JP2005121916A - Method for manufacturing base plate with recessed part for lenticular lens, base plate with recessed part for lenticular lens, lenticular lens base plate, transmission type screen and rear type projector - Google Patents

Method for manufacturing base plate with recessed part for lenticular lens, base plate with recessed part for lenticular lens, lenticular lens base plate, transmission type screen and rear type projector Download PDF

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JP2005121916A
JP2005121916A JP2003356977A JP2003356977A JP2005121916A JP 2005121916 A JP2005121916 A JP 2005121916A JP 2003356977 A JP2003356977 A JP 2003356977A JP 2003356977 A JP2003356977 A JP 2003356977A JP 2005121916 A JP2005121916 A JP 2005121916A
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lenticular lens
substrate
concave portions
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lenticular
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Application number
JP2003356977A
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Japanese (ja)
Inventor
Daisuke Sawaki
大輔 澤木
Original Assignee
Seiko Epson Corp
セイコーエプソン株式会社
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a base plate with a recessed part for a lenticular lens by which a recessed part for a lenticular lens is easily and finely formed, and also to provide a base plate with a recessed part for a lenticular lens, a lenticular lens base plate, a transmission type screen, and a rear type projector. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the base plate with the recessed part for the lenticular lens by which a recessed part for a lenticular lens is formed on a base plate includes a stage for forming a transformed area 6 on the base plate 5 by irradiating a laser beam from an ultra-short pulse laser beam source to the base plate 5 from the surface side of the base plate 5 opposite to the surface where the recessed part for the lenticular lens is formed, and a stage for forming the recessed part for the lenticular lens by performing etching on the base plate having the transformed area. The pulse width of the laser beam is 10fs to 1ps. The pulse energy of the laser beam is 1μJ to 1mJ. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、基板上に多数のレンチキュラレンズ用凹部が形成されたレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法、レンチキュラレンズ用凹部付き基板、レンチキュラレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。 The present invention is a method of manufacturing a plurality of substrate with concave portions for lenticular lenticular lens lens recess is formed on the substrate, the substrate with concave portions for the lenticular lens, a lenticular lens substrate, relates to a transmission type screen and a rear projection.

スクリーン上に画像を投影する表示装置が知られている。 Display device for projecting images is known on the screen. このような表示装置としては、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に適用されるリア型プロジェクタが知られており、近年、その需要が高まりつつある。 As such display devices, home theater monitors are known rear projection that is applied to large screen televisions and the like, in recent years, it is increasing its demand.
このようなリア型プロジェクタでは、その画像形成に主として透過型スクリーンが用いられる。 In such a rear projection primarily transmissive screen used in the image forming. このような透過型スクリーンには、レンチキュラレンズが一般的に用いられている。 Such transmission screen, a lenticular lens is generally used.
このような透過型スクリーンに用いるレンチキュラレンズの製造方法としては、所定パターンの開口を有するマスクを用いたエッチングにより、レンチキュラレンズを形成するための凹部(レンチキュラレンズ用凹部)を形成し、これを型にして製造する方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。 As a method for producing the lenticular lens used in such a transmission screen, by etching using a mask having an opening of a predetermined pattern, a recess (concave portion for lenticular lens) for forming the lenticular lens, the mold it a process for preparing in the known (e.g., see Patent Document 1).

しかし、かかる技術では、基板上に、レンチキュラレンズ用凹部を微細に形成するのが困難であった。 However, in such technology, on a substrate, the recess for the lenticular lens was difficult to finely form. また、このような方法は、いくつもの工程を有するため、煩雑であるといった問題もあった。 Further, such methods, because it has a number of steps, there was another problem is complicated. さらに、比較的大型のリア型プロジェクタ等では、大面積でのレジスト形成、パターニングが必要となり、レンチキュラレンズ基板の形成が技術的に困難となるという問題点があった。 Furthermore, the relatively large rear type projector or the like, a resist formed in a large area, the patterning is required, formation of the lenticular lens substrate is disadvantageously becomes technically difficult. これを回避するため、比較的面積の小さいレンチキュランズ基板を複数張り合わせるという方法も考えられるが、この場合、レンチキュラレンズ基板同士の境界線が発生してしまうという問題があった。 To avoid this, also conceivable that laminating a plurality of small wrench queue Lands substrate relatively areas, but in this case, the lenticular lens boards border there is a problem that occurs.
特開平5−208848号公報 JP-5-208848 discloses

本発明の目的は、簡便にかつ緻密にレンチキュラレンズ用凹部を形成することが可能なレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法、レンチキュラレンズ用凹部付き基板、レンチキュラレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供することにある。 An object of the present invention, easily and densely lenticular recessed method of manufacturing a substrate for a lens capable of forming a lenticular lens recess, substrate with concave portions for the lenticular lens, a lenticular lens substrate, a transmission screen and a rear projection It is to provide a.

このような目的は、下記の本発明により達成される。 These objects are achieved by the present invention described below.
本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法は、基板上に、レンチキュラレンズ用凹部を形成するレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、 The method of manufacturing the lenticular lens substrate with concave portions for the present invention, on a substrate, a manufacturing method of a substrate with concave portions for lenticular lens forming recesses for the lenticular lens,
前記基板に対し、前記基板の前記レンチキュラレンズ用凹部が形成される面とは反対の面側から、超短パルスレーザ光源よりレーザ光を照射して、前記基板に変質領域を形成する工程と、 With respect to the substrate, from the opposite surface side of the lenticular surface lens recess is formed in the substrate, a step of irradiating a laser beam from the ultrashort pulse laser light source, to form a modified region on the substrate,
前記変質領域を有する前記基板にエッチングを施し、前記レンチキュラレンズ用凹部を形成する工程とを有することを特徴とする。 Etched on the substrate having the affected region, and having a step of forming the lenticular lens recess.
これにより、レンチキュラレンズ用凹部が緻密に配列したレンチキュラレンズ用凹部付き基板を簡便に製造することができる。 This makes it possible to recess for lenticular lens for conveniently producing the substrate with concave portions for densely arranged the lenticular lens.

本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法は、基板上に、レンチキュラレンズ用凹部を形成するレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、 The method of manufacturing the lenticular lens substrate with concave portions for the present invention, on a substrate, a manufacturing method of a substrate with concave portions for lenticular lens forming recesses for the lenticular lens,
前記基板に対し、前記基板の前記レンチキュラレンズ用凹部が形成される面とは反対の面側から、超短パルスレーザ光源よりレーザ光を照射して、前記基板に変質領域を形成する工程と、 With respect to the substrate, from the opposite surface side of the lenticular surface lens recess is formed in the substrate, a step of irradiating a laser beam from the ultrashort pulse laser light source, to form a modified region on the substrate,
前記変質領域を有する前記基板にエッチングを施し、前記レンチキュラレンズ用凹部と、アライメントマークとを形成する工程とを有することを特徴とする。 Etched on the substrate having the affected region, and the lenticular lens recess, characterized in that a step of forming an alignment mark.
これにより、レンチキュラレンズ用凹部が緻密に配列したレンチキュラレンズ用凹部付き基板を簡便に製造することができる。 This makes it possible to recess for lenticular lens for conveniently producing the substrate with concave portions for densely arranged the lenticular lens. また、工程数を大幅に増やさずにアライメントマークを形成することができる。 Further, it is possible to form the alignment marks the number of steps without increasing significantly.

本発明のでレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法は、前記レーザ光のパルス幅は、10fs〜1psであるのが好ましい。 Method for producing a lenticular lens substrate with concave portions for since the present invention, the pulse width of the laser light is preferably a 10Fs~1ps.
これにより、多光子吸収を効果的に生じさせることができるため、より効率的に変質領域を形成することができる。 Thus, for multi-photon absorption can give effectively occur, can be formed more efficiently affected region.
本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記レーザ光のパルスエネルギーは、1μJ〜1mJであるのが好ましい。 The lenticular lens substrate with concave portions for the manufacturing method of the present invention, the pulse energy of the laser light is preferably a 1Myujei~1mJ.
これにより、より効率的に変質領域を形成することができる。 Thus, it is possible to form a more efficiently affected region.

本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記レーザ光のパルス繰り返し周波数は、10Hz〜100kHzであるのが好ましい。 The lenticular lens substrate with concave portions for the manufacturing method of the present invention, the pulse repetition frequency of the laser light is preferably a 10Hz to 100kHz.
これにより、より効率的に変質領域を形成することができる。 Thus, it is possible to form a more efficiently affected region.
本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記超短パルスレーザ光源を、前記基板に対して相対的に移動させつつ、前記レーザ光を照射するのが好ましい。 The lenticular lens substrate with concave portions for the manufacturing method of the present invention, the ultrashort pulse laser light source, while moving relative to the substrate, it is preferable to irradiate the laser beam.
これにより、より確実に、かつ、連続的に変質領域を形成することができる。 Thus, more reliable, and it can be formed continuously affected region.

本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記超短パルスレーザ光源の、前記基板に対する光軸に垂直平面内における照射位置の間隔は、1〜100μmであるのが好ましい。 The lenticular lens substrate with concave portions for the manufacturing method of the present invention, the ultrashort pulse laser light source, spacing of the irradiation position in a vertical plane to the optical axis with respect to the substrate is preferably a 1 to 100 [mu] m.
これにより、より確実に、かつ、連続的に変質領域を形成することができる。 Thus, more reliable, and it can be formed continuously affected region.
本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記基板の厚さ方向での前記変質領域の長さは、1〜500μmであるのが好ましい。 The lenticular lens substrate with concave portions for the manufacturing method of the present invention, the length of the affected region in the thickness direction of the substrate is preferably a 1 to 500 [mu] m.
これにより、エッチング工程において、基板が食刻される度合いを適度なものとすることができる。 Thus, in the etching process, the substrate can be made moderate the degree to be etched. また、エッチング工程において形成されるレンチキュラレンズ用凹部の形状は、特に光学特性に優れたレンチキュラレンズを得るのに最適なものとなる。 The shape of the recess for the lenticular lens formed in the etching process becomes optimal for obtain particularly good lenticular lens on the optical properties.

本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記変質領域の、前記基板の面方向での、前記超短パルスレーザ光源を移動させる方向と垂直な方向における幅は、0.5〜10μmであるのが好ましい。 The lenticular lens substrate with concave portions for the manufacturing method of the present invention, of the affected region, in the surface direction of the substrate, wherein the width in the direction perpendicular to the direction of moving the ultrashort pulsed laser light source, 0.5 to 10 [mu] m in it is preferred.
これにより、エッチング工程において、基板が食刻される度合いを適度なものとすることができる。 Thus, in the etching process, the substrate can be made moderate the degree to be etched. また、エッチング工程において形成されるレンチキュラレンズ用凹部の形状は、特に光学特性に優れたレンチキュラレンズを得るのに最適なものとなる。 The shape of the recess for the lenticular lens formed in the etching process becomes optimal for obtain particularly good lenticular lens on the optical properties.

本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記エッチングは、ウェットエッチングにより行われるものであるのが好ましい。 The lenticular lens substrate with concave portions for the manufacturing method of the present invention, the etching is preferably one that is performed by wet etching.
これにより、ドライエッチング法に比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。 Thus, it is possible to perform processing with a simple apparatus as compared with the dry etching method, further, it is possible to perform processing on many substrates at a time. その結果、生産性が向上し、安価にレンチキュラレンズ用凹部付き基板を提供することができる。 As a result, productivity is improved, it is possible to provide a low cost substrate with concave portions for the lenticular lens.

本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記レンチキュラレンズ用凹部の平面視したときの平均幅は、5〜500μmであるのが好ましい。 The lenticular lens substrate with concave portions for the manufacturing method of the present invention, the average width in a plan view of the recess for the lenticular lens is preferably a 5 to 500 [mu] m.
これにより、例えば、このようなレンチキュラレンズ用凹部付き基板を用いて製造される透過型スクリーンは、スクリーンに投影される画像において優れた解像度を有するものとなる。 Thus, for example, transmission type screen manufactured by using such a substrate with concave portions for lenticular lens comes to have a good resolution in the image projected on the screen.

本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記レンチキュラレンズ用凹部の中心付近での深さは、5〜500μmであるのが好ましい。 The lenticular lens substrate with concave portions for the manufacturing method of the present invention, the depth in the vicinity of the center of the recess for the lenticular lens is preferably a 5 to 500 [mu] m.
これにより、このようなレンチキュラレンズ用凹部を用いて得られるレンチキュラレンズの光学特性を特に優れたものとすることができる。 Thus, it is possible to assume that the optical properties of the lenticular lens obtained by using such a lenticular lens recess particularly.
本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記基板は、実質的に透明であるのが好ましい。 The lenticular lens substrate with concave portions for the manufacturing method of the present invention, the substrate is preferably substantially transparent.
これにより、レンチキュラレンズ用凹部付き基板を用いてレンチキュラレンズ基板を製造する際、レンチキュラレンズ基板をレンチキュラレンズ用凹部付き基板から剥離せずに用いることができる。 Thus, when manufacturing the lenticular lens substrate with a substrate with concave portions for lenticular lens can be used without stripping the lenticular lens substrate from the substrate with concave portions for the lenticular lens.

本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板は、本発明の凹部付き基板の製造方法により製造されたことを特徴とする。 Lenticular lens substrate with concave portions for the present invention is characterized by being manufactured by the manufacturing method of the substrate with concave portions of the present invention.
これにより、レンチキュラレンズ用凹部が緻密に配列したレンチキュラレンズ用凹部付き基板を生産性よく得ることができる。 Thus, a substrate with concave portions for lenticular lens recess for lenticular lens is densely arranged can be obtained with good productivity. 特に、比較的大面積のレンチキュラレンズ用凹部付き基板を容易かつ安価に得ることができる。 In particular, it is possible to obtain a lenticular lens substrate with concave portions for the relatively large area easily and inexpensively.

