JP2005210000A - 電解効果トランジスタおよびそれを用いたディスプレイ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明はソース領域およびドレーン領域と、有機半導体材料からなる前記ソース領域と前記ドレーン領域の間を延びるチャネル層と、前記チャネル層に隣接するように配備された有機/無機混成材料からなる電気絶縁層と、ゲート領域が前記電気絶縁体層の前記チャネル層と反対側に隣接するように配備された電界効果トランジスタである。
【選択図】 図1
Description
第49回応用物理学関連連合講演会講演予稿集(2002年春季),講演番号:27a-M-4 第64回応用物理学関連連合講演会講演予稿集(2003年秋季),講演番号:2p-YL-6
また、塗布が可能な半導体材料としてはチオフェン系ポリマーや、フルオレン系ポリマーとチオフェン系ポリマーのコポリマーが代表的である。
(実施例1) 図1に示すように基板1にはPETフィルムを用い、表面に固形シリコーン樹脂(ラダー型シリコーンオリゴマー 商品名:グラスレジンGR100 昭和電工社製)をイソプロピルアルコール溶媒に溶かした溶液を用いて、スピンコートにて膜厚2μmになるように成膜を行い、オーブンにて120℃、12時間の架橋反応を行うことによって平滑化層2を形成した。その平滑化層上にゲート電極3としてAlをスパッタにて100nm成膜を行った。続いて、メタノール溶媒中に、微粒子径が20〜100nmであるルチル構造酸化チタン微粒子と固形シリコーン樹脂(ラダー型シリコーンオリゴマー 商品名:グラスレジンGR100 昭和電工社製)が体積比で2:8になるように調整された溶液を、前記Al上にスピンコートにて膜厚600nmになるように成膜を行い、オーブンにて120℃、12時間の架橋反応を行うことによって絶縁層4を形成した。
引き続きクロロホルムを溶媒として溶解させたP3HT(ポリ(3−ヘキシルチオフェン))を前記絶縁層上にスピンコートにて膜厚70nmになるように成膜を行い、更にオーブンにて90℃で1時間の乾燥を行って半導体層5を形成した。
最後に、前記半導体層上にソース電極6およびドレイン電極7を、ゲート長50μm,ゲート幅6mmとなるようなマスクを用いてAu蒸着により形成した。
室温、真空中にてトランジスタ特性を評価したところ、閾値電圧9V、on/off比104程度の特性が得られた。
室温、真空中にてトランジスタ特性を評価したところ、閾値電圧7V、on/off比104程度の特性が得られた。
4:絶縁体層、 5:半導体層、 6:ソース電極
7:ドレイン電極、 11:基板、 12:平滑化層
13:ソース電極、 14:ドレイン電極、 15:半導体層
16:絶縁体層、 17:ゲート電極
Claims (6)
- ソース領域およびドレーン領域と、有機半導体材料からなる前記ソース領域と前記ドレーン領域の間を延びるチャネル層と、前記チャネル層に隣接するように配備された有機/無機混成材料からなる電気絶縁層と、ゲート領域が前記電気絶縁体層の前記チャネル層と反対側に隣接するように配備された電界効果トランジスタ。
- 前記絶縁体層の有機/無機混成材料が、無機材料の微粒子を成分要素として含み、該無機材料の比誘電率が20以上である請求項1に記載の電界効果トランジスタ。
- 前記絶縁体層の有機/無機混成材料が、酸化チタン微粒子を成分要素として含む請求項2に記載の電界効果トランジスタ。
- 前記絶縁体層の有機/無機混成材料が、シリコーン樹脂もしくはフッ素樹脂もしくはそれらの混合樹脂を成分要素として含む請求項2または3に記載の電界効果トランジスタ。
- 請求項1乃至4に記載の電界効果トランジスタを、各画素のスイッチング素子として用いるディスプレイ。
- 請求項1乃至4に記載の電界効果トランジスタを用いた論理回路素子。
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