触媒含有層形成用塗工液を用いて光触媒含有層を形成し、この光触媒含有層に光電変換特性向上物質をドープし、その後に有機光電変換層を形成することで、光触媒含有層形成用塗工液中でのTiO等の光触媒材料の凝集を防ぎ、高性能な有機光電変換素子を作製できることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies in view of the above circumstances, the present inventor does not add a photoelectric conversion property improving substance to the photocatalyst containing layer forming coating solution, but first forms a photocatalyst containing layer to which no photoelectric conversion property improving substance is added. In the photocatalyst-containing layer forming coating liquid, a photocatalyst-containing layer is formed using a coating liquid for the photocatalyst, and the photocatalyst-containing layer is doped with a photoelectric conversion property improving substance, and then an organic photoelectric conversion layer is formed. It was found that a photocatalytic material such as TiO 2 could be prevented from agglomerating and a high-performance organic photoelectric conversion device could be produced, and the present invention was completed.

すなわち、本発明においては、基体と、上記基体上に形成された第1電極と、上記第1電極上に形成され、光触媒および光電変換特性向上物質を含有する光触媒含有層と、上記光触媒含有層上に形成された有機光電変換層と、上記有機光電変換層上に形成された第2電極とを有する有機光電変換素子の製造方法であって、
第1電極が形成された基体上に光触媒含有層を形成する光触媒含有層形成工程と、上記光触媒含有層に光電変換特性向上物質をドープするドーピング工程と、上記光電変換特性向上物質がドープされた上記光触媒含有層上に有機光電変換層形成用塗工液を塗布し、有機光電変換層を形成する有機光電変換層形成工程とを有することを特徴とする有機光電変換素子の製造方法を提供する。
That is, in the present invention, a base, a first electrode formed on the base, a photocatalyst containing layer formed on the first electrode and containing a photocatalyst and a photoelectric conversion property improving substance, and the photocatalyst containing layer An organic photoelectric conversion device having an organic photoelectric conversion layer formed thereon and a second electrode formed on the organic photoelectric conversion layer,
A photocatalyst-containing layer forming step for forming a photocatalyst-containing layer on the substrate on which the first electrode is formed, a doping step for doping the photocatalyst-containing layer with a photoelectric conversion property improving substance, and the photoelectric conversion property improving substance are doped An organic photoelectric conversion layer forming step of applying an organic photoelectric conversion layer forming coating solution on the photocatalyst-containing layer and forming an organic photoelectric conversion layer is provided. .

本発明においては、光触媒含有層形成工程後に、光触媒含有層に光電変換特性向上物質をドープするドーピング工程が行われるので、光触媒含有層形成工程に用いられる光触媒含有層形成用塗工液に光電変換特性向上物質を添加する必要がないため、光触媒含有層形成用塗工液中での光触媒の凝集を防止することができ、光電変換特性の良好な有機光電変換素子を製造することができる。   In the present invention, after the photocatalyst containing layer forming step, a doping step of doping the photocatalyst containing layer with a photoelectric conversion property improving substance is performed, so that the photocatalyst containing layer forming coating liquid used in the photocatalyst containing layer forming step is photoelectrically converted. Since there is no need to add a property-improving substance, aggregation of the photocatalyst in the photocatalyst-containing layer forming coating liquid can be prevented, and an organic photoelectric conversion element having good photoelectric conversion characteristics can be produced.

上記発明においては、上記光触媒含有層が、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化するものであり、上記光触媒含有層にエネルギーを照射し、上記光触媒含有層の濡れ性を変化させる濡れ性変化工程が行われてもよい。光触媒含有層にエネルギーを照射することにより濡れ性を変化させ、光触媒含有層表面を親液性とすることができるので、有機光電変換層形成用塗工液の塗布が容易となり、有機光電変換層を容易に形成することができるからである。また、エネルギーをパターン状に照射することにより、光触媒含有層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成することもできるので、有機光電変換層のパターニングを要する場合には有用である。   In the above invention, the photocatalyst-containing layer is one whose wettability is changed by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation, and the photocatalyst-containing layer is irradiated with energy to change the wettability of the photocatalyst-containing layer. A changing step may be performed. By irradiating the photocatalyst-containing layer with energy, the wettability can be changed and the surface of the photocatalyst-containing layer can be made lyophilic, so that it becomes easy to apply the organic photoelectric conversion layer forming coating liquid, and the organic photoelectric conversion layer This is because it can be easily formed. Moreover, since the wettability change pattern in which the wettability of the photocatalyst containing layer is changed can be formed by irradiating energy in a pattern, it is useful when the patterning of the organic photoelectric conversion layer is required.

また本発明においては、上記ドーピング工程は、上記光触媒含有層に上記光電変換特性向上物質を含有する光電変換特性向上物質含有液を接触させる工程であってもよく、また、上記光電変換特性向上物質を気化させ、上記光触媒含有層にドープする工程であってもよい。   In the present invention, the doping step may be a step of bringing the photoelectric conversion property improving substance-containing liquid containing the photoelectric conversion property improving substance into contact with the photocatalyst containing layer, and the photoelectric conversion property improving substance. May be a step of vaporizing and doping the photocatalyst-containing layer.

さらに本発明においては、上記光電変換特性向上物質は、FeまたはCuの金属塩、あるいはヨウ素であることが好ましい。これらは、光電変換特性を向上させる効果が高いからである。   Furthermore, in the present invention, the photoelectric conversion property improving substance is preferably a metal salt of Fe or Cu, or iodine. This is because the effect of improving the photoelectric conversion characteristics is high.

また本発明においては、上記光触媒含有層形成工程では、中性域のpHを有し、光触媒を含有する光触媒含有層形成用塗工液が用いられることが好ましい。中性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液は、酸性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液に比べて光触媒の分散性が悪く、このような光触媒の分散性の悪い中性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液に上述の光電変換特性向上物質を添加した場合は、さらに光触媒の分散性が悪化し、光電変換特性を向上させること困難であるが、本発明においては上述したように、光触媒含有層の形成後に光電変換特性向上物質をドープするので、上記のような不具合を回避することができ、本発明の効果をより顕著なものとすることができるからである。また、上記光触媒含有層用塗工液が中性域のpHを有することにより、光触媒含有層形成用塗工液を塗布する機器の金属等が光触媒含有層形成用塗工液中に溶出すること等を防ぐことができ、形成された光触媒含有層中に金属等が含有されることを防ぐことが可能となり、さらに光触媒含有層形成用塗工液の塗布に用いられる機器等が錆びることも防ぐことができ、安定に光触媒含有層を形成することが可能となるからである。   In the present invention, in the photocatalyst-containing layer forming step, it is preferable to use a photocatalyst-containing layer forming coating solution having a neutral pH and containing a photocatalyst. The photocatalyst-containing layer forming coating solution having a neutral pH has poor photocatalyst dispersibility compared to the photocatalyst-containing layer forming coating solution having an acidic pH, and such photocatalyst has a poor dispersibility. When the above-described photoelectric conversion property improving substance is added to the photocatalyst-containing layer forming coating solution having a neutral pH, the photocatalyst dispersibility is further deteriorated, and it is difficult to improve the photoelectric conversion properties. In the present invention, as described above, since the photoelectric conversion property-improving substance is doped after the formation of the photocatalyst containing layer, the above-described problems can be avoided and the effects of the present invention can be made more remarkable. Because it can. In addition, when the photocatalyst-containing layer coating solution has a neutral pH, the metal or the like of the device for applying the photocatalyst-containing layer forming coating solution is eluted into the photocatalyst-containing layer forming coating solution. It is possible to prevent metal and the like from being contained in the formed photocatalyst-containing layer, and further prevent rusting of equipment used for coating the photocatalyst-containing layer forming coating solution. This is because the photocatalyst-containing layer can be stably formed.

本発明は、また、上述した有機光電変換素子の製造方法を用い、上記有機光電変換素子の製造方法における有機光電変換層形成工程が、有機EL層を形成する有機EL層形成工程であることを特徴とする有機EL素子の製造方法を提供する。   In the present invention, the organic photoelectric conversion layer forming step in the organic photoelectric conversion device manufacturing method is an organic EL layer forming step in which the organic EL layer is formed using the above-described organic photoelectric conversion device manufacturing method. Provided is a method for producing a characteristic organic EL element.

本発明によれば、上述したように、光触媒含有層形成工程後に、この光触媒含有層に光電変換特性向上物質をドープするドーピング工程が行われることから、光触媒含有層形成用塗工液に光電変換特性向上物質を添加する必要がないので、光触媒含有層形成用塗工液中での光触媒の凝集を防止することができ、発光特性の良好な有機EL素子を製造することが可能となる。   According to the present invention, as described above, after the photocatalyst containing layer forming step, the photocatalyst containing layer is doped with a photoelectric conversion property improving substance, so that the photocatalyst containing layer forming coating solution is photoelectrically converted. Since it is not necessary to add a property-improving substance, it is possible to prevent aggregation of the photocatalyst in the photocatalyst-containing layer forming coating solution, and it is possible to produce an organic EL device having good light emission characteristics.

上記発明においては、上記有機光電変換素子の製造方法における濡れ性変化工程が、光触媒含有層にパターン状にエネルギーを照射し、上記光触媒含有層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する工程であり、上記有機EL層形成工程が、上記濡れ性変化パターン上に有機EL層形成用塗工液を塗布し、有機EL層をパターン状に形成する工程であることが好ましい。上記濡れ性変化パターンを利用して、容易に有機EL層の塗り分け等を行うことができ、高精細なパターニングが可能となるからである。   In the above invention, the wettability changing step in the method for producing an organic photoelectric conversion element is a step of irradiating the photocatalyst containing layer with energy in a pattern to form a wettability changing pattern in which the wettability of the photocatalyst containing layer is changed. The organic EL layer forming step is preferably a step of applying an organic EL layer forming coating solution on the wettability changing pattern to form the organic EL layer in a pattern. This is because the organic EL layer can be easily applied by using the wettability change pattern, and high-definition patterning becomes possible.

また、上記発明においては、上記有機EL層形成工程が、少なくとも赤・緑・青の3色の発光層をパターン状に形成する工程であり、カラー表示を可能とすることが好ましい。本発明においては、上述したように濡れ性変化パターンを利用して容易に発光層をパターン状に形成することができるので、赤・緑・青の3色の発光層を形成する場合であっても高精細なパターニングが可能である。   Moreover, in the said invention, the said organic EL layer formation process is a process of forming the light emitting layer of at least 3 colors of red, green, and blue in a pattern shape, It is preferable to enable a color display. In the present invention, the light emitting layer can be easily formed into a pattern using the wettability change pattern as described above, and therefore, when the light emitting layer of three colors of red, green, and blue is formed. High-definition patterning is also possible.

本発明においては、光触媒含有層形成工程後にドーピング工程が行われるので、光触媒含有層形成用塗工液中での光触媒の凝集を防止することができ、光電変換特性の良好な有機光電変換素子を製造することが可能である。また本発明においては、濡れ性変化工程にて光触媒含有層表面を親液性とすることができるので、有機光電変換層形成用塗工液の塗布が容易となり、有機光電変換層を容易に形成することができるという効果を奏する。   In the present invention, since the doping step is performed after the photocatalyst-containing layer forming step, the aggregation of the photocatalyst in the photocatalyst-containing layer forming coating liquid can be prevented, and an organic photoelectric conversion element having a good photoelectric conversion characteristic is obtained. It is possible to manufacture. In the present invention, since the surface of the photocatalyst containing layer can be made lyophilic in the wettability changing step, it becomes easy to apply the organic photoelectric conversion layer forming coating solution, and the organic photoelectric conversion layer is easily formed. There is an effect that can be done.

以下、本発明の有機光電変換素子の製造方法、および有機EL素子の製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the organic photoelectric conversion element of this invention and the manufacturing method of an organic EL element are demonstrated in detail.

A.有機光電変換素子の製造方法
本発明の有機光電変換素子の製造方法は、基体と、上記基体上に形成された第1電極と、上記第1電極上に形成され、光触媒および光電変換特性向上物質を含有する光触媒含有層と、上記光触媒含有層上に形成された有機光電変換層と、上記有機光電変換層上に形成された第2電極とを有する有機光電変換素子の製造方法であって、
第1電極が形成された基体上に光触媒含有層を形成する光触媒含有層形成工程と、上記光触媒含有層に光電変換特性向上物質をドープするドーピング工程と、上記光電変換特性向上物質がドープされた上記光触媒含有層上に有機光電変換層形成用塗工液を塗布し、有機光電変換層を形成する有機光電変換層形成工程とを有することを特徴とするものである。
A. Manufacturing method of organic photoelectric conversion element The manufacturing method of the organic photoelectric conversion element of the present invention includes a base, a first electrode formed on the base, and a photocatalyst and a photoelectric conversion property improving substance formed on the first electrode. A method for producing an organic photoelectric conversion element comprising: a photocatalyst containing layer containing: an organic photoelectric conversion layer formed on the photocatalyst containing layer; and a second electrode formed on the organic photoelectric conversion layer,
A photocatalyst-containing layer forming step for forming a photocatalyst-containing layer on the substrate on which the first electrode is formed, a doping step for doping the photocatalyst-containing layer with a photoelectric conversion property improving substance, and the photoelectric conversion property improving substance are doped An organic photoelectric conversion layer forming step of applying an organic photoelectric conversion layer forming coating solution on the photocatalyst-containing layer to form an organic photoelectric conversion layer;

また、本発明においては、上記光触媒含有層が、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化するものであり、上記光触媒含有層にエネルギーを照射し、上記光触媒含有層の濡れ性を変化させる濡れ性変化工程が行われてもよい。   Further, in the present invention, the photocatalyst-containing layer changes wettability due to the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation, and the photocatalyst-containing layer is irradiated with energy to change the wettability of the photocatalyst-containing layer. A wettability changing step may be performed.

本発明の有機光電変換素子の製造方法について図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の有機光電変換素子の製造方法の一例を示す工程図である。まず図1(a)に示すように、第1電極2が形成された基体1上に光触媒を含有する光触媒含有層形成用塗工液を塗布して、光触媒含有層3を形成する光触媒含有層形成工程が行われ、次にこの光触媒含有層3上に光電変換特性向上物質を含有する光電変換特性向上物質含有液14を塗布するか、光触媒含有層3を光電変換特性向上物質含有液14に浸漬して、光電変換特性向上物質を光触媒含有層3にドープするドーピング工程(図1(b))が行われる。また、上記光触媒含有層3にフォトマスク11を用いてエネルギー12を照射することにより、この光触媒含有層3の表面の濡れ性を変化させ、エネルギーが照射されて濡れ性が変化した親液性領域3aと、エネルギーが照射されていない撥液性領域3bとからなる濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化工程(図1(c)〜(d))が行われる。さらに、図1(e)に示すように、光電変換特性向上物質がドープされ、かつ濡れ性が変化した上記光触媒含有層3´上に有機光電変換層形成用塗工液を塗布し、親液性領域3aおよび撥液性領域3bからなる濡れ性変化パターンの濡れ性の差を利用して、パターン状に有機光電変換層5を形成する有機光電変換層形成工程が行われる。最後に、図1(f)に示すように、有機光電変換層5上に第2電極6を形成する第2電極形成工程を行うことにより、有機光電変換素子を製造することができる。   The manufacturing method of the organic photoelectric conversion element of this invention is demonstrated referring drawings. FIG. 1 is a process diagram showing an example of a method for producing an organic photoelectric conversion element of the present invention. First, as shown in FIG. 1 (a), a photocatalyst-containing layer 3 is formed by applying a photocatalyst-containing layer forming coating solution containing a photocatalyst to the substrate 1 on which the first electrode 2 is formed. Next, a photoelectric conversion property improving substance-containing liquid 14 containing a photoelectric conversion characteristic improving substance is applied on the photocatalyst containing layer 3 or the photocatalyst containing layer 3 is applied to the photoelectric conversion characteristic improving substance containing liquid 14. A doping step (FIG. 1B) of immersing and doping the photocatalyst containing layer 3 with the photoelectric conversion property improving substance is performed. Also, the photocatalyst-containing layer 3 is irradiated with energy 12 using a photomask 11 to change the wettability of the surface of the photocatalyst-containing layer 3, and the lyophilic region where the wettability is changed by irradiation with energy. A wettability changing step (FIGS. 1C to 1D) for forming a wettability changing pattern composed of 3a and the liquid repellent region 3b not irradiated with energy is performed. Further, as shown in FIG. 1 (e), an organic photoelectric conversion layer-forming coating solution is applied onto the photocatalyst-containing layer 3 'doped with the photoelectric conversion property improving substance and having changed wettability. The organic photoelectric conversion layer forming step of forming the organic photoelectric conversion layer 5 in a pattern shape is performed using the difference in wettability of the wettability change pattern composed of the conductive region 3a and the liquid repellent region 3b. Finally, as shown in FIG.1 (f), an organic photoelectric conversion element can be manufactured by performing the 2nd electrode formation process which forms the 2nd electrode 6 on the organic photoelectric converting layer 5. FIG.

本発明によれば、光触媒含有層形成工程後に、光触媒含有層に光電変換特性向上物質をドープするドーピング工程が行われるので、光触媒含有層形成工程に用いられる光触媒含有層形成用塗工液に光電変換特性向上物質を添加する必要がないため、光触媒含有層形成用塗工液中での光触媒の凝集を防止することができ、光電変換特性(電流−電圧特性、発光輝度−電圧特性など)の低下を抑制することが可能である。これにより、高性能な有機光電変換素子を製造することができる。   According to the present invention, after the photocatalyst-containing layer forming step, the doping step of doping the photocatalyst-containing layer with the photoelectric conversion property improving substance is performed, so that the photocatalyst-containing layer forming coating liquid used in the photocatalyst-containing layer forming step is charged with photoelectric. Since there is no need to add a conversion property improving substance, the photocatalyst can be prevented from aggregating in the photocatalyst-containing layer forming coating solution, and the photoelectric conversion properties (current-voltage characteristics, emission luminance-voltage characteristics, etc.) It is possible to suppress the decrease. Thereby, a high performance organic photoelectric conversion element can be manufactured.

また、上記光触媒含有層がエネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化するものである場合、濡れ性変化工程にて光触媒含有層にエネルギーを照射することにより、光触媒含有層中の光触媒を励起させて、光触媒含有層の濡れ性を変化させることができ、光触媒含有層表面を親液性とすることができる。有機光電変換層は、この親液性となった光触媒含有層表面に有機光電変換層形成用塗工液を塗布することにより形成することができるので、有機光電変換層の形成が容易となる。   In addition, when the photocatalyst-containing layer changes wettability due to the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation, the photocatalyst-containing layer is excited by irradiating the photocatalyst-containing layer with energy in the wettability changing step. Thus, the wettability of the photocatalyst-containing layer can be changed, and the surface of the photocatalyst-containing layer can be made lyophilic. Since an organic photoelectric conversion layer can be formed by apply | coating the coating liquid for organic photoelectric conversion layer formation to the photocatalyst containing layer surface used as this lyophilic property, formation of an organic photoelectric conversion layer becomes easy.