本発明のレンチキュラレンズ基板は、本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板を用いて製造されたことを特徴とする。 Lenticular lens substrate of the present invention is characterized in that it is manufactured by using a substrate with concave portions for lenticular lens of the present invention.
これにより、レンチキュラレンズが緻密に配列したレンチキュラレンズ基板を生産性よく得ることができる。 This makes it possible to lenticular lens obtained with good productivity lenticular lens substrate densely arranged. 特に、比較的大面積のレンチキュラレンズ基板を容易かつ安価に得ることができる。 In particular, it is possible to obtain a lenticular lens substrate having a relatively large area easily and inexpensively.

本発明の透過型スクリーンは、本発明のレンチキュラレンズ基板を備えたことを特徴とする。 Transmission screen of the present invention is characterized by having a lenticular lens substrate of the present invention.
これにより、透過型スクリーンを生産性よく得ることができる。 Thus, it is possible to obtain a transmission screen with high productivity. 特に、比較的大面積の透過型スクリーンを容易かつ安価に得ることができる。 In particular, it is possible to obtain a transmission type screen having a relatively large area easily and inexpensively.
本発明の透過型スクリーンは、光の出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、 Transmission screen of the present invention includes a Fresnel lens portion Fresnel lens is formed on the exit surface side surface of the light,
前記フレネルレンズ部の出射面側に配置された本発明のレンチキュラレンズ基板と、 A lenticular lens substrate of the present invention disposed on the exit surface side of the Fresnel lens portion,
前記フレネルレンズ部と前記レンチキュラレンズ基板との間に配置された光拡散部とを備えたことを特徴とする。 Characterized in that a said light diffusing portion disposed between the Fresnel lens portion and the lenticular lens substrate.
これにより、好適な視野角分布を有するとともに、モアレの発生が抑制された透過型スクリーンを提供することができる。 Thus, while having a preferred viewing angle distribution, it is possible to provide a transmission screen moire is suppressed.

本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。 Rear projection of the present invention is characterized by having a transmission screen of the present invention.
これにより、リア型プロジェクタを生産性よく得ることができる。 Thus, it is possible to obtain good productivity of rear projection. 特に、比較的大面積のリア型プロジェクタを容易かつ安価に得ることができる。 In particular, it is possible to obtain a rear projection of the relatively large area easily and inexpensively.
本発明のリア型プロジェクタは、投写光学ユニットと、導光ミラーと、本発明の透過型スクリーンとを備えたことを特徴とする。 Rear projection of the present invention is characterized a projection optical unit, a light guide mirror, further comprising a transmission screen of the present invention.
これにより、リア型プロジェクタを生産性よく得ることができる。 Thus, it is possible to obtain good productivity of rear projection. 特に、比較的大面積のリア型プロジェクタを容易かつ安価に得ることができる。 In particular, it is possible to obtain a rear projection of the relatively large area easily and inexpensively.

以下、本発明を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter will be described in detail with reference to preferred embodiments illustrating the present invention in the accompanying drawings.
本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板およびレンチキュラレンズ基板は、それぞれ、個別基板とウエハーの双方を含むものとする。 Lenticular lens substrate with concave portions for and lenticular lens substrate of the present invention, respectively, is intended to include both individual substrates and wafers.
まず、本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法について、図1〜図4を参照しながら説明する。 First, a manufacturing method of the lenticular lens substrate with concave portions for the present invention will be described with reference to FIGS.
図1は、本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図、図2は、図1中のY−Y線における断面図、図3は、レンチキュラレンズ用凹部の形成過程を示す模式的な縦断面図、図4は、レンチキュラレンズ用凹部付き基板を示す模式的な平面図である。 Figure 1 is a schematic longitudinal sectional views showing a manufacturing method of the lenticular lens substrate with concave portions for the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along line Y-Y in FIG. 1, FIG. 3, the recess for the lenticular lens schematic longitudinal sectional view showing the formation process, FIG. 4 is a schematic plan view showing a substrate with concave portions for the lenticular lens.

本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法では、基板に対して、超短パルスレーザ光源よりレーザ光を照射して、基板に変質領域を形成する工程と、該変質領域が形成された基板にエッチングを施し、レンチキュラレンズ用凹部(以下、単に凹部ともいう)を形成する工程とを有することを特徴とする。 Substrate The lenticular lens substrate with concave portions for the manufacturing method of the present invention, the substrate is irradiated with laser light from the ultrashort pulsed laser light source, and forming a modified region in the substrate, which the modified matter regions are formed the etched, lenticular lens recess (hereinafter, simply referred to as recesses), characterized in that a step of forming a. なお、実際には基板上に多数のレンチキュラレンズ用凹部を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、1つのレンチキュラレンズ用凹部を形成する場合を例として挙げて説明する。 Although actually forming a recess for a number of lenticular lenses on the substrate, wherein, in order to simplify the explanation, description will be given as an example the case of forming a recess for one lenticular lens. また、本明細書中における変質領域とは、化学的に変質した領域、微小の亀裂または欠損等を含むものをいう。 Moreover, the affected region in the present specification refers to a chemically altered regions, those containing cracks or defects, etc. of the minute.
まず、レンチキュラレンズ用凹部付き基板2を製造するに際し、ガラス基板5を用意する。 First, when manufacturing the lenticular lens substrate with concave portions for 2, to prepare a glass substrate 5.

このガラス基板5は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。 The glass substrate 5, a uniform thickness without bending or scratches are preferably used. また、ガラス基板5は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。 Further, the glass substrate 5, by washing or the like, it is preferable that its surface is cleaned.
基板5の材料としてはソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス等が挙げられる。 Soda glass as the material of the substrate 5, crystalline glass, quartz glass, and borosilicate glass, and the like.
上述した中でも、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス(例えば、ネオセラム等)を用いると、加工が比較的容易となるとともに、得られるレンチキュラレンズ凹部付き基板を好適な光学的特性を有するものとすることができる。 Among the above, for example, soda glass, crystalline glass (e.g., neoceram etc.) is used, working together is relatively easy, it shall have a lenticular lens substrate with concave portions obtained suitable optical properties can. また、ソーダガラス、結晶性ガラスは、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。 Also, soda glass, crystalline glass is relatively inexpensive, it is advantageous in terms of manufacturing cost.

また、例えば、製造時の環境により特性が変化しにくい石英ガラスを用いた場合には、得られるレンチキュラレンズ凹部付き基板は、反り、たわみ等の生じにくい、安定性に優れたものとなる。 Further, for example, when the characteristic by the production time environment using hard silica glass changes, a lenticular lens substrate with concave portions resulting warping, less likely to occur such as bending, and has excellent stability.
ガラス基板5の厚さは、ガラス基板5を構成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通常、0.3〜3mm程度が好ましく、0.5〜2mm程度がより好ましい。 The thickness of the glass substrate 5, the material constituting the glass substrate 5, may vary depending on various conditions such as the refractive index, usually, preferably about 0.3 to 3 mm, about 0.5~2mm is more preferable. 厚さをこの範囲内とすると、必要な光学特性を備えたコンパクトなレンチキュラレンズ用凹部付き基板2を得ることができる。 The thickness When in this range, it is possible to obtain a compact lenticular lens substrate with concave portions for 2 with the necessary optical properties.

[変質領域形成工程] [Modified region forming step]
まず、図1に示すように、ガラス基板5に対し、ガラス基板5の凹部3を形成する面とは反対の面側から、超短パルスレーザ光源7よりレーザ光を、ガラス基板5の内部で集光するように照射する。 First, as shown in FIG. 1, to the glass substrate 5, from the side opposite to the surface forming the recess portion 3 of the glass substrate 5, the laser beam from the ultrashort pulse laser light source 7, inside the glass substrate 5 It is irradiated to the condenser.
このように超短パルスレーザ光源7よりレーザ光を照射すると、多光子吸収により、該レーザ光の焦点(集光点)近傍から、レーザ光の照射方向、すなわち、図1中Xの方向に向かって、変質領域6が形成される。 With this irradiation of the laser beam from the ultrashort pulse laser light source 7, by multiphoton absorption, the focus (focal point) vicinity of the laser beam, the irradiation direction of the laser beam, i.e., toward the direction in FIG. 1 X Te, affected region 6 is formed.

さらに、超短パルスレーザ光源7を、ガラス基板5の面方向と平行に、かつ、直線的に移動させつつ、レーザ光を照射する。 Further, ultrashort pulse laser light source 7, parallel to the surface direction of the glass substrate 5, and, while moving linearly, is irradiated with laser light. このように超短パルスレーザ光源7(集光点)を移動させると、図2に示すように、変質領域6を、超短パルスレーザ光源7の移動方向に連続的に形成することができる。 When in this manner is moved ultrashort pulse laser light source 7 (focal point), as shown in FIG. 2, the affected region 6, it can be continuously formed in the moving direction of the ultrashort pulse laser light source 7. なお、超短パルスレーザ光源7を移動させずに、ガラス基板5を移動させるものであってもよいし、両方を移動させてもよい。 Incidentally, ultra short pulse laser light source 7 without moving, may be used to move the glass substrate 5, both may be moved.

このように超短パルスレーザ光源7を用いることによって、変質領域6の、ガラス基板5の面方向での、超短パルスレーザ光源7を移動させる方向と垂直な方向における幅を極めて小さいものとすることができる。 Thus, by using the ultrashort pulse laser light source 7, the affected region 6, in the surface direction of the glass substrate 5, and extremely small width in the direction perpendicular directions to move the ultrashort pulse laser light source 7 be able to. これにより、最終的に得られるレンチキュラレンズ用凹部付き基板2は、凹部3が緻密に配列したものとなる。 Thus, finally lenticular lens substrate with concave portions for 2 yielded is that the recess 3 is densely arranged.
なお、所望の形状の変質領域6を形成した後、レーザ光の照射を停止させる。 After forming the modified region 6 of a desired shape, to stop the irradiation of the laser beam. その後、形成した変質領域6と平行に、かつ、所定の間隔をあけて、上記操作を繰り返し行う。 Then, in parallel to the affected region 6 formed, and, at a predetermined interval, repeating the above operation. これにより、変質領域6が規則的に配列したガラス基板5が得られる。 Thus, the glass substrate 5 is obtained affected region 6 are regularly arranged.

超短パルスレーザ光源に用いられるレーザとしては、特に限定されないが、パルス幅において、フェムト秒オーダーのレーザを用いるのが好ましい。 The laser used in the ultrashort pulse laser light source is not particularly limited, in the pulse width, it is preferable to use a laser of femtosecond order. また、再生増幅された超短パルスを用いるのが好ましい。 Further, it is preferable to use ultra-short pulses regenerative amplification. これにより、多光子吸収に必要なエネルギー強度を容易に得ることができ、使用する波長に対し透明な材料(ガラス基板5)においても、吸収を誘起させることが可能となる。 Thus, the energy intensity required for multiphoton absorption can be obtained easily, even in the transparent material to wavelength to be used (glass substrate 5), it is possible to induce absorption. このようなレーザを用いることによって、熱拡散により生じる不要な変質領域をほとんど有しない変質領域6を形成することができる。 By using such a laser, it can be formed having little affected region 6 unwanted affected region caused by thermal diffusion. また、多光子吸収の持つ非線形効果から、光軸に対して垂直な方向に対し、回折限界以下の領域で変質領域6を形成することができる。 Further, a nonlinear effect with the multiphoton absorption, with respect to a direction perpendicular to the optical axis, it is possible to form the modified region 6 in the following areas diffraction limit.

照射されるレーザ光のパルス幅は、10fs〜1psであるのが好ましく、50fs〜500fsであるのがより好ましく、100fs〜150fsであるのがさらに好ましい。 The pulse width of the irradiated laser light is preferably from 10Fs~1ps, more preferably from 50Fs~500fs, even more preferably 100Fs~150fs. これにより、多光子吸収を効果的に生じさせることができるため、より効率的に変質領域6を形成することができる。 Accordingly, it is possible to cause multiphoton absorption effectively, it is possible to form a more efficiently affected region 6. また、目的とする部位にのみ選択的に変質領域6を形成することができる。 Further, it is possible to selectively form the modified region 6 only at the site of interest. これに対し、パルス幅が前記下限値未満であると、多光子吸収を生じるのが困難となる場合があり、そのため、十分な変質領域6が形成されない可能性がある。 In contrast, when the pulse width is less than the lower limit, there are cases where the cause multiphoton absorption is difficult, therefore, there is a possibility that sufficient affected region 6 is not formed. 一方、パルス幅が前記上限値を超えると、レーザ光の照射領域の周辺に熱拡散が生じる場合があり、結果として、変質領域6の形状を制御するのが困難となる場合がある。 On the other hand, when the pulse width exceeds the upper limit, there are cases where the thermal diffusion in the periphery of the irradiation region of the laser light is generated, as a result, in some cases to control the shape of the affected region 6 becomes difficult.
また、レーザ光の波長は、200〜1500nmであるのが好ましく、400〜800nmであるのがより好ましい。 The wavelength of the laser light is preferably from 200 to 1500 nm, and more preferably 400 to 800 nm. これにより、多光子吸収による材料(ガラス基板5)内部での変質領域6を形成可能であり、また、光軸に対し垂直方向の変質領域6の幅をより減少させることが可能となる。 Thus, multiphoton absorption by material (glass substrate 5) is capable of forming a modified region 6 inside, also it is possible to more reduce the width of the vertical direction of the affected region 6 with respect to the optical axis.

