JP2005200647A - 貯蔵燐光体におけるアクチベータ要素の均質な混入 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】燐光体は例えば下記の工程により製造される。マトリックス成分としてのCsBr粉末とドーバントアクチベータ要素としてのEuBr溶液を化学量論比で混合し、混合物を微粉砕、窒素雰囲気下で乾燥する。次いで乾燥した粉末混合物を溶融温度以上(575℃)に加熱し、さらに窒素雰囲気下で数時間575℃で加熱を続ける(この溶融プロセスは減圧雰囲気で行ってもよい)。その後溶融物を窒素雰囲気下で冷却し、続いて200℃の温度で空気雰囲気下数時間アニールする工程を行う。
【選択図】なし
Description
−(q/10)−1<rico<0
式中、前記“rico”値(μm−1で表示)は前記表面の下にq/10の深さで測定された前記アクチベータ濃度(1)と前記表面で測定された前記アクチベータ濃度(2)との濃度差と、前記表面で測定された前記アクチベータ濃度(2)との比を、0.1とqの積によって割った値として計算される。
− マトリックス成分(1−a)MIX.aMIIX2
式中、MIは一価のLi,Na,K,Rb又はCsの少なくとも一つであり、MIIはMg,Ca,Sr,Ba及びNiからなる群から選択される二価金属元素であり、XはF,Cl,Br,及びIからなる群から選択されるハロゲン原子であり、0≦a<0.5である;及び
− アクチベータ要素(ドーパント)Ln
但し、LnはSc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Al,Bi,In又はGaを表す。
− 前記マトリックス(又はマザー)成分と前記アクチベータ要素(又はドーパント化合物)を含有する成分を化学量論比で混合して所望の燐光体組成物を与える;
− 前記マトリックス成分及びアクチベータ要素を微粉砕又は粉砕する;
− 前記マトリックス成分と前記アクチベータ要素を含有する前記成分の混合物を減圧雰囲気下で反応を与える装置における不活性るつぼに入れる;
− 前記混合物を所望の燐光体の溶融温度Tmeltと少なくとも等しいか又はそれより高い温度Tまで燃焼する;
− 前記燐光体を冷却する。
− 前記マトリックス(マザー)成分と前記アクチベータ要素(ドーパント化合物)を含有する成分を化学量論比で混合して所望の燐光体組成物を与える;
− 前記マトリックス成分及びアクチベータ要素を微粉砕又は粉砕する;
− 前記混合物をTmelt−100℃からTmelt+100℃までの温度Tまで燃焼(焼成)し、そこでは溶融温度Tmeltは所望の燐光体の溶融温度を表す;
− 前記燐光体を冷却する。
A.CEBLA8501/01/1:530gのCsBr粉末及び1656mgのEuBr3溶液(0.002molのEuBr3を含有)をWAB、スイスからのTurbula装置で30分間混合した。
Alpine Montan AG−オーストリアからのこの“Alpine Mill”は1145p.p.m.の量でEuをドープした燐光体粒子を有する燐光体粉末を均質化した。
この燐光体はAlpine Millによる代わりに手でわずかに均質化された燐光体粉末であり、その粒子は100μmより大きい平均高さ(直径)を有し、1262p.p.m.の量でEuをドープされた。
WAB、スイスからの同じTurbula装置で530gのCsBr粉末及び828mgEuBr3溶液(0.001molのEuBr3)を30分間混合した。
これらは減圧(<10−3bar)と組み合わせてEu誘導体でドープされたCsBrの溶融プロセスによって作られた。針状燐光体粒子の平均高さ及びユウロピウム濃度(p.p.m.)は以下の表2に与えられ、感度(参照材料MD10に対する百分率)に加えて“rico”値及びp/gに対する値が従来技術の燐光体として本明細書の“背景技術”で参照されるUS出願2003/0047697で行なわれたように計算された。粉末についての全ての測定はTOFSIMS分析装置で行なわれた後、本発明の範囲内で要求されるような結果の計算を行なった。針状結晶についての測定はサンドブラスチングと組み合わせたICP OESで行なわれた。