さらに、濡れ性変化工程にて光触媒含有層にパターン状にエネルギーを照射することにより、親液性領域および撥液性領域からなる濡れ性変化パターンを形成した場合は、容易にこのような濡れ性変化パターンを形成することができるとともに、この濡れ性変化パターンの濡れ性の差を利用して、有機光電変換層を容易にパターン状に形成することが可能となる。例えば有機EL素子等の有機光電変換層のパターニングを要する有機光電変換素子を製造する場合には、このようなパターニング特性は有用である。   Furthermore, when a wettability change pattern consisting of a lyophilic region and a liquid repellent region is formed by irradiating the photocatalyst-containing layer with energy in a pattern in the wettability changing step, such wettability is easily obtained. A change pattern can be formed, and the organic photoelectric conversion layer can be easily formed into a pattern using the wettability difference of the wettability change pattern. For example, when manufacturing an organic photoelectric conversion element that requires patterning of an organic photoelectric conversion layer such as an organic EL element, such patterning characteristics are useful.

本発明においては、濡れ性変化工程が行われる場合、光触媒含有層はエネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化するものであり、これにより有機光電変換層のパターニングが可能となる。一方、濡れ性変化工程が行われない場合、光触媒含有層は、光触媒の作用により濡れ性が変化するものでなくてもよい。このような光触媒の作用により濡れ性が変化しない光触媒含有層は、有機光電変換層のパターニングを要する場合には用いることはできないが、上述した光電変換特性の低下を抑制する効果を十分に得ることは可能である。   In the present invention, when the wettability changing step is performed, the photocatalyst-containing layer changes its wettability due to the action of the photocatalyst accompanying the energy irradiation, thereby enabling patterning of the organic photoelectric conversion layer. On the other hand, when the wettability changing step is not performed, the photocatalyst-containing layer may not change in wettability due to the action of the photocatalyst. Such a photocatalyst-containing layer whose wettability does not change by the action of the photocatalyst cannot be used when the patterning of the organic photoelectric conversion layer is required, but sufficiently obtains the effect of suppressing the deterioration of the photoelectric conversion characteristics described above. Is possible.

なお、本発明における有機光電変換素子とは、光エネルギーを電気エネルギーに変換するもの、あるいは電気エネルギーを光エネルギーに変換するもののいずれをも意味するものである。このような有機光電変換素子としては、例えば有機薄膜太陽電池、有機EL素子等を挙げることができる。
以下、このような有機光電変換素子の製造方法の各工程について説明する。
In addition, the organic photoelectric conversion element in this invention means both what converts light energy into electrical energy, or what converts electrical energy into light energy. Examples of such organic photoelectric conversion elements include organic thin film solar cells and organic EL elements.
Hereinafter, each process of the manufacturing method of such an organic photoelectric conversion element is demonstrated.

1.光触媒含有層形成工程
まず、本発明の有機光電変換素子の製造方法における光触媒含有層形成工程について説明する。本発明における光触媒含有層形成工程は、第1電極が形成された基体上に光触媒含有層を形成する工程であり、通常、第1電極が形成された基体上に、光触媒およびバインダを含有する光触媒含有層形成用塗工液を塗布して、乾燥することにより形成される。
以下、光触媒含有層形成工程の各構成について説明する。
1. Photocatalyst containing layer formation process First, the photocatalyst content layer forming process in the manufacturing method of the organic photoelectric conversion element of this invention is demonstrated. The photocatalyst-containing layer forming step in the present invention is a step of forming a photocatalyst-containing layer on the substrate on which the first electrode is formed, and usually a photocatalyst containing a photocatalyst and a binder on the substrate on which the first electrode is formed. It is formed by applying a coating solution for forming a containing layer and drying it.
Hereinafter, each structure of a photocatalyst content layer formation process is explained.

(1)光触媒含有層形成用塗工液
まず、本工程に用いられる光触媒含有層形成用塗工液について説明する。本工程に用いられる光触媒含有層形成用塗工液は、光触媒およびバインダを含有するものである。以下、このような光触媒含有層形成用塗工液に含有される光触媒、バインダ、およびその他の成分について説明する。
(1) Photocatalyst-containing layer forming coating solution First, the photocatalyst-containing layer forming coating solution used in this step will be described. The photocatalyst-containing layer forming coating solution used in this step contains a photocatalyst and a binder. Hereinafter, the photocatalyst, binder, and other components contained in such a photocatalyst-containing layer forming coating solution will be described.

a.光触媒
本発明に用いられる光触媒としては、光半導体として知られている例えば酸化チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO)、酸化タングステン(WO)、酸化ビスマス(Bi)、酸化鉄(Fe)のような金属酸化物を挙げることができ、これらから選択して1種または2種以上を混合して用いることができる。本発明においては、これらの中でも酸化チタンを用いることが特に好ましい。酸化チタンは、バンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定であり、毒性もなく、入手も容易である点で有利である。
a. Photocatalyst Examples of photocatalysts used in the present invention include titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), and tungsten oxide (WO 3 ), metal oxides such as bismuth oxide (Bi 2 O 3 ) and iron oxide (Fe 2 O 3 ) can be used, and one or a mixture of two or more selected from these may be used. it can. In the present invention, it is particularly preferable to use titanium oxide among these. Titanium oxide is advantageous in that it has a high band gap energy, is chemically stable, is not toxic, and is easily available.

酸化チタンには、アナターゼ型およびルチル型があり本発明ではいずれも使用することができるが、アナターゼ型酸化チタンを用いることが好ましい。アナターゼ型酸化チタンは励起波長が380nm以下にある。   Titanium oxide includes an anatase type and a rutile type, and both can be used in the present invention, but anatase type titanium oxide is preferably used. Anatase type titanium oxide has an excitation wavelength of 380 nm or less.

このようなアナターゼ型酸化チタンとしては、例えば塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル(石原産業(株)製STS−02(平均粒径7nm)、石原産業(株)製ST−K01)、硝酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル(日産化学(株)製TA−15(平均粒径12nm))を挙げることができる。   Examples of such anatase-type titanium oxide include hydrochloric acid peptizer-type anatase-type titania sol (STS-02 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. (average particle size 7 nm), ST-K01 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), nitric acid peptizer. Type anatase titania sol (TA-15 manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. (average particle size 12 nm)).

光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効果的に起こるので好ましく、平均粒径が50nm以下であることが好ましく、30nm以下の光触媒を使用するのが特に好ましい。   The smaller the particle size of the photocatalyst, the more effective the photocatalytic reaction takes place. The average particle size is preferably 50 nm or less, and it is particularly preferable to use a photocatalyst of 30 nm or less.

本発明に用いられる光触媒含有層形成用塗工液中の光触媒の含有量としては、この光触媒含有層形成用塗工液を用いて光触媒含有層を形成した際に、光触媒含有層中の光触媒の含有量が1〜90重量%の範囲内となることが好ましく、40〜80重量%の範囲内となることがより好ましい。   The content of the photocatalyst in the photocatalyst-containing layer forming coating solution used in the present invention is such that when the photocatalyst-containing layer is formed using this photocatalyst-containing layer forming coating solution, The content is preferably in the range of 1 to 90% by weight, and more preferably in the range of 40 to 80% by weight.

b.バインダ
本発明において、後述する濡れ性変化工程が行われない場合、バインダとしては、特に光触媒の作用により光触媒含有層の濡れ性を変化させる機能を有さなくてもよい。このようなバインダとしては、主骨格が光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであれば特に限定されるものではなく、例えばアルキルシリケートを用いることができる。このアルキルシリケートとしては、一般式:Sin−1(OR)2n+2(ただし、Siはケイ素、Oは酸素、Rはアルキル基を示す。)で表される化合物が挙げられる。ここで、nは1〜6の範囲内、Rは炭素数が1〜4のアルキル基であるものがケイ素の割合が多い点で好ましい。
b. Binder In the present invention, when the wettability changing step described later is not performed, the binder may not have a function of changing the wettability of the photocatalyst-containing layer by the action of the photocatalyst. The binder is not particularly limited as long as the main skeleton has a high binding energy that is not decomposed by photoexcitation of the photocatalyst, and for example, an alkyl silicate can be used. Examples of the alkyl silicate include compounds represented by the general formula: Si n O n-1 (OR) 2n + 2 (wherein Si represents silicon, O represents oxygen, and R represents an alkyl group). Here, n is preferably in the range of 1 to 6, and R is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms from the viewpoint of a high proportion of silicon.

また、アルキルシリケートの平均分子量は、500〜2000の範囲内であることが好ましい。平均分子量が小さすぎると、光触媒含有層にクラックが発生しやすくなり、また本発明により有機EL素子を製造した場合に、有機EL素子の寿命が短くなる傾向にあるからである。逆に平均分子量が大きすぎると、光触媒含有層形成用塗工液の粘度が高くなり、均一な塗膜を形成しにくい場合があるからである。
なお、本発明においては、上述したように、濡れ性変化工程を行わない場合、すなわち光触媒含有層をパターニングに用いない場合は、上記光触媒の作用により光触媒含有層の濡れ性を変化させる機能を有さない材料を用いてもよく、また以下に説明する光触媒の作用により光触媒含有層の濡れ性を変化させる機能を有する材料を用いてもよい。このように光触媒の作用により光触媒含有層の濡れ性を変化させる機能を有する材料を用いる場合は、露光しなくても比較的表面の親液性が高い材料を用いるか、必要がある場合は、全面に露光を行って、全面を親液性として用いてもよい。
The average molecular weight of the alkyl silicate is preferably in the range of 500 to 2,000. If the average molecular weight is too small, cracks are likely to occur in the photocatalyst-containing layer, and when the organic EL device is produced according to the present invention, the lifetime of the organic EL device tends to be shortened. Conversely, if the average molecular weight is too large, the viscosity of the photocatalyst-containing layer forming coating solution increases, and it may be difficult to form a uniform coating film.
In the present invention, as described above, when the wettability changing step is not performed, that is, when the photocatalyst-containing layer is not used for patterning, the photocatalyst-containing layer has a function of changing the wettability by the action of the photocatalyst. May be used, or a material having a function of changing the wettability of the photocatalyst-containing layer by the action of the photocatalyst described below may be used. Thus, when using a material having a function of changing the wettability of the photocatalyst-containing layer by the action of the photocatalyst, a material having a relatively high lyophilicity on the surface without exposure, or if necessary, The entire surface may be exposed and used as a lyophilic property.

一方、本発明において、後述する濡れ性変化工程が行われる場合、バインダとしては、光触媒の作用により光触媒含有層の濡れ性を変化させる機能を有している必要がある。このようなバインダとしては、主骨格が光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであって、光触媒の作用により分解されるような有機置換基を有するものが好ましく、例えばゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。   On the other hand, in the present invention, when the wettability changing step described later is performed, the binder needs to have a function of changing the wettability of the photocatalyst containing layer by the action of the photocatalyst. As such a binder, one having a high binding energy such that the main skeleton is not decomposed by photoexcitation of the photocatalyst and having an organic substituent that is decomposed by the action of the photocatalyst is preferable. Can be exemplified by organopolysiloxanes that exhibit high strength by hydrolysis and polycondensation of chloro or alkoxysilane.

このようなオルガノポリシロキサンとしては、一般式:YSiX4−n(nは0〜3の整数)で表される珪素化合物の1種または2種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解化合物であるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。ここで、上記一般式においては、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基もしくはエポキシ基、またはこれらを含む置換基であり、Xは例えばアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。また、Yで示される置換基全体の炭素数は1〜20の範囲内、中でも5〜10の範囲内であることが好ましい。これにより、上記光触媒含有層を形成した際に、オルガノポリシロキサンを構成するYにより表面を撥液性とすることができ、またエネルギー照射に伴う光触媒の作用により、そのYが分解等されることによって、親液性とすることが可能となるからである。 As such an organopolysiloxane, one or two or more hydrolyzed condensates or cohydrolyzed compounds of a silicon compound represented by the general formula: Y n SiX 4-n (n is an integer of 0 to 3) It is preferable that it is organopolysiloxane which is. Here, in the above general formula, Y is an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group, a phenyl group or an epoxy group, or a substituent containing these, and X is, for example, an alkoxyl group, an acetyl group or a halogen. Show. Moreover, it is preferable that the carbon number of the whole substituent shown by Y exists in the range of 1-20, especially in the range of 5-10. Thus, when the photocatalyst-containing layer is formed, the surface can be made liquid-repellent by Y constituting the organopolysiloxane, and the Y is decomposed by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation. This is because it can be made lyophilic.

また、例えば有機光電変換層を精度よくパターニングするために、光触媒含有層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する場合には、エネルギー照射前の光触媒含有層に高い撥液性が要求されることがある。このような場合には、上記の中でも、オルガノポリシロキサンを構成するYがフルオロアルキル基であるオルガノポリシロキサンが好ましく用いられる。フルオロアルキル基を有するオルガノポリシロキサンを用いた場合には、エネルギー照射前の光触媒含有層を、特に撥液性の高いものとすることができるからである。このようなオルガノポリシロキサンとして、具体的には、下記のフルオロアルキルシランの1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、また、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られているものを使用してもよい。   For example, when forming a wettability change pattern in which the wettability of the photocatalyst containing layer is changed in order to pattern the organic photoelectric conversion layer with high accuracy, the photocatalyst containing layer before energy irradiation is required to have high liquid repellency. Sometimes. In such a case, among the above, organopolysiloxane in which Y constituting the organopolysiloxane is a fluoroalkyl group is preferably used. This is because when the organopolysiloxane having a fluoroalkyl group is used, the photocatalyst-containing layer before energy irradiation can be made particularly high in liquid repellency. Specific examples of such organopolysiloxanes include one or more of the following hydroalkyl silanes, co-hydrolysis condensates, and generally as fluorine-based silane coupling agents. Known ones may be used.

CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
(CFCF(CFCHCHSi(OCH
(CFCF(CFCHCHSi(OCH
(CFCF(CFCHCHSi(OCH
CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OCH
(CFCF(CFCHCHSiCH(OCH
(CFCF(CFCHCHSi CH(OCH
(CFCF(CFCHCHSi CH(OCH
CF(C)CSiCH(OCH
CF(CF(C)CSiCH(OCH
CF(CF(C)CSiCH(OCH
CF(CF(C)CSiCH(OCH
CF(CFCHCHSi(OCHCH
CF(CFCHCHSi(OCHCH
CF(CFCHCHSi(OCHCH
CF(CFCHCHSi(OCHCH;および
CF(CFSON(C)CCHSi(OCH
CF 3 (CF 2) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ;
(CF 3) 2 CF (CF 2) 6 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
(CF 3) 2 CF (CF 2) 8 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 3 ( C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 5 ( C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 7 ( C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 3 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 5 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 9 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
(CF 3) 2 CF (CF 2) 4 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
(CF 3) 2 CF (CF 2) 6 CH 2 CH 2 Si CH 3 (OCH 3) 2;
(CF 3) 2 CF (CF 2) 8 CH 2 CH 2 Si CH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 3 ( C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 5 ( C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 7 ( C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3; and CF 3 (CF 2) 7 SO 2 N (C 2 H 5) C 2 H 4 CH 2 Si (OCH 3) 3.

さらに、エネルギー照射前の光触媒含有層に高い撥液性が要求される場合には、例えば撥水性や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を用いることもできる。このような反応性シリコーンとしては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げることができる。   Furthermore, when high liquid repellency is required for the photocatalyst-containing layer before energy irradiation, for example, an organopolysiloxane obtained by crosslinking a reactive silicone excellent in water repellency and oil repellency can be used. Examples of such reactive silicones include compounds having a skeleton represented by the following general formula.

Figure 2006012552
Figure 2006012552

ただし、nは2以上の整数、R、Rはそれぞれ炭素数1〜10の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基であり、好ましくはモル比で全体の40%以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルである。また、R、Rがメチル基であるものが表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、モル比でメチル基が60%以上であることが好ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少なくとも1個以上の水酸基などの反応性基を有する。 Here, n is an integer of 2 or more, R 1, R 2 is a substituted or unsubstituted 1 to 10 carbon atoms each alkyl, alkenyl, aryl or cyanoalkyl group, preferably 40% or less of the total molar ratio Vinyl, phenyl and phenyl halide. Further, those in which R 1 and R 2 are methyl groups are preferable because the surface energy is the smallest, and the methyl groups are preferably 60% or more by molar ratio. In addition, the chain end or side chain has at least one reactive group such as a hydroxyl group in the molecular chain.

また、上記のオルガノポリシロキサンとともに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応を起こさない安定なオルガノシリコン化合物をバインダに混合してもよい。
なお、本発明においては、上述したように、濡れ性変化工程を行う場合、すなわち光触媒含有層をパターニングに用いる場合であっても、上記光触媒の作用により光触媒含有層の濡れ性を変化させる機能を有さない材料を、上記光触媒の作用により光触媒含有層の濡れ性を変化させる機能を有する材料と混合して用いてもよい。上記光触媒含有層の濡れ性を変化させる機能を有さない材料の中には成膜性が良好なものがあり、混合して用いることにより成膜性を向上させることができるからである。
In addition to the above organopolysiloxane, a stable organosilicon compound that does not cause a crosslinking reaction such as dimethylpolysiloxane may be mixed in the binder.
In the present invention, as described above, even when the wettability changing step is performed, that is, when the photocatalyst containing layer is used for patterning, the function of changing the wettability of the photocatalyst containing layer by the action of the photocatalyst is provided. You may use the material which does not have with the material which has a function which changes the wettability of a photocatalyst content layer by the effect | action of the said photocatalyst. This is because some materials that do not have a function of changing the wettability of the photocatalyst-containing layer have good film forming properties, and the film forming properties can be improved by using a mixture.

c.分解物質
本発明に用いられる光触媒含有形成用塗工液には、さらにエネルギー照射による光触媒の作用により分解され、これにより光触媒含有層の濡れ性を変化させることができる分解物質を含有させることができる。
c. Decomposing Substance The photocatalyst-containing forming coating solution used in the present invention can contain a decomposing substance that can be further decomposed by the action of the photocatalyst by energy irradiation and thereby change the wettability of the photocatalyst-containing layer. .