また、レーザ光のパルスエネルギーは、1μJ〜1mJであるのが好ましく、10μJ〜500μJであるのがより好ましく、80μJ〜120μJであるのがさらに好ましい。 The pulse energy of the laser beam is preferably from 1Myujei~1mJ, more preferably from 10Myujei~500myuJ, even more preferably 80Myujei~120myuJ. これにより、より効率的に変質領域6を形成することができる。 Thus, it is possible to form a more efficiently affected region 6. これに対し、パルスエネルギーが前記下限値未満であると、エッチングレートを十分向上させるための変質領域6を形成するのが困難となる場合がある。 In contrast, when the pulse energy is less than the lower limit, it may become difficult to form a modified region 6 for sufficiently improving the etching rate. 一方、パルスエネルギーが前記上限値を超えると、変質領域6の形状や大きさ等を制御するのが困難となる場合がある。 On the other hand, when the pulse energy exceeds the upper limit, there are cases where to control the shape and size of the affected region 6 becomes difficult.

また、レーザ光のパルス繰り返し周波数は、10Hz〜100kHzであるのが好ましく、1kHz〜10kHzであるのがより好ましい。 The pulse repetition frequency of the laser light is preferably from 10Hz to 100kHz, and more preferably 1 kHz to 10 kHz. これにより、より効率的に変質領域6を形成することができる。 Thus, it is possible to form a more efficiently affected region 6.
超短パルスレーザ光源7の、ガラス基板5に対する光軸に垂直平面内における照射位置の間隔は、1〜100μmであるのが好ましく、5〜50μmであるのがより好ましい。 Ultrashort pulse laser light source 7, the interval of the irradiation position in a vertical plane to the optical axis with respect to the glass substrate 5 is preferably from 1 to 100 [mu] m, and more preferably 5 to 50 [mu] m. これにより、生産性よく変質領域6を形成することができる。 Thus, it is possible to form a good productivity affected region 6. これに対し、照射位置の間隔が前記下限値未満であると、レンチキュラレンズ用凹部付き基板2の生産性が低下する場合がある。 In contrast, when the interval of the irradiation positions is less than the lower limit, there is a case where the productivity of the lenticular lens substrate with concave portions for 2 decreases. 一方、照射位置の間隔が前記上限値を超えると、所望の形状の変質領域6を確実に形成するのが困難となる場合がある。 On the other hand, when the distance between the irradiation position exceeds the upper limit, it is difficult to reliably form a modified region 6 of a desired shape.

なお、本発明の方法によれば、照射されるレーザ光の焦点位置やパルス幅等のレーザ光の照射条件を制御することによって、変質領域の長さや幅等を容易に制御することができる。 Incidentally, according to the method of the present invention, by controlling the irradiation conditions of the laser beam focal position and the pulse width of the laser beam irradiated, it is possible to easily control the length and width of the affected region. その結果、後述するレンチキュラレンズ用凹部を所望の形状や大きさにより確実に制御することができる。 As a result, it is possible to reliably control the recess for the lenticular lens to be described later by the desired shape and size. 例えば、変質領域6の長さを大きくするようにレーザ光の焦点等を調整すると、中心付近での深さが深い凹部3を形成することができ、アスペクト比を比較的大きなものとすることができる。 For example, adjusting the focus, and the like of the laser light so as to increase the length of the affected region 6, it is the depth in the vicinity of the center to form a deep recess 3, that the aspect ratio and relatively large it can. また、変質領域の長さを小さくするようにレーザ光の焦点等を調整すると、中心付近での深さの浅い凹部3を形成することができ、アスペクト比を比較的小さなものとすることができる。 Moreover, adjusting the focus, and the like of the laser light so as to reduce the length of the affected region can form a shallow recess 3 of depth near the center, it is possible to make the aspect ratio relatively small .
以上のようにして形成された変質領域6は、他の部分と比較して、エッチングレートが大きいため、後に詳述するようなエッチングを施すことで、凹部3を形成することができる。 Affected region 6 formed in the above manner, as compared with other parts, because of the large etching rate, by performing etching, such as described in detail later, it is possible to form the recess 3.

ガラス基板5の厚さ方向での変質領域6の長さ(図中Aで表される長さ)は、1〜500μmであるのが好ましい。 The length of the affected region 6 in the thickness direction of the glass substrate 5 (length represented by reference numeral A) is preferably from 1 to 500 [mu] m. これにより、後述するエッチング工程において、ガラス基板5が食刻される度合いを適度なものとすることができる。 Thus, in the etching step described below, it can be made moderate the degree to which the glass substrate 5 is etched. また、後述するエッチング工程において形成される凹部3の形状は、特に光学特性に優れたレンチキュラレンズを得るのに最適なものとなる。 The shape of the recess 3 formed in the etching process to be described later, an optimal to obtain particularly good lenticular lens on the optical properties. これに対し、変質領域6の長さが前記下限値未満であると、後述するエッチング工程で形成される凹部3の深さを十分に大きくするのが困難となり、これにより得られるレンチキュラレンズ基板において、十分な光学特性を得るのが困難となる場合がある。 In contrast, when the length of the affected region 6 is less than the above lower limit, it becomes difficult to sufficiently increase the depth of the concave portion 3 formed by later-described etching step, the lenticular lens substrate obtained by this in some cases to obtain sufficient optical properties it becomes difficult. 一方、変質領域6の長さが前記上限値を超えると、凹部3の形状等を制御するのが困難となる場合がある。 On the other hand, when the length of the affected region 6 is more than the upper limit value, to control the shape of the recess 3 and the like becomes difficult.

また、ガラス基板5の面方向での、超短パルスレーザ光源7を移動させる方向と垂直な方向における変質領域6の幅(図中Bで表される幅)は、0.5〜10μmであるのが好ましく、1〜5μmであるのがより好ましい。 Further, in the surface direction of the glass substrate 5, the ultrashort pulse laser light source 7 moved to a direction perpendicular to the width of the affected region 6 in the direction (width represented in Figure B) is a 0.5~10μm preferably it is more preferably 1 to 5 [mu] m. これにより、後述するエッチング工程において、ガラス基板5が食刻される度合いを適度なものとすることができる。 Thus, in the etching step described below, it can be made moderate the degree to which the glass substrate 5 is etched. また、後述するエッチング工程において形成される凹部3の形状は、特に光学特性に優れたレンチキュラレンズを得るのに最適なものとなる。 The shape of the recess 3 formed in the etching process to be described later, an optimal to obtain particularly good lenticular lens on the optical properties.
また、隣接する変質領域6同士の間隔は、5〜500μmであるのが好ましく、10〜100μmであるのがより好ましい。 The distance between the affected region 6 adjacent is preferably from 5 to 500 [mu] m, and more preferably 10 to 100 [mu] m. これにより、ガラス基板5上に、緻密に、かつ適度な大きさの凹部3を形成することができる。 Thus, on the glass substrate 5, it is possible to form a dense, and appropriate size recess 3.

なお、変質領域6は、図示の構成のように、ガラス基板5の表面(凹部3を形成する側の面)まで連続して形成されるものであってもよいし、ガラス基板5の表面まで形成されていないものであってもよい。 Incidentally, the affected region 6, as in the configuration illustrated, there is formed continuously to the surface of the glass substrate 5 (the surface forming the concave portion 3) may be, to the surface of the glass substrate 5 or it may be not formed. 前者の場合には、後に詳述するようなエッチングを施して凹部3を形成する際に、無駄なく、より経済的に凹部3を形成することができる。 In the former case, when forming the recess 3 by etching, as described later in detail, without waste, it can be formed more economically recess 3. 一方、後者の場合には、ガラス基板5上に形成される各凹部3の深さ、幅、曲率半径等を、各凹部3で異なるように制御することができる。 On the other hand, in the latter case, it is possible to control the depth of the recesses 3 formed on the glass substrate 5, the width, radius of curvature, etc., it differs from one concave portion 3.
また、レーザ光の照射条件は、照射する各部位において異なるものであってもよい。 The irradiation conditions of the laser light may be different at each site to be irradiated.

[エッチング工程] [Etching process]
次に、図2に示すように、変質領域6を形成したガラス基板5にエッチングを施し、ガラス基板5上に凹部3を形成する。 Next, as shown in FIG. 2, etching the glass substrate 5 to form a modified region 6, forming a recess 3 on the glass substrate 5.
前述したように、変質領域6は、他の部分と比較して、エッチングレートが大きいため、図2(b)に示すように、他の部分よりも速く食刻され、変質領域6に対応する部位に、孔部61が形成される。 As described above, affected region 6, compared to the other portions, the etching rate is large, as shown in FIG. 2 (b), are etched faster than other portions, corresponding to the affected region 6 the site, the hole portion 61 is formed.

その後、孔部61は徐々に食刻され(図2(c)参照)、所望のサイズとなるまでエッチングが施され、図2(d)に示すような凹部3が形成される。 Thereafter, the hole 61 is gradually etched (see FIG. 2 (c)), the etching until the desired size is subjected, the recess 3 as shown in FIG. 2 (d) are formed.
エッチング法としては、例えば、ウェットエッチング法、ドライエッチング法等が挙げられる。 As the etching method, for example, a wet etching method, and a dry etching method or the like. その中でも、ウェットエッチング法を用いるのが好ましい。 Among them, preferably used wet etching method. これにより、ドライエッチング法に比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。 Thus, it is possible to perform processing with a simple apparatus as compared with the dry etching method, further, it is possible to perform processing on many substrates at a time. その結果、生産性が向上し、安価にレンチキュラレンズ用凹部付き基板2を提供することができる。 As a result, productivity is improved, it is possible to inexpensively provide a lenticular lens substrate with concave portions for 2.

前述したエッチング法の中で、ウェットエッチング法を用いる場合には、エッチング剤として、フッ化水素水溶液、フッ化アンモン溶液、フッ酸+硝酸水溶液、塩化鉄(III)溶液、アルカリ水溶液等を用いることができる。 Among the above-described etching method, in the case of using a wet etching method, as the etching agent, hydrogen fluoride aqueous solution, ammonium fluoride solution, hydrofluoric acid and nitric acid aqueous solution of iron (III) chloride solution, the use of the alkali solution or the like can.
また、ドライエッチング法を用いる場合には、エッチング剤として、CHF ガス、塩素系ガス等を用いることができる。 In the case of using a dry etching method, as an etchant, CHF 3 gas, can be used chlorine-based gas or the like.
以上により、凹部3が形成されたレンチキュラレンズ用凹部付き基板2(本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板)が得られる。 Thus, (substrate with concave portions for lenticular lens of the present invention) recess 3 wrench is formed lenticular lens substrate with concave portions for 2 are obtained.

形成された凹部3の平面視したときの平均幅は、5〜500μmであるのが好ましく、10〜100μmであるのがより好ましい。 Average width in a plan view of the formed recess 3 is preferably from 5 to 500 [mu] m, and more preferably 10 to 100 [mu] m. これにより、例えば、このようなレンチキュラレンズ用凹部付き基板2を用いて製造される透過型スクリーンは、スクリーンに投影される画像において優れた解像度を有するものとなる。 Thus, for example, transmission type screen is manufactured using such a lenticular lens substrate with concave portions for 2 comes to have a good resolution in the image projected on the screen.
また、凹部3の中央部付近での平均曲率半径は、2.5〜250μmであるのが好ましく、5〜50μmであるのがより好ましい。 The average radius of curvature in the vicinity of the center portion of the recess 3 is preferably 2.5~250Myuemu, and more preferably 5 to 50 [mu] m. これにより、このようなレンチキュラレンズ用凹部3を用いて得られるレンチキュラレンズの光学特性を特に優れたものとすることができる。 Thus, it is possible to assume that the optical properties of the lenticular lens obtained by using such a lenticular lens recesses 3 particularly.

また、凹部3の中心付近での深さは、5〜500μmであるのが好ましく、10〜200μmであるのがより好ましい。 The depth of near the center of the recess 3 is preferably from 5 to 500 [mu] m, and more preferably 10 to 200 [mu] m. これにより、このような凹部3を用いて得られるレンチキュラレンズの光学特性を特に優れたものとすることができる。 Thus, it is possible to assume that the optical properties of the lenticular lens obtained by using such recesses 3 particularly.
以上説明したような本発明の方法によれば、変質領域を基板上に緻密に形成することができるため、最終的に得られるレンチキュラレンズ用凹部付き基板を、レンチキュラレンズ用凹部が緻密に配列したものとすることができる。 According to the method of the present invention as described above, it is possible to densely form the affected region on the substrate, the substrate with concave portions for the finally obtained lenticular lens, recesses were densely arranged for lenticular lens it can be a thing.

また、本発明の方法によれば、形成されるレンチキュラレンズ用凹部の平均幅をc、中心付近での深さをdとしたときの、d/c、いわゆる、アスペクト比を容易に制御することができる。 Further, according to the method of the present invention, the average width of the recess for the lenticular lens formed c, when the depth in the vicinity of the center was d, d / c, so-called, to easily control the aspect ratio can.
また、本発明の方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。 Further, according to the method of the present invention, also the processing for a large-sized substrate can be easily performed. 大型の基板を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼りあわせの継ぎ目をなくすことができる。 When manufacturing a large-sized substrate, as in the prior art there is no need to bond a plurality of substrates, it is possible to eliminate seams bonding. これにより高品質の大型レンチキュラレンズ用凹部付き基板を簡便な方法で安価に製造することができる。 Thus it is possible to inexpensively manufacture the substrate with concave portions for high-quality large lenticular lens by a simple method.

