JP2005246353A - Gas reforming apparatus - Google Patents

Gas reforming apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2005246353A
JP2005246353A JP2004064642A JP2004064642A JP2005246353A JP 2005246353 A JP2005246353 A JP 2005246353A JP 2004064642 A JP2004064642 A JP 2004064642A JP 2004064642 A JP2004064642 A JP 2004064642A JP 2005246353 A JP2005246353 A JP 2005246353A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
potential
electrode
gas
reference electrode
reforming apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004064642A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Terai
寛 寺井
Akio Nakao
彰夫 中尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP2004064642A priority Critical patent/JP2005246353A/en
Publication of JP2005246353A publication Critical patent/JP2005246353A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Drying Of Gases (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas reforming apparatus efficiently removing harmful substances and moisture in gas to improve performance. <P>SOLUTION: Plasma is generated with a part of gaseous molecules electrodissociated by applying a pulse voltage or A.C. voltage from a power source 8, and an electrode group 4 is arranged to expose the plasma to air flow in a duct 2. An appropriate electric field is formed between the electrode group 4 and collection parts 2, 3 by the electrode group 4 with D.C. bias of a negative potential applied and the grounded collection parts 2, 3. Negative ions are drawn out to the collection parts 2, 3 by the electric field, and brought into contact with water molecules and the harmful substances in the gas to increase formation amount of cluster with the water molecules and harmful substances attached to periphery with ions as nuclei. The cluster is drawn out to water film on the collection parts 2, 3. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、気体改質装置に関する。   The present invention relates to a gas reforming apparatus.

従来、気体中の有害物質を除去する除害装置として、負極に直流高電圧を印加してコロナ放電を発生させ、このコロナ放電により生じた電子を酸素や有害物質等の気体分子に捕獲させて負イオンを生成する共に、この負イオンが有害物質や水分子を付着してクラスターになり、これらの負イオン及びクラスターを正極で捕集するものが知られている(例えば、非特許文献1参照)。
田門肇「コロナ放電を利用した気相汚染物質除去、化学工学66巻12号、2002年、p.750〜p.753」
Conventionally, as a detoxifying device that removes harmful substances in gas, a DC high voltage is applied to the negative electrode to generate corona discharge, and electrons generated by this corona discharge are trapped in gas molecules such as oxygen and harmful substances. In addition to generating negative ions, these negative ions are attached to harmful substances and water molecules to form clusters, and these negative ions and clusters are collected at the positive electrode (for example, see Non-Patent Document 1). ).
Satoshi Tamon "Gas phase contaminant removal using corona discharge, Chemical Engineering Vol. 66, No. 12, 2002, p.750-p.753"

しかしながら、このような除害装置では、負イオンの形成量が少なく、また、コロナ放電により生じた負イオンが強い電場により高速で移動してしまい有害物質分子を捕獲する機会が少なく、有害物質を効率良く除去できないといった問題がある。   However, in such an abatement apparatus, the amount of negative ions formed is small, the negative ions generated by corona discharge move at a high speed due to a strong electric field, and there are few opportunities to capture harmful substances. There is a problem that it cannot be removed efficiently.

本発明は、このような課題を解決するために成されたものであり、気体中の有害物質を効率良く除去する共に、気体中の水分を除去し、性能の向上が図られた気体改質装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and is capable of efficiently removing harmful substances in the gas and removing moisture in the gas to improve the performance. An object is to provide an apparatus.

本発明による気体改質装置は、水分子を含む気体が流動する流路と、当該流路内に、パルス電圧又は交流電圧が印加されてプラズマを発生させると共にこのプラズマを気体に曝すように配置された電極対と、流路に設けられ接地された導電体を有する捕集部と、を備え、電極対は、当該電極対の一方の電極を基準電極としてこの基準電極の電位を、正電位又は負電位とする直流バイアスが印加されていることを特徴としている。   A gas reforming apparatus according to the present invention includes a flow path through which a gas containing water molecules flows, a pulse voltage or an AC voltage applied to the flow path to generate plasma, and the plasma is exposed to the gas. And a collector having a grounded conductor provided in the flow path, and the electrode pair uses the one electrode of the electrode pair as a reference electrode, and the potential of the reference electrode is a positive potential. Alternatively, a DC bias having a negative potential is applied.

このように構成された気体改質装置によれば、パルス電圧又は交流電圧が印加されて放電を生じガス分子の一部が電離したプラズマが発生し、このプラズマを流路内の気体に曝すように電極対が配置される。また、正電位又は負電位の直流バイアスが印加された基準電極を備える電極対と流路に設けられ接地された捕集部とにより、これらの電極対と捕集部との間に適度な電場が形成され、このようにして形成された電場により、プラズマ中のイオンは捕集部に向かって低速で引き出され、イオンが気体中の水分子及び有害物質に接触して、イオンを核として周囲に水分子や有害物質を付着したクラスターの生成量が増やされ、これらのイオン及びクラスターは、捕集部上の水膜に捕集される。   According to the gas reforming apparatus configured as described above, a plasma in which a pulse voltage or an alternating voltage is applied to generate a discharge and a part of gas molecules is ionized is generated, and this plasma is exposed to the gas in the flow path. An electrode pair is disposed on the substrate. In addition, an electrode pair including a reference electrode to which a positive potential or a negative potential DC bias is applied and a collecting unit provided in a flow path and grounded, can provide an appropriate electric field between the electrode pair and the collecting unit. Due to the electric field thus formed, ions in the plasma are extracted at a low speed toward the collection part, and the ions come into contact with water molecules and harmful substances in the gas, and the ions are used as the nuclei. The amount of clusters with water molecules or harmful substances attached thereto is increased, and these ions and clusters are collected in the water film on the collection part.

ここで、上記作用を奏する捕集部の構成としては、具体的には、捕集部は流路の内壁とする構成が挙げられ、電極対で生成されたイオンは、電極対と流路内壁との間に形成された電場により、流路内壁に向かって引き出されて、クラスターと共に捕集される。   Here, as a configuration of the collection unit that exhibits the above-described action, specifically, a configuration in which the collection unit is an inner wall of the flow path is exemplified, and ions generated by the electrode pair are generated by the electrode pair and the inner wall of the flow path. Are drawn out toward the inner wall of the flow path by the electric field formed between the two and collected together with the cluster.

