JP2005223307A - 酸化物系熱電変換膜、及び酸化物系熱電変換膜の作製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 MgO基板又はSrTiO3基板上に、RE2-XMXCu1O4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、M=Ce, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素、0<X<2,0≦Y<4)なる組成、又はRE2Cu1-XZXO4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、Z=Ni及びZnの少なくとも一種の遷移元素、0<X<1,0≦Y<4)なる組成の酸化物系熱電変換膜を形成する。
【選択図】なし
Description
きた。
RE2-XMXCu1O4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、M=Ce, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素、0<X<2,0≦Y<4)なる組成を有することを特徴とする、酸化物系熱電変換膜(第1の酸化物系熱電変換膜)に関する。
RE2Cu1-XZXO4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、Z=Ni及びZnの少なくとも一種の遷移元素、0<X<1,0≦Y<4)なる組成を有することを特徴とする、酸化物系熱電変換膜(第2の熱電変換膜)に関する。
(100)SrTiO3基板を準備し、この基板上にSm2-XCeXCu1O4なる組成の酸化物系熱電変換膜を厚さ400nmにレーザ蒸着法により形成した。次いで、前記Sm2-XCeXCu1O4熱電変換膜の温度50℃における出力因子及び性能指数を測定したところ、表1に示すような結果が得られた。表1から明らかなように、前記Sm2-XCeXCu1O4熱電変換膜は、実用に足る十分高い出力因子及び性能指数を示すことが分かる。
(100)SrTiO3基板を準備し、この基板上にSm2Cu1-XZnXO4なる組成の酸化物系熱電変換膜を厚さ400nmにレーザ蒸着法により形成した。次いで、前記Sm2Cu1-XZnXO4熱電変換膜の温度50℃における出力因子及び性能指数を測定したところ、表2に示すような結果が得られた。表2にから明らかなように、前記Sm2Cu1-XZnXO4熱電変換膜は、実用に足る十分高い出力因子及び性能指数を示すことが分かる。なお、Sm2Cu1-XNiXO4熱電変換膜についても同様の結果を得た。
(100)SrTiO3基板を準備し、RE2-XCeXCu1O4 (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu又はGd)なる組成の酸化物系熱電変換膜を厚さ500nmにスパッタリング法、レーザ蒸着法、及びCVD法により作製した。このようにして得た前記RE2-XCeXCu1O4熱電変換膜の温度100℃における出力因子及び性能指数を測定したところ、表3に示すような結果が得られた。表3にから明らかなように、前記前記RE2-XCeXCu1O4熱電変換膜は、実用に足る十分高い出力因子及び性能指数を示すことが分かる。
(100)SrTiO3基板を準備し、この基板上にSm2-XBaXCu1O4なる組成の酸化物系熱電変換膜を厚さ400nmにレーザ蒸着法により形成した。次いで、前記Sm2-XBaXCu1O4熱電変換膜の温度50℃における出力因子及び性能指数を測定したところ、表4に示すような結果が得られた。表4から明らかなように、前記Sm2-XBaXCu1O4熱電変換膜は、実用に足る十分高い出力因子及び性能指数を示すことが分かる。
(100)SrTiO3基板を準備し、RE2-XBaXCu1O4 (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu又はGd)なる組成の酸化物系熱電変換膜を厚さ500nmにスパッタリング法、レーザ蒸着法、及びCVD法により作製した。このようにして得た前記RE2-XCeXCu1O4熱電変換膜の温度100℃における出力因子及び性能指数を測定したところ、表5に示すような結果が得られた。表5にから明らかなように、前記前記RE2-XCeXCu1O4熱電変換膜は、実用に足る十分高い出力因子及び性能指数を示すことが分かる。
(100)SrTiO3基板を準備し、この基板上にSm2-XMXCu1O4(M=Sr, Ca)なる組成の酸化物系熱電変換膜を厚さ400nmにレーザ蒸着法により形成した。次いで、前記Sm2-XMXCu1O4(M=Sr, Ca)熱電変換膜の温度50℃における出力因子及び性能指数を測定したところ、表6に示すような結果が得られた。表6から明らかなように、前記Sm2-XMXCu1O4(M=Sr, Ca)熱電変換膜は、実用に足る十分高い出力因子及び性能指数を示すことが分かる。
Claims (29)
- RE2-XMXCu1O4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、M=Ce, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素、0<X<2,0≦Y<4)なる組成を有することを特徴とする、酸化物系熱電変換膜。
- 0.001≦X≦0.2であり、0.001≦Y≦1であることを特徴とする、請求項1に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 前記酸化物系熱電変換膜は配向性を呈することを特徴とする、請求項1又は2に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 前記酸化物系熱電変換膜のc軸が、前記酸化物系熱電変換膜を形成すべき基板の主面と略垂直方向に配向していることを特徴とする、請求項3に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 前記酸化物系熱電変換膜は、p型熱電変換膜であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 前記酸化物系熱電変換膜は、n型熱電変換膜であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 前記酸化物系熱電変換膜は、MgO基板又はSrTiO3基板上に形成されたことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 室温から500℃の温度範囲における出力因子S2σ(S:ゼーベック係数(V/K)、σ:導電率(S/m))が1.0×10-4(W/mK2)以上であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 室温から500℃の温度範囲における性能指数ZT(Z=S2σ/k,S:ゼーベック係数(V/K)、σ:導電率(S/m),k:熱伝導率(W/mK),T=絶対温度(K))が0.01以上であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
