JP2005148688A - 有機分子の固定化方法とマイクロ・ナノ物品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板上の有機分子を含有する光硬化性樹脂に光照射して所定パターンで光硬化樹脂を硬化させ、未硬化部分を除去することで、所定パターンで有機分子を基板に固定する。
【選択図】 図2
Description
「Photonic−bandgap microcavities in optical waveguides」,J.S.Foresi,P.R.Villeneuve,et al.,Nature,Vol.390.p.143,1997.
図1(A)の方法に従って塗布した、有機分子としてジシアノアントラセンを含有する光硬化樹脂に、集光された紫外レーザー光を照射することで目的の部分のみを硬化し、その後未硬化部分をエタノールで除去した。作製したドットパターンの蛍光顕微鏡写真を図2に示した。ドットのサイズと間隔はそれぞれ50μmおよび160μmであった。同様に他の有機分子でもこのようなドットパターンが作製可能であり、任意の形状・配列で作製可能であることが確認された。
<実施例2>
実施例1と同様の方法の繰り返しによる同一基板上への複数の有機分子の固定を行った。有機分子として、クマリン、ジンクテトラポルフィニン(ZnTPP)、ジシアノアントラセンを含有する光硬化樹脂をそれぞれ調整し、まずジンクテトラポルフィニンを含有する光硬化樹脂を用いポリエチルメタクリレート(PEMA)基板上にジンクテトラポルフィニンを固定したのち、クマリンを含有する光硬化樹脂を基板に塗布し、同じくクマリンを固定した。さらに、ジシアノアントラセンを含有する光硬化樹脂を塗布し、同様にして固定した。これにより得られた基板を蛍光顕微鏡で観察した結果が図3であり、同一基板上への複数の有機分子の固定が可能であることを示している。
<実施例3>
図1(B)の方法に従って、有機分子としてクマリンを含有する紫外線硬化樹脂に可視レーザー光を照射することで目的の部分のみを硬化し、その後未硬化部分をエタノールで除去した。図4は、作製したドットパターンを示した蛍光顕微鏡写真である。ドットサイズおよびドット間隔はそれぞれ1μmおよび10μmであった。通常可視光では硬化しない紫外線硬化樹脂を可視光(クマリンが吸収する波長域の光)で硬化することができた。同様に、他の有機分子でも作製可能であり、硬化が可能な光の波長域は含有させる有機分子により変化することが確認された。
<実施例4>
紫外線硬化樹脂に紫外レーザー光を照射することで目的の部分のみを硬化し、その後未硬化部分をエタノールで除去した。図6(1)は、作製したドットパターンの光学写真である。その後、有機分子としてクマリンを溶解した溶液中に作製したドットパターンを浸漬し、クマリンを浸透させて固定した。図6(2)は、クマリン浸透後のドットパターンの蛍光顕微鏡写真である。図1(C)の方法に従って溶液に浸漬することによって、あらかじめ作られたドット内にクマリンが浸透し、固定されることが確認された。
Claims (14)
- 基板上の、有機分子を含有する光硬化性樹脂に光照射して所定パターンで光硬化性樹脂を硬化させ、未硬化部分を除去することで、所定パターンで有機分子を基板に固定することを特徴とする有機分子の固定化方法。
- 集光された光を所定パターンで照射して光硬化性樹脂を所定パターンで硬化させることを特徴とする請求項1の有機分子の固定化方法。
- レーザー光を照射し、光硬化性樹脂を所定パターンで硬化させることを特徴とする請求項2の有機分子の固定化方法。
- マスクパターンを用いて光を照射し、光硬化性樹脂を所定パターンで硬化させることを特徴とする請求項1の有機分子の固定化方法。
- 特定の波長の光を吸収する有機分子を含有させ、含有させた有機分子の吸収する波長の光を照射して光硬化性樹脂を硬化させることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかの有機分子の固定化方法。
- 光照射により基板上に所定パターンで光硬化性樹脂を硬化させ、次いで有機分子含有の溶液と接触させて光硬化性樹脂内に有機分子を浸透させることを特徴とする有機分子の固定化方法。
- 有機分子の溶液に浸漬して有機分子を浸透させることを特徴とする請求項6の有機分子の固定化方法。
- 集光された光を所定パターンで照射して光硬化性樹脂を所定パターンで硬化させることを特徴とする請求項6または7の有機分子の固定化方法。
- レーザー光を照射し、光硬化性樹脂を所定パターンで硬化させることを特徴とする請求項8の有機分子の固定化方法。
- マスクパターンを用いて光を照射し、光硬化性樹脂を所定パターンで硬化させることを特徴とする請求項6または7の有機分子の固定化方法。
- 集光された光のビーム形状により光硬化性樹脂の硬化形状を制御することを特徴とする請求項1ないし10のいずれかの有機分子の固定化方法。
- 請求項1ないし11のいずれかの方法の繰返し、もしくは組合わせによって、複数種の有機分子の各々を、光硬化性樹脂の別々の硬化部に固定することを特徴とする有機分子の固定化方法。
- 有機分子が、光、磁性および電子機能のうちの少くとも1種の機能性を有する分子であることを特徴とする請求項1ないし12のいずれかの有機分子の固定化方法。
- 請求項1ないし13のいずれかの方法により作製されたことを特徴とするマイクロ・ナノ物品。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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