また、上記作用を効果的に奏する捕集部の構成としては、具体的には、捕集部が、電極対より上流側に配置された接地グリッドを有している構成が挙げられ、電極対で生成されたイオンは、電極対と接地グリッドとの間に形成された電場により、気体流に逆らって上流側へ低速で引き出され、イオンを核として周囲に水分子や有害物質を付着したクラスターの生成量が増やされる。また、接地グリッドにより、さらに上流側に引き出されたイオン及びクラスターは、接地グリッド上の水膜に捕集される。また、質量が増え電界による移動度が低下したクラスターは、気体流により電極対に向かって戻されてプラズマ中に流入し、プラズマ中の電子とクラスターとの衝突による水分子の解離が促進され、OHラジカルが生成される。このOHラジカルは、有害物質と接触して当該有害物質を分解する。   In addition, as a configuration of the collection unit that effectively exhibits the above-described operation, specifically, a configuration in which the collection unit includes a grounding grid disposed on the upstream side of the electrode pair can be cited. The ions generated in the above are drawn to the upstream side at a low speed against the gas flow by the electric field formed between the electrode pair and the grounding grid, and the ions are used as clusters to attach water molecules and harmful substances to the surroundings. The production amount of is increased. In addition, ions and clusters drawn further upstream by the grounding grid are collected in a water film on the grounding grid. In addition, the cluster whose mass is increased and mobility due to the electric field is lowered is returned toward the electrode pair by the gas flow and flows into the plasma, and the dissociation of water molecules due to collision between the electrons in the plasma and the cluster is promoted. OH radicals are generated. This OH radical contacts a harmful substance and decomposes the harmful substance.

また、上記作用を効果的に奏する構成としては、具体的には、基準電極より下流側に配置されると共に直流電圧が印加されるグリッド電極を備え、基準電極の電位が正電位の場合には、グリッド電極の電位を、基準電極の電位より正側の電位差を有する電位とし、基準電極の電位が負電位の場合には、グリッド電極の電位を、基準電極の電位より負側の電位差を有する電位とする構成が挙げられる。気体流により、電極対にかかる電圧が0V時に当該電極対より下流側に流されたクラスターは、電極対とグリッド電極との間に形成された電場により、気体流に逆らって上流側へ押し戻されてプラズマ中に流入して、OHラジカルが生成される。このOHラジカルは、有害物質と接触して当該有害物質を分解する。   In addition, as a configuration that effectively exhibits the above-described operation, specifically, a grid electrode that is arranged downstream of the reference electrode and to which a DC voltage is applied is provided, and when the potential of the reference electrode is a positive potential, When the potential of the grid electrode is a potential having a positive potential difference from the potential of the reference electrode, and the potential of the reference electrode is a negative potential, the potential of the grid electrode has a negative potential difference from the potential of the reference electrode An example of the configuration is a potential. When the voltage applied to the electrode pair is 0 V due to the gas flow, the cluster flowed downstream from the electrode pair is pushed back upstream by the electric field formed between the electrode pair and the grid electrode. OH radicals are generated by flowing into the plasma. This OH radical contacts a harmful substance and decomposes the harmful substance.

また、捕集部が、電極対より下流側に配置された接地グリッドを有している構成としても良く、このように構成すると、電極対で生成されたイオンは、電極対と接地グリッドとの間に形成された電場により、電極対の下流側にもイオンが引き出されて、質量が増加した巨大クラスター及びミストはイオンにより帯電し、下流に配置された接地グリッドにも捕集される。   In addition, the collection unit may have a ground grid disposed on the downstream side of the electrode pair. With this configuration, ions generated by the electrode pair are generated between the electrode pair and the ground grid. Ions are drawn out to the downstream side of the electrode pair by the electric field formed between them, and the massive clusters and mist with increased mass are charged by the ions and collected by the ground grid disposed downstream.

また、上記作用を効果的に奏する構成としては、具体的には、気体の流れ方向に、電極対を複数並設し、基準電極の電位が正電位の場合には、当該基準電極の電位を、気体の流れ方向に順に正側に電位差を有する電位とし、基準電極の電位が負電位の場合には、当該基準電極の電位を、気体の流れ方向に順に負側に電位差を有する電位とする構成が挙げられ、これらの並列される電極対により、イオンの生成量が増やされて、クラスターの生成量も増やされる。これらのイオン及びクラスターは、流路に設けられた捕集部上の水膜に捕集される。   Further, as a configuration that effectively exhibits the above-described operation, specifically, when a plurality of electrode pairs are arranged in parallel in the gas flow direction and the potential of the reference electrode is a positive potential, the potential of the reference electrode is When the potential of the reference electrode is a negative potential in order in the gas flow direction and the potential of the reference electrode is a negative potential, the potential of the reference electrode is the potential having a potential difference on the negative side in the gas flow direction. A configuration is mentioned, and these parallel electrode pairs increase the generation amount of ions and increase the generation amount of clusters. These ions and clusters are collected in a water film on a collection unit provided in the flow path.

ここで、捕集部に、紫外線が照射されると水膜を形成可能な光触媒コーティングが塗布されていると、プラズマからの紫外線により水膜が捕集部上に好適に形成されて、イオン、クラスター及び分解生成物は水膜に捕集される。   Here, when a photocatalyst coating capable of forming a water film when applied with ultraviolet rays is applied to the collection part, a water film is suitably formed on the collection part by ultraviolet rays from plasma, and ions, Clusters and decomposition products are collected in the water film.

さらに、流路が当該流路内の水を排出可能な排水口を備えていると、流路内に滞留した水が良好に排出される。   Furthermore, if the flow path is provided with a drain port that can discharge the water in the flow path, the water remaining in the flow path is discharged well.

このように本発明による気体改質装置によれば、イオン及びこのイオンを核として周囲に水分子や有害物質を付着したクラスターの生成量が増やされ、これらのイオン及びクラスターが捕集されるため、気体中の有害物質が効率良く除去されると共に、気体中の水分が除去されて、性能の向上が図られる。   As described above, according to the gas reforming apparatus of the present invention, the amount of ions and clusters produced by adhering water molecules and harmful substances around the ions as the nucleus is increased, and these ions and clusters are collected. As a result, harmful substances in the gas are efficiently removed, and moisture in the gas is removed, thereby improving the performance.

以下、本発明による気体改質装置の好適な実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面の説明において、同一または相当要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。図1は、本発明の第1実施形態に係る気体改質装置を示す概略構成図、図2及び図3は、図1中の各電極における電位を示す線図である。   Hereinafter, a preferred embodiment of a gas reforming apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the description of the drawings, the same or corresponding elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a gas reforming apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIGS. 2 and 3 are diagrams showing potentials at respective electrodes in FIG.

