JP2005223307A - 酸化物系熱電変換膜、及び酸化物系熱電変換膜の作製方法 - Google Patents

酸化物系熱電変換膜、及び酸化物系熱電変換膜の作製方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 大気中で安定であるとともに毒性を有しない、熱電変換特性に優れた熱電変換材料を提供する。
【解決手段】 MgO基板又はSrTiO3基板上に、RE2-XMXCu1O4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、M=Ce, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素、0<X<2,0≦Y<4)なる組成、又はRE2Cu1-XZXO4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、Z=Ni及びZnの少なくとも一種の遷移元素、0<X<1,0≦Y<4)なる組成の酸化物系熱電変換膜を形成する。
【選択図】なし

Description

本発明は、酸化物系熱電変換膜及びその作製方法に関する。
熱エネルギーから電気エネルギーへの変換、あるいはその逆過程が可能な熱電変換材料を用いることにより、可動部を有することのない無排出のデバイスを提供できるとともに、デバイス自体を小型軽量化することができ、さらにはその信頼性を向上できるなどの種々の利点を有するデバイスの提供が可能になる。
現在、ペルチェ効果を利用した熱電冷却は、温度制御が容易であることから幅広い分野において実用化されているが、ゼーベック効果を利用した熱電発電は、僻地での使用などその用途が限られてきた。
しかしながら、近年、石油資源などの産出量が、2010〜2020年頃にピークを迎えると予測され、エネルギーの安定供給、経済成長及び環境保全を実現しながらも、石油問題の早急な解決に迫られており、これまで用いられなかった廃熱エネルギーの高効率利用が必要不可欠である。また、人類の生活において用いられているエネルギーのほとんどが、廃熱として放出されている。したがって、ゼーベック効果を利用した熱電変換は、廃熱を回収して再利用するのに最適な技術の一つであり、熱エネルギー変換システムへの応用技術として非常に期待されている。
現在、実用化されている熱電変換材料であるBi2TePbTeなどの金属間化合物は、有毒な元素を含有していることから、製造・使用時に問題となる。さらに、高温での使用を考えた場合、構成成分の気化蒸発とそれによる汚染、酸化物相の生成などによる変換効率の低下が生じ、使用可能な温度に限界がある。そこで、熱電変換の広範な使用を目指すには、低コストで高温においても安定に使用が可能な、環境負荷の少ない新規材料が求められて
きた。
このような背景から、高温においても安定に存在できる酸化物系熱電材料の利用が注目されてきた。多くの酸化物系材料は、一般に高温大気中において安定しており、毒性も低く、製造も容易なため、耐熱材料などの様々な分野で利用されてきた。酸化物系の新素材は、(Ca,Co,O)、(Bi,Sr,Ca,Co,O)、(Na,Co,O)などのCo元素を含む混合組成で構成される材料が確認されている(例えば、I.Terasaki et al., Phys.Rev.B56,R12685(1997),R.Funahashiet.et.a1., Jpn.J.Appl.Phys.39,Ll127(2000),R.Funahashi and I Mastubara, Appl.Phys.Lett. 79,362(2001)など)。
しかしながら、このような酸化物系熱電変換材料は、高い性能を持つにも関わらず、応用を考えた際の素子化が困難である。その理由の一つとして、層状構造に起因する異方的な電気抵抗率を持つため、バルク体では性能が1桁程度低下する問題がある。そのため結晶の方位を揃えることが、酸化物熱電変換材料の応用に向けた課題となっている。
さらに、現在確認されている酸化物系熱電変換材料は(Ca,Co,O)、(Bi,Ca,CoO)、(Na,Co,O)などのCo元素を含む混合組成で構成される材料であり、すべてp型熱電変換材料である。実用化されている金属系熱電変換モジュールでも同様であるが、酸化物系熱電変換モジュールはp型材料及びn型材料が対となって、はじめてペルチェモジュールやゼーべックモジュールとして作動する。そのため、前述した酸化物系熱電変換材料の結晶方向を揃える配向化技術の向上とともに、高性能な酸化物系n型熱電変換材料の探索が急務となっている。
本発明は、上述した種々の問題を有しない、新規な酸化物系熱電変換材料を提供することを目的とする。
上記目的を達成すべく、本発明は、
RE2-XMXCu1O4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、M=Ce, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素、0<X<2,0≦Y<4)なる組成を有することを特徴とする、酸化物系熱電変換膜(第1の酸化物系熱電変換膜)に関する。
