JP2005085586A - 放電プラズマ処理方法および放電プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 少なくとも一方の電極対向面が固体誘電体13,14で被覆された一対の対向する電極11,12を備え、この電極間に放電処理電圧を印加して放電させ、プラズマを発生させて電極11,12間に位置する被処理物19をプラズマ処理する放電プラズマ処理方法は、電極間に電圧を印加しない状態から放電処理電圧VHを印加する前工程および/または後工程として、コントーラ27により電圧を下げた放電処理電圧VHより低い放電準備電圧VLを電極間に印加する。放電準備電圧VLは、放電処理電圧VHの10〜99.9%に設定する。
【選択図】 図1
Description
電処理電圧を印加するプラズマ処理工程の前工程および/または後工程として、放電処理電圧より低く電極間で放電が立たない放電準備電圧を電極間に印加することを特徴とする。すなわち、プラズマ処理工程では、電極間に高電圧を印加するが、その前工程として低い電圧を印加した待機状態を作っておく。この放電プラズマ処理方法は、大気圧近傍の圧力下で行うことが好ましく、印加される放電処理電圧はパルス状電圧が好ましい。
ができる。
5は、処理ガスが流される構成となっている。すなわち、放電空間の左方にはガス導入容器16が設置され、右方にはガス排出容器17が設置されている。ガス導入容器16には、例えば窒素ガスを含む処理ガスのボンベ(図示せず)が接続され、容器の吹き出し口が放電空間15に向けられている。ガス排出容器17は放電空間15に向けて吸い込み口が位置しており、放電空間15に供給された処理ガスを吸入して、廃棄用ボンベや排ガス処理装置(図示せず)に廃棄するように構成されている。
極11,12間に被処理物である樹脂シート19を位置させ、放電処理電圧VHより低く放電の立たない、例えば放電処理電圧VHの50%程度の放電準備電圧VL(図4b)を、プラズマ処理の前工程として電極11,12間に印加する。この状態では上部電極11と樹脂シート19との間に放電が立たず、電子が飛びやすい状態、すなわちチャネルが形成された状態である。この待機状態は0.1〜5秒程度、継続させることが好ましい。
この実施形態では、上部の電極32の移動に伴ってプラズマ空間が移動するように構成されている。放電空間には、図示していないが処理ガスが流れるようにガス導入口、ガス排出口が設置される。
電圧Vppを調整するコントローラは、スイッチングインバータ回路、または+DC電源回路や−DC電源回路で機能させてもよい。また、放電処理工程の前工程、後工程で印加する放電準備電圧は、前工程と後工程で同じ電圧の例を示したが、前後の工程で異なる電圧を用いてもよい。さらに、電極間に印加する電圧としてパルス状の電圧の例を示したが、連続波でもよい。
Claims (4)
- 少なくとも一方の電極対向面が固体誘電体で被覆された一対の対向する電極を備え、該電極間に放電処理電圧を印加して放電させ、プラズマを発生させて被処理物をプラズマ処理する放電プラズマ処理方法であって、
前記放電処理電圧を印加するプラズマ処理工程の前工程および/または後工程として、前記放電処理電圧より低く前記電極間で放電が立たない放電準備電圧を前記電極間に印加することを特徴とする放電プラズマ処理方法。 - 請求項1に記載の放電プラズマ処理方法により、複数の被処理物をプラズマ処理する方法であって、
前記被処理物を、前記前工程として電極間に順次設置する工程と、前記電極間に設置された被処理物をプラズマ処理する工程と、前記後工程としてプラズマ処理後の被処理物を撤去する工程とを備え、前記設置工程および/または撤去工程では、前記放電準備電圧を前記電極間に印加することを特徴とする放電プラズマ処理方法。 - 前記放電準備電圧は、前記放電処理電圧の10〜99.9%に設定することを特徴とする請求項1または2に記載の放電プラズマ処理方法。
- 少なくとも一方の電極対向面が固体誘電体で被覆された一対の対向する電極を備え、該電極間に放電処理電圧を印加して放電させ、プラズマを発生させて被処理物をプラズマ処理する放電プラズマ処理装置であって、
該処理装置は、前記電極に印加する電圧を制御する手段を備え、該電圧制御手段は、前記放電処理電圧印加前および/または放電処理電圧印加後に、該放電処理電圧より低く前記電極間で放電が立たない放電準備電圧を印加制御することを特徴とする放電プラズマ処理装置。
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