図1に示すように、本実施形態の気体改質装置1は、例えば下水処理場等に設置され、下水から蒸発した水蒸気及び硫化水素等を含む空気の脱臭及び除湿等に適用されるものである。この気体改質装置1は概略、処理される空気が流入するダクト(流路)2内に、プラズマを発生させる電極組(電極対)4を備え、このプラズマにより生成された負イオンを、水分子及び有害物質等に接触させてクラスターを生成して、このクラスター等を捕集部で捕集するものである。   As shown in FIG. 1, the gas reformer 1 of this embodiment is installed in, for example, a sewage treatment plant, and is applied to deodorization and dehumidification of air containing water vapor and hydrogen sulfide evaporated from sewage. is there. This gas reformer 1 generally includes an electrode set (electrode pair) 4 for generating plasma in a duct (flow path) 2 into which air to be processed flows, and negative ions generated by the plasma are converted into water. A cluster is generated by contact with a molecule and a harmful substance, and the cluster or the like is collected by a collection unit.

ダクト2は、例えば炭素鋼、ステンレス鋼等の導電体から構成されて角筒状又は円筒状を成し、内部に、接地グリッド3、電極組4、グリッド電極5を、空気の流れ方向Gに沿って並設して備えている。また、ダクト2には、内部のドレンを系外に排出すべくサイホン式のドレンノズル(排水口)10が設けられている。   The duct 2 is made of a conductor such as carbon steel or stainless steel, and has a rectangular tube shape or a cylindrical shape. Inside the duct 2, the ground grid 3, the electrode set 4, and the grid electrode 5 are arranged in the air flow direction G. It is provided side by side along. The duct 2 is provided with a siphon-type drain nozzle (drain port) 10 for discharging the internal drain to the outside of the system.

接地グリッド3及びグリッド電極5は、例えば炭素鋼、ステンレス鋼等の導電体から構成され、格子状を成し、ダクト2の横断面に対応する大きさとされ、空気流方向Gに対面するように配置されている。   The ground grid 3 and the grid electrode 5 are made of a conductor such as carbon steel or stainless steel, have a lattice shape, have a size corresponding to the cross section of the duct 2, and face the air flow direction G. Has been placed.

電極組4は、金属製の基準電極6及び励起電極7を備え、これらの基準電極6及び励起電極7は、各々棒状を成し、ダクト2の横断面に対応する長さとされて、空気流方向Gに直交する方向に交互に複数並設されている。基準電極6及び励起電極7の数量は、これらの電極6,7間に生じるプラズマが、ダクト2内を通過する空気流全体に接触するように設定されている。   The electrode set 4 includes a metal reference electrode 6 and an excitation electrode 7, and the reference electrode 6 and the excitation electrode 7 each have a rod shape and have a length corresponding to the transverse section of the duct 2. A plurality of lines are alternately arranged in a direction orthogonal to the direction G. The quantity of the reference electrode 6 and the excitation electrode 7 is set so that the plasma generated between these electrodes 6 and 7 contacts the entire air flow passing through the duct 2.

捕集部は、ダクト2内壁及び接地グリッド3を備え、接地されている。また、捕集部2,3の表面には、紫外線が照射されると水膜を形成する酸化チタン光触媒コーティングが塗布され、プラズマからの紫外線により好適な水膜が形成されている。   The collection unit includes an inner wall of the duct 2 and a grounding grid 3 and is grounded. Further, a titanium oxide photocatalyst coating that forms a water film when irradiated with ultraviolet rays is applied to the surfaces of the collection parts 2 and 3, and a suitable water film is formed by ultraviolet rays from plasma.

次に、電極組4及びグリッド電極5と各電源等との接続について説明する。電極組4は、その基準電極6が直流電源11の負端子及び高周波(交流)電源8に接続され、所定の負電位(図2参照)とされると共に、励起電極7が高周波電源8に接続されて図2の示す電位とされ、励起電極7とこれに隣接する基準電極6との間に、各々プラズマを生じさせる。因みに、電源8をパルス電源とした場合には、基準電極6及び励起電極7は、図3に示す電位とされる。   Next, connection between the electrode set 4 and the grid electrode 5 and each power source will be described. In the electrode set 4, the reference electrode 6 is connected to the negative terminal of the DC power supply 11 and the high-frequency (AC) power supply 8 to be a predetermined negative potential (see FIG. 2), and the excitation electrode 7 is connected to the high-frequency power supply 8. The potential shown in FIG. 2 is obtained, and plasma is generated between the excitation electrode 7 and the reference electrode 6 adjacent thereto. Incidentally, when the power supply 8 is a pulse power supply, the reference electrode 6 and the excitation electrode 7 are set to the potential shown in FIG.

グリッド電極5は、図1に示すように、直流電源12の負端子に接続され、図2及び図3に示すように、基準電極6の電位より負側に電位差を有する所定の電位とされている。   The grid electrode 5 is connected to the negative terminal of the DC power source 12 as shown in FIG. 1, and is set to a predetermined potential having a potential difference on the negative side of the potential of the reference electrode 6 as shown in FIGS. Yes.

すなわち、電源8が高周波電源の場合、ダクト2内壁及び接地グリッド3、基準電極6、グリッド電極5が、図2示すように、順に負側に電位差を有する電位とされている。   That is, when the power source 8 is a high frequency power source, the inner wall of the duct 2, the ground grid 3, the reference electrode 6, and the grid electrode 5 are sequentially set to potentials having a potential difference on the negative side as shown in FIG.

同様に、電源8がパルス電源の場合、ダクト2内壁及び接地グリッド3、基準電極6、グリッド電極5が、図3示すように、順に負側に電位差を有する電位とされている。   Similarly, when the power source 8 is a pulse power source, the inner wall of the duct 2, the ground grid 3, the reference electrode 6, and the grid electrode 5 are sequentially set to potentials having a potential difference on the negative side as shown in FIG.