また、本発明の方法によれば、図4に示すように、アライメントマーク4を、上述した凹部3と同様にして、形成することができる。 Further, according to the method of the present invention, as shown in FIG. 4, the alignment marks 4 can be in the same manner as the recess 3 as described above, is formed. すなわち、アライメントマーク4を形成すべき位置に、超短パルスレーザ光源7より、レーザ光を照射して変質領域を形成し(変質領域形成工程)、その後、エッチングを施す(エッチング工程)ことにより、凹部としてのアライメントマーク4が形成される。 That is, the position for forming the alignment mark 4, from the ultra-short pulse laser light source 7 is irradiated with laser light to form an affected region (modified region forming step), then, the etching performed (etching step) by, alignment marks 4 are formed as a recess.

このようなアライメントマーク4の形成は、凹部3の形成とほぼ同時に行うことができる。 The formation of such alignment marks 4 can be carried out substantially simultaneously with the formation of the recess 3. このように凹部3を形成する過程で、アライメントマーク4も形成することで、工程数を大幅に増やさずにアライメントマーク4を形成することができる。 Thus in the process of forming the concave portion 3, the alignment mark 4 is also by forming, it is possible to form the alignment mark 4 number of steps without increasing significantly.
このアライメントマーク4は、例えば、後述するレンチキュラレンズ基板1や、該レンチキュラレンズ基板1を用いて様々なものを製造する際に、位置決めの指標とされる。 The alignment mark 4 is, for example, a lenticular lens substrate 1 to be described later, when manufacturing a variety of using the lenticular lens substrate 1, as an index positioning.

なお、アライメントマーク4を形成するための変質領域を形成する際のレーザ光の焦点位置や照射条件等は、凹部3を形成するための変質領域6を形成する際のそれらと、異なるものであってもよいし、同じであってもよい。 Incidentally, the focal position and the irradiation conditions of the laser beam for forming the affected region for forming the alignment mark 4, and their time of forming the modified region 6 for forming the recesses 3, be different may be, it may be the same.
アライメントマーク4の形成位置は特に限定されないが、例えば、図4に示すように、アライメントマーク4を凹部3の形成領域外に形成することができる。 Although not forming position of the alignment mark 4 is limited, for example, as shown in FIG. 4, the alignment marks 4 can be formed outside the formation region of the recess 3.

アライメントマーク4は、レンチキュラレンズ用凹部付き基板2上に複数箇所設けるのが好ましい。 Alignment mark 4 is preferably provided a plurality of locations on the lenticular lens substrate with concave portions for 2. 特に、アライメントマーク4はレンチキュラレンズ用凹部付き基板2の角部に複数箇所設けるのが好ましい。 In particular, the alignment marks 4 are preferably provided a plurality of locations at the corners of the substrate with concave portions 2 for the lenticular lens. これにより、位置決めをより容易に行うことができるようになる。 Thus, it is possible to position more easily.
図4は、アライメントマーク4を十字型にした例を示している。 Figure 4 shows an example in which the alignment marks 4 in a cross shape. アライメントマーク4の形状は、特に限定されないが、図1に示すように、角を形成する角部41を有しているのが好ましい。 The shape of the alignment marks 4 are not particularly limited, as shown in FIG. 1, that has a corner portion 41 which forms the corner preferred. このようにアライメントマーク4が角部41を有していると、位置決めをより正確に行うことができるようになる。 With such an alignment mark 4 has a corner portion 41, it is possible to position more accurately.

さらには、図4に示すように、アライメントマーク4は、その中心部位を示すマーク(図1では円形の開口44)を有しているのが好ましい。 Furthermore, as shown in FIG. 4, the alignment mark 4 preferably has a mark (circular opening 44 in FIG. 1) showing the center portion. これにより、位置決めの精度をさらに向上させることができる。 Thus, it is possible to further improve the accuracy of the positioning.
なお、上述した実施形態では、レンチキュラレンズ用凹部付き基板2のレンチキュラレンズ用凹部3を形成する領域外にアライメントマーク4を形成したが、レンチキュラレンズ用凹部3を形成する領域内にアライメントマーク4を形成してもよいことは言うまでもない。 In the embodiment described above, to form an alignment mark 4 outside the region for forming the lenticular lens recesses 3 of the lenticular lens substrate with concave portions for 2, the alignment marks 4 in the region for forming the lenticular lens recesses 3 it may of course be formed.

このアライメントマーク4は、例えば、レンチキュラレンズ用凹部付き基板2を用いて種々のものを組み立てるとき、様々な位置決めに用いることができる。 The alignment marks 4, for example, when assembling the various ones using lenticular lens substrate with concave portions for 2, can be used for various positioning.
また、上述した実施形態では、変質領域6が連続的に形成された場合について説明したが、例えば、パルス繰り返し周波数、超短パルスレーザ光源7の照射位置の間隔や相対的な移動速度を調整することによって、図5に示すように、超短パルスレーザ光源7の移動方向に向かって、微小の変質領域6を断続的に形成することができる。 Further, in the embodiment described above, affected region 6 has been described which is continuously formed, for example, the pulse repetition frequency, to adjust the distance and the relative moving speed of the irradiation position of the ultrashort pulse laser light source 7 by, as shown in FIG. 5, toward the moving direction of the ultrashort pulse laser light source 7, it is possible to intermittently form an affected region 6 of the minute. このように断続的に形成することにより、超短パルスレーザ光源7の消費電力を抑えることができ、経済性が向上する。 By intermittently formed in this manner, it is possible to suppress the power consumption of the ultrashort pulse laser light source 7, economy is improved. また、変質領域6を連続的に形成させた場合と比べ、加工速度の向上が可能となり、生産性を高められるといった効果が得られる。 Moreover, compared with the case where the affected region 6 is continuously formed, it is possible to improve the processing speed, the effect is obtained such increased productivity.

このような場合、超短パルスレーザ光源7の移動方向において隣接する変質領域6同士の間隔は、十分に小さいのが好ましい。 In this case, the interval between the affected region 6 adjacent in the direction of movement of the ultrashort pulse laser light source 7 is preferably sufficiently small.
隣接する変質領域6同士の間隔は、具体的には、100μm以下であるのが好ましく、5〜25μmであるのがより好ましい。 Spacing between affected region 6 adjacent, specifically, is preferably at 100μm or less, more preferably 5 to 25 [mu] m. これにより、より確実に凹部3を形成することができる。 Thus, it is possible to form the recesses 3 more reliably. 隣接する変質領域6同士の間隔が大きすぎると、長さ方向での凹部3の形状を均一なものとするのが困難となる場合がある。 If the interval between the affected region 6 adjacent is too large, it may be difficult to the shape of the recess 3 in the longitudinal direction made uniform.

次に、前述したようなレンチキュラレンズ用凹部付き基板2を用いて、レンチキュラレンズ基板1を製造する方法について、図6を参照しながら説明する。 Next, using a lenticular lens substrate with concave portions for 2 as described above, a method for producing a lenticular lens substrate 1 will be described with reference to FIG.
なお、本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板およびレンチキュラレンズ基板は、以下に述べる透過型スクリーンやリア型プロジェクタ以外にも、例えば、液晶表示装置(液晶パネル)、有機または無機EL(Electro luminescence:エレクトロルミネッセンス)表示装置、CCD、光通信素子等の各種電気光学装置、その他の装置等に用いることができるのは言うまでもない。 Incidentally, a lenticular lens substrate with concave portions for and lenticular lens substrate of the present invention, in addition to a transmissive screen and a rear projection described below, for example, a liquid crystal display device (liquid crystal panel), an organic or inorganic EL (Electro Luminescence: Electro luminescence) display device, CCD, various electro-optical devices such as optical communication devices, of course can be used in other devices, and the like.

<1>まず、図6(a)に示すように、カバーガラス13を、接着剤を介して、レンチキュラレンズ用凹部付き基板2の凹部3が形成された面に接合する。 <1> First, as shown in FIG. 6 (a), the cover glass 13, via an adhesive, is bonded to the surface of the concave portion 3 of the lenticular lens substrate with concave portions for 2 formed.
この接着剤が硬化する(固化する)ことにより、樹脂層(接着剤層)14が形成される。 By this adhesive cures (solidifies) the resin layer (adhesive layer) 14 is formed. また、これにより、樹脂層14に、凹部3に充填された樹脂で構成され、凸レンズとして機能するレンチキュラレンズ8が形成される。 This also, the resin layer 14 is formed of a resin filled in the concave portion 3, the lenticular lens 8 which functions as a convex lens is formed.
なお、この接着剤には、基板5の屈折率よりも高い屈折率(例えばn=1.60程度)の光学接着剤等が好適に用いられる。 Incidentally, this adhesive, optical adhesive or the like having a refractive index higher than the refractive index of the substrate 5 (e.g. n = about 1.60) is suitably used.

<2>次に、図6(b)に示すように、カバーガラス13の厚さを薄くする。 <2> Next, as shown in FIG. 6 (b), to reduce the thickness of the cover glass 13.
これは、カバーガラス13に、例えば、研削、研磨、エッチング等の処理を施すことにより行うことができる。 This is the cover glass 13, for example, grinding, polishing, can be performed by performing processing such as etching.
カバーガラス13の厚さは、特に限定されないが、必要な光学特性を備えたレンチキュラレンズ基板1を得る観点から、10〜1000μm程度が好ましく、20〜150μm程度がより好ましい。 The thickness of the cover glass 13 is not particularly limited, from the viewpoint of obtaining a lenticular lens substrate 1 having a desired optical characteristic, preferably about 10 to 1000 [mu] m, about 20~150μm is more preferable.
なお、積層したカバーガラス13が、以降の工程を行うのに最適な厚さの場合には、本工程は行わなくてもよい。 The cover glass 13 laminated is, in the case of the optimum thickness to carry out the subsequent steps, this step may not be performed.

これにより、図7に示すような、多数のレンチキュラレンズ8を有するレンチキュラレンズ基板1が得られる。 Thus, as shown in FIG. 7, the lenticular lens substrate 1 having a large number of lenticular lens 8 is obtained.
なお、前記レンチキュラレンズ基板の製造方法の説明においては、レンチキュラレンズ用凹部付き基板2の凹部3に樹脂を充填してカバーガラス13で挟み込み、該樹脂でレンチキュラレンズ8を構成した場合を例に挙げて説明したが、レンチキュラレンズ用凹部付き基板2を型として用いた2P法(フォトポリマゼーション)によってレンチキュラレンズ基板を製造することもできる。 In the description of the manufacturing method of the lenticular lens substrate, sandwiched between the cover glass 13 is filled with a resin in the concave portion 3 of the lenticular lens substrate with concave portions for 2, as an example a case where the lenticular lens 8 in the resin described Te, it can also be prepared lenticular lens substrate by 2P method using a lenticular lens substrate with concave portions for 2 as a mold (photopolymer internalization).

以下、2P法によるレンチキュラレンズ基板の製造方法を、図8〜図10を参照しながら説明する。 Hereinafter, a manufacturing method of the lenticular lens substrate by 2P method will be described with reference to FIGS.
まず、図8(a)に示すように、本発明によって製造された、レンチキュラレンズ用の凹部3が形成されたレンチキュラレンズ用凹部付き基板2を用意する。 First, as shown in FIG. 8 (a), prepared according to the present invention, to provide a lenticular lens substrate with concave portions for 2 recess 3 is formed for the lenticular lens. 本方法では、この凹部3が形成されたレンチキュラレンズ用凹部付き基板2を型として用いる。 In this way, using a lenticular lens substrate with concave portions for 2 to the recess 3 is formed as a mold. これら凹部3に樹脂が充填されることにより、レンチキュラレンズ8が形成される。 When the resin is filled into the recesses 3, the lenticular lens 8 is formed. なお、凹部3の内面には、例えば離型剤等が塗布されていてもよい。 Note that the inner surface of the recess 3, for example, mold release agents and the like may be applied. そして、このレンチキュラレンズ用凹部付き基板2を、例えば凹部3が鉛直上方に開放するように設置する。 Then, the lenticular lens substrate with concave portions for 2, for example, the recess 3 is installed so as to open vertically upward.

<C1>次に、凹部3が形成されたレンチキュラレンズ用凹部付き基板2上に、樹脂層141(レンチキュラレンズ8)を構成することとなる未硬化の樹脂を供給する。 <C1> Next, on the lenticular lens substrate with concave portions for 2 recess 3 is formed, supplying the uncured resin for composing the resin layer 141 (lenticular lens 8).
<C2>次に、かかる樹脂に透明基板53を接合し、押圧・密着させる。 <C2> Next, bonding a transparent substrate 53 to the resin, to press-contact.
<C3>次に、前記樹脂を硬化させる。 <C3> Next, curing the resin. この硬化方法は、樹脂の種類によって適宜選択され、例えば、紫外線照射、加熱、電子線照射等が挙げられる。 The curing method is appropriately selected depending on the type of resin, for example, ultraviolet irradiation, heating, and electron beam irradiation.
これにより、図8(b)に示すように、樹脂層141が形成され、また、凹部3内に充填された樹脂により、レンチキュラレンズ8が形成される。 Thus, as shown in FIG. 8 (b), a resin layer 141 is formed, and by resin filled in the recess 3, the lenticular lens 8 is formed.

<C4>次に、図8(c)に示すように、型であるレンチキュラレンズ用凹部付き基板2をレンチキュラレンズ8から取り外す。 <C4> Next, as shown in FIG. 8 (c), removing the lenticular lens substrate with concave portions for 2 of a type from the lenticular lens 8.
<C5>次に、図9(d)に示すように、例えばレンチキュラレンズ8が鉛直上方に向くように透明基板53を設置した後、樹脂層142を構成することとなる未硬化の樹脂を、レンチキュラレンズ8上に供給する。 <C5> Next, as shown in FIG. 9 (d), for example after the lenticular lens 8 is placed a transparent substrate 53 to be directed vertically upward, an uncured resin which constitutes the resin layer 142, supplies on the lenticular lens 8. この供給方法としては、例えば、スピンコート等の塗布法、平板の型等を使った2P法等が挙げられる。 This as a supply method, for example, a coating method such as spin coating, 2P method or the like using a mold or the like of the plate.

