JP2005109426A - Aligner, exposure method, and device manufacturing method - Google Patents

Aligner, exposure method, and device manufacturing method

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JP2005109426A JP2004051576A JP2004051576A JP2005109426A JP 2005109426 A JP2005109426 A JP 2005109426A JP 2004051576 A JP2004051576 A JP 2004051576A JP 2004051576 A JP2004051576 A JP 2004051576A JP 2005109426 A JP2005109426 A JP 2005109426A
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博之 長坂
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    • G03F7/70Exposure apparatus for microlithography
    • G03F7/70216Systems for imaging mask onto workpiece
    • G03F7/70341Immersion

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aligner which stably forms a liquid immersed region between a projection optical system and a substrate, satisfactorily recovers the liquid in the exposure with the liquid immersed region formed, and prevents the liquid from flowing out or flying around, etc. to accurately execute an exposure process. <P>SOLUTION: The aligner projects the image of a specified pattern on a substrate P through a liquid 1 to expose the substrate. The aligner comprises a projecting optical system and a liquid supply mechanism for supplying the liquid on the substrate to form a liquid immersed region AR2 on a part of the substrate. The liquid supply mechanism supplies the liquid 1 on the substrate P at a plurality of positions apart in a plurality of different directions away from a projecting region AR1 at once. The aligner stably forms the liquid immersed region, satisfactorily recovers the liquid and prevents the liquid from flowing out or flying around, etc. to accurately execute an exposure process. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で基板にパターンを露光する露光装置、露光方法及びデバイス製造方法に関するものである。 The present invention relates to an exposure apparatus for exposing a pattern on a substrate while forming the liquid immersion area between the projection optical system and the substrate, to a exposure method and device manufacturing method.

半導体デバイスや液晶表示デバイスは、マスク上に形成されたパターンを感光性の基板上に転写する、いわゆるフォトリソグラフィの手法により製造される。 Semiconductor devices and liquid crystal display devices, to transfer a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate, is manufactured by a so-called photolithography technique. このフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置は、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながらマスクのパターンを投影光学系を介して基板に転写するものである。 An exposure apparatus used in this photolithographic process, and a substrate stage that supports the mask stage and the substrate supporting the mask, the pattern of the mask through a projection optical system while moving the mask stage and the substrate stage sequentially it is transferred onto the substrate. 近年、デバイスパターンのより一層の高集積化に対応するために投影光学系の更なる高解像度化が望まれている。 Recently for higher resolution of the projection optical system in order to cope with higher integration of the device pattern it is desired. 投影光学系の解像度は、使用する露光波長が短いほど、また投影光学系の開口数が大きいほど高くなる。 Resolution of the projection optical system, as the exposure wavelength to be used is shorter, the higher the larger the numerical aperture of the projection optical system. そのため、露光装置で使用される露光波長は年々短波長化しており、投影光学系の開口数も増大している。 Therefore, the exposure wavelength used in exposure apparatuses has shortened year by year wavelength has increased numerical aperture of projection optical systems. そして、現在主流の露光波長はKrFエキシマレーザの248nmであるが、更に短波長のArFエキシマレーザの193nmも実用化されつつある。 The mainstream exposure wavelength currently is a 248nm from a KrF excimer laser, it is being put to practical use yet ArF excimer laser of short wavelength 193 nm. また、露光を行う際には、解像度と同様に焦点深度(DOF)も重要となる。 Further, when exposure is performed, similarly to the resolution depth of focus (DOF) is also important. 解像度R、及び焦点深度δはそれぞれ以下の式で表される。 The resolution R, and the depth of focus δ are represented by the following expressions.
R=k ・λ/NA … (1) R = k 1 · λ / NA ... (1)
δ=±k ・λ/NA … (2) δ = ± k 2 · λ / NA 2 ... (2)

ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k 、k はプロセス係数である。 Here, lambda is the exposure wavelength, NA is the numerical aperture of the projection optical system, k 1, k 2 represent the process coefficients. (1)式、(2)式より、解像度Rを高めるために、露光波長λを短くして、開口数NAを大きくすると、焦点深度δが狭くなることが分かる。 (1) and (2), in order to enhance the resolution R, then shorten the exposure wavelength lambda, and the numerical aperture NA is increased, it can be seen that the depth of focus δ becomes narrower.

焦点深度δが狭くなり過ぎると、投影光学系の像面に対して基板表面を合致させることが困難となり、露光動作時のマージンが不足するおそれがある。 If the depth of focus δ is too narrowed, it is difficult to match the substrate surface with respect to the image plane of the projection optical system, a margin during the exposure operation may be insufficient. そこで、実質的に露光波長を短くして、且つ焦点深度を広くする方法として、例えば下記特許文献1に開示されている液浸法が提案されている。 Therefore, by substantially shortening the exposure wavelength and a method of widening the depth of focus, for example, immersion method disclosed in Patent Document 1 it has been proposed. この液浸法は、投影光学系の下面と基板表面との間を水や有機溶媒等の液体で満たして液浸領域を形成し、液体中での露光光の波長が空気中の1/n(nは液体の屈折率で通常1.2〜1.6程度)になることを利用して解像度を向上するとともに、焦点深度を約n倍に拡大するというものである。 This liquid immersion method forms an immersion area between the lower surface and the substrate surface of the projection optical system is filled with liquid such as water or an organic solvent, 1 / n of the wavelength of the exposure light in the liquid in the air (n is usually about 1.2 to 1.6 in the refractive index of the liquid) as well as improving the resolution as well be a, is that the depth of focus is magnified about n times.
国際公開第99/49504号パンフレット International Publication No. WO 99/49504

ところで、上記従来技術には以下に述べる問題が存在する。 However, the above conventional art there are problems described below.

上記従来技術は基板を所定方向に移動しつつ走査露光する際に投影光学系と基板との間に液浸領域を形成できるため有効であるが、基板の移動方向に関して、マスクのパターンの像が投影される投影領域の手前で液体を供給する構成であって、液体を投影領域の手前側から基板の移動方向に沿って一方向に流す構成である。 The above conventional technique is effective because it can form the liquid immersion area between the projection optical system and the substrate during the scanning exposure while moving the substrate in a predetermined direction, but with respect to the moving direction of the substrate, the image of the pattern of the mask is a configuration for supplying the liquid in front of the projection area to be projected, is configured to flow the liquid from the front side of the projection area in one direction along the moving direction of the substrate. そして、基板の移動方向を前記所定方向から反対方向に切り替える際、液体を供給する位置(ノズル)も切り替える構成である。 Then, when switching the moving direction of the substrate in the opposite direction from the predetermined direction, a position for supplying the liquid (nozzles) is also configured to switch between. ところが、この切り替え時に投影領域に対して一方向からの液体の供給を急に停止して他方向からの液体の供給を開始することになるため、投影光学系と基板との間で液体の振動(所謂ウォーターハンマー現象)が発生したり、液体供給装置自体(供給管や供給ノズルなど)に振動が発生して、パターン像の劣化を引き起こすという問題が生じたり、また、投影領域に対して一方向から液体を流す構成であるため、投影光学系と基板との間に液浸領域が十分に形成されない場合が起きるという問題も生じることが解明されてきた。 However, because this will initiate the supply of the liquid from the other direction to stop suddenly the supply of the liquid from one direction to the switching time of the projection area, the vibration of the liquid between the projection optical system and the substrate (so-called water hammer phenomenon) occurs or vibration to the liquid supply unit itself (such as a supply tube or supply nozzle) occurs, or there is a problem of causing deterioration of the pattern image, also, one with respect to the projection area since it is configured to flow the liquid from the direction, if the liquid immersion area is not sufficiently formed it has been revealed that also occurs a problem that occurs between the projection optical system and the substrate.

また、上記従来技術では、液体を回収する回収部は前記基板の移動方向に流れる液体の下流側のみで液体を回収する構成であるため、液体を十分に回収できない場合があるという問題も生じるようになった。 Further, in the conventional art, since recovery unit which recovers the liquid is configured to recover the liquid only downstream of the liquid flowing in the moving direction of the substrate, also occurs as a problem that there may not be sufficiently recover the liquid Became. 液体を十分に回収できないと基板上に液体が残存し、この残存した液体に起因して露光ムラの発生を引き起こすおそれが生じる。 Failure to adequately recover the liquid liquid is left on the substrate, there is a risk of causing the generation of exposure unevenness due to the remaining liquid. また、液体を十分に回収しきれないと、残存した液体が周辺の機械部品に飛散し、錆を生じさせる等の不都合も生じる。 In addition, when not be sufficiently recover the liquid, the remaining liquid is scattered to the machine parts surrounding, also occurs problems such as causing rust. 更に、液体が残存したり飛散したりすると、基板がおかれている環境(湿度など)の変動をもたらし、ステージ位置計測に用いる光干渉計の検出光の光路上の屈折率の変化を引き起こすなどに起因して、所望のパターン転写精度を得られなくなるおそれも生じる。 Furthermore, the liquid or scattered or left results in the variation of the environment (such as humidity) in which the substrate is placed, and causes a change in the refractive index of the detection light on the optical path of the optical interferometer used in stage position measurement due to, you it also occurs that can not be obtained a desired pattern transfer accuracy.

また、上記従来技術では、基板の移動方向の切替えに応じて、液体を回収する位置(ノズル)も切替えるようになっているだけでなく、液体回収ノズルによって基板上の液体を回収する際に、液体回収装置自体(回収管や回収ノズルなど)に振動が発生する可能性がある。 Further, in the prior art, in accordance with the switching of the direction of movement of the substrate, the position for recovering the liquid (nozzles) even not only made as a switch, when recovering the liquid on the substrate by the liquid recovery nozzle, vibration to the liquid recovery unit itself (such as a recovery pipe or the recovery nozzle) may occur. その振動が投影光学系や、基板ステージ、あるいは基板ステージの位置を計測するための干渉計の光学部材などに伝わると、基板上に回路パターンを精度良く形成できない虞がある。 The vibration is and the projection optical system, a substrate stage, or when transmitted like the optical member of the interferometer for measuring the position of the substrate stage, there is a risk that can not be accurately form a circuit pattern on the substrate.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際、液浸領域を安定して形成できるとともにこの液体を良好に回収でき、周辺への液体の流出や飛散等を防止して精度良く露光処理できる露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供することを目的とする。 The present invention was made in view of such circumstances, when the exposure process in a state of forming a liquid immersion area between the projection optical system and the substrate, this together with the liquid immersion area can be formed stably liquid can satisfactorily recover, accuracy exposure processing can exposure apparatus is prevented from flowing out or scattering, etc. of the liquid to the periphery, and an object thereof is to provide an exposure method and device manufacturing method. また、本発明は、投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際、液体の供給あるいは回収の際に生じる振動の影響を受けずに、精度良く露光処理できる露光装置、及びデバイス製造方法を提供することを目的とする。 Further, the present invention is, when the exposure process in a state of forming a liquid immersion area between the projection optical system and the substrate, without being affected by the vibration generated during the supply or recovery of the liquid, can be precisely exposure exposure apparatus, and an object to provide a device manufacturing method.

上記の課題を解決するため、本発明は実施の形態に示す図1〜図21に対応付けした以下の構成を採用している。 To solve the above problems, the present invention adopts the following constructions corresponding to Figs. 1 to 21 as illustrated in embodiments. 但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定する意図は無い。 However, parenthesized reference numerals affixed to respective elements merely exemplify the elements by way of example, it is not intended to limit the respective elements.

本発明の第1の態様に従えば、所定パターンの像を液体(1)を介して基板(P)に投影することによって基板を露光する露光装置であって: According to a first aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting onto the substrate (P) through a liquid (1) an image of a predetermined pattern:
前記パターンの像を基板に投影する投影光学系(PL)と; A projection optical system for projecting an image of the pattern on the substrate and (PL);
投影光学系(PL)の投影領域(AR1)を含む基板(P)上の一部に液浸領域(AR2)を形成するために、投影領域(AR1)に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で基板(P)上に液体(1)の供給を同時に行う液体供給機構(10、11、12、13、13A、14、14A)とを備える露光装置(EX)が提供される。 To form the projection optical system liquid immersion area (AR2) on a part of the substrate (P) including a projection area (AR1) of (PL), spaced plurality of different directions with respect to the projection area (AR1) simultaneously the liquid supply mechanism (10,11,12,13,13A, 14,14A) the supply of the liquid (1) onto the substrate (P) at a plurality of positions exposure apparatus and a (EX) is provided.

本発明によれば、液浸領域を形成するための液体供給機構は、投影領域に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で(すなわち、投影領域の異なる複数の側、例えば、矩形の投影領域であればX側、−X側、+Y側、−Y側の少なくとも二つの側から)液体の供給を同時に行うので、投影光学系と基板との間に所望の液浸領域を形成できる。 According to the present invention, the liquid supply mechanism for forming the liquid immersion area, in a plurality of locations spaced in a plurality of different directions with respect to the projection area (i.e., a plurality of different sides of the projection area, for example, rectangular if the projection area X side, -X side, + Y side, at least two sides of the -Y side) since the supply of the liquid at the same time, form the desired liquid immersion area between the projection optical system and the substrate . また、複数の方向に離れた複数の位置で液体の供給を同時に行うようにしたので、基板を移動しながら露光処理する際、基板の移動方向を変えても常に液浸領域を良好に形成できる。 Also, since to carry out the supply of the liquid at a plurality of locations spaced in a plurality of directions simultaneously, when the exposure process while moving the substrate can be satisfactorily formed always immersion region by changing the direction of movement of the substrate . 投影領域の両側で同時に液体を供給するようにすれば、液体の供給位置を切り替える必要が無くなるので、液体の振動(ウォーターハンマー現象)の発生を防止することができ、パターン像を基板上に精度良く投影することができる。 If to simultaneously supply liquid on both sides of the projection area, since it is not necessary to switch the supply position of the liquid, it is possible to prevent the occurrence of the vibration of the liquid (water hammer phenomenon), precision pattern image on a substrate it is possible to improve projection.

本発明の第2の態様に従えば、所定パターンの像を液体(1)を介して基板(P)に投影することによって基板を露光する露光装置であって: According to a second aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting onto the substrate (P) through a liquid (1) an image of a predetermined pattern:
前記パターンの像を基板に投影する投影光学系(PL)と; A projection optical system for projecting an image of the pattern on the substrate and (PL);
投影光学系(PL)の投影領域(AR1)を含む基板(P)上の一部に液浸領域(AR2)を形成するために基板(P)上に液体(1)を供給する液体供給機構(10、11、12、13、13A、14、14A)と; A liquid supply mechanism which supplies the liquid (1) onto the substrate (P) to form a liquid immersion area (AR2) on a part of the substrate (P) including a projection area of ​​the projection optical system (PL) (AR1) (10,11,12,13,13A, 14,14A) and;
投影領域(AR1)に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で基板(P)上の液体(1)の回収を同時に行う液体回収機構(20、21、22、22A)とを備える露光装置(EX)が提供される。 Exposure and a liquid recovery mechanism for recovering the liquid on the substrate (P) at a plurality of locations spaced in a plurality of different directions with respect to the projection area (AR1) (1) at the same time (20,21,22,22A) apparatus (EX) is provided.

本発明によれば、液体を回収するための液体回収機構は、投影領域に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で(すなわち、投影領域の異なる複数の側、例えば、矩形の投影領域であればX側、−X側、+Y側、−Y側の少なくとも二つの側から)液体の回収を同時に行うので、液体の回収を確実に行うことができる。 According to the present invention, the liquid recovery mechanism for recovering the liquid is a plurality of locations spaced in a plurality of different directions with respect to the projection area (i.e., a plurality of different sides of the projection area, for example, a rectangular projection area if X side, -X side, + Y side, at least two sides of the -Y side) since the recovery of the liquid at the same time, it is possible to reliably recover the liquid. したがって、基板上に液体が残存する状態の発生を防止でき、露光ムラの発生や基板がおかれている環境が変動するのを防止でき、パターン像を基板上に精度良く投影することができる。 Therefore, it is possible to avoid the occurrence of a state in which the liquid remains on the substrate, it can be prevented environment generation and substrate exposure unevenness is placed that fluctuates, it is possible to accurately project the pattern image onto the substrate.

本発明の第3の態様に従えば、所定パターンの像を液体(1)を介して基板(P)に投影することによって基板を露光する露光装置であって: According to a third aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting onto the substrate (P) through a liquid (1) an image of a predetermined pattern:
前記パターンの像を基板に投影する投影光学系(PL)と; A projection optical system for projecting an image of the pattern on the substrate and (PL);
投影光学系(PL)の投影領域(AR1)を含む基板(P)上の一部に液浸領域(AR2)を形成するために基板(P)上に液体(1)を供給する液体供給機構(10、11、12、13、13A、14、14A)と; A liquid supply mechanism which supplies the liquid (1) onto the substrate (P) to form a liquid immersion area (AR2) on a part of the substrate (P) including a projection area of ​​the projection optical system (PL) (AR1) (10,11,12,13,13A, 14,14A) and;
基板(P)上の液体(1)の回収を複数の位置で同時に行う液体回収機構(20、21、22、22A、22D、24)と;を備え、 Liquid recovery mechanism for performing simultaneous recovery of liquid on the substrate (P) (1) at a plurality of locations (20,21,22,22A, 22D, 24) and; equipped with,
液体回収機構(20、21、22、22A、22D、24)は液体回収位置に応じて異なる回収力で液体を回収する露光装置(EX)が提供される。 Liquid recovery mechanism (20,21,22,22A, 22D, 24) is an exposure apparatus (EX) is provided to recover the liquid at different recovery force depending on the liquid recovery position.

本発明によれば、液体の回収を基板上の複数の位置で同時に行う液体回収機構は、液体回収位置に応じて異なる回収力で液体を回収するので、液体回収動作を円滑に行うことができる。 According to the present invention, the liquid recovery mechanism for simultaneously recovering liquid at a plurality of locations on the substrate, since to recover the liquid at different recovery force depending on the liquid recovery position, it is possible to perform the liquid recovery operation smoothly . したがって、投影光学系と基板との間を適切な量の液体で満たすことができ、基板上の所望領域内に液浸領域を形成できる。 Thus, the space between the projection optical system and the substrate can be filled with an appropriate amount of liquid to form a liquid immersion area in a desired area on the substrate. 例えば、基板の移動(走査)方向に関して前方側(下流側)の液体の回収力を後方側(上流側)より大きく設定することで、液体回収動作を円滑に行うことができる。 For example, by setting larger than the rear side (upstream side) the recovery force of the liquid on the front side (downstream side) with respect to movement of the substrate (scanning) direction, it is possible to perform the liquid recovery operation smoothly. あるいは、基板の移動(走査)方向に沿った位置に配置された液体回収機構の液体回収力を、移動方向と交わる方向に沿った位置に配置された液体回収機構の液体回収力より大きくすることによっても液体回収動作を円滑に行うことができる。 Alternatively, movement of the substrate (scanning) the liquid recovery force of the deployed liquid recovery mechanism at a position along the direction to be larger than the liquid recovery force of the deployed liquid recovery mechanism at a position along the direction crossing the moving direction it is possible to smoothly perform the liquid recovery operation by.

本発明の第4の態様に従えば、所定パターンの像を液体(1)を介して基板(P)に投影することによって基板を露光する露光装置であって: According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting onto the substrate (P) through a liquid (1) an image of a predetermined pattern:
前記パターンの像を基板に投影する投影光学系(PL)と; A projection optical system for projecting an image of the pattern on the substrate and (PL);
投影光学系(PL)の投影領域(AR1)を含む基板(P)上の一部に液浸領域(AR2)を形成するために基板(P)上に液体(1)を供給する液体供給機構(10、11、12、13、13A、14、14A)と; A liquid supply mechanism which supplies the liquid (1) onto the substrate (P) to form a liquid immersion area (AR2) on a part of the substrate (P) including a projection area of ​​the projection optical system (PL) (AR1) (10,11,12,13,13A, 14,14A) and;
投影領域(AR1)から離れた回収位置で基板(P)上の液体(1)の回収を行う液体回収機構(20、21、22、22A)と; Liquid recovery mechanism for recovering the liquid on the substrate (P) (1) at the recovery position apart from the projection area (AR1) and (20,21,22,22A);
投影領域(AR1)に対して液体回収機構(20、21、22、22A)による液体回収位置の外側に配置され、液体(1)を捕捉する液体トラップ面(31)が形成されたトラップ部材(30)とを備える露光装置(EX)が提供される。 Projection area (AR1) is arranged outside the liquid recovery position by the liquid recovery mechanism (20,21,22,22A) relative to the trap member to a liquid trap surface for capturing the liquid (1) (31) was formed ( 30) and an exposure apparatus including a (EX) is provided.

本発明によれば、液体回収機構による液体回収位置の外側に、液体を捕捉する所定長さの液体トラップ面が形成されたトラップ部材を設けたことにより、仮に液体回収機構で液体が回収しきれなくてもこのトラップ部材により液体を捕捉することで、周囲への液体の流出や飛散等の不都合の発生を防止できる。 According to the present invention, the outside of the liquid recovery position by the liquid recovery mechanism, by providing the trap member in which the liquid trap surface having a predetermined length to capture the liquid is formed, completely if recovery liquid at the liquid recovery mechanism not even be to capture the liquid by the trap member, it is possible to prevent the occurrence of inconvenience of outflow and scattering and the like of the liquid to the surroundings. したがって、基板がおかれている環境の変動の発生を防止でき、所望のパターン精度でパターン像を基板に投影できる。 Therefore, it is possible to avoid the occurrence of variations in the environment in which the substrate is placed, can project the pattern image onto the substrate in a desired pattern accuracy.

本発明の第5の態様に従えば、所定パターンの像を液体(1)を介して基板(P)に投影することによって基板を露光する露光装置であって: According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting onto the substrate (P) through a liquid (1) an image of a predetermined pattern:
前記パターンの像を基板に投影する投影光学系(PL)と; A projection optical system for projecting an image of the pattern on the substrate and (PL);
投影光学系(PL)の投影領域(AR1)を含む基板(P)上の一部に液浸領域(AR2)を形成するために基板(P)上に液体(1)を供給する液体供給機構(10、11、12、13、13A、14、14A)と; A liquid supply mechanism which supplies the liquid (1) onto the substrate (P) to form a liquid immersion area (AR2) on a part of the substrate (P) including a projection area of ​​the projection optical system (PL) (AR1) (10,11,12,13,13A, 14,14A) and;
投影領域(AR1)から離れた回収位置で基板(P)上の液体(1)の回収を行う液体回収機構(20、21、22、22A)と;を備え、 Liquid recovery mechanism for recovering the liquid on the substrate (P) (1) at the recovery position apart from the projection area (AR1) and (20,21,22,22A); provided with,
液体供給機構(10、11、12、13、13A、14、14A)による液体(1)の供給は、液体回収機構(20、21、22、22A)の液体回収位置と投影領域(AR1)との間で行われる露光装置(EX)が提供される。 Liquid supply mechanism (10,11,12,13,13A, 14, 14A) supply by the liquid (1) includes a liquid recovery position of the liquid recovery mechanism (20,21,22,22A) and the projection area (AR1) an exposure device which is performed between the (EX) is provided.

本発明によれば、液体供給機構による液体の供給は液体回収機構の液体回収位置と投影領域との間で行われるので、液体は投影領域に円滑に供給されるとともに、供給された液体は基板上から円滑に回収することができる。 According to the present invention, since the supply of the liquid by the liquid supply mechanism is performed between the liquid recovery position and the projection area of ​​the liquid recovery mechanism, together with the liquid is smoothly supplied to the projection area, the supplied liquid substrate it is possible to smoothly recovered from the top.

本発明の第6の態様に従えば、所定パターンの投影光学系(PL)による像を液体(1)を介して基板(P)に投影することによって基板を露光する露光方法であって: According to a sixth aspect of the present invention, there is provided an exposure method for exposing a substrate by projecting a predetermined pattern of the projection optical system an image by (PL) onto the substrate (P) through a liquid (1):
投影光学系(PL)の先端の液体接触面(2a)との親和性が、基板(P)表面との親和性よりも高い液体(1)を、投影光学系(PL)の投影領域(AR1)を含む基板(P)上の一部に液浸領域(AR2)を形成するために供給することと; Affinity for the liquid contact surface of the end portion of the projection optical system (PL) (2a) is a substrate (P) affinity higher than liquid between the surface (1), the projection area (AR1 of the projection optical system (PL) ) and it is supplied to form the substrate (P) liquid immersion area (AR2) on a part of the containing;
前記液浸領域(AR2)に供給された液体(1)を介して所定パターンの像を基板(P)に投影すること;とを含む露光方法が提供される。 Projecting the image of a predetermined pattern on the substrate (P) through a liquid (1) supplied to the liquid immersion area (AR2); exposure method and a is provided.

本発明によれば、投影光学系の先端の液体接触面に液体を密着することができ、投影光学系と基板との間の光路を安定した液浸状態にすることが可能になるとともに、基板上の液体を円滑に回収することができる。 According to the present invention, it is possible to contact the liquid in the liquid contact surface of the tip of the projection optical system, it becomes possible to stabilize the liquid immersion state light path between the projection optical system and the substrate, the substrate it is possible to smoothly recover the liquid above.

本発明のデバイス製造方法は、上記態様の露光装置(EX)または露光方法を用いることを特徴とする。 A device manufacturing method of the present invention is characterized by using the exposure apparatus (EX) or the exposure method of the above embodiments. 本発明によれば、良好なパターン精度で形成されたパターンを有し、所望の性能を発揮できるデバイスを提供できる。 According to the present invention, has been formed with good pattern accuracy pattern can provide a device which can exhibit desired performance.

本発明の第7の態様に従えば、所定パターンの像を液体(1)を介して基板(P)に投影することによって基板を露光する露光装置であって: According to a seventh aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting onto the substrate (P) through a liquid (1) an image of a predetermined pattern:
前記パターンの像を基板に投影する投影光学系(PL)と; A projection optical system for projecting an image of the pattern on the substrate and (PL);
基板(P)上に液体(1)を供給する供給流路(94A、95A、94B、95B)を有する液体供給機構(10、11、12、41、42)と; Supply flow path for supplying the liquid (1) onto the substrate (P) (94A, 95A, 94B, 95B) and a liquid supply mechanism (10,11,12,41,42) having;
供給された液体を回収する回収流路(96A、97A、98A、99A、96B、97B、98B、99B、96T、97T、98T、99T)を有する液体回収機構(20、61、62、63、64、71、72、73、74)と;を備え、 Recovery flow path for recovering the supplied liquid (96A, 97A, 98A, 99A, 96B, 97B, 98B, 99B, 96T, 97T, 98T, 99T) liquid recovery mechanism having (20,61,62,63,64 , 71, 72, 73, 74) and; equipped with a,
前記供給流路と回収流路の少なくとも一方が、複数の板状部材(91、92、93)が積層された積層部材中に形成されている露光装置(EX)が提供される。 At least one of the supply flow path and recovery flow path, a plurality of plate members (91, 92, 93) is an exposure apparatus that is formed in the lamination members are laminated (EX) is provided.

液浸露光では、均一な液体流を液浸領域に供給し且つそこから回収することが必要となるが、本発明の露光装置が備える積層部材は、流路がそれぞれ形成された複数の板状部材を、それらの流路が連通して供給流路と回収流路の少なくとも一方をそれぞれ形成するように積層することによって形成することができる。 In immersion exposure, it is necessary to recover the uniform liquid flow therefrom and supplied to the liquid immersion area, lamination members exposure apparatus of the present invention comprises a plurality of plate shape flow paths are formed respectively member, can be those of the flow path is formed by laminating at least one of the supply channel communicates with the recovery flow path so as to form, respectively. それゆえ、複雑な流路構造であっても、極めてコンパクトに、容易に、しかも低コストで形成することが可能となる。 Therefore, even complicated channel structure, very compact, easily, yet it is possible to form at a low cost.

本発明の第8の態様に従えば、所定パターンの像を液体(1)を介して基板(P)に投影することによって基板を露光する露光装置であって: An eighth aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting onto the substrate (P) through a liquid (1) an image of a predetermined pattern:
前記パターンの像を基板に投影する投影光学系(PL)と; A projection optical system for projecting an image of the pattern on the substrate and (PL);
投影光学系(PL)の投影領域(AR1)を含む基板(P)上の一部に液浸領域(AR2)を形成するために基板(P)上に液体(1)を供給する液体供給機構(10)と;を備え、 A liquid supply mechanism which supplies the liquid (1) onto the substrate (P) to form a liquid immersion area (AR2) on a part of the substrate (P) including a projection area of ​​the projection optical system (PL) (AR1) (10) and; equipped with,
液体供給機構(10)は、投影光学系(PL)とは振動的に分離されている露光装置(EX)が提供される。 Liquid supply mechanism (10) is exposed are vibrationally separated apparatus (EX) is provided with the projection optical system (PL).

第8の態様に従う露光装置によれば、投影光学系と液体供給機構とは振動的に分離されているので、液体供給機構で振動が発生してもその振動は投影光学系には伝わらない。 According to the exposure apparatus according to the eighth aspect, since the projection optical system and the liquid supply mechanism are vibrationally separated, the vibration is not transmitted to the projection optical system also vibrates in the liquid supply mechanism occurs. したがって、投影光学系が振動することでパターン像が劣化するといった不都合の発生を防止でき、パターン像を基板上に精度良く投影することができる。 Therefore, it is possible to avoid the occurrence of inconvenience projection optical system is deteriorated pattern image by vibration, it is possible to accurately project the pattern image onto the substrate.

露光装置は、さらに、投影光学系(PL)を支持する第1支持部材(100)と、第1支持部材(100)と振動的に分離され、液体供給機構(10)を支持する第2支持部材(102)とを備え得る。 The exposure apparatus further includes a first support member for supporting the projection optical system (PL) (100), are vibrationally separated from the first support member (100), a second support for supporting the liquid supply mechanism (10) It may comprise a member (102). この構造によれば、投影光学系を支持する第1支持部材と、液体供給機構を支持する第2支持部材とは振動的に分離されているので、液体供給機構で発生した振動は投影光学系には伝わらない。 According to this structure, the first support member for supporting the projection optical system, since the second support member for supporting the liquid supply mechanism are vibrationally separated, vibrations generated by the liquid supply mechanism projection optical system not transmitted to the. また、例えば基板ステージの位置情報を計測するための干渉計を第1支持部材に取り付けたり、参照鏡(固定鏡)を投影光学系の鏡筒に取り付ける等の構成とすることで、これら干渉計や参照鏡には振動が伝わらないので、基板ステージの位置情報の計測やその計測結果に基づく位置制御を精度良く行うことができる。 Further, for example, or attached an interferometer for measuring the position information of the substrate stage to the first support member, the reference mirror (fixed mirror) In the structure of such attachment to the barrel of the projection optical system, these interferometers since not transmitted vibration in or reference mirror, a position control based on the measurement and the measurement results of the position information of the substrate stage can be performed accurately.