このような分解物質としては、光触媒の作用により分解し、かつ分解されることにより光触媒含有層表面の濡れ性を変化させる機能を有する界面活性剤を挙げることができる。具体的には、日光ケミカルズ(株)製NIKKOL BL、BC、BO、BBの各シリーズ等の炭化水素系、デュポン社製ZONYL FSN、FSO、旭硝子(株)製サーフロンS−141、145、大日本インキ化学工業(株)製メガファックF−141、144、ネオス(株)製フタージェントF−200、F251、ダイキン工業(株)製ユニダインDS−401、402、スリーエム(株)製フロラードFC−170、176等のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤を挙げることができ、また、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いることもできる。   Examples of such a decomposing substance include a surfactant having a function of decomposing by the action of a photocatalyst and changing the wettability of the photocatalyst-containing layer surface by decomposing. Specifically, hydrocarbons such as NIKKOL BL, BC, BO, BB series manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd., ZONYL FSN, FSO manufactured by DuPont, Surflon S-141, 145 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Dainippon Megafac F-141, 144 manufactured by Ink Chemical Industry Co., Ltd., Footgent F-200, F251 manufactured by Neos Co., Ltd., Unidyne DS-401, 402 manufactured by Daikin Industries, Ltd., Fluorard FC-170 manufactured by 3M Co., Ltd. Fluorine-based or silicone-based nonionic surfactants such as 176, and cationic surfactants, anionic surfactants, and amphoteric surfactants can also be used.

また、界面活性剤の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステル、アクリル樹
脂、ポリエチレン、ジアリルフタレート、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ
樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニ
ル、ポリアミド、ポリイミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポリプロピ
レン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ナイロン、ポリエステル、ポリブ
タジエン、ポリベンズイミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリン、ポリ
サルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマー、ポリマー等を挙げることができる。
Besides surfactants, polyvinyl alcohol, unsaturated polyester, acrylic resin, polyethylene, diallyl phthalate, ethylene propylene diene monomer, epoxy resin, phenol resin, polyurethane, melamine resin, polycarbonate, polyvinyl chloride, polyamide, polyimide Styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, polypropylene, polybutylene, polystyrene, polyvinyl acetate, nylon, polyester, polybutadiene, polybenzimidazole, polyacrylonitrile, epichlorohydrin, polysulfide, polyisoprene, oligomers, polymers, and the like.

d.増感色素
さらに、本発明に用いられる光触媒含有層形成用塗工液は、光触媒の光活性を増感させる成分である増感色素を含んでいてもよい。このような増感色素の添加により、低い露光量で濡れ性を変化させるあるいは異なる波長の露光で濡れ性を変化させることができる。
d. Sensitizing Dye Further, the photocatalyst-containing layer forming coating solution used in the present invention may contain a sensitizing dye which is a component for sensitizing the photoactivity of the photocatalyst. By adding such a sensitizing dye, the wettability can be changed with a low exposure amount, or the wettability can be changed with exposure at a different wavelength.

e.溶剤
本発明に用いられる光触媒含有層形成用塗工液に使用することができる溶剤は、上述した光触媒、バインダ等と混合するものであり、白濁その他の現象によるパターニング特性に影響を及ぼさないものであれば特に限定されない。このような溶剤としては、例えばエタノール、イソプロパノール等のアルコール類、アセトン、アセトニトリル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフォキシド、ジオキサン、エチレングリコール、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ピリジン、テトラヒドロフラン、N−メチルピロリジノン等およびこれらの混合溶剤を挙げることができる。
e. Solvent The solvent that can be used in the photocatalyst-containing layer forming coating solution used in the present invention is a mixture with the above-mentioned photocatalyst, binder, etc., and does not affect the patterning characteristics due to white turbidity or other phenomena. If there is no particular limitation. Examples of such solvents include alcohols such as ethanol and isopropanol, acetone, acetonitrile, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dioxane, ethylene glycol, hexamethylphosphoric triamide, pyridine, Tetrahydrofuran, N-methylpyrrolidinone and the like and mixed solvents thereof can be mentioned.

f.その他
本発明に用いられる光触媒含有層形成用塗工液は、光触媒含有層形成用塗工液を塗布する直前に光触媒を混合して調製することが好ましい。これにより、光触媒含有層形成用塗工液の経時での変化を防止することができ、安定かつ均一な濡れ性変化パターンの形成が可能な光触媒含有層を形成することが可能となる。
f. Others The photocatalyst-containing layer forming coating solution used in the present invention is preferably prepared by mixing a photocatalyst immediately before applying the photocatalyst-containing layer forming coating solution. Thereby, the change with time of the photocatalyst-containing layer forming coating liquid can be prevented, and a photocatalyst-containing layer capable of forming a stable and uniform wettability change pattern can be formed.

ここで、上記光触媒含有層形成用塗工液を塗布する直前に光触媒を混合するとは、光触媒含有層形成用塗工液の塗布に用いられる機器に充填等する段階において混合することをいう。具体的には、上記光触媒含有層形成用塗工液調製後、24時間以内、中でも10時間以内、特に5時間以内であることが好ましい。   Here, mixing the photocatalyst immediately before applying the photocatalyst-containing layer forming coating liquid means mixing in a stage of filling in an apparatus used for applying the photocatalyst-containing layer forming coating liquid. Specifically, it is preferably within 24 hours, particularly within 10 hours, particularly within 5 hours after the preparation of the photocatalyst-containing layer forming coating solution.

また、本発明に用いられる光触媒含有層形成用塗工液は、上述した光触媒、バインダなどを含有するものであれば特に限定されるものではなく、光触媒含有層形成用塗工液のpHが中性であっても酸性であってもよいが、本発明においては中性域のpHを有するものであることが好ましい。   The photocatalyst-containing layer forming coating solution used in the present invention is not particularly limited as long as it contains the above-mentioned photocatalyst, binder and the like, and the pH of the photocatalyst-containing layer forming coating solution is medium. It may be neutral or acidic, but in the present invention, it preferably has a neutral pH.

中性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液は、酸性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液に比べて酸化チタン等の光触媒の分散性が悪く、このような光触媒の分散性の悪い中性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液に上述の光電変換特性向上物質を添加した場合は、さらに光触媒の分散性が悪化し、光電変換特性を向上させること困難であるが、本発明においては光触媒含有層の形成後に、光触媒含有層に光電変換特性向上物質をドープするので、上記のような不具合を回避することができ、本発明の効果をより顕著なものとすることができる。   The photocatalyst-containing layer forming coating solution having a neutral pH has a lower dispersibility of the photocatalyst such as titanium oxide than the photocatalyst-containing layer forming coating solution having an acidic pH. When the above-described photoelectric conversion property-improving substance is added to the photocatalyst-containing layer forming coating solution having a neutral pH with poor dispersibility, the dispersibility of the photocatalyst is further deteriorated and it is difficult to improve the photoelectric conversion property. However, in the present invention, after the formation of the photocatalyst containing layer, the photocatalyst containing layer is doped with the photoelectric conversion property improving substance, so that the above-mentioned problems can be avoided and the effect of the present invention is more remarkable. It can be.

また通常、光触媒含有層を形成するために、光触媒含有層形成用塗工液を塗布する機器は、精度や加工の容易性等の面から金属が用いられているが、本発明においては、上記光触媒含有層用塗工液が中性域のpHを有することにより、光触媒含有層形成用塗工液を塗布する例えばノズル等の金属等が、光触媒含有層形成用塗工液中に溶出すること等を防ぐことができ、形成された光触媒含有層中に金属等が含有されることを防ぐことが可能となる。また、光触媒含有層形成用塗工液の塗布に用いられる機器等が錆びることも防ぐことができ、安定に光触媒含有層を形成することが可能となるのである。   Usually, in order to form the photocatalyst-containing layer, the device for applying the photocatalyst-containing layer forming coating liquid uses a metal from the aspects of accuracy and ease of processing, etc. When the photocatalyst-containing layer coating liquid has a neutral pH, for example, a metal such as a nozzle for applying the photocatalyst-containing layer forming coating liquid is eluted into the photocatalyst-containing layer forming coating liquid. It is possible to prevent the metal and the like from being contained in the formed photocatalyst containing layer. In addition, it is possible to prevent rusting of equipment used for application of the photocatalyst-containing layer forming coating solution, and it is possible to stably form the photocatalyst-containing layer.

さらに、上記光触媒含有層形成用塗工液を乾燥する際には、ホットプレート、赤外線ヒーター、オーブン等が用いられるが、中性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液を用いることにより、このホットプレートや赤外線ヒーターが光触媒含有層形成用塗工液の付着によって錆びることや、またオーブン内が光触媒含有層形成用塗工液から放出された酸によって錆びること等を防ぐことができる。   Furthermore, when drying the photocatalyst-containing layer forming coating solution, a hot plate, an infrared heater, an oven, or the like is used. By using the photocatalyst-containing layer forming coating solution having a neutral pH, The hot plate and the infrared heater can be prevented from being rusted by the adhesion of the photocatalyst-containing layer forming coating solution, and the oven from being rusted by the acid released from the photocatalyst-containing layer forming coating solution.

さらにまた、中性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液を用いて光触媒含有層を形成した場合は、上述したように光触媒含有層中に金属等が含有されている可能性が低いことから、後述する濡れ性変化工程にて、エネルギー照射に伴う酸化チタンの作用を安定したものとすることができ、均一に濡れ性を変化させることが可能となる。さらに、上記光触媒含有層中に酸が含有されていないことから、エネルギー照射した際に、照射したエネルギーにより酸が放出されてエネルギー源やマスク等が腐蝕する等の問題がないものとすることができるという利点を有する。   Furthermore, when the photocatalyst-containing layer is formed using the photocatalyst-containing layer forming coating liquid having a neutral pH, it is unlikely that a metal or the like is contained in the photocatalyst-containing layer as described above. Therefore, in the wettability changing step described later, the action of titanium oxide accompanying energy irradiation can be stabilized, and the wettability can be changed uniformly. Furthermore, since no acid is contained in the photocatalyst-containing layer, there is no problem that when the energy is irradiated, the acid is released by the irradiated energy and the energy source or the mask is corroded. It has the advantage of being able to.

また、中性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液を用いて光触媒含有層を形成した場合には、後述する有機光電変換層形成工程にて、濡れ性変化が変化した光触媒含有層上に有機光電変換層を形成した際にも、酸の影響等を受ける可能性がなく、経時でも安定な有機光電変換素子とすることができる。   In addition, when the photocatalyst-containing layer is formed using a photocatalyst-containing layer-forming coating liquid having a neutral pH, the photocatalyst-containing layer whose wettability change has been changed in the organic photoelectric conversion layer forming step described later. Even when an organic photoelectric conversion layer is formed on the organic photoelectric conversion layer, there is no possibility of being affected by an acid or the like, and an organic photoelectric conversion element that is stable over time can be obtained.

ここで、中性域のpHとは、使用する塗布機器に腐蝕等の悪影響を与えない領域をいうこととし、具体的には、pHが5〜9の範囲内、中でも6〜8の範囲内、特に6.5〜7.5の範囲内であることが好ましい。pHがこの範囲内にあることにより、光触媒含有層形成用塗工液を用いて光触媒含有層とする場合に、塗布に用いられる機器の金属等が光触媒含有層形成用塗工液中に溶出することを防止することができる。これにより、光触媒含有層形成用塗工液が塗布されて形成された層を、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により、安定に濡れ性を変化させることができ、高精細な濡れ性変化パターンを形成することできる。   Here, the pH in the neutral range refers to a region that does not adversely affect the coating equipment to be used, such as corrosion. Specifically, the pH is in the range of 5 to 9, particularly in the range of 6 to 8. In particular, it is preferably in the range of 6.5 to 7.5. When the pH is within this range, when the photocatalyst-containing layer forming coating solution is used as the photocatalyst-containing layer, the metal of the device used for coating is eluted into the photocatalyst-containing layer forming coating solution. This can be prevented. As a result, the wettability of the layer formed by applying the photocatalyst-containing layer forming coating liquid can be changed stably by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation, and a high-definition wettability change pattern is formed. Can do.

このような中性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液としては、酸化チタンと、オルガノポリシロキサン、あるいはケイ酸メチル、ケイ酸エチルまたはケイ酸ブチルとを含有するものを挙げることができる。なお、酸化チタンおよびオルガノポリシロキサンについては、上述した光触媒およびバインダの項に記載したものをそれぞれ使用することができる。   Examples of the photocatalyst-containing layer-forming coating solution having such a neutral pH include those containing titanium oxide and organopolysiloxane, or methyl silicate, ethyl silicate or butyl silicate. it can. In addition, about titanium oxide and organopolysiloxane, what was described in the term of the photocatalyst and binder mentioned above can be used, respectively.

また、本発明に用いられる中性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液は、アルキルシリケートを含有することが好ましい。これにより、中性域のpHにおいても、酸化チタンが微分散された状態を保つことが可能となるからである。   The photocatalyst-containing layer forming coating solution having a neutral pH used in the present invention preferably contains an alkyl silicate. This is because it becomes possible to maintain a finely dispersed state of titanium oxide even in a neutral pH range.

このようなアルキルシリケートは、上記酸化チタンの分散安定化剤として用いられるものであり、光触媒含有層形成用塗工液を中性域で安定なものとする目的で用いられる。本発明に用いられるアルキルシリケートとしては、一般式:Sin−1(OR)2n+2(但しSiはケイ素、Oは酸素、Rはアルキル基を示す。)で表される化合物が挙げられる。ここで、nは1〜6の範囲内、Rは炭素数が1〜4のアルキル基であるものがケイ素の割合が多い点でより好ましい。 Such an alkyl silicate is used as a dispersion stabilizer for the above titanium oxide, and is used for the purpose of stabilizing the photocatalyst-containing layer forming coating solution in a neutral range. Examples of the alkyl silicate used in the present invention include compounds represented by the general formula: Si n O n-1 (OR) 2n + 2 (wherein Si represents silicon, O represents oxygen, and R represents an alkyl group). Here, n is in the range of 1 to 6, and R is more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms in terms of a high silicon ratio.

また、アルキルシリケートの平均分子量は、500〜2000の範囲内であることが好ましい。平均分子量が小さすぎると、光触媒含有層にクラックが発生しやすくなり、また本発明により有機EL素子を製造した場合に、有機EL素子の寿命が短くなる傾向にあるからである。逆に平均分子量が大きすぎると、光触媒含有層形成用塗工液の粘度が高くなり、均一な塗膜を形成しにくい場合があるからである。   The average molecular weight of the alkyl silicate is preferably in the range of 500 to 2,000. If the average molecular weight is too small, cracks are likely to occur in the photocatalyst-containing layer, and when the organic EL device is produced according to the present invention, the lifetime of the organic EL device tends to be shortened. Conversely, if the average molecular weight is too large, the viscosity of the photocatalyst-containing layer forming coating solution increases, and it may be difficult to form a uniform coating film.

アルキルシリケートの配合量としては、アルキルシリケート中のケイ素をSiOに換算した量と上述した酸化チタン中のチタンをTiOに換算した量との重量比(SiO/TiO)が0.7〜10、中でも0.9〜4であることが好ましい。アルキルシリケートの配合量が上記範囲より少ないと分散安定性が低下しやすくなり、また、上記範囲より多いと酸化チタンの光触媒機能が低下しやすくなる可能性があるからである。 The amount of alkyl silicate, the weight ratio of the titanium oxide in the titanium to silicon in the alkyl silicate described above to the amount in terms of SiO 2 to the amount in terms of TiO 2 (SiO 2 / TiO 2 ) 0.7 -10, especially 0.9-4. This is because if the amount of the alkyl silicate is less than the above range, the dispersion stability tends to be lowered, and if it is more than the above range, the photocatalytic function of titanium oxide is likely to be lowered.

上記の中性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液は、酸化チタンおよびアルキルシリケートを含有する中性酸化チタンゾル液と、pHが所定の範囲内であるフルオロアルキルシランの加水分解液とを混合することにより作製することができる。   The photocatalyst-containing layer forming coating solution having a pH in the neutral range includes a neutral titanium oxide sol solution containing titanium oxide and an alkyl silicate, and a hydrolyzed solution of fluoroalkylsilane having a pH within a predetermined range. Can be prepared by mixing.

通常、フルオロアルキルシランは、酸性で加水分解され、中性では加水分解され難い性質を有するものが多く、熱を加えた場合であっても加水分解され難い。本発明においては、酸化チタンおよびアルキルシリケートを含有する中性酸化チタンゾル液と、上記フルオロアルキルシランの加水分解液とを、それぞれ分けて調製し、混合することにより、酸化チタンが微分散された状態を壊すことなく、中性域で安定な光触媒含有層形成用塗工液を作製することができるのである。   Usually, many fluoroalkylsilanes have the property of being hydrolyzed by acidity and hardly hydrolyzed by neutrality, and are hardly hydrolyzed even when heat is applied. In the present invention, a neutral titanium oxide sol solution containing titanium oxide and an alkyl silicate and a hydrolyzed liquid of the fluoroalkylsilane are separately prepared and mixed, whereby the titanium oxide is finely dispersed. It is possible to produce a coating solution for forming a photocatalyst-containing layer that is stable in a neutral region without breaking the surface.

本発明に用いられるフルオロアルキルシランの加水分解液としては、上述したフルオロアルキルシランを、無機酸または有機酸を溶解させた水またはアルコール等に加水分解させることにより得ることができる。ここで、アルコールの炭素数は4以下であることが好ましい。   The fluoroalkylsilane hydrolyzate used in the present invention can be obtained by hydrolyzing the above-described fluoroalkylsilane into water or alcohol in which an inorganic acid or an organic acid is dissolved. Here, the alcohol preferably has 4 or less carbon atoms.

この際、フルオロアルキルシランの加水分解液に用いられるフルオロアルキルシランおよび必要に応じて用いられるアルコキシシランの量は10重量%〜90重量%の範囲内、中でも50%〜80%の範囲内であることが好ましい。   Under the present circumstances, the quantity of the fluoroalkylsilane used for the hydrolyzed liquid of fluoroalkylsilane and the alkoxysilane used as needed is in the range of 10% by weight to 90% by weight, especially in the range of 50% to 80%. It is preferable.

またこの際、上記フルオロアルキルシランの加水分解液が強酸である場合には、上記中性酸化チタンゾル液と混合する際に、中性酸化チタンゾルの分散状態を変化させ、酸化チタンが微分散された状態を壊す可能性がある。そのため、最終的に中性酸化チタンゾルに加える際の上記加水分解液のpHは、2〜7の範囲内、好ましくは5〜7の範囲内となる。   At this time, when the hydrolyzed liquid of fluoroalkylsilane was a strong acid, the dispersion state of the neutral titanium oxide sol was changed when mixing with the neutral titanium oxide sol liquid, so that the titanium oxide was finely dispersed. There is a possibility of breaking the state. Therefore, the pH of the hydrolyzed solution when finally added to the neutral titanium oxide sol is in the range of 2 to 7, preferably in the range of 5 to 7.