<C6>次に、図10(e)に示すように、基板(ガラス層)54をかかる樹脂に接合し、押圧・密着させた後、かかる樹脂を硬化させ、樹脂層142を形成する。 <C6> Next, as shown in FIG. 10 (e), joined to the resin of the substrate (glass layer) 54, After pressing, adhesion, curing the the resin to form a resin layer 142. 基板54の構成材料としては、例えば、前述した基板5と同様の構成材料等が挙げられる。 Examples of the material of the substrate 54, for example, includes the same constituent materials such as the substrate 5 described above.
<C7>その後、必要に応じ、基板54の厚さを研削、研磨等により調整してもよい。 <C7> Thereafter, if necessary, the thickness of the substrate 54 grinding may be adjusted by polishing or the like.
これにより、図12に示すようなレンチキュラレンズ基板1が得られる。 Thus, the lenticular lens substrate 1 as shown in FIG. 12 is obtained.

また、上述した説明では、1枚のレンチキュラレンズ用凹部付き基板を用いて構成された平凸レンズ(平凸型レンチキュラレンズ)を備えたレンチキュラレンズ基板を用いているが、本発明のレンチキュラレンズ基板は、これに限定されるものではない。 Further, in the above description, but by using a lenticular lens substrate having a plano-convex lens configured by using the substrate with concave portions for one lenticular lens (plano-convex lenticular lens), the lenticular lens substrate of the present invention , the present invention is not limited to this.
例えば、2枚のレンチキュラレンズ用凹部付き基板を用いて両凸レンズを備えたレンチキュラレンズ基板を構成することもできる。 For example, it is also possible to configure the lenticular lens substrate with a double-convex lens with a substrate with concave portions for two lenticular lenses. この場合、2枚のレンチキュラレンズ用凹部付き基板は、いずれも、規則的なパターンのレンチキュラレンズ用凹部を有するものであるのが好ましい。 In this case, substrate with concave portions for two lenticular lenses are both is preferably one having a lenticular lens recesses of regular pattern. これにより、2枚のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の位置合わせを容易に行うことができる。 Thus, it is possible to align the two lenticular lens substrate with concave portions for readily.

以下に、規則的なパターンでレンチキュラレンズ用凹部が形成された2枚のレンチキュラレンズ用凹部付き基板を用いて構成された両凸レンズ(両凸型レンチキュラレンズ)を備えたレンチキュラレンズ基板について説明する。 Hereinafter, the lenticular lens substrate is described which includes a biconvex lens constructed (biconvex lenticular lens) using two substrate with concave portions for lenticular lens recess for lenticular lenses are formed in a regular pattern.
図11は、このレンチキュラレンズ基板の実施形態を示す模式的な縦断面図である。 Figure 11 is a schematic longitudinal sectional view showing an embodiment of the lenticular lens substrate.
同図に示すように、このレンチキュラレンズ基板1は、本発明によって製造された、第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板(第1の基板)21と、第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板(第2の基板)22と、樹脂層14と、レンチキュラレンズ8と、スペーサー9とを有している。 As shown in the figure, the lenticular lens substrate 1 was produced according to the present invention, a first lenticular lens substrate with concave portions for (first substrate) 21, a substrate with concave portions for the second lenticular lens (second and second substrate) 22, the resin layer 14, and a lenticular lens 8, and a spacer 9.

第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板21は、第1の基板(第1の透明基板)55上に凹曲面(レンズ曲面)を有する複数(多数)の第1の凹部(レンチキュラレンズ用凹部)36と第1のアライメントマーク42とが形成された構成となっている。 The first lenticular lens substrate with concave portions for 21 first substrate first recess (concave portion for lenticular lens) of a plurality (a number) having a concave curved surface (curved lens surfaces) on the (first transparent substrate) 55 36 When the first alignment marks 42 is in the formed structure.
第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22は、第2の基板(第2の透明基板)56上に凹曲面(レンズ曲面)を有する複数(多数)の第2の凹部(レンチキュラレンズ用凹部)37と第2のアライメントマーク43とが形成された構成となっている。 The second lenticular lens substrate with concave portions for 22 second substrate second recess (concave portion for lenticular lens) of a plurality (a number) having a concave curved surface (curved lens surfaces) on the (second transparent substrate) 56 37 If has a configuration in which the second alignment marks 43 are formed.

そして、このレンチキュラレンズ基板1は、第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板21と第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22とが、第1の凹部36と第2の凹部37とが対向するように、樹脂層(接着剤層)14を介して接合された構成となっている。 Then, the lenticular lens substrate 1, as the first lenticular lens with concave portions for substrate 21 and the second lenticular lens substrate with concave portions for 22, the first recess 36 and second recess 37 is opposed , the resin layer has a configuration which is bonded via the (adhesive layer) 14. また、このレンチキュラレンズ基板1では、第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板21と第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22との間に、第1の凹部36と第2の凹部37との間に充填された樹脂で、両凸レンズよりなるレンチキュラレンズ8が構成されている。 Further, in the lenticular lens substrate 1, between the first lenticular lens with concave portions for substrate 21 and the second lenticular lens substrate with concave portions for 22, between the first recess 36 and second recess 37 in filled resin, a lenticular lens 8 made of a biconvex lens is formed.

このレンチキュラレンズ基板1は、2つの領域、有効レンズ領域99と非有効レンズ領域100とを有している。 The lenticular lens substrate 1, the two regions have an effective lens area 99 and a non-effective lens region 100. 有効レンズ領域99とは、第1の凹部36および第2の凹部37内に充填される樹脂により形成されるレンチキュラレンズ8が、使用時にレンチキュラレンズとして有効に用いられる領域をいう。 The effective lens area 99, the lenticular lens 8 formed by resin filled in the first recess 36 and second recess 37 is, refers to a region to be effectively used as a lenticular lens at the time of use. 一方、非有効レンズ領域100とは、有効レンズ領域99以外の領域をいう。 On the other hand, the non-effective lens region 100 refers to a region other than the effective lens area 99.

このようなレンチキュラレンズ基板1は、例えば、第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板21側から光Lを入射させ、第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22側から光Lを出射させて、使用される。 Such lenticular lens substrate 1 is, for example, applying light L from the first lenticular lens with concave portions for substrate 21, thereby emitting light L from the second lenticular lens substrate with concave portions for 22 side, is used that.
そして、このようなレンチキュラレンズ基板1は、例えば以下のようにして製造することができる。 Then, such lenticular lens substrate 1 may be produced, for example, as follows. 以下、図12および図13を参照しつつ、レンチキュラレンズ基板の製造方法を説明する。 Hereinafter, with reference to FIGS. 12 and 13, a method of manufacturing a lenticular lens substrate.

レンチキュラレンズ基板を製造する際には、本発明によって製造された、第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板21および第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22を、まず用意する。 When manufacturing the lenticular lens substrate is manufactured by the present invention, the first lenticular lens substrate with concave portions for 21 and the second lenticular lens substrate with concave portions for 22, is prepared first.
この場合、第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板21の第1の凹部36の形状(例えば曲率半径等)と、第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22の第2の凹部37の形状とを異なるものとしてもよい。 In this case, different shapes of the first recess 36 of the first lenticular lens substrate with concave portions for 21 (for example, the radius of curvature, etc.), the shape of the second recess 37 of the second lenticular lens substrate with concave portions for 22 it may be a thing.

<D1>まず、図12に示すように、第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板21の第1の凹部36が形成された面に、少なくとも有効レンズ領域99を覆うように、所定の屈折率(特に第1の基板55および第2の基板56の屈折率より高い屈折率)を有する未硬化の樹脂143を供給し、第1の凹部36内に樹脂143を充填する。 <D1> First, as shown in FIG. 12, the first surface recess 36 is formed in the first lenticular lens substrate with concave portions for 21, so as to cover at least the effective lens area 99, a predetermined refractive index ( in particular supplying the first substrate 55 and the second uncured resin 143 having a high refractive index) than the refractive index of the substrate 56, to fill the resin 143 into the first recess 36. また、この際、第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板21上にスペーサー9を含む未硬化の樹脂144を供給する。 At this time, supplying an uncured resin 144 including a spacer 9 on the first lenticular lens substrate with concave portions for 21. かかる樹脂144は、例えばスペーサー9を設置する部位に供給する。 Such resin 144, for example, supplies to the site to install the spacer 9.

樹脂143と樹脂144とは、同種類の材料で構成するのが好ましい。 The resin 143 and resin 144, preferably composed of the same type of material. これにより、製造されるレンチキュラレンズ基板で、樹脂143と樹脂144との熱膨張係数が相違することにより、そり、たわみ等が生じることが好適に防止される。 Thus, in the lenticular lens substrate produced by thermal expansion coefficient between the resin 143 and resin 144 are different, warpage, deflection or the like that occurs is suitably prevented.
樹脂143を第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板21上に供給する際、スペーサー9が樹脂144中に分散していると、スペーサー9を均一に配設することが容易となる。 When supplying the resin 143 on the first lenticular lens substrate with concave portions for 21, the spacer 9 are dispersed in the resin 144, it is easy to uniformly arranged spacers 9. これにより、形成される樹脂層14の厚みムラが好適に抑制される。 Thereby, the uneven thickness of the resin layer 14 to be formed is suitably suppressed.

<D2>次に、図13に示すように、樹脂143および樹脂144上に第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板(相手体)22を設置する(第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22を樹脂に密着させる)。 <D2> Next, as shown in FIG. 13, installing a second lenticular lens substrate with concave portions for (mating member) 22 on the resin 143 and resin 144 (the second lenticular lens substrate with concave portions for 22 resin is brought into close contact).
このとき、第1の凹部36と第2の凹部37とが対向するように、第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22を、樹脂上に設置する。 At this time, as the first recess 36 and second recess 37 is opposed, the second lenticular lens substrate with concave portions for 22, is placed on the resin. また、このとき、第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22がスペーサー9に当接するように、第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22を樹脂上に設置する。 At this time, the second lenticular lens substrate with concave portions for 22 to abut to the spacer 9, a second lenticular lens substrate with concave portions for 22 placed on the resin. これにより、第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板21および第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22の互いに対向する端面間の距離は、スペーサー9で規定される。 Thus, the distance between the mutually facing end surfaces of the first lenticular lens substrate with concave portions for 21 and the second lenticular lens substrate with concave portions for 22 is defined by the spacer 9. したがって、レンチキュラレンズ8のコバ厚および最大厚さが、高い精度で規定される。 Thus, the edge thickness and the maximum thickness of the lenticular lens 8 is defined with high precision.

<D3>次に、第1のアライメントマーク42と第2のアライメントマーク43とを用いて、第1の凹部36と第2の凹部37との位置合わせを行う。 <D3> Next, with reference to the first alignment marks 42 and the second alignment marks 43, and performs a first recess 36 aligned with the second recess 37. これにより、第2の凹部37を第1の凹部36に対応した位置に正確に位置させることができるようになる。 Thus, it is possible to accurately position the second recess 37 at a position corresponding to the first recess 36. このため、形成されるレンチキュラレンズ8の形状、光学特性が、より設計値に近いものとなる。 Therefore, the shape of the lenticular lens 8 to be formed, optical properties, becomes closer to the design value.

<D4>次に、樹脂143および樹脂144を硬化させて樹脂層14を形成する。 <D4> Next, by curing the resin 143 and resin 144 to form the resin layer 14.
これにより、第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22が樹脂層14を介して第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板21に接合される。 Thus, the second lenticular lens substrate with concave portions for 22 is joined to the first lenticular lens substrate with concave portions for 21 via the resin layer 14. また、樹脂層14を構成する樹脂のうち、第1の凹部36と第2の凹部37との間に充填された樹脂により、レンチキュラレンズ8が形成される。 Also, of the resin constituting the resin layer 14, the resin filled between the first recess 36 and second recess 37, the lenticular lens 8 is formed. なお、樹脂の硬化は、例えば、樹脂に紫外線、電子線を照射すること、樹脂を加熱すること等により行うことができる。 Incidentally, the curing of the resin, for example, by irradiating ultraviolet rays to the resin, the electron beam can be carried out such as by heating the resin.
<D5>その後、必要に応じて、図13に示すように、研削、研磨等を行い、第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板22の厚さを調整してもよい。 <D5> Thereafter, if necessary, as shown in FIG. 13, grinding, polishing is performed, etc. to adjust the thickness of the second lenticular lens substrate with concave portions for 22.
これにより、図11に示すような両凸レンズを備えたレンチキュラレンズ基板1を得ることができる。 Thus, it is possible to obtain a lenticular lens substrate 1 having a biconvex lens, as shown in FIG. 11.

次に、図7に示したレンチキュラレンズ基板1を備えた透過型スクリーンについて、図14、図15を参照しながら説明する。 Next, a transmission screen having a lenticular lens substrate 1 shown in FIG. 7, FIG. 14 will be described with reference to FIG. 15. 図14は、本発明の透過型スクリーンの光学系を模式的に示す縦断面図、図15は、図14に示す透過型スクリーンの分解斜視図である。 Figure 14 is a longitudinal cross-sectional view schematically showing an optical system of the transmissive screen of the present invention, FIG 15 is an exploded perspective view of the transmissive screen shown in FIG. 14. なお、図14中においては、レンチキュラレンズ基板1を簡略化して示した。 Incidentally, in the figure 14, the lenticular lens substrate 1 shown in simplified form. すなわち、図14中においては、レンチキュラレンズ基板1として、樹脂層14のみを示し、レンチキュラレンズ用凹部付き基板2やカバーガラス13等は省略して示した。 That is, in the figure 14, the lenticular lens substrate 1, only the resin layer 14, such as a lenticular lens substrate with concave portions for 2 and a cover glass 13 showed omitted.