本発明の第9の態様に従えば、所定パターンの像を液体(1)を介して基板(P)に投影することによって基板を露光する露光装置であって: According to a ninth aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting onto the substrate (P) through a liquid (1) an image of a predetermined pattern:
前記パターンの像を基板に投影する投影光学系(PL)と; A projection optical system for projecting an image of the pattern on the substrate and (PL);
投影光学系(PL)の投影領域(AR1)を含む基板(P)上の一部に供給された液体(1)を回収する液体回収機構(20)と;を備え、 Liquid recovery mechanism for recovering the projection optical system (PL) liquid is supplied to a part of a substrate (P) including a projection area (AR1) of (1) and (20); provided with,
液体回収機構(20)は、投影光学系(PL)とは振動的に分離されている露光装置(EX)が提供される。 The liquid recovery mechanism (20) is exposed are vibrationally separated apparatus (EX) is provided with the projection optical system (PL).

本発明の第9の態様の露光装置によれば、投影光学系と液体回収機構とは振動的に分離されているので、液体回収機構で振動が発生してもその振動は投影光学系には伝わらない。 According to the exposure apparatus of the ninth aspect of the present invention, since the projection optical system and the liquid recovery mechanism are vibrationally separated, its vibration vibrates in the liquid recovery mechanism occurs in the projection optical system not transmitted. したがって、投影光学系が振動することでパターン像が劣化するといった不都合の発生を防止でき、パターン像を基板上に精度良く投影することができる。 Therefore, it is possible to avoid the occurrence of inconvenience projection optical system is deteriorated pattern image by vibration, it is possible to accurately project the pattern image onto the substrate.

第9の態様の露光装置(EX)は、さらに、投影光学系(PL)を支持する第1支持部材(100)と、第1支持部材(100)と振動的に分離され、液体回収機構(20)を支持する第2支持部材(102)とを備え得る。 The exposure apparatus of the ninth aspect (EX) is further projection optical system and the first supporting member for supporting the (PL) (100), are vibrationally separated from the first support member (100), the liquid recovery mechanism ( It may comprise a second support member for supporting (102) 20). この構成によれば、投影光学系を支持する第1支持部材と、液体回収機構を支持する第2支持部材とは振動的に分離されているので、液体回収機構で発生した振動は投影光学系には伝わらない。 According to this arrangement, a first support member for supporting the projection optical system, since the second support member for supporting the liquid recovery mechanism are vibrationally separated, vibrations generated by the liquid recovery mechanism is a projection optical system not transmitted to the. また、例えば基板ステージの位置情報を計測するための干渉計を第1支持部材に取り付けたり、参照鏡(固定鏡)を投影光学系の鏡筒に取り付ける等の構成とすることで、これら干渉計や参照鏡には振動が伝わらないので、基板ステージの位置情報の計測やその計測結果に基づく位置制御を精度良く行うことができる。 Further, for example, or attached an interferometer for measuring the position information of the substrate stage to the first support member, the reference mirror (fixed mirror) In the structure of such attachment to the barrel of the projection optical system, these interferometers since not transmitted vibration in or reference mirror, a position control based on the measurement and the measurement results of the position information of the substrate stage can be performed accurately.

本発明の第10の態様に従えば、所定パターンの像を液体(1)を介して基板(P)に投影し、該基板上の複数のショット領域を順次露光する露光装置であって: According to a tenth aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus for projecting on a substrate (P), successively exposing a plurality of shot areas on the substrate through a liquid (1) an image of a predetermined pattern:
前記パターンの像を基板に投影する投影光学系(PL)と; A projection optical system for projecting an image of the pattern on the substrate and (PL);
投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために、前記基板と対向するように配置された供給口(13A、14A)から液体を供給する液体供給機構(10、11、12、13、14)と;を備え、 In order to form the liquid immersion area on a part of the substrate including a projection area of ​​the projection optical system, the substrate opposed to so arranged feed opening (13A, 14A) for supplying liquid from a liquid supply mechanism (10 , 11, 12, 13, 14) and; equipped with a,
前記液体供給機構は、前記基板上の複数のショット領域の露光処理が行なわれている間に前記供給口から液体を供給し続ける露光装置(EX)が提供される。 The liquid supply mechanism, the exposure apparatus continue to supply liquid from the supply port (EX) is provided between the exposure processing of a plurality of shot areas on the substrate are performed.

本発明の第10の態様の露光装置によれば、基板上の複数のショット領域の露光処理が行なわれている間、基板の移動方向などに因らず、所定位置に配置された供給口から液体の供給をし続けるので、液体供給機構自身の振動や液体の振動(ウォーターハンマー現象)を防止することができ、パターン像を基板上に精度良く投影することができる。 According to a tenth aspect of the exposure apparatus of the present invention, while the exposure processing of a plurality of shot areas on the substrate are performed, irrespective etc. in the moving direction of the substrate, from the supply port disposed in a predetermined position since keeps the supply of the liquid, it is possible to prevent vibration of the vibration and the liquid of the liquid supply mechanism itself (water hammer phenomenon), it is possible to accurately project the pattern image onto the substrate.

本発明の第11の態様に従えば、所定パターンの像を液体(1)を介して基板(P)に投影し、該基板上の複数のショット領域を順次露光する露光装置であって: According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus for projecting on a substrate (P), successively exposing a plurality of shot areas on the substrate through a liquid (1) an image of a predetermined pattern:
前記パターンの像を基板に投影する投影光学系(PL)と; A projection optical system for projecting an image of the pattern on the substrate and (PL);
投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために所定位置に配置された供給口(13A、14A)から液体を供給する液体供給機構(10、11、12、13、14)と; Liquid supply mechanism (10, 11, 12 for supplying liquid from the arranged supply ports (13A, 14A) at a predetermined position in order to form the liquid immersion area on a part of the substrate including a projection area of ​​the projection optical system, 13, 14) and;
前記基板と対向するように配置された回収口(22A)を有し、前記液体供給機構から供給された液体を回収する液体回収機構(20、21、22)と;を備え、 Comprising a; the substrate and arranged opposite to the recovery port has (22A), the liquid recovery mechanism for recovering the supplied liquid and (20, 21, 22) from the liquid supply mechanism
前記液体回収機構は、前記基板上の複数のショット領域の露光処理が行なわれている間に前記回収口から液体を回収し続ける露光装置(EX)が提供される。 The liquid recovery mechanism, the exposure apparatus to continue to recover the liquid from the collection port (EX) is provided between the exposure processing of a plurality of shot areas on the substrate are performed.

本発明の第11の態様の露光装置によれば、基板上の複数のショット領域の露光処理が行なわれている間、基板の移動方向などに因らず、回収口から液体の回収をし続けるので、液体をより確実に回収することができ、回収の停止や開始に伴う振動が抑制され、パターン像を基板上に精度良く投影することができる。 According to the exposure apparatus of the eleventh aspect of the present invention, while the exposure processing of a plurality of shot areas on the substrate are performed, irrespective etc. in the moving direction of the substrate, keeps the collected liquid from the collection port because, it is possible to reliably recover the liquid, the vibration caused by the stopping and starting of recovery is suppressed, it is possible to accurately project the pattern image onto the substrate.

本発明のデバイス製造方法は、上記態様の露光装置(EX)を用いることを特徴とする。 A device manufacturing method of the present invention is characterized by using the exposure apparatus of the above aspect of (EX). 本発明によれば、良好なパターン精度で形成されたパターンを有し、所望の性能を発揮できるデバイスを提供できる。 According to the present invention, has been formed with good pattern accuracy pattern can provide a device which can exhibit desired performance.

本発明によれば、投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際にも精度良く露光処理できる。 According to the present invention, it can be accurately exposure processing even when exposing process while forming the liquid immersion area between the projection optical system and the substrate.

本発明によれば、液浸法を用いて、投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際にも精度良く露光処理できる。 According to the present invention, by using the liquid immersion method, it can be accurately exposure processing even when exposing process while forming the liquid immersion area between the projection optical system and the substrate.

以下、本発明の露光装置について図面を参照しながら説明する。 It will be described below with reference to the accompanying drawings exposure apparatus of the present invention. 図1は本発明の露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。 Figure 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an exposure apparatus of the present invention.

図1において、露光装置EXは、マスクMを支持するマスクステージMSTと、基板Pを支持する基板ステージPSTと、マスクステージMSTに支持されているマスクMを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターン像を基板ステージPSTに支持されている基板Pに投影露光する投影光学系PLと、露光装置EX全体の動作を統括制御する制御装置CONTとを備えている。 1, the exposure apparatus EX includes a mask stage MST which supports a mask M, a substrate stage PST which supports a substrate P, an illumination optical system IL which illuminates the mask M supported by the mask stage MST with exposure light EL When the projection optical system PL which the pattern image of the mask M illuminated with the exposure light EL onto exposed on the substrate P that is supported by the substrate stage PST, and a control unit CONT which collectively controls the overall operation of the exposure apparatus EX It is provided.

また、本実施形態の露光装置EXは、露光波長を実質的に短くして解像度を向上するとともに焦点深度を実質的に広くするために液浸法を適用した液浸露光装置であって、基板P上に液体1を供給する液体供給機構10と、基板P上の液体1を回収する液体回収機構20とを備えている。 The exposure apparatus EX of the present embodiment, the exposure wavelength to a liquid immersion exposure apparatus that applies the liquid immersion method to substantially widen the depth of focus is improved substantially shortened by resolution, substrate a liquid supply mechanism 10 supplies the liquid 1 onto the P, and a liquid recovery mechanism 20 which recovers the liquid 1 on the substrate P. 露光装置EXは、少なくともマスクMのパターン像を基板P上に転写している間、液体供給機構10から供給した液体1により投影光学系PLの投影領域AR1を含む基板P上の一部に液浸領域AR2を形成する。 The exposure apparatus EX, the liquid on a part of the substrate P including the projection area AR1 of the projection optical system PL while, the liquid 1 supplied from the liquid supply mechanism 10 that the transfer of the pattern image of at least the mask M onto the substrate P to form the immersion area AR2. 具体的には、露光装置EXは、投影光学系PLの先端部の光学素子2と基板Pの表面との間に液体1を満たし、この投影光学系PLと基板Pとの間の液体1及び投影光学系PLを介してマスクMのパターン像を基板P上に投影し、基板Pを露光する。 Specifically, the exposure apparatus EX, the liquid 1 filled between the tip portion of the optical element 2 and the substrate P on the surface of the projection optical system PL, and the liquid 1 between the projection optical system PL and the substrate P the pattern image of the mask M is projected onto the substrate P via the projection optical system PL, to expose the substrate P.

ここで、本実施形態では、露光装置EXとしてマスクMと基板Pとを走査方向における互いに異なる向き(逆方向)に同期移動しつつマスクMに形成されたパターンを基板Pに露光する走査型露光装置(所謂スキャニングステッパ)を使用する場合を例にして説明する。 In the present embodiment, mutually different orientations (reverse) to a scanning exposure for exposing a pattern formed on the mask M while synchronously moving the substrate P and the mask M and the substrate P in the scanning direction as the exposure apparatus EX when using apparatus (so-called scanning stepper) is described as an example. 以下の説明において、投影光学系PLの光軸AXと一致する方向をZ軸方向、Z軸方向に垂直な平面内でマスクMと基板Pとの同期移動方向(走査方向)をX軸方向、Z軸方向及びY軸方向に垂直な方向(非走査方向)をY軸方向とする。 In the following description, the optical axis AX as the Z-axis direction and a direction matching of the projection optical system PL, and the synchronous movement direction (scanning direction) of the X-axis direction between the mask M and the substrate P in the Z axis direction perpendicular to the plane, Z-axis direction and the Y-axis direction perpendicular to the direction (non-scanning direction) is the Y-axis direction. また、X軸、Y軸、及びZ軸まわり方向をそれぞれ、θX、θY、及びθZ方向とする。 Further, X-axis, Y-axis, and Z-axis directions, respectively, .theta.X, [theta] Y, and the θZ direction. なお、ここでいう「基板」は半導体ウエハ上に感光性材料であるフォトレジストを塗布したものを含み、「マスク」は基板上に縮小投影されるデバイスパターンを形成されたレチクルを含む。 The term "substrate" referred to herein includes those obtained by coating a photoresist as a photosensitive material on a semiconductor wafer, and the term "mask" includes a reticle formed with a device pattern that is reduction projected onto the substrate.

照明光学系ILはマスクステージMSTに支持されているマスクMを露光光ELで照明するものであり、露光用光源、露光用光源から射出された光束の照度を均一化するオプティカルインテグレータ、オプティカルインテグレータからの露光光ELを集光するコンデンサレンズ、リレーレンズ系、露光光ELによるマスクM上の照明領域をスリット状に設定する可変視野絞り等を有している。 The illumination optical system IL is intended to illuminate the mask M supported by the mask stage MST with exposure light EL, the exposure light source, an optical integrator for uniforming the illuminance of a light flux emitted from the exposure light source, from the optical integrator a condenser lens for condensing the exposure light EL, relay lens system, and the illumination area on the mask M illuminated with the exposure light EL and a variable field diaphragm which sets a slit shape. マスクM上の所定の照明領域は照明光学系ILにより均一な照度分布の露光光ELで照明される。 The predetermined illumination area on the mask M is illuminated with the exposure light EL having a uniform illuminance distribution by the illumination optical system IL. 照明光学系ILから射出される露光光ELとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)や、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)及びF レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV光)などが用いられる。 As the exposure light EL emitted from the illumination optical system IL, for example, for example, emission lines in the ultraviolet region emitted from a mercury lamp (g-rays, h-rays, i-rays) and KrF excimer laser beam (wavelength 248 nm) far ultraviolet light, such as ( DUV light) and, ArF excimer laser light (wavelength 193 nm) and F 2 laser beam (wavelength 157 nm) vacuum ultraviolet light (VUV light) and the like. 本実施形態においてはArFエキシマレーザ光が用いられる。 ArF excimer laser light is used in this embodiment.

マスクステージMSTはマスクMを支持するものであって、投影光学系PLの光軸AXに垂直な平面内、すなわちXY平面内で2次元移動可能及びθZ方向に微小回転可能である。 The mask stage MST has been made to support the mask M, the plane perpendicular to the optical axis AX of the projection optical system PL, that is, finely rotatable in the two-dimensional movable and θZ directions in the XY plane. マスクステージMSTはリニアモータ等のマスクステージ駆動装置MSTDにより駆動される。 The mask stage MST is driven by mask stage driving unit MSTD such as a linear motor. マスクステージ駆動装置MSTDは制御装置CONTにより制御される。 The mask stage driving unit MSTD is controlled by the controller CONT. マスクステージMST上には移動鏡50が設けられている。 Moving mirror 50 is provided on the mask stage MST. また、移動鏡50に対向する位置にはレーザ干渉計51が設けられている。 A laser interferometer 51 is provided at a position opposed to the movement mirror 50. マスクステージMST上のマスクMの2次元方向の位置、及び回転角はレーザ干渉計51によりリアルタイムで計測され、計測結果は制御装置CONTに出力される。 Dimensional position of the mask M on the mask stage MST, and the angle of rotation are measured in real time by the laser interferometer 51, the measurement results are output to the control unit CONT. 制御装置CONTはレーザ干渉計51の計測結果に基づいてマスクステージ駆動装置MSTDを駆動することでマスクステージMSTに支持されているマスクMの位置決めを行う。 The control apparatus CONT performs positioning of the mask M supported on the mask stage MST by driving the mask stage drive apparatus MSTD based on the measurement results of the laser interferometer 51.

投影光学系PLはマスクMのパターンを所定の投影倍率βで基板Pに投影露光するものであって、基板P側の先端部に設けられた光学素子(レンズ)2を含む複数の光学素子で構成されており、これら光学素子は鏡筒PKで支持されている。 Projection optical system PL has been made to the projection exposure onto the substrate P a pattern of the mask M at a predetermined projection magnification beta, a plurality of optical elements including an optical element (lens) 2 provided at the tip portion of the substrate P side is configured, these optical elements are supported by a barrel PK. 本実施形態において、投影光学系PLは、投影倍率βが例えば1/4あるいは1/5の縮小系である。 In this embodiment, the projection optical system PL is a projection magnification β which is, for example, 1/4 or 1/5 of the reduction system. なお、投影光学系PLは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。 The projection optical system PL may be either a unity magnification system or an enlargement system. また、本実施形態の投影光学系PLの先端部の光学素子2は鏡筒PKに対して着脱(交換)可能に設けられており、光学素子2には液浸領域AR2の液体1が接触する。 Further, the optical element 2 at the end portion of the projection optical system PL of this embodiment is provided detachably with respect to the barrel PK (exchange), the liquid 1 of the liquid immersion area AR2 makes contact to the optical element 2 .

光学素子2は蛍石で形成されている。 The optical element 2 is formed of fluorite. 蛍石は水との親和性が高いので、光学素子2の液体接触面2aのほぼ全面に液体1を密着させることができる。 Since fluorite has a high affinity for water, it can be brought into close contact with the liquid 1 on substantially the entire surface of the liquid contact surface 2a of the optical element 2. すなわち、本実施形態においては光学素子2の液体接触面2aとの親和性が高い液体(水)1を供給するようにしているので、光学素子2の液体接触面2aと液体1との密着性が高く、光学素子2と基板Pとの間の光路を液体1で確実に満たすことができる。 That is, since so as to supply a high affinity liquid (water) 1 with the liquid contact surface 2a of the optical element 2 in the present embodiment, adhesion between the liquid contact surface 2a and the liquid 1 of the optical element 2 high, it is possible to fill the optical path between the optical element 2 and the substrate P securely with liquid 1. なお、光学素子2は水との親和性が高い石英であってもよい。 The optical element 2 may be a high quartz affinity for water. また光学素子2の液体接触面2aに親水化(親液化)処理を施して、液体1との親和性をより高めるようにしてもよい。 The hydrophilization liquid contact surface 2a of the optical element 2 is subjected to (lyophilic) treatment, it may be further enhance the affinity for the liquid 1.

基板ステージPSTは基板Pを支持するものであって、基板Pを基板ホルダを介して保持するZステージ52と、Zステージ52を支持するXYステージ53と、XYステージ53を支持するベース54とを備えている。 The substrate stage PST has been made to support the substrate P, a Z stage 52 which holds the substrate P via a substrate holder, an XY stage 53 which supports the Z stage 52, and a base 54 which supports the XY stage 53 It is provided. 基板ステージPSTはリニアモータ等の基板ステージ駆動装置PSTDにより駆動される。 The substrate stage PST is driven by a substrate stage-driving unit PSTD such as a linear motor. 基板ステージ駆動装置PSTDは制御装置CONTにより制御される。 The substrate stage-driving unit PSTD is controlled by the control unit CONT. Zステージ52を駆動することにより、Zステージ52に保持されている基板PのZ軸方向における位置(フォーカス位置)、及びθX、θY方向における位置が制御される。 By driving the Z stage 52, the position in the Z-axis direction of the substrate P held by the Z stage 52 (focus position), and .theta.X, located in the θY direction is controlled. また、XYステージ53を駆動することにより、基板PのXY方向における位置(投影光学系PLの像面と実質的に平行な方向の位置)が制御される。 Further, by driving the XY stage 53, the position in the XY direction of the substrate P (substantially parallel to the image plane position of the projection optical system PL) is controlled. すなわち、Zステージ52は、基板Pのフォーカス位置及び傾斜角を制御して基板Pの表面をオートフォーカス方式、及びオートレベリング方式で投影光学系PLの像面に合わせ込み、XYステージ53は基板PのX軸方向及びY軸方向における位置決めを行う。 That, Z stage 52, autofocusing the surface of the substrate P by controlling the focus position and inclination angle of the substrate P, and the auto-leveling system match an existing image plane of the projection optical system PL, XY stage 53 is the substrate P to position in the X-axis direction and the Y-axis direction. なお、ZステージとXYステージとを一体的に設けてよいことは言うまでもない。 It goes without saying that the Z stage and the XY stage may be integrally provided.

基板ステージPST(Zステージ52)上には、基板ステージPSTとともに投影光学系PLに対して移動する移動鏡55が設けられている。 On the substrate stage PST (Z stage 52), movable mirror 55 is provided to move relative to the projection optical system PL together with the substrate stage PST. また、移動鏡55に対向する位置にはレーザ干渉計56が設けられている。 A laser interferometer 56 is provided at a position opposed to the movement mirror 55. 基板ステージPST上の基板Pの2次元方向の位置、及び回転角はレーザ干渉計56によりリアルタイムで計測され、計測結果は制御装置CONTに出力される。 Dimensional position of the substrate P on the substrate stages PST, and the angle of rotation are measured in real time by the laser interferometer 56, the measurement results are output to the control unit CONT. 制御装置CONTはレーザ干渉計56の計測結果に基づいて基板ステージ駆動装置PSTDを駆動することで基板ステージPSTに支持されている基板Pの位置決めを行う。 Controller CONT performs positioning of substrate P supported by the substrate stage PST by driving the substrate stage drive apparatus PSTD based on the measurement results of the laser interferometer 56.

また、基板ステージPST(Zステージ52)上には、基板Pを囲むように補助プレート57が設けられている。 Further, on the substrate stage PST (Z stage 52), an auxiliary plate 57 is provided so as to surround the substrate P. 補助プレート57は基板ホルダに保持された基板Pの表面とほぼ同じ高さの平面を有している。 Auxiliary plate 57 has a plane of substantially the same height as the the surface of the substrate P held by the substrate holder. ここで、基板Pのエッジと補助プレート57との間には0.1〜2mm程度の隙間があるが、液体1の表面張力によりその隙間に液体1が流れ込むことはほとんどなく、基板Pの周縁近傍を露光する場合にも、補助プレート57により投影光学系PLの下に液体1を保持することができる。 Here, between the auxiliary plate 57 and the edge of the substrate P there is a gap of about 0.1 to 2 mm, hardly be liquid 1 flows into the gap owing to the surface tension of the liquid 1, the peripheral edge of the substrate P even when exposing the neighborhood, it is possible to hold the liquid 1 below the projection optical system PL by the auxiliary plate 57.

液体供給機構10は所定の液体1を基板P上に供給するものであって、液体1を供給可能な第1液体供給部11及び第2液体供給部12と、第1液体供給部11に流路を有する供給管11Aを介して接続され、この第1液体供給部11から送出された液体1を基板P上に供給する供給口13Aを有する第1供給部材13と、第2液体供給部12に流路を有する供給管12Aを介して接続され、この第2液体供給部12から送出された液体1を基板P上に供給する供給口14Aを有する第2供給部材14とを備えている。 Liquid supply mechanism 10 has been made to supply the predetermined liquid 1 onto the substrate P, a first liquid supply section 11 and the second liquid supply unit 12 capable of supplying the liquid 1, the flow to the first liquid supply unit 11 is connected via a supply pipe 11A having a road, the liquid 1 fed from this first liquid supply part 11 and the first supply member 13 having a supply port 13A for supplying onto the substrate P, the second liquid supply section 12 to be connected via a supply pipe 12A having a flow passage, and the liquid 1 fed from the second liquid supply section 12 and a second supply member 14 having a supply port 14A for supplying onto the substrate P. 第1、第2供給部材13、14は基板Pの表面に近接して配置されており、基板Pの面方向において互いに異なる位置に設けられている。 First and second supply members 13, 14 are arranged close to the surface of the substrate P, it is provided at different positions in the surface direction of the substrate P. 具体的には、液体供給機構10の第1供給部材13は投影領域AR1に対して走査方向一方側(−X側)に設けられ、第2供給部材14は他方側(+X側)に設けられている。 Specifically, the first supply member 13 of the liquid supply mechanism 10 is provided in the scanning direction one side with respect to the projection area AR1 (-X side), the second supply member 14 is provided on the other side (+ X side) ing.

第1、第2液体供給部11、12のそれぞれは、液体1を収容するタンク、及び加圧ポンプ等を備えており、供給管11A、12A及び供給部材13、14のそれぞれを介して基板P上に液体1を供給する。 Each of the first and second liquid supply sections 11, 12, a tank for accommodating the liquid 1, and provided with a pressure pump or the like, the substrate P via the respective supply pipe 11A, 12A and the supply members 13, 14 It supplies the liquid 1 above. また、第1、第2液体供給部11、12の液体供給動作は制御装置CONTにより制御され、制御装置CONTは第1、第2液体供給部11、12による基板P上に対する単位時間あたりの液体供給量をそれぞれ独立して制御可能である。 The first liquid supply operation of the second liquid supply unit 11, 12 is controlled by the control unit CONT, the control unit CONT first, liquid per unit time with respect to the upper substrate P by the second liquid supply sections 11, 12 It can control the amount supplied independently.

本実施形態において、液体1には純水が用いられる。 In the present embodiment, pure water is used for the liquid 1. 純水はArFエキシマレーザ光のみならず、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)も透過可能である。 Not only the ArF excimer laser light but, for example, emission lines in the ultraviolet region emitted from a mercury lamp (g-rays, h-rays, i-rays) and KrF excimer laser beam (wavelength 248 nm) deep ultraviolet light (DUV light beam) such as It can also be transparent.

液体回収機構20は基板P上の液体1を回収するものであって、基板Pの表面に近接して配置された回収口22Aを有する回収部材22と、この回収部材22に流路を有する回収管21Aを介して接続された液体回収部21とを備えている。 Liquid recovery mechanism 20 has been made to recover the liquid 1 on the substrate P, recovered with a recovery member 22 having the recovery port 22A disposed proximate to the surface of the substrate P, the flow path to the recovery member 22 and a liquid recovery section 21 which is connected via tubing 21A. 液体回収部21は例えば真空ポンプ等の吸引装置、及び回収した液体1を収容するタンク等を備えており、基板P上の液体1を回収部材22及び回収管21Aを介して回収する。 Liquid recovery unit 21 is for example a suction device such as a vacuum pump, and has a tank for accommodating the liquid 1 recovered, to recover the liquid 1 on the substrate P via the recovery member 22 and the recovery tube 21A. 液体回収部21の液体回収動作は制御装置CONTにより制御され、制御装置CONTは液体回収部21による単位時間あたりの液体回収量を制御可能である。 The liquid recovery operation of the liquid recovery section 21 is controlled by the control unit CONT, the control unit CONT is capable of controlling the liquid recovery amount per unit time by the liquid recovery unit 21.

また、液体回収機構20の回収部材22の外側には、液体1を捕捉する所定長さの液体トラップ面31が形成されたトラップ部材30が配置されている。 Further, on the outside of the recovery member 22 of the liquid recovery mechanism 20, the trap member 30 in which the liquid trap surface 31 having a predetermined length to capture the liquid 1 is formed are arranged.

図2は液体供給機構10及び液体回収機構20の概略構成を示す平面図、図3は一部破断して図示した斜視図である。 Figure 2 is a plan view showing a schematic configuration of the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20, FIG. 3 is a perspective view illustrating partially broken.

図2に示すように、投影光学系PLの投影領域AR1はY軸方向(非走査方向)を長手方向とする矩形状に設定されており、液体1が満たされた液浸領域AR2は投影領域AR1を含むように基板P上の一部に形成されている。 As shown in FIG. 2, the projection area AR1 of the projection optical system PL is set to a rectangular shape of the Y-axis direction (non-scanning direction) is the longitudinal direction, the liquid immersion area AR2 of the liquid 1 is satisfied projection area It is formed on a part of the substrate P so as to include the AR1. そして、投影領域AR1の液浸領域AR2を形成するための液体供給機構10の第1供給部材13は投影領域AR1に対して走査方向一方側(−X側)に設けられ、第2供給部材14は他方側(+X側)に設けられている。 The first supply member 13 of the liquid supply mechanism 10 for forming the liquid immersion area AR2 of the projection area AR1 is provided scanning direction one side with respect to the projection area AR1 (-X side), the second supply member 14 is provided on the other side (+ X side).

図2及び図3に示すように、第1、第2供給部材13、14は、第1、第2液体供給部11、12から送出された液体1を流通する内部空間(内部流路)13H、14Hと、内部空間13H、14Hを流通した液体1を基板P上に供給する供給口13A、14Aとをそれぞれ有している。 As shown in FIGS. 2 and 3, the first and second supply members 13, 14, first, an internal space for circulation of the liquid 1 fed from the second liquid supply sections 11, 12 (internal passage) 13H , 14H and has internal space 13H, the supply ports 13A supplies the liquid 1 that has flowed through 14H on the substrate P, and a 14A, respectively. なお、図3には第2液体供給部12は図示されていないが、構造は第1液体供給部11と同じである。 Incidentally, the second liquid supply unit 12 in FIG. 3 is not shown, the structure is the same as the first liquid supply unit 11. 第1、第2供給部材13、14の供給口13A、14Aはそれぞれ平面視略円弧状に形成されており、この供給口13A、14AのY軸方向におけるサイズは、少なくとも投影領域AR1のY軸方向におけるサイズより大きくなるように設定されている。 The first supply ports 13A of the second supply member 13, 14, 14A are formed in a planar view substantially circular arc shape, respectively, the supply ports 13A, the size in the Y-axis direction 14A, the Y-axis of at least the projection area AR1 It is set to be larger than the size in the direction. そして、平面視略円弧状に形成されている供給口13A、14Aは走査方向(X方向)に関して投影領域AR1を挟むように配置されている。 Then, the supply port 13A which is formed in a planar view substantially circular arc shape, 14A are arranged so as to sandwich the projection area AR1 in the scanning direction (X direction). 液体供給機構10は、供給口13A、14Aより、投影領域AR1に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置から、すなわち、矩形の投影領域AR1の異なる側(この例では、投影領域AR1の両側(+X方向側、−X方向側))から液体1を同時に供給する。 The liquid supply mechanism 10, the supply ports 13A, than 14A, a plurality of locations spaced different directions with respect to the projection area AR1, i.e., different sides (in this example, the rectangular projection area AR1, of the projection area AR1 both sides (+ X direction side, -X direction side) simultaneously supplies the liquid 1 from).

