JP2005064204A - III族窒化物系化合物半導体発光素子及びそれに用いる窒化ガリウム(GaN)基板の製造方法 - Google Patents
III族窒化物系化合物半導体発光素子及びそれに用いる窒化ガリウム(GaN)基板の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】(111)面を主面とするシリコン(Si)基板1を用意し(a)、上面にMOVPEによりAl0.2Ga0.8N層2、GaN層3を順に形成する(b)。Al0.2Ga0.8N層2及びGaN層3を形成したシリコン(Si)基板1を裏面から独立してHClガスエッチ可能なHVPE装置に設置して温度を900℃に設定し、金属ガリウムと塩化水素により発生させるGaClとアンモニアにより、シリコン(Si)基板1上面からGaN層10のハイドライド気相成長を900℃で行いながら、シリコン(Si)基板1裏面を塩化水素でガスエッチングしていった(c)。Al0.2Ga0.8N層2及びGaN層3をも除去して、膜厚約400μmのGaN基板10を得た(d)。GaN基板10は曲率半径1.5m、転位密度1×108cm-2、キャリア濃度8×1017cm-3と素子形成に好適な基板であった。
【選択図】図1
Description
図3は、比較のために製造された、III族窒化物系化合物半導体発光素子900の構造を示す断面図である。図3のIII族窒化物系化合物半導体発光素子900は、図2のIII族窒化物系化合物半導体発光素子100と比較して、GaN基板10を用いるかわりにサファイア基板91とAlNから成るバッファ層92を用いることと、n電極99をSiを4×1018/cm3でドープした厚さ4μmのGaN層93に設けるほかは同様の構成である。即ち、サファイア基板91上にバッファ層92を設け、Siを4×1018/cm3でドープした厚さ4μmのGaN層93、ノンドープのAl0.15Ga0.85Nから成る膜厚100Åのn型クラッド層94、膜厚約100ÅのGaNから成るバリア層951と膜厚約30ÅのIn0.10Ga0.90Nから成る井戸層952とが交互に合計7層積層されたMQW構造の活性層95、Mgを5×1019/cm3でドープしたp型Al0.2Ga0.8Nから成る膜厚約200Åのp型クラッド層96、Mgを1×1020/cm3でドープしたp型GaNから成る膜厚約500Åのp型コンタクト層97が形成されている。ここで、図3のIII族窒化物系化合物半導体発光素子900の活性層95の面積は、図2のIII族窒化物系化合物半導体発光素子100の活性層15の面積と等しくした。
2:Al0.2Ga0.8N層
3:GaN層
10:GaN基板10
Claims (4)
- III族窒化物系化合物半導体を用いた発光素子であって、
III族窒化物系化合物半導体基板上に前記III族窒化物系化合物半導体を少なくとも1層積層したものであり、
前記III族窒化物系化合物半導体基板は、転位密度が108cm-2以下であり、電子濃度が1017cm-3以上、主面の曲率半径が1.5m以上であることを特徴とするIII族窒化物系化合物半導体発光素子。 - III族窒化物系化合物半導体発光素子を形成するための窒化ガリウム(GaN)基板の製造方法であって、
シリコン(Si)基板上に、有機金属気相成長法(MOVPE)により、少なくとも(Al)を含むIII族窒化物系化合物半導体層と、窒化ガリウム(GaN)層とを順に積層し、
当該少なくとも(Al)を含むIII族窒化物系化合物半導体層と窒化ガリウム(GaN)層とを有するシリコン(Si)基板の、窒化ガリウム(GaN)層上に、ハイドライド気相成長法(HVPE)により窒化ガリウム(GaN)を成長させて、ハイドライド気相成長法により成長させた窒化ガリウム(GaN)層を基板として得ることを特徴とする窒化ガリウム(GaN)基板の製造方法。 - 前記ハイドライド気相成長法により窒化ガリウム(GaN)を成長させる際、石英管中で成長させることを特徴とする請求項2に記載の窒化ガリウム(GaN)基板の製造方法。
- 前記ハイドライド気相成長法による窒化ガリウム(GaN)の成長の間に、塩化水素のガスエッチングによりシリコン(Si)基板の全部又は大部分を除去することを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の窒化ガリウム(GaN)基板の製造方法。
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