このように構成された気体改質装置1によれば、電源8によりパルス電圧又は交流電圧が印加されて、基準電極6と励起電極7との間に、放電によってガス分子の一部が電離したプラズマが発生し、このプラズマをダクト2内の空気流に曝すように電極組4が配置される。プラズマの中では、空気中の例えば酸素分子、窒素分子及び水分子等は電離して正イオンを形成して電子を放出し、オゾン、酸素分子及びラジカル等は電子を捕獲して負イオンを形成する。また、悪臭の主成分である硫化水素は負イオンになり、その他の悪臭物質も多くが負イオンとなる。また、負電位の直流バイアスが印加された基準電極6を備える電極組4と接地された捕集部2,3とにより、これらの電極組4と捕集部2,3との間に適度な電場が形成される。このようにして形成された電場により、電極組4で発生した負イオンは、空気流に逆らって上流側へ低速で引き出される。この移動の際に、空気中の水分子が負イオンに接触してクラスターを形成する。さらに、このクラスターに有害物質が接触して周囲に有害物質を付着したクラスターを形成する。特に、有害物質がO、OH、O 、O 等の負イオンやこれらの負イオンを核としたクラスターに接触すると、これらの負イオン及びクラスターにより捕獲される。なお、これらの負イオン及びクラスターにより捕獲される有害物質としては、例えば硫黄化合物、アセトアルデヒド及びヨウ化メチル等が挙げられる。 According to the gas reforming apparatus 1 configured as described above, a pulse voltage or an alternating voltage is applied by the power supply 8, and a part of gas molecules is ionized between the reference electrode 6 and the excitation electrode 7 by discharge. The electrode set 4 is arranged so that plasma is generated and the plasma is exposed to the air flow in the duct 2. In the plasma, for example, oxygen molecules, nitrogen molecules, and water molecules in the air are ionized to form positive ions to release electrons, and ozone, oxygen molecules, radicals, etc. capture electrons to form negative ions. To do. Also, hydrogen sulfide, which is the main component of malodor, becomes negative ions, and many other malodorous substances become negative ions. In addition, the electrode set 4 including the reference electrode 6 to which a negative direct current bias is applied and the collectors 2 and 3 that are grounded are suitable between the electrode set 4 and the collectors 2 and 3. An electric field is formed. Due to the electric field thus formed, the negative ions generated in the electrode set 4 are drawn out at a low speed upstream against the air flow. During this movement, water molecules in the air come into contact with negative ions to form clusters. Further, a harmful substance comes into contact with this cluster to form a cluster having a harmful substance attached to the surroundings. In particular, when a harmful substance comes into contact with a negative ion such as O , OH , O 2 , O 3 −, or a cluster having these negative ions as nuclei, it is captured by these negative ions and clusters. Examples of harmful substances captured by these negative ions and clusters include sulfur compounds, acetaldehyde, and methyl iodide.

負イオン及びクラスターは、電極組4と捕集部2,3との間に形成された電場により、捕集部2,3に向かって引き出され、具体的には、ダクト2内壁、接地グリッド3に引き出されて、捕集部2,3上の水膜に捕集されると共に重力で流れ落ち、ドレンノズル10を通り系外に排出される。すなわち、有害物質を付着したクラスターが水膜に吸収されて系外に排出される。   Negative ions and clusters are drawn toward the collection parts 2 and 3 by an electric field formed between the electrode assembly 4 and the collection parts 2 and 3. Specifically, the inner wall of the duct 2, the ground grid 3 And is collected in the water film on the collection parts 2 and 3 and flows down by gravity, passes through the drain nozzle 10 and is discharged out of the system. In other words, clusters with harmful substances attached are absorbed by the water film and discharged out of the system.

接地グリッド3を通過した空気流は電極組4のプラズマ中に流入し、また、多量の水分子を付着して電界による移動度が低下したクラスターも、空気流により、接地グリッド3より下流側に流され電極組4のプラズマ中に流入する。   The air flow that has passed through the ground grid 3 flows into the plasma of the electrode assembly 4, and the clusters in which a large amount of water molecules are attached and the mobility due to the electric field is lowered are also downstream of the ground grid 3 by the air flow. Flow into the plasma of the electrode set 4.

電極組4のプラズマ中では、種々のエネルギーを有する電子が存在し、単独の水分子に衝突してもエネルギーが大きすぎて水分子の解離を起こさせない電子であっても、クラスターの水分子に衝突して水分子の解離を起こさせる。具体的には、電子がクラスターに衝突して、そのエネルギーが水分子の振動及び励起に消費され、分子の解離に適したエネルギーの電子とされる。これにより、水分子の解離が容易に起こりOHラジカルが生成される。また、酸素分子の解離で生じたOラジカルが、クラスターの水分子とラジカル反応してOHラジカルを生成する。これらによりOHラジカルの生成量が増やされる。また、Oラジカルが、酸素分子と反応してオゾンを生成する。   Electrons having various energies exist in the plasma of the electrode set 4, and even if the electrons do not cause dissociation of the water molecules because the energy is too large even when colliding with a single water molecule, Collisions cause water molecules to dissociate. Specifically, the electrons collide with the clusters, the energy is consumed for vibration and excitation of water molecules, and the electrons have energy suitable for molecular dissociation. Thereby, dissociation of water molecules occurs easily and OH radicals are generated. In addition, O radicals generated by dissociation of oxygen molecules react with the water molecules of the cluster to generate OH radicals. These increase the amount of OH radicals produced. O radicals react with oxygen molecules to generate ozone.

これらのOHラジカルは、極めて酸化力が強く、空気中の有害物質及びクラスターに付着する有害物質と連鎖反応的に接触して、これらの有害物質を分解する。また、オゾンも有害物質を分解する。因みにオゾンにより分解される有害物質としては、ヨウ素化合物、スカトール及びトリメチルアミン等が挙げられる。   These OH radicals have extremely strong oxidizing power, and come into contact with the harmful substances in the air and the harmful substances attached to the clusters in a chain reaction to decompose these harmful substances. Ozone also decomposes harmful substances. Incidentally, examples of harmful substances decomposed by ozone include iodine compounds, skatole and trimethylamine.

空気流は電極組4を通過し、電極組4にかかる電圧が0V時に当該電極組4から下流側に流された負イオン及びこれを核とするクラスターは、電極組4とグリッド電極5との間に形成された電場により、空気流に逆らって上流側へ押し戻されてプラズマ中に流入し、プラズマ中のクラスターの量が増やされ、電子とクラスターの衝突による水分子の解離が促進され、OHラジカルの生成量が増やされる。   The air flow passes through the electrode set 4, and when the voltage applied to the electrode set 4 is 0 V, the negative ions and the clusters centering on the negative ions flowed from the electrode set 4 are formed between the electrode set 4 and the grid electrode 5. The electric field formed between them is pushed back upstream against the air flow and flows into the plasma, the amount of clusters in the plasma is increased, the dissociation of water molecules due to collisions between electrons and clusters is promoted, and OH The amount of radicals generated is increased.

