JP2005532891A5 - - Google Patents

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Claims (39)

  1. 品目(48)を隔離および処理する方法であって、該方法は、以下:
    密閉体センブリ(10、10’、10’’)に該品目を密閉する工程であって、該密閉する工程は:
    枠組み(12、12’)を組み立てる工程であって、該枠組みは、該品目を取り囲むようにサイズ決めされている、工程;
    該枠組み上の可撓性密閉体(14、14’、14’’)を操作する工程であって、該可撓性密閉体は、密閉空間(36、36’、36’’)を少なくとも部分的に規定しており、少なくとも1つの流体供給通路(74)が、該密閉体に処理流体を供給するために、該密閉体と接続されている、工程;
    該密閉空間内に該品目を隔離する工程、
    を包含する、密閉する工程;
    該流体供給通路を、該処理流体の供給源(110)と接続する工程であって、該処理流体が、過酸化水素蒸気を含む、工程;および、
    該処理流体を該密閉空間に供給して、該品目を処理する工程、
    によって特徴付けられる、方法。
  2. 請求項1に記載の方法であって、該方法は、前記処理流体を前記密閉体に供給する前記工程の後の、前記枠組みから該密閉体を取り出して、該枠組みを分解する工程によってさらに特徴付けられる、方法。
  3. 請求項1および2のいずれか1項に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記枠組みを組み立てる工程であって、複数の細長部材(16)を一緒に接続する工程を包含する、工程、によってさらに特徴付けられる、方法。
  4. 請求項3に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記枠組み上の前記可撓性密閉体を操作する工程であって、該操作する工程は以下:
    複数のタブ(40、40’、40’’)によって、上部細長部材から該可撓性密閉体を吊り下げる工程、
    を包含する工程、
    によってさらに特徴付けられる、方法。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記密閉空間内に前記品目を密閉する工程であって、該密閉する工程は、以下:
    前記可撓性密閉体(14’、14’’)の低部端を付随の床表面(52)にシールして、該品目の周囲で、実質的に気密な密閉空間を提供する工程、
    を包含する工程、
    によってさらに特徴付けられる、方法。
  6. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記密閉体に前記処理流体を供給する前記工程の前に、該密閉体を試験して、該密閉体が少なくとも実質的に気密であることを保証する、工程、
    によってさらに特徴付けられる、方法。
  7. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記密閉体が、複数の可撓性パネル(30、30’、32、32’、34、34’、30A、30B)を備え、該複数の可撓性パネルが、該可撓性パネルの継目(56)にて一緒に接合されていること、
    によってさらに特徴付けられる、方法。
  8. 請求項7に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記可撓性パネルが、上位パネル(32)、少なくとも1つの側面パネル(30)、および床パネル(34)を備え、これらが、前記密閉空間を一緒に規定していること、
    によってさらに特徴付けられる、方法。
  9. 請求項7および8のいずれか1項に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記可撓性パネル(30、30’)のうちの少なくとも1つが、レール型ジッパー(120、120’、124)によって少なくとも部分的に形成されたドア(122、122’)を備えることによってさらに特徴付けられ、該方法が、該ドアを選択的に開放して、前記密閉空間へのアクセスを提供する工程を包含する、方法。
  10. 請求項7〜9のいずれか1項に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記可撓性パネルのうちの少なくとも1つ(30’’)が、内層(130)および外層(132)を備え、該内層および該外層が、該内層と該外層との間の内壁空間(134)を一緒に規定することによってさらに特徴付けられ、該方法が、以下:
    陽圧にて、該内壁空間に流体を供給する工程、
    をさらに包含する、方法。
  11. 請求項10に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記流体が前記内壁空間に入る前に、該流体を加熱および冷却する工程のうちの1つによってさらに特徴付けられる、方法。
  12. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法であって、該方法は、以下:
    少なくとも1つの流体出口通路(76)が、前記可撓性密閉体から処理流体を通過させるために、該可撓性密閉体と接続されることによってさらに特徴付けられ、該方法が、該流体出口通路を介して、該密閉体から処理流体を取り出す工程をさらに包含する、方法。
  13. 請求項12に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記密閉体全体を通して、前記品目の一部にアクセスするのが困難なところに前記処理流体を推進する工程によってさらに特徴付けられる、方法。
  14. 請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法であって、該方法は、以下:
    支持パネル(60、60’)が、前記枠組みに取り付けられており、該支持パネルは、コネクタ(64)を支持しており、該コネクタは、流体供給通路と流体供給導管(68)とを選択的に接続するために、該流体供給通路と接続されており、該流体供給導管は、前記処理流体の供給源と接続しており、該流体供給通路を該処理流体の供給源と接続する工程が、該コネクタを該流体供給導管と選択的に接続する工程を包含することによってさらに特徴付けられる、方法。
  15. 請求項14に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記支持パネルが、前記密閉体内部のセンサ(92)をモニタリング装置(118)と接続するための第二のコネクタ(90)をさらに備えることによってさらに特徴付けられ、該方法が、以下:
    該第二のコネクタを介して、該センサを該モニタリング装置と選択的に接続する工程;および、
    該密閉体内の環境状態を該センサでモニタリングする工程、
    をさらに包含する、方法。
  16. 請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記可撓性密閉体が、気密材料から形成されていること、
    によってさらに特徴付けられる、方法。
  17. 請求項1〜16のいずれか1項に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記処理流体の供給源が、液体を該処理流体に変換するための気化器(112)を備えることによってさらに特徴付けられ、該方法が、以下:
    該液体を気化して該処理流体を形成する工程;および、
    キャリアガスの流れで、該処理流体を前記密閉体に輸送する工程、
    をさらに包含する、方法。
  18. 請求項1〜17のいずれか1項に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記処理流体の供給源が、移動可能なカート(104)によって支持されることによってさらに特徴付けられ、該方法が、以下:
    該カートを前記密閉体に隣接して配置する工程、
    をさらに包含する、方法。
  19. 請求項18に記載の方法であって、該方法は、以下:
    前記カートがまた、以下:
    キャリアガスの供給源(138);
    液体のレザバ(110);
    該液体を前記処理流体に変換するための気化器(112);
    該液体を該気化器にポンピングするためのポンプ(111);
    前記密閉器を通過する消費した流体を分解するための触媒変換器(116);および、
    該密閉体内部の環境状態をモニタリングするためのモニタリング装置(118)であって、該環境状態は、該処理流体の少なくとも1つの成分である、温度、圧力、および濃度のうちの少なくとも1つを含む、モニタリング装置(118)、
    のうちの少なくとも1つを支持することによってさらに特徴付けられる、方法。
  20. ウォークイン式密閉体(10、10’、10’’)アセンブリであって、以下:
    枠組み(12、12’、12’’);
    実質的に気密な密閉空間(36)を少なくとも部分的に規定する、該枠組み上に掛けられた可撓性密閉体(14、14’、14’’);および、
    該密閉空間に微生物除染物質を供給するための、該密閉空間と流体接続された流体供給通路(74)、
    によって特徴付けられ
    該密閉体は、陽圧を維持するように構成され、それにより、約3.81cmの水に等しい圧力にて、空気が該密閉体に供給される場合、該密閉体は、該空気供給が断たれてから少なくとも5分間、少なくとも2cmの水に等しい圧力を維持する、アセンブリ。
  21. 請求項20に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下:
    該枠組みが、複数のポール(16)を備え、該ポールが、選択的に、相互接続部品(18)によって一緒に保持されていることによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
  22. 請求項20および21のいずれか1項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下:
    前記可撓性密閉体が透明であることによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
  23. 請求項2022のいずれか1項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下:
    前記可撓性密閉体が、強力な酸化剤に対して不透過性である気密材料から形成されていることによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
  24. 請求項2023のいずれか1項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下:
    前記可撓性密閉体が、継目(56)によって一緒に接合された複数の可撓性パネル(30、30’、32、32’、34、34’、30A,30B)から形成されていることによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
  25. 請求項24に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下:
    前記可撓性パネルのうちの少なくとも1つが、ジッパー(120、120’、124)によって規定されるドア(122、122’)を備え、該ドアが、前記密閉空間へのアクセスを提供するように選択的に解放可能であることによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
  26. 請求項24および25のいずれか1項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下:
    前記密閉空間が、付随の床表面(52)によって少なくとも部分的に規定され、少なくとも1つのフラップ(50、50’、123)が、該可撓性パネルから延び、該フラップが、該床表面にシールされるように構成されていることによって特徴付けられる、アセンブリ。
  27. 請求項2426のいずれか1項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下:
    前記可撓性パネルのうちの少なくとも1つ(30、30’、30’’)が、内層(130)および外層(132)を備え、該内層および該外層が、該内層と該外層との間の内壁空間(134)を一緒に規定していることによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
  28. 請求項27に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下:
    ガスの供給源(138)が、前内壁空間と流体接続しており、該ガスの供給源が、陽圧下で、該内壁空間にガスを供給することによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
  29. 請求項27および28のいずれか1項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、以下:
    温度要素(144)であって、該温度要素が、前記内壁空間に入る前に、前記ガスを選択的に加熱および冷却することによってさらに特徴付けられる、アセンブリ。
  30. 請求項2029のいずれか1項に記載の密閉アセンブリであって、該アセンブリは、支持パネル(60、60’)をさらに備え、該支持パネルは、前記枠組みに取り付けられており、該支持パネルは、接続部を有し、該接続部は、前記密閉体の外側にある流体供給導管(68)を、前記除染流体を前記密閉空間に供給するための前記流体供給通路と選択的に接続している、アセンブリ。
  31. 除染システムであって、該システムは、以下:
    携帯用枠組み(12、12’、12’’);
    密閉空間(36)を少なくとも部分的に規定する、該枠組み上に掛けられた可撓性密閉体(14、14’、14’’);
    微生物除染物質の供給源(110)であって、該微生物除染物質の供給源が、以下:
    液体を含むレザバ(110);および、
    該液体を気化して該微生物除染物質を形成するための気化器(112)、
    を備える、微生物除染物質の供給源;
    該気化された微生物除染物質と混合して、該気化された微生物除染物質を該密閉体に輸送するためのキャリアガスの供給源(138);ならびに、
    流体流路(68、74)であって、該密閉空間に微生物除染物質を供給するために、該微生物除染物質の供給源を該密閉空間と流体接続する、流体流路、
    によって特徴付けられる、システム。
  32. 請求31に記載の除染システムであって、該システムは、以下:
    前記流体流路が、流体導管(68)および流体供給通路(74)を備え、該流体導管は、前記密閉体の外側にあり、除染物質の前記供給源と流体連絡しており、該流体供給通路は、該密閉体に入り、該システムは、該流体導管と該流体供給通路とを選択的に流体接続するために、前記枠組みに取り付けられたコネクタ(64)をさらに備えることによってさらに特徴付けられる、システム。
  33. 請求項31および32に記載の除染システムであって、該システムは、以下:
    カート(104)であって、前記レザバ、気化器、およびキャリアガスの供給源のうちの少なくとも1つが、該カート上に取り付けられていることによってさらに特徴付けられる、システム。
  34. 請求項3133のいずれか1項に記載の除染システムであって、該システムは、以下:
    前記密閉体が、陽圧を維持するように構成され、それにより、約3.81cmの水に等しい圧力にて、空気が該密閉体に供給され、該密閉体は、該空気供給が断たれてから少なくとも5分間、少なくとも2cmの水に等しい圧力を維持することによってさらに特徴付けられる、システム。
  35. 請求項3134のいずれか1項に記載の除染システムであって、該システムは、以下:
    前記密閉体と接続された、流体排出流路(70、76)であって、該流体排出流路を通して、消費した微生物除染物質が該前記密閉体から出ることによってさらに特徴付けられる、システム。
  36. 請求項3135のいずれか1項に記載の除染システムであって、該システムは、以下:
    前記枠組みに取り付けられた支持パネル(60、60’)であって、該支持パネルは、以下;
    第一の接続部(64)であって、該第一の接続部は、前記密閉体の外側の流体供給導管(68)を流体供給通路(74)と選択的に接続して、流体供給流路を形成する、第一の接続部;および、
    第二の接続部(66)であって、該第二の接続部は、該密閉体と接続された流体経路(76)を出口導管(70)と選択的に接続して、前記流体排出流路を形成する、第二の接続部、
    によってさらに特徴付けされる、システム。
  37. 請求項36に記載の除染システムであって、該システムは、以下:
    前記支持パネルが、前記密閉体内部のセンサ(92)を、該密閉体の外側のモニタリング手段(118)と選択的に接続するように、接続部(90)を支持することによって特徴付けられる、システム。
  38. 請求項3137のいずれか1項に記載の除染システムであって、該システムは、以下:
    循環手段(88)であって、該循環手段が、前記密閉空間全体を通して前記生物除染物質を循環させるために、前記密閉体内に配置されることによってさらに特徴付けられる、システム。
  39. 請求項38に記載の除染システムであって、前記循環手段がファンを備えることによって特徴付けられる、システム。
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