液体回収機構20の回収部材22は二重環状部材であって、基板Pの表面に向くように環状に連続的に形成された回収口22Aと、回収口22Aから回収された液体1を流通する環状の内部空間(内部流路)22Hとを有している。 Recovery member 22 of the liquid recovery mechanism 20 is a dual annular member, to distribution and recovery port 22A which is continuously formed into an annular shape so as to face to the surface of the substrate P, the liquid 1 recovered from the recovery port 22A annular internal space (internal flow passage) and a 22H. 液体回収機構20の回収部材22は液体回収機構10の供給部材13、14、及び投影領域AR1を取り囲むように配置されている。 Recovery member 22 of the liquid recovery mechanism 20 is arranged to surround the supply members 13, and the projection area AR1 of the liquid recovery mechanism 10. そして、回収部材22の内部にはこの内部空間22Hを周方向において複数の空間(分割空間)24に分割する仕切部材(仕切り)23が所定間隔で設けられている。 Then, the inside of the recovery member 22 the partition member (partition) 23 are provided at predetermined intervals to divide in the internal space 22H circumferential direction into a plurality of spaces (divided spaces) 24. すなわち、投影領域AR1を取り囲むように連続的に形成された回収口22Aの内部に仕切部材23が設けられた構成となっている。 That is, the partition member 23 has a structure which is provided in the continuously-formed recovery port 22A so as to surround the projection area AR1. 仕切部材23により分割された分割空間24のそれぞれは上下方向で貫通している。 Each of divided spaces 24 which are divided by the partition member 23 penetrates in the vertical direction. そして、回収部材22のうち、回収口22Aを有する下端部は基板Pの表面に近接され、一方、上端部は複数の分割空間24を空間的に集合する集合空間部であるマニホールド部25となっている。 Of the recovery member 22, the lower end having a recovery port 22A is close to the surface of the substrate P, on the other hand, the upper end portion a manifold portion 25 which is a set space for collection a plurality of divided spaces 24 spatially ing. そして、このマニホールド部25に回収管21Aの一端部が接続され、他端部が液体回収部21に接続されている。 Then, one end portion of the recovery tube 21A to the manifold 25 is connected, the other end is connected to the liquid recovery unit 21. 液体回収機構20は、液体回収部21を駆動することにより、回収口22A(回収部材22)及び回収管21Aを介して基板P上の液体1を回収する。 Liquid recovery mechanism 20 by driving the liquid recovery unit 21 recovers the liquid 1 on the substrate P via the recovery port 22A (recovery member 22) and the recovery tube 21A. すなわち、回収口22Aの設置位置が基板P上の液体1の回収を行う回収位置であり、液体回収機構20は投影領域AR1から離れた回収位置で基板P上の液体1の回収を行うようになっている。 That is, the installation position of the recovery port 22A is the recovery position for recovering the liquid 1 on the substrate P, the liquid recovery mechanism 20 to perform the recovery of the liquid 1 on the substrate P at the recovery position apart from the projection area AR1 going on. ここで、液体回収機構20の回収口22Aは平面視略円環状であって投影領域AR1を取り囲んだ構成となっている。 Here, the recovery port 22A of the liquid recovery mechanism 20 has a structure surrounding the projection area AR1 a substantially annular planar view. すなわち、回収口22Aは、矩形の投影領域AR1の4つの側(+X方向側、−X方向側、+Y方向側、−Y方向側)、換言すると投影領域AR1に対して直交する4つの方向に離れた4つの位置に存在している。 That is, the recovery port 22A is four sides of the rectangular projection area AR1 (+ X direction side, -X direction side, + Y direction side, -Y direction side), in other words to the four directions orthogonal to the projection area AR1 It is present in distant four positions. したがって、液体回収機構20は、投影領域AR1を取り囲むように設けられている回収口22Aより、投影領域AR1に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で基板P上の液体1の回収を同時に行うことができる。 Therefore, the liquid recovery mechanism 20, from the recovery port 22A provided to surround the projection area AR1, the recovery of the liquid 1 on the substrate P at a plurality of locations spaced in a plurality of different directions with respect to the projection area AR1 it can be carried out at the same time.

そして、液体供給機構10の第1、第2供給部材13、14それぞれの供給口13A、14Aの設置位置、すなわち基板P上に対する液体1の供給位置は、液体回収位置(回収口22Aの位置)と投影領域AR1との間に設けられた構成となっている。 Then, the first and second supply members 13, 14 each of the supply ports 13A, 14A installation position of the liquid supply mechanism 10, i.e., the supply position of the liquid 1 with respect to the upper substrate P, the liquid recovery position (the position of the recovery port 22A) It has a configuration which is provided between the projection area AR1 and. つまり、液体供給機構10による液体1の供給は、液体回収機構20の液体回収位置と投影領域AR1との間で行われる。 In other words, the supply of the liquid 1 by the liquid supply mechanism 10 is performed between the liquid recovery position of the liquid recovery mechanism 20 and the projection area AR1.

図4は基板Pに近接して配置された第1、第2供給部材13、14、及び回収部材22を示す要部拡大側断面図である。 4 first and second supply members 13, 14, and is an enlarged cross sectional side view of the collecting member 22 disposed in close proximity to the substrate P. 図4に示すように、液体供給機構10の第1、第2供給部材13、14それぞれの内部流路13H、14Hは基板Pの表面に対してほぼ垂直に設けられている。 As shown in FIG. 4, the first liquid supply mechanism 10, the second supply members 13, 14 each of the internal flow passage 13H, 14H are provided substantially perpendicularly to the surface of the substrate P. 同様に、液体回収機構20の回収部材22の内部流路22H(分割空間24)も、基板Pの表面に対してほぼ垂直に設けられている。 Similarly, the internal flow passage 22H of the recovery member 22 of the liquid recovery mechanism 20 (divided space 24) is also provided substantially perpendicularly to the surface of the substrate P. そして、第1、第2供給部材13、14による基板Pに対する液体1の供給位置(供給口13A、14Aの設置位置)は、液体回収機構20の液体回収位置(回収口22Aの設置位置)と投影領域AR1との間に設定されている。 The first, the supply position of the liquid 1 to the substrate P by the second supply members 13, 14 (supply ports 13A, 14A installation position of) the liquid recovery position of the liquid recovery mechanism 20 (installation position of the recovery port 22A) It is set between the projection area AR1. また、投影光学系PLと第1、第2供給部材13、14のそれぞれとは所定距離だけ離れて設けられているとともに、回収部材22と第1、第2供給部材13、14のそれぞれとも所定距離だけ離れて設けられている。 Further, the projection optical system PL and the first, together with the respective second supply members 13, 14 are provided a predetermined distance, the recovery member 22 and the first, predetermined with each of the second supply members 13, 14 distance away is provided. また、本実施形態では、基板Pの表面と供給口13A、14Aとの距離と、基板Pの表面と回収口22Aとの距離と、基板Pの表面と投影光学系PLの下端面との距離とはほぼ同じに設定されている。 Further, in the present embodiment, the distance between the surface of the substrate P supply port 13A, the distance between 14A, and the distance between the surface and the recovery port 22A of the substrate P, the surface of the substrate P and the lower end surface of the projection optical system PL It is set to be substantially the same as the. 換言すれば、供給口13A、14A、回収口22A、及び投影光学系PLの下端面それぞれのZ軸方向における位置(高さ)は同じに設定されている。 In other words, the supply ports 13A, 14A, the recovery port 22A, and the position in the Z axis direction lower end surface of each projection optical system PL (height) is set to be the same.

そして、第1、第2供給部材13、14の供給口13A、14Aから基板Pに、基板面に対してほぼ垂直方向から供給された液体1は、投影光学系PLの先端部(光学素子2)の下端面と基板Pとの間に濡れ拡がるように供給される。 The first supply ports 13A of the second supply members 13, 14, from 14A to the substrate P, the liquid 1 supplied from a direction substantially perpendicular to the substrate surface, the tip portion of the projection optical system PL (optical element 2 It supplied to wets and spreads between the lower end surface and the substrate P). また、投影領域AR1に対して供給部材13、14の外側に流出した液体1は、この供給部材13、14より投影領域AR1に対して外側に配置されている回収部材22の回収口22Aより基板面からほぼ垂直方向に回収(吸引)されるようになっている。 The liquid 1, which outflows to the outside of the supply members 13, 14 with respect to the projection area AR1, the substrate from the recovery port 22A of the recovery member 22 arranged outside with respect to the projection area AR1 from the supply members 13, 14 It is adapted to be recovered (sucked) in a substantially vertical direction from the surface.

ここで、液体供給機構10及び液体回収機構20を構成する各部材のうち少なくとも液体1が流通する部材は、例えばポリ四フッ化エチレン等の合成樹脂により形成されている。 Here, members of at least the liquid 1 flows out of the respective members constituting the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20 is formed by, for example, polytetrafluoroethylene such as synthetic resin. これにより、液体1に不純物が含まれることを抑制できる。 This can suppress to include impurities in the liquid 1.

液体回収機構20の回収部材22のうち投影領域AR1に対して外側には、液体回収機構20の回収部材22で回収しきれなかった液体1を捕捉する所定長さの液体トラップ面31が形成されたトラップ部材30が設けられている。 Outside with respect to the projection area AR1 of the recovery member 22 of the liquid recovery mechanism 20, a predetermined length of the liquid trap surface 31 to capture the liquid 1 which has not been recovered by the recovery member 22 of the liquid recovery mechanism 20 is formed trap member 30 is provided with. トラップ部材30は回収部材22の外側面に取り付けられている。 Trap member 30 is attached to the outer surface of the collection member 22. トラップ面31はトラップ部材30のうち基板P側を向く面(すなわち下面)であって、図4に示すように、水平面に対して傾斜している。 Trap surface 31 is a surface facing the substrate P side of the trap member 30 (i.e. the lower surface), as shown in FIG. 4, is inclined relative to the horizontal plane. 具体的には、トラップ面31は投影領域AR1(液浸領域AR2)に対して外側に向かうにつれて基板Pの表面に対して離れるように(上に向かうように)傾斜している。 Specifically, the trap surface 31 is away to the surface of the substrate P toward the outside with respect to the projection area AR1 (liquid immersion area AR2) (as directed upward) slope. トラップ部材30は、例えばステンレス等の金属により形成されている。 Trap member 30 is formed of a metal such as stainless steel.

図2に示すように、トラップ部材30は平面視環状部材であって、回収部材22に嵌合するように回収部材22の外側面に接続されている。 As shown in FIG. 2, the trap member 30 is a plan view annular member is connected to the outer surface of the collection member 22 to be fitted to the recovery member 22. そして、トラップ部材30のトラップ面31は投影領域AR1(液浸領域AR2)を取り囲むように配置されており、本実施形態におけるトラップ部材30及びこの下面のトラップ面31は平面視略楕円形状となっている。 Then, the trap surface 31 of the trap member 30 is arranged to surround the projection area AR1 (liquid immersion area AR2), the trap members 30 and the trap surface 31 of the lower surface in this embodiment is a planar view substantially elliptical shape ing. すなわち、トラップ部材30のトラップ面31は投影光学系PLの光軸AXを基準として、放射方向の長さがその位置に応じて異なるように設けられている。 That is, the trap surface 31 of the trap member 30 relative to the optical axis AX of the projection optical system PL, it is provided so that the length of the radiation directions are different depending on the position. 本実施形態では、走査方向(X軸方向)におけるトラップ面31の長さが、非走査方向(Y軸方向)に対して長くなっている。 In the present embodiment, the length of the trap surface 31 in the scanning direction (X axis direction) is longer than the non-scanning direction (Y axis direction). 更に具体的には、投影領域AR1のY軸方向中央部に対応する位置におけるトラップ面31の長さが最も長くなっている。 More specifically, the length of the trap surface 31 at a position corresponding to the Y-axis direction central portion of the projection area AR1 is the longest.

トラップ面31には、液体1との親和性を高める親液化処理(親水化処理)が施されている。 The trap surface 31, a lyophilic treatment for increasing affinity for the liquid 1 (hydrophilic treatment) is applied. 本実施形態において、液体1は水であるため、トラップ面31には水との親和性に応じた表面処理が施されている。 In this embodiment, the liquid 1 is because it is water, the trap surface 31 a surface treatment in accordance with the affinity for water is applied. なお、基板Pの表面には撥水性(接触角70〜80°程度)のArFエキシマレーザ用の感光材(例えば、東京応化工業株式会社製TARF-P6100)が塗布されており、トラップ面31の液体1に対する液体親和性が基板Pの表面の液体1に対する液体親和性よりも高くなっている。 Incidentally, the surface of the substrate P photosensitive material for ArF excimer laser repellent (about contact angle 70 to 80 °) (e.g., Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. TARF-P6100) are applied, the trap surface 31 liquid affinity for the liquid 1 is higher than the liquid affinity for the liquid 1 on the surface of the substrate P.

トラップ面31に対する表面処理は液体1の極性に応じて行われる。 Surface treatment for the trap surface 31 is performed depending on the polarity of the liquid 1. 本実施形態における液体1は極性の大きい水であるため、トラップ面31に対する親水化処理として、例えばアルコールなど極性の大きい分子構造の物質で薄膜を形成することで、このトラップ面31に対して親水性を付与する。 Since the liquid 1 in this embodiment is a great water polar, as a hydrophilic treatment for the trap surface 31, by forming a thin film for example, with a substance of high polarity molecular structure such as alcohol, hydrophilic with respect to the trap surface 31 to grant gender. あるいは、トラップ面31に対して、例えば処理ガスとして酸素(O )を用いてプラズマ処理するO プラズマ処理を施すことによっても親水性を付与することができる。 Alternatively, it is possible to impart hydrophilicity by applying against the trap surface 31, such as oxygen as a processing gas O 2 plasma treatment is plasma treatment using the (O 2). このように、液体1として水を用いる場合にはトラップ面31にOH基など極性の大きい分子構造を持ったものを表面に配置させる処理が望ましい。 Thus, the process of arranging the one having a larger molecular structures of the polar such as OH group on the trap surface 31 to the surface in the case where water is used as the liquid 1 is desirable. ここで、表面処理のための薄膜は液体1に対して非溶解性の材料により形成される。 Here, a thin film for the surface treatment is formed of a non-soluble material to liquid 1. また、親液化処理は、使用する液体1の材料特性に応じてその処理条件を適宜変更される。 Further, lyophilic treatment is appropriately be changed the processing conditions according to the material properties of the liquid 1 to be used.

次に、上述した露光装置EXを用いてマスクMのパターン像を基板Pに露光する方法について説明する。 Next, the pattern image of the mask M will be described a method for exposing the substrate P by using the exposure apparatus EX described above.

ここで、本実施形態における露光装置EXは、マスクMと基板PとをX軸方向(走査方向)に移動しながらマスクMのパターン像を基板Pに投影露光するものであって、走査露光時には、投影光学系PLの先端部直下の矩形状の投影領域AR1にマスクMの一部のパターン像が投影され、投影光学系PLに対して、マスクMが−X方向(又は+X方向)に速度Vで移動するのに同期して、XYステージ53を介して基板Pが+X方向(又は−X方向)に速度β・V(βは投影倍率)で移動する。 Here, the exposure apparatus EX of the present embodiment, the pattern image of the mask M while moving the mask M and the substrate P in the X axis direction (scanning direction) be one which projection exposure onto the substrate P, when the scanning exposure is , part of the pattern image of the mask M in a rectangular projection area AR1 just under the tip portion of the projection optical system PL is projected, the speed relative to the projection optical system PL, the mask M is -X direction (or + X direction) synchronously to move in V, the substrate P via the XY stage 53 is the + X direction (or -X direction) velocity beta · V (beta is the projection magnification) moves. そして、図5の平面図に示すように、基板P上には複数のショット領域S1〜S12が設定されており、1つのショット領域への露光終了後に、基板Pのステッピング移動によって次のショット領域が走査開始位置に移動し、以下、ステップ・アンド・スキャン方式で基板Pを移動しながら各ショット領域に対する走査露光処理が順次行われる。 Then, as shown in the plan view of FIG. 5, on the substrate P are set a plurality of shot areas S1 to S12, after the exposure is completed for one shot area, the next shot area by the stepping movement of the substrate P There was moved to the scanning start position, hereinafter, the scanning exposure process for the respective shot areas while moving the substrate P is sequentially performed by the step-and-scan method. なお、本実施形態では、制御装置CONTは、投影光学系PLの光軸AXが図5の破線矢印58に沿って進むようにレーザ干渉計56の出力をモニタしつつXYステージ53を移動するものとする。 In the present embodiment, the control unit CONT, which optical axis AX of the projection optical system PL moves the XY stage 53 while monitoring the output of the laser interferometer 56 to travel along a broken line arrow 58 in FIG. 5 to.

まず、マスクMがマスクステージMSTにロードされるとともに、基板Pが基板ステージPSTにロードされる(図1参照)。 First, the mask M is loaded on the mask stage MST, the substrate P is loaded on the substrate stage PST (see Fig. 1). 次いで、走査露光処理を行うに際し、制御装置CONTは液体供給機構10を駆動し、基板P上に対する液体供給動作を開始する。 Then, when performing the scanning exposure process, the control unit CONT drives the liquid supply mechanism 10 to start the liquid supply operation with respect to the upper substrate P. 液浸領域AR2を形成するために液体供給機構10の第1、第2液体供給部11、12のそれぞれから供給された液体1は、供給管11A、12Aを流通した後、第1、第2供給部材13、14を介して基板P上に供給され、投影光学系PLと基板Pとの間に液浸領域AR2を形成する。 The first liquid supply mechanism 10 in order to form the liquid immersion area AR2, the liquid 1 supplied from the respective second liquid supply units 11 and 12, after flowing the supply pipe 11A, a 12A, first, second It is supplied onto the substrate P via the supply members 13, 14, to form the liquid immersion area AR2 between the projection optical system PL and the substrate P. ここで、図4に示すように、供給管11A、12Aを流通した液体1は供給部材13、14の内部流路13H、14Hの幅方向に拡がり、供給口13A、14Aより基板P上の広い範囲に供給される。 Here, as shown in FIG. 4, the supply pipe 11A, the liquid 1 that has flowed through 12A spreads in the width direction of the internal channel 13H, 14H of the supply members 13, 14, the supply ports 13A, wide on the substrate P than 14A It is supplied to the range. このとき、供給口13A、14Aは投影領域AR1のX軸方向(走査方向)両側に配置されており、制御装置CONTは、液体供給機構10の供給口13A、14Aより投影領域AR1の両側から基板P上への液体1の供給を同時に行う。 At this time, the supply ports 13A, 14A are arranged in the X axis direction (scanning direction) on both sides of the projection area AR1, the control unit CONT, the substrate from both sides of the supply port 13A, the projection than 14A area AR1 of the liquid supply mechanism 10 to supply the liquid 1 onto the P simultaneously.

液体供給機構10は、投影領域AR1の両側に設けられている供給口13A、14Aより、すなわち、投影領域AR1に対して異なる複数の方向(+X方向、−X方向)に離れた複数の位置から液体1を同時に供給する。 The liquid supply mechanism 10, the supply port 13A provided on both sides of the projection area AR1, than 14A, i.e., a plurality of different directions (+ X direction, -X direction) from a plurality of positions spaced with respect to the projection area AR1 It supplies the liquid 1 at the same time. これにより、供給口13A、14Aから基板P上に供給された液体1は液浸領域AR2を少なくとも投影領域AR1より広い範囲で形成する。 Thus, the supply ports 13A, liquid 1 supplied from 14A onto the substrate P is formed in a range wider than at least the projection area AR1 of the liquid immersion area AR2.

本実施形態において、投影領域AR1の走査方向両側から基板Pに対して液体1を供給する際、制御装置CONTは、液体供給機構10の第1、第2液体供給部11、12の液体供給動作を制御し、走査方向に関して、投影領域AR1の手前から供給する単位時間あたりの液体供給量を、その反対側で供給する液体供給量よりも多く設定する。 In this embodiment, when supplying the liquid 1 to the substrate P from the both sides in the scanning direction of the projection area AR1, the control unit CONT, the first liquid supply mechanism 10, the liquid supply operation of the second liquid supply sections 11, 12 controls, with respect to the scanning direction, the liquid supply amount per unit supplied time from the front of the projection area AR1, is set larger than the liquid supply amount supplied from the opposite side. 例えば、基板Pを+X方向に移動しつつ露光処理する場合、制御装置CONTは、投影領域AR1に対して−X側(すなわち供給口13A)からの液体量を、+X側(すなわち供給口14A)からの液体量より多くし、一方、基板Pを−X方向に移動しつつ露光処理する場合、投影領域AR1に対して+X側からの液体量を、−X側からの液体量より多くする。 For example, when the exposure process is performed while moving the substrate P in the + X direction, the control unit CONT, the liquid amount from the -X side with respect to the projection area AR1 (i.e. the supply ports 13A), + X side (i.e. the supply port 14A) and more than the liquid amount from the other hand, when the exposure process is performed while moving the substrate P in the -X direction, the liquid amount from the + X side with respect to the projection area AR1, is larger than the liquid amount from the -X side.

また、制御装置CONTは、液体回収機構20の液体回収部21を駆動し、液体供給機構10による液体1の供給動作と並行して、基板P上の液体回収動作を行う。 The control unit CONT drives the liquid recovery section 21 of the liquid recovery mechanism 20, in parallel with the supply operation of the liquid 1 by the liquid supply mechanism 10 performs the liquid recovery operation of the substrate P. これにより、図4に示すように、供給口13A、14Aより投影領域AR1に対して外側に流れる基板P上の液体1は、回収口22Aより回収される。 Thus, as shown in FIG. 4, the liquid 1 on the substrate P that flows to the outside with respect to the supply ports 13A, projected from 14A area AR1, it is recovered from the recovery port 22A. 回収口22Aから回収された液体1は仕切部材23により仕切られた分割空間24のそれぞれを流通した後、マニホールド部25に集合する。 Liquid 1 recovered from the recovery port 22A is after flowing the respective divided spaces 24 which are partitioned by the partition member 23 is set to the manifold 25. マニホールド部25に集合した液体1は回収管21Aを通って液体回収部21に回収される。 Liquid 1 was set to the manifold portion 25 is recovered by the liquid recovery section 21 via the recovery tube 21A. このように、本実施形態では、1つの液体回収部21に対して複数の分割空間24が接続されている構造を備えている。 Thus, in the present embodiment has a structure in which a plurality of divided spaces 24 are connected to one liquid recovery portion 21. そして、液体回収機構20は、投影領域AR1を取り囲むように設けられている回収口22Aより、投影領域AR1に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置、すなわち、矩形の投影領域AR1の4つの側(+X方向側、−X方向側、+Y方向側、−Y方向側)から基板P上の液体1の回収を同時に行う。 Then, the liquid recovery mechanism 20, from the recovery port 22A provided to surround the projection area AR1, a plurality of locations spaced different directions with respect to the projection area AR1, i.e., 4 of the rectangular projection area AR1 one side performs (+ X direction side, -X direction side, + Y direction side, -Y direction side) from the recovery of the liquid 1 on the substrate P simultaneously.

制御装置CONTは、液体供給機構10及び液体回収機構20により基板Pの表面に対する液体1の供給と並行して基板P上の液体1の回収を行いつつ、基板Pを支持する基板ステージPSTをX軸方向(走査方向)に移動しながら、マスクMのパターン像を投影光学系PLと基板Pとの間の液体1及び投影光学系PLを介して基板P上に投影露光する。 The control unit CONT, while performing recovery of the liquid 1 on the substrate P by the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20 concurrently with the supply of the liquid 1 to the surface of the substrate P, the substrate stage PST which supports a substrate P X while moving in the axial direction (scanning direction), a pattern image of the mask M via the liquid 1 and the projection optical system PL between the projection optical system PL and the substrate P to the projection exposure onto the substrate P. このとき、液体供給機構10は走査方向に関して投影領域AR1の両側から供給口13A、14Aを介して液体1の供給を同時に行っているので、液浸領域AR2は均一且つ良好に形成されている。 In this case, the liquid supply mechanism 10 so doing supply port 13A from the both sides of the projection area AR1 in the scanning direction, the supply of the liquid 1 via the 14A simultaneously, the liquid immersion area AR2 is uniform and well formed. また、液体回収機構20は、投影領域AR1を囲む回収部材22の回収口22Aを介して投影領域AR1の走査方向両側を含む投影領域AR1周囲の複数の位置において液体1の回収を同時に行っているため、液体1の基板P周囲への流出や飛散を防止している。 The liquid recovery mechanism 20 is performing recovery of the liquid 1 simultaneously at a plurality of locations around the projection area AR1 including the both sides in the scanning direction of the projection area AR1 via the recovery port 22A of the recovery member 22 to surround the projection area AR1 Therefore, to prevent the outflow or scattering of the substrate P surrounding liquid 1. なお、本実施形態においては、基板P表面の感光材との親和性が低い純水を液体1として供給するようにしているので、液体回収機構20による回収を円滑に行うことができる。 In the present embodiment, pure water is low affinity with the photosensitive material of the substrate P surface since then supplied as a liquid 1, it is possible to smoothly perform the recovery by the liquid recovery mechanism 20.

図6(a)は、基板Pを+X方向に移動しながら基板P上に設定された第1のショット領域(例えば図5のS1、S3など)を露光処理する際の液体1の挙動を示す模式図である。 6 (a) shows the behavior of the liquid 1 when the exposure process the first shot areas set on the substrate P while moving the substrate P in the + X direction (e.g., S1 of Fig. 5, S3, etc.) it is a schematic view. 図6(a)において、投影光学系PLと基板Pとの間の空間に対して供給口13A、14Aから液体1が同時に供給され、これにより投影領域AR1を含むように液浸領域AR2が形成される。 6 (a), the supply port 13A with respect to the space between the projection optical system PL and the substrate P, the liquid 1 is supplied simultaneously from 14A, the liquid immersion area AR2 as thereby including the projection area AR1 formed It is. ここで、投影領域AR1に対して−X側に設けられている供給口13Aから供給される液体1の単位時間あたりの液体量が、+X側に設けられている供給口14Aから供給される液体1の単位時間あたりの液体量より多く設定されているため、供給口13Aから供給された液体1は+X方向に移動する基板Pに引っ張られるようにして、投影光学系PLと基板Pとの間の空間に円滑に配置される。 Here, the liquid amount of liquid per unit of time the liquid 1 to be supplied is supplied from the supply port 14A provided on the + X side from the supply port 13A provided on the -X side with respect to the projection area AR1 since the number is set from the liquid amount per unit time, the liquid 1 supplied from the supply port 13A is so as to be pulled by the substrate P moving in the + X direction, between the projection optical system PL and the substrate P It is smoothly arranged in the space. また、供給口13A、14Aより外側に流出しようとする液体1は回収口22Aより回収され、基板P周囲に流出したりする不都合の発生が抑えられている。 The supply port 13A, the liquid 1 to be flow out to the outside from 14A is recovered from the recovery port 22A, the occurrence of inconvenience or to flow out around the substrate P is suppressed.

ここで、基板Pが+X方向に移動することにより、投影領域AR1に対して+X側に移動する液体量が増し、+X側に液体回収位置を設けている回収口22Aが液体1を全て回収できない場合がある。 Here, by moving the substrate P in the + X direction, increases the amount of the liquid moves to the + X side with respect to the projection area AR1, is the recovery port 22A that the liquid recovery position disposed on the + X side can not recover all of the liquid 1 If there is a. ところが、図6(a)に示すように、+X側の回収口22Aで回収しきれなかった液体1はこの液体回収位置より+X側に設けられているトラップ部材30のトラップ面31で捕捉されるため、基板Pの周囲等に流出したり飛散したりすることがない。 However, is captured by the trap surface 31 of the way, + liquid 1 which has not been recovered by the recovery port 22A of the X-side trap member 30 provided on the + X side from the liquid recovery position shown in FIG. 6 (a) Therefore, there is no or to scatter or flow out around of the substrate P. ここで、トラップ面31は液体1に対して親液化処理されており、しかも基板Pの表面より高い液体親和性を有しているので、回収口22Aの液体回収位置より外側に流出しようとする液体1は、基板P側に引っ張られずにトラップ面31側に引っ張られる。 Here, the trap surface 31 is lyophilic with respect to the liquid 1, and since has high liquid affinity than the front surface of the substrate P, attempts to outflow to the outside from the liquid recovery position of the recovery port 22A liquid 1 is pulled to the trap surface 31 side without being pulled by the substrate P side. これにより、基板P上に液体1が残存する等の不都合の発生が抑えられている。 Thus, problems such as that the liquid 1 remains is suppressed on the substrate P.

ここで、トラップ面31は投影領域AR1を含む液浸領域AR2を基準として外側に向かうにつれて上方向に傾斜しているため、液体1の外部への流出をより効果的に防止できる。 Here, the trap surface 31 because it is inclined upward toward the outer side relative to the liquid immersion area AR2 including the projection area AR1, can be more effectively prevented from flowing to the outside of the liquid 1. つまり、上方向に傾斜していることにより、基板Pと投影光学系PLとの間の第1の体積(基板Pの単位面積に対応する体積)に対して、基板Pとトラップ面31との間の第2の体積のほうが大きくなるため、流出しようとする液体1は第2の体積部分に円滑に保持される。 That is, by being inclined upward with respect to the first volume between the substrate P and the projection optical system PL (volume corresponding to the unit area of ​​the substrate P), between the substrate P and the trap surface 31 because more of the second volume between increases, the liquid 1 to be outlet is smoothly held in the second volume portion. また、上方向に傾斜していることにより、外側に流出しようとする流体エネルギーはトラップ面31に沿って上方向に移動することで位置エネルギーに変換され、これにより液体1の外側への流出を効果的に防止できる。 Further, by being inclined upward, fluid energy to be flowing out to the outside is converted into potential energy by moving upward along the trap surface 31, this by flowing out to the outside of the liquid 1 It can be effectively prevented.

また、+X側に設けられている供給口14Aから供給される液体量は、−X側に設けられている供給口13Aから供給される液体量に対して少なく設定されている。 The liquid amount supplied from the supply port 14A provided on the + X side is less set to the liquid amount supplied from the supply port 13A provided on the -X side. すなわち、+X側の回収口22Aに対して供給口13Aより近い位置にある供給口14Aからの液体供給量が少なく設定されているので、+X側に移動する基板Pに液体1が引っ張られても、基板Pの+X側から外部に流出しようとする液体量が抑えられている。 That is, + the liquid supply from the supply port 14A at a position closer to the supply port 13A with respect to the recovery port 22A of the X-side is set smaller, even the liquid 1 is pulled to the substrate P moving in the + X side , amount of liquid to be flow out from the + X side of the substrate P is suppressed.