一方、酸化チタンおよびアルキルシリケートを有する中性酸化チタンゾル液としては、アルキルシリケートと酸化チタンゾルとを混合した後、中性化することにより得ることができる。ここで、中性酸化チタンゾル液のpHは、中性酸化チタンゾル液中で、上記酸化チタン等の分散が安定な領域をいうこととし、具体的には、pHが、5〜9の範囲内、中でも6〜8の範囲内、特に6.5〜7.5の範囲内であることが好ましい。   On the other hand, a neutral titanium oxide sol solution having titanium oxide and an alkyl silicate can be obtained by mixing an alkyl silicate and a titanium oxide sol and then neutralizing. Here, the pH of the neutral titanium oxide sol solution refers to a region in which the dispersion of titanium oxide or the like is stable in the neutral titanium oxide sol solution. Specifically, the pH is in the range of 5 to 9, In particular, it is preferably in the range of 6 to 8, particularly in the range of 6.5 to 7.5.

上記酸化チタンゾルは、常法により得られる酸化チタンゾルを用いることが可能であり、例えば、含水酸化チタンなどの酸化チタンを一塩基酸またはその塩で解膠処理したり、四塩化チタンを低温の水に添加した後透析したり、塩酸水溶液にチタンアルコキシドを添加したりして得ることができる。   As the titanium oxide sol, a titanium oxide sol obtained by a conventional method can be used. For example, titanium oxide such as hydrous titanium oxide can be peptized with a monobasic acid or a salt thereof, or titanium tetrachloride can be treated with low-temperature water. And then dialyzed, or titanium alkoxide is added to an aqueous hydrochloric acid solution.

次に、これらの酸化チタンゾルとアルキルシリケートとを常法により混合する。両者を混合する際には、酸化チタン水性ゾルを親水性有機溶媒で希釈する、あるいは、アルキルシリケートも親水性有機溶媒で希釈してもよい。親水性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、2−プロパノール、エチレングリコール等のアルコール類、ケトン類、カルボン酸エステル類など、親水性のものであれば特に限定されるものではないが、アルキルシリケートの溶解性が良好である点でアルコールが好ましい。酸化チタンゾルの親水性有機溶媒による希釈の倍率は重量比で1.2〜5倍がより好ましく、一方、アルキルシリケートを親水性有機溶媒による希釈の倍率は重量比で1.5〜5倍がより好ましい。酸化チタンゾルおよびアルキルシリケートの両者を親水性有機溶媒で希釈した後に混合することにより、酸化チタンの凝集を生じさせることなく両者を混合することができるためより好ましい。酸化チタンゾルの希釈用の親水性有機溶媒と、アルキルシリケートの希釈用の親水性有機溶媒とは、必ずしも同じ化合物を用いる必要はない。   Next, these titanium oxide sol and alkyl silicate are mixed by a conventional method. When both are mixed, the aqueous titanium oxide sol may be diluted with a hydrophilic organic solvent, or the alkyl silicate may be diluted with a hydrophilic organic solvent. The hydrophilic organic solvent is not particularly limited as long as it is hydrophilic, such as alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, and ethylene glycol, ketones, and carboxylic acid esters. Alcohol is preferred in terms of good solubility. The dilution ratio of the titanium oxide sol with the hydrophilic organic solvent is more preferably 1.2 to 5 times by weight, while the dilution ratio of the alkyl silicate with the hydrophilic organic solvent is more preferably 1.5 to 5 times by weight. preferable. It is more preferable to mix both the titanium oxide sol and the alkyl silicate after diluting with a hydrophilic organic solvent because they can be mixed without causing aggregation of titanium oxide. The hydrophilic organic solvent for diluting the titanium oxide sol and the hydrophilic organic solvent for diluting the alkyl silicate need not necessarily use the same compound.

さらに、得られた混合物を中性化することにより中性酸化チタンゾルを得ることができる。上記酸化チタンゾルの中性化は、常法により行うことができるが、イオン交換による方法、中和剤を添加する方法、透析による方法から選ばれる少なくとも一つの方法により行うことが好ましい。特に、イオン交換した後、中和剤を添加して中性化することが、不純物の含有量を少なくすることができるためより好ましい。   Furthermore, neutral titanium oxide sol can be obtained by neutralizing the obtained mixture. The neutralization of the titanium oxide sol can be performed by a conventional method, but is preferably performed by at least one method selected from a method by ion exchange, a method of adding a neutralizing agent, and a method by dialysis. In particular, it is more preferable to neutralize by adding a neutralizing agent after ion exchange because the content of impurities can be reduced.

イオン交換する方法においては、イオン交換樹脂を用いて行う。例えば、上記混合物に陽イオン交換樹脂または陰イオン交換樹脂を添加して陽イオン、陰イオンを除去し、その後、イオン交換樹脂を分離する。イオン交換樹脂としては、強酸性、弱酸性の区別無く、また、陰イオン交換樹脂としては、強塩基性、弱塩基性の区別無く、いずれも、例えば市販のアーバンライト(オルガノ社製)、ダイアイオン(三菱化学社製)などを用いることができる。   In the ion exchange method, an ion exchange resin is used. For example, a cation exchange resin or an anion exchange resin is added to the above mixture to remove cations and anions, and then the ion exchange resin is separated. As an ion exchange resin, there is no distinction between strong acidity and weak acidity, and as an anion exchange resin, there is no distinction between strong basicity and weak basicity, for example, commercially available Urbanlite (manufactured by Organo), Dia Ion (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) can be used.

また、中和剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア水などのアルカリ、あるいは、塩酸、硝酸、酢酸、塩素酸、クロル酸などの一塩基酸またはその塩、硫酸、フッ酸などの酸またはその塩を用いることができる。   In addition, as the neutralizing agent, alkali such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, aqueous ammonia, monobasic acid such as hydrochloric acid, nitric acid, acetic acid, chloric acid, chloric acid or its salt, sulfuric acid, hydrofluoric acid, etc. An acid or a salt thereof can be used.

このようにして得られた中性酸化チタンゾルを、その用途に応じて所望の固形分濃度に調整したり、所望のpHに調整したりしてもよい。   The neutral titanium oxide sol thus obtained may be adjusted to a desired solid content concentration or to a desired pH depending on its use.

次に、上記中性酸化チタンゾル液と、上記フルオロアルキルシランの加水分解液とを混合することにより、中性域のpHを有する光触媒含有層形成用塗工液を得ることができる。この際、上記中性酸化チタンゾル液と、フルオロアルキルシランの加水分解液との混合比は、上記中性酸化チタンゾル液の重量を1とした場合に、フルオロアルキルシランの加水分解液の重量が0.1〜1、中でも0.1〜0.5の範囲内であることが好ましい。これにより、中性域のpHとすることができ、また安定な光触媒含有層形成用塗工液とすることができるからである。   Next, a photocatalyst-containing layer-forming coating solution having a neutral pH can be obtained by mixing the neutral titanium oxide sol solution and the hydrolyzed solution of the fluoroalkylsilane. At this time, the mixing ratio of the neutral titanium oxide sol solution and the hydrolyzed fluoroalkylsilane solution was such that the weight of the hydrolyzed fluoroalkylsilane solution was 0 when the weight of the neutral titanium oxide sol solution was 1. It is preferable that it is in the range of 0.1 to 1, especially 0.1 to 0.5. Thereby, the pH can be adjusted to a neutral range, and a stable coating solution for forming a photocatalyst-containing layer can be obtained.

(2)光触媒含有層形成用塗工液の塗布および乾燥
本工程においては、上記光触媒含有層形成用塗工液を、後述する基体上に塗布し、乾燥することにより、光触媒含有層を形成することができる。
(2) Application and Drying of Photocatalyst-Containing Layer Forming Coating Liquid In this step, the photocatalyst-containing layer forming coating liquid is applied onto a substrate described later and dried to form a photocatalyst-containing layer. be able to.

上記光触媒含有層形成用塗工液の塗布方法としては、光触媒含有層形成用塗工液を塗布することが可能な方法であれば特に限定されるものではなく、例えばスプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート、スピンコート、スリットコート等の塗布方法、またはスリットコートおよびスピンコートを組み合わせて塗布する方法等が挙げられる。   The method for applying the photocatalyst-containing layer forming coating solution is not particularly limited as long as it is a method capable of applying the photocatalyst-containing layer forming coating solution. For example, spray coating, dip coating, roll Examples thereof include a coating method such as coating, bead coating, spin coating, and slit coating, or a method of coating by combining slit coating and spin coating.

また、上記光触媒含有層形成用塗工液の乾燥方法としては、均一な光触媒含有層を形成することが可能な方法であれば特に限定されるものではないが、例えばホットプレート、赤外線ヒーター、オーブンを用いる方法が挙げられる。   The drying method for the photocatalyst-containing layer forming coating solution is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a uniform photocatalyst-containing layer. For example, a hot plate, an infrared heater, an oven The method using is mentioned.

上述のようにして形成された光触媒含有層の膜厚は、5〜200nmの範囲内であることが好ましく、30〜100nmの範囲内であることがより好ましい。光触媒含有層の膜厚が薄すぎると濡れ性の違いが明確に発現しなくなり、濡れ性変化パターンの形成が困難になるからである。逆に、光触媒含有層の膜厚が厚すぎると正孔または電子の輸送を阻害し、有機光電変換素子の光電変換に悪影響を及ぼす可能性があるからである。   The film thickness of the photocatalyst-containing layer formed as described above is preferably in the range of 5 to 200 nm, and more preferably in the range of 30 to 100 nm. This is because if the thickness of the photocatalyst-containing layer is too thin, the difference in wettability does not clearly appear and it becomes difficult to form a wettability change pattern. Conversely, if the photocatalyst-containing layer is too thick, it may hinder the transport of holes or electrons and adversely affect the photoelectric conversion of the organic photoelectric conversion element.

また、光触媒含有層は1層のみではなく複数層形成してもよい。この場合は、光触媒含有層上に、複数の層をパターン状に形成することができるとともに、このようなパターニングが容易かつ高品質に実現できる。   Further, the photocatalyst-containing layer may be formed not only in one layer but also in a plurality of layers. In this case, a plurality of layers can be formed in a pattern on the photocatalyst-containing layer, and such patterning can be realized easily and with high quality.

(4)基体
次に、本工程に用いられる基体について説明する。本工程に用いられる基体の材料等は特に限定されるものではなく、有機光電変換素子の目的、および後述する濡れ性変化工程でのエネルギーの照射方法に応じて適宜選択されるものである。例えば、後述するエネルギー照射が、基体側から行われる場合には、基体が透明である必要がある。
(4) Substrate Next, the substrate used in this step will be described. The material of the substrate used in this step is not particularly limited, and is appropriately selected depending on the purpose of the organic photoelectric conversion element and the energy irradiation method in the wettability changing step described later. For example, when energy irradiation described later is performed from the substrate side, the substrate needs to be transparent.

また本発明に用いられる基体は、可撓性を有するもの、例えば樹脂製フィルム等であってもよいし、可撓性を有さないもの、例えばガラス基板等であってもよい。さらに、基体は後述する第1電極そのものであってもよいが、通常は強度を保持する基体上に第1電極が形成される。   The substrate used in the present invention may be a flexible substrate such as a resin film, or may be a non-flexible substrate such as a glass substrate. Further, the substrate may be the first electrode itself, which will be described later, but usually the first electrode is formed on the substrate that maintains strength.

また、本発明においては、基体上に遮光部を設けてもよい。遮光部を形成した場合には、後述する濡れ性変化工程において濡れ性変化パターンを形成する際に、基体側からエネルギーを照射することにより、マスクやレーザーによる描画等を用いることなく、遮光部が設けられていない部分の光触媒含有層表面の濡れ性を変化させることが可能となる。したがって、光触媒含有層とマスクとの位置合わせが不要であることから、簡便な工程とすることが可能であり、また描画照射に必要な高価な装置も不必要であることから、コスト的に有利となるという利点を有する。   In the present invention, a light shielding part may be provided on the substrate. When the light shielding part is formed, when the wettability change pattern is formed in the wettability changing process described later, the light shielding part is formed without using a mask or a laser by irradiating energy from the substrate side. It becomes possible to change the wettability of the surface of the photocatalyst-containing layer in a portion not provided. Therefore, since alignment between the photocatalyst-containing layer and the mask is unnecessary, a simple process can be achieved, and an expensive apparatus necessary for drawing irradiation is unnecessary, which is advantageous in terms of cost. It has the advantage of becoming.

このような遮光部の形成位置としては、基体上に遮光部を形成し、その上から光触媒含有層を形成する場合、すなわち基体と光触媒含有層との間に形成する場合と、基体の光触媒含有層が形成されていない側の表面にパターン状に形成する場合とがある。   Such a light-shielding portion is formed at a position where a light-shielding portion is formed on a substrate and a photocatalyst-containing layer is formed thereon, that is, when the photocatalyst-containing layer is formed between the substrate and the photocatalyst-containing layer. In some cases, a pattern is formed on the surface on which the layer is not formed.

上記遮光部の形成方法は、特に限定されるものではなく、遮光部の形成面の特性や、必要とするエネルギーに対する遮蔽性等に応じて適宜選択されて用いられる。   The method for forming the light-shielding part is not particularly limited, and is appropriately selected and used depending on the characteristics of the surface on which the light-shielding part is formed, the shielding property against required energy, and the like.

例えば、スパッタリング法、真空蒸着法等により厚み1000〜2000Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングすることにより形成されてもよい。このパターニングの方法としては、スパッタ等の通常のパターニング方法を用いることができる。   For example, it may be formed by forming a metal thin film of chromium or the like having a thickness of about 1000 to 2000 mm by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like, and patterning the thin film. As this patterning method, a normal patterning method such as sputtering can be used.

また、樹脂バインダ中にカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含有させた層をパターン状に形成する方法であってもよい。用いられる樹脂バインダとしては、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の樹脂を1種または2種以上混合したものや、感光性樹脂、さらにはO/Wエマルジョン型の樹脂組成物、例えば、反応性シリコーンをエマルジョン化したもの等を用いることができる。このような樹脂製遮光部の厚みとしては、0.5〜10μmの範囲内で設定することができる。このような樹脂製遮光部のパターニングの方法は、フォトリソ法、印刷法等一般的に用いられている方法を用いることができる。   Alternatively, a method may be used in which a layer containing light-shielding particles such as carbon fine particles, metal oxides, inorganic pigments, and organic pigments in a resin binder is formed in a pattern. As the resin binder to be used, polyimide resin, acrylic resin, epoxy resin, polyacrylamide, polyvinyl alcohol, gelatin, casein, cellulose, or a mixture of one or more kinds, photosensitive resin, or O / A W emulsion type resin composition, for example, an emulsion of a reactive silicone can be used. The thickness of such a resin light-shielding portion can be set within a range of 0.5 to 10 μm. As a method for patterning such a resin light shielding portion, a generally used method such as a photolithography method or a printing method can be used.

(5)第1電極
次に、本工程に用いられる第1電極について説明する。本工程に用いられる第1電極は、上記基体上に形成されるものであり、後述する第2電極に対向する電極として形成されるものである。第1電極は陽極、陰極のいずれであってもよいが、通常は陽極とされる。また、第1電極は、透明または半透明であってもよく、透明または半透明でなくてもよいが、後述する濡れ性変化工程でのエネルギーの照射方法や、光の取出し面あるいは受取り面によって適宜選択される。
(5) 1st electrode Next, the 1st electrode used for this process is demonstrated. The 1st electrode used for this process is formed on the above-mentioned base, and is formed as an electrode which counters the 2nd electrode mentioned below. The first electrode may be either an anode or a cathode, but is usually an anode. The first electrode may be transparent or translucent, and may not be transparent or translucent. However, depending on the energy irradiation method, the light extraction surface, or the light reception surface, which will be described later, It is selected appropriately.

第1電極としては、陽極である場合、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料を用いることが好ましく、さらには抵抗ができるだけ小さい導電性材料を用いることが好ましい。このような陽極に用いられる導電性材料としては、一般に金属材料が用いられるが、有機物あるいは無機化合物を用いてもよい。具体的にはITO、酸化インジウム、金、ポリアニリン等が挙げられる。   When the first electrode is an anode, a conductive material having a high work function is preferably used so that holes can be easily injected, and a conductive material having a resistance as low as possible is preferably used. As a conductive material used for such an anode, a metal material is generally used, but an organic substance or an inorganic compound may be used. Specific examples include ITO, indium oxide, gold, and polyaniline.

また、上記第1電極は、基体上に全面に形成されていてもよく、パターン状に形成されていてもよい。この第1電極の形成方法としては、一般的な電極の形成方法を用いることができ、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のPVD法や、CVD法などを挙げることができる。また、第1電極をパターン状に形成する場合のパターニング方法としては、第1電極を所望のパターンに精度よく形成することができる方法であれば特に限定されないが、具体的にはフォトリソ法等を挙げることができる。   Further, the first electrode may be formed on the entire surface of the substrate or may be formed in a pattern. As a method for forming the first electrode, a general electrode forming method can be used, and examples thereof include a PVD method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method, a CVD method, and the like. The patterning method for forming the first electrode in a pattern is not particularly limited as long as the first electrode can be accurately formed in a desired pattern. Specifically, a photolithography method or the like is used. Can be mentioned.

2.ドーピング工程
次に、本発明の有機光電変換素子の製造方法におけるドーピングについて説明する。本発明におけるドーピング工程は、上記光触媒含有層に光電変換特性向上物質をドープする工程である。
2. Doping Step Next, doping in the method for producing the organic photoelectric conversion element of the present invention will be described. The doping step in the present invention is a step of doping the photocatalyst containing layer with a photoelectric conversion property improving substance.

本発明においては、上述した光触媒含有層形成工程後に、このドーピング工程を行うことにより、光触媒含有層形成用塗工液中に光電変換特性向上物質を添加する必要がないため、光触媒含有層形成用塗工液中での光触媒の凝集を防止することができ、光電変換特性の良好な有機光電変換素子を製造することが可能である。
以下、ドーピング工程の各構成について説明する。
In the present invention, by performing this doping step after the above-described photocatalyst-containing layer forming step, it is not necessary to add a photoelectric conversion property improving substance in the photocatalyst-containing layer forming coating solution. Aggregation of the photocatalyst in the coating liquid can be prevented, and an organic photoelectric conversion element having good photoelectric conversion characteristics can be produced.
Hereinafter, each configuration of the doping process will be described.