また、本発明は、
RE2Cu1-XZXO4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、Z=Ni及びZnの少なくとも一種の遷移元素、0<X<1,0≦Y<4)なる組成を有することを特徴とする、酸化物系熱電変換膜(第2の熱電変換膜)に関する。
本発明者らは、上記問題を解決すべく鋭意検討を実施した。その結果、RE2CuO4系酸化物材料のREの一部をCe, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素で置換する、あるいはCuの一部をNi及びZnの少なくとも一方で置換し、薄膜化することによって優れた熱電変換性能を有する熱電変換材料を提供できることを見出した。
本発明の熱電変換材料は酸化物系であるので大気中で安定であり、また毒性の元素を含まない。したがって、特別な配慮を何ら行うことなく作製及び使用することができる。また、本発明の熱電変換材料は薄膜であるために、その作製方法及び作製条件などを種々制御することによって、前記熱電変換薄膜を所定方向、特にはそのc軸が、形成すべき基板の主面に対して略垂直となるように配向させることができ、前記薄膜内に何ら異方性を生じないようにすることができる。したがって、前記熱電変換薄膜の、その材料組成に起因した性能を高レベルに保持することができるようになる。
なお、前記第2の酸化物系熱電変換膜は、その材料組成に起因して主として電子が電気伝導に寄与するようになる。したがって、前記第2の酸化物系熱電変換膜はn型熱電変換膜として機能する。また、前記第1の酸化物系熱電変換膜も、M=Ba、Sr及びCaの少なくとも一種から構成した場合においてn型熱電変換膜として機能する。この結果、本発明によれば、従来開発が急務とされていたn型熱電変換材料を提供することが可能となる。
また、前記第1の酸化物系熱電変換膜は、M=Ceである場合においてp型熱電変換膜として機能するようになる。この結果、前記第1の酸化物系熱電変換膜は、n型及びp型のいずれの伝導型をも示し、熱電変換モジュールなどのデバイスへの用途に向けてその使用範囲を拡大することができる。
本発明の好ましい態様においては、前記第1の酸化物系熱電変換膜におけるMの置換量、すなわち上記組成式中におけるXが0.001以上0.2以下であることが好ましい。また、前記第1の酸化物系熱電変換膜における酸素欠損の割合、すなわち上記組成式におけるYが0.001以上1以下であることが好ましい。これによって、より良好な熱電変換特性を呈するようになる。
また、本発明の他の好ましい態様においては、前記第2の酸化物系熱電変換膜におけるNi及び/又はZnの置換量、すなわち上記組成式中におけるXが0.001以上0.2以下であることが好ましい。また、前記第2の酸化物系熱電変換膜における酸素欠損の割合、すなわち上記組成式におけるYが0.001以上1以下であることが好ましい。これによって、より良好な熱電変換特性を呈するようになる。
以上説明したように、本発明によれば、大気中で安定であるとともに毒性を有しない、熱電変換特性に優れた熱電変換材料を提供することができる。
以下、本発明の製造方法、並びにその他の特徴及び利点について、最良の形態に基づいて詳細に説明する。
本発明の酸化物系熱電変換膜は、所定の基板を準備し、この基板上に汎用の成膜技術を施すことによって形成することができる。前記基板は、前記酸化物系熱電変換膜が所定の配向性を有するようにエピタキシャル成長できるものであれば特に限定されない。具体的には、前記酸化物系熱電変換膜の格子定数と近い格子定数を有するMgO基板又はSrTiO3基板を用いることができる。
また、前記成膜技術としては、レーザ蒸着法、スパッタリング法、及びCVD法などを用いることができる。特に、蒸着源の組成を膜組成に対して忠実に反映させることができるという観点から、レーザ蒸着法を用いることが好ましい。レーザ蒸着法は、例えばエキシマレーザなどを蒸着源としてのターゲットに照射し、レーザエネルギーによって前記ターゲットから蒸着微粒子を削り取るようにして得、前記蒸着微粒子を前記基板上に堆積させることによって膜形成を行う。
このようにレーサ蒸着法は蒸着源の組成を膜組成に反映させることができるので、RE2-XMXCu1O4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、M=Ce, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素、0<X<2,0<Y<4)なる組成の前記第1の酸化物系熱電変換膜をレーザ蒸着法によって形成する場合、前記膜組成と同一のRE2-AMACu1O4-B (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、M=Ce, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素、0<A<2,0<B<4)なる組成のターゲットを準備する。特に、前記第1の酸化物系熱電変換膜の組成において、0.001≦X≦0.2及び0.001≦Y≦1とした場合、前記ターゲットの組成において、0.001≦A≦0.2,0.001≦B≦1)とする。