このように本実施形態においては、パルス電圧又は交流電圧が印加されて、基準電極6と励起電極7との間に、放電によりガス分子の一部が電離したプラズマが発生し、このプラズマ中では酸素分子やOHラジカルに電子が付着して負イオンを生ずる。負イオンは、電極組4と捕集部2,3との間に形成された電場により、捕集部2,3に向かって引き出されると共に、クラスターを生成し、捕集部2,3に捕集される。その結果、空気中の有害物質が効率良く除去されると共に、空気中の水分が除去されて、性能の向上が図られる。   As described above, in the present embodiment, a pulse voltage or an alternating voltage is applied, and a plasma in which part of gas molecules is ionized by discharge is generated between the reference electrode 6 and the excitation electrode 7. Electrons attach to oxygen molecules and OH radicals to generate negative ions. The negative ions are extracted toward the collection units 2 and 3 by the electric field formed between the electrode assembly 4 and the collection units 2 and 3, generate clusters, and are collected by the collection units 2 and 3. Be collected. As a result, harmful substances in the air are efficiently removed, moisture in the air is removed, and performance is improved.

また、本実施形態においては、負電位の直流バイアスが印加された基準電極6を備える電極組4と接地された捕集部2,3とにより、これらの電極組4と捕集部2,3との間に適度な電位差が生じる。その結果、簡素な構成で電場が形成される。   Further, in the present embodiment, the electrode set 4 including the reference electrode 6 to which a negative direct current DC bias is applied and the grounded collection units 2 and 3, and these electrode sets 4 and the collection units 2 and 3 An appropriate potential difference occurs between As a result, an electric field is formed with a simple configuration.

また、本実施形態においては、捕集部2,3はダクト2内壁を含んでいるため、広範囲の捕集部2,3を容易に得ることができる。その結果、有害物質及び水分の除去性能が一層向上されている。   Moreover, in this embodiment, since the collection parts 2 and 3 include the duct 2 inner wall, the wide collection parts 2 and 3 can be obtained easily. As a result, the performance of removing harmful substances and moisture is further improved.

また、特に本実施形態においては、捕集部として接地グリッド3を有しているため、電極組4で生成された負イオンは、空気流に逆らって上流側へ低速で引き出され、負イオンを核としたクラスターの生成量が増やされて、このクラスターは、気体流により電極組4のプラズマ中に流入し、OHラジカルが生成されると共に負イオンも生成される。その結果、有害物質及び水分の除去効率が一層向上されている。   In particular, in the present embodiment, since the grounding grid 3 is provided as a collection part, the negative ions generated by the electrode assembly 4 are drawn out to the upstream side at a low speed against the air flow, and the negative ions are extracted. The amount of clusters generated as nuclei is increased, and this cluster flows into the plasma of the electrode assembly 4 by the gas flow, generating OH radicals and negative ions. As a result, the removal efficiency of harmful substances and moisture is further improved.

因みに、本実施形態の気体改質装置1では、電極組4と捕集部2,3との間に形成された電界強度を100〜1000V/cmと設定して、負イオンの移動速度を2〜20m/sとすると、良好に有害物質及び水分が除去される。   Incidentally, in the gas reforming apparatus 1 of the present embodiment, the electric field strength formed between the electrode set 4 and the collection parts 2 and 3 is set to 100 to 1000 V / cm, and the moving speed of negative ions is 2 When it is set to -20 m / s, harmful substances and moisture are removed well.

また、本実施形態においては、電極組4より下流側に流された負イオン及びクラスターは、電極組4とグリッド電極5との間に形成された電場により、空気流に逆らって上流側へ押し戻されプラズマ中に流入し、OHラジカルが生成されると共に負イオンも生成される。その結果、有害物質及び水分の除去効率が一層向上されている。   Further, in the present embodiment, the negative ions and clusters flowed downstream from the electrode set 4 are pushed back upstream by the electric field formed between the electrode set 4 and the grid electrode 5 against the air flow. This flows into the plasma, generating OH radicals and negative ions. As a result, the removal efficiency of harmful substances and moisture is further improved.

図4は、本発明の第2実施形態に係る気体改質装置を示す概略構成図である。この第2実施形態の気体改質装置21が第1実施形態の気体改質装置1と違う点は、電極組及びこの電極組に接続される電源を複数備えた点である。   FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a gas reforming apparatus according to the second embodiment of the present invention. The gas reforming apparatus 21 of the second embodiment is different from the gas reforming apparatus 1 of the first embodiment in that an electrode set and a plurality of power supplies connected to the electrode set are provided.

すなわち、気体改質装置21は、各電極組4a〜4cを、空気流方向Gに沿って並設して備え、各基準電極6a〜6cは、負の電位が空気流方向Gの下流側に向かって順に大となる直流電源11a〜11cの負端子に各々接続され、接地グリッド3、基準電極6a〜6c、グリッド電極5の電位は、空気流方向Gの下流側に向かって順に負側に電位差を有する電位とされている。   That is, the gas reformer 21 includes the electrode sets 4a to 4c arranged in parallel along the air flow direction G, and the reference electrodes 6a to 6c have negative potentials downstream of the air flow direction G. The potentials of the ground grid 3, the reference electrodes 6a to 6c, and the grid electrode 5 are sequentially negative toward the downstream side in the air flow direction G. The potential has a potential difference.

このように構成すると、電極組4a〜4cを複数備えているため、これらの並列される電極組4a〜4cにより、負イオンの生成量が増やされる。その結果、第1実施形態に比して有害物質が一層除去されて、性能の向上が図られる。   If comprised in this way, since the electrode sets 4a-4c are provided with two or more, the production | generation amount of a negative ion is increased by these electrode sets 4a-4c arranged in parallel. As a result, harmful substances are further removed as compared with the first embodiment, and performance is improved.

図5は、本発明の第3実施形態に係る気体改質装置を示す概略構成図である。この第3実施形態の気体改質装置31が第1実施形態の気体改質装置1と違う点は、図1に示すグリッド電極5に代えて、図5に示すように、接地グリッド3を電極組4の下流側にも備えた点である。   FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing a gas reforming apparatus according to the third embodiment of the present invention. The gas reforming device 31 of the third embodiment is different from the gas reforming device 1 of the first embodiment in that, instead of the grid electrode 5 shown in FIG. This is also provided on the downstream side of the set 4.