この透過型スクリーン200は、出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部210と、フレネルレンズ部210の出射面側に配置され入射面側表面に多数のレンチキュラレンズ8が形成されたレンチキュラレンズ基板1と、フレネルレンズ部210とレンチキュラレンズ基板1との間に配置された光拡散部230とを備えている。 The transmissive screen 200 includes a Fresnel lens portion 210 that Fresnel lens is formed on the exit surface side surface, a large number of lenticular lens 8 disposed incident side surface toward the exit surface of the Fresnel lens portion 210 is formed lenticular a lens substrate 1, and a light diffusing portion 230 disposed between the Fresnel lens portion 210 and the lenticular lens substrate 1.
このように、透過型スクリーン200は、レンチキュラレンズ基板1を有している。 Thus, the transmissive screen 200 includes a lenticular lens substrate 1. 上述した本発明の方法によると、容易に大型のレンチキュラレンズ基板1を製造することができるため、貼り合わせの繋ぎ目のない、高品質の大型スクリーンを製造することができる。 According to the method of the present invention described above, easily since it is possible to produce the lenticular lens substrate 1 large, no joint of bonding, it is possible to manufacture a high-quality large screen.

また、本実施形態のように、フレネルレンズ部210とレンチキュラレンズ基板1との間に光拡散部230が配置されることにより、透過型スクリーン200の回折光やモアレの発生を、より効果的に防止・抑制することができる。 Also, as in the present embodiment, by the light diffusing portion 230 between the Fresnel lens portion 210 and the lenticular lens substrate 1 is placed, the generation of diffracted light or moire of the transmissive screen 200, more effectively it can be prevented or suppressed. すなわち、図14に示すように、レンチキュラレンズ基板1の入射面側に光拡散部230を配置することにより、各レンチキュラレンズに入射される光(強度、角度、位相等)の規則性が低下し、レンチキュラレンズ基板1における回折光の発生が、より効果的に防止・抑制される。 That is, as shown in FIG. 14, by disposing the light diffusing portion 230 on the incident surface side of the lenticular lens substrate 1, light incident on the lenticular lens (intensity, angle, phase, etc.) regularity of drops , generation of diffracted light in the lenticular lens substrate 1 is effectively prevented or suppressed.

また、図示のように、フレネルレンズ部210とレンチキュラレンズ基板1との間に光拡散部230を配置することにより、フレネルレンズを通過した光はいったん光拡散部230で拡散された後にレンチキュラレンズ基板1に入射されるようになる。 Also, as illustrated, by disposing the light diffusing portion 230 between the Fresnel lens portion 210 and the lenticular lens substrate 1, the lenticular lens after being diffused by the light once light diffusing portion 230 has passed through the Fresnel lens substrate It comes to be incident to one. その結果、規則的な干渉パターンの発生が防止・抑制され、フレネルレンズ部210とレンチキュラレンズ基板1におけるモアレの発生が防止・抑制される。 As a result, the occurrence prevention and inhibition of regular interference pattern, occurrence of moire in the Fresnel lens portion 210 and the lenticular lens substrate 1 is prevented or suppressed.

また、本実施形態の透過型スクリーン200においては、光拡散部230は、一方の表面が粗面化された(略表面で光拡散する)いわゆる表面光拡散方式の樹脂シートである。 Further, the transmissive screen 200 of the present embodiment, the light diffusing portion 230 (light diffusing substantially surface) where one surface is roughened is a resin sheet of a so-called surface light diffusing type. このため、光拡散機能は樹脂シート表面で発揮されるため、樹脂シートを薄くしても光拡散機能の低下が防止される。 Therefore, since the light diffusing function is exhibited by the resin sheet surface, reduction in the light diffusion function even if thin resin sheet can be prevented. このため、フレネルレンズ部210とレンチキュラレンズ基板1との間隔を短くすることができ、内部拡散によるゴーストの発生、コントラスト低下および透過率の低下を防止・抑制することができる。 Therefore, the distance between the Fresnel lens portion 210 and the lenticular lens substrate 1 can be shortened, occurrence of a ghost due to internal diffusion, it is possible to prevent or suppress the decrease of the contrast reduction and transmission. 樹脂シートは、例えば、ブラスト処理等により粗面化された型を使用して、キャスト法や押し出し成形法により樹脂シートへの転写を行う方法により製造することができる。 Resin sheet, for example, can be produced using a roughened mold by blasting or the like, by a method of performing transfer to the resin sheet by casting or extrusion molding. このような方法で製造することにより、回折光やモアレの発生が十分に防止された光拡散部を、比較的簡単な方法で製造することができる。 By manufacturing in this way, the light diffusing portion generated is sufficiently prevent diffracted light and moire can be produced in a relatively simple manner.

光拡散部230のヘイズ値(HAZE値:拡散透過率をPd、全透過率をPaとしたとき、(Pd/Pa)×100で表される値)は、5〜95%であるのが好ましく、20〜93%であるのがより好ましく、50〜75%であるのがさらに好ましい。 The haze value of the light diffusing portion 230 (HAZE value: When the diffuse transmittance Pd, the total transmittance was Pa, (Pd / Pa) value represented by × 100) is preferably from 5% to 95% , more preferably from 20 to 93%, even more preferably 50 to 75%. 光拡散部230のヘイズ値が前記範囲内の値であると、各レンチキュラレンズ8に入射される光(強度、角度、位相等)の規則性を十分に低下させて、回折光やモアレの発生を十分に抑制しつつ、スクリーンに投影される画像において、にごりやボケの発生を十分に防止・抑制することができる。 When the haze value of the light diffusing portion 230 is within this range, the light incident on the lenticular lens 8 (intensity, angle, phase, etc.) sufficiently reduce the regularity of the diffracted light and moire occurrence while sufficiently suppressing, in the image projected on the screen, it can be sufficiently prevented, suppressing the generation of turbidity and blurring.

また、光拡散部230の光沢度は、5〜40%であるのが好ましく、10〜35%であるのがより好ましく、15〜30%であるのがさらに好ましい。 Also, the glossiness of the light diffusing portion 230 is preferably from 5-40%, more preferably from 10 to 35%, more preferably 15 to 30%. 光拡散部230の光沢度が前記範囲内の値であると、それぞれのレンズが一定の間隔で規則的に配置されたフレネルレンズ部210とレンチキュラレンズ基板1とを重ね合わせることで生じる規則的な干渉パターンの発生を十分に抑制して、回折光やモアレの発生をより効果的に防止・抑制しつつ、スクリーンに投影される画像におけるざらつき感やボケの発生を十分に防止・抑制することができる。 If the glossiness of the light diffusing portion 230 is within this range, a regular occurring in that each lens is superposed and a lenticular lens substrate 1 Fresnel lens portion 210 which are regularly arranged at regular intervals sufficiently suppress the occurrence of the interference pattern, while more effectively preventing and suppressing the generation of diffracted light and moire, it can be sufficiently prevented, suppressing the occurrence of roughness and blurring in an image projected on the screen it can. なお、光拡散部230の光沢度は、入射角60°としたとき、入射光量に対する反射光量の割合(%)で表される値である。 Incidentally, the glossiness of the light diffusing portion 230, when the incident angle of 60 °, a value expressed as a percentage of reflected light with respect to the amount of incident light (%).

また、光拡散部230を構成する樹脂シートの表面は、略錐状体の凹凸形状を有しているのが好ましい。 The surface of the resin sheet constituting the light diffusing portion 230 preferably has an irregular shape of a substantially conical body. これにより、回折光やモアレの発生をより効果的に防止・抑制することができる。 This makes it possible to more effectively prevent and suppress the generation of the diffracted light and the moire. また、光拡散部230を構成する樹脂シートの表面が略錐状体の凹凸形状を有するものである場合、この略錐状体の高低差は5〜200μmであるのが好ましい。 Also, if the surface of the resin sheet constituting the light diffusing portion 230 is one having an uneven shape of a substantially cone, the height difference between the the substantially cone is preferably 5 to 200 [mu] m. これにより、回折光やモアレの発生をさらに効果的に防止・抑制することができる。 This makes it possible to more effectively prevent and suppress the generation of the diffracted light and the moire.
なお、本発明の透過型スクリーンは、上述した構成に限られない。 Incidentally, the transmission screen of the present invention is not limited to those described above. 例えば、レンチキュラレンズ基板1の出射面側に、ブラックストライプや光拡散板や他のレンチキュラレンズをさらに採用した透過型スクリーンとすることもできる。 For example, the exit surface side of the lenticular lens substrate 1 may be a transmission screen further employing the black stripes or light diffusing plate or other lenticular lens.

以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。 Hereinafter, the rear projection is described using the transmission screen.
図16は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。 Figure 16 is a diagram schematically showing the configuration of a rear projection of the present invention.
同図に示すように、リア型プロジェクタ300は、投写光学ユニット310と、導光ミラー320と、透過型スクリーン330とが筐体340に配置された構成を有している。 As shown in the figure, the rear projection 300 has a projection optical unit 310, a light guiding mirror 320 and a transmissive screen 330 has a configuration which is arranged in the housing 340.
そして、このリア型プロジェクタ300は、その透過型スクリーン330として、上述した透過型スクリーン200を用いている。 Then, the rear projection 300 as its transmission screen 330, and a transmission type screen 200 described above. このため、高品質で大型のリア型プロジェクタとなる。 For this reason, a large rear-type projector with a high quality.

以上説明したように、本発明では、まず超短パルスレーザ光源からのレーザ光の照射によって、ガラス基板上に所定のパターンで変質領域を形成した後、マスクを施さずにエッチングを行うことによってガラス基板上に所望の凹部を形成することができる。 As described above, in the present invention, the glass first by irradiation of laser light from the ultrashort pulsed laser light source, after forming the modified region in a predetermined pattern on a glass substrate, by etching without performing mask it is possible to form a desired concave on the substrate. このため、従来のようにマスクを施した後にエッチングによって凹部を形成する場合に比べて容易に凹部を備えたレンチキュラレンズ用凹部付き基板を製造することができる。 Therefore, it is possible to manufacture a substrate with concave portions for lenticular lens with a readily recess as compared with a case of forming a recess by etching after applying a mask as in the prior art. その結果、レンチキュラレンズ用凹部付き基板、レンチキュラレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタ等の生産性が向上する。 As a result, a lenticular lens substrate with concave portions for lenticular lens substrate, a transmission screen, the productivity of such rear projection improves.

また、特に前述した方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。 In particular according to the method described above, also the processing for a large-sized substrate can be easily performed. 大型の基板を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。 When manufacturing a large-sized substrate, as in the prior art there is no need to bond a plurality of substrates, it is possible to eliminate seams bonding. これにより、高品質で大型のレンチキュラレンズ用凹部付き基板、レンチキュラレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタ等を簡便な方法で安価に製造することができる。 Thus, a large lenticular lens substrate with concave portions for a high quality lenticular lens substrate, a transmission screen can be manufactured at low cost by a simple method a rear projection like.

以上、本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板、レンチキュラレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。 Above, a lenticular lens substrate with concave portions for the present invention, the lenticular lens substrate, the transmission screen and a rear projection, has been described with reference to the illustrated embodiments, the present invention is not limited thereto.
例えば、本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。 For example, in the lenticular lens substrate with concave portions for the manufacturing method of the present invention, if necessary, it is also possible to add any object of steps.

また、前述した実施形態では、マスクを施さずにエッチングを行う方法について説明したが、マスクを施して、エッチングを行うものであってもよい。 Further, in the embodiment described above has described how performing etching without performing mask and masked, it may perform the etching. この場合、全体がエッチングされないため、基板の厚さを保持することができ、その結果、アスペクト比をより容易に大きいものとすることができる。 In this case, since the whole is not etched, it is possible to hold the thickness of the substrate. As a result, it is possible to increase the aspect ratio more easily.
また、前述した実施形態では、超短パルスレーザ光源(集光点)をガラス基板の面方向に平行に移動させて変質領域を形成する方法について説明したが、これに限定されず、例えば、集光点をガラス基板の幅方向に動かしてもよい。 Further, in the embodiment described above, but the ultrashort pulse laser light source (the focal point) has been described a process for forming a modified region is moved parallel to the plane direction of the glass substrate is not limited to this, for example, collecting spot may be moved in the width direction of the glass substrate.

また、前述した実施形態では、超短パルスレーザ光源を移動させる場合について説明したが、ガラス基板のほうを移動させてもよいし、両方とも移動させてもよい。 Further, in the embodiment described above, the description has been given of the case of moving the ultrashort pulse laser light source, may be moved towards the glass substrate, both may be moved.
また、前述した実施形態では、レンチキュラレンズ用凹部と同様の方法により、凹部としてのアライメントマークを形成する場合について説明したが、アライメントマークは、凸状に形成されたものであってもよい。 Further, in the embodiment described above, by the same method as the recess for the lenticular lens has been described the case of forming the alignment marks as a recess, the alignment mark may be one formed in a convex shape.