第1のショット領域の露光処理が終了したら、制御装置CONTは、投影光学系PLの投影領域AR1を前記第1のショット領域とは別の第2のショット領域に配置するために、基板Pをステッピング移動する。 After exposure of the first shot area is completed, the control unit CONT to the projection area AR1 of the projection optical system PL of the first shot region on a separate second shot region, the substrate P stepping movement. 具体的には、例えばショット領域S1に対する走査露光処理終了後、ショット領域S2に対して走査露光処理するために、制御装置CONTは基板P上の2つのショット領域S1、S2間でY軸方向にステッピング移動する。 Specifically, for example, after the scanning exposure process is completed with respect to the shot area S1, to scanning exposure process with respect to the shot area S2, the control unit CONT in the Y-axis direction between the two shot areas S1, S2 on the substrate P stepping movement. このとき、液体供給機構10は、基板P上の2つのショット領域間のステッピング移動中における液体1の供給量を、ショット領域の露光中における供給量に対して異ならせる。 In this case, the liquid supply mechanism 10, the supply amount of the liquid 1 during the stepping movement between the two shot areas on the substrate P, varying the supply amount during the exposure of the shot area. 具体的には、制御装置CONTは、ステッピング移動中での液体供給機構10からの基板P上に対する単位時間あたりの液体供給量を、ショット領域の走査露光中の液体供給量より少なくする。 More specifically, the control unit CONT, the liquid supply amount per unit time with respect to the upper substrate P from the liquid supply mechanism 10 in a stepping movement is less than the liquid supply amount during the scanning exposure of the shot area. これにより、露光処理に寄与しないステッピング移動中での基板Pに対する液体供給量が抑えられ、露光処理全体(基板Pが基板ステージPSTにロードされて全ショット領域S1〜S12に対する露光処理が終了して基板ステージPSTからアンロードされるまで)における液体使用量を抑えることができる。 Thus, the liquid supply amount is suppressed to the substrate P in a stepping movement which does not contribute to the exposure process, the exposure process is completed the entire exposure process (substrate P with respect to all the shot areas S1~S12 is loaded on the substrate stage PST it is possible to suppress the liquid amount in the substrate stage PST to be unloaded). このように、制御装置CONTは、露光処理実行動作の一部を構成する基板Pの移動動作(ステッピング移動又は走査移動)に応じて、第1、第2液体供給部11、12それぞれの単位時間あたりの液体供給量を変える。 Thus, the control unit CONT depending on the movement of the substrate P which constitutes a part of the exposure process executed operation (stepping movement or scanning movement), first, each time unit the second liquid supply sections 11, 12 changing the amount of liquid supplied per.

ここで、液体供給機構10は、基板Pのステッピング移動中において液体1の単位時間あたりの供給量を低減させるが、液体1の供給動作を維持(継続)する。 Here, the liquid supply mechanism 10 is thereby reduced supplying rate of the liquid 1 time during the stepping movement of the substrate P, and maintain the supply operation of the liquid 1 (continued). つまり、液体供給機構10は、ショット領域が変わることにより走査方向が変わったり、あるいはステッピング移動時においても、供給口13A、14Aからの液体供給動作を維持(継続)する。 That is, the liquid supply mechanism 10, may change the scanning direction by the shot area is changed, or even when the stepping movement, to maintain the liquid supply operation from the supply port 13A, 14A (continuous). このように、液体供給機構10は、基板P上の複数のショット領域を順次露光するときに、複数の位置に設けられた供給口13A、14Aから液体1を供給し続け、走査方向に応じて液体供給位置を変えたり、ステッピング移動時に液体供給位置を変えたりしない。 Thus, the liquid supply mechanism 10, when sequentially exposing a plurality of shot areas on the substrate P, the supply port 13A provided at a plurality of positions, continuously supplied liquid 1 from 14A, in accordance with the scanning direction changing the liquid supply position, not changing the liquid supply position when the stepping movement. 換言すれば、液体供給機構10は、1つの基板Pに関する一連の露光処理動作が終了するまで(基板Pが基板ステージPSTにロードされて全ショット領域S1〜S12に対する露光処理が終了して基板ステージPSTからアンロードされるまで)、複数の位置から液体1を供給し続ける。 In other words, the liquid supply mechanism 10, one substrate stage exposure process is completed until a series of exposure processing operations relating to the substrate P is completed (substrate P with respect to all the shot areas S1~S12 is loaded on the substrate stage PST from PST until unloaded), it continues to supply the liquid 1 from a plurality of positions. これにより、液体1の供給及び停止に起因する液体の振動(ウォーターハンマー現象)の発生を防止することができる。 Thus, it is possible to prevent occurrence of vibration of the liquid due to the supply and stop of the liquid 1 (water hammer phenomenon).

図6(b)は、基板Pを−X方向に移動しながら基板P上に設定された第2のショット領域(例えば図5のS2、S4など)を露光処理する際の液体1の挙動を示す模式図である。 6 (b) is, the behavior of the liquid 1 when the exposure process the second shot areas set on the substrate P while moving the substrate P in the -X direction (e.g. S2 in Fig. 5, S4, etc.) it is a schematic view showing. 図6(b)において、投影光学系PLと基板Pとの間の空間に対して供給口13A、14Aから液体1が供給され、これにより投影領域AR1を含むように液浸領域AR2が形成される。 6 (b), the supply port 13A with respect to the space between the projection optical system PL and the substrate P, 14A liquid 1 is supplied from the liquid immersion area AR2 to include the projection area AR1 is formed by this that. ここで、投影領域AR1に対して+X側に設けられている供給口14Aから供給される液体1の単位時間あたりの液体量が、−X側に設けられている供給口13Aから供給される液体1の単位時間あたりの液体量より多く設定されているため、供給口14Aから供給された液体1は−X方向に移動する基板Pに引っ張られるようにして、投影光学系PLと基板Pとの間の空間に円滑に配置される。 Here, the liquid amount of liquid per unit of time the liquid 1 to be supplied is supplied from the supply port 13A provided on the -X side from the supply port 14A provided on the + X side with respect to the projection area AR1 since the number is set from the liquid amount per unit time, the liquid 1 supplied from the supply port 14A is so as to be pulled by the substrate P moving in the -X direction, the projection optical system PL and the substrate P It is smoothly arranged in the space between. このように、制御装置CONTは、露光処理実行動作の一部を構成する基板Pの移動方向(移動動作)に応じて、第1、第2液体供給部11、12それぞれの単位時間あたりの液体供給量を変える。 Thus, the control unit CONT depending on the direction of movement of the substrate P which constitutes a part of the exposure process executed operation (movement operation), first, per unit of each time the second liquid supply unit 11, 12 liquid changing the supply amount. また、供給口13A、14Aより外側に流出しようとする液体1は回収口22Aより回収され、基板P周囲に流出したりする不都合の発生を抑えられている。 The supply port 13A, the liquid 1 to be flow out to the outside from 14A is recovered from the recovery port 22A, it is suppressed the occurrence of inconvenience or to flow out around the substrate P.

ここで、基板Pが−X方向に移動することにより、+X側のトラップ面31に捕捉されている液体1はトラップ面31に沿って下降し、液体回収機構20の回収口22Aより回収される。 Here, by the substrate P moves in the -X direction, the liquid 1 that has been trapped in the trap surface 31 on the + X side descends along the trap surface 31, is recovered from the recovery port 22A of the liquid recovery mechanism 20 . これにより、液体1の残存や外部への流出を確実に防止することができる。 Thus, it is possible to reliably prevent the outflow of the remaining or external liquids 1. そして、基板Pの−X側への移動に伴って−X側に移動する液体量が増し、これにより−X側の回収口22Aで液体1を全て回収しきれなくても、図6(b)に示すように、この液体回収位置より−X側に設けられているトラップ部材30のトラップ面31で液体1が捕捉される。 Then, the amount of liquid is increased to move in the -X side with the movement of the -X side of the substrate P, thereby without completely recover all the liquid 1 in the recovery port 22A on the -X side, FIG. 6 (b as shown in), the liquid 1 is captured by the trap surface 31 of the trap member 30 provided on the -X side from the liquid recovery position.

なお、ここでは、トラップ面31は投影領域AR1に対して外側に向かうにつれて上方向に傾斜するように形成されているが、水平(0度)であってもよい。 Here, although the trap surface 31 is formed to be inclined upward toward the outer side with respect to the projection area AR1, it may be horizontal (0 degree). 一方、トラップ面31が下方向に傾斜していると、外側に流出しようとする流体エネルギーは位置エネルギーに変換されず、しかも逆方向に基板Pが移動する際にも流体1はトラップ面31に沿って下降するように回収口22Aまで移動しないため、液体1を回収口22Aで円滑に回収することができない。 On the other hand, if the trap surface 31 is inclined downwardly, fluid energy to be flowing out to the outside is not converted into potential energy, yet fluid 1 even when the substrate P moves in the opposite direction to the trap surface 31 order not moved to the recovery port 22A to descend along, it is impossible to smoothly recover the liquid 1 in the recovery port 22A. したがって、トラップ面31は水平面(0度)または上方向への傾斜面であることが好ましい。 Therefore, it is preferable trap surface 31 is an inclined plane to the horizontal plane (0 °) or upward.

なお、基板P上に対する単位時間あたりの液体供給量が多い場合や、走査速度が高速である場合、外側に流出しようとする液体量も多くなるので、トラップ面31の傾斜角度はこれら液体供給量及び走査速度に応じて最適角度に設定されている。 Incidentally, or when the liquid supply amount per unit time with respect to the upper substrate P is large, when the scanning speed is high, since many amount of liquid to be flow out to the outside, these liquid supply amount inclination angle of the trap surface 31 and it is set to an optimum angle in accordance with the scanning speed. つまり、液体供給量が多い場合や走査速度が高速である場合には、トラップ面31の傾斜角度は大きく設定される。 That is, when the case and the scanning speed liquid supply amount is large is high, the angle of inclination of the trap surface 31 is set larger. 一方、トラップ面31の傾斜角度が大きすぎると、トラップ面31で液体1を捕捉(保持)しきれなくなる場合がある。 On the other hand, when the inclination angle of the trap surface 31 is too large, it may no longer be sufficiently liquid 1 captures (held) by the trap surface 31. ここで、親液化処理による親液性を強くすることでトラップ面31の液体保持力が大きくなるので、傾斜角度を大きくする場合、親液化処理の処理条件を変更してトラップ面31に対して最適な親液性を付与することにより、傾斜角度を大きくしても液体1を保持することができる。 Here, since the liquid retaining force of the trap surface 31 by strongly lyophilic by lyophilic increases, to increase the inclination angle, relative to the trap surface 31 by changing the process conditions of the lyophilic by imparting optimal lyophilic it can be larger the inclination angle to retain the liquid 1. そこで、トラップ面31の傾斜角度は、液体供給量、走査速度、及び液体の材料特性(トラップ面の液体親和性)等の各パラメータに基づいて、最適角度に設定される。 Therefore, the inclination angle of the trap surface 31, the liquid supply amount, based on the parameters such as scan rate, and material properties of the liquid (liquid affinity of the trap surface), is set to an optimum angle.

ところで、本実施形態の回収部材22は、円環状に連続的に形成された回収口22Aと、回収口22Aの内部に設けられた仕切部材23と、この仕切部材23で分割された複数の分割空間24とを有する構成であって、複数の分割空間24を集合するマニホールド部25に回収管21Aを介して液体回収部21が接続されている構成である。 Meanwhile, the recovery member 22 of this embodiment includes a recovery port 22A which is continuously formed in an annular shape, the partition member 23 provided inside the recovery port 22A, a plurality of divided divided by the partition member 23 a configuration having a space 24, a configuration in which the liquid recovery section 21 via the recovery tube 21A to the manifold section 25 that collectively the plurality of divided spaces 24 are connected. これにより、真空ポンプ等を含んで構成される液体回収部21は1つ設ければいいため、装置構成を簡略化できる。 Accordingly, the liquid recovery unit 21 configured to include a vacuum pump or the like for good by providing one, the apparatus structure can be simplified. ここで、回収部材22の周方向の各位置のそれぞれにおいて液体1を回収するための吸引負荷が異なる状態が発生し、これにより液体回収部21の吸引力が低下し、回収動作を円滑に行うことができなくなる場合がある。 Here, the suction load for recovering the liquid 1 is different from state generated in each of the positions in the circumferential direction of the recovery member 22, thereby the suction force of the liquid recovery portion 21 is reduced, performs smoothly the recovery operation that there is a case that can not be. しかしながら、仕切部材23を設けたことにより回収動作を円滑に行うことができる。 However, it is possible to smoothly perform the recovery operation by providing the partition member 23. つまり、例えば、液体1の挙動に起因して、回収部材22のうち+X側の回収口22Aでは液体1のみが回収(吸引)されているのに対し、−X側の回収口22Aでは空気を含んで(空気をかみこんで)吸引する状態が発生する場合がある。 That is, for example, due to the behavior of the liquid 1, while only the liquid 1, out + X side recovery port 22A of the recovery member 22 is recovered (sucked), the air in the recovery port 22A on the -X side They comprise (air at Kamikon) is when a state of sucking occurs. この場合、−X側の回収口22Aにおける空気かみこみ領域が拡がり、本実施形態のように一系統の液体回収部21で液体1を回収する場合、かみこんだ空気により液体回収部21を構成する真空ポンプの吸引力が低下する不都合が生じる場合がある。 Configuration In this case, the spread of air involved in depressed regions in the recovery port 22A on the -X side, when recovering the liquid 1 by the liquid recovery section 21 of the one system as in the present embodiment, the liquid recovery unit 21 by Kamikon's air which may inconvenience the suction force of the vacuum pump is lowered. ところが、連続的に形成された回収口22Aの内部(内部空間22H)に仕切部材23を設けて互いに独立した分割空間24を設けたことにより、空気をかみこむ領域に対して液体1のみを吸引する領域を空間的に分離できるので、空気かみこみ領域が拡がったりかみこんだ空気により液体回収部21の吸引力が低下するといった不都合の発生を防止でき、これにより液体回収部21が一系統であっても液体回収機構20は液体1を円滑に回収することができる。 However, by which the partition member 23 in the interior (internal space 22H) of the formed continuously recovery port 22A provided provided divided spaces 24 which are independent from each other, only the liquid 1 air against Kamikomu area suction since the area to be spatially separated, it is possible to prevent the occurrence of inconvenience suction force of the liquid recovery unit 21 is reduced by biting or spread of air involved in depressed areas air, thereby the liquid recovery unit 21 in one system a liquid recovery mechanism 20 also can smoothly recover the liquid 1.

以上説明したように、液浸領域AR2を形成するために、投影領域AR1に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で(投影領域AR1の互いに異なる複数の側から)基板P上の液体1の供給を同時に行う液体供給機構10を設けたので、基板Pが走査方向(±X方向)及びステッピング方向(±Y方向)を含む複数の方向に移動する場合であっても、投影光学系PLと基板Pとの間に液浸領域AR2を常に円滑且つ良好に形成することができる。 As described above, in order to form the liquid immersion area AR2, the liquid on the (mutually different from the side of the projection area AR1) substrate P at a plurality of locations spaced in a plurality of different directions with respect to the projection area AR1 It is provided with the liquid supply mechanism 10 to perform the first supply simultaneously, even when the substrate P is moved in a plurality of directions including the scanning direction (± X direction) and the stepping direction (± Y direction), the projection optical system it can always smoothly and satisfactorily form the liquid immersion area AR2 between the PL and the substrate P. したがって、高い解像度及び広い焦点深度のもとで露光処理を行うことができる。 Therefore, it is possible to perform the exposure process under a high resolution and a wide depth of focus.

基板P上の複数のショット領域のそれぞれを順次露光処理する際に、液体供給機構10により複数の位置から液体1を供給し続けるようにしたので、液体1の供給及び停止に伴う液体振動(ウェーターハンマー現象)の発生を防止することができ、これにより転写されるパターン劣化を防止することができる。 When sequential exposure process each of the plurality of shot areas on the substrate P, since to continue to supply the liquid 1 from a plurality of positions by the liquid supply mechanism 10, the liquid vibration due to the supply and stop of the liquid 1 (waiter it is possible to prevent the occurrence of hammer phenomenon), thereby preventing a pattern deterioration to be transferred.

また、液体供給機構10は、供給口13A、14Aより、投影領域AR1の走査方向両側から液体1を供給するようにしたので、供給された液体1は走査方向に移動する基板Pに引っ張られるようにして投影領域AR1に濡れ拡がるため、液浸領域AR2は投影領域AR1を含むように円滑に形成される。 Further, the liquid supply mechanism 10, the supply ports 13A, than 14A, since the scanning direction on both sides of the projection area AR1 so as to supply the liquid 1, the liquid 1 is supplied so as to be pulled by the substrate P moving in the scanning direction since wets and spreads to the projection area AR1 in the liquid immersion area AR2 is smoothly formed to include the projection area AR1. そして、本実施形態では、液体供給機構10は、走査方向に関して、投影領域AR1の手前から供給する液体量を、その反対側で供給する液体量よりも多くするので、基板P上に供給された液体1は、移動する基板Pに引っ張られるようにして基板Pの移動方向に沿って流れ、投影光学系PLと基板Pとの間の空間に引き込まれるようにして円滑に配置される。 In the present embodiment, the liquid supply mechanism 10, in the scanning direction, the liquid amount supplied from the front of the projection area AR1, because more than the liquid amount supplied from the opposite side, is supplied onto the substrate P liquid 1, so as to be pulled by the moving substrate P flows along the moving direction of the substrate P, is smoothly arranged so as to be drawn into the space between the projection optical system PL and the substrate P. したがって、液体供給機構10から供給された液体1は、その供給エネルギーが小さくても投影光学系PLと基板Pとの間に円滑に配置され、液浸領域AR2を良好に形成することができる。 Therefore, the liquid 1 supplied from the liquid supply mechanism 10 may be the even supply energy is small is smoothly arranged between the projection optical system PL and the substrate P, to satisfactorily form the liquid immersion area AR2. そして、走査方向に応じて供給口13A、14Aそれぞれから供給する液体量を変更することで液体1の流れる方向を切り替えることができ、これにより+X方向、又は−X方向のどちらの方向に基板Pを走査する場合にも、投影光学系PLと基板Pとの間に液浸領域AR2を円滑に形成することができ、高い解像度及び広い焦点深度を得ることができる。 Then, the supply port 13A in accordance with the scanning direction, 14A can change the direction of the flow of the liquid 1 by changing the amount of liquid supplied from each of which the + X direction or the substrate in either direction in the -X direction P the when scanning also, it is possible to smoothly form the liquid immersion area AR2 between the projection optical system PL and the substrate P, it is possible to obtain high resolution and a wide depth of focus.

また、液体回収機構20の回収部材22は、投影領域AR1及び供給部材13、14を囲むように円環状に形成されており、投影領域AR1に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で(投影領域AR1の異なる複数の側から)基板P上の液体1の回収を同時に行うため、基板P外側への液体1の流出や飛散等といった不都合の発生を確実に防ぐことができる。 The recovery member 22 of the liquid recovery mechanism 20 is formed annularly to surround the projection area AR1 and the supply members 13, at a plurality of locations spaced in a plurality of different directions with respect to the projection area AR1 (from different sides of the projection area AR1) for performing recovery of the liquid 1 on the substrate P simultaneously, it is possible to prevent the occurrence of problems such spills and scattering and the like of the liquid 1 to the substrate P outside reliably. すなわち、液体回収機構20は、1つの基板Pに関する一連の露光処理動作が終了するまで(基板P上の全ショット領域S1〜S12に対する露光処理が終了して、液浸領域AR2を形成していた液体1の回収が完了するまで)、投影領域AR1を取り囲むように形成されている回収口22Aから回収動作を継続的に行なっているので、基板Pの一連の露光処理動作中に液体1がいずれの方向に濡れ拡がっても、液体1を良好に回収することができる。 That is, the liquid recovery mechanism 20, until a series of exposure processing operations for one board P is completed (exposure process is completed for all the shot areas S1~S12 on the substrate P, had formed the liquid immersion area AR2 until the recovery of the liquid 1 is completed), since performing continuously a collecting operation from the recovery port 22A which is formed to surround the projection area AR1, the liquid 1 is one in a series of exposure processing operation of the substrate P even spread wet in direction, it is possible to satisfactorily recover the liquid 1. また、基板Pに関する一連の露光処理動作中に、回収口22からの液体の吸引を停止させることもないので、それに伴う振動を影響も抑えることができる。 Moreover, during a series of exposure processing operations relating to the substrate P, since it is not possible to stop the suction of the liquid from the recovery port 22, it is possible to suppress the influence of the vibrations involved.

また、液体回収機構20で回収しきれなかった液体1を捕捉するトラップ部材30を設けたことにより、基板P外側への液体1の流出や飛散等の不都合の発生を防止できる。 Further, by providing the trap member 30 for capturing the liquid 1 which has not been recovered by the liquid recovery mechanism 20, it can prevent the occurrence of inconvenience of outflow and scattering and the like of the liquid 1 to the substrate P outside. そして、本実施形態において、トラップ面31は、液体1が基板P外側に最も流出しやすい走査方向(X軸方向)に沿う方向を長手方向とする平面視楕円形状に形成されているため、液体1の外部への流出を確実に防止できる。 Then, in the present embodiment, the trap surface 31, because the liquid 1 is formed in plan view oval shape the direction along the most outflow likely scanning direction (X axis direction) outside the substrate P and the longitudinal direction, the liquid 1 of the outflow to the outside can be reliably prevented. また、トラップ面31には液体1との親和性を高める親液化処理が施されているので、流出しようとする液体1を良好に捕捉することができる。 Further, since the lyophilic treatment to enhance the affinity for the liquid 1 on the trap surface 31 is applied, it is possible to satisfactorily capture the liquid 1 to be runoff. 更に、トラップ面31の液体親和性は、基板P表面の液体親和性よりも高くなるように表面処理されているので、外部に流出しようとする液体1は基板Pに付着せずにトラップ面31に捕捉されるため、基板Pの表面に液体1が残存するといった不都合の発生を防止できる。 Furthermore, the liquid affinity of the trap surface 31, because it is surface treated so as to be higher than the liquid affinity of the substrate P surface, the trap surface liquid 1 to be flow out to not adhere to the substrate P 31 to be captured, the occurrence of inconvenience liquid 1 remaining on the surface of the substrate P can be prevented. また、トラップ面31は投影領域AR1に対して外側に向かうにつれて上方向に傾斜しているので、外部に流出しようとする液体1を良好に捕捉でき、しかも、基板Pの走査方向が逆方向になった際、捕捉されている液体1はトラップ面31を下方に伝わるため、このトラップ面31に接続する回収口22Aで良好に回収される。 Further, since the trap surface 31 is inclined upward toward the outer side with respect to the projection area AR1, can capture the liquid 1 to be flow out satisfactorily, moreover, the scanning direction of the substrate P in a reverse direction when it becomes liquid 1 that has been captured since transmitted the trap surface 31 downward, it is satisfactorily recovered by the recovery port 22A to connect to the trap surface 31.

また、液体供給機構10からは、投影光学系PLの先端の液体接触面2aとの親和性が、基板P表面に塗布された感光材との親和性よりも高い、液体(水)1を液浸露光用に供給するようにしているので、投影光学系PLと基板Pとの間の光路を液体1で確実に満たすことができるとともに、基板(P)上に供給された液体(1)が円滑に回収され、液体1の流出や飛散等の不都合を防止できる。 Further, from the liquid supply mechanism 10, the projection affinity for the liquid contact surface 2a of the distal end of the optical system PL is higher than the affinity between the photosensitive material applied to the surface of the substrate P, the liquid of the liquid (water) 1 since then supplied for immersion exposure, with the optical path between the projection optical system PL and the substrate P can be reliably filled with the liquid 1, the substrate is supplied onto (P) liquid (1) is smoothly recovered, it can be prevented inconveniences outflow and scattering and the like of the liquid 1.

なお、本実施形態では投影領域AR1の走査方向両側から液体1を供給する際、走査方向に関して手前から供給する液体量をその反対側で供給する液体量よりも多くしているが、投影領域AR1の両側から供給する液体1を同量にしてもよい。 Incidentally, when the present embodiment to supply the liquid 1 from the both sides in the scanning direction of the projection area AR1, but is more than the liquid amount supplied amount of liquid supplied at the opposite side from the front in the scanning direction, the projection area AR1 the liquid 1 supplied from both sides may be the same amount. この場合も、走査方向を切り替える際にも液体1の供給量変動が生じないため、ウォーターハンマー現象の発生をより確実に防止できる。 Again, since the supply amount fluctuation of the liquid 1 even when switching the scanning direction does not occur, it can be more reliably prevent the occurrence of water hammer phenomenon. 一方、液体1を供給し続けながら、走査方向に応じて投影領域AR1の走査方向両側から供給する液体量を変化させることにより、ウォーターハンマー現象の発生を抑えつつ液体1の使用量を抑えることができる。 On the other hand, while continuing to supply the liquid 1, by changing the amount of liquid supplied from the both sides in the scanning direction of the projection area AR1 in accordance with the scanning direction, it is possible to suppress the amount of the liquid 1 while suppressing the occurrence of the water hammer phenomenon it can.

なお、本実施形態では、1枚の基板Pに対する露光処理動作中は供給口13A、14Aからの液体1の供給をし続ける構成であるが、途中で停止してもよい。 In the present embodiment, one during the exposure process operation for the substrate P supply port 13A, is a ever constitute a supply of the liquid 1 from 14A, or may be stopped halfway. 例えば、基板Pを+X側に走査移動する際には供給口14Aからの液体供給を停止して供給口13Aのみから液体1を供給し、基板Pを−X側に走査移動する際には供給口13Aからの液体供給を停止して供給口14Aのみから液体1を供給する構成であってもよい。 For example, supply when when scanning moving the substrate P in the + X side of the liquid supply to supply the liquid 1 from only the supply port 13A is stopped from the supply port 14A, for scanning moving the substrate P in the -X side the liquid 1 from only the supply port 14A of the liquid supply is stopped from the mouth 13A may be configured to supply. 更には、基板Pのステッピング移動時には、液体供給機構10は基板Pに対する液体1の供給を停止する構成でもよい。 Furthermore, when the stepping movement of the substrate P, the liquid supply mechanism 10 may be configured to stop the supply of the liquid 1 to the substrate P. この場合、走査露光を開始するに際し、液体1の供給を所定時間行って液体振動がおさまるのを待ってから走査露光すればよい。 In this case, upon starting the scanning exposure may be a scanning exposure the supply of the liquid 1 after waiting for the liquid vibration subsides performs predetermined time. このような構成とすることにより液体1の使用量を抑えることができる。 It is possible to suppress the amount of the liquid 1 by employing such a construction. 一方、液体1を供給し続けることにより、液体振動がおさまるまでの待ち時間を設定する必要がないため、スループットを向上できる。 On the other hand, by continuously supplying the liquid 1, it is not necessary to set the waiting time until the liquid vibration subsides, the throughput can be improved.

本実施形態では、液体供給機構10の供給口13A、14Aは投影領域AR1に対して走査方向両側に設けられている構成であるが、例えば投影領域AR1の周りを全て囲むように、すなわち投影領域AR1の非走査方向両側にも供給口(供給部材)を設けるようにしてもよい。 In the present embodiment, the supply port 13A of the liquid supply mechanism 10, but 14A is a configuration provided on both sides in the scanning direction with respect to the projection area AR1, for example so as to surround the entire circumference of the projection area AR1, i.e. the projection region non-scanning direction on both sides to be the supply port of the AR1 may be provided (supply member). そして、投影領域AR1を囲むように設けられた供給口のそれぞれから基板P上に液体1を供給するようにしてもよい。 Then, the liquid 1 may be supplied onto the substrate P from the respective supply ports provided to surround the projection area AR1. ここで、投影領域AR1に対して走査方向両側のそれぞれと、非走査方向両側のそれぞれとに供給口を設けた際、すなわち、投影領域AR1を囲むように互いに独立した4つの供給口を設けた際、基板Pを走査方向に移動しつつ露光処理する際には、4つの供給口の全てから液体1を供給してもよいし、走査方向両側に設けられた供給口のみから液体1を供給し、非走査方向両側に設けられた供給口からの液体供給を停止(あるいは少量供給)してもよい。 Here, the respective both sides in the scanning direction with respect to the projection area AR1, when provided respectively to the supply port in the non-scanning direction on both sides, i.e., provided with four feed ports independent from each other so as to surround the projection area AR1 Here, when the exposure process is performed while moving the substrate P in the scanning direction, may be supplied to the liquid 1 from all four supply ports, supplies the liquid 1 from only the supply ports provided on both sides in the scanning direction and, the liquid supply from the supply ports provided in the non-scanning direction on both sides may be stopped (or a small amount supplied). そして、非走査方向に基板Pを移動するときに、非走査方向両側に設けられた供給口から液体を供給するようにしてもよい。 When the in the non-scanning direction moves the substrate P, it may be supplied to the liquid from a supply port provided in the non-scanning direction on both sides. あるいは、投影領域AR1を囲むように環状の供給部材を設け、この供給部材を介して基板P上に液体1を供給する構成であってもよい。 Alternatively, an annular supply member so as to surround the projection area AR1 provided, may be configured to supply the liquid 1 onto the substrate P via the supply member. この場合、液体1を供給部材に送出する液体供給部は1つでよいため、装置構成を簡略化できる。 In this case, the liquid supply unit for delivering the liquid 1 to the supply member for one good, the apparatus structure can be simplified. 一方、上記実施形態のように、投影領域AR1に対して走査方向両側に供給口13A、14Aがあれば投影領域AR1を十分に液浸領域AR2にすることができ、液体1の使用量を抑えることができる。 On the other hand, as in the above embodiment, the supply ports 13A to the both sides in the scanning direction with respect to the projection area AR1, 14A is able to sufficiently liquid immersion area AR2 of the projection area AR1 If, reduce the amount of the liquid 1 be able to.

また本実施形態では、液体供給機構10の供給口13A、14Aは投影領域AR1に対して走査方向両側に設けられている構成であるが、投影光学系PLと基板Pとの間の露光光の露光が液体1で十分に満たされる場合には、投影領域AR1の近くに配置された1箇所の供給口から液体供給をするようにしてもよい。 In this embodiment also, the supply port 13A of the liquid supply mechanism 10, but 14A is a configuration provided on both sides in the scanning direction with respect to the projection area AR1, of the exposure light between the projection optical system PL and the substrate P If the exposure is sufficiently filled with the liquid 1, it may be a liquid supply from one feeding port which is placed close to the projection area AR1. この場合も、1枚の基板P上の全ショットの露光が終了するまで、その1箇所の供給口から液体を供給し続けることによって、ウォーターハンマー現象の発生を抑えつつ液体1の使用量を抑えることができる。 Again, until exposure of all shots on one substrate P is completed, by continuing to supply the liquid from the supply port of the one place, reduce the amount of the liquid 1 while suppressing the occurrence of the water hammer phenomenon be able to.

