JP2005500928A5

JP2005500928A5 -

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Publication number: JP2005500928A5
Application number: JP2003526652A
Authority: JP
Filing date: 2002-08-13
Publication date: 2006-01-05

Claims

特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のようなポリマーの顆粒の結晶化のために顆粒状のバルク物質（顆粒）を連続的に熱処理するための装置（１）であって、上流に配置された最初のチャンバーであるチャンバー（２）に至る生成物入口（７）および下流に配置された最後のチャンバー（６）に続く生成物出口（８）を有し、分離した篩状の底部（１１）を有し隣り合ういくつかの流動化チャンバー（２、３、４、５、６）が装置（１）に設けられ、顆粒を流動化するためにガス入口（９）を経由して各々の篩を通じて、流動化ガスがそれぞれのチャンバー（２、３、４、５、６）内に吹き込まれることができ、このようなガスは装置（１）の屋根の領域に配置されたガス出口（１０）を経て流出することができ、隣り合うチャンバーは、生成物通路（１８、１９、２０、２１；２８、２９、３０、３１）による流体のつながりを該チャンバーの間に配置されたそれぞれの分離壁（１４、１５、１６、１７）に有し、また第１のチャンバー（２）は、すべてのチャンバー（２、３、４、５、６）の全容積の大部分、特に大体半分を占め、篩状の底部（１１）と、隣り合うチャンバー（２、３、４、５、６）の間の分離壁（１４、１５、１６、１７）の下端の領域との間において、隣り合うチャンバーの間で、生成物通路（１８、１９、２０、２１）が底部側に設けられることを特徴とする上記装置（１）。
側壁と、隣り合うチャンバー（２、３、４、５、６）の間の分離壁（１４、１５、１６、１７）の側方の端部領域との間において、隣り合うチャンバーの間で、生成物通路が壁側に設けられることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
生成物通路（２８、３０）が、分離壁（１４、１６）において流動化層の大体上端の高さに設けられることを特徴とする、請求項１または２に記載の装置。
生成物通路（１８、１９、２０、２１；２８、２９、３０、３１）が、装置（１）の幅全体および（または）高さ全体にわたって、１つの側壁から他の側壁までそして（あるいは）篩状の底部（１１）から流動化層（２６）の上端まで延びることを特徴とする、請求項１から３のいずれか１項に記載の装置。
生成物通路（１８、１９、２０、２１；２８、２９、３０、３１）がスリットの形で設けられることを特徴とする、請求項２から４のいずれか１項に記載の装置。
スリットのような生成物通路（１８、１９、２０、２１；２８、２９、３０、３１）がそれぞれ、分離壁（１４、１５、１６、１７）の幅全体および（または）高さ全体にわたって延びることを特徴とする、請求項５に記載の装置。
生成物の移送の方向に逐次的に設けられる分離壁（１４、１５、１６、１７）に沿って、生成物通路（２８、２９、３０、３１）が篩状の底部（１１）上にそして流動化層の上端の高さに交互に配置されることを特徴とする、請求項１から６のいずれか１項に記載の装置。
生成物の移送の方向に逐次的に設けられる分離壁（１４、１５、１６、１７）に沿って、分離壁の左側の端縁上にそして右側の端縁上に生成物通路が交互に配置されることを特徴とする、請求項１から７のいずれか１項に記載の装置。
生成物通路（２８、３０）の位置が調整可能であることを特徴とする、請求項１から８のいずれか１項に記載の装置。
生成物通路（１８、１９、２０、２１；２８、２９、３０、３１）の断面が調整可能であることを特徴とする、請求項１から９のいずれか１項に記載の装置。
生成物通路（１８、１９、２０、２１；２８、２９、３０、３１）の断面の最小寸法、特にスリットの幅が、顆粒の最少寸法と約２０ｃｍとの間にあることを特徴とする、請求項７から１０のいずれか１項に記載の装置。
生成物通路（１８、１９、２０、２１；２８、２９、３０、３１）の断面の最小寸法、特にスリットの幅が、顆粒の最少寸法値の２倍と顆粒の最少寸法値の約１０倍の間の範囲にあることを特徴とする、請求項１１に記載の装置。
底部側に配置された、または分離壁において流動化層（２６）の上端の高さ近くに配置された生成物通路（１８、１９、２０、２１）のそれぞれそして（あるいは）壁の側に配置された生成物通路のそれぞれに、篩状の底部（１１）および（または）それぞれの側壁にほぼ平行に延び、また分離壁（１４、１５、１６、１７）にほぼ垂直に延びる金属シート（３３、３４、３５、３６）が設けられており、この場合、このような金属シートは各々の生成物通路（１８、１９、２０、２１）の端部に固定されており、またこのような分離壁（１４、１５、１６、２７）の両側において、生成物通路を通じて、隣り合う２つのチャンバー内に延びることを特徴とする、請求項１から１２のいずれか１項に記載の装置。
底部側の生成物通路の領域、本質的には金属シート（３３、３４、３５、３６）に向き合う領域において、噴入領域が篩状の底部（１１）に配置され、該噴入領域は、それに対して垂直である速度成分及びそれに対して平行である速度成分の両方を流動化顆粒の流れの方向において許容する速度を以て流動化ガスをチャンバー（２、３、４、５、６）に噴入することを可能にすることを特徴とする、請求項１３に記載の装置。