(1)光電変換特性向上物質
まず、本工程に用いられる光電変換特性向上物質について説明する。本工程に用いられる光電変換特性向上物質としては、有機光電変換層の光電変換特性を高める物質、例えば第1電極および第2電極から有機光電変換層への正孔または電子の注入を促進する物質、あるいは有機光電変換層から第1電極および第2電極への正孔または電子の輸送を促進する物質であれば特に限定されるものではない。
(1) Substance for improving photoelectric conversion characteristics First, the substance for improving photoelectric conversion characteristics used in this step will be described. The photoelectric conversion property improving substance used in this step is a substance that enhances the photoelectric conversion characteristics of the organic photoelectric conversion layer, for example, a substance that promotes injection of holes or electrons from the first electrode and the second electrode to the organic photoelectric conversion layer. Alternatively, the substance is not particularly limited as long as it is a substance that promotes transport of holes or electrons from the organic photoelectric conversion layer to the first electrode and the second electrode.

このような光電変換特性向上物質としては、例えば金属塩、ハロゲン、ルイス酸等が挙げられる。   Examples of such a photoelectric conversion property improving substance include metal salts, halogens, Lewis acids and the like.

金属塩としては、例えばFeCl、FeCl、Cr(NO、CrCl、NaNO、Ca(NO、Sr(NO、Co(NO、CoCl、Cd(NO、Mg(NO、Cu(CHCOO)、Cu(NO、Ni(NO、Mn(NO、MnCl、PbNO、RuCl、IrCl、Ir(NO、ScCl、Sc(NO、HPtCl、RhCl、Tb(NO、Pr(NO、Dy(NO、Sm(NO、Ga(NO、Gb(NO、Yb(NO、NbCl、ZrCl、Zr(NO、KNO、LiNO、HAsCl、Pd(NO、Eu(NO、Nd(NO、NiCl、Ce(NO、CsNO、Er(NO、Ba(NO)2、La(NO、AgCl、CHCH(OH)COOAg、AgNO、TlNO、Y(NO、Pb(NO、Ho(NO、Bi(NO等を挙げることができる。本発明においては、これらの中でもFeまたはCuの金属塩を用いることが好ましく、特にFeCl、FeCl、Cu(NO、Cu(CHCOO)が光電変換特性向上に好ましい。 Examples of the metal salt include FeCl 2 , FeCl 3 , Cr (NO 3 ) 3 , CrCl 3 , NaNO 3 , Ca (NO 3 ) 2 , Sr (NO 3 ) 2 , Co (NO 3 ) 2 , CoCl 2 , Cd (NO 3 ) 2 , Mg (NO 3 ) 2 , Cu (CH 3 COO) 2 , Cu (NO 3 ) 2 , Ni (NO 3 ) 2 , Mn (NO 3 ) 2 , MnCl 2 , PbNO 3 , RuCl 3 , IrCl 4 , Ir (NO 3 ) 3 , ScCl 3 , Sc (NO 3 ) 3 , H 2 PtCl 6 , RhCl 3 , Tb (NO 3 ) 3 , Pr (NO 3 ) 3 , Dy (NO 3 ) 3 , sm (NO 3) 3, Ga (NO 3) 3, Gb (NO 3) 3, Yb (NO 3) 3, NbCl 5, ZrCl 4, Zr (NO 3) 2, KNO 3, LiNO 3, hAsC 4, Pd (NO 3) 2 , Eu (NO 3) 2, Nd (NO 3) 2, NiCl 3, Ce (NO 3) 3, CsNO 3, Er (NO 3) 3, Ba (NO 3) 2, La (NO 3 ) 3 , AgCl, CH 3 CH (OH) COOAg, AgNO 3 , TlNO 3 , Y (NO 3 ) 3 , Pb (NO 3 ) 2 , Ho (NO 3 ) 3 , Bi (NO 3 ) 3 Etc. In the present invention, among these, it is preferable to use a metal salt of Fe or Cu, and FeCl 2 , FeCl 3 , Cu (NO 3 ) 2 , and Cu (CH 3 COO) 2 are particularly preferable for improving the photoelectric conversion characteristics.

また、ハロゲンとしては、I(ヨウ素)、Cl、Br、ICl、ICl、IBr、IF等が挙げられる。 Examples of the halogen include I 2 (iodine), Cl 2 , Br 2 , ICl, ICl 3 , IBr, IF 3 and the like.

さらに、ルイス酸としては、PF、AsF、SbF等が挙げられる。 Furthermore, examples of the Lewis acid include PF 5 , AsF 5 , SbF 5 and the like.

本発明に用いられる光電変換特性向上物質としては、上記の中でも、FeまたはCuの金属塩、あるいはI(ヨウ素)であることが好ましい。これらの物質は、後述するように光電変換特性を向上させる効果が高いからである。 Among the above, the photoelectric conversion property improving substance used in the present invention is preferably a metal salt of Fe or Cu, or I 2 (iodine). This is because these substances have a high effect of improving photoelectric conversion characteristics as described later.

図2および図3に、FeClがドープされた光触媒含有層を有する有機EL素子の電流−電圧特性および発光輝度−電圧特性をそれぞれ示す。光触媒含有層にFeClをドープすることにより、図2に示すように同印加電圧における電流が高まり、また、図3に示すように発光開始電圧が低くなり、同印加電圧における発光輝度も高まることがわかる。
なお、図2における電流−電圧特性は、2mm×2mm角の範囲に流れる電流値を測定したものである。
2 and 3 show the current-voltage characteristics and the light emission luminance-voltage characteristics, respectively, of an organic EL element having a photocatalyst containing layer doped with FeCl 3 . By doping the photocatalyst containing layer with FeCl 3 , the current at the same applied voltage is increased as shown in FIG. 2, and the emission start voltage is lowered as shown in FIG. 3, and the emission luminance at the same applied voltage is also increased. I understand.
The current-voltage characteristic in FIG. 2 is obtained by measuring the value of current flowing in a 2 mm × 2 mm square range.

また図4に、FeClまたはヨウ素がドープされた光触媒含有層を有する有機EL素子の発光効率−電圧特性を示す。図4に示すように、光触媒含有層にFeClまたはヨウ素をドープすることにより、発光効率が向上することがわかる。特に、ヨウ素をドープした場合は、低電圧側での発光効率が向上する。 FIG. 4 shows the light emission efficiency-voltage characteristics of an organic EL device having a photocatalyst containing layer doped with FeCl 3 or iodine. As shown in FIG. 4, it can be seen that the luminous efficiency is improved by doping the photocatalyst-containing layer with FeCl 3 or iodine. In particular, when iodine is doped, the light emission efficiency on the low voltage side is improved.

また、光触媒含有層にドープされた光電変換特性向上物質は、光触媒含有層中で分子として存在していてもよく、またイオンとして存在していてもよいが、本発明においてはイオンとして存在していることが好ましい。   Moreover, the photoelectric conversion property improving substance doped in the photocatalyst containing layer may exist as a molecule in the photocatalyst containing layer or may exist as an ion, but in the present invention, it exists as an ion. Preferably it is.

(2)光電変換特性向上物質のドープ
次に、本工程に用いられる光電変換特性向上物質をドープする方法について説明する。上記光電変換特性向上物質をドープする方法としては、光電変換特性向上物質を光触媒含有層にドープすることが可能な方法であれば特に限定されるものはないが、例えば、(i)光電変換特性向上物質を含有する光電変換特性向上物質含有液を光触媒含有層に接触させる方法、または(ii)光電変換特性向上物質を気化させ、上記光触媒含有層にドープする方法が挙げられる。これらの方法は、上記光電変換特性向上物質の種類によって適宜選択される。
(2) Doping of photoelectric conversion property improving substance Next, a method of doping a photoelectric conversion property improving substance used in this step will be described. The method for doping the photoelectric conversion property-improving substance is not particularly limited as long as it is a method capable of doping the photoelectric conversion property-improving substance into the photocatalyst-containing layer. For example, (i) photoelectric conversion property Examples include a method of bringing a photoelectric conversion property improving substance-containing liquid containing an improving substance into contact with the photocatalyst containing layer, or (ii) a method of vaporizing the photoelectric conversion property improving substance and doping the photocatalyst containing layer. These methods are appropriately selected depending on the type of the photoelectric conversion property improving substance.

上記(i)の場合、用いられる光電変換特性向上物質含有液としては、光電変換特性向上物質が溶媒に溶解または分散されているものであれば特に限定されないが、中でも光電変換特性向上物質が溶媒に溶解しているものであることが好ましい。光触媒含有層にドープされた光電変換特性向上物質は、上述したように光触媒含有層中でイオンとして存在していることが好ましいからである。   In the case of (i), the photoelectric conversion property-improving substance-containing liquid used is not particularly limited as long as the photoelectric conversion property-improving substance is dissolved or dispersed in a solvent. It is preferable that it is dissolved in. This is because the photoelectric conversion property improving substance doped in the photocatalyst containing layer is preferably present as ions in the photocatalyst containing layer as described above.

上記光電変換特性向上物質含有液に用いられる溶媒としては、光電変換特性向上物質が溶解または分散するものであり、かつ光触媒含有層上に塗布した際に、光触媒含有層に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、上述したように光電変換特性向上物質が溶解するものを用いることが好ましい。   The solvent used in the photoelectric conversion property-improving substance-containing liquid is one that dissolves or disperses the photoelectric conversion property-improving substance and does not adversely affect the photocatalyst-containing layer when applied on the photocatalyst-containing layer. Although it will not specifically limit if it exists, it is preferable to use what melt | dissolves the photoelectric conversion characteristic improvement substance as mentioned above.

また、光電変換特性向上物質含有液の光触媒含有層への接触方法としては、光触媒含有層に光電変換特性向上物質をドープすることが可能な方法であれば特に限定されるものではなく、例えば光触媒含有層を光電変換特性向上物質含有液に浸漬させる方法、光触媒含有層上に光電変換特性向上物質含有液を塗布する方法、または光触媒含有層上に光電変換特性向上物質含有液を滴下する方法等が挙げられる。   In addition, the method for contacting the photoelectric conversion property-improving substance-containing liquid with the photocatalyst-containing layer is not particularly limited as long as the method can dope the photoelectric conversion property-improving substance into the photocatalyst-containing layer. A method of immersing the containing layer in a photoelectric conversion property improving substance-containing liquid, a method of applying a photoelectric conversion property improving substance-containing liquid on the photocatalyst containing layer, a method of dropping a photoelectric conversion characteristic improving substance-containing liquid on the photocatalyst containing layer, etc. Is mentioned.

上記の塗布する方法を用いる場合、塗布方法としては一般的な方法を用いることができ、例えばスプレーコート、ディップコート、ロールコート、ブレードコート、スピンコート等、あるいはインクジェット、電界ジェット、ディスペンサーを用いる方法等を含むノズル吐出法などが挙げられる。   When using the above coating method, a general method can be used as the coating method, for example, spray coating, dip coating, roll coating, blade coating, spin coating, etc., or a method using an inkjet, an electric field jet, or a dispenser. Nozzle discharge methods including the like.

この上記(i)の場合に用いられる光電変換特性向上物質としては、上述したものであればいずれを用いてもよい。   As the photoelectric conversion property improving substance used in the case of (i), any of the above-described substances may be used.

一方、上記(ii)の場合は、光電変換特性向上物質を気化させることから、用いられる光電変換特性向上物質としては、上述した中でもヨウ素であることが好ましい。ヨウ素を昇華させることにより、光触媒含有層にドープすることができるからである。   On the other hand, in the case of (ii) above, since the photoelectric conversion property improving substance is vaporized, the photoelectric conversion property improving substance used is preferably iodine among the above-described substances. This is because the photocatalyst-containing layer can be doped by sublimating iodine.

この場合、例えば密閉容器内にヨウ素と、第1電極および光触媒含有層が形成された基体と設置し、ヨウ素を昇華させることにより光触媒含有層にドープすることができる。   In this case, for example, iodine can be doped into the photocatalyst-containing layer by placing iodine and a substrate on which the first electrode and the photocatalyst-containing layer are formed and sublimating iodine.

上記光電変換特性向上物質を気化させる温度としては、光電変換特性向上物質の種類によって異なるが、ヨウ素用いた場合には、常温以上であればよい。   The temperature at which the photoelectric conversion characteristic improving substance is vaporized varies depending on the type of the photoelectric conversion characteristic improving substance, but when iodine is used, it may be at room temperature or higher.

また本発明において、光電変換特性向上物質のドーピング量としては、光触媒含有層の構成材料である光触媒やバインダ、あるいは光電変換特性向上物質の種類によって異なるものであるが、具体的には光触媒含有層中の酸化チタンおよびバインダの和の1重量部に対して0.0001〜100重量部の範囲内であることが好ましく、中でも0.01〜10重量部の範囲内であることが好ましい。上記ドーピング量が少なすぎると光電変換特性を向上させる効果が十分に得られない可能性があり、逆に多すぎると発光輝度特性が低下するからである。   In the present invention, the amount of doping of the photoelectric conversion property improving substance varies depending on the photocatalyst and binder, which are constituent materials of the photocatalyst containing layer, or the kind of the photoelectric conversion property improving substance. It is preferably in the range of 0.0001 to 100 parts by weight, more preferably in the range of 0.01 to 10 parts by weight, with respect to 1 part by weight of the sum of the titanium oxide and the binder. This is because if the doping amount is too small, the effect of improving the photoelectric conversion characteristics may not be sufficiently obtained, and conversely, if the doping amount is too large, the light emission luminance characteristics deteriorate.

なお、上記ドーピング量は、例えば光電変換特性向上物質含有液を接触させる時間や、光電変換特性向上物質を気化させる時間などを変えることにより制御することができる。本発明においては、このような時間等の条件を予め実験等を行うことにより決定するものとする。   The doping amount can be controlled, for example, by changing the time for contacting the photoelectric conversion property improving substance-containing liquid, the time for vaporizing the photoelectric conversion property improving substance, and the like. In the present invention, such conditions such as time are determined in advance through experiments or the like.

3.濡れ性変化工程
次に、本発明の有機光電変換素子の製造方法における濡れ性変化工程について説明する。本発明における濡れ性変化工程は、上記光触媒含有層にエネルギーを照射し、上記光触媒含有層の濡れ性を変化させる工程である。本発明においては、このような濡れ性変化工程は必須の工程ではないが、光触媒含有層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成することができるので、有機光電変換層のパターニングを要する場合は特に有用である。
3. Next, the wettability change process in the manufacturing method of the organic photoelectric conversion element of this invention is demonstrated. The wettability changing step in the present invention is a step of changing the wettability of the photocatalyst containing layer by irradiating the photocatalyst containing layer with energy. In the present invention, such a wettability changing step is not an essential step, but since a wettability changing pattern in which the wettability of the photocatalyst-containing layer is changed can be formed, patterning of the organic photoelectric conversion layer is required. Is particularly useful.

上記光触媒含有層における、上述した酸化チタンに代表される光触媒による作用機構は、必ずしも明確なものではないが、エネルギーの照射によって光触媒に生成したキャリアが、近傍の化合物との直接反応、あるいは酸素、水の存在下で生じた活性酸素種によって、有機物の化学構造に変化を及ぼすものと考えられている。本発明においては、このキャリアが光触媒含有層内のバインダに作用を及ぼし、その表面の濡れ性を変化させるものであると考えられる。   The mechanism of action of the photocatalyst typified by the above-described titanium oxide in the photocatalyst-containing layer is not necessarily clear, but carriers generated in the photocatalyst by irradiation of energy react directly with nearby compounds, or oxygen, The reactive oxygen species generated in the presence of water is thought to change the chemical structure of organic matter. In the present invention, it is considered that this carrier acts on the binder in the photocatalyst-containing layer and changes the wettability of the surface.

本工程におけるエネルギーの照射方法は、光触媒含有層の濡れ性を変化させることが可能な方法であれば、特に限定されるものではない。   The energy irradiation method in this step is not particularly limited as long as it is a method capable of changing the wettability of the photocatalyst-containing layer.

なお、本発明でいうエネルギー照射(露光)とは、光触媒含有層表面の濡れ性を変化させることが可能ないかなるエネルギー線の照射をも含む概念であり、可視光の照射に限定されるものではない。   The energy irradiation (exposure) in the present invention is a concept including irradiation of any energy ray capable of changing the wettability of the surface of the photocatalyst containing layer, and is not limited to visible light irradiation. Absent.

また、光触媒含有層表面に濡れ性変化パターンを形成する場合、エネルギーの照射は、目的とするパターンが形成された、例えばフォトマスク等のマスクを用いて行ってもよい。これにより、目的とするパターン状にエネルギーを照射することが可能となり、光触媒含有層の濡れ性をパターン状に変化させることができるからである。この際、用いられるマスクの種類としては、目的とするパターン状にエネルギーが照射可能であれば、特に限定されるものではなく、エネルギーを透過する素材に遮光部が形成されたフォトマスク等であってもよく、また目的とするパターン状に孔部が形成されているシャドウマスク等であってもよい。また、これらのマスクの材料として、具体的には金属、ガラスやセラミック等の無機物、またはプラスチック等の有機物等を挙げることができる。   In addition, when a wettability change pattern is formed on the surface of the photocatalyst-containing layer, energy irradiation may be performed using a mask such as a photomask on which a target pattern is formed. This is because it is possible to irradiate the target pattern with energy, and the wettability of the photocatalyst-containing layer can be changed to the pattern. In this case, the type of mask used is not particularly limited as long as the target pattern can be irradiated with energy, and is a photomask in which a light-shielding portion is formed on a material that transmits energy. Alternatively, a shadow mask or the like in which holes are formed in a desired pattern may be used. Specific examples of materials for these masks include metals, inorganic materials such as glass and ceramics, and organic materials such as plastics.

さらに、上述したように光触媒含有層表面に濡れ性変化パターンを形成する場合であって、上記基体上に遮光部が形成されている場合には、エネルギーの照射は、この遮光部を利用して、基体側から全面に露光を行うものであってもよい。これにより、上記遮光部が形成されていない位置の光触媒含有層にのみエネルギーを照射することができ、この光触媒含有層の濡れ性を変化させることができるからである。この場合、上記マスクやレーザー等による描画の必要がないことから、位置合わせや高価な描画装置等が必要としないという利点がある。   Furthermore, as described above, when the wettability change pattern is formed on the surface of the photocatalyst-containing layer and the light shielding portion is formed on the substrate, energy irradiation is performed using this light shielding portion. Alternatively, the entire surface may be exposed from the substrate side. Thereby, energy can be irradiated only to the photocatalyst containing layer at a position where the light shielding portion is not formed, and the wettability of the photocatalyst containing layer can be changed. In this case, since there is no need to perform drawing with the mask, laser, or the like, there is an advantage that alignment or an expensive drawing apparatus is not required.