なお、上記実施形態では、第1、第2供給部材13、14と回収部材22とは離れているが、第1、第2供給部材13、14と回収部材22とは接続されていてもよいし、第1、第2供給部材13、14と回収部材22との間にこれらを接続する接続部材を設けてもよい。 In the above embodiment, first, although apart from the second supply members 13, 14 and the recovery member 22 and the first and second supply members 13, 14 and the recovery member 22 may be connected and, first, it may be provided connecting member for connecting the between the second supply members 13, 14 and the recovery member 22. また、上記実施形態では、供給部材13、14の内部流路13H、14Hや回収部材22の内部流路22Hは基板Pの表面に対して垂直であるように説明したが、傾斜していてもよい。 In the above embodiment, the internal flow passage 13H of the supply members 13, 14, the internal flow passage 22H of 14H and collecting member 22 has been described as being perpendicular to the front surface of the substrate P, be inclined good. 例えば、供給部材13、14の内部流路13H、14H(あるいは供給口13A、14A)を投影領域AR1側に向くように設けてもよい。 For example, the internal flow passage 13H of the supply members 13, 14, 14H (or the supply ports 13A, 14A) may be a provided to face the projection area AR1 side. 更に、供給口13A、14Aと回収部材22の回収口22Aとの基板Pの表面に対する距離(高さ)を異なるように設けてもよい。 Furthermore, the supply ports 13A, distance (height) relative to the surface of the substrate P 14A and the recovery port 22A of the recovery member 22 may be provided differently to.

なお、供給部材13、14を含む液体供給機構10、及び回収部材22を含む液体回収機構20のそれぞれは、投影光学系PL及びこの投影光学系PLを支持する支持部材以外の支持部材で支持されることが好ましい。 Incidentally, each of the liquid recovery mechanism 20 includes a liquid supply mechanism 10 and the recovery member 22 includes a supply member 13, 14 is supported by a supporting member other than the supporting member which supports the projection optical system PL and the projection optical system PL Rukoto is preferable. これにより、液体回収機構10や液体回収機構20で発生した振動が、投影光学系PLに伝達することを防ぐことができる。 Accordingly, vibrations generated by the liquid recovery mechanism 10 and the liquid recovery mechanism 20 can be prevented from being transmitted to the projection optical system PL. また逆に、投影光学系PLと供給部材13、14とを隙間無く接触させることにより、液体1への大気の混入を防ぐ効果も期待できる。 Conversely, by contacting the feed member 13 and the projection optical system PL without clearance, the effect can also be expected to prevent contamination of the atmosphere into the liquid 1.

以下、本発明の他の実施形態について説明する。 Hereinafter, a description of another embodiment of the present invention. ここで、以下の説明において、上述した実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略もしくは省略する。 In the following description, the same reference numerals are given to identical or similar to those in the embodiments described above, simplified or omitted.

上記実施形態に係る液体回収機構20は、1つの液体回収部21と、この液体回収部21に回収管21Aを介して接続され、円環状に連続的に形成された回収口22Aを有する回収部材22とを備えた構成であるが、複数の液体回収部を設けてもよい。 Liquid recovery mechanism 20 according to the above embodiment, the one liquid recovery unit 21, is connected via a recovery tube 21A to the liquid recovery unit 21, recovery member having a recovery port 22A which is continuously formed in an annular shape Although a configuration in which a 22 may be provided with a plurality of liquid recovery unit. これにより回収口22Aの各回収位置での回収力のばらつきを抑えることが可能となる。 This makes it possible to suppress variations in the recovery force at each recovery position of the recovery port 22A. また、制御装置CONTはこの複数の液体回収部のそれぞれの回収力を液体回収位置に応じて異ならせるようにしてもよい。 Further, the control unit CONT may be a respective recovery forces of the plurality of liquid recovery portions made different depending on the liquid recovery position. このことを図7を参照しながら説明する。 This will be described with reference to FIG. 7.

図7は、本発明の他の実施形態を示す図であって、液体回収機構20の他の例を示す平面模式図である。 Figure 7 is a view showing another embodiment of the present invention, it is a schematic plan view showing another example of the liquid recovery mechanism 20. 図7において、液体回収機構20は、第1液体回収部26と、第2液体回収部27と、この第1液体回収部26に回収管26Aを介して接続された第1回収部材28と、第2液体回収部27に回収管27Aを介して接続された第2回収部材29とを備えている。 7, the liquid recovery mechanism 20 includes a first liquid recovery unit 26, and the second liquid recovery unit 27, a first recovery member 28 which is connected via a recovery tube 26A to the first liquid recovery unit 26, and a second recovery member 29 which is connected via a recovery tube 27A to the second liquid recovery unit 27. 第1、第2回収部材28、29のそれぞれは平面視略円弧状に形成されており、第1回収部材28は投影領域AR1の−X側に配置され、一方、第2回収部材29は投影領域AR1の+X側に配置されている。 Each of the first and second recovery members 28, 29 are formed in a planar view substantially circular arc shape, the first recovery member 28 is disposed on the -X side of the projection area AR1, while the second recovery member 29 is projected It is arranged on the + X side of the area AR1. なお、第1、第2回収部材28、29は、上記実施形態同様、基板P側を向く回収口と、その内部に設けられた仕切部材とを備えている。 The first, second recovery members 28, 29 similar to the embodiment includes a recovery port that faces the substrate P side, and a partition member disposed therein. また、第1、第2液体回収部26、27の回収動作は制御装置CONTによりそれぞれ独立して行われる。 The first recovery operation of the second liquid recovery unit 26, 27 is carried out independently by the control unit CONT.

基板P上のショット領域を走査露光するに際し、制御装置CONTは液体供給機構10より液体1を基板P上に供給するとともに、液体回収機構20のうち第1、第2液体回収部26、27のそれぞれを駆動し、基板P上の液体1を回収する。 Upon scanning exposure of the shot area on the substrate P, controller CONT supplies the liquid 1 onto the substrate P from the liquid supply mechanism 10, the first of the liquid recovery mechanism 20, the second liquid recovery unit 26, 27 each driven to recover the liquid 1 on the substrate P. ここで、制御装置CONTは、液体回収機構20の液体回収力を、液体回収位置に応じて異なるように制御する。 Here, the control unit CONT, the liquid recovery force of the liquid recovery mechanism 20 is controlled to be different depending on the liquid recovery position. 具体的には、制御装置CONTは、走査方向に関して、投影領域AR1の手前での単位時間あたりの液体回収量(回収力)を、その反対側での液体回収量よりも少なく設定する。 More specifically, the control unit CONT, in the scanning direction, the liquid recovery amount per unit time in front of the projection area AR1 (recovery force) is set smaller than the liquid recovery amount at the opposite side. すなわち、走査方向前方側(液体1が流れる下流側)での液体回収力を多くする。 That is, to increase the liquid recovery force in the scanning direction the front side (downstream liquid 1 flows). 具体的には、基板Pが+X方向に移動しているときには、投影領域AR1に対して+X側に設けられた第2回収部材29(第2液体回収部27)による回収力を、−X側に設けられた第1回収部材28(第1液体回収部26)による回収力より大きくする。 More specifically, when the substrate P is moved in the + X direction, the recovery force by the second recovery member 29 provided on the + X side with respect to the projection area AR1 (second liquid recovery unit 27), -X side larger than the recovery force of the first recovery member 28 (first liquid recovery unit 26) provided in the. これにより、外部への流体1の流出を防ぎつつ基板P上の液体回収動作を円滑に行うことができる。 Thus, it is possible to smoothly perform the liquid recovery operation on the substrate P while preventing the outflow of the fluid 1 to the outside.

なお、上記実施形態では、第1、第2液体回収部26、27による液体回収動作を同時に行う構成であるが、別々に行う構成であってもよい。 In the above embodiment, first, it is simultaneously constituting the liquid recovery operation by the second liquid recovery unit 26 and 27, it may be configured to perform separately. 例えば、基板Pが+X方向に移動しているときには、投影領域AR1に対して+X側に設けられた第2回収部材29(第2液体回収部27)による液体回収動作のみを行い、第1回収部材28(第1液体回収部26)による液体回収動作を停止する構成であってもよい。 For example, when the substrate P is moved in the + X direction, it performs only liquid recovery operation by the second recovery member 29 provided on the + X side with respect to the projection area AR1 (second liquid recovery unit 27), the first recovery the liquid recovery operation by the member 28 (first liquid recovery unit 26) may be configured to stop. この場合、液体1は主に+X側に流れるため、第2液体回収部27の回収動作のみによっても液体1を回収できる。 In this case, the liquid 1 is mainly + to flow in the X side, the liquid 1 can be recovered by only the recovery operation of the second liquid recovery unit 27.

また、上記各実施形態では、液体回収機構20の回収部材は投影領域AR1の全部を囲むように配置されているが、投影領域AR1の走査方向両側のみにある構成であってもよい。 In the above embodiments, although the recovery member of the liquid recovery mechanism 20 is disposed to surround the whole of the projection area AR1, it may be configured only on the both sides in the scanning direction of the projection area AR1.

また、上記各実施形態では、液体回収機構20の回収部材は投影領域AR1を取り囲むように連続的に形成されているが、図8に示すように、複数の回収部材22Dを断続的に配置する構成であってもよい。 In the above embodiments, although the recovery member of the liquid recovery mechanism 20 is formed continuously to surround the projection area AR1, as shown in FIG. 8, intermittently arranging a plurality of recovery members 22D a configuration may be. 同様に、液体供給機構10に関しても複数の供給部材13D、14Dを断続的に配置する構成であってもよい。 Similarly, a plurality of supply members 13D, the 14D may be intermittently construction of arranging regard liquid supply mechanism 10.
この場合も、投影領域AR1を取り囲むように形成された回収口で回収動作を継続的に行なっているので、液体1がいずれの方向に濡れ拡がっても、液体1を良好に回収することができる。 Again, since performing continuously a collecting operation by the recovery port formed to surround the projection area AR1, even the liquid 1 is spread wet in either direction, it is possible to satisfactorily recover the liquid 1 .

また、液体回収機構20の回収部材を複数設けた場合等において、液体回収機構20は、投影領域AR1に対して走査方向に離れた位置での液体回収力(単位時間あたりの液体回収量)を、それとは別の位置、具体的には非走査方向に離れた位置での液体回収力よりも大きくすることにより、走査露光する際、基板P上の液体1を円滑に回収することができる。 In a case such as where a plurality of recovery members of the liquid recovery mechanism 20, the liquid recovery mechanism 20, the liquid recovery force at a position distant in the scanning direction with respect to the projection area AR1 (liquid recovery amount per unit time) , another position from that, by specifically larger than the liquid recovery force at a position apart in the non-scanning direction, when the scanning exposure, it is possible to smoothly recover the liquid 1 on the substrate P.

また、仕切部材23により分割された分割空間24のそれぞれに対して真空ポンプ等を有する複数の液体回収部を回収管を介してそれぞれ接続し、これら複数の液体回収部の回収動作を個別に制御することで、液体回収位置に応じて回収力を異ならせるようにしてもよい。 Further, a plurality of liquid recovery portions each connected via a recovery tube, individually control the recovery operations of the plurality of liquid recovery unit having a vacuum pump or the like for each of the divided spaces 24 divided by the partition member 23 by, it may be made different recovery force depending on the liquid recovery position. なお、分割空間24のそれぞれに個別に液体回収部を接続せず、1つの液体回収部と複数の分割空間24のそれぞれとを複数の回収管で接続し、これら回収管のそれぞれに弁を設け、弁の開度を調整することで、液体回収位置に応じて回収力を異ならせるようにしてもよい。 Incidentally, each without connecting the liquid recovery section individually divided space 24, connects the respective one of the liquid recovery unit and a plurality of divided spaces 24 at a plurality of recovery tubes, provided a valve for each of these recovery pipes , by adjusting the degree of opening of the valve, it may be made different recovery force depending on the liquid recovery position. 更には、前記複数の回収管それぞれの長さを変えることで、圧力損失により各分割空間24での回収力を異ならせることも可能である。 Furthermore, by changing the length of each of the plurality of recovery tubes, it is also possible to vary the recovery force at each of the divided spaces 24 by the pressure loss.

なお、上記各実施形態では、液体供給機構10の供給部材は平面視略円弧状であるが、図9に示すように、直線状であってもよい。 In the above embodiments, the supply member of the liquid supply mechanism 10 is a plan view substantially circular arc shape, as shown in FIG. 9 may be linear. ここで、図9に示す平面視直線状の供給部材13、14は、投影領域AR1の走査方向両側にそれぞれ設けられている。 Here, a plan view straight supply members 13, 14 shown in FIG. 9 are respectively provided on both sides in the scanning direction of the projection area AR1. 同様に、液体回収機構20の回収部材22も円環状に限らず、図9に示すように矩形状であってもよい。 Similarly, the recovery member 22 of the liquid recovery mechanism 20 is not limited to annular, it may be rectangular as shown in FIG.

図10(a)に示すように、液体供給機構10の供給部材13(14)の内部流路13H(14H)に多孔質体40を設けてもよい。 As shown in FIG. 10 (a), the internal channel 13H (14H) may also be provided a porous body 40 of the supply member 13 of the liquid supply mechanism 10 (14). あるいは図10(b)に示すように、仕切部材41を設けてスリット状の流路を形成してもよい。 Alternatively, as shown in FIG. 10 (b), it may be a slit-shaped flow path by providing a partition member 41. こうすることにより、供給部材13(14)から基板P上に供給される液体1を整流でき、基板P上で乱流が発生したり液体が振動したりする不都合の発生を抑えることができる。 By doing so, it is possible to suppress the occurrence of inconveniences that can rectify the liquid 1 supplied from the supply member 13 (14) on the substrate P, the liquid or turbulence is generated on the substrate P or vibrate.

上記各実施形態では、トラップ部材30(トラップ面31)は平面視楕円形状であるように説明したが、真円形状、あるいは矩形状であってもよい。 In the above embodiments, the trap member 30 (trap surface 31) has been described as being a plan view elliptical shape may be a circular shape, or a rectangular shape. 一方、液体1が流出しやすいのは投影領域AR1の走査方向両側であるため、上記実施形態のように、トラップ部材30を楕円形状にすることにより、流出しようとする液体1を良好に捕捉できる。 On the other hand, the liquid 1 tends to outflow is a scanning direction on both sides of the projection area AR1, as in the above embodiment, by making the trapping member 30 to the elliptical shape, can be satisfactorily capture the liquid 1 to be spill . また、上記実施形態では、トラップ部材30(トラップ面31)は楕円形状であって回収部材22の液体回収位置の外側全部に回収部材22を取り囲むように設けられている構成であるが、例えば投影領域AR1の走査方向両側のみに設け、投影領域AR1に対して非走査方向に離れた位置には設けない構成とすることができる。 In the above embodiment, the trap member 30 (trap surface 31) is a structure which is provided so as to surround the recovery member 22 to the outside all of the liquid recovery position of the elliptical shape and a recovered member 22, for example, projection provided only on both sides in the scanning direction of the area AR1, it can be configured not provided at a position apart in the non-scanning direction with respect to the projection area AR1. 液体1が流出しやすいのは走査方向両側であるため、投影領域AR1の走査方向両側にトラップ部材30を設けるだけでも、流出しようとする液体1を良好に捕捉できる。 Since the liquid 1 tends to outflow is a scanning direction on both sides, even only by providing a trap member 30 in the scanning direction on both sides of the projection area AR1, can be satisfactorily capture the liquid 1 to be spill. また、トラップ面31の傾斜角度はその位置に応じて異なるように設定されていてもよい。 The inclination angle of the trap surface 31 may be varied according to its position. 例えば、トラップ面31のうち投影領域AR1の走査方向両側付近の傾斜角度を他の部分より大きくするようにしてもよい。 For example, it may be larger than the inclination angle and the other part in the vicinity of both sides in the scanning direction of the projection area AR1 of the trap surface 31. また、トラップ面31はフラット面である必要は無く、例えば複数の平面を組み合わせた形状であってもよい。 Also, the trap surface 31 may have a shape that combines not have to be a flat surface, for example, a plurality of planes.

図11はトラップ部材30のトラップ面31の他の実施形態を示す図である。 Figure 11 is a view showing another embodiment of the trap surface 31 of the trap member 30. 図11に示すように、トラップ面31は曲面状であってもよい。 As shown in FIG. 11, the trap surface 31 may be curved. 具体的には、図11に示すように、トラップ面31は断面視例えば2次曲線状あるいは円弧状であってもよい。 Specifically, as shown in FIG. 11, the trap surface 31 may be a cross section for example quadratic curved or arcuate. ここで、トラップ面31は基板P側に膨らむ曲面であることが好ましい。 Here, the trap surface 31 is preferably a curved surface bulging substrate P side. このような形状であっても、液体1を良好に捕捉することができる。 Even with such a shape, it is possible to satisfactorily capture the liquid 1.

あるいは、図12に示すように、トラップ面31に対して表面積拡大処理、具体的には粗面処理を施してもよい。 Alternatively, as shown in FIG. 12, the surface area enlargement processing on the trap surface 31, specifically may be subjected to surface roughening. 粗面処理することによりトラップ面31の表面積が拡大し、液体1をより一層良好に捕捉可能となる。 By surface roughening expanded surface area of ​​the trap surface 31, more the better possible capture the liquid 1. なお、粗面処理はトラップ面31の全面にする必要は無く、トラップ面31のうち、例えば走査方向に沿った一部の領域のみに粗面処理を施す構成であってもよい。 Incidentally, surface roughening not have to be the entire surface of the trap surface 31, out of the trap surface 31 may be only a rough process is performed to the structure part of the region for example along the scanning direction.

図13に示すように、トラップ部材30を複数のフィン部材32により構成してもよい。 As shown in FIG. 13, it may constitute a trap member 30 by a plurality of fin members 32. 図13において、フィン部材32は側面視略三角形状であって、基板Pに対向する辺(下辺)は、投影領域AR1に対して外側に向かうにつれて上方向に傾斜している。 13, the fin member 32 is a side view triangular shape, the sides facing the substrate P (lower side) is inclined upward toward the outer side with respect to the projection area AR1. そして、これら複数のフィン部材32は、回収部材22の外側面に、その長手方向を外側に向けるようにして放射状に取り付けられている。 The plurality of fin members 32, the outer surface of the recovery member 22, is mounted radially so as to direct the longitudinal direction on the outside. ここで、複数のフィン部材32どうしは離間しており、各フィン部材32間には空間部33が形成されている。 Here, how to multiple fin members 32 are spaced apart, between the fin members 32 are formed a space portion 33. 回収部材22で回収しきれなかった液体1は、フィン部材32の間の空間部33に表面張力で捕捉されることにより、液体1の基板P外部への流出が防止される。 Liquid 1 that has not been recovered by the recovery member 22, by being captured by the surface tension in the space portion 33 between the fin members 32, the outflow of the substrate P outside the liquid 1 is prevented.

なお、複数のフィン部材32は等間隔で設けられてもよいし、不等間隔であってもよい。 The plurality of fin members 32 may be provided at equal intervals, or may be irregular intervals. 例えば、走査方向に沿う位置に設けられるフィン部材32の間隔を、非走査方向に沿う位置に設けられるフィン部材32の間隔より小さく設定してもよい。 For example, the distance between the fin members 32 provided at a position along the scanning direction, may be set smaller than the distance between the fin members 32 provided at a position along the non-scanning direction. また、複数のフィン部材32それぞれの長さ(放射方向のサイズ)は同じでもよいし、走査方向に沿う位置に設けられるフィン部材32の長さがそれ以外の位置に設けられるフィン部材32より長くてもよい。 The plurality of fin members 32 each length (radial size) may be the same, longer than the fin member 32 the length of the fin members 32 provided at a position along the scanning direction is provided at a position other than it it may be. また、トラップ部材30のうち、一部の領域をフィン部材により構成し残りの領域をトラップ面により構成することもできる。 Also, of the trap member 30 may be a part of the region constituted by the fin member constructed by the trap surface the remaining area. 更には、図4等を参照して説明したトラップ面31にフィン部材32を取り付ける構成であってもよい。 Furthermore, it may be configured for attaching the fin member 32 to the trap surface 31 as explained with reference to FIG. 4 and the like. なお、フィン部材32の表面に対しても、液体1との親和性を高める親液化処理を施しておくことが好ましい。 Also with respect to the surface of the fin member 32, it is preferable to performing lyophilic treatment to enhance the affinity for the liquid 1.

上記各実施形態において、トラップ面31(あるいはフィン部材32)に対して親液化処理を施す場合、このトラップ面31の親液性に分布を持たせるようにしてもよい。 In the above embodiment, when performing the lyophilic process on the trap surface 31 (or the fin members 32), may be provided with a distribution in the liquophilic the trap surface 31. 換言すれば、表面処理する面上の複数の領域についての液体の接触角がそれぞれ異なる値となるように表面処理を行うことができる。 In other words, it is possible to perform surface treatment so that the contact angle of the liquid for a plurality of areas on the surface of the surface treatment becomes different values. 例えば、トラップ面31のうち投影領域AR1に対して外側の一部の領域の親液性を内側の領域に対して低下するようにしてもよい。 For example, it is also possible to reduce the lyophilic portion of the region outside the inner region with respect to the projection area AR1 of the trap surface 31. 更に、トラップ面31の全部を親液化処理する必要はなく、例えば走査方向に沿う一部の領域のみを親液化処理する構成であってもよい。 Furthermore, there is no need to lyophilic process all of the trap surface 31, for example, only a part of the region along the scanning direction may be configured to lyophilic treatment.

なお、上記実施形態では、トラップ面31に対して親液化処理を施すように説明したが、液体供給機構10や液体回収機構20のうち液体1が流れる流路の表面に対しても親液化処理を施すことができる。 In the above embodiment has been described as performing a lyophilic process to the trap surface 31, lyophilic treatment against the surface of the flow path liquid 1 flows out of the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20 it can be subjected. 特に、液体回収機構20の回収部材22に親液化処理を施しておくことにより、液体回収を円滑に行うことができる。 Particularly, by previously performing a lyophilic process to the recovery member 22 of the liquid recovery mechanism 20, it is possible to smoothly perform the liquid recovery. あるいは、液体1が接触する鏡筒PKを含む投影光学系PLの先端部に対しても親液化処理を施すことができる。 Alternatively, it is possible to perform lyophilic processing also with respect to the distal end of the projection optical system PL including the barrel PK which the liquid 1 makes contact. なお、光学素子2に薄膜を形成する場合、露光光ELの光路上に配置されるものであるため、露光光ELに対して透過性を有する材料で形成され、その膜厚も露光光ELを透過可能な程度に設定される。 In the case of forming a thin film on the optical element 2, because it is intended to be disposed on the optical path of the exposure light EL, formed of a material having a transparent property against exposing light EL, the thickness also the exposure light EL It is set to the extent possible transmission.

また、表面処理のための薄膜は単層膜であってもよいし複数の層からなる膜であってもよい。 Further, to the thin film for surface treatment may be a single layer film or a film formed of a plurality of layers. また、その形成材料も、金属、金属化合物、及び有機物など、所望の性能を発揮できる材料であれば任意の材料を用いることができる。 Furthermore, the formation material is also a metal, a metal compound, and organic matter, it can be made of any material as long as the material can exhibit the desired performance.

また、基板Pの表面にも液体1との親和性に合わせて表面処理を施してもよい。 It may also be subjected to a surface treatment in accordance with the affinity for the liquid 1 on the surface of the substrate P. なお、上述したように、トラップ面31の液体親和性が、基板P表面の液体親和性より高いことが好ましい。 As described above, the liquid affinity of the trap surface 31 is preferably higher than the liquid affinity of the substrate P surface.

次に、図14を参照しながら本発明に係る液体供給機構10及び液体回収機構20の他の実施形態について説明する。 Next, a description of another embodiment of the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20 according to the present invention with reference to FIG. 14.

図14において、液体供給機構10は、第1液体供給部11及び第2液体供給部12と、投影領域AR1に対して走査方向一方側(−X側)に設けられた第1供給部材13と、他方側(+X側)に設けられた第2供給部材14と、第1液体供給部11と第1供給部材13とを接続する第1供給管41と、第2液体供給部12と第2供給部材14とを接続する第2供給管42とを備えている。 14, the liquid supply mechanism 10 includes a first liquid supply section 11 and the second liquid supply section 12, a first supply member 13 provided in the scanning direction one side (-X side) with respect to the projection area AR1 the other side a second supply member 14 provided on the (+ X side), a first supply pipe 41 connecting the first liquid supply unit 11 and the first supply member 13, the second liquid supply section 12 second and a second supply pipe 42 which connects the supply member 14. 第1、第2供給部材13、14は、図2及び図3を参照して説明した実施形態同様、内部流路13H、14Hと、その下端部に形成された供給口13A、14Aとをそれぞれ備えており、平面視略円弧状に形成されている。 First and second supply members 13, 14 similar embodiment described with reference to FIGS. 2 and 3, the internal flow path 13H, and 14H, the supply port 13A formed at its lower end, and 14A respectively It includes and is formed in a planar view substantially circular arc shape.

第1液体供給部11と第1供給部材13とを接続する第1供給管41は、直管部43と、スリット管部44とを有している。 The first supply pipe 41 connecting the first liquid supply unit 11 and the first supply member 13 includes a straight pipe section 43, and a slit tube section 44. 直管部43の一端部は第1液体供給部11に接続し、直管部43の他端部はスリット管部44の一端部に接続している。 One end of the straight pipe portion 43 is connected to the first liquid supply unit 11, the other end of the straight pipe portion 43 is connected to one end of the slit tube section 44. また、スリット管部44の他端部は第1供給部材13の内部流路13Hの上端部に接続している。 The other end of the slit tube section 44 is connected to the upper end of the internal flow passage 13H of the first supply member 13. スリット管部44の一端部は直管部43とほぼ同じ大きさに形成され、他端部は第1供給部材13の上端部とほぼ同じ大きさに形成されている。 One end of the slit tube section 44 is formed in substantially the same size as the straight pipe portion 43, the other end is formed in substantially the same size as the upper end of the first supply member 13. そして、スリット管部44は一端部から他端部に向かって水平方向に漸次拡がるように平面視略三角形状に形成されており、スリット管部44に形成されているスリット状の内部流路44Hは一端部から他端部に向かって水平方向に漸次拡がるように形成されている。 Then, the slit tube section 44 is formed in a planar view substantially triangular shape so as to extend progressively in the horizontal direction from one end to the other end, the internal flow passage slit formed in the slit tube section 44 44H is formed so as to gradually spread horizontally from one end to the other end it is.

同様に、第2液体供給部12と第2供給部材14とを接続する第2供給管42は、直管部45と、スリット管部46とを有している。 Similarly, the second supply pipe 42 which connects the second liquid supply section 12 and a second supply member 14 includes a straight pipe section 45, and a slit tube section 46. 直管部45の一端部は第2液体供給部12に接続し、直管部45の他端部はスリット管部46の一端部に接続している。 One end of the straight pipe portion 45 is connected to the second liquid supply section 12, the other end of the straight pipe portion 45 is connected to one end of the slit tube section 46. また、スリット管部46の他端部は第2供給部材14の内部流路14Hの上端部に接続している。 The other end of the slit tube section 46 is connected to the upper end of the internal passage 14H of the second supply member 14. スリット管部46の一端部は直管部45とほぼ同じ大きさに形成され、他端部は第2供給部材14の上端部とほぼ同じ大きさに形成されている。 One end of the slit tube section 46 is formed in substantially the same size as the straight pipe portion 45, the other end is formed in substantially the same size as the upper end portion of the second supply member 14. そして、スリット管部46は一端部から他端部に向かって水平方向に漸次拡がるように平面視略三角形状に形成されており、スリット管部46に形成されているスリット状の内部流路46Hは一端部から他端部に向かって水平方向に漸次拡がるように形成されている。 The slit tube section 46 is formed in a planar view substantially triangular shape so as to extend progressively in the horizontal direction from one end to the other end, the internal flow passage slit formed in the slit tube section 46 46H is formed so as to gradually spread horizontally from one end to the other end it is.

液体回収機構20は、平面視環状に形成された回収部材22と、複数の液体回収部61〜64と、回収部材22と液体回収部61〜64のそれぞれとを接続する複数の回収管71〜74とを備えている。 Liquid recovery mechanism 20 includes a recovery member 22 which is formed in plan view ring, a plurality of liquid recovery units 61 to 64, a plurality of recovery pipes connecting the respective recovery member 22 and the liquid recovery units 61 to 64 71 to and a 74. 本実施形態において、液体回収部は第1〜第4液体回収部61〜64の4つで構成され、これに対応するように回収管は第1〜第4回収管71〜74の4つで構成されている。 In the present embodiment, the liquid recovery unit is composed of four of the first to fourth liquid recovery units 61 to 64, the recovery pipe so as to correspond thereto In four of the first to fourth recovery tubes 71 to 74 It is configured. 回収部材22は、図2及び図3を参照して説明した実施形態同様、環状の内部流路22Hと、その下端部に形成された回収口22Aとを備えている。 Recovery member 22, similarly embodiment described with reference to FIGS. 2 and 3, includes an internal flow passage 22H of the annular, and a recovery port 22A which is formed at its lower end. なお、図14に示す実施形態の内部流路22Hには仕切部材(23)が設けられていない。 Incidentally, the partition member (23) to the internal flow passage 22H of the embodiment shown in FIG. 14 is not provided. 液体回収機構20の回収部材22は、液体供給機構10の第1、第2供給部材13、14の外側に配置されている。 Recovery member 22 of the liquid recovery mechanism 20, the first liquid supply mechanism 10 is disposed on the outer side of the second supply members 13, 14.

複数の液体回収部のうち第1液体回収部61と回収部材22とを接続する第1回収管71は、直管部75と、スリット管部76とを有している。 The first recovery pipe 71 for connecting the plurality of first liquid recovery portion 61 of the liquid recovery unit and the recovery member 22 includes a straight pipe section 75, and a slit tube section 76. 直管部75の一端部は第1液体回収部61に接続し、直管部75の他端部はスリット管部76の一端部に接続している。 One end portion of the straight tube portion 75 is connected to the first liquid recovery unit 61, the other end of the straight pipe portion 75 is connected to one end of the slit tube section 76. また、スリット管部76の他端部は回収部材22の内部流路22Hの上端部に接続している。 The other end of the slit tube section 76 is connected to the upper end of the internal passage 22H of the recovery member 22. ここで、スリット管部76の一端部は直管部75とほぼ同じ大きさに形成され、一方、スリット管部76の他端部は円環状の回収部材22の上端部の略1/4の大きさに形成されている。 Here, one end of the slit tube section 76 is formed in substantially the same size as the straight pipe portion 75, whereas, in the slit tube section 76 and the other end portion of the substantially 1/4 of the upper end of the recovery member 22 of the annular It is formed in a size. そして、スリット管部76は一端部から他端部に向かって水平方向に漸次拡がるように平面視略三角形状に形成されており、スリット管部76に形成されているスリット状の内部流路76Hは一端部から他端部に向かって水平方向に漸次拡がるように形成されている。 Then, the slit tube section 76 is formed in a planar view substantially triangular shape so as to extend progressively in the horizontal direction from one end to the other end, the internal flow passage slit formed in the slit tube section 76 76H is formed so as to gradually spread horizontally from one end to the other end it is.