少なくとも第１のチャンバー（２）がその篩状の底部（１１）を介して、それ以外のチャンバー（３、４、５、６）のための共通の供給チャンネルとは別個である流動化ガスのための関連する供給チャンネルに結合されることを特徴とする、請求項１から１４のいずれか１項に記載の装置。
すべてのチャンバー（２、３、４、５、６）がそれら各々の篩状の底部（１１）を介して、流動化ガスのための共通の供給チャンネルと連結されることを特徴とする、請求項１から１４のいずれか１項に記載の装置。
衝撃脱塊器が生成物出口（８）に設けられ、ここで生成物通路が終わることを特徴とする、請求項１から１６のいずれか１項に記載の装置。
すべてのチャンバー（２、３、４、５、６）の篩状の底部（１１）が１つの平面内に配置されることを特徴とする、請求項１から１７のいずれか１項に記載の装置。
流動化顆粒の流れに沿って直列に配置されたチャンバーの篩状の底部（１１）が千鳥状に異なる高さで配列されることを特徴とする、請求項１から１７のいずれか１項に記載の装置。
第１のチャンバー（２）のレイアウトが、円筒状の包囲壁（１４）によって画定され、また残りのチャンバー（３、４、５、６）が、第１のチャンバー（２）の外側において、円筒状の壁によって半径方向に同心円状に配置されることを特徴とする、請求項１から１９のいずれか１項に記載の装置。
第１のチャンバーのレイアウトが、同心円的な１組の円筒状の壁によって画定され、また残りのチャンバーが、第１のチャンバーの内側の円筒状壁の内部にあるそれらの円筒状壁によって内側に向かって半径方向に同心円的に配置されることを特徴とする、請求項１から１９のいずれか１項に記載の装置。
第１のチャンバーが四角形のレイアウトを有し、また残りのチャンバーが第１のチャンバーの外側に向かって配置されることを特徴とする、請求項１から１９のいずれか１項に記載の装置。
第１のチャンバーのレイアウトが四角形であり、また残りのチャンバーが、第１のチャンバーの内部に、例えば互いに入れ子になって内側に向かって同心円的に配置され、そしてまた四角形の配置を有することを特徴とする、請求項１から１９のいずれか１項に記載の装置。
残りのチャンバーにおいて、それらが、流動化顆粒の層高と最小レイアウトのチャンバーの寸法との比が０．５〜２の範囲にあるような仕方で設計されることを特徴とする、請求項１から２３のいずれか１項に記載の装置。
最も上流に位置する第１のチャンバー（２）がすべてのチャンバー（２、３、４、５、６）の全容積の主要な部分を占めることを特徴とする、請求項１から２４のいずれか１項に記載の装置。
第１のチャンバー（２）の容積がすべてのチャンバー（２、３、４、５、６）の全容積の大体半分に相当することを特徴とする、請求項２５に記載の装置。
第１のチャンバー（２）の篩状の底部の表面が、すべてのチャンバーの篩状の底部の全表面の主要な部分に相当することを特徴とする、請求項１から２６のいずれか１項に記載の装置。
第１のチャンバー（２）の篩状の底部の表面が、すべてのチャンバー（２、３、４、５、６）の篩状の底部の全表面の大体半分に相当することを特徴とする、請求項２７に記載の装置。
装置（１）の屋根の領域において、流動化層（２６）の表面と流動化ガス排気口との間にジグザグ式分離器（１２）が配置されることを特徴とする、請求項１から２８のいずれか１項に記載の装置。
最後のチャンバー（６）の下流端に、窓状部（２２）の形態の生成物出口が壁に設けられ、また窓状部の下端を調整できるスライダー（２２）が設けられることを特徴とする、請求項１から２９のいずれか１項に記載の装置。
最後のチャンバー（６）の下流端に、回転可能な門状体であって、これを回転することによりその高さが調整されることができる門状体の形態で生成物出口が設けられることを特徴とする、請求項１から２９のいずれか１項に記載の装置。
請求項１から２７のいずれか１項に記載の装置を使用することにより、特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のようなポリマーの顆粒の結晶化のために顆粒状のバルク物質（顆粒）を連続的に熱処理するための方法であって、直列に配列された複数の流動化チャンバーを通じて顆粒が移動され、この場合、このような流動化チャンバーがそれぞれ篩状の底部を有し、顆粒を流動化するためにこの底部を通じて流動化ガスがそれぞれのチャンバー内に吹き込まれ、また装置の屋根の領域においてこのようなガスが抜き出され、そして第１のチャンバー内の流動化顆粒の絶対的な充填高さがこのチャンバーの下流に配置された残りのチャンバーの絶対的な充填高さと少なくとも同じ高さであることを特徴とする、上記方法。
均一な第１の処理温度で流動化ガスがすべてのチャンバー内に吹き込まれることを特徴とする、請求項３２に記載の方法。
流動化顆粒を加熱するための熱源として流動化ガスが使用されることを特徴とする、請求項３３に記載の方法。
流動化ガスが、流動化顆粒と反応するガスを少なくとも部分的に含有することを特徴とする、請求項３２から３４のいずれか１項に記載の方法。
流動化ガスが、残りのチャンバーの少なくとも１つに第２の処理温度で供給されることを特徴とする、請求項３２から３５のいずれか１項に記載の方法。
流動化顆粒を冷却するための冷熱源として流動化ガスが使用されることを特徴とする、請求項３６に記載の方法。
すべてのチャンバーにおいて、流動化ガスが同一の過剰圧および同一のガス速度を以て供給されることを特徴とする、請求項３２から３７のいずれか１項に記載の方法。
残りのチャンバーより高い圧力および（または）より大きいガス速度で、流動化ガスが第１のチャンバーに吹き込まれることを特徴とする、請求項３２から３７のいずれか１項に記載の方法。