上記エネルギー照射に用いられる光の波長は、通常400nm以下の範囲、好ましくは150nm〜380nmの範囲内から設定される。これは、上述したように光触媒含有層に用いられる好ましい光触媒が酸化チタンであり、この酸化チタンにより光触媒作用を活性化させるエネルギーとして、上述した波長の光が好ましいからである。   The wavelength of the light used for the energy irradiation is usually set in the range of 400 nm or less, preferably in the range of 150 nm to 380 nm. This is because the preferable photocatalyst used in the photocatalyst-containing layer is titanium oxide as described above, and light having the above-described wavelength is preferable as energy for activating the photocatalytic action by the titanium oxide.

このようなエネルギー照射に用いることができる光源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマランプ、その他種々の光源を挙げることができる。   Examples of light sources that can be used for such energy irradiation include mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, excimer lamps, and various other light sources.

また、上述したように光触媒含有層表面に濡れ性変化パターンを形成する場合は、エキシマ、YAG等のレーザーを用いてエネルギー照射を行ってもよい。レーザーを用いてエネルギー照射を行うことにより、上述したフォトマスク等の位置合わせ等が必要なく、また基体上に遮光部を形成することなく、高精細に光触媒含有層の濡れ性を変化させることができるのである。   Moreover, when forming a wettability change pattern in the photocatalyst containing layer surface as mentioned above, you may irradiate energy using lasers, such as an excimer and YAG. By performing energy irradiation using a laser, it is possible to change the wettability of the photocatalyst-containing layer with high definition without the need for alignment of the above-described photomask or the like and without forming a light-shielding portion on the substrate. It can be done.

上記エネルギー照射に際してのエネルギーの照射量は、光触媒含有層中の光触媒の作用により光触媒含有層表面の濡れ性の変化が行われるのに必要な照射量とする。   The energy irradiation amount at the time of the energy irradiation is an irradiation amount necessary for changing the wettability of the surface of the photocatalyst containing layer by the action of the photocatalyst in the photocatalyst containing layer.

この際、光触媒含有層を加熱しながらエネルギー照射することにより、感度を上昇させることが可能となり、効率的な濡れ性の変化を行うことができる点で好ましい。具体的には30℃〜80℃の範囲内で加熱することが好ましい。   At this time, it is preferable in that the sensitivity can be increased by irradiating the photocatalyst-containing layer with energy while heating, and the wettability can be changed efficiently. Specifically, it is preferable to heat within a range of 30 ° C to 80 ° C.

本発明において、光触媒含有層は、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化するものであり、液体との接触角が低下する方向に変化する。これにより、光触媒含有層表面に、エネルギー照射された部分の親液性領域を形成することができる。また、パターン状にエネルギーを照射した場合は、エネルギー照射された部分の親液性領域と、エネルギー未照射部分の撥液性領域とからなる濡れ性変化パターンを形成することが可能となる。   In the present invention, the photocatalyst-containing layer changes wettability due to the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation, and changes in a direction in which the contact angle with the liquid decreases. Thereby, the lyophilic area | region of the part irradiated with energy can be formed in the photocatalyst content layer surface. In addition, when energy is irradiated in a pattern, it is possible to form a wettability change pattern including a lyophilic region of the irradiated portion and a lyophobic region of the non-irradiated portion.

ここで、親液性領域とは、液体との接触角が小さい領域であり、有機光電変換層形成用塗工液に対する濡れ性の良好な領域をいうこととする。また、撥液性領域とは、液体との接触角が大きい領域であり、有機光電変換層形成用塗工液に対する濡れ性が悪い領域をいうこととする。   Here, the lyophilic region is a region having a small contact angle with the liquid, and refers to a region having good wettability with respect to the coating liquid for forming an organic photoelectric conversion layer. Further, the liquid repellent region is a region having a large contact angle with the liquid, and refers to a region having poor wettability with respect to the organic photoelectric conversion layer forming coating solution.

なお、本発明においては、隣接する領域の液体との接触角より、液体との接触角が1°以上低い場合には親液性領域、隣接する領域の液体との接触角より、液体との接触角が1°以上高い場合には撥液性領域とすることとする。   In the present invention, when the contact angle with the liquid in the adjacent region is 1 ° or more lower than the contact angle with the liquid in the adjacent region, the contact with the liquid is determined from the contact angle with the liquid in the lyophilic region or the adjacent region. When the contact angle is higher than 1 °, the liquid repellent region is used.

エネルギー照射により形成される親液性領域と、エネルギー未照射の撥液性領域との、有機光電変換層形成用塗工液に対する接触角が、少なくとも1°以上、好ましくは5°以上、特に10°以上異なることが好ましい。   The contact angle between the lyophilic region formed by energy irradiation and the liquid repellent region not irradiated with energy with respect to the coating solution for forming an organic photoelectric conversion layer is at least 1 ° or more, preferably 5 ° or more, particularly 10 It is preferable that they differ by more than °.

また、上記光触媒含有層は、エネルギー照射した部分、すなわち親水性領域においては、エネルギー照射により液体との接触角が低下して、表面張力40mN/mの液体との接触角が9°以下、好ましくは表面張力50mN/mの液体との接触角が10°以下、特に表面張力60mN/mの液体との接触角が10°以下の濡れ性を示すことが好ましい。エネルギー照射した部分、すなわち親液性領域における液体との接触角が高いと、有機光電変換層を形成する際に、この部分での有機光電変換層形成用塗工液の広がりが劣る可能性があり、有機光電変換層の欠け等の問題が生じる可能性があるからである。   In the photocatalyst-containing layer, in the energy irradiated portion, that is, in the hydrophilic region, the contact angle with the liquid is reduced by the energy irradiation, and the contact angle with the liquid having a surface tension of 40 mN / m is preferably 9 ° or less. It is preferable that the contact angle with a liquid having a surface tension of 50 mN / m is 10 ° or less, and in particular, the contact angle with a liquid having a surface tension of 60 mN / m is 10 ° or less. If the contact angle with the energy irradiated part, that is, the liquid in the lyophilic region is high, when the organic photoelectric conversion layer is formed, the spread of the coating liquid for forming the organic photoelectric conversion layer in this part may be inferior. This is because problems such as chipping of the organic photoelectric conversion layer may occur.

一方、上記光触媒含有層は、エネルギー照射していない部分、すなわち撥水性領域においては、表面張力40mN/mの液体との接触角が10°以上、好ましくは表面張力30mN/mの液体との接触角が10°以上、特に表面張力20mN/mの液体との接触角が10°以上の濡れ性を示すことが好ましい。エネルギー照射していない部分は、撥液性が要求される部分であることから、液体との接触角が小さい場合は、撥液性が十分でなく、有機光電変換層を形成する際に、有機光電変換層形成用塗工液が残存する可能性があるからである。   On the other hand, the photocatalyst-containing layer has a contact angle with a liquid with a surface tension of 40 mN / m in a portion not irradiated with energy, that is, a water-repellent region, preferably with a liquid with a surface tension of 30 mN / m. It is preferable that the contact angle with a liquid having an angle of 10 ° or more, particularly a surface tension of 20 mN / m, is 10 ° or more. Since the part not irradiated with energy is a part that requires liquid repellency, when the contact angle with the liquid is small, the liquid repellency is not sufficient, and when forming the organic photoelectric conversion layer, organic This is because the photoelectric conversion layer forming coating solution may remain.

なお、ここでいう液体との接触角は、種々の表面張力を有する液体との接触角を接触角測定器(協和界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測定(マイクロシリンジから液滴を滴下して30秒後)し、その結果から、もしくはその結果をグラフにして得たものである。また、この測定に際して、種々の表面張力を有する液体としては、純正化学株式会社製のぬれ指数標準液を用いた。   In addition, the contact angle with the liquid here is measured using a contact angle measuring instrument (Kyowa Interface Science Co., Ltd. CA-Z type) with a liquid having various surface tensions (from the microsyringe to the liquid. 30 seconds after dropping), and the result was obtained or the result was graphed. In this measurement, as a liquid having various surface tensions, a wetting index standard solution manufactured by Pure Chemical Co., Ltd. was used.

4.有機光電変換層形成工程
次に、本発明の有機光電変換素子の製造方法における有機光電変換層形成工程について説明する。本発明における有機光電変換層形成工程は、上記光電変換特性向上物質がドープされ、かつ濡れ性が変化した上記光触媒含有層上に有機光電変換層形成用塗工液を塗布し、有機光電変換層を形成する工程である。
4). Organic photoelectric conversion layer formation process Next, the organic photoelectric conversion layer formation process in the manufacturing method of the organic photoelectric conversion element of this invention is demonstrated. In the organic photoelectric conversion layer forming step in the present invention, the organic photoelectric conversion layer-forming coating liquid is applied onto the photocatalyst-containing layer doped with the photoelectric conversion property improving substance and having changed wettability. Is a step of forming.

本工程においては、上記濡れ性変化工程でのエネルギー照射により、光触媒含有層表面の濡れ性が液体との接触角が低下する方向に変化しているので、光触媒含有層上への有機光電変換層形成用塗工液の塗布が容易となる。   In this step, the wettability of the surface of the photocatalyst containing layer is changed in the direction in which the contact angle with the liquid decreases due to the energy irradiation in the wettability changing step, so that the organic photoelectric conversion layer on the photocatalyst containing layer Application of the forming coating solution is facilitated.

また、光触媒含有層表面に濡れ性変化パターンが形成されている場合は、この濡れ性変化パターンの濡れ性の差を利用することにより、容易に有機光電変換層を高精細にパターン状に形成することが可能となる。   In addition, when a wettability change pattern is formed on the surface of the photocatalyst-containing layer, an organic photoelectric conversion layer is easily formed in a pattern with high definition by using the wettability difference of the wettability change pattern. It becomes possible.

本発明に用いられる有機光電変換層形成用塗工液としては、有機光電変換素子の機能、有機光電変換素子の形成方法等によって大きく異なるものであるが、例えば、紫外線硬化型モノマー等に代表される溶剤で希釈されていないものや、溶剤で希釈または溶解した液体状のもの等を用いることができる。   The coating liquid for forming an organic photoelectric conversion layer used in the present invention varies greatly depending on the function of the organic photoelectric conversion element, the method of forming the organic photoelectric conversion element, etc. Those that are not diluted with a solvent or liquid that is diluted or dissolved with a solvent can be used.

本発明に用いられる有機光電変換層形成用塗工液としては、上記親液性領域に付着させることにより有機光電変換層となるものであってもよく、また親液性領域上に付着させた後、薬剤により処理され、もしくは紫外線、熱等により処理された後に有機光電変換層となるものであってもよい。   The organic photoelectric conversion layer forming coating solution used in the present invention may be an organic photoelectric conversion layer by being attached to the lyophilic region, or may be attached to the lyophilic region. Then, it may be an organic photoelectric conversion layer after being treated with a chemical agent or treated with ultraviolet rays, heat or the like.

上記有機光電変換層形成用塗工液の塗布方法としては、上記の濡れ性が変化した光触媒含有層上に塗布することが可能な方法であれば特に限定されるものではないが、有機光電変換層を均一かつ高精細に形成することが可能な方法であることが好ましい。このような塗布方法としては、例えばディップコート、ロールコート、ブレードコート、スピンコート等の塗布法、インクジェット、電界ジェット、ディスペンサーを用いる方法等を含むノズル吐出法等を挙げることができる。   The method for applying the organic photoelectric conversion layer-forming coating solution is not particularly limited as long as it is a method that can be applied onto the photocatalyst-containing layer with changed wettability, but organic photoelectric conversion is not limited. It is preferable that the method be capable of forming the layer uniformly and with high definition. Examples of such a coating method include a coating method such as dip coating, roll coating, blade coating, and spin coating, and a nozzle discharge method including a method using an inkjet, an electric field jet, and a dispenser.

また本発明において、有機光電変換層をパターニングする場合、このパターニングは、有機光電変換層形成用塗工液の状態でパターニングを行う方法の他、有機光電変換層形成用塗工液を固化させた後、有機光電変換層が形成された状態で撥液性領域上の有機光電変換層の部分のみを剥離して行うこともできる。このようなパターニングの方法としては、例えば有機光電変換層形成用塗工液の固化前に基体を傾斜させる方法、エアーを吹き付ける方法、あるいは、有機光電変換層形成用塗工液の固化後に粘着テープを貼って剥がす方法などが挙げられる。   Moreover, in this invention, when patterning an organic photoelectric converting layer, this patterning solidified the organic photoelectric converting layer forming coating liquid other than the method of patterning in the state of the organic photoelectric converting layer forming coating liquid. Thereafter, only the portion of the organic photoelectric conversion layer on the liquid repellent region may be peeled off in a state where the organic photoelectric conversion layer is formed. As such a patterning method, for example, a method of inclining the substrate before the organic photoelectric conversion layer forming coating liquid is solidified, a method of spraying air, or an adhesive tape after the organic photoelectric conversion layer forming coating liquid is solidified The method of sticking and peeling off is mentioned.

5.第2電極形成工程
本発明においては、上記有機光電変換層形成工程後、上記有機光電変換層上に第2電極を形成する第2電極形成工程が行われる。
5. Second electrode formation step In the present invention, after the organic photoelectric conversion layer formation step, a second electrode formation step of forming a second electrode on the organic photoelectric conversion layer is performed.

本発明に用いられる第2電極は、上述した第1電極に対向する電極として形成されるものである。第2電極は陽極、陰極のいずれであってもよいが、通常は陰極とされる。また、第2電極は、透明または半透明であってもよく、透明または半透明でなくてもよいが、光の取出し面あるいは受取り面によって適宜選択される。   The 2nd electrode used for the present invention is formed as an electrode which counters the 1st electrode mentioned above. The second electrode may be either an anode or a cathode, but is usually a cathode. The second electrode may be transparent or translucent, and may not be transparent or translucent, but is appropriately selected depending on the light extraction surface or the light reception surface.

第2電極としては、陰極である場合、電子が注入し易いように仕事関数の小さい導電性材料を用いることが好ましく、さらには抵抗ができるだけ小さい導電性材料を用いることが好ましい。このような陰極に用いられる導電性材料としては、一般に金属材料が用いられるが、有機物あるいは無機化合物を用いてもよい。具体的にはマグネシウム合金(MgAgなど)、アルミニウム合金(AlLi、AlCa、AlMgなど)、アルカリ土類金属(金属カルシウムなど)、アルカリ金属(カリウム、リチウムなど)等が挙げられる。   When the second electrode is a cathode, a conductive material having a low work function is preferably used so that electrons can be easily injected, and a conductive material having a resistance as low as possible is preferably used. As a conductive material used for such a cathode, a metal material is generally used, but an organic substance or an inorganic compound may be used. Specific examples include magnesium alloys (MgAg, etc.), aluminum alloys (AlLi, AlCa, AlMg, etc.), alkaline earth metals (metal calcium, etc.), alkali metals (potassium, lithium, etc.), and the like.

なお、第2電極の形成方法については、上述した「1.光触媒含有層形成工程」の第1電極の項に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。   The method for forming the second electrode is the same as that described in the section of the first electrode in “1. Photocatalyst-containing layer forming step” described above, and a description thereof is omitted here.

6.その他
本発明により製造される有機光電変換素子の例としては、有機EL素子、有機薄膜太陽電池等が挙げられる。
6). Others Examples of the organic photoelectric conversion element produced according to the present invention include an organic EL element and an organic thin film solar cell.

本発明において、上記ドーピング工程および上記濡れ性変化工程は、いずれの工程を先に行ってもよく、用いる光電変換特性向上物質の種類により適宜選択される。例えば、光電変換特性向上物質を光触媒含有層にドープすることで、光触媒能が低下したり、濡れ性変化速度が遅くなったりするなど、光電変換特性向上物質が、エネルギー照射による光触媒含有層の濡れ性変化に悪影響を及ぼす場合は、濡れ性変化工程が先に行われる。   In the present invention, the doping step and the wettability changing step may be performed first, and are appropriately selected depending on the type of the photoelectric conversion property improving substance to be used. For example, by doping the photocatalyst-containing material with the photocatalyst-containing material, the photocatalytic performance is reduced or the wettability change rate is slowed. When adversely affecting the sex change, the wettability changing process is performed first.

また、本発明においては、上記光触媒含有層形成工程の前または後に、上記第1電極が形成された基体上、あるいは上記光触媒含有層上に、パターン状に絶縁層を形成する絶縁層形成工程が行われてもよい。この絶縁層は、非発光部としてパターン状に形成されるものである。   In the present invention, before or after the photocatalyst-containing layer forming step, there is an insulating layer forming step of forming an insulating layer in a pattern on the substrate on which the first electrode is formed or on the photocatalyst-containing layer. It may be done. This insulating layer is formed in a pattern as a non-light emitting portion.

上記絶縁層は、紫外線硬化樹脂組成物などの光硬化樹脂組成物または熱硬化性樹脂組成物を含む樹脂組成物を用いて形成することができる。またパターニングの方法としては、フォトリソ法、印刷法等の一般的な方法を用いることができる。   The insulating layer can be formed using a photocurable resin composition such as an ultraviolet curable resin composition or a resin composition containing a thermosetting resin composition. As a patterning method, a general method such as a photolithography method or a printing method can be used.

B.有機EL素子の製造方法
次に、本発明の有機EL素子の製造方法について説明する。本発明の有機EL素子の製造方法は、上述した有機光電変換素子の製造方法を用い、上記有機光電変換素子の製造方法における有機光電変換層形成工程が、有機EL層を形成する有機EL層形成工程であることを特徴とするものである。
B. Next, a method for manufacturing the organic EL element of the present invention will be described. The organic EL device manufacturing method of the present invention uses the above-described organic photoelectric conversion device manufacturing method, and the organic photoelectric conversion layer forming step in the organic photoelectric conversion device manufacturing method forms an organic EL layer. It is a process.

すなわち本発明において、有機EL素子は、第1電極が形成された基体上に光触媒含有層を形成する光触媒含有層形成工程と、上記光触媒含有層に光電変換特性向上物質をドープするドーピング工程と、上記光触媒含有層にエネルギーを照射し、上記光触媒含有層の濡れ性を変化させる濡れ性変化工程と、上記光電変換特性向上物質がドープされ、かつ濡れ性が変化した上記光触媒含有層上に有機EL層形成用塗工液を塗布し、有機EL層を形成する有機EL層形成工程と、上記有機EL層上に第2電極を形成する第2電極形成工程とを行うことにより製造することができる。   That is, in the present invention, the organic EL device includes a photocatalyst-containing layer forming step for forming a photocatalyst-containing layer on the substrate on which the first electrode is formed, a doping step for doping the photocatalyst-containing layer with a photoelectric conversion property improving substance, Irradiating energy to the photocatalyst-containing layer to change the wettability of the photocatalyst-containing layer, and organic EL on the photocatalyst-containing layer doped with the photoelectric conversion property improving substance and having changed wettability It can manufacture by performing the organic EL layer formation process which forms the organic EL layer by apply | coating the coating liquid for layer formation, and the 2nd electrode formation process which forms a 2nd electrode on the said organic EL layer. .