同様に、第2液体回収部62と回収部材22とを接続する第2回収管72は、直管部77と、スリット管部78とを有しており、スリット管部78の一端部は直管部77とほぼ同じ大きさに形成され、一方、スリット管部78の他端部は円環状の回収部材22の上端部の略1/4の大きさに形成されている。 Similarly, the second recovery tube 72 which connects the second liquid recovery unit 62 and the recovery member 22 includes a straight pipe portion 77 has a slit tube section 78, one end of the slit tube section 78 is straight It is formed in substantially the same size as the pipe section 77, whereas the other end of the slit tube section 78 is formed to a size of approximately 1/4 of the upper end of the recovery member 22 of annular shape. そして、スリット管部78は平面視略三角形状に形成され、スリット管部78に形成されているスリット状の内部流路78Hは一端部から他端部に向かって水平方向に漸次拡がるように形成されている。 The slit tube section 78 is formed in a planar view substantially triangular shape, formed so that the internal flow passage 78H slit formed in the slit tube section 78 spreads gradually in a horizontal direction from one end to the other end It is. また、第3液体回収部63と回収部材22とを接続する第3回収管73は、直管部79と、スリット管部80とを有しており、第4液体回収部64と回収部材22とを接続する第4回収管74は、直管部81と、スリット管部82とを有している。 The third recovery tube 73 which connects the third liquid recovery unit 63 and the recovery member 22 includes a straight pipe portion 79 has a slit tube section 80, collecting the fourth liquid recovery unit 64 member 22 the fourth recovery tube 74 which connects the door includes a straight pipe section 81, and a slit tube section 82. そして、スリット管部80、82の他端部は円環状の回収部材22の上端部の略1/4の大きさにそれぞれ形成されている。 The other end portion of the slit tube section 80, 82 are formed to a size of approximately 1/4 of the upper end of the recovery member 22 of annular shape. そして、スリット管部80、82のそれぞれは平面視略三角形状に形成され、スリット管部80、82に形成されているスリット状の内部流路80H、82Hのそれぞれは一端部から他端部に向かって水平方向に漸次拡がるように形成されている。 Then, each of the slit tube section 80, 82 is formed in a planar view substantially triangular shape, the internal flow passage slit formed in the slit tube section 80, 82 80H, each of 82H from one end to the other headed are formed to gradually widened in the horizontal direction.

液体供給機構10及び液体回収機構20を構成する部材のうち液体が流通する部材、具体的には供給管41、42、及び回収管71〜74は、上述したように、ポリ四フッ化エチレン等の合成樹脂により形成されてもよいし、例えばステンレス鋼やアルミニウム等の金属により形成されてもよい。 Member the liquid flows among the members constituting the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20, and specifically the supply tubes 41, 42 and the recovery pipe 71 to 74, as described above, polytetrafluoroethylene, etc. may be formed by a synthetic resin, it may be formed of a metal such as stainless steel or aluminum. 本実施形態では、液体が流通する部材は金属製である。 In this embodiment, members which liquid flows is made of metal. 特に、液体供給機構10及び液体回収機構20のうち液体の流路を構成する部材をアルミニウムとすることにより、アルミニウムは液体(水)との接触角が小さいため、液体を円滑に流通することができる。 In particular, by the members constituting the flow path of the liquid out of the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20 with aluminum, because aluminum has a small contact angle with a liquid (water), it is smoothly flowing liquid it can. また、図14には示されていないが、液体回収機構20の回収部材の周囲には先の実施形態と同様にトラップ部材30が設けられている。 Further, although not shown in FIG. 14, above embodiment similarly to the trap member 30 around the recovery member of the liquid recovery mechanism 20 is provided.

次に、液体供給機構10及び液体回収機構20の動作について説明する。 Next, the operation of the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20. 液浸領域(AR2)を形成するために、制御装置CONTは、液体供給機構10の第1、第2液体供給部11、12のそれぞれを駆動する。 In order to form the liquid immersion area (AR2), the control unit CONT drives the first, each of the second liquid supply sections 11, 12 of the liquid supply mechanism 10. 第1、第2液体供給部11、12のそれぞれから送出された液体1は、第1、第2供給管41、42のそれぞれを流通した後、第1、第2供給部材13、14を介して基板P上に供給される。 First, liquid 1 sent from the respective second liquid supply units 11 and 12, after flowing through the respective first, second supply pipe 41, through the first and second supply members 13, 14 It is supplied onto the substrate P Te. ここで、第1液体供給部11から送出された液体1は、第1供給管41の直管部43を流通した後、スリット管部44を流通することで水平方向(横方向)に拡がり、スリット管部44の他端部において、第1供給部材13の内部流路13H(供給口13A)のほぼY軸方向のサイズまで拡がった後、第1供給部材13の内部流路13Hを介して基板P上に供給される。 Here, the liquid 1 sent from the first liquid supply unit 11, after flowing through the straight pipe portion 43 of the first supply pipe 41, spread in the horizontal direction (lateral direction) by flowing through the slit tube section 44, at the other end of the slit tube section 44, after the spread to almost the size of the Y-axis direction of the internal flow passage 13H of the first supply member 13 (supply port 13A), through the internal flow passage 13H of the first supply member 13 It is supplied onto the substrate P. これにより、液体1は、Y軸方向を長手方向とする略円弧状の供給口13Aの各位置においてほぼ均一な液体供給量で基板P上に供給される。 Accordingly, the liquid 1 is supplied onto the substrate P at approximately uniform liquid supply amounts at the respective positions of the approximately arc-shaped supply port 13A in which the Y axis direction is the longitudinal direction. 同様に、第2液体供給部12より送出された液体1も、第2供給管42の直管部45を流通した後、スリット管部46を介して水平方向(横方向)に拡がってから、第2供給部材14に供給されるため、供給口14Aの各位置においてほぼ均一な液体供給量で基板P上に供給される。 Similarly, the liquid 1 sent from the second liquid supply section 12 also after flowing through the straight pipe portion 45 of the second supply pipe 42 and through the slit tube section 46 extends in the horizontal direction (lateral direction), to be supplied to the second supply member 14, it is supplied onto the substrate P at approximately uniform liquid supply amounts at the respective positions of the supply port 14A.

すなわち、図2及び図3を参照して説明した実施形態では、供給管11Aは全て直管で構成されているため、この直管の供給管11AからY軸方向を長手方向とする第1供給部材13に直接液体を供給すると、その流路面積の違いにより、第1供給部材13の供給口13Aの長手方向中央部、すなわち供給管11Aの直下の位置における液体供給量と、供給口13Aの長手方向端部、すなわち供給管11Aと離れた位置における液体供給量とに差が生じ、液体供給量が供給口13Aの各位置において不均一になる場合がある。 That is, in the embodiment described with reference to FIGS. 2 and 3, since it is composed of all the supply pipe 11A is a straight pipe, the first supply to the Y-axis direction from the supply pipe 11A of the straight pipe and the longitudinal direction supplying direct liquid into member 13, the difference in flow area, longitudinal center of the supply port 13A of the first supply member 13, i.e. the liquid supply amount at the position directly below the supply pipe 11A, the supply port 13A longitudinal end, i.e. a difference occurs in the liquid supply amount at the remote supply pipe 11A position, there is a case where the liquid supply amount is not uniform at each position of the supply port 13A. 具体的には、供給口13Aの長手方向中央部(供給管11Aの直下の位置)における液体供給量が、供給口13Aの長手方向端部(供給管11Aと離れた位置)における液体供給量より多くなり、均一な液体供給ができずに液浸領域AR2が不均一になる可能性が生じる。 Specifically, the liquid supply amount at (position directly below the supply pipe 11A) longitudinal center of the supply port 13A is from the liquid supply amount at the longitudinal end (supply pipe 11A and a remote location) of the supply port 13A increases, there is a possibility that the liquid immersion area AR2 is nonuniform unable uniform liquid supply. しかしながら、Y軸方向を長手方向とする第1供給部材13(供給口13A)に第1液体供給部11より液体1を供給する際、供給管41の少なくともその一部の流路の大きさを第1供給部材13の大きさに応じて設定し、本実施形態のように、供給管41の一部を第1供給部材13に向かって水平方向に漸次拡がるテーパ状の内部流路44Hを有するスリット管部44としたことにより、Y軸方向を長手方向とする第1供給部材13の供給口13Aの各位置においてほぼ均一な液体供給量で基板P上に液体1を供給することができる。 However, when supplying the liquid 1 from the first liquid supply unit 11 to the first supply member 13 (supply port 13A) of the Y-axis direction is the longitudinal direction, at least the size of the part of the flow channel of the supply pipe 41 set according to the magnitude of the first supply member 13, as in this embodiment, has a gradually expanding tapered internal flow passage 44H in the horizontal direction toward the first supply member 13 a portion of the feed pipe 41 by the slit tube section 44, it is possible to supply liquid 1 onto the substrate P at approximately uniform liquid supply amounts at the respective positions of the supply port 13A of the first supply member 13 in which the Y axis direction is the longitudinal direction. 同様に、第2液体供給部12から送出された液体1も第2供給管42及び第2供給部材14を介して基板P上に均一に供給される。 Similarly, it is uniformly supplied onto the substrate P even liquid 1 fed from the second liquid supply section 12 via the second supply pipe 42 and the second supply member 14.

また、制御装置CONTは、液体回収機構20の第1〜第4液体回収部61〜64のそれぞれを駆動して、基板P上の液体1を回収部材22及び第1〜第4回収管71〜74のそれぞれを介して回収する。 Further, the control unit CONT, each of the first to fourth liquid recovery units 61 to 64 of the liquid recovery mechanism 20 is driven, the liquid 1 on the substrate P recovery member 22 and the first to fourth recovery tubes 71 to each recovered through 74. 第1〜第4液体回収部61〜64のそれぞれは第1〜第4回収管71〜74を介して基板P上の液体1を吸引することで回収する。 Each of the first to fourth liquid recovery units 61 to 64 for collecting by sucking the liquid 1 on the substrate P via the first to fourth recovery tubes 71 to 74. そして、基板P上の液体1は円環状の回収部材22の回収口22Aの各位置においてほぼ均一な回収量(回収力)で回収される。 Then, the liquid 1 on the substrate P is recovered with a substantially uniform recovery amount (recovery force) at each position of the recovery port 22A of the annular recovery member 22.

すなわち、上述同様、直管の回収管と回収部材22とを直接接続すると、その流路面積の違いにより回収口22Aの各位置における液体回収量(回収力)に差が生じ、液体回収量が回収口22Aの各位置において不均一になる場合がある。 That is, the same manner as described above, connecting the recovery pipe straight pipe and a collecting member 22 directly, the liquid recovery amount at each position of the recovery port 22A by the difference in flow area (recovery force) to a difference occurs, the liquid recovery amount at each position of the recovery port 22A may become uneven. 例えば、回収管の直下の位置における液体回収量が、それ以外の位置における液体供給量より多くなり、均一な液体回収ができずに液浸領域AR2が不均一になる可能性が生じる。 For example, the liquid recovery amount at the position directly below the collection tube, be greater than the liquid supply amount at the other positions, there is a possibility that the liquid immersion area AR2 is nonuniform unable uniform liquid recovery. しかしながら、本実施形態のように、回収管の一部を回収部材22に向かって水平方向に漸次拡がるテーパ状の内部流路を有するスリット管部76、78、80、82としたことにより、円環状の回収部材22の回収口22Aの各位置においてほぼ均一な液体回収量で基板P上の液体を回収することができる。 However, as in this embodiment, by a slit tube section 76, 78, 80, 82 having an internal flow path part recovery member 22 gradually widened tapered horizontally toward the recovery pipe, circles it is possible to recover the liquid on the substrate P at approximately uniform liquid recovery amounts at the respective positions of the recovery port 22A of the annular recovery member 22.

このように、供給口13A、14Aそれぞれの各位置において液体を均一に供給できるとともに、回収口22Aの各位置において均一に回収できるので、均一な液浸領域AR2を形成することができる。 Thus, the supply ports 13A, with the liquid can be uniformly supplied at each position of 14A respectively, it is possible to uniformly collected at each position of the recovery port 22A, it is possible to form a uniform liquid immersion area AR2.

図14を参照して説明した実施形態では、スリット管部44(46)の内部流路44H(46H)は空洞状であるが、図15に示すように、液体供給機構10の供給管41(42)の一部を構成するスリット管部44(46)の内部流路44H(46H)に、液体1の流通方向に沿って(スリット管部の一端部から他端部に向かって)複数のフィン部材85を設けてもよい。 In the embodiment described with reference to FIG. 14, the internal flow passage 44H of the slit tube section 44 (46) (46H) but is hollow-shaped, as shown in FIG. 15, the supply pipe 41 of the liquid supply mechanism 10 ( the internal flow passage 44H of the slit tube section 44 constituting a part of 42) (46) (46H), along the direction of flow of the liquid 1 (from one end to the other end of the slit tube section) more the fin members 85 may be provided. これにより、液体1を整流してから供給部材13(14)を介して基板P上に供給することができる。 Thus, it is possible to supply onto the substrate P after rectifying the liquid 1 via the supply member 13 (14). なお、このフィン部材85を供給部材13(14)の内部流路13H(14H)まで延ばしてもよい。 It is also extended to the internal flow passage 13H of the supply member 13 of this fin member 85 (14) (14H). また、液体回収機構20の回収管を構成するスリット管部76、78、80、82の内部流路76H、78H、80H、82Hのそれぞれにフィン部材85を設けるようにしてもよい。 The internal flow path of the slit tube section 76, 78, 80, 82 which constitute the recovery tube of the liquid recovery mechanism 20 76H, 78H, 80H, may be provided with fins member 85 to the respective 82H.

なお、例えば基板Pが高速に走査移動する場合など、図14に示した実施形態においても基板P上の液体1を回収しきれずに、基板P上の液体1が回収部材22の外側に流出する場合が考えられる。 Incidentally, for example, if the substrate P is scanned moves at high speed, without being completely recover the liquid 1 on the substrate P even in the embodiment shown in FIG. 14, the liquid 1 on the substrate P flows out to the outside of the recovery member 22 If it is considered. その場合、基板Pの走査方向(X軸方向)に沿う位置に設けられた平面視略三角形状のスリット管部44、46の下面を、トラップ部材30の代わりにトラップ面として用いることができる。 In that case, the lower surface of the planar view substantially triangular slit tube section 44, 46 provided in a position along the scanning direction of the substrate P (X axis direction), it can be used as a trap surface in place of the trap member 30.

なお本実施形態では、1つの回収部材22に対して複数の回収管71〜74が接続されている構成であるが、複数の回収管71〜74に対応するように複数の回収部材(回収口)を基板Pに近接して設ける構成であってもよい。 In the present embodiment, although a plurality of recovery tubes 71 to 74 relative to one recovery member 22 are configurations that are connected, a plurality of collecting members so as to correspond to a plurality of recovery tubes 71 to 74 (recovery port ) may be configured to provide close to the substrate P.

次に、図16〜図19を参照しながら本発明に係る液体供給機構10及び液体回収機構20の他の実施形態について説明する。 Next, a description of another embodiment of the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20 according to the present invention with reference to FIGS. 16 to 19.

図16は本実施形態に係る液体供給機構(10)及び液体回収機構(20)を示す概略斜視図である。 Figure 16 is a schematic perspective view showing a liquid supply mechanism according to the present embodiment (10) and the liquid recovery mechanism (20). 図16において、液体供給機構(10)は、第1、第2液体供給部11、12と、第1、第2液体供給部11、12のそれぞれに接続する第1、第2供給管41、42とを備えている。 16, the liquid supply mechanism (10) includes first, second supply pipe 41 connected to each of the first and second liquid supply sections 11, 12, first and second liquid supply sections 11, 12, and a 42. 液体回収機構(20)は、第1〜第4液体回収部61〜64と、第1〜第4液体回収部61〜64のそれぞれに接続する第1〜第4回収管71〜74とを備えている。 The liquid recovery mechanism (20) includes first to fourth liquid recovery units 61 to 64, and first to fourth recovery tubes 71 to 74 connect to each of the first to fourth liquid recovery units 61 to 64 ing. そして、第1、第2供給管41、42のそれぞれの一端部は第1、第2液体供給部11、12に接続され、他端部は流路形成部材90により形成される後述する供給流路に接続される。 The first, respective ends of the second supply pipe 41 is connected to the first, the second liquid supply portions 11 and 12, the other end feed stream, which will be described later is formed by the passage forming member 90 It is connected to the road. 第1〜第4回収管71〜74のそれぞれの一端部は第1〜第4液体回収部61〜64に接続され、他端部は流路形成部材90により形成される後述する回収流路に接続される。 One ends of the first to fourth recovery tubes 71 to 74 are connected to the first to fourth liquid recovery units 61 to 64, the recovery flow passage to be described later and the other end portion is formed by the passage forming member 90 It is connected.

流路形成部材90は、第1部材91と、第1部材91の上部に配置され第2部材92と、第2部材92の上部に配置され第3部材93とを備えている。 The flow path forming member 90 includes a first member 91, and the second member 92 is placed on top of the first member 91, and a third member 93 is placed on top of the second member 92. 流路形成部材90は投影光学系PLを囲むように配置され、この流路形成部材90を構成する第1〜第3部材91〜93のそれぞれは、同一外寸で矩形の板状部材であってその中央部に投影光学系PLを配置可能な穴部91A〜93Aを有している。 Passage forming member 90 is arranged to surround the projection optical system PL, each of the first to third members 91 to 93 constituting the flow path forming member 90, a rectangular plate-like member at the same Dimensions and a deployable hole 91A~93A projection optical system PL at its center Te. 穴部91A〜93Aは互いに連通するように形成されている。 Hole 91A~93A is formed so as to communicate with each other. また、第1、第2供給管41、42は、第1〜第3部材のうち最上段の第3部材93に接続され、第1〜第4回収管71〜74は、中段の第2部材92に接続されている。 The first, the second supply pipe 41 is connected to the third member 93 of the uppermost stage among the first to third members, the first to fourth recovery tubes 71 to 74, the middle of the second member It is connected to the 92.

図17は、第1〜第3部材のうち最下段に配置される第1部材91を示す斜視図である。 Figure 17 is a perspective view showing a first member 91 disposed at the bottom of the first to third members. 第1部材91は、投影光学系PLの−X側に形成され、基板Pに液体1を供給する供給口を形成する第1供給穴部94Aと、投影光学系PLの+X側に形成され、基板P上に液体を供給する供給口を形成する第2供給穴部95Aとを備えている。 The first member 91 is formed on the -X side of the projection optical system PL, a first supply hole 94A which forms a supply port for supplying the liquid 1 onto the substrate P, is formed on the + X side of the projection optical system PL, and a second supply hole 95A which forms a supply port for supplying the liquid onto the substrate P. 第1供給穴部94A及び第2供給穴部95Aのそれぞれは平面視略円弧状に形成されている。 Each of the first supply hole 94A and the second supply hole 95A is formed in a planar view substantially circular arc shape. 更に、第1部材91は、投影光学系PLの−X側に形成され、基板P上の液体を回収する回収口を形成する第1回収穴部96Aと、投影光学系PLの−Y側に形成され、基板P上の液体を回収する回収口を形成する第2回収穴部97Aと、投影光学系PLの+X側に形成され、基板P上の液体を回収する回収口を形成する第3回収穴部98Aと、投影光学系PLの+Y側に形成され、基板P上の液体を回収する回収口を形成する第4回収穴部99Aとを備えている。 Further, the first member 91 is formed on the -X side of the projection optical system PL, a first recovery hole 96A which forms a recovery port for recovering the liquid on the substrate P, on the -Y side of projection optical system PL is formed, and the second recovery hole 97A which forms a recovery port for recovering the liquid on the substrate P, is formed on the + X side of the projection optical system PL, a third forming a recovery port for recovering the liquid on the substrate P a recovery hole 98A, is formed on the + Y side of the projection optical system PL, and a fourth recovery hole 99A which forms a recovery port for recovering the liquid on the substrate P. 第1〜第4回収穴部96A〜99Aのそれぞれは平面視略円弧状に形成されており、投影光学系PLの周囲に沿って略等間隔に設けられている。 Each of the first to fourth recovery hole 96A~99A is formed in a planar view substantially circular arc shape, it is provided at substantially equal intervals along the circumference of the projection optical system PL. また、回収穴部96A〜99Aのそれぞれは、供給穴部94A、95Bより投影光学系PLに対して外側に設けられている。 Further, each of the recovery hole 96A~99A, supply holes 94A, are provided on the outside with respect from the projection optical system PL 95B.

図18は、第1〜第3部材のうち中段に配置される第2部材92を示す斜視図であって、図18(a)は上側から見た斜視図、図18(b)は下側から見上げた斜視図である。 Figure 18 is a perspective view showing a second member 92 which is disposed in the middle of the first to third members, FIG. 18 (a) perspective view from above, FIG. 18 (b) lower is a perspective view looking up from. 第2部材92は、投影光学系PLの−X側に形成され、第1部材91の第1供給穴部94Aに接続する第3供給穴部94Bと、投影光学系PLの+X側に形成され、第1部材91の第2供給穴部95Aに接続する第4供給穴部95Bとを備えている。 The second member 92 is formed on the -X side of the projection optical system PL, and the third supply hole 94B connected to the first supply hole 94A of the first member 91, is formed on the + X side of the projection optical system PL , and a fourth supply hole 95B to be connected to the second supply hole 95A of the first member 91. 第3、第4供給穴部94B、95Bそれぞれの形状及び大きさは、第1、第2供給穴部94A、95Aに対応している。 Third and fourth supply holes 94B, each shape and size 95B, the first, second supply hole portion 94A, and corresponds to 95A.

更に、第2部材92はその下面に、投影光学系PLの−X側に形成され、第1部材91の第1回収穴部96Aに接続する第1回収溝部96Bと、投影光学系PLの−Y側に形成され、第1部材91の第2回収穴部97Aに接続する第2回収溝部97Bと、投影光学系PLの+X側に形成され、第1部材91の第3回収穴部98Aに接続する第3回収溝部98Bと、投影光学系PLの+Y側に形成され、第1部材91の第4回収穴部99Aに接続する第4回収溝部99Bとを備えている。 Moreover, the second member 92 is in its lower surface, is formed on the -X side of the projection optical system PL, a first recovery groove 96B connected to the first recovery hole 96A of the first member 91, the projection optical system PL - formed on the Y side, a second recovery groove 97B which is connected to the second recovery hole 97A of the first member 91, is formed on the + X side of the projection optical system PL, the third recovery hole 98A of the first member 91 It includes a third recovery groove 98B which connects, is formed on the + Y side of the projection optical system PL, and a fourth recovery groove 99B which connects to the fourth recovery hole 99A of the first member 91. 第1〜第4回収溝部96B〜99Bのそれぞれは、第1〜第4回収穴部96A〜99Aの形状及び大きさに対応するように平面視略円弧状に形成されており、投影光学系PLの周囲に沿って略等間隔に設けられている。 The first to each of the fourth recovery groove 96B~99B, first through are formed in the fourth recovery hole 96A~99A planar view substantially circular arc shape so as to correspond to the shape and size of the projection optical system PL It is provided at substantially equal intervals along the circumference of the. また、第1回収管71と第1回収溝部96Bとは、テーパ状溝部96Tを介して接続されている。 Further, the first recovery pipe 71 and the first recovery groove 96B, are connected via a tapered groove 96T. テーパ状溝部96Tは、第1回収管71に対する接続部から第1回収溝部96Bに向かって水平方向に漸次拡がるように形成されている。 Tapered groove 96T is formed so as to gradually spread in a horizontal direction from the connecting portion to the first recovery tube 71 toward the first recovery groove 96B. 同様に、第2回収管72と第2回収溝部97Bとはテーパ状溝部97Tを介して接続されており、第3回収管73と第3回収溝部98Bとはテーパ状溝部98Tを介して接続されており、第4回収管74と第4回収溝部99Bとはテーパ状溝部99Tを介して接続されている。 Similarly, the second recovery tube 72 and the second recovery groove 97B are connected via a tapered groove 97T, the third recovery tube 73 and the third recovery groove 98B are connected via a tapered groove 98T and, the fourth recovery tube 74 and the fourth recovery groove 99B are connected via a tapered groove 99T.

図19は、第1〜第3部材のうち最上段に配置される第3部材93を示す斜視図であって、図19(a)は上側から見た斜視図、図19(b)は下側から見上げた斜視図である。 Figure 19 is a perspective view showing a third member 93 disposed at the top of the first to third members, FIG. 19 (a) perspective view from above, FIG. 19 (b) below is a perspective view looking up from the side. 第3部材93はその下面に、投影光学系PLの−X側に形成され、第2部材92の第3供給穴部94Bに接続する第1供給溝部94Cと、投影光学系PLの+X側に形成され、第2部材92の第4供給穴部95Bに接続する第2供給溝部95Cとを備えている。 The third member 93 is in its lower surface, is formed on the -X side of the projection optical system PL, a first supply groove 94C which connects to the third supply hole 94B of the second member 92, on the + X side of the projection optical system PL It is formed, and a second supply groove 95C which connects to the fourth supply hole 95B of the second member 92. 第1、第2供給溝部94C、95Cそれぞれの形状及び大きさは、第3、第4供給穴部94B、95B(ひいては第1、第2供給穴部94A、95A)に対応するように平面視略円弧状に形成されている。 First, second supply groove 94C, respective shapes and sizes 95C, the third, fourth supply hole 94B, 95B (and thus the first, second supply hole portions 94A, 95A) planar view so as to correspond to the It is formed in a substantially arc shape. また、第1供給管41と第1供給溝部94Cとは、テーパ状溝部94Tを介して接続されている。 Further, the first supply pipe 41 and the first supply groove 94C, are connected via a tapered groove 94T. テーパ状溝部94Tは、第1供給管41に対する接続部から第1供給溝部94Cに向かって水平方向に漸次拡がるように形成されている。 Tapered groove 94T is formed so as to gradually spread in a horizontal direction from the connection to the first supply pipe 41 toward the first supply groove 94C. 同様に、第2供給管42と第2供給溝部95Cとはテーパ状溝部95Tを介して接続されている。 Similarly, the second supply pipe 42 and the second supply groove 95C are connected via a tapered groove 95T.

第1〜第3部材91〜93は、例えばステンレスやチタン、アルミニウム、あるいはこれらを含む合金等の金属により形成されており、各部材91〜93の穴部や溝部は例えば放電加工により形成される。 First to third members 91 to 93 is formed, for example, stainless steel, titanium, aluminum, or is formed of a metal such as an alloy containing these, the hole or groove such as the discharge machining of the respective members 91 to 93 . 放電加工により各部材91〜93に対して加工した後、これら各部材91〜93を接着剤、熱圧着法等を用いて接合することにより、流路形成部材90が形成される。 After processing for each member 91 to 93 by electric discharge machining, adhesive these members 91 to 93, by joining with a thermocompression bonding method or the like, the flow path forming member 90 is formed. 各部材91〜93を積層して接合することで、テーパ状溝部94T、第1供給溝部94C、第3供給穴部94B、及び第1供給穴部94Aのそれぞれが接続(連通)され、これらにより第1供給管41に接続(連通)する供給流路が形成される。 By joining by laminating the members 91 to 93, the tapered groove 94T, the first supply groove 94C, the third supply hole 94B, and each of the first supply hole 94A are connected (communicated), these supply flow path for connecting (communicating) is formed in the first supply pipe 41. 同様に、テーパ状溝部95T、第2供給溝部95C、第4供給穴部95B、及び第2供給穴部95Aのそれぞれが接続(連通)されることで、第2供給管41に接続(連通)する供給流路が形成される。 Similarly, the tapered groove 95T, the second supply groove 95C, by the fourth supply hole 95B, and each of the second supply hole 95A are connected (communicated), connected to the second supply pipe 41 (communicating) supply flow path is formed. そして、第1、第2液体供給部11、12のそれぞれから送出された液体1は、第1、第2供給管41、42、及び上記供給流路を介して基板P上に供給される。 The first, liquid 1 sent from the respective second liquid supply units 11 and 12, first, is supplied onto the substrate P through the second supply pipe 41, and the supply channel. すなわち、板状部材91〜93が積層されることで、液体供給流路が形成される。 That is, the plate-like member 91 to 93 are stacked, the liquid supply passage is formed.

また、テーパ状溝部96T、第1回収溝部96B、及び第1回収穴部96Aのそれぞれが接続(連通)されることで、第1回収管71に接続(連通)する回収流路が形成される。 Further, the tapered groove 96T, since the first recovery groove 96B, and each of the first recovery hole 96A are connected (communicated), recovery flow path for connecting to the first recovery tube 71 (communication) is formed . 同様に、テーパ状溝部97T、第2回収溝部97B、及び第2回収穴部97Aのそれぞれが接続(連通)されることで、第2回収管72に接続(連通)する回収流路が形成され、テーパ状溝部98T、第3回収溝部98B、及び第3回収穴部98Aのそれぞれが接続(連通)されることで、第3回収管73に接続(連通)する回収流路が形成され、テーパ状溝部99T、第4回収溝部99B、及び第4回収穴部99Aのそれぞれが接続(連通)されることで、第4回収管74に接続(連通)する回収流路が形成される。 Similarly, the tapered groove 97T, the second recovery groove 97B, and that each of the second recovery hole 97A are connected (communicated), recovery passageway connected to the second recovery tube 72 (communicating) is formed , tapered groove 98T, that third recovery groove 98B, and each of the third recovery hole 98A are connected (communicated), recovery flow path for connecting the third recovery tube 73 (communicating) is formed tapered Jo groove 99T, that fourth recovery groove 99B, and each of the fourth recovery hole 99A are connected (communicated), the recovery flow path connected to the fourth recovery tubes 74 (communication) is formed. すなわち、板状部材91〜93が積層されることで、液体回収流路が形成される。 That is, the plate-like member 91 to 93 are stacked, the liquid recovery flow passage is formed. そして、基板P上の液体は、上記回収流路、及び第1〜第4回収管71〜74のそれぞれを介して回収される。 Then, the liquid on the substrate P is recovered through each of the recovery flow passage, and the first to fourth recovery tubes 71 to 74.