RE2Cu1-XZXO4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、Z=Ni及びZnの少なくとも一種の遷移元素、0<X<1,0<Y<4)なる組成の前記第2の酸化物系熱電変換膜をレーザ蒸着法によって形成する場合、前記膜組成と同一のRE2Cu1-AZAO4-B (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、Z=Ni及びZnの少なくとも一種の遷移元素、0<A<1,0<B<4)なる組成のターゲットを準備する。特に、前記第2の酸化物系熱電変換膜の組成において、0.001≦X≦0.2及び0.001≦Y≦1とした場合、前記ターゲットの組成において、0.001≦A≦0.2,0.001≦B≦1とする。
また、本発明の酸化物系熱電変換膜を上述した成膜技術によって形成する場合、前記基板に対するエピタキシャル成長を実現するためには、前記基板を所定温度、好ましくは750℃以上に加熱する。
さらに、前記酸化物系熱電変換膜の結晶性を向上させるためには、前記酸化物系熱電変換膜を酸素含有雰囲気で形成する。具体的には、形成雰囲気中における酸素分圧を0.1Torr以上にする。
以上のような操作を経て得た酸化物系熱電変換膜は、そのc軸が前記基板の主面に対して略垂直に配向するようになる。したがって、膜内に異方性が生じることなく、その材料組成に起因した優れた熱電変換特性を呈するようになる。例えば、室温から500℃の温度範囲において、S2σ(S:ゼーベック係数(V/K)、σ:導電率(S/m))で表される出力因子が1.0×10-4(W/mK2)以上となり、ZT(Z=S2σ/k,S:ゼーベック係数(V/K)、σ:導電率(S/m),k:熱伝導率(W/mK),T=絶対温度(K))で表される性能指数が0.01以上となる。
一般に、実用に足る出力因子は1.0×10-4以上であって、同じく実用に足る性能指数は0.01以上であるので、本発明の酸化物系熱電変換膜は500℃以下の低温でも実用に足る熱電変換性能を有することが分かる。
なお、前記第2の酸化物系熱電変換膜は、その材料組成に起因して主として電子が電気伝導に寄与するようになる。したがって、前記第2の酸化物系熱電変換膜はn型熱電変換膜として機能する。また、前記第1の酸化物系熱電変換膜も、M=Ba、Sr及びCaの少なくとも一種から構成した場合においてn型熱電変換膜として機能する。したがって、本発明の酸化物系熱電変換膜を、例えばp型熱電変換膜と組み合わせて用いることにより、作動温度が500℃以下である熱電変換モジュールを得ることができる。
また、前記第1の酸化物系熱電変換膜は、M=Ceである場合においてp型熱電変換膜として機能するようになる。この結果、前記第1の酸化物系熱電変換膜は、n型及びp型のいずれの伝導型をも示し、熱電変換モジュールなどのデバイスへの用途に向けてその使用範囲を拡大することができる。
(実施例1)
(100)SrTiO3基板を準備し、この基板上にSm2-XCeXCu1O4なる組成の酸化物系熱電変換膜を厚さ400nmにレーザ蒸着法により形成した。次いで、前記Sm2-XCeXCu1O4熱電変換膜の温度50℃における出力因子及び性能指数を測定したところ、表1に示すような結果が得られた。表1から明らかなように、前記Sm2-XCeXCu1O4熱電変換膜は、実用に足る十分高い出力因子及び性能指数を示すことが分かる。
Figure 2005223307
(実施例2)
(100)SrTiO3基板を準備し、この基板上にSm2Cu1-XZnXO4なる組成の酸化物系熱電変換膜を厚さ400nmにレーザ蒸着法により形成した。次いで、前記Sm2Cu1-XZnXO4熱電変換膜の温度50℃における出力因子及び性能指数を測定したところ、表2に示すような結果が得られた。表2にから明らかなように、前記Sm2Cu1-XZnXO4熱電変換膜は、実用に足る十分高い出力因子及び性能指数を示すことが分かる。なお、Sm2Cu1-XNiXO4熱電変換膜についても同様の結果を得た。
Figure 2005223307
(実施例3)
(100)SrTiO3基板を準備し、RE2-XCeXCu1O4 (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu又はGd)なる組成の酸化物系熱電変換膜を厚さ500nmにスパッタリング法、レーザ蒸着法、及びCVD法により作製した。このようにして得た前記RE2-XCeXCu1O4熱電変換膜の温度100℃における出力因子及び性能指数を測定したところ、表3に示すような結果が得られた。表3にから明らかなように、前記前記RE2-XCeXCu1O4熱電変換膜は、実用に足る十分高い出力因子及び性能指数を示すことが分かる。
Figure 2005223307
(実施例4)