本発明によれば、上述した「A.有機光電変換素子の製造方法」で記載したように、光触媒含有層形成工程後に、この光触媒含有層に光電変換特性向上物質をドープするドーピング工程が行われることから、光触媒含有層形成用塗工液に光電変換特性向上物質を添加する必要がないので、光触媒含有層形成用塗工液中での光触媒の凝集を防止することができ、発光特性の良好な有機EL素子を製造することが可能となる。   According to the present invention, as described in “A. Method for producing an organic photoelectric conversion element” described above, after the photocatalyst containing layer forming step, a doping step of doping the photocatalyst containing layer with a photoelectric conversion property improving substance is performed. Therefore, it is not necessary to add a photoelectric conversion property-improving substance to the photocatalyst-containing layer forming coating liquid, so that aggregation of the photocatalyst in the photocatalyst-containing layer forming coating liquid can be prevented, and the emission characteristics are good. It becomes possible to manufacture a simple organic EL element.

また本発明においては、上記有機光電変換素子の製造方法における濡れ性変化工程が、光触媒含有層にパターン状にエネルギーを照射し、上記光触媒含有層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する工程であり、上記有機EL層形成工程が、上記濡れ性変化パターン上に有機EL層形成用塗工液を塗布し、有機EL層をパターン状に形成する工程であることが好ましい。上記濡れ性変化パターンを利用して、容易に有機EL層の塗り分け等を行うことができ、高精細なパターニングが可能となるからである。   Moreover, in this invention, the wettability change process in the manufacturing method of the said organic photoelectric conversion element irradiates energy to a photocatalyst containing layer in pattern shape, and forms the wettability change pattern in which the wettability of the said photocatalyst containing layer changed. Preferably, the organic EL layer forming step is a step of applying an organic EL layer forming coating solution on the wettability changing pattern to form the organic EL layer in a pattern. This is because the organic EL layer can be easily applied by using the wettability change pattern, and high-definition patterning becomes possible.

なお、本発明における光触媒含有層形成工程、ドーピング工程、濡れ性変化工程および第2電極形成工程については、上述した「A.有機光電変換素子の製造方法」の項に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。以下、有機EL層形成工程、およびその他の構成について説明する。   The photocatalyst-containing layer forming step, the doping step, the wettability changing step, and the second electrode forming step in the present invention are the same as those described in the above-mentioned section “A. Method for producing organic photoelectric conversion element”. Therefore, explanation here is omitted. Hereinafter, the organic EL layer forming step and other configurations will be described.

(1)有機EL層形成工程
本発明における有機EL層形成工程は、光電変換特性向上物質がドープされ、かつ濡れ性が変化した光触媒含有層上に有機EL層形成用塗工液を塗布し、有機EL層を形成する工程である。
(1) Organic EL layer formation process The organic EL layer formation process in this invention apply | coats the coating liquid for organic EL layer formation on the photocatalyst containing layer by which the photoelectric conversion characteristic improvement substance was doped and the wettability changed, This is a step of forming an organic EL layer.

本工程により形成される有機EL層は、少なくとも発光層を含む1層もしくは複数層の有機層から構成されるものである。すなわち、有機EL層とは、少なくとも発光層を含む層であり、その層構成が有機層1層以上の層をいう。通常、塗布による湿式法で有機EL層を形成する場合は、溶媒との関係で多数の層を積層することが困難であることから、1層もしくは2層の有機層で形成される場合が多いが、溶媒への溶解性が異なるように有機材料を工夫したり、真空蒸着法を組み合わせたりすることにより、さらに多数層とすることも可能である。
以下、有機EL層の必須の構成である発光層の形成方法について説明する。
The organic EL layer formed by this step is composed of one or a plurality of organic layers including at least a light emitting layer. That is, the organic EL layer is a layer including at least a light emitting layer, and the layer configuration is a layer having one or more organic layers. Usually, when an organic EL layer is formed by a wet method by coating, it is often difficult to stack a large number of layers in relation to a solvent, so that it is often formed of one or two organic layers. However, it is possible to further increase the number of layers by devising an organic material so that the solubility in a solvent is different or by combining a vacuum deposition method.
Hereinafter, the formation method of the light emitting layer which is an essential structure of the organic EL layer will be described.

a.発光層の形成方法
本発明における発光層は、電子と正孔との再結合の場を提供して発光する機能を有するものである。上記発光層は、通常、色素系発光材料、金属錯体系発光材料および高分子系発光材料等の発光材料を含有する発光層形成用塗工液を塗布することにより形成することができる。
a. Method for Forming Light-Emitting Layer The light-emitting layer in the present invention has a function of emitting light by providing a field for recombination of electrons and holes. The light emitting layer can be generally formed by applying a light emitting layer forming coating solution containing a light emitting material such as a dye-based light-emitting material, a metal complex-based light-emitting material, and a polymer-based light-emitting material.

また本発明において、カラー表示が可能な有機EL素子を製造する場合には、少なくとも赤・緑・青の3色の発光層をパターン状に形成することが好ましい。本発明においては、上述したように濡れ性変化パターンの濡れ性の差を利用することにより、容易に発光層をパターン状に形成することができ、赤・緑・青の3色の発光層を形成する場合であっても高精細なパターニングが可能である。このように複数色の発光層をパターン状に形成する際には、通常、複数種類の発光層形成用塗工液が用いられる。   In the present invention, when manufacturing an organic EL element capable of color display, it is preferable to form at least three light emitting layers of red, green, and blue in a pattern. In the present invention, as described above, by utilizing the wettability difference of the wettability change pattern, the light emitting layer can be easily formed into a pattern, and the red, green, and blue light emitting layers are formed. Even if it is formed, high-definition patterning is possible. Thus, when forming the light emitting layer of multiple colors in a pattern, usually, a plurality of types of light emitting layer forming coating solutions are used.

色素系発光材料としては、シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマーなどを挙げることができる。   Examples of dye-based light emitting materials include cyclopentadiene derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, silole derivatives, thiophene ring compounds, pyridine rings Examples thereof include compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, trifumanylamine derivatives, coumarin derivatives, oxadiazole dimers, pyrazoline dimers, and the like.

また、金属錯体系発光材料としては、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体、イリジウム金属錯体、プラチナ金属錯体等、中心金属に、Al、Zn、Be、Ir、Pt等、またはTb、Eu、Dy等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等を挙げることができる。具体的には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq)を用いることができる。 Metal complex light emitting materials include aluminum quinolinol complex, benzoquinolinol beryllium complex, benzoxazole zinc complex, benzothiazole zinc complex, azomethyl zinc complex, porphyrin zinc complex, europium complex, iridium metal complex, platinum metal complex, etc. The metal has Al, Zn, Be, Ir, Pt, etc., or a rare earth metal such as Tb, Eu, Dy, etc., and the ligand has an oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline structure, etc. A metal complex etc. can be mentioned. Specifically, tris (8-quinolinolato) aluminum complex (Alq 3 ) can be used.

さらに、高分子系発光材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレノン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、ポリジアルキルフルオレン誘導体、およびそれらの共重合体等を挙げることができる。また、上記色素系発光材料および金属錯体系発光材料を高分子化したものも挙げられる。   Furthermore, as the polymer light emitting material, polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyvinylcarbazole, polyfluorenone derivatives, polyfluorene derivatives, polyquinoxaline derivatives, polydialkylfluorene derivatives, And copolymers thereof. Moreover, what polymerized the said pigment-type luminescent material and metal complex type | system | group luminescent material is also mentioned.

また、上記発光層形成用塗工液には、発光効率の向上、発光波長を変化させる等の目的で蛍光発光または燐光発光する添加剤を添加してもよい。このような添加剤としては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン、キノキサリン誘導体、カルバゾール誘導体、フルオレン誘導体等を挙げることができる。   In addition, an additive that emits fluorescent light or phosphorescent light may be added to the light emitting layer forming coating solution for the purpose of improving the light emission efficiency and changing the light emission wavelength. Examples of such additives include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squalium derivatives, porphyrin derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazoline derivatives, decacyclene, phenoxazone, quinoxaline derivatives, carbazole derivatives, fluorene derivatives, etc. Can be mentioned.

さらに、上記発光層形成用塗工液に用いられる溶媒としては、上述した発光材料を溶解もしくは分散させることができる溶媒であれば特に限定されるものではない。具体的には、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、テトラリン、メシチレン等を挙げることができる。   Furthermore, the solvent used in the light emitting layer forming coating solution is not particularly limited as long as it is a solvent capable of dissolving or dispersing the light emitting material described above. Specific examples include chloroform, methylene chloride, dichloroethane, tetrahydrofuran, toluene, xylene, tetralin, mesitylene and the like.

このような発光層形成用塗工液の塗布方法としては、上記濡れ性変化パターン上に塗布することが可能な方法であれば特に限定されるものではないが、発光層を均一かつ高精細に形成することが可能な方法であることが好ましい。このような塗布方法としては、例えばディップコート法、ロールコート法、ブレードコート法、スピンコート法、マイクログラビアコート法、インクジェット法等を挙げることができる。   The method for applying the light emitting layer forming coating solution is not particularly limited as long as it is a method that can be applied onto the wettability change pattern, but the light emitting layer is uniformly and highly finely formed. A method that can be formed is preferable. Examples of such a coating method include a dip coating method, a roll coating method, a blade coating method, a spin coating method, a micro gravure coating method, and an ink jet method.

発光層の厚みとしては、電子と正孔との再結合の場を提供して発光する機能を発現することができる厚みであれば特に限定されるものではなく、例えば1nm〜500nm程度とすることができる。   The thickness of the light emitting layer is not particularly limited as long as it can provide a function of emitting light by providing a recombination field between electrons and holes, and is, for example, about 1 nm to 500 nm. Can do.

本発明においては、上記発光層の間に隔壁を形成することができる。この隔壁は、複数色の発光層を形成するときに特に有用である。隔壁を形成するために用いられる材料としては、感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂、他、光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、撥水性樹脂などが挙げられる。   In the present invention, a partition wall can be formed between the light emitting layers. This partition wall is particularly useful when a light emitting layer having a plurality of colors is formed. Examples of the material used for forming the partition include photosensitive polyimide resin, acrylic resin, photocurable resin, thermosetting resin, and water repellent resin.

(2)電荷注入輸送層形成工程
本発明においては、有機EL層と、第1電極または第2電極とに間に、電荷注入輸送層を形成する電荷注入輸送層形成工程を行ってもよい。ここでいう電荷注入輸送層とは、上記有機EL層に第1電極または第2電極からの電荷を安定に輸送する機能を有するものであり、このような電荷注入輸送層を有機EL層と第1電極との間あるいは有機EL層と第2電極との間に設けることにより、有機EL層への電荷の注入が安定化し、発光効率を高めることができる。
(2) Charge Injection / Transport Layer Formation Step In the present invention, a charge injection / transport layer formation step of forming a charge injection / transport layer between the organic EL layer and the first electrode or the second electrode may be performed. The charge injecting and transporting layer here has a function of stably transporting the charge from the first electrode or the second electrode to the organic EL layer. By providing between one electrode or between the organic EL layer and the second electrode, the injection of charges into the organic EL layer is stabilized, and the luminous efficiency can be increased.

このような電荷注入輸送層としては、陽極から注入された正孔を有機EL層内へ輸送する正孔注入輸送層、さらに、同様に陰極から注入された電子を有機EL層内へ輸送する電子注入輸送層とがある。   As such a charge injection transport layer, a hole injection transport layer that transports holes injected from the anode into the organic EL layer, and an electron that transports electrons injected from the cathode into the organic EL layer as well. There is an injection transport layer.

本発明においては、上述した「A.有機光電変換素子の製造方法 1.光触媒含有層形成工程」の第1電極の項に記載したように、通常、第1電極を陽極として形成し、第2電極を陰極として形成することから、上記正孔注入輸送層は、第1電極と有機EL層との間に形成され、上記電子注入輸送層は、第2電極と有機EL層との間に形成される。以下、正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程および電子注入輸送層を形成する電子注入輸送層形成工程について説明する。   In the present invention, as described in the section of the first electrode in “A. Production method of organic photoelectric conversion element 1. Photocatalyst-containing layer forming step” described above, the first electrode is usually formed as an anode, and the second Since the electrode is formed as a cathode, the hole injection / transport layer is formed between the first electrode and the organic EL layer, and the electron injection / transport layer is formed between the second electrode and the organic EL layer. Is done. Hereinafter, the hole injection transport layer forming step for forming the hole injection transport layer and the electron injection transport layer forming step for forming the electron injection transport layer will be described.

a.正孔注入輸送層形成工程
本発明においては、第1電極と有機EL層との間に正孔注入輸送層を形成する正孔注入輸送層形成工程が行われてもよい。これにより、第1電極(陽極)から注入された正孔を安定に有機EL層内へ輸送することができるからである。
a. Hole injection transport layer forming step In the present invention, a hole injection transport layer forming step of forming a hole injection transport layer between the first electrode and the organic EL layer may be performed. This is because holes injected from the first electrode (anode) can be stably transported into the organic EL layer.

本発明における正孔注入輸送層形成工程は、上記光触媒含有層形成工程前に行われ、第1電極が形成された基体上に正孔注入輸送層を形成する工程であってもよく、あるいは上記有機EL層形成工程前に行われ、上記光電変換特性向上物質がドープされ、かつ濡れ性が変化した光触媒含有層上に正孔注入輸送層を形成する工程であってもよい。このように本発明においては、正孔注入輸送層形成工程は、上記光触媒含有層形成工程前に行われてもよく、上記有機EL層形成工程前に行われてもよいが、正孔注入輸送層形成工程および光触媒含有層形成工程のどちらを先に行うかは、正孔注入輸送層および光触媒含有層のそれぞれの構成材料によって適宜選択すればよい。例えば、正孔注入輸送層の構成材料および光触媒含有層の光触媒のエネルギー準位を考慮するとよい。   The hole injecting and transporting layer forming step in the present invention may be performed before the photocatalyst-containing layer forming step, and may be a step of forming a hole injecting and transporting layer on the substrate on which the first electrode is formed. It may be a step of forming a hole injecting and transporting layer on the photocatalyst containing layer which is performed before the organic EL layer forming step and is doped with the photoelectric conversion property improving substance and whose wettability is changed. As described above, in the present invention, the hole injecting and transporting layer forming step may be performed before the photocatalyst-containing layer forming step or may be performed before the organic EL layer forming step. Which of the layer formation step and the photocatalyst-containing layer formation step is performed first may be appropriately selected depending on the constituent materials of the hole injection transport layer and the photocatalyst-containing layer. For example, the energy level of the constituent material of the hole injection transport layer and the photocatalyst of the photocatalyst containing layer may be considered.

また、本発明においては、正孔注入輸送層と光触媒含有層との混合層を形成することもできる。この場合、光触媒含有層形成用塗工液と正孔注入輸送層形成用塗工液とを混ぜ合わせた混合塗工液を用いることにより、上記の混合層を形成することができる。   Moreover, in this invention, the mixed layer of a positive hole injection transport layer and a photocatalyst content layer can also be formed. In this case, the above mixed layer can be formed by using a mixed coating solution obtained by mixing a photocatalyst-containing layer forming coating solution and a hole injection transport layer forming coating solution.

本工程においては、正孔注入輸送層として、有機EL層に正孔を注入する正孔注入層、および正孔を輸送する正孔輸送層のいずれか一方を形成してもよく、正孔注入層および正孔輸送層を積層して形成してもよく、または、正孔注入機能および正孔輸送機能の両機能を有する単一の層を形成してもよい。   In this step, either a hole injection layer for injecting holes into the organic EL layer or a hole transport layer for transporting holes may be formed as the hole injection / transport layer. The layer and the hole transport layer may be laminated to form a single layer having both a hole injection function and a hole transport function.

このような正孔注入輸送層は、陽極から注入された正孔を安定に有機EL層内へ輸送することができる材料を含有する正孔注入輸送層形成用塗工液を塗布または蒸着することにより形成することができる。   Such a hole injecting and transporting layer is formed by applying or depositing a coating liquid for forming a hole injecting and transporting layer containing a material capable of stably transporting holes injected from the anode into the organic EL layer. Can be formed.

このような材料としては、陽極から注入された正孔を安定に発光層内へ輸送することができる材料であれば特に限定されるものではなく、例えば、上記発光層の発光材料に例示した化合物の他、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウムなどの酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリフェニレンビニレンなどの誘導体等を挙げることができる。具体的には、ビス(N−(1−ナフチル−N−フェニル)ベンジジン(α−NPD)、4,4,4−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(MTDATA)、ポリ3,4エチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルホン酸(PEDOT−PSS)、ポリビニルカルバゾール(PVCz)等を用いることができる。   Such a material is not particularly limited as long as holes injected from the anode can be stably transported into the light emitting layer. For example, the compounds exemplified in the light emitting material of the above light emitting layer In addition, oxides such as phenylamine, starburst amine, phthalocyanine, vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, and aluminum oxide, derivatives such as amorphous carbon, polyaniline, polythiophene, and polyphenylene vinylene can be used. . Specifically, bis (N- (1-naphthyl-N-phenyl) benzidine (α-NPD), 4,4,4-tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine (MTDATA), poly 3, 4-ethylenedioxythiophene-polystyrene sulfonic acid (PEDOT-PSS), polyvinyl carbazole (PVCz), or the like can be used.

また、正孔注入輸送層の厚みとしては、陽極から正孔を注入し、有機EL層へ正孔を輸送する機能が十分に発揮される厚みであれば特に限定されないが、具体的には、0.5nm〜10μmの範囲内、中でも50nm〜500nmの範囲内であることが好ましい。   In addition, the thickness of the hole injecting and transporting layer is not particularly limited as long as it is a thickness that sufficiently injects holes from the anode and transports the holes to the organic EL layer, but specifically, It is preferably in the range of 0.5 nm to 10 μm, particularly in the range of 50 nm to 500 nm.

b.電子注入輸送層形成工程
本発明においては、上記有機EL層形成工程後に、有機EL層上に電子注入輸送層を形成する電子注入輸送層形成工程が行われてもよい。これにより、第2電極(陰極)から注入された電子を安定に有機EL層内へ輸送することができるからである。
b. Electron Injection / Transport Layer Formation Step In the present invention, an electron injection / transport layer formation step of forming an electron injection / transport layer on the organic EL layer may be performed after the organic EL layer formation step. This is because electrons injected from the second electrode (cathode) can be stably transported into the organic EL layer.