このとき、第1、第2供給管41、42のそれぞれにはテーパ状溝部94T、95Tが接続されるので、図14を参照して説明した実施形態同様、Y軸方向を長手方向とする供給口の各位置において均一に液体供給を行うことができる。 In this case, first, each of the tapered groove 94T of the second supply pipe 41, since 95T is connected, similarly embodiment described with reference to FIG. 14, supplied to the Y-axis direction is the longitudinal direction it can be uniformly liquid supplied at each position of the mouth. 同様に、回収管71〜74のそれぞれにもテーパ状溝部が接続されるので、液体回収を均一な回収力で回収することができる。 Similarly, since the tapered groove portion is connected to each of the recovery pipes 71 to 74 can be recovered liquid recovered in uniform recovery force.

そして、板状部材である第1〜第3部材91〜93のそれぞれで流路形成部材90を形成したことにより、例えば液体回収の際に空気をかみこんで液体を吸引した際に発生する振動を、流路形成部材90で吸収することができる。 Then, by forming the flow path forming member 90 at each of the first to third members 91 to 93 is a plate-like member, for example, to generate air during liquid recovery when aspirating the liquid Kamikon vibration and it can be absorbed by the flow path forming member 90. また、複数の板状部材91〜93のそれぞれに対して放電加工等の加工を施して流路の一部を形成し、これらを組み合わせることで液体の流路を形成するようにしたので、供給流路及び回収流路のそれぞれを容易に形成することができる。 Moreover, giving the process of electric discharge machining or the like to form a part of the flow path for each of the plurality of plate members 91 to 93, since to form the liquid flow path by combining these, feed each of the flow path and recovery flow path can be easily formed.

なお、流路形成部材90を形成する複数の部材91〜93のうち、最下段に配置される第1部材91の下面の第1〜第4回収穴部96A〜99Aの周囲にXY平面に対して傾斜した面を設けて、その面を親液処理することにより、液体回収機構で回収しきれなかった液体を捕捉するトラップ面として用いるようにしてもよい。 Of the plurality of members 91 to 93 to form a flow path forming member 90, with respect to the XY plane around the underside of the first to fourth recovery hole 96A~99A of the first member 91 disposed at the bottom provided inclined surface Te, by the surface treating lyophilic, may be used as the trap surface for capturing the liquid which has not been recovered by the liquid recovery mechanism. また、流路形成部材90を形成する部材91〜93は四角形の板状部材であるが、円形の板状部材を使ってもよいし、X方向に長い楕円状の板状部材にしてもよい。 Although members 91 to 93 to form a flow path forming member 90 is a plate-like member of the rectangle, it may be used a circular plate-shaped member may be a long oval shape of the plate-like member in the X direction .

また上述の流路形成部材90は、その内部に供給流路と回収流路の両方が形成されているが、どちらか一方のみを流路形成部材90の内部に設けるようにしてもよい。 The above-described flow path forming member 90 is both internal to the supply channel and the recovery flow paths are formed, only either one may be provided inside of the flow path forming member 90. また、複数の部材を積層して形成される流路形成部材を供給流路用と回収流路用とに別々に備えるようにしてもよい。 It may also be a plurality of members of flow channel forming member is stacked so provided separately with the supply flow path and recovery flow path.

次に、本発明の更なる別実施形態について説明する。 It will now be described still another embodiment of the present invention. 上述したように、供給部材13、14を含む液体供給機構10、及び回収部材22を含む液体回収機構20のそれぞれは、投影光学系PL及びこの投影光学系PLを支持する支持部材以外の支持部材で支持することが好ましい。 As described above, each of the liquid recovery mechanism 20 including the liquid supply mechanism 10, and the recovery member 22 includes a supply member 13, the support member other than the supporting member for supporting the projection optical system PL and the projection optical system PL in it it is preferable to support. 以下、液体供給機構10及び液体回収機構20を支持する支持構造について図20を参照しながら説明する。 Hereinafter, with reference to FIG. 20 will be described support structure for supporting the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20.

図20は、液体供給機構10及び液体回収機構20の支持構造を示す概略図である。 Figure 20 is a schematic diagram showing the support structure of the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20. 図20において、露光装置EXは、投影光学系PLを支持する鏡筒定盤(第1支持部材)100と、鏡筒定盤100、マスクステージMST、及び基板ステージPSTを支持するメインフレーム(第2支持部材)102とを備えている。 In Figure 20, the exposure apparatus EX includes a barrel base (first support member) 100 which supports the projection optical system PL, the lens barrel surface plate 100, the mask stage MST, and the main frame for supporting the substrate stage PST (the and a second support member) 102. なお、図20では、Zステージ及びXYステージは一体で図示されている。 In FIG. 20, Z stage and the XY stage are shown as one. メインフレーム102は、クリーンルームなどの床面上に脚部108を介してほぼ水平に設置されている。 The main frame 102 is installed substantially horizontally through the legs 108 on the floor of the clean room. メインフレーム102には、内側に向けて突出する上側段部102A及び下側段部102Bが形成されている。 The main frame 102 has an upper step portion 102A and the lower step 102B protruding toward the inside is formed.

照明光学系ILは、メインフレーム102の上部に固定された支持フレーム120により支持されている。 The illumination optical system IL is supported by a support frame 120 fixed to an upper portion of the main frame 102. メインフレーム102の上側段部102Aには、防振装置122を介してマスク定盤124が支持されている。 The upper step portion 102A of the main frame 102, the mask surface plate 124 is supported via a vibration isolating apparatus 122. マスクステージMST及びマスク定盤124の中央部にはマスクMのパターン像を通過させる開口部が形成されている。 The central portion of the mask stage MST and the mask surface plate 124 openings for passing the pattern image of the mask M is formed. マスクステージMSTの下面には非接触軸受である気体軸受(エアベアリング)126が複数設けられている。 The lower surface of the mask stage MST air bearings 126 is provided with a plurality of non-contact bearings. マスクステージMSTはエアベアリング126によりマスク定盤124の上面(ガイド面)に対して非接触支持されており、マスクステージ駆動装置によりXY平面内で2次元移動可能及びθZ方向に微小回転可能である。 The mask stage MST is supported in a non-contact manner with respect to the upper surface of the mask plate 124 (guide surface) by the air bearing 126, it is possible microspheroidal two-dimensionally movable and θZ directions in the XY plane by the mask stage drive apparatus .

投影光学系PLを保持する鏡筒PKの外周にはフランジ104が設けられており、投影光学系PLはこのフランジ104を介して鏡筒定盤100に支持されている。 The outer circumference of the barrel PK which holds the projection optical system PL has a flange 104 is provided, the projection optical system PL is supported by the barrel surface plate 100 through the flange 104. 鏡筒定盤100とメインフレーム102の下側段部102Bとの間にはエアマウントなどを含む防振装置106が配置されており、投影光学系PLを支持する鏡筒定盤100はメインフレーム102の下側段部102Bに防振装置106を介して支持されている。 There is disposed a vibration isolating apparatus 106, including an air mount between the lower step 102B of barrel platform 100 and the main frame 102, barrel base 100 which supports the projection optical system PL mainframe It is supported via a vibration isolating apparatus 106 in lower step 102B of 102. この防振装置106によって、メインフレーム102の振動が、投影光学系PLを支持する鏡筒定盤100に伝わらないように、鏡筒定盤100とメインフレーム102とが振動に関して分離されている。 This vibration isolating apparatus 106, the vibration of the main frame 102, so as not transmitted to the barrel base 100 which supports the projection optical system PL, a lens barrel surface plate 100 and the main frame 102 are separated with respect to vibration.

基板ステージPSTの下面には複数の非接触軸受である気体軸受(エアベアリング)130が設けられている。 The lower surface of the substrate stage PST air bearings 130 are provided a plurality of non-contact bearings. また、メインフレーム102上には、エアマウント等を含む防振装置110を介してステージベース112が支持されている。 Further, on the main frame 102, the stage base 112 is supported via a vibration isolating apparatus 110 including an air mount or the like. 基板ステージPSTはエアベアリング130によりステージベース112の上面(ガイド面)に対して非接触支持されており、基板ステージ駆動装置により、XY平面内で2次元移動可能及びθZ方向に微小回転可能である。 The substrate stage PST is supported in a non-contact manner with respect to the upper surface of the stage base 112 by an air bearing 130 (guide surface), the substrate stage-driving device, it is possible microspheroidal two-dimensionally movable and θZ directions in the XY plane . 更に、基板ステージPSTは、Z軸方向、θX方向、及びθY方向にも移動可能である。 Furthermore, the substrate stage PST is also movable in the Z axis direction, the θX direction, and the θY direction. この防振装置110によって、メインフレーム102の振動が、基板ステージPSTを非接触支持するステージベース112に伝わらないように、ステージベース112とメインフレーム102とが振動に関して分離されている。 This vibration isolating apparatus 110, the vibration of the main frame 102, so as not transmitted to the stage base 112 in a non-contact support the substrate stages PST, a stage base 112 and the main frame 102 are separated with respect to vibration.

基板ステージPST上の+X側の所定位置には移動鏡55が設けられ、鏡筒PKの+X側の所定位置には参照鏡(固定鏡)114が設けられている。 At a predetermined position on the + X side on the substrate stage PST movable mirror 55 is provided, reference mirror (fixed mirror) 114 is provided at a predetermined position on the + X side of the lens barrel PK. また、移動鏡55及び参照鏡114に対向する位置にはレーザ干渉計56が設けられている。 A laser interferometer 56 is provided at a position opposed to the movement mirror 55 and the reference mirror 114. レーザ干渉計56は、鏡筒定盤100に取り付けられているため、レーザ干渉計56と液体供給機構10及び液体回収機構20とは振動に関して離れている。 Laser interferometer 56 and is attached to the lens barrel base 100 is spaced with respect to vibration and laser interferometer 56 and the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20. レーザ干渉計56は、移動鏡55に測長ビーム(測定光)を照射するとともに、参照鏡114に参照ビーム(参照光)を照射する。 The laser interferometer 56 emits and irradiates a measurement beam (measurement light) onto the movement mirror 55, the reference beam to the reference mirror 114 (the reference beam). 照射した測長ビーム及び参照ビームに基づく移動鏡55及び参照鏡114それぞれからの反射光はレーザ干渉計56の受光部で受光され、レーザ干渉計56はこれら光を干渉し、参照ビームの光路長を基準とした測長ビームの光路長の変化量、ひいては、参照鏡114を基準とした移動鏡55の位置情報、すなわち基板ステージPSTの位置情報を計測する。 The reflected light from each of the movable mirror 55 and the reference mirror 114 based on the irradiated measuring beam and the reference beam is received by the light receiving portion of the laser interferometer 56, a laser interferometer 56 interfere with these light, the optical path length of the reference beam an optical path length change amount of the measurement beam relative to the, thus, the position information of the moving mirror 55 to the reference mirror 114 as a reference, namely to measure the position information of the substrate stage PST. 同様に、不図示ではあるが、基板ステージPST上及び鏡筒PKの+Y側にも移動鏡及び参照鏡が設けられ、これらに対向する位置にはレーザ干渉計が設けられている。 Similarly, although not shown, movable mirror and a reference mirror are also provided on the + Y side on the substrate stage PST and the barrel PK, a laser interferometer is provided at a position opposing thereto.

また、鏡筒定盤100には、基板Pのフォーカス位置(Z位置)及び傾斜を計測するためのオートフォーカス検出系や基板P上のアライメントマークを検出するアライメント系等、不図示の計測系も支持されており、これらの計測系も、メインフレーム102、液体供給機構10、液体回収機構20とは振動に関して分離されることになる。 Also, the barrel base 100, an alignment system for detecting the alignment mark of the autofocus detection system and the substrate P for measuring the focus position (Z position) and inclination of the substrate P, the measurement system (not shown) also It is supported, also these measurement system, the main frame 102, the liquid supply mechanism 10, to be separated with respect to vibrations and the liquid recovery mechanism 20.

液体供給機構10及び液体回収機構20は、メインフレーム102の下側段部102Bに支持されている。 Liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20 is supported on the lower step 102B of the main frame 102. 本実施形態では、液体供給機構10を構成する第1、第2供給部材13、14、供給管11A、12A、及び液体回収機構20を構成する回収部材22、回収管21Aなどが、支持部材140によって支持され、この支持部材140がメインフレーム102の下側段部102Bに接続された構成となっている。 In the present embodiment, the first constituting the liquid supply mechanism 10, the second supply member 13, the supply pipe 11A, 12A, and the recovery member 22 which constitute the liquid recovery mechanism 20, and collection tube 21A is, the support member 140 is supported by, the support member 140 has a configuration that is connected to the lower step 102B of the main frame 102. なお、図20では、供給部材13、14、回収部材22、供給管11A、12A、及び回収管21Aなどは簡略化して図示されている。 In FIG 20, the supply member 13, the recovery member 22, the supply pipe 11A, 12A, and like the recovery tube 21A is illustrated in a simplified manner.

このように、投影光学系PLを支持する鏡筒定盤100と振動に関して分離されたメインフレーム102で液体供給機構10及び液体回収機構20を支持することによって、液体供給機構10及び液体回収機構20と投影光学系PLとは振動に関して分離されたことになる。 Thus, by supporting the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20 on the main frame 102 which is separated with respect to the vibration barrel platform 100 which supports the projection optical system PL, the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20 It will have been separated with respect to vibration and the projection optical system PL. したがって、液体供給の際、あるいは液体回収の際に生じる振動が、鏡筒定盤100を介して投影光学系PL、レーザ干渉計56、及びオートフォーカス検出系やアライメント系等の計測系に伝わることがない。 Accordingly, when the liquid supply, or occur during the liquid recovery vibration, the projection optical system via the barrel surface plate 100 PL, the laser interferometer 56, and transmitted it to the autofocus detecting system and the measurement system alignment systems such as there is no. したがって、投影光学系が振動することでパターン像が劣化するといった不都合の発生を防止でき、また、基板ステージ(基板P)の位置制御を精度良く行うことができるため、パターン像を基板上に精度良く投影することができる。 Therefore, it is possible to avoid the occurrence of inconvenience projection optical system is deteriorated pattern image by vibration, and since the position control of the substrate stage (substrate P) can be accurately, accuracy pattern image on a substrate it is possible to improve projection. また、基板ステージPSTを支持するステージベース112と振動に関して分離されたメインフレーム102で液体供給機構10及び液体回収機構20を支持することによって、液体供給機構10及び液体回収機構20とステージベース112とは振動に関して分離されたことになる。 Further, by supporting the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20 on the main frame 102 which is separated with respect to vibration stage base 112 which supports the substrate stages PST, and the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20 and the stage base 112 It will have been separated with respect to vibration. したがって、液体供給の際、あるいは液体回収の際に生じる振動が、ステージベース112に伝わることもなく、基板ステージPSTの位置決め精度、あるいは移動精度を低下させる不都合が生じるのを防止することができる。 Accordingly, when the liquid supply, or vibration generated when the liquid recovery is possible without transmitted to the stage base 112, it is possible to prevent the positioning accuracy of the substrate stage PST or disadvantage of reducing the movement accuracy, it may occur.

なお、本実施形態においては、メインフレーム102に液体供給機構10及び液体回収機構20が一体的に支持されているが、液体供給機構10と液体回収機構20とを分離して、メインフレーム102に取り付けるようにしてもよい。 In the present embodiment, although the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20 to the main frame 102 are integrally supported, by separating the liquid supply mechanism 10 and liquid recovery mechanism 20, the main frame 102 it may be attached. 更にメインフレーム102とは別の支持部材をクリーンルーム等の床に配置し、この支持部材に液体供給機構と液体回収機構とを支持するようにしてもよい。 Furthermore the main frame 102 arranged another support member on the floor of the clean room or the like, may be on the support member adapted to support a liquid supply mechanism and the liquid recovery mechanism.

上述したように、本実施形態における液体1には純水が用いられている。 As described above, pure water is used as the liquid 1 in the present embodiment. 純水は、半導体製造工場等で容易に大量に入手できるとともに、基板P上のフォトレジストや光学素子(レンズ)等に対する悪影響がない利点がある。 Pure water can be obtained in large quantities at a semiconductor manufacturing plant or the like, that it has no adverse effects on the photoresist and the optical element (lens) and the like on the substrate P. また、純水は環境に対する悪影響がないとともに、不純物の含有量が極めて低いため、基板Pの表面、及び投影光学系PLの先端面に設けられている光学素子の表面を洗浄する作用も期待できる。 Further, pure water has no adverse effects on the environment and contains very few impurities, the action of cleaning the surface of the optical element provided at the end face of the surface, and the projection optical system PL of the substrate P can be expected . そして、波長が193nm程度の露光光ELに対する純水(水)の屈折率nはほぼ1.44程度と言われており、露光光ELの光源としてArFエキシマレーザ光(波長193nm)を用いた場合、基板P上では1/n、すなわち約134nm程度に短波長化されて高い解像度が得られる。 Then, when the wavelength is using pure water refractive index of the (water) n is said to approximately 1.44, ArF excimer laser light as the light source of the exposure light EL (wavelength 193nm) with respect to the exposure light EL of about 193nm , 1 / n, i.e. to reduce the wavelength is high resolution of about 134nm obtained on the substrate P. 更に、焦点深度は空気中に比べて約n倍、すなわち約1.44倍程度に拡大されるため、空気中で使用する場合と同程度の焦点深度が確保できればよい場合には、投影光学系PLの開口数をより増加させることができ、この点でも解像度が向上する。 Furthermore, approximately n times the depth of focus than in the air, namely to be enlarged to about 1.44 times, when the depth of focus approximately the same as that when used in air may be secured, the projection optical system It can be more increasing the numerical aperture of PL, and resolution improves on this point.

なお、上述したように液浸法を用いた場合には、投影光学系の開口数NAが0.9〜1.3になることもある。 In the case of using the liquid immersion method as described above, the numerical aperture NA of the projection optical system is 0.9 to 1.3. このように投影光学系の開口数NAが大きくなる場合には、従来から露光光として用いられているランダム偏光光では偏光効果によって結像性能が悪化することもあるので、偏光照明を用いるのが望ましい。 Since the when the numerical aperture NA of the projection optical system becomes large, a random polarized light conventionally used as the exposure light sometimes the image formation performance is deteriorated due to the polarization effect, to use a polarized illumination desirable. その場合、マスク(レチクル)のライン・アンド・スペースパターンのラインパターンの長手方向に合わせた直線偏光照明を行い、マスク(レチクル)のパターンからは、S偏光成分(ラインパターンの長手方向に沿った偏光方向成分)の回折光が多く射出されるようにするとよい。 In that case, it is appropriate that the linear polarized illumination, which is adjusted to the longitudinal direction of the line pattern of the line-and-space pattern of the mask (reticle), from the pattern of the mask (reticle), along the longitudinal direction of the S polarized light component (line pattern it may be so that the diffracted light of the polarization direction component) is often injected. 投影光学系PLと基板P表面に塗布されたレジストとの間が液体で満たされている場合、投影光学系PLと基板P表面に塗布されたレジストとの間が空気(気体)で満たされている場合に比べて、コントラストの向上に寄与するS偏光成分の回折光のレジスト表面での透過率が高くなるため、投影光学系の開口数NAが1.0を越えるような場合でも高い結像性能を得ることができる。 If between coated on the projection optical system PL and the substrate P surface resist it is filled with a liquid, between the resist coated on the projection optical system PL and the substrate P surface is filled with air (gas) as compared with the case where there, since the transmittance of the resist surface of the diffracted light that contributes S-polarized light component to improve the contrast is high, higher even when the numerical aperture NA of the projection optical system that exceeds 1.0 imaging it is possible to obtain the performance. また、位相シフトマスクやラインパターンの長手方向に合わせた斜入射照明法(特にダイボール照明法)等を適宜組み合わせると更に効果的である。 Moreover, it is further effective when combined longitudinally combined oblique incidence illumination method of the phase shift mask or line pattern (especially the dipole illumination method) or the like as appropriate. なお、ラインパターンの長手方向に合わせた斜入射照明法については、例えば特開平6−188169号公報に開示されており、本国際出願で指定または選択された国の法令で許容される限りにおいて、その開示を援用して本文の記載の一部とする。 Note that the oblique incidence illumination method, which is adjusted to the longitudinal direction of the line pattern, for example, disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-188169, in far as is permitted of the state designated or selected in this international application, and are incorporated herein by reference its disclosure.

本実施形態では、投影光学系PLの先端に光学素子2としてレンズが取り付けられており、このレンズにより投影光学系PLの光学特性、例えば収差(球面収差、コマ収差等)の調整を行うことができる。 In the present embodiment, the lens is mounted as the optical element 2 at the tip of the projection optical system PL, the optical characteristics of the projection optical system PL by the lens, for example, aberration (spherical aberration, coma aberration, etc.) is possible to adjust the it can. なお、光学素子2としては前記光学特性を調整する光学プレートであってもよい。 As the optical element 2 may be an optical plate to adjust the optical characteristics. 一方、液体1と接触する光学素子2を、レンズより安価な平行平面板とすることも可能である。 On the other hand, the optical element 2 to make contact with the liquid 1, it is also possible to inexpensive plane parallel plate from the lens. 光学素子2を平行平面板とすることにより、露光装置EXの運搬、組立、調整時等において投影光学系PLの透過率、基板P上での露光光ELの照度、及び照度分布の均一性を低下させる物質(例えばシリコン系有機物等)がその平行平面板に付着しても、液体1を供給する直前にその平行平面板を交換するだけでよく、液体1と接触する光学素子をレンズとする場合に比べてその交換コストが低くなるという利点がある。 By the optical element 2 and the plane-parallel plate, the transportation of the exposure apparatus EX, the assembly, the transmittance of the projection optical system PL in the adjustment or the like, of the exposure light EL on the substrate P illuminance, and the uniformity of illuminance distribution be deposited substance which decreases (for example, a silicon-based organic matter) is in its plane-parallel plate, the liquid 1 may simply replace the parallel plane plate immediately before supplying to the lens optical element to make contact with the liquid 1 If there is an advantage that the exchange cost is lowered as compared with the. すなわち、露光光ELの照射によりレジストから発生する飛散粒子、または液体1中の不純物の付着などに起因して液体1に接触する光学素子の表面が汚れるため、その光学素子を定期的に交換する必要があるが、この光学素子を安価な平行平面板とすることにより、レンズに比べて交換部品のコストが低く、且つ交換に要する時間を短くすることができ、メンテナンスコスト(ランニングコスト)の上昇やスループットの低下を抑えることができる。 That is, since the surface of the optical element due such as to scatter particles generated from the resist by the irradiation of the exposure light EL or attachment of impurities in the liquid 1, into contact with the liquid 1 is dirty, periodically replace the optical element it is necessary, by the optical element is the cheap parallel plane plate, the cost of the exchange part is low as compared with the lens, and it is possible to shorten the time required for replacement, increases the maintenance cost (running cost) it is possible to suppress the reduction of and throughput.

なお、液体1の流れによって生じる投影光学系PLの先端の光学素子と基板Pとの間の圧力が大きい場合には、その光学素子を交換可能とするのではなく、その圧力によって光学素子が動かないように堅固に固定してもよい。 Incidentally, if the pressure between the substrate P and the optical element at the tip of the projection optical system PL caused by the flow of the liquid 1 is large, instead of the replaceable its optical element, the optical element is moved by the pressure it may be firmly fixed so as not.

なお、本実施形態の液体1は水であるが、水以外の液体であってもよい、例えば、露光光ELの光源がF レーザである場合、このF レーザ光は水を透過しないので、液体1としてはF レーザ光を透過可能な例えば過フッ化ポリエーテル(PFPE)やフッ素系オイル等のフッ素系流体であってもよい。 Although the liquid 1 of the present embodiment is water, a liquid other than water may be, for example, when the light source of exposure light EL is an F 2 laser, the F 2 laser beam is not transmitted through water , or a fluorine-based fluid such F 2 permeable example perfluorinated polyether laser beam (PFPE) or fluorine based oil as the liquid 1. この場合、トラップ面31をはじめとする液体1と接触する部分には、例えばフッ素を含む極性の小さい分子構造の物質で薄膜を形成することで親液化処理する。 In this case, the portion in contact with the liquid 1 including a trap surface 31, lyophilic treatment by forming a thin film, for example having a molecular structure with small polarity including fluorine material. また、液体1としては、その他にも、露光光ELに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系PLや基板P表面に塗布されているフォトレジストに対して安定なもの(例えばセダー油)を用いることも可能である。 Further, as the liquid 1, Besides, if there is transparent to the exposure light EL high as possible refractive index, stable ones (e.g. cedar the photo resist coated on the projection optical system PL and the substrate P surface oil) can also be used. この場合も表面処理は用いる液体1の極性に応じて行われる。 In this case, the surface treatment is performed depending on the polarity of the liquid 1 to be used.

なお、上述の投影光学系PLは、その像面側を液体1(純水)で満たした液浸状態で、その結像性能が最適となるように構成(設計)されているが、投影光学系PLの一部の光学素子(基板Pに近い光学素子)を交換することによって、その像面側に液体がない非液浸状態や、その像面側を別の液体で満たした液浸状態でも所望の結像性能が得られるような構成(設計)にして もよい。 The projection optical system PL described above, the image plane side in the liquid immersion state filled with the liquid 1 (pure water), but the imaging performance is configured to be optimum (design), a projection optical by replacing a part of the optical element (optical element closer to the substrate P) of the system PL, the liquid immersion state that there is no liquid on the image plane side and a non liquid immersion state, satisfying that the image surface side in another liquid But it may be configured such that the desired imaging performance is obtained (design). 投影光学系PLをこのような構成にしておくことで、例えば、大きな焦点深度DOFが必要な場合は、露光装置EXを液浸状態で使用し、高スループットが要求される場合には、一部の光学素子を交換して非液浸状態で露光装置EXを使用することができる。 By leaving the projection optical system PL in this configuration, for example, if a large depth of focus DOF ​​is required, using the exposure apparatus EX in immersed state, when high throughput is required, some the exposure apparatus EX can be used in non-immersed state to exchange the optical element. その場合、一部の光学素子の交換した後の結像性能を測定するために、基板ステージPST上に特開2002―14005号(対応米国特許公開20020041377)に開示されている空間像センサや国際公開第02/63664号公報に開示されているような波面収差測定センサを配置しておくのが望ましい。 In this case, in order to measure the imaging performance after the exchange of part of the optical element, the spatial image sensor and international disclosed in JP 2002-14005 (corresponding to United States Patent Publication 20020041377) on the substrate stage PST idea to place a wavefront aberration measuring sensor as disclosed in Publication No. 02/63664 discloses desirable. もちろん、波面収差測定用のマスクを用いてもよいし、その結像性能の測定結果に基づいて、それぞれの状態で所望の結像性能が得られるように、一部の光学素子を動かしたり、露光光ELの波長の微調整を行なうようにしてもよい。 Of course, it may be a mask for the wavefront aberration measurement, based on the measurement results of the imaging performance, so that a desired imaging performance is obtained at each state, or move a part of the optical element, it may be carried out fine adjustment of the wavelength of the exposure light EL.

また一部の光学素子の交換は、露光装置EXに投影光学系PLを搭載したまま行なうのが望ましいが、露光装置EXから投影光学系PLを外して行なうようにしてもよい。 The replacement of part of the optical element, it is desirable to perform while mounting the projection optical system PL in the exposure apparatus EX, it may be performed from the exposure apparatus EX by removing the projection optical system PL.

なお、上記各実施形態の基板Pとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版(合成石英、シリコンウエハ)等が適用される。 Furthermore, the substrate P in each of the above embodiments, not only a semiconductor wafer for fabricating semiconductor devices but glass substrates for display devices, the original plate of a mask or reticle used in a ceramic wafer or an exposure apparatus, for a thin film magnetic head (synthetic quartz, silicon wafer) used by an exposure apparatus.

露光装置EXとしては、マスクMと基板Pとを同期移動してマスクMのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(スキャニングステッパ)の他に、マスクMと基板Pとを静止した状態でマスクMのパターンを一括露光し、基板Pを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)にも適用することができる。 As for the exposure apparatus EX, in the other scanning exposure apparatus by a step-and-scan method by synchronously moving the mask M and the substrate P to scan expose the pattern of the mask M (scanning stepper), and the mask M and the substrate P the pattern of the mask M collectively exposed, can also be applied to a projection exposure apparatus by a step-and-repeat system for moving sequentially steps the substrate P (stepper) while stationary. また、本発明は基板P上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。 The present invention is also applicable to an exposure apparatus of step-and-stitch method that partially overlaid and transferred at least two patterns on the substrate P.

また、本発明は、ツインステージ型の露光装置にも適用できる。 The present invention is also applicable to twin stage type exposure apparatus. ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平10−163099号及び特開平10−214783号(対応米国特許6,341,007、6,400,441、6,549,269及び6,590,634)、特表2000−505958号(対応米国特許5,969,441)あるいは米国特許6,208,407に開示されており、本国際出願で指定または選択された国の法令で許容される限りにおいて、それらの開示を援用して本文の記載の一部とする。 The structure and the exposure operation of the twin-stage type exposure apparatus, for example, JP-A-10-163099 and JP-A-10-214783 (corresponding U.S. Pat. 6,341,007,6,400,441,6,549,269 and 6 , 590,634), JP-T-2000-505958 (are disclosed in the corresponding U.S. Patent 5,969,441) or U.S. Patent 6,208,407, permitted by law of the state designated or selected in this international application to the extent that is, with the aid of the disclosure and are hereby.

露光装置EXの種類としては、基板Pに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。 The type of the exposure apparatus EX, the present invention is not limited to semiconductor device fabrication exposure apparatuses that expose a semiconductor element pattern onto a substrate P, an exposure apparatus and a liquid crystal display device for manufacturing or for display manufacturing, thin film magnetic heads, imaging devices (CCD ) or it can be widely applied to an exposure apparatus for manufacturing such as a reticle or mask.

基板ステージPSTやマスクステージMSTにリニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。 When using a linear motor for the substrate stage PST or the mask stage MST, either of the magnetic floating type may also be employed using the air floating type Lorentz force or reactance force using an air bearing. また、各ステージPST、MSTは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。 Further, each of the stages PST, MST may be a type that moves along a guide or may be the guideless type in which no guide is provided. ステージにリニアモータを用いた例は、米国特許5,623,853及び5,528,118に開示されており、それぞれ本国際出願で指定または選択された国の法令で許容される限りにおいて、これらの文献の記載内容を援用して本文の記載の一部とする。 An example of the use of the linear motor in a stage is disclosed in U.S. Patent Nos. 5,623,853 and 5,528,118, the extent permitted by law of the state designated or selected in this international application, respectively, of these and are incorporated herein by reference to the description of the literature.