(100)SrTiO3基板を準備し、この基板上にSm2-XBaXCu1O4なる組成の酸化物系熱電変換膜を厚さ400nmにレーザ蒸着法により形成した。次いで、前記Sm2-XBaXCu1O4熱電変換膜の温度50℃における出力因子及び性能指数を測定したところ、表4に示すような結果が得られた。表4から明らかなように、前記Sm2-XBaXCu1O4熱電変換膜は、実用に足る十分高い出力因子及び性能指数を示すことが分かる。
Figure 2005223307
(実施例5)
(100)SrTiO3基板を準備し、RE2-XBaXCu1O4 (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu又はGd)なる組成の酸化物系熱電変換膜を厚さ500nmにスパッタリング法、レーザ蒸着法、及びCVD法により作製した。このようにして得た前記RE2-XCeXCu1O4熱電変換膜の温度100℃における出力因子及び性能指数を測定したところ、表5に示すような結果が得られた。表5にから明らかなように、前記前記RE2-XCeXCu1O4熱電変換膜は、実用に足る十分高い出力因子及び性能指数を示すことが分かる。
Figure 2005223307
(実施例6)
(100)SrTiO3基板を準備し、この基板上にSm2-XMXCu1O4(M=Sr, Ca)なる組成の酸化物系熱電変換膜を厚さ400nmにレーザ蒸着法により形成した。次いで、前記Sm2-XMXCu1O4(M=Sr, Ca)熱電変換膜の温度50℃における出力因子及び性能指数を測定したところ、表6に示すような結果が得られた。表6から明らかなように、前記Sm2-XMXCu1O4(M=Sr, Ca)熱電変換膜は、実用に足る十分高い出力因子及び性能指数を示すことが分かる。
Figure 2005223307
以上、具体例を挙げながら発明の実施の形態に基づいて本発明を詳細に説明してきたが、本発明は上記内容に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいてあらゆる変形や変更が可能である。例えば、本発明の酸化物系熱電変換膜は、上述したレーザ蒸着法などの気相法に加えて、固相法や液相法などによっても形成することができる。

Claims (29)

  1. RE2-XMXCu1O4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、M=Ce, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素、0<X<2,0≦Y<4)なる組成を有することを特徴とする、酸化物系熱電変換膜。
  2. 0.001≦X≦0.2であり、0.001≦Y≦1であることを特徴とする、請求項1に記載の酸化物系熱電変換膜。
  3. 前記酸化物系熱電変換膜は配向性を呈することを特徴とする、請求項1又は2に記載の酸化物系熱電変換膜。
  4. 前記酸化物系熱電変換膜のc軸が、前記酸化物系熱電変換膜を形成すべき基板の主面と略垂直方向に配向していることを特徴とする、請求項3に記載の酸化物系熱電変換膜。
  5. 前記酸化物系熱電変換膜は、p型熱電変換膜であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
  6. 前記酸化物系熱電変換膜は、n型熱電変換膜であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
  7. 前記酸化物系熱電変換膜は、MgO基板又はSrTiO3基板上に形成されたことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
  8. 室温から500℃の温度範囲における出力因子S2σ(S:ゼーベック係数(V/K)、σ:導電率(S/m))が1.0×10-4(W/mK2)以上であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
  9. 室温から500℃の温度範囲における性能指数ZT(Z=S2σ/k,S:ゼーベック係数(V/K)、σ:導電率(S/m),k:熱伝導率(W/mK),T=絶対温度(K))が0.01以上であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
  10. RE2Cu1-XZXO4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、Z=Ni及びZnの少なくとも一種の遷移元素、0<X<1,0≦Y<4)なる組成を有することを特徴とする、酸化物系熱電変換膜。
  11. 0.001≦X≦0.2であり、0.001≦Y≦1であることを特徴とする、請求項9に記載の酸化物系熱電変換膜。
  12. 前記酸化物系熱電変換膜は配向性を呈することを特徴とする、請求項10又は11に記載の酸化物系熱電変換膜。
  13. 前記酸化物系熱電変換膜のc軸が、前記酸化物系熱電変換膜を形成すべき基板の主面と略垂直方向に配向していることを特徴とする、請求項12に記載の酸化物系熱電変換膜。
  14. 前記酸化物系熱電変換膜は、n型熱電変換膜であることを特徴とする、請求項10〜13のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