実験4と同じ方法に従って作られた針状結晶の分析及び針状燐光体の分析は針状結晶の頂部から出発してレーザ融蝕装置と組み合わせたICP OESで行なわれた。
Claims (9)
- 燐光体の製造方法であって、前記方法が前記燐光体を構成する成分としてマトリックス成分及びドーパントアクチベータ要素を燃焼又は蒸発することによってその表面を生長する工程を含み、前記燐光体の生長が最後の増大成長中で前記生長を終わる前にその最大方向の距離q(μmで表示)にわたって行なわれ、前記燐光体の体積増加(体積百分率で表示)が5%より大きい場合において、アクチベータ要素部分がq/10に相当する距離にわたって前記燐光体の表面層の生長前後で測定すると下記条件を満足することを特徴とする方法:
−(q/10)−1<rico<0
式中、前記“rico”値(μm−1で表示)は前記表面の下にq/10の深さで測定された前記アクチベータ濃度(1)と前記表面で測定された前記アクチベータ濃度(2)との濃度差と、前記表面で測定された前記アクチベータ濃度(2)との比を、0.1とqの積によって割った値として計算される。 - qが針、角柱、円柱又はブロック形状の燐光体結晶に対して50μmの値に等しく、その最大方向がその高さ方向である請求項1に記載の方法。
- qが球状燐光体結晶に対して2μmの値に等しく、その最大方向がその直径の高さ方向である請求項1に記載の方法。
- 前記燐光体を構成する成分が下記のものである請求項1〜3のいずれかに記載の方法:
− マトリックス成分(1−a)MIX.aMIIX2
式中、MIは一価のLi,Na,K,Rb又はCsの少なくとも一つであり、MIIはMg,Ca,Sr,Ba及びNiからなる群から選択される二価金属元素であり、XはF,Cl,Br,及びIからなる群から選択されるハロゲン原子であり、0≦a<0.5である;及び
− ドーパントアクチベータ要素Ln
但し、LnはSc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Al,Bi,In又はGaを表す。 - 製造工程として下記工程を含む請求項2に記載の方法:
− 前記マトリックス成分と前記ドーパントアクチベータ要素を含有する成分を化学量論比で混合して所望の燐光体組成物を与える;
− 前記マトリックス成分及びドーパントアクチベータ要素を微粉砕又は粉砕する;
− 前記マトリックス成分と前記ドーパントアクチベータ要素を含有する前記成分の混合物を減圧雰囲気下で反応を与える装置における不活性るつぼに入れる;
− 前記混合物を所望の燐光体の溶融温度Tmeltと少なくとも等しいか又はそれより高い温度Tまで燃焼する;
− 前記燐光体を冷却する。 - 製造工程として下記工程を含む請求項3に記載の方法:
− 前記マトリックス成分と前記ドーパントアクチベータ要素を含有する成分を化学量論比で混合して所望の燐光体組成物を与える;
− 前記マトリックス成分及びドーパントアクチベータ要素を微粉砕又は粉砕する;
− 前記混合物をTmelt−100℃からTmelt+100℃までの温度Tまで燃焼(焼成)し、そこでは溶融温度Tmeltは所望の燐光体の溶融温度を表す;
− 前記燐光体を冷却する。 - 前記マトリックス成分がCsBrであり、前記ドーパントアクチベータ要素がEuである請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
- 前記ドーパントアクチベータ要素EuがEuX2,EuX3,EuOX及びCsxEuyXx+αyからなる群から選択される燐光体プリカーサから生成され、x/y>0.25,α≧2であり、XはCl,Br及びI及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるハロゲン化物である請求項7に記載の方法。
- 前記EuがEuBr3から生成され、かつ少なくとも99.9mol%の量で二価状態でCsBr:Eu燐光体に存在する請求項7又は8に記載の方法。
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