JP2005285860A - 希土類磁石の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 磁石素体の表面に希土類元素を主体とする被膜を成膜した後、2段階の熱処理を行う。このとき、1段目の熱処理温度よりも2段目の熱処理温度が高くなるように設定する。例えば、1段目に固相反応が進む温度で熱処理し、2段目に液相が生じる温度で熱処理する。あるいは、1段目に被膜の融点未満の温度で熱処理し、2段目に被膜の融点以上の温度で熱処理する。被膜は、磁石素体を機械加工により所定の厚さに加工した後、成膜する。この時の磁石素体の厚さは2mm以下である。
【選択図】 図1
Description
先ず、NdFeB系焼結磁石として、Nd25重量%、Pr2.5重量%、Dy2.5重量%、Co3重量%、B1重量%、残部Feからなる希土類焼結磁石(磁石素材)を用意した。これを試料1(比較例)とする。
本実験では、PVDにより被膜を形成し、他は実験1と同様にして試料5,6を作製した。ただし、試料5は、回復熱処理を2段階熱処理とし、試料6では、回復熱処理を1段階熱処理とした。PVDに際しては、被膜組成となるようにNdPrDyFe合金をターゲットとして作製し、スパッタリングを行い、希土類磁石素体の表面に表3に示す成膜組成の被膜を被覆した。これら試料についても、先の実験1と同様にして磁気特性を測定した。結果を表3に示す。
先の実験1と同様、先ず、NdFeB系焼結磁石として、Nd25重量%、Pr2.5重量%、Dy2.5重量%、Co3重量%、B1重量%、残部Feからなる希土類焼結磁石(磁石素材)を用意した。次に、この希土類焼結磁石を機械加工によって切断し、10mm×10mm×0.5mm(厚さ)の磁石素体とした。
本実験では、ディッピングにより被膜を形成し、他は実験1と同様にして試料9,10を作製した。ただし、試料9は、回復熱処理を2段階熱処理とし、試料10では、回復熱処理を1段階熱処理とした。ディッピングに際しては、表4に示す合金溶湯を用い、850℃で1分間、ディッピングを行った。その後、これらの試料を670℃で30分間の回復熱処理(1段目熱処理)を行い、次いで、830℃で15分間の回復熱処理(2段目熱処理)を行った。さらに600℃で30分間の時効処理を施した。試料10は、830℃15分間、その後600℃で30分間の時効処理を施した。これら試料についても、先の実験1と同様にして磁気特性を測定した。結果を表5に示す。
Claims (12)
- 磁石素体の表面に希土類元素を主体とする被膜を成膜した後、2段階の熱処理を行い、1段目の熱処理温度よりも2段目の熱処理温度が高いことを特徴とする希土類磁石の製造方法。
- 1段目に固相反応が進む温度で熱処理し、2段目に液相が生じる温度で熱処理することを特徴とする請求項1記載の希土類磁石の製造方法。
- 1段目に被膜の融点未満の温度で熱処理し、2段目に被膜の融点以上の温度で熱処理することを特徴とする請求項1記載の希土類磁石の製造方法。
- 前記1段目の熱処理温度が500℃以上であることを特徴とする請求項2又は3記載の希土類磁石の製造方法。
- 希土類元素、遷移金属元素及びホウ素を含む原料合金微粉を成形した成形体を焼結して希土類焼結磁石を作製し、当該希土類焼結磁石を磁石素体として用いることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の希土類磁石の製造方法。
- 前記磁石素体としてNdFeB系希土類焼結磁石を用いることを特徴とする請求項5記載の希土類磁石の製造方法。
- 磁石素体を機械加工により所定の厚さに加工した後、前記被膜を成膜することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の希土類磁石の製造方法。
- 磁石素体の厚さを2mm以下とすることを特徴とする請求項7記載の希土類磁石の製造方法。
- 前記被膜は、Nd、Pr、Dy、Tbから選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項記載の希土類磁石の製造方法。
- 前記被膜は、温度1000℃以下で少なくとも液相が存在する組成を有することを特徴とする請求項9記載の希土類磁石の製造方法。
- 前記被膜は、物理的蒸着法、化学気相成長法、ディッピング法のいずれかにより成膜することを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項記載の希土類磁石の製造方法。
- 前記2段階の熱処理の後、温度450℃〜650℃で時効処理を行うことを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項記載の希土類磁石の製造方法。
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