JP2005046661A - Liquid-used cleaning/drying method and apparatus - Google Patents
Liquid-used cleaning/drying method and apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005046661A JP2005046661A JP2003202995A JP2003202995A JP2005046661A JP 2005046661 A JP2005046661 A JP 2005046661A JP 2003202995 A JP2003202995 A JP 2003202995A JP 2003202995 A JP2003202995 A JP 2003202995A JP 2005046661 A JP2005046661 A JP 2005046661A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- liquid
- cleaning liquid
- work
- sirocco fan
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子部品やこれを構成する材料を純水などの洗浄液で洗浄すると共に、洗浄後に乾燥させるための液式洗浄乾燥技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
電子部品やこれを構成する材料を液により洗浄する装置は、例えば特許文献1に見られるように被洗浄物を回転させながら液洗いし、液洗の後に被洗浄物を高速回転させて遠心力により液を被洗浄物から排除し、引き続いガスを被洗浄物に噴射して洗浄液を確実に被洗浄物から排除することが行われている。
【特許文献1】特開平7−37855号公報
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
これによれば、洗浄液の排除が容易に行えるものの、少なくとも塵埃や油分を含まない高圧ガス発生装置が必要となり、コストが上昇するばかりでなく、ガスを被洗浄物に確実に照射の部材が余分に必要となり構造が複雑化するという問題がある。
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、ガスの噴射を不用とした液式洗浄乾燥装置を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
このような問題を解消するために請求項1の発明においては、駆動手段より回転駆動され、吸引口を上方にして配置されたシロッコファンの回転軸を対称点とするようにワークを保持して、前記シロッコファンを回転させながら前記ワークに洗浄液を噴射して洗