本工程においては、電子注入輸送層として、有機EL層に電子を注入する電子注入層、および電子を輸送する電子輸送層のいずれか一方を形成してもよく、電子注入層および電子輸送層を積層して形成してもよく、または、電子注入機能および電子輸送機能の両機能を有する単一の層を形成してもよい。   In this step, either an electron injection layer for injecting electrons into the organic EL layer or an electron transport layer for transporting electrons may be formed as the electron injection / transport layer. A single layer having both an electron injection function and an electron transport function may be formed.

本発明において、電子注入輸送層は、陰極から注入された電子を安定に有機EL層内へ輸送することができる材料を含有する電子注入輸送層形成用塗工液を有機EL層上に塗布または蒸着することにより形成することができる。   In the present invention, the electron injecting and transporting layer is formed by applying a coating liquid for forming an electron injecting and transporting layer containing a material capable of stably transporting electrons injected from the cathode into the organic EL layer, or on the organic EL layer. It can be formed by vapor deposition.

このような材料としては、発光層内への電子の注入を安定化させることができる材料であれば特に限定されるものではない。例えば電子注入層を形成するために用いられる材料としては、上記発光層の発光材料に例示した化合物の他、アルミニウムリチウム、アルミニウム、ストロンチウム、カルシウム、リチウム、セシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化セシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム等を挙げることができる。   Such a material is not particularly limited as long as it can stabilize injection of electrons into the light emitting layer. For example, as a material used for forming the electron injection layer, in addition to the compounds exemplified as the light emitting material of the light emitting layer, aluminum lithium, aluminum, strontium, calcium, lithium, cesium, magnesium oxide, aluminum oxide, strontium oxide, Examples include lithium oxide, lithium fluoride, magnesium fluoride, strontium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride, cesium fluoride, polymethyl methacrylate, and sodium polystyrene sulfonate.

上記電子注入層の厚みとしては、電子注入機能が十分に発揮される厚みであれば特に限定されないが、具体的には、0.5nm〜50nm程度であることが好ましい。   The thickness of the electron injection layer is not particularly limited as long as the electron injection function is sufficiently exerted. Specifically, the thickness is preferably about 0.5 nm to 50 nm.

また、電子輸送層を形成するために用いられる材料としては、陰極からまたは上記電子注入層から注入された電子を有機EL層内へ輸送することが可能な材料であれば特に限定されるものではなく、例えばバソキュプロイン(BCP)、バソフェナントロリン(Bpehn)、フェナントロリン誘導体、またはトリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq)、Bis(2-methyl-8-quinolinolato-N1,08)-(1,1'-Biphenyl-4-olato)aluminum(BAlq)等を挙げることができる。 The material used for forming the electron transport layer is not particularly limited as long as it is a material that can transport electrons injected from the cathode or the electron injection layer into the organic EL layer. For example, bathocuproin (BCP), bathophenanthroline (Bpehn), phenanthroline derivative, or tris (8-quinolinolato) aluminum complex (Alq 3 ), Bis (2-methyl-8-quinolinolato-N1,08)-(1,1 '-Biphenyl-4-olato) aluminum (BAlq) and the like.

さらに、電子注入機能および電子輸送機能の両機能を有する単一の層からなる電子注入輸送層を形成する場合は、電子輸送性の有機材料にアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属をドープした金属ドープ層を形成し、これを電子注入輸送層とすることができる。上記電子輸送性の有機材料としては、例えばバソキュプロイン(BCP)、バソフェナントロリン(Bphen)等を挙げることができ、ドープする金属としては、Li、Cs、Ba、Sr等が挙げられる。上記金属ドープ層における電子輸送性の有機材料と金属とのモル比率は、1:1〜3の範囲内、中でも1:1〜2の範囲内であることが好ましい。また、金属ドープ層の厚みとしては、5nm〜500nmの範囲内、中でも10nm〜100nmの範囲内であることが好ましい。金属ドープ層は電子移動度が大きく、かつ、光透過性が金属単体に比べて高いため、上記電子注入層と比較して厚みを厚くすることができる。   Furthermore, in the case of forming an electron injecting and transporting layer comprising a single layer having both an electron injecting function and an electron transporting function, a metal doped layer in which an alkali metal or an alkaline earth metal is doped into an electron transporting organic material And can be used as an electron injecting and transporting layer. Examples of the electron transporting organic material include bathocuproin (BCP) and bathophenanthroline (Bphen). Examples of the metal to be doped include Li, Cs, Ba, and Sr. The molar ratio of the electron transporting organic material to the metal in the metal doped layer is preferably in the range of 1: 1 to 3, and more preferably in the range of 1: 1 to 2. The thickness of the metal doped layer is preferably in the range of 5 nm to 500 nm, and more preferably in the range of 10 nm to 100 nm. Since the metal doped layer has a high electron mobility and a high light transmittance as compared with a single metal, the metal doped layer can be made thicker than the electron injection layer.

(3)その他
本発明においては、有機EL層と、第1電極または第2電極とに間に、キャリアブロック層、エキシトンブロック層のような正孔あるいは電子の突き抜けを防止し、さらに励起子の拡散を防止して有機EL層内に励起子を閉じ込めることにより、再結合効率を高めるための層等を形成することができる。
(3) Others In the present invention, holes or electrons such as a carrier block layer and an exciton block layer are prevented from penetrating between the organic EL layer and the first electrode or the second electrode. By preventing diffusion and confining excitons in the organic EL layer, a layer for increasing the recombination efficiency can be formed.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下、本発明について実施例を用いて具体的に説明する。
[実施例1]
(光触媒含有層の形成)
中央に12mm幅の帯状にパターニングされたITO電極付ガラス基板に、中性洗剤、超音波洗浄、UVオゾン洗浄をそれぞれ15分間行い、ITO電極付ガラス基板のITO電極上に、下記の光触媒含有層形成用塗工液を3500rpmで10秒間スピンコートした。その後130℃に設定したホットプレートで15分間乾燥させた。これにより、膜厚が約80nmの光触媒含有層を形成した。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.
[Example 1]
(Formation of photocatalyst containing layer)
Neutral detergent, ultrasonic cleaning, and UV ozone cleaning are each performed on a glass substrate with an ITO electrode patterned in a strip shape having a width of 12 mm in the center for 15 minutes, and the following photocatalyst-containing layer is formed on the ITO electrode of the glass substrate with an ITO electrode. The forming coating solution was spin coated at 3500 rpm for 10 seconds. Thereafter, it was dried on a hot plate set at 130 ° C. for 15 minutes. As a result, a photocatalyst-containing layer having a thickness of about 80 nm was formed.

<光触媒含有層形成用塗工液>
酸性の酸化チタンゾルSTS-01(石原産業(株)製、商品名)と分散安定剤メチルシリケート51(一般式:Sin−1(OCH2n+2(但しnは3〜5)、コルコート(株)製、商品名)とを混合し、これに湿潤した陰イオン交換樹脂アンバーライトIRA-910(オルガノ(株)製、商品名)を攪拌しながら添加し、イオン交換により中性化した。次いで、イオン交換樹脂をろ過後、メタノールを添加してpH6.4、固形分1%の中性酸化チタンゾル液を調製した。この試料は、メチルシリケート中のケイ素をSiOに換算した量と酸化チタン中のチタンをTiOに換算した量との重量比(SiO/TiO)が1であった(特開2000−53421号公報参照)。
上記中性酸化チタンゾル液1重量部と、イソプロピルアルコール0.2重量部とを混合し、光触媒含有層形成用塗工液を調製した。
<Photocatalyst-containing layer forming coating solution>
Acidic titanium oxide sol STS-01 (trade name, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) and dispersion stabilizer methyl silicate 51 (general formula: Si n O n-1 (OCH 3 ) 2n + 2 (where n is 3 to 5), Colcoat (Trade name) manufactured by Co., Ltd., and a wet anion exchange resin Amberlite IRA-910 (trade name, manufactured by Organo Corporation) was added with stirring, and neutralized by ion exchange. . Next, after filtering the ion exchange resin, methanol was added to prepare a neutral titanium oxide sol solution having a pH of 6.4 and a solid content of 1%. The sample, the weight ratio of the converted amount of titanium in the amount as titanium oxide in terms of silicon in methyl silicate the SiO 2 to TiO 2 (SiO 2 / TiO 2 ) is 1 (JP 2000- No. 53421).
1 part by weight of the neutral titanium oxide sol solution and 0.2 part by weight of isopropyl alcohol were mixed to prepare a photocatalyst-containing layer forming coating solution.

(光電変換特性向上物質のドープ)
上記光触媒含有層が形成されたITO電極付ガラス基板を、下記の光電変換特性向上物質含有液に5分間浸漬させた。
(Doping of photoelectric conversion property improving substance)
The glass substrate with an ITO electrode on which the photocatalyst-containing layer was formed was immersed in the following photoelectric conversion property improving substance-containing liquid for 5 minutes.

<光電変換特性向上物質含有液>
・塩化第二鉄 0.06489重量部
・イソプロピルアルコール 10重量部
<Photoelectric conversion property improving substance-containing liquid>
・ Ferric chloride 0.06489 parts by weight ・ Isopropyl alcohol 10 parts by weight

(有機EL層の形成)
上記光触媒含有層上に、下記の有機EL層形成用塗工液を、高純度窒素で置換されたグローブボックス内で1500rpm、10秒間スピンコートし、130℃に設定したホットプレートで約1時間乾燥させて、有機EL層を形成した。
(Formation of organic EL layer)
On the photocatalyst-containing layer, the following organic EL layer forming coating solution is spin-coated at 1500 rpm for 10 seconds in a glove box substituted with high-purity nitrogen, and dried on a hot plate set at 130 ° C. for about 1 hour. Thus, an organic EL layer was formed.

<有機EL層形成用塗工液>
・ポリフルオレン誘導体(ADS社製 ADS228GE) 1重量部
・キシレン(関東化学(株)製 ELグレード) 99重量部
<Coating liquid for organic EL layer formation>
・ Polyfluorene derivative (ADS228GE manufactured by ADS) 1 part by weight ・ Xylene (EL grade manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) 99 parts by weight

(電子注入輸送層および第2電極の形成)
上記有機EL層上に、LiF膜を3nm、Ca膜を10nm、Al膜を150nm厚になるように真空蒸着し、電子注入輸送層および第2電極を形成した。これにより、有機EL素子を得た。
(Formation of electron injection transport layer and second electrode)
On the organic EL layer, an electron injecting and transporting layer and a second electrode were formed by vacuum deposition so that the LiF film was 3 nm, the Ca film was 10 nm, and the Al film was 150 nm thick. This obtained the organic EL element.

[実施例2]
下記の光電変換特性向上物質含有液を用いた以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製した。
[Example 2]
An organic EL device was produced in the same manner as in Example 1 except that the following photoelectric conversion property improving substance-containing liquid was used.

<光電変換特性向上物質含有液>
・ヨウ素 0.0648重量部
・イソプロピルアルコール 10重量部
<Photoelectric conversion property improving substance-containing liquid>
・ Iodine 0.0648 parts by weight ・ Isopropyl alcohol 10 parts by weight

[比較例1]
光電変換特性向上物質のドープを行わなかった以外は、実施例1と同様にして有機EL素子を作製した。
[Comparative Example 1]
An organic EL device was produced in the same manner as in Example 1 except that the photoelectric conversion property improving substance was not doped.

[評価]
実施例1、2および比較例1の有機EL素子の電流−電圧特性および発光輝度−電圧特性を、図5および図6に示す。なお、図5における電流−電圧特性は、2mm×2mm角の範囲に流れる電流値を測定したものである。
[Evaluation]
The current-voltage characteristics and the light emission luminance-voltage characteristics of the organic EL elements of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 are shown in FIGS. In addition, the current-voltage characteristic in FIG. 5 is a value obtained by measuring a current value flowing in a range of 2 mm × 2 mm square.

本発明の有機光電変換素子の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the organic photoelectric conversion element of this invention. FeClをドープした有機EL素子の電流−電圧特性を示すグラフである。Current of the organic EL device of FeCl 3 doped - is a graph showing the voltage characteristic. FeClをドープした有機EL素子の発光輝度−電圧特性を示すグラフである。It is a graph which shows the light emission luminance-voltage characteristic of the organic EL element doped with FeCl 3 . FeClまたはヨウ素をドープした有機EL素子の発光効率−電圧特性を示すグラフである。FeCl 3 or luminous efficiency of the organic EL elements doped with iodine - is a graph showing the voltage characteristic. 実施例1、2および比較例1の有機EL素子の電流−電圧特性を示すグラフである。It is a graph which shows the current-voltage characteristic of the organic EL element of Examples 1, 2 and Comparative Example 1. 実施例1、2および比較例1の有機EL素子の発光輝度−電圧特性を示すグラフである。It is a graph which shows the light emission luminance-voltage characteristic of the organic EL element of Examples 1, 2 and Comparative Example 1.

符号の説明Explanation of symbols

1 … 基体
2 … 第1電極
3 … 光触媒含有層
3a … 親液性領域
3b … 撥液性領域
3´ … 光電変換特性向上物質がドープされ、かつ濡れ性が変化した光触媒含有層
5 … 有機光電変換層
6 … 第2電極
14 … 光電変換特性向上物質含有液
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base | substrate 2 ... 1st electrode 3 ... Photocatalyst containing layer 3a ... Lipophilic area | region 3b ... Liquid repellency area | region 3 '... Photocatalyst containing layer which the photoelectric conversion characteristic improvement substance was doped and wettability changed 5 ... Organic photoelectric Conversion layer 6 ... 2nd electrode 14 ... Photoelectric conversion characteristic improving substance-containing liquid

Claims (9)

基体と、前記基体上に形成された第1電極と、前記第1電極上に形成され、光触媒および光電変換特性向上物質を含有する光触媒含有層と、前記光触媒含有層上に形成された有機光電変換層と、前記有機光電変換層上に形成された第2電極とを有する有機光電変換素子の製造方法であって、
第1電極が形成された基体上に光触媒含有層を形成する光触媒含有層形成工程と、前記光触媒含有層に光電変換特性向上物質をドープするドーピング工程と、前記光電変換特性向上物質がドープされた前記光触媒含有層上に有機光電変換層形成用塗工液を塗布し、有機光電変換層を形成する有機光電変換層形成工程とを有することを特徴とする有機光電変換素子の製造方法。
A base, a first electrode formed on the base, a photocatalyst-containing layer formed on the first electrode and containing a photocatalyst and a substance for improving photoelectric conversion characteristics, and an organic photoelectric film formed on the photocatalyst-containing layer A method for producing an organic photoelectric conversion element having a conversion layer and a second electrode formed on the organic photoelectric conversion layer,
A photocatalyst-containing layer forming step for forming a photocatalyst-containing layer on the substrate on which the first electrode is formed, a doping step for doping the photocatalyst-containing layer with a photoelectric conversion property improving substance, and the photoelectric conversion property improving substance are doped An organic photoelectric conversion layer forming step of applying an organic photoelectric conversion layer forming coating solution on the photocatalyst-containing layer to form an organic photoelectric conversion layer.
前記光触媒含有層が、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化するものであり、前記光触媒含有層にエネルギーを照射し、前記光触媒含有層の濡れ性を変化させる濡れ性変化工程が行われることを特徴とする請求項1に記載の有機光電変換素子の製造方法。   The wettability of the photocatalyst-containing layer is changed by the action of the photocatalyst associated with energy irradiation, and the wettability changing step is performed in which the photocatalyst-containing layer is irradiated with energy to change the wettability of the photocatalyst-containing layer. The manufacturing method of the organic photoelectric conversion element of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記ドーピング工程は、前記光触媒含有層に前記光電変換特性向上物質を含有する光電変換特性向上物質含有液を接触させる工程であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の有機光電変換素子の製造方法。   The organic photoelectric conversion according to claim 1, wherein the doping step is a step of bringing the photoelectric conversion property improving substance-containing liquid containing the photoelectric conversion property improving substance into contact with the photocatalyst containing layer. Device manufacturing method. 前記ドーピング工程は、前記光電変換特性向上物質を気化させ、前記光触媒含有層にドープする工程であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の有機光電変換素子の製造方法。   The method for producing an organic photoelectric conversion element according to claim 1, wherein the doping step is a step of vaporizing the photoelectric conversion property improving substance and doping the photocatalyst-containing layer. 前記光電変換特性向上物質は、FeまたはCuの金属塩、あるいはヨウ素であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載の有機光電変換素子の製造方法。   The method for producing an organic photoelectric conversion element according to any one of claims 1 to 4, wherein the photoelectric conversion property improving substance is a metal salt of Fe or Cu, or iodine. 前記光触媒含有層形成工程では、中性域のpHを有し、光触媒を含有する光触媒含有層形成用塗工液が用いられることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載の有機光電変換素子の製造方法。   The claim according to any one of claims 1 to 5, wherein in the photocatalyst-containing layer forming step, a coating solution for forming a photocatalyst containing layer having a neutral pH and containing a photocatalyst is used. The manufacturing method of the organic photoelectric conversion element as described in a term. 請求項1から請求項6までのいずれかの請求項に記載の有機光電変換素子の製造方法を用い、前記有機光電変換素子の製造方法における有機光電変換層形成工程が、有機エレクトロルミネッセント層を形成する有機エレクトロルミネッセント層形成工程であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法。   The method for producing an organic photoelectric conversion element according to any one of claims 1 to 6, wherein the organic photoelectric conversion layer forming step in the method for producing an organic photoelectric conversion element is an organic electroluminescent layer. A method for producing an organic electroluminescent element, characterized by being an organic electroluminescent layer forming step for forming a film. 前記有機光電変換素子の製造方法における濡れ性変化工程が、光触媒含有層にパターン状にエネルギーを照射し、前記光触媒含有層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する工程であり、前記有機エレクトロルミネッセント層形成工程が、前記濡れ性変化パターン上に有機エレクトロルミネッセント層形成用塗工液を塗布し、有機エレクトロルミネッセント層をパターン状に形成する工程であることを特徴とする請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法。   The wettability changing step in the manufacturing method of the organic photoelectric conversion element is a step of irradiating the photocatalyst containing layer with energy in a pattern to form a wettability changing pattern in which the wettability of the photocatalyst containing layer is changed, and the organic The electroluminescent layer forming step is a step of applying an organic electroluminescent layer forming coating solution on the wettability change pattern to form an organic electroluminescent layer in a pattern. The manufacturing method of the organic electroluminescent element of Claim 7. 前記有機エレクトロルミネッセント層形成工程が、少なくとも赤・緑・青の3色の発光層をパターン状に形成する工程であり、カラー表示を可能としたことを特徴とする請求項8に記載の有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法。   The organic electroluminescent layer forming step is a step of forming a light emitting layer of at least three colors of red, green, and blue in a pattern, and enables color display. Manufacturing method of organic electroluminescent element.
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