また、前述した実施形態では、レンチキュラレンズ基板として、レンチキュラレンズ用凹部付き基板と、透明な樹脂層と、カバーガラスとを有するものとして説明したが、例えば、レンチキュラレンズ用凹部付き基板および/またはカバーガラスはなくてもよい。 Further, in the embodiment described above, as a lenticular lens substrate, and the substrate with concave portions for lenticular lens, and a transparent resin layer, has been described as having a cover glass, for example, the substrate with concave portions and / or cover for the lenticular lens glass may be omitted.
また、本発明の透過型スクリーン、リア型プロジェクタは、前述した実施形態のようなものに限定されず、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。 Further, the transmission screen, a rear-type projector of the present invention is not limited to such embodiments described above, each unit constituting the transmission screen, a rear projection is any capable of exhibiting the same function configuration it can be replaced with that of. 例えば、本発明の透過型スクリーンは、レンチキュラレンズ基板1の出射面側に、ブラックストライプや光拡散板や他のレンズをさらに採用した透過型スクリーンであってもよい。 For example, the transmission screen of the present invention, the exit surface side of the lenticular lens substrate 1 may be a transmission screen further employing the black stripes or light diffusing plate or other lenses. また、前述した実施形態では、光拡散部として樹脂シートを設置した構成について説明したが、光拡散部は、例えば、レンチキュラレンズ用凹部付き基板の凹部が形成されている面とは反対側の面に粗面化処理等を施すことにより形成されたものであってもよい。 Further, in the embodiment described above, has been described for the case where the resin sheet is placed as the light diffusing section, the light diffusing portion is, for example, a surface opposite to the surface recesses of the substrate with concave portions for the lenticular lens is formed the roughening treatment or the like or may be formed by subjecting the. すなわち、光拡散部は、レンチキュラレンズ用凹部付き基板(レンチキュラレンズ基板)と一体的に形成されたものであってもよい。 That is, the light diffusing section, a lenticular lens substrate with concave portions for (lenticular lens substrate) and may be one integrally formed.

また、本発明のスクリーン(透過型スクリーン)、リア型プロジェクタは、前述した実施形態のような光拡散部を有していないものであっても良い。 The screen of the present invention (transmission screen), rear projection may be one which does not have the light diffusing portion such as the embodiment described above. すなわち、スクリーン、リア型プロジェクタが、本発明のレンチキュラレンズ基板を有するものである場合、前述したような光拡散部を有していなくても、干渉縞の発生等を十分効果的に防止することができる。 That is, the screen, it rear projector, if one having a lenticular lens substrate of the present invention, need not have a light diffusion portion as described above, to prevent sufficiently effectively the occurrence of interference fringe can.

また、上述した説明では、本発明のレンチキュラレンズ基板を、透過型スクリーンおよび該透過型スクリーンを備えた投射型表示装置に用いた場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明のレンチキュラレンズ基板を、例えば、CCD、光通信素子等の各種電気光学装置、液晶表示装置(液晶パネル)、有機または無機EL(Electro luminescence:エレクトロルミネッセンス)表示装置、その他の装置等に用いることができるのは言うまでもない。 Further, in the above description, the lenticular lens substrate of the present invention, the case of using a projection display apparatus including a transmission screen and the transmission screen has been described, the present invention is not limited thereto rather than shall, a lenticular lens substrate of the present invention, for example, CCD, various electro-optical devices such as optical communication element, a liquid crystal display device (liquid crystal panel), an organic or inorganic EL (electro luminescence: EL) display device, other of course it can be used in the apparatus.
また、表示装置もリアプロジェクション型の表示装置(リア型プロジェクタ)に限定されず、例えば、フロントプロジェクション型の表示装置に本発明のレンチキュラレンズ基板を用いることができる。 The display device is not limited to rear projection type display device (rear projector), for example, it can be used lenticular lens substrate of the present invention to a front-projection-type display device.

(実施例1) (Example 1)
以下のように、レンチキュラレンズ用凹部を備えたレンチキュラレンズ用凹部付き基板を製造し、このレンチキュラレンズ用凹部付き基板を用いてレンチキュラレンズ基板を製造した。 As it follows, to produce a substrate with concave portions for lenticular lens having a concave portion for lenticular lens, to produce a lenticular lens substrate with the wrench substrate with concave portions for lenticular lens.
まず、基板として、1.2m×0.7m角、厚さ2mmの石英ガラス基板を用意した。 First, as a substrate, 1.2 m × 0.7 m square was prepared quartz glass substrate having a thickness of 2 mm.
この石英ガラス基板を、30℃に加熱した洗浄液(フッ化水素10重量%+グリセリン15重量%の混合水溶液)に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。 The quartz glass substrate, subjected to soaking to washing in the washing liquid heated to 30 ° C. (a mixed aqueous solution of hydrogen fluoride 10 wt% + Glycerin 15 wt%), thereby cleaning its surface.

−1A− 次に、この石英ガラス基板の片面側に、フェムト秒レーザを用いて、石英ガラス基板の中央部113cm×65cmの範囲にレーザ光を照射した。 -1A- Then, on one side of the quartz glass substrate, by using a femtosecond laser was irradiated with laser light in the range of the central portion 113cm × 65cm quartz glass substrate. このとき、フェムト秒レーザを、前記範囲の一方の端部からもう一方の端部まで、レーザ光を照射させつつ、直線的に移動させ、図1および図2に示すような変質領域を形成させた。 At this time, the femtosecond laser, from one end to the other end of the range, while a laser beam, linearly moved to form a modified region as shown in FIGS. 1 and 2 It was.
なお、フェムト秒レーザより照射されたレーザ光は、石英ガラス基板の、レーザ光を照射する側の面とは反対側の面の表面から、13μmの位置に焦点を合わせて、波長800nm、パルス幅100fs、パルスエネルギー100μJ、パルス繰り返し周波数1kHzの条件で照射した。 The laser beam emitted from the femtosecond laser, the quartz glass substrate, the surface of the surface opposite to the side on which a laser beam, focused to a position of 13 .mu.m, wavelength 800 nm, pulse width 100 fs, and irradiated with pulse energy 100 .mu.J, pulse repetition frequency 1kHz conditions. フェムト秒レーザの移動は、5mm/sの速度で行った。 Movement of the femtosecond laser was carried out at a rate of 5mm / s. また、フェムト秒レーザの照射位置の間隔は、5μmであった。 The distance between the irradiation position of the femtosecond laser was 5 [mu] m.

さらに、上述のような操作を繰り返し行って、石英ガラス基板の上記範囲前面にわたって、規則的に配列した変質領域を形成した。 Further, by repeating the operation as described above, over the range front surface of a quartz glass substrate to form a modified region regularly arranged. なお、隣接する変質領域同士の間隔が、15μmとなるように、上記操作を繰り返し行った。 The distance of the affected area with adjacent, so that the 15 [mu] m, was repeated above procedure.
形成された変質領域の平均長さは13μm、変質領域の平均幅は1μmであった。 Average length of the formed modified region is 13 .mu.m, the average width of the affected region was 1 [mu] m. また、なお、変質領域は、石英ガラス基板の、レーザ光を照射する側の面とは反対側の面の表面まで連続して形成された。 Further still, the affected region is a quartz glass substrate, the side of the surface is irradiated with a laser beam which is formed continuously to the surface of the surface on the opposite side.
また、前記変質領域を形成する際に、上記と同様の条件にて、前記中央部以外の四隅に、図4に示すようなアライメントマークとなるように、アライメントマーク用変質領域を形成した。 Further, when forming the modified region at the same conditions, the four corners other than the central portion, so that the alignment marks as shown in FIG. 4, to form a modified region for the alignment mark.

−2A− 次に、石英ガラス基板にウェットエッチングを施し、石英ガラス基板上に多数の凹部を形成した。 -2A- then subjected to wet etching the quartz glass substrate to form a plurality of recesses on a quartz glass substrate.
なお、ウェットエッチングは、20℃で、エッチング液としてフッ化水素5wt%水溶液を用い、浸漬時間は3時間とした。 Note that wet etching at 20 ° C., using a hydrogen fluoride 5 wt% aqueous solution as an etching solution, the immersion time was 3 hours.
これにより、石英ガラス基板上に、レンチキュラレンズ用の多数の凹部が規則的に配列したレンチキュラレンズ用凹部付き基板を得た。 Thus, a quartz glass substrate, to obtain a lenticular lens substrate with concave portions for a number of recesses regularly arranged for the lenticular lens. なお、形成されたレンチキュラレンズ用凹部の平均幅は15μm、曲率半径は、7.5μm、中心付近での深さは15μmであった。 The average width of the formed recesses for the lenticular lens is 15 [mu] m, the radius of curvature, 7.5 [mu] m, the depth in the vicinity of the center was 15 [mu] m. また、隣接するレンチキュラレンズ用凹部同士の間隔(凹部同士の中心間平均距離)は15μmであった。 Further, (center average distance between the recess between) spacing of the recesses between a neighboring lenticular lenses was 15 [mu] m.

−3A− 次に、レンチキュラレンズ用凹部付き基板を型として用い、PMMA(ポリメチルメタクリレート、屈折率1.49)樹脂をキャスティング成形により成型加工した。 -3A- Then, using the substrate with concave portions for lenticular lens as a mold, and molding by casting molding PMMA (polymethylmethacrylate, refractive index 1.49) resin.
これにより、レンチキュラレンズ用凹部付き基板の凹部に対応した凸部を有するレンチキュラレンズが、規則的に配列した1.2m×0.7mのレンチキュラレンズ基板を得た。 Thus, the lenticular lens having a convex portion corresponding to the concave portion of the substrate with concave portions for lenticular lens, to obtain a lenticular lens substrate 1.2 m × 0.7 m were regularly arranged. 形成されたマレンチキュラレンズの平均幅は、15μmであった。 The average width of the formed Ma lenticular lens is 15 [mu] m. また、隣接するレンチキュラレンズ同士の間隔(レンチキュラレンズ同士の中心間平均距離)は、15μmであった。 Further, (center average distance between the lenticular lens together) spacing between the adjacent lenticular lens is 15 [mu] m.

(実施例2〜5) (Examples 2-5)
フェムト秒レーザの照射条件を表1に示すようにした以外は、前記実施例1と同様にレンチキュラレンズ用凹部付き基板、レンチキュラレンズ基板を製造した。 The irradiation conditions of the femtosecond laser except that as shown in Table 1, Example 1 and similarly substrate with concave portions for lenticular lens, to produce a lenticular lens substrate.
(比較例) (Comparative Example)
まず、基板として、厚さ1mmの石英ガラス基板を用意した。 First, as the substrate, it was prepared quartz glass substrate with a thickness of 1 mm.
この石英ガラス基板を、30℃に加熱した洗浄液(フッ化水素10重量%+グリセリン15重量%の混合水溶液)に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。 The quartz glass substrate, subjected to soaking to washing in the washing liquid heated to 30 ° C. (a mixed aqueous solution of hydrogen fluoride 10 wt% + Glycerin 15 wt%), thereby cleaning its surface.

−1C− 次に、この石英ガラス基板を、600℃、80Paに設定したCVD炉内に入れ、SiH を300mL/分の速度で供給し、CVD法にて、厚さ0.6μmの多結晶シリコン膜(マスクおよび裏面保護層)を形成した。 -1C- Next, the quartz glass substrate, 600 ° C., placed in a CVD furnace set to 80 Pa, a SiH 4 was supplied at 300 mL / min, by a CVD method, a thickness of 0.6μm polycrystalline silicon film (mask and the back surface protective layer) was formed.
−2C− 次に、形成した多結晶シリコン膜(マスク)上に、フォトレジストにより規則的なレンチキュラレンズのパターンを有するレジストを形成し、次いで、多結晶シリコン膜(マスク)に対してCFガスによるドライエッチングを行い、次いで、前記レジストを除去して、多結晶シリコン膜(マスク)に開口を形成した。 -2C- Then, on the formed polycrystalline silicon film (mask), a resist having a pattern of regular lenticular lens with a photoresist, then, with CF gas to the polycrystalline silicon film (mask) dry etching is carried out, then, by removing the resist to form openings in the polysilicon film (mask).

−3C− 次に、石英ガラス基板に第1のウェットエッチングを施し、石英ガラス基板上に多数の凹部を形成した。 -3C- then subjected to a first wet etching the quartz glass substrate to form a plurality of recesses on a quartz glass substrate.
なお、エッチング液には、フッ酸系のエッチング液を用いた。 Note that the etching solution, using an etchant of hydrofluoric acid.
−4C− 次に、CFガスによるドライエッチングを行い、多結晶シリコン膜(マスクおよび裏面保護層)を除去した。 -4C- Next, by dry etching using CF gas, to remove the polysilicon film (the mask and the back surface protective layer).
これにより、石英ガラス基板上に、レンチキュラレンズ用の多数の凹部が規則的に形成されたウエハー状のレンチキュラレンズ用凹部付き基板を得た。 Thus, a quartz glass substrate, a large number of recesses for the lenticular lens to obtain regularly formed wafers shaped lenticular lens substrate with concave portions for. なお、形成された凹部の平均幅は50μm、隣接する凹部同士の間隔(凹部同士の中心間平均距離)は50μmであった。 The average width of the recess formed is 50 [mu] m, (center average distance between the recess between) spacing of the recesses between the adjacent was 50 [mu] m.

この後、上記−3A−の工程を行い、実施例1と同様にして、多数のレンチキュラレンズが規則的に形成されたレンチキュラレンズ基板を得た。 Thereafter, perform the above -3A- steps, in the same manner as in Example 1 to obtain a large number of lenticular lenses regularly formed lenticular lens substrate. 形成されたレンチキュラレンズの平均幅は、50μmであった。 The average width of the formed lenticular lens is 50 [mu] m. また、隣接するレンチキュラレンズ同士の間隔(レンチキュラレンズ同士の中心間平均距離)は、50μmであった。 Further, (center average distance between the lenticular lens together) spacing between the adjacent lenticular lens is 50 [mu] m.
実施例1〜5と比較例における、凹部を形成する際の各条件、および形成された凹部の平均幅、凹部の曲率半径、凹部の深さ、隣接する凹部同士の間隔、レンチキュラレンズの平均幅、隣接するレンチキュラレンズ同士の間隔を表1に示す。 In Examples and Comparative Examples 1-5, the conditions for forming the recess, and the formed recess of average width, the curvature of the concave radius, the recess depth, spacing of the recesses between adjacent, the average width of the lenticular lens indicates the distance between the adjacent lenticular lenses in Table 1.