このように構成すると、負イオンが電極組4の下流側にも引き出され、質量が増加した巨大クラスター及びミストは負に帯電し、下流側に配置された接地グリッド3にも捕集される。その結果、第1実施形態に比して水分が一層除去されて、性能の向上が図られる。   If comprised in this way, a negative ion will be drawn out also to the downstream of the electrode group 4, and the huge cluster and mist which mass increased will be negatively charged, and will also be collected by the grounding grid 3 arrange | positioned downstream. As a result, moisture is further removed as compared with the first embodiment, and performance is improved.

図6は、本発明の第4実施形態に係る気体改質装置を示す概略構成図である。この第4実施形態の気体改質装置41が第3実施形態の気体改質装置31と違う点は、図5に示す下流側に配置された接地グリッド3より更に下流側に、第3実施形態と同様の電極組4及び接地グリッド3を、空気流方向Gに沿って並設して備えた点である。   FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing a gas reforming apparatus according to the fourth embodiment of the present invention. The difference between the gas reforming device 41 of the fourth embodiment and the gas reforming device 31 of the third embodiment is that the third embodiment is further downstream than the ground grid 3 disposed on the downstream side shown in FIG. The same electrode set 4 and grounding grid 3 as those in FIG. 6 are provided in parallel along the air flow direction G.

このように構成すると、電極組4及び接地グリッド3が増やされているため、負イオンの生成量及び捕集部2,3が増やされる。その結果、第3実施形態に比して有害物質及び水分が一層除去されて、性能の向上が図られる。   If comprised in this way, since the electrode set 4 and the grounding grid 3 are increased, the production amount of negative ions and the collection parts 2 and 3 are increased. As a result, harmful substances and moisture are further removed as compared with the third embodiment, and performance is improved.

以上、本発明をその実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態の気体改質装置1,31,41にあっては、基準電極6を直流電源11の負端子に接続し、負電位とする構成としているが、基準電極6を直流電源11の正端子に接続し、正電位とする構成としても良い。このように構成すると、電極組4と捕集部2,3との間に形成された電場により正イオンは捕集部2,3に向かって引き出されて、正イオンが空気中の水分子及び有害物質に接触して、正イオンを核として周囲に水分子や有害物質を付着したクラスターの生成量が増やされ、これらの正イオン及びクラスターは、捕集部2,3上に形成された水膜に捕集される。その結果、空気中の有害物質が効率良く除去されると共に、空気中の水分が除去されて、性能の向上が図られる。また、このような正イオンを捕集部2,3に向けて引き出させる気体改質装置1においては、グリッド電極5を、直流電源12の正端子に接続し、基準電極6の電位より正側の電位差を有する電位とする。このようにすると、空気流により、電極組4にかかる電圧が0V時に当該電極組4から下流側に流されたクラスターは、電極組4とグリッド電極5との間に形成された電場により、空気流に逆らって上流側へ押し戻されてプラズマ中に流入し、プラズマ中のクラスターの量が増やされ、電子とクラスターの衝突による水分子の解離が促進され、OHラジカルが生成されると共に負イオンも生成される。その結果、有害物質及び水分の除去効率が一層向上される。   As mentioned above, although this invention was concretely demonstrated based on the embodiment, this invention is not limited to the said embodiment. For example, in the gas reforming apparatuses 1, 31, and 41 of the above embodiment, the reference electrode 6 is connected to the negative terminal of the DC power supply 11 to have a negative potential, but the reference electrode 6 is connected to the DC power supply 11. The positive terminal may be connected to the positive terminal. If comprised in this way, a positive ion will be drawn out toward the collection parts 2 and 3 by the electric field formed between the electrode group 4 and the collection parts 2 and 3, and a positive ion will be the water molecule in air and The generation amount of clusters in which water molecules and harmful substances adhere to the surroundings with positive ions as nuclei in contact with harmful substances is increased, and these positive ions and clusters are generated in the water formed on the collection parts 2 and 3. Collected in the membrane. As a result, harmful substances in the air are efficiently removed, moisture in the air is removed, and performance is improved. Further, in the gas reforming apparatus 1 that draws out such positive ions toward the collection units 2 and 3, the grid electrode 5 is connected to the positive terminal of the DC power source 12, and the positive side from the potential of the reference electrode 6. A potential having a potential difference of In this way, when the voltage applied to the electrode set 4 is 0 V due to the air flow, the cluster flowed downstream from the electrode set 4 is caused by the electric field formed between the electrode set 4 and the grid electrode 5. Against the flow, it is pushed back upstream and flows into the plasma, the amount of clusters in the plasma is increased, the dissociation of water molecules due to collisions between electrons and clusters is promoted, OH radicals are generated and negative ions are also generated Generated. As a result, the removal efficiency of harmful substances and moisture is further improved.

また、上記第2実施形態において、気体改質装置21は、接地グリッド3、基準電極6a〜6c、グリッド電極5の電位を、空気流方向Gの下流側に向かって順に負側に電位差を有する電位とする構成としているが、接地グリッド3、基準電極6a〜6c、グリッド電極5の電位を、空気流方向Gの下流側に向かって順に正側に電位差を有する電位とする構成としても良い。このように構成すると、正イオンを空気流に逆らって上流側へ引き出させる電場が生じ、これらの正イオン及びクラスターは、流路に設けられた捕集部2,3上の水膜に捕集される。   Moreover, in the said 2nd Embodiment, the gas reforming apparatus 21 has an electric potential difference in the negative side in order toward the downstream of the air flow direction G about the electric potential of the ground grid 3, the reference electrodes 6a-6c, and the grid electrode 5. Although it is set as the structure made into an electric potential, it is good also as a structure which makes the electric potential of the ground grid 3, the reference electrodes 6a-6c, and the grid electrode 5 an electric potential which has an electric potential difference in the positive side in order toward the downstream of the airflow direction G. If comprised in this way, the electric field which draws a positive ion against an air flow upstream will arise, and these positive ions and a cluster will be collected by the water film on the collection parts 2 and 3 provided in the flow path. Is done.

また、上記第2実施形態の気体改質装置21では、電極組4cの下流にグリッド電極5を配置する構成としているが、グリッド電極5に代えて、接地グリッド3を配置する構成としても良い。これにより、イオン及びクラスターは、下流側の接地グリッド3にも捕集される。   In the gas reforming apparatus 21 of the second embodiment, the grid electrode 5 is disposed downstream of the electrode set 4c. However, the ground grid 3 may be disposed instead of the grid electrode 5. Thereby, ions and clusters are also collected in the ground grid 3 on the downstream side.