各ステージPST、MSTの駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニットと、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージPST、MSTを駆動する平面モータを用いてもよい。 As each of the stages PST, MST driving mechanism, a magnet unit in which magnets are two-dimensional, each of the stages PST by an electromagnetic force is opposed to the armature unit in which to place the coils in a two-dimensional, MST is driven it may be used. この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージPST、MSTに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージPST、MSTの移動面側に設ければよい。 In this case, either one stage PST of the magnet unit and the armature unit is connected MST, and may be provided and the other of the magnet unit and the armature unit stage PST, the moving surface side of the MST.

基板ステージPSTの移動により発生する反力は、投影光学系PLに伝わらないように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。 The reaction force generated by the movement of the substrate stage PST, so as not transmitted to the projection optical system PL, may be mechanically released to the floor (ground) using a frame member. この反力の処理方法は、例えば、米国特許5,528,118(特開平8−166475号公報)に詳細に開示されており、本国際出願で指定または選択された国の法令で許容される限りにおいて、この文献の記載内容を援用して本文の記載の一部とする。 The method for handling the reaction force, for example, U.S. Patent 5,528,118 is disclosed in detail in (JP-A-8-166475 discloses), it is allowed by the laws of the state designated or selected in this international application to the extent, and are incorporated herein by reference and the contents of this document.

マスクステージMSTの移動により発生する反力は、投影光学系PLに伝わらないように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。 Reaction force generated by the movement of the mask stage MST, so as not transmitted to the projection optical system PL, may be mechanically released to the floor (ground) using a frame member. この反力の処理方法は、例えば、米国特許第5,874,820(特開平8−330224号公報)に詳細に開示されており、本国際出願で指定または選択された国の法令で許容される限りにおいて、この文献の開示を援用して本文の記載の一部とする。 The method for handling the reaction force, for example, U.S. Patent No. 5,874,820 is disclosed in detail in (JP-A-8-330224 discloses), allowed by law of the state designated or selected in this international application to the extent that, the are incorporated herein by reference the disclosure of this document.

以上のように、本願実施形態の露光装置EXは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。 As described above, the exposure apparatus EX of the present embodiment is manufactured by assembling various subsystems, including each constituent element recited in the claims of the present application so that the predetermined mechanical accuracy, the optical accuracy , it is manufactured by assembling. これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。 To ensure these respective precisions, performed before and after the assembling include the adjustment for achieving the optical accuracy for various optical systems, an adjustment to achieve mechanical accuracy for various mechanical systems, the various electrical systems adjustment for achieving the electrical accuracy is performed. 各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。 The steps of assembling the various subsystems into the exposure apparatus includes various subsystems, the mechanical interconnection, electrical circuit wiring connections, and the piping connection of the air pressure circuit. この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。 Before the process of assembling the exposure apparatus from the various subsystems, there are also the processes of assembling each individual subsystem. 各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。 After completion of the assembling the various subsystems into the exposure apparatus, overall adjustment is performed and various kinds of accuracy as the entire exposure apparatus are secured. なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。 The manufacturing of the exposure apparatus is preferably performed in a clean room in which temperature and cleanliness are controlled.

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図21に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ202、デバイスの基材である基板を製造するステップ203、前述した実施形態の露光装置EXによりマスクのパターンを基板に露光する露光処理ステップ204、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)205、検査ステップ206等を経て製造される。 Microdevices such as semiconductor devices are manufactured, as shown in FIG. 21, a step 201 that performs microdevice function and performance design, a step 202 of manufacturing a mask (reticle) based on this design step, a base material for the device substrate a step 203 of producing the exposure process step 204 of exposing a pattern of a mask onto a substrate by the exposure apparatus EX of the embodiment described above, a device assembly step (dicing, bonding, including packaging step) 205, an inspection step 206, etc. It is produced through.

本発明の露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。 It is a schematic diagram showing an embodiment of an exposure apparatus of the present invention. 本発明の特徴的部分である液体供給機構及び液体回収機構の概略構成を示す平面図である。 Is a plan view showing a schematic configuration of a liquid supply mechanism and the liquid recovery mechanism, which is a characteristic part of the present invention. 本発明の特徴的部分である液体供給機構及び液体回収機構の概略構成を示す斜視図である。 Is a perspective view showing the schematic configuration of the liquid supply mechanism and the liquid recovery mechanism, which is a characteristic part of the present invention. 本発明の特徴的部分である液体供給機構及び液体回収機構の概略構成を示す側断面図である。 It is a side sectional view showing a schematic configuration of the liquid supply mechanism and the liquid recovery mechanism, which is a characteristic part of the present invention. 基板上に設定されたショット領域を示す図である。 It is a diagram illustrating a shot areas set on a substrate. 液体の挙動を示す模式図である。 It is a schematic view showing the behavior of the liquid. 液体供給機構及び液体回収機構の他の実施形態を示す図である。 It is a view showing another embodiment of the liquid supply mechanism and the liquid recovery mechanism. 液体供給機構及び液体回収機構の他の実施形態を示す図である。 It is a view showing another embodiment of the liquid supply mechanism and the liquid recovery mechanism. 液体供給機構及び液体回収機構の他の実施形態を示す図である。 It is a view showing another embodiment of the liquid supply mechanism and the liquid recovery mechanism. 液体供給機構の他の実施形態を示す図である。 It is a view showing another embodiment of the liquid supply mechanism. トラップ部材の他の実施形態を示す側断面図である。 It is a side cross sectional view of another embodiment of a trap member. トラップ部材の他の実施形態を示す側断面図である。 It is a side cross sectional view of another embodiment of a trap member. トラップ部材の他の実施形態を示す斜視図である。 It is a perspective view showing another embodiment of the trap member. 本発明に係る液体供給機構及び液体回収機構の他の実施形態を示す概略斜視図である。 It is a schematic perspective view showing another embodiment of the liquid supply mechanism and the liquid recovery mechanism according to the present invention. 図14におけるスリット管部の他の実施形態を示す図である。 It is a view showing another embodiment of a slit tube section in FIG. 本発明に係る液体供給機構及び液体回収機構の他の実施形態を示す概略斜視図である。 It is a schematic perspective view showing another embodiment of the liquid supply mechanism and the liquid recovery mechanism according to the present invention. 流路形成部材のうち第1部材を示す斜視図である。 It is a perspective view showing a first member of the flow path forming member. 流路形成部材のうち第2部材を示す斜視図である。 It is a perspective view showing a second member of the flow path forming member. 流路形成部材のうち第3部材を示す斜視図である。 It is a perspective view showing a third member of the flow path forming member. 本発明の露光装置の別の実施形態を示す概略構成図である。 It is a schematic diagram showing another embodiment of the exposure apparatus of the present invention. 半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。 Is a flow chart showing an example of a manufacturing process of semiconductor devices.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1…液体、10…液体供給機構、11…第1液体供給部、12…第2液体供給部、 1 ... liquid, 10 ... liquid supply mechanism, 11 ... first liquid supply section, 12 ... second liquid supply section,
13…第1供給部材、13A…供給口、14…第2供給部材、14A…供給口、 13 ... first supply member, 13A ... supply port, 14: second supply member, 14A ... supply port,
20…液体回収機構、21…液体回収部、22…回収部材、22A…回収口、 20 ... liquid recovery mechanism, 21 ... liquid recovery unit, 22 ... recovery member, 22A ... recovery port,
23…仕切部材(仕切り)、30…トラップ部材、31…トラップ面、 23 ... partition member (partition), 30 ... trap member, 31 ... trap surface,
32…フィン部材(トラップ部材)、AR1…投影領域、AR2…液浸領域、 32 ... fin member (trap member), AR1 ... projection area, AR2 ... immersion area,
CONT…制御装置、EX…露光装置、M…マスク、P…基板、PL…投影光学系、 CONT ... controller, EX ... exposure apparatus, M ... mask, P ... substrate, PL ... projection optical system,
S1〜S12…ショット領域 S1~S12 ... shot area

Claims (55)

  1. 所定パターンの像を液体を介して基板に投影することによって基板を露光する露光装置であって: An image of a predetermined pattern there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting a substrate through a liquid:
    前記パターンの像を基板に投影する投影光学系と; A projection optical system for projecting an image of the pattern onto the substrate;
    投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために、投影領域に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で基板上に液体の供給を同時に行う液体供給機構と;を備える露光装置。 In order to form the liquid immersion area on a part of the substrate including a projection area of ​​the projection optical system, simultaneously the liquid supply supplying liquid onto the substrate at a plurality of locations spaced in a plurality of different directions with respect to the projection area exposure apparatus comprising: mechanism and.
  2. 前記液体供給機構は、前記基板上の複数のショット領域を順次露光するときに、前記複数の位置から液体を供給し続ける請求項1に記載の露光装置。 The liquid supply mechanism, when sequentially exposing a plurality of shot areas on the substrate, the exposure apparatus according to claim 1 continue to supply liquid from said plurality of positions.
  3. 前記液体供給機構は、前記投影領域の両側から前記基板上への液体の供給を同時に行う請求項1又は2に記載の露光装置。 The liquid supply mechanism, the exposure device according to both sides of the projection area to claim 1 or 2 for supplying simultaneously the liquid to the substrate.
  4. 前記液体供給機構は、前記投影領域の両側から同量の液体を供給する請求項3に記載の露光装置。 The liquid supply mechanism, the exposure apparatus according to claim 3 for supplying the same amount of liquid from both sides of the projection area.
  5. 前記基板上の各ショット領域は所定の走査方向に移動しながら露光され、前記液体供給機構は、前記走査方向に関して前記投影領域の両側から前記液体の供給を行う請求項3又は4に記載の露光装置。 Each shot area on the substrate is exposed while being moved in a predetermined scanning direction, the liquid supply mechanism exposure according from both sides of the projection area with respect to the scanning direction in claim 3 or 4 for supplying the liquid apparatus.
  6. 前記液体供給機構は、前記走査方向に関して、前記投影領域の手前から供給する液体量を、その反対側で供給する液体量よりも多くする請求項5に記載の露光装置。 The liquid supply mechanism, said in the scanning direction, the exposure apparatus according to the liquid amount supplied from the front of the projection area, to claim 5 to increase than the liquid amount supplied from the opposite side.
  7. 前記液体の供給と並行して前記基板上の液体の回収を行う液体回収機構を更に備える請求項1〜6のいずれか一項に記載の露光装置。 The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 6 in parallel with the supply of the liquid further comprises a liquid recovery mechanism for recovering the liquid on the substrate.
  8. 前記液体回収機構は、前記投影領域に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で前記基板上の液体の回収を同時に行う請求項7に記載の露光装置。 The liquid recovery mechanism, the exposure apparatus according to claim 7 for recovery of the liquid on the substrate at a plurality of locations spaced different directions with respect to the projection area simultaneously.
  9. 所定パターンの像を液体を介して基板に投影することによって基板を露光する露光装置であって: An image of a predetermined pattern there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting a substrate through a liquid:
    前記パターンの像を基板に投影する投影光学系と; A projection optical system for projecting an image of the pattern onto the substrate;
    投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために基板上に液体を供給する液体供給機構と; A liquid supply mechanism supplies the liquid onto a substrate to form a liquid immersion area on a part of the substrate including a projection area of ​​the projection optical system;
    投影領域に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で基板上の液体の回収を同時に行う液体回収機構とを備える露光装置。 An exposure device and a liquid recovery mechanism for recovering the liquid on the substrate simultaneously at a plurality of locations spaced in a plurality of different directions with respect to the projection area.
  10. 前記液体回収機構は、前記投影領域の両側で前記回収を同時に行う請求項8または9に記載の露光装置。 The liquid recovery mechanism, the exposure apparatus according to claim 8 or 9 performs the recovery on both sides of the projection area at the same time.
  11. 前記液体回収機構は、前記投影領域を取り囲むように連続的に形成された回収口を有する請求項8〜10のいずれか一項に記載の露光装置。 The liquid recovery mechanism, the exposure apparatus according to any one of claims 8 to 10 having a recovery port which the continuously formed to surround the projection area.
  12. 前記連続的に形成された回収口の内部に仕切りが設けられている請求項11に記載の露光装置。 An apparatus according to claim 11, the partition is provided inside of the continuously formed recovery port.
  13. 前記液体回収機構は液体の回収位置に応じて異なる回収力で液体を回収する請求項8〜12のいずれか一項に記載の露光装置。 The liquid recovery mechanism exposure apparatus according to any one of claims 8 to 12 for collecting the liquid in different recovery force depending on the recovery position of the liquid.
  14. 所定パターンの像を液体を介して基板に投影することによって基板を露光する露光装置であって: An image of a predetermined pattern there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting a substrate through a liquid:
    前記パターンの像を基板に投影する投影光学系と; A projection optical system for projecting an image of the pattern onto the substrate;
    投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために基板上に液体を供給する液体供給機構と; A liquid supply mechanism supplies the liquid onto a substrate to form a liquid immersion area on a part of the substrate including a projection area of ​​the projection optical system;
    基板上の液体の回収を複数の位置で同時に行う液体回収機構と;を備え、 Comprising a; and the liquid recovery mechanism simultaneously performing recovery of the liquid on the substrate at a plurality of locations
    液体回収機構は液体回収位置に応じて異なる回収力で液体を回収する露光装置。 Liquid recovery mechanism exposure apparatus which recovers the liquid with a different recovery force depending on the liquid recovery position.
  15. 前記基板上の各ショット領域は所定の走査方向に移動しながら露光され、前記液体回収機構は、前記投影領域に対して前記走査方向に離れた位置での液体回収力を、それとは別の位置での液体回収力よりも大きくする請求項13または14記載の露光装置。 Each shot area on the substrate is exposed while being moved in a predetermined scanning direction, the liquid recovery mechanism, the liquid recovery force at a position distant to the scanning direction with respect to the projection area, a position different from that the exposure apparatus according to claim 13 or 14, wherein larger than the liquid recovery force at.
  16. 前記投影領域に対して前記液体回収機構による液体回収位置の外側に配置され、前記液体回収機構で回収しきれなかった液体を捕捉する所定長さの液体トラップ面が形成されたトラップ部材を更に備える請求項7〜15のいずれか一項に記載の露光装置。 It is arranged outside the liquid recovery position of the liquid recovery mechanism with respect to the projection area, further comprising a trap member which liquid trap surface having a predetermined length is formed to catch were not liquid completely recovered by the liquid recovery mechanism the exposure apparatus according to any one of claims 7 to 15.
  17. 所定パターンの像を液体を介して基板に投影することによって基板を露光する露光装置であって: An image of a predetermined pattern there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting a substrate through a liquid:
    前記パターンの像を基板に投影する投影光学系と; A projection optical system for projecting an image of the pattern onto the substrate;
    投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために基板上に液体を供給する液体供給機構と; A liquid supply mechanism supplies the liquid onto a substrate to form a liquid immersion area on a part of the substrate including a projection area of ​​the projection optical system;
    投影領域から離れた回収位置で基板上の液体の回収を行う液体回収機構と; A liquid recovery mechanism performs the recovery of the liquid on the substrate at the recovery position apart from the projection area;
    投影領域に対して液体回収機構による液体回収位置の外側に配置され、液体を捕捉する液体トラップ面が形成されたトラップ部材とを備える露光装置。 Liquid recovery mechanism is arranged outside the liquid recovery position by an exposure apparatus and a trap member which liquid trap surface is formed to capture the liquid with respect to the projection area.
  18. 前記トラップ面は、前記液体との親和性を高める処理が施されている請求項16または17記載の露光装置。 The trap surface, the affinity enhancing treatment exposure apparatus according to claim 16 or 17, wherein has been subjected to the liquid.
  19. 前記トラップ面の液体親和性は、前記基板表面の液体親和性よりも高い請求項18に記載の露光装置。 The liquid affinity of the trap surface, exposure apparatus according to a higher claim 18 than the liquid affinity of the substrate surface.
  20. 前記トラップ面は水平面に対して傾斜している請求項16〜19のいずれか一項に記載の露光装置。 The exposure apparatus according to any one of claims 16 to 19 wherein the trap surface is inclined with respect to the horizontal plane.
  21. 前記トラップ面は、前記投影領域を取り囲むように配置され、その位置に応じて長さが異なる請求項16〜20のいずれか一項に記載の露光装置。 The trap surface, the is arranged to surround the projection area, the exposure apparatus according to any one of claims 16 to 20 different lengths depending on their position.
  22. 前記トラップ面で捕捉された液体は、前記液体回収機構に回収される請求項16〜21のいずれか一項に記載の露光装置。 Entrapped liquid at the trap surface, the exposure apparatus according to any one of claims 16 to 21 to be recovered to the liquid recovery mechanism.
  23. 前記液体供給機構は、前記液体回収機構による液体回収位置と前記投影領域との間で液体の供給を行う請求項7〜22のいずれか一項に記載の露光装置。 The liquid supply mechanism, the exposure apparatus according to any one of claims 7 to 22 for supplying liquid to and from the liquid recovery mechanism and by the liquid recovery position the projection area.
  24. 所定パターンの像を液体を介して基板に投影することによって基板を露光する露光装置であって: An image of a predetermined pattern there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting a substrate through a liquid:
    前記パターンの像を基板に投影する投影光学系と; A projection optical system for projecting an image of the pattern onto the substrate;
    投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために基板上に液体を供給する液体供給機構と; A liquid supply mechanism supplies the liquid onto a substrate to form a liquid immersion area on a part of the substrate including a projection area of ​​the projection optical system;
    投影領域から離れた回収位置で基板上の液体の回収を行う液体回収機構と;を備え、 Comprising a; and the liquid recovery mechanism performs the recovery of the liquid on the substrate at the recovery position apart from the projection area
    液体供給機構による液体の供給は、液体回収機構の液体回収位置と投影領域との間で行われる露光装置。 Supply of the liquid by the liquid supply mechanism, an exposure apparatus is performed between the liquid recovery position and the projection area of ​​the liquid recovery mechanism.
  25. 前記液体供給機構は実行動作に応じて液体の供給量を変える請求項23または24に記載の露光装置。 An apparatus according to claim 23 or 24 changing the supply amount of the liquid according to the liquid supply mechanism running operation.
  26. 前記基板上の各ショット領域は前記基板を移動しながら走査露光され、前記液体供給機構は、前記基板上の2つのショット領域間のステッピング移動中と各ショット領域の露光中とで液体の供給量を異ならせる請求項25に記載の露光装置。 Each shot area on the substrate is scanned and exposed while moving the substrate, the liquid supply mechanism, the supply amount of the liquid in the during the exposure in the stepper movement and each shot region between the two shot areas on the substrate an apparatus according to claim 25 in which different.
  27. 前記液体供給機構は、前記投影光学系の先端の液体接触面との親和性が前記基板表面との親和性よりも高い液体を供給する請求項1〜26のいずれか一項に記載の露光装置。 The liquid supply mechanism, the exposure apparatus according to any one of supplying claims 1 to 26 the high liquid than the affinity between the affinity surface of the substrate with the liquid contact surface of the tip of the projection optical system .
  28. 前記液体は水であって、前記投影光学系の先端の液体接触面は親水化処理を施されており、前記基板表面には撥水性の感光材が塗布されている請求項27に記載の露光装置。 The liquid is a water liquid contact surface of the tip of the projection optical system is subjected to hydrophilic treatment, exposure of claim 27 to said substrate surface on which the photosensitive material of the water-repellent is applied apparatus.
  29. 請求項1〜請求項28のいずれか一項記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。 Device manufacturing method comprising using the exposure apparatus according to any one of claims 1 to claim 28.
  30. 所定パターンの投影光学系による像を液体を介して基板に投影することによって基板を露光する露光方法であって: The image formed by the projection optical system in a predetermined pattern there is provided an exposure method for exposing a substrate by projecting a substrate through a liquid:
    投影光学系の先端の液体接触面との親和性が、基板表面との親和性よりも高い液体を、投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために供給することと; Provided for affinity for the liquid contact surface of the tip of the projection optical system, the liquid is higher than the affinity with the substrate surface to form a liquid immersion area on a part of the substrate including a projection area of ​​the projection optical system It is;
    前記液浸領域に供給された液体を介して所定パターンの像を基板に投影すること;とを含む露光方法。 The exposure method comprising a; projecting the image of a predetermined pattern on the substrate through the liquid supplied to the liquid immersion area.
  31. 前記液体は水であって、前記投影光学系の先端の液体接触面は親水化処理を施されており、前記基板表面には撥水性の感光材が塗布されている請求項30に記載の露光方法。 The liquid is a water liquid contact surface of the tip of the projection optical system is subjected to hydrophilic treatment, exposure of claim 30 to said substrate surface on which the photosensitive material of the water-repellent is applied Method.
  32. 前記基板の露光中に、前記基板上に前記液体の供給を行うとともに、前記基板上の液体を回収する請求項30または31に記載の露光方法。 During exposure of the substrate, with for supplying the liquid to the substrate, the exposure method according to claim 30 or 31 for recovering the liquid on the substrate.
  33. 請求項30〜請求項32のいずれか一項に記載の露光方法を用いるデバイス製造方法。 A device manufacturing method using the exposure method according to any one of claims 30 to claim 32.
  34. 所定パターンの像を液体を介して基板に投影することによって基板を露光する露光装置であって: An image of a predetermined pattern there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting a substrate through a liquid:
    前記パターンの像を基板に投影する投影光学系と; A projection optical system for projecting an image of the pattern onto the substrate;
    前記基板上に液体を供給する供給流路を有する液体供給機構と; A liquid supply mechanism having a supply passage for supplying the liquid onto the substrate;
    供給された液体を回収する回収流路を有する液体回収機構と;を備え、 Comprising a; and the liquid recovery mechanism has a recovery flow path for recovering the supplied liquid
    前記供給流路と回収流路の少なくとも一方が、複数の板状部材が積層された積層部材中に形成されている露光装置。 Wherein at least one of the supply channel and the recovery flow path, an exposure device in which a plurality of plate-like members are formed in the lamination members are laminated.
  35. 前記積層部材の中央に積層部材の厚み方向に積層部材を貫通するように、投影光学系の一部が配置される貫通穴が形成されている請求項34に記載の露光装置。 The so as to penetrate through the stacked member in a thickness direction of the laminated member in the middle of the lamination member, an exposure apparatus according to claim 34, the through hole portion of the projection optical system is arranged is formed.
  36. 前記供給流路と回収流路の少なくとも一方が、少なくとも2つの板状部材の厚み方向を貫通するように形成されている請求項34または35に記載の露光装置。 Wherein at least one of the supply channel and the recovery flow path, an exposure apparatus according to claim 34 or 35 is formed so as to penetrate the thickness direction of at least two plate-like members.
  37. 所定パターンの像を液体を介して基板に投影することによって基板を露光する露光装置であって: An image of a predetermined pattern there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting a substrate through a liquid:
    前記パターンの像を基板に投影する投影光学系と; A projection optical system for projecting an image of the pattern onto the substrate;
    投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために基板上に液体を供給する液体供給機構と;を備え、 Comprising a; a liquid supply mechanism supplies the liquid onto a substrate to form a liquid immersion area on a part of the substrate including a projection area of ​​the projection optical system
    液体供給機構は、投影光学系とは振動的に分離されている露光装置。 Liquid supply mechanism, an exposure apparatus that are vibrationally separated from the projection optical system.
  38. 前記液体供給機構は、前記パターン像が投影される投影領域の両側に供給口を有し、前記基板上への液体の供給を前記投影領域の両側で同時に行う請求項37に記載の露光装置。 The liquid supply mechanism includes a supply port on both sides of the projection area of ​​the pattern image is projected, the exposure apparatus according to the supply of liquid to the substrate in claim 37 carried out simultaneously on both sides of the projection area.
  39. 前記基板上の各ショット領域は所定の走査方向に移動しながら露光され、前記液体供給機構は、前記走査方向に関して前記投影領域の両側から前記液体の供給を同時に行う請求項38に記載の露光装置。 Each shot area on the substrate is exposed while being moved in a predetermined scanning direction, the liquid supply mechanism, the exposure device according to both sides of the projection area with respect to the scanning direction in claim 38 for supplying the liquid simultaneously .
  40. 前記基板上の液体を回収する液体回収機構を備え、該液体回収機構は、前記投影光学系とは振動的に分離されている請求項37に記載の露光装置。 Comprising a liquid recovery mechanism which recovers the liquid on the substrate, the liquid recovery mechanism, the exposure apparatus according to claim 37 which is vibrationally separated from said projection optical system.
  41. 前記液体回収機構の回収口は、前記液体供給機構の供給口を取り囲むように配置されている請求項40に記載の露光装置。 The recovery port of the liquid recovery mechanism, the exposure apparatus according to claim 40 which is arranged to surround the supply port of the liquid supply mechanism.
  42. さらに、前記投影光学系を支持する第1支持部材と、第1支持部材と振動的に分離され、前記液体供給機構を支持する第2支持部材とを備える請求項37〜41のいずれか一項に記載の露光装置。 Further, a first support member for supporting the projection optical system, are vibrationally separated from the first support member, any one of claims 37 to 41 and a second supporting member supporting the liquid supply mechanism the exposure apparatus according to.
  43. 所定パターンの像を液体を介して基板に投影することによって基板を露光する露光装置であって: An image of a predetermined pattern there is provided an exposure apparatus which exposes a substrate by projecting a substrate through a liquid:
    前記パターンの像を基板に投影する投影光学系と; A projection optical system for projecting an image of the pattern onto the substrate;
    投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に供給された液体を回収する液体回収機構と;を備え、 A liquid recovery mechanism for recovering a part of the supplied liquid on the substrate including a projection area of ​​the projection optical system; comprising a
    液体回収機構は、投影光学系とは振動的に分離されている露光装置。 Liquid recovery mechanism, an exposure apparatus that are vibrationally separated from the projection optical system.
  44. さらに、前記投影光学系を支持する第1支持部材と、該第1支持部材と振動的に分離され、前記液体回収機構を支持する第2支持部材とを備える請求項43に記載の露光装置。 Further, a first support member for supporting the projection optical system, are vibrationally separated with the first support member, an exposure apparatus according to claim 43 and a second supporting member supporting the liquid recovery mechanism.
  45. 第1支持部材と第2支持部材との間には防振機構が配置されている請求項42または44に記載の露光装置。 An apparatus according to claim 42 or 44 vibration isolation mechanism is disposed between the first support member and second support member.
  46. 前記第1支持部材に支持され、前記基板を保持して移動可能な基板ステージの位置情報を計測するレーザ干渉計を更に備える請求項42、44、45のいずれか一項に記載の露光装置。 Wherein it is supported by the first support member, an exposure apparatus according to any one of claims 42, 44, 45, further a laser interferometer for measuring the position information of the movable substrate stage comprises holding the substrate.
  47. 前記基板を保持して移動可能な基板ステージを支持するベースを備え、前記第2支持部材は、前記ベース部材と振動的に分離されている請求項42、44〜46のいずれか一項に記載の露光装置。 A base for supporting the movable substrate stage that holds the substrate, wherein the second support member, according to any one of claims 42,44~46 that are vibrationally separated from the base member of the exposure apparatus.
  48. 所定パターンの像を液体を介して基板に投影し、該基板上の複数のショット領域を順次露光する露光装置であって: An image of a predetermined pattern is projected onto the substrate through a liquid, an exposure apparatus for sequentially exposing a plurality of shot areas on the substrate:
    前記パターンの像を基板に投影する投影光学系と; A projection optical system for projecting an image of the pattern onto the substrate;
    投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために、前記基板と対向するように配置された供給口から液体を供給する液体供給機構と;を備え、 In order to form the liquid immersion area on a part of the substrate including a projection area of ​​the projection optical system, a liquid supply mechanism for supplying liquid from the substrate and arranged feed opening so as to face; equipped with,
    前記液体供給機構は、前記基板上の複数のショット領域の露光処理が行なわれている間に前記供給口から液体を供給し続ける露光装置。 The liquid supply mechanism, the exposure apparatus continue to supply liquid from the supply port while the exposure processing of a plurality of shot areas is performed on the substrate.
  49. 前記液体供給機構は、複数の供給口を有する請求項48記載の露光装置。 The liquid supply mechanism, the exposure apparatus according to claim 48, further comprising a plurality of supply ports.
  50. 前記供給口は、前記投影領域の両側に配置されている請求項49記載の露光装置。 The supply port An exposure apparatus according to claim 49, characterized in that disposed on both sides of the projection area.
  51. 前記基板上の複数のショット領域のうちの一部のショット領域は、前記基板を所定方向に移動しながら走査露光され、残りのショット領域は、前記所定方向と反対の方向に前記基板を移動しながら走査露光される請求項48〜50のいずれか一項に記載の露光装置。 Some of the shot area of ​​the plurality of shot areas on the substrate, the substrate is a scanning exposure while moving in a predetermined direction, and the remaining shot areas, the substrate moves in the opposite direction to the predetermined direction the exposure apparatus according to any one of claims 48 to 50, which is scanned and exposed while.
  52. 所定パターンの像を液体を介して基板に投影し、該基板上の複数のショット領域を順次露光する露光装置であって: An image of a predetermined pattern is projected onto the substrate through a liquid, an exposure apparatus for sequentially exposing a plurality of shot areas on the substrate:
    前記パターンの像を基板に投影する投影光学系と; A projection optical system for projecting an image of the pattern onto the substrate;
    投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために所定位置に配置された供給口から液体を供給する液体供給機構と; A liquid supply mechanism for supplying liquid from the supply port disposed in a predetermined position in order to form the liquid immersion area on a part of the substrate including a projection area of ​​the projection optical system;
    前記基板と対向するように配置された回収口を有し、前記液体供給機構から供給された液体を回収する液体回収機構と;を備え、 Comprising a; the have arranged recovery port to the substrate and a counter, and a liquid recovery mechanism which recovers the supplied liquid from the liquid supply mechanism
    前記液体回収機構は、前記基板上の複数のショット領域の露光処理が行なわれている間に前記回収口から液体を回収し続ける露光装置。 The liquid recovery mechanism, the exposure apparatus to continue to recover the liquid from the recovery port during exposure processing of a plurality of shot areas is performed on the substrate.
  53. 前記回収口は、前記投影領域を取り囲むように配置されている請求項52記載の露光装置。 The recovery port An exposure apparatus according to claim 52, wherein is arranged to surround the projection area.
  54. 前記基板上の複数のショット領域のうちの一部のショット領域は、前記基板を所定方向に移動しながら走査露光され、残りのショット領域は、前記所定方向と反対の方向に前記基板を移動しながら走査露光される請求項52または53記載の露光装置。 Some of the shot area of ​​the plurality of shot areas on the substrate, the substrate is a scanning exposure while moving in a predetermined direction, and the remaining shot areas, the substrate moves in the opposite direction to the predetermined direction the exposure apparatus according to claim 52 or 53, wherein the scanning exposure while.
  55. 請求項34〜54のいずれか一項に記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。 Device manufacturing method using the exposure apparatus according to any one of claims 34 to 54.
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