(評価) (Evaluation)
フェムト秒レーザによって基板上に変質領域を形成した実施例1〜5では、従来の方法に比べ、容易に、かつ安価にレンチキュラレンズ用凹部付き基板、レンチキュラレンズ基板を製造することができた。 In Examples 1 to 5 were formed affected region on the substrate by a femtosecond laser, compared with the conventional methods, easily, and inexpensively lenticular lens substrate with concave portions for, it was possible to produce the lenticular lens substrate. また、特に、実施例では、1.2m×0.7mといった大型の基板に対する処理も容易に行うことができた。 In particular, in the embodiment, it is possible to also process for a large substrate such as 1.2 m × 0.7 m easily. 一方、フォトリソグラフィ法によりマスクに開口部を形成した比較例では、1.2m×0.7mといった大型の基板に対する処理は困難であった。 On the other hand, in the comparative example of forming an opening in the mask by photolithography process for a large substrate such as 1.2 m × 0.7 m it was difficult. 特に、フォトレジストの工程で、多数の不良品を生じ極めて歩留に劣っていた。 In particular, in the photoresist process, it was inferior to the very yield caused numerous defective products.

また、凹部の平均幅を20μm、隣接する凹部同士の間隔を20μmとなるように、比較例と同様の方法でレンチキュラレンズ用凹部付き基板を作製しようと試みたが、開口を確実に形成することができず、凹部が形成されない部位が多数確認され、実用に耐えうるものではなかった。 Further, 20 [mu] m average width of the recess, the spacing of the recesses between adjacent such that 20 [mu] m, but attempts to produce a substrate with concave portions for lenticular lens in the same manner as Comparative Example, possible to reliably form the aperture can not, recess is confirmed sites not formed a number, it did not withstand practical use.
そして、前記実施例1〜5で得られたレンチキュラレンズ基板を用いて、図14、図15に示すような透過型スクリーンを作製し、当該スクリーンを用いて図16に示すようなリア型プロジェクタを作製した。 Then, using a lenticular lens substrate obtained in Example 1-5, FIG. 14, to produce a transmission screen as shown in FIG. 15, the rear projection as shown in FIG. 16 by using the screen It was produced.

得られたリア型プロジェクタのスクリーンにそれぞれ画像を投射させたところ、明るく、高品質の画像を表示することができた。 When obtained was projected each image on the screen of the rear projection, bright, it was possible to display a high quality image.
したがって、かかる透過型スクリーンを用いた投射型表示装置は、スクリーン上に明るく、高品質の画像を投射できることが容易に推察される。 Accordingly, such transmission screen projection type display device using a bright on the screen, can be easily inferred that can project a high quality image.

本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。 Method for producing a lenticular lens substrate with concave portions for the present invention is a schematic longitudinal sectional view showing a. 図1中のY−Y線における断面図である。 It is a sectional view taken along line Y-Y in FIG. レンチキュラレンズ用凹部の形成過程を示す模式的な縦断面図である。 It is a schematic longitudinal sectional view showing a process of forming the recess for the lenticular lens. 本発明のレンチキュラレンズ用凹部付き基板を示す模式的な平面図である。 It is a schematic plan view of a substrate with concave portions for lenticular lens of the present invention. 第2実施形態における図1中のY−Y線での断面図である。 It is a sectional view taken along the line Y-Y in FIG. 1 in the second embodiment. 本発明のレンチキュラレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。 Method for producing a lenticular lens substrate of the present invention is a schematic longitudinal sectional view showing a. 本発明のレンチキュラレンズ基板を示す模式的な縦断面図である。 The lenticular lens substrate of the present invention is a schematic longitudinal sectional view showing. 本発明のレンチキュラレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。 Method for producing a lenticular lens substrate of the present invention is a schematic longitudinal sectional view showing a. 本発明のレンチキュラレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。 Method for producing a lenticular lens substrate of the present invention is a schematic longitudinal sectional view showing a. 本発明のレンチキュラレンズ基板を示す模式的な縦断面図である。 The lenticular lens substrate of the present invention is a schematic longitudinal sectional view showing. 本発明のレンチキュラレンズ基板を示す模式的な縦断面図である。 The lenticular lens substrate of the present invention is a schematic longitudinal sectional view showing. 本発明のレンチキュラレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。 Method for producing a lenticular lens substrate of the present invention is a schematic longitudinal sectional view showing a. 本発明のレンチキュラレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。 Method for producing a lenticular lens substrate of the present invention is a schematic longitudinal sectional view showing a. 本発明の透過型スクリーンの光学系を模式的に示す縦断面図である。 The optical system of the transmissive screen of the present invention is a vertical sectional view schematically showing. 図14に示す透過型スクリーンの分解斜視図である。 It is an exploded perspective view of the transmissive screen shown in FIG. 14. 本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。 The structure of the rear projection of the present invention is a diagram schematically showing.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1……レンチキュラレンズ基板 2……レンチキュラレンズ用凹部付き基板 21……第1のレンチキュラレンズ用凹部付き基板 22……第2のレンチキュラレンズ用凹部付き基板 200……レンチキュラレンズ基板 3……凹部 4……アライメントマーク 41……角部 42……第1のアライメントマーク 43……第2のアライメントマーク 44……開口 5……ガラス基板 51……透明基板 52……ガラス基板 53……第1のガラス基板 54……第2のガラス基板 6……変質領域 61……孔部 7……超短パルスレーザ光源 8……レンチキュラレンズ 9……スペーサー 99……有効レンズ領域 100……非有効レンズ領域 111……開口 13……カバーガラス 14……樹脂層 141……樹脂層 141、142……樹脂層 143、1 1 ...... lenticular lens substrate 2 ...... lenticular lens substrate with concave portions for 21 ...... first lenticular lens substrate with concave portions for 22 ...... second substrate with concave portions for the lenticular lens 200 ...... lenticular lens substrate 3 ...... recess 4 ...... alignment mark 41 ...... corners 42 ...... first alignment mark 43 ...... second alignment marks 44 ...... opening 5 ...... glass substrate 51 ...... transparent substrate 52 ...... glass substrate 53 ...... first glass substrate 54 ...... second glass substrate 6 ...... affected region 61 ...... holes 7 ...... ultrashort pulse laser light source 8 ...... lenticular lens 9 ...... spacer 99 ...... effective lens region 100 ...... ineffective lens region 111 ...... opening 13 ...... cover glass 14 ...... resin layer 141 ...... resin layer 141, 142 ...... resin layer 143, 44……樹脂 200……透過型スクリーン 210……フレネルレンズ部 230……光拡散部 300……リア型プロジェクタ 310……投写光学ユニット 320……導光ミラー 330……透過型スクリーン 340……筐体 44 ...... resin 200 ...... transmissive screen 210 ...... Fresnel lens portion 230 ...... light diffusing portion 300 ...... rear projection 310 ...... projection optical unit 320 ...... guiding mirror 330 ...... transmissive screen 340 ...... housing body

Claims (19)

  1. 基板上に、レンチキュラレンズ用凹部を形成するレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、 On a substrate, a manufacturing method of a substrate with concave portions for lenticular lens forming recesses for the lenticular lens,
    前記基板に対し、前記基板の前記レンチキュラレンズ用凹部が形成される面とは反対の面側から、超短パルスレーザ光源よりレーザ光を照射して、前記基板に変質領域を形成する工程と、 With respect to the substrate, from the opposite surface side of the lenticular surface lens recess is formed in the substrate, a step of irradiating a laser beam from the ultrashort pulse laser light source, to form a modified region on the substrate,
    前記変質領域を有する前記基板にエッチングを施し、前記レンチキュラレンズ用凹部を形成する工程とを有することを特徴とするレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 The substrate etched, lenticular lens with concave portions for the substrate manufacturing method characterized by a step of forming the lenticular lens recess having the affected region.
  2. 基板上に、レンチキュラレンズ用凹部を形成するレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、 On a substrate, a manufacturing method of a substrate with concave portions for lenticular lens forming recesses for the lenticular lens,
    前記基板に対し、前記基板の前記レンチキュラレンズ用凹部が形成される面とは反対の面側から、超短パルスレーザ光源よりレーザ光を照射して、前記基板に変質領域を形成する工程と、 With respect to the substrate, from the opposite surface side of the lenticular surface lens recess is formed in the substrate, a step of irradiating a laser beam from the ultrashort pulse laser light source, to form a modified region on the substrate,
    前記変質領域を有する前記基板にエッチングを施し、前記レンチキュラレンズ用凹部と、アライメントマークとを形成する工程とを有することを特徴とするレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 The etched on the substrate having the affected region, the lenticular lens recess, a lenticular lens with concave portions for the substrate manufacturing method characterized by a step of forming an alignment mark.
  3. 前記レーザ光のパルス幅は、10fs〜1psである請求項1または2に記載のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 Pulse width of the laser light, a lenticular lens with concave substrate manufacturing method according to claim 1 or 2 is 10Fs~1ps.
  4. 前記レーザ光のパルスエネルギーは、1μJ〜1mJである請求項1ないし3のいずれかに記載のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 Pulse energy of the laser light, a lenticular lens with concave portions for substrate manufacturing method according to any one of claims 1 to 3 is 1Myujei~1mJ.
  5. 前記レーザ光のパルス繰り返し周波数は、10Hz〜100kHzである請求項1ないし4のいずれかに記載のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 The pulse repetition frequency of the laser light, a lenticular lens with concave substrate manufacturing method according to any one of claims 1 to 4 is 10Hz to 100kHz.
  6. 前記超短パルスレーザ光源を、前記基板に対して相対的に移動させつつ、前記レーザ光を照射する請求項1ないし5のいずれかに記載のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 The ultrashort pulse laser light source, while moving relative to the substrate, a lenticular lens with concave substrate manufacturing method according to any one of claims 1 to 5 for irradiating the laser beam.
  7. 前記超短パルスレーザ光源の、前記基板に対する光軸に垂直平面内における照射位置の間隔は、1〜100μmである請求項1ないし6のいずれかに記載のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 The ultrashort pulse laser light source, spacing of the irradiation position in a vertical plane to the optical axis with respect to the substrate, a lenticular lens with concave portions for substrate manufacturing method according to any one of claims 1 to 6 is 1 to 100 [mu] m.
  8. 前記基板の厚さ方向での前記変質領域の長さは、1〜500μmである請求項1ないし7のいずれかに記載のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 The length of the affected region in the thickness direction of the substrate, a lenticular lens with concave substrate manufacturing method according to any one of claims 1 to 7 is 1 to 500 [mu] m.
  9. 前記変質領域の、前記基板の面方向での、前記超短パルスレーザ光源を移動させる方向と垂直な方向における幅は、0.5〜10μmである請求項6ないし8のいずれかに記載のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 Of the affected region, in the surface direction of the substrate, the ultra-short pulse laser light source width in a direction perpendicular to the direction of moving the the lenticular according to any one of claims 6 to 8 is 0.5~10μm the substrate with concave portions manufacturing method for the lens.
  10. 前記エッチングは、ウェットエッチングにより行われるものである請求項1ないし9のいずれかに記載のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 The etching is either a lenticular lens with concave substrate manufacturing method according to the claims 1 is intended to be performed by wet etching 9.
  11. 前記レンチキュラレンズ用凹部の平面視したときの平均幅は、5〜500μmである請求項1ないし10のいずれかに記載のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 Average width in a plan view of the recess for the lenticular lens, a lenticular lens with concave substrate manufacturing method according to any one of claims 1 to 10 is 5 to 500 [mu] m.
  12. 前記レンチキュラレンズ用凹部の中心付近での深さは、5〜500μmである請求項1ないし11のいずれかに記載のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 The wrench around the center depth at the lenticular lens recess, the lenticular lens with concave portions for substrate manufacturing method according to any one of claims 1 to 11 is 5 to 500 [mu] m.
  13. 前記基板は、実質的に透明である請求項1ないし12のいずれかに記載のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の製造方法。 The substrate is substantially transparent claims 1 to 12 or a lenticular lens with concave portions for the manufacturing method of the substrate according to the.
  14. 請求項1ないし13のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法により製造されたことを特徴とするレンチキュラレンズ用凹部付き基板。 Lenticular lens substrate with concave portions for which is characterized by being manufactured by the manufacturing method of the substrate with concave portions according to any one of claims 1 to 13.
  15. 請求項14に記載のレンチキュラレンズ用凹部付き基板を用いて製造されたことを特徴とするレンチキュラレンズ基板。 Lenticular lens substrate, characterized in that it is manufactured using a substrate with concave portions for lenticular lens according to claim 14.
  16. 請求項15に記載のレンチキュラレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。 Transmission screen, characterized in that it comprises a lenticular lens substrate according to claim 15.
  17. 光の出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、 A Fresnel lens part Fresnel lens is formed on the exit surface side surface of the light,
    前記フレネルレンズ部の出射面側に配置された請求項15に記載のレンチキュラレンズ基板と、 A lenticular lens substrate according to claim 15 which is arranged on the exit surface side of the Fresnel lens portion,
    前記フレネルレンズ部と前記レンチキュラレンズ基板との間に配置された光拡散部とを備えたことを特徴とする透過型スクリーン。 Transmission screen, characterized in that a said light diffusing portion disposed between the Fresnel lens portion and the lenticular lens substrate.
  18. 請求項16または17に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。 Rear projection, characterized in that with a transmission type screen according to claim 16 or 17.
  19. 投写光学ユニットと、導光ミラーと、請求項16または17に記載の透過型スクリーンとを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。 Rear projector of a projection optical unit, a light guide mirror, characterized in that a transmission type screen according to claim 16 or 17.
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