また、上記実施形態では、気体改質装置1,21,31,41を下水処理場等の空気の処理に適用したが、各種工場等から排出される排ガスの処理、その他の気体の処理にも適用可能であり、また、クリーンルーム等の空気清浄等に適用してもよい。   In the above embodiment, the gas reformers 1, 21, 31, and 41 are applied to the treatment of air such as sewage treatment plants. However, the gas reformers 1, 21, 31, and 41 are also used for treatment of exhaust gas discharged from various factories and the like and treatment of other gases. The present invention is applicable, and may be applied to air cleaning in a clean room or the like.

また、上記実施形態の気体改質装置1,21,31,41は、気体中の細菌をクラスターに付着させて捕集すると共に、O等の負イオン、オゾン及びOHラジカルにより気体中の細菌を死滅させるため、気体の除菌及び殺菌等にも適用可能であり、例えば病院、一般家庭、冷蔵庫等に適用してもよい。 In addition, the gas reforming apparatus 1, 21, 31, 41 of the above-described embodiment collects bacteria in the gas by attaching them to the cluster and collects bacteria in the gas by negative ions such as O , ozone, and OH radicals. Can be applied to gas sterilization and sterilization, and may be applied to hospitals, general households, refrigerators, and the like.

また、上記実施形態では、基準電極6及び励起電極7をダクト2の横断面に沿って一列に配置したが、空気の流れ方向Gに対して位置を変化させても良く、要は、基準電極6、励起電極7間にプラズマが発生し、このプラズマをダクト2内の空気に曝すように基準電極6及び励起電極7を配置すれば良い。   Moreover, in the said embodiment, although the reference electrode 6 and the excitation electrode 7 were arrange | positioned in a line along the cross section of the duct 2, you may change a position with respect to the flow direction G of air, and the point is a reference electrode. 6. The plasma is generated between the excitation electrodes 7 and the reference electrode 6 and the excitation electrode 7 may be arranged so that the plasma is exposed to the air in the duct 2.

また、上記実施形態では、紫外線が照射されると水膜を形成可能な光触媒コーティングを捕集部2,3に塗布して、水膜を形成する構成としているが、処理気体中に水蒸気が多量に含まれている場合には、光触媒コーティングを塗布しなくてもよい。また、ダクト2内壁、接地グリッド3を露点以下に冷却することで、水膜を形成する構成としても良い。   In the above embodiment, a photocatalyst coating capable of forming a water film is applied to the collection parts 2 and 3 when irradiated with ultraviolet rays to form a water film. However, a large amount of water vapor is contained in the processing gas. If it is contained in the photocatalyst coating, the photocatalytic coating may not be applied. Moreover, it is good also as a structure which forms a water film by cooling the duct 2 inner wall and the grounding grid 3 below a dew point.

なお、上記実施形態のグリッド電極3,5は、金網、多孔板を含んだものとする。   In addition, the grid electrodes 3 and 5 of the said embodiment shall contain a metal-mesh and a perforated plate.

また、上記実施形態の気体改質装置の後段に触媒を配置する構成とすると、捕集部2,3で水分が捕集されて、ダクト2内を流動する気体が除湿されているため、触媒の乾燥状態が持続し、触媒寿命が延びるという利点もある。   Moreover, when it is set as the structure which arrange | positions a catalyst in the back | latter stage of the gas reforming apparatus of the said embodiment, since the moisture which is collected by the collection parts 2 and 3 and the gas which flows through the duct 2 is dehumidified, a catalyst There is also an advantage that the dry state of the catalyst is maintained and the catalyst life is extended.

また、上記実施形態の気体改質装置では、捕集部をダクト2内壁、接地グリッド3とする構成としているが、ダクト2内壁のみを捕集部とする構成や、ダクト2を導電体とせずに接地グリッド3のみを捕集部とする構成としても良い。   Moreover, in the gas reforming apparatus of the said embodiment, although the collection part is made into the structure which makes the inner wall of the duct 2 and the grounding grid 3, the structure which makes only the inner wall of the duct 2 the collection part, or the duct 2 is not made into a conductor. Moreover, it is good also as a structure which uses only the grounding grid 3 as a collection part.

本発明の第1実施形態に係る気体改質装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the gas reforming apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1中の各電極における電位を示す線図であり、電源を高周波電源とした場合のものである。It is a diagram which shows the electric potential in each electrode in FIG. 1, and is a thing at the time of setting a power supply as a high frequency power supply. 図1中の各電極における電位を示す線図であり、電源をパルス電源とした場合のものである。It is a diagram which shows the electric potential in each electrode in FIG. 1, and is a thing at the time of setting a power supply as a pulse power supply. 本発明の第2実施形態に係る気体改質装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the gas reforming apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係る気体改質装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the gas reforming apparatus which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係る気体改質装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the gas reforming apparatus which concerns on 4th Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1,21,31,41…気体改質装置、2…ダクト(流路;捕集部)、3…接地グリッド(捕集部)、4,4a〜4c…電極組(電極対)、5…グリッド電極、6…基準電極、10…排水口。   1, 2, 31, 41 ... Gas reforming device, 2 ... Duct (flow path; collection part), 3 ... Grounding grid (collection part), 4, 4a to 4c ... Electrode set (electrode pair), 5 ... Grid electrode, 6 ... reference electrode, 10 ... drain.

Claims (8)

水分子を含む気体が流動する流路と、
前記流路内に、パルス電圧又は交流電圧が印加されてプラズマを発生させると共にこのプラズマを前記気体に曝すように配置された電極対と、
前記流路に設けられ接地された導電体を有する捕集部と、を備え、
前記電極対には、当該電極対の一方の電極を基準電極としてこの基準電極の電位を、正電位又は負電位とする直流バイアスが印加されていることを特徴とする気体改質装置。
A flow path through which a gas containing water molecules flows;
In the flow path, a pulse voltage or an alternating voltage is applied to generate a plasma, and an electrode pair arranged to expose the plasma to the gas;
A collector having a grounded conductor provided in the flow path, and
A gas reforming apparatus, wherein a direct current bias is applied to the electrode pair, wherein one electrode of the electrode pair is a reference electrode, and a potential of the reference electrode is a positive potential or a negative potential.
前記捕集部は、前記流路の内壁であることを特徴とする請求項1記載の気体改質装置。   The gas reforming apparatus according to claim 1, wherein the collection unit is an inner wall of the flow path. 前記捕集部は、前記電極対より上流側に配置された接地グリッドを有していることを特徴とする請求項1又は2記載の気体改質装置。   3. The gas reforming apparatus according to claim 1, wherein the collection unit includes a grounding grid disposed upstream of the electrode pair. 前記基準電極より下流側に配置されると共に直流電圧が印加されるグリッド電極を備え、
前記基準電極の電位が正電位の場合には、
前記グリッド電極の電位を、前記基準電極の電位より正側の電位差を有する電位とし、
前記基準電極の電位が負電位の場合には、
前記グリッド電極の電位を、前記基準電極の電位より負側の電位差を有する電位とすることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の気体改質装置。
A grid electrode disposed on the downstream side of the reference electrode and applied with a DC voltage;
When the potential of the reference electrode is a positive potential,
The potential of the grid electrode is a potential having a potential difference on the positive side from the potential of the reference electrode,
When the reference electrode has a negative potential,
The gas reforming apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the potential of the grid electrode is set to a potential having a negative potential difference from the potential of the reference electrode.
前記捕集部は、前記電極対より下流側に配置された接地グリッドを有していることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の気体改質装置。   The gas reformer according to any one of claims 1 to 3, wherein the collection part has a grounding grid arranged on the downstream side of the electrode pair. 前記気体の流れ方向に、前記電極対を複数並設し、
前記基準電極の電位が正電位の場合には、
当該基準電極の電位を、前記気体の流れ方向に順に正側に電位差を有する電位とし、
前記基準電極の電位が負電位の場合には、
当該基準電極の電位を、前記気体の流れ方向に順に負側に電位差を有する電位とすることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の気体改質装置。
A plurality of the electrode pairs are juxtaposed in the gas flow direction,
When the potential of the reference electrode is a positive potential,
The potential of the reference electrode is a potential having a potential difference on the positive side in order in the gas flow direction,
When the reference electrode has a negative potential,
6. The gas reforming apparatus according to claim 1, wherein the potential of the reference electrode is set to a potential having a potential difference on the negative side in order in the flow direction of the gas.
前記捕集部は、紫外線が照射されると水膜を形成可能な光触媒コーティングが塗布されていることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の気体改質装置。   The gas reformer according to any one of claims 1 to 6, wherein the collection unit is coated with a photocatalytic coating capable of forming a water film when irradiated with ultraviolet rays. 前記流路は、当該流路内の水を排出可能な排水口を備えていることを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の気体改質装置。   The gas reforming apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein the flow path is provided with a drain port through which water in the flow path can be discharged.
JP2004064642A 2004-03-08 2004-03-08 Gas reforming apparatus Pending JP2005246353A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004064642A JP2005246353A (en) 2004-03-08 2004-03-08 Gas reforming apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004064642A JP2005246353A (en) 2004-03-08 2004-03-08 Gas reforming apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005246353A true JP2005246353A (en) 2005-09-15

Family

ID=35027344

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004064642A Pending JP2005246353A (en) 2004-03-08 2004-03-08 Gas reforming apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005246353A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009008519A1 (en) * 2007-07-12 2009-01-15 Imagineering, Inc. Gas treatment device, gas treatment system, gas treatment method, and exhaust gas treatment system and internal combustion engine employing it
JP2011019579A (en) * 2009-07-14 2011-02-03 Daikoh Shoji Corp Method and device for cleaning and drying air
JP2013000636A (en) * 2011-06-14 2013-01-07 Imagineering Inc Plasma generator
US8602005B2 (en) 2008-03-14 2013-12-10 Imagineering, Inc. Multiple discharge plasma apparatus
US8863495B2 (en) 2007-07-12 2014-10-21 Imagineering, Inc. Ignition/chemical reaction promotion/flame holding device, speed-type internal combustion engine, and furnace

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009008519A1 (en) * 2007-07-12 2009-01-15 Imagineering, Inc. Gas treatment device, gas treatment system, gas treatment method, and exhaust gas treatment system and internal combustion engine employing it
US8367005B2 (en) 2007-07-12 2013-02-05 Imagineering, Inc. Gas processing apparatus, gas processing system, and gas processing method, and exhaust gas processing system and internal combustion engine using the same
US8863495B2 (en) 2007-07-12 2014-10-21 Imagineering, Inc. Ignition/chemical reaction promotion/flame holding device, speed-type internal combustion engine, and furnace
US8602005B2 (en) 2008-03-14 2013-12-10 Imagineering, Inc. Multiple discharge plasma apparatus
JP2011019579A (en) * 2009-07-14 2011-02-03 Daikoh Shoji Corp Method and device for cleaning and drying air
JP2013000636A (en) * 2011-06-14 2013-01-07 Imagineering Inc Plasma generator

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100535123B1 (en) Hybrid type air cleaner for automobile
Li et al. Fundamentals and environmental applications of non-thermal plasmas: multi-pollutants emission control from coal-fired flue gas
KR20140030124A (en) Device and method for purifying air from non-desired components and for eliminating such components
RU94669U1 (en) DEVICE FOR SANITARY-HYGIENIC AIR TREATMENT
CN108025252B (en) Air cleaning apparatus and method
CN103742984A (en) Magnetic-electric micro water curtain air purifying method and device
JP2008034220A (en) Discharge electrode element and ionizer
JP2008006371A (en) Dust collector
EP3416742A1 (en) Systems and methods for gas cleaning using electrostatic precipitation and photoionization
CN203797809U (en) Industrial air purifier
JP2005246353A (en) Gas reforming apparatus
JP3679280B2 (en) Gas separator
CN112283849A (en) Plasma purifier
KR20100123787A (en) Deodor system with dry and wet type package
KR20190076432A (en) Plasma wire having carbon coating layer and dust collector using the same
JP2011104558A (en) Chemical processing apparatus for negative spread corona discharge plasma
KR102443712B1 (en) Harmful gas and odor removal device using indirect plasma reactor
KR20160030679A (en) Air furification apparatus using hydroxyl radical
KR100783061B1 (en) Air cleaning appapatus using different surface discharge
JP2006255524A (en) Air cleaner
JP2006192013A (en) Air cleaning device
JP2000300650A (en) Photocatalyst type air purifying device
KR19980034985A (en) Industrial deodorization and harmful gas removal device
KR20120112921A (en) Air clearing apparatus using photocatalyst and negative ion
JP2005246352A (en) Gas reforming apparatus