  15. 前記酸化物系熱電変換膜は、MgO基板又はSrTiO3基板上に形成されたことを特徴とする、請求項10〜14のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
  16. 室温から500℃の温度範囲における出力因子S2σ(S:ゼーベック係数(V/K)、σ:導電率(S/m)が1.0×10-4(W/mK2)以上であることを特徴とする、請求項9〜14のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
  17. 室温から500℃の温度範囲における性能指数ZT(Z=S2σ/k,S:ゼーベック係数(V/K)、σ:導電率(S/m),k:熱伝導率(W/mK),T=絶対温度(K))が0.01以上であることを特徴とする、請求項10〜16のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
  18. 請求項1〜17のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜を具えることを特徴とする、熱電変換モジュール。
  19. 作動温度が500℃以下であることを特徴とする、請求項18に記載の熱電変換モジュール。
  20. 所定の基板を準備する工程と、
    前記基板を750℃以上に加熱し、所定の酸素含有雰囲気中で前記基板上にRE2-XMXCu1O4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、M=Ce, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素、0<X<2,0<Y<4)なる組成を有する酸化物系熱電変換膜を形成する工程と、
    を具えることを特徴とする、酸化物系熱電変換膜の作製方法。
  21. 前記基板は、MgO基板又はSrTiO3基板であることを特徴とする、請求項20に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
  22. 前記酸素含有雰囲気中の酸素分圧が0.1Torr以上であることを特徴とする、請求項20又は21に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
  23. 前記酸化物系熱電変換膜はパルスレーザ蒸着法により形成することを特徴とする、請求項20〜22のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
  24. ターゲットの組成を RE2-AMACu1O4-B (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、M=Ce, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素、0.001≦A≦0.2,0.001≦B≦1)なる組成に設定することを特徴とする、請求項23に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
  25. 所定の基板を準備する工程と、
    前記基板を750℃以上に加熱し、所定の酸素含有雰囲気中で前記基板上に RE2Cu1-XZXO4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、Z=Ni及びZnの少なくとも一種の遷移元素、0<X<1,0<Y<4)なる組成を有する酸化物系熱電変換膜を形成する工程と、
    を具えることを特徴とする、酸化物系熱電変換膜の作製方法。
  26. 前記基板は、MgO基板又はSrTiO3基板であることを特徴とする、請求項25に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
  27. 前記酸素含有雰囲気中の酸素分圧が0.1Torr以上であることを特徴とする、請求項25又は26に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
  28. 前記酸化物系熱電変換膜はパルスレーザ蒸着法により形成することを特徴とする、請求項25〜27のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
  29. ターゲットの組成を RE2Cu1-AZAO4-B (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、Z=Ni及びZnの少なくとも一種の遷移元素、0.001≦A≦0.2,0.001≦B≦1)なる組成に設定することを特徴とする、請求項28に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。

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