- RE2Cu1-XZXO4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、Z=Ni及びZnの少なくとも一種の遷移元素、0<X<1,0≦Y<4)なる組成を有することを特徴とする、酸化物系熱電変換膜。
- 0.001≦X≦0.2であり、0.001≦Y≦1であることを特徴とする、請求項9に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 前記酸化物系熱電変換膜は配向性を呈することを特徴とする、請求項10又は11に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 前記酸化物系熱電変換膜のc軸が、前記酸化物系熱電変換膜を形成すべき基板の主面と略垂直方向に配向していることを特徴とする、請求項12に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 前記酸化物系熱電変換膜は、n型熱電変換膜であることを特徴とする、請求項10〜13のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 前記酸化物系熱電変換膜は、MgO基板又はSrTiO3基板上に形成されたことを特徴とする、請求項10〜14のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 室温から500℃の温度範囲における出力因子S2σ(S:ゼーベック係数(V/K)、σ:導電率(S/m)が1.0×10-4(W/mK2)以上であることを特徴とする、請求項9〜14のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 室温から500℃の温度範囲における性能指数ZT(Z=S2σ/k,S:ゼーベック係数(V/K)、σ:導電率(S/m),k:熱伝導率(W/mK),T=絶対温度(K))が0.01以上であることを特徴とする、請求項10〜16のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜。
- 請求項1〜17のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜を具えることを特徴とする、熱電変換モジュール。
- 作動温度が500℃以下であることを特徴とする、請求項18に記載の熱電変換モジュール。
- 所定の基板を準備する工程と、
前記基板を750℃以上に加熱し、所定の酸素含有雰囲気中で前記基板上にRE2-XMXCu1O4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、M=Ce, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素、0<X<2,0<Y<4)なる組成を有する酸化物系熱電変換膜を形成する工程と、
を具えることを特徴とする、酸化物系熱電変換膜の作製方法。 - 前記基板は、MgO基板又はSrTiO3基板であることを特徴とする、請求項20に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
- 前記酸素含有雰囲気中の酸素分圧が0.1Torr以上であることを特徴とする、請求項20又は21に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
- 前記酸化物系熱電変換膜はパルスレーザ蒸着法により形成することを特徴とする、請求項20〜22のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
- ターゲットの組成を RE2-AMACu1O4-B (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、M=Ce, Ba, Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種の元素、0.001≦A≦0.2,0.001≦B≦1)なる組成に設定することを特徴とする、請求項23に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
- 所定の基板を準備する工程と、
前記基板を750℃以上に加熱し、所定の酸素含有雰囲気中で前記基板上に RE2Cu1-XZXO4-Y (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、Z=Ni及びZnの少なくとも一種の遷移元素、0<X<1,0<Y<4)なる組成を有する酸化物系熱電変換膜を形成する工程と、
を具えることを特徴とする、酸化物系熱電変換膜の作製方法。 - 前記基板は、MgO基板又はSrTiO3基板であることを特徴とする、請求項25に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
- 前記酸素含有雰囲気中の酸素分圧が0.1Torr以上であることを特徴とする、請求項25又は26に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
- 前記酸化物系熱電変換膜はパルスレーザ蒸着法により形成することを特徴とする、請求項25〜27のいずれか一に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
- ターゲットの組成を RE2Cu1-AZAO4-B (RE=La, Pr, Nd, Sm, Eu及びGdより選ばれる少なくとも一種の希土類元素、Z=Ni及びZnの少なくとも一種の遷移元素、0.001≦A≦0.2,0.001≦B≦1)なる組成に設定することを特徴とする、請求項28に記載の酸化物系熱電変換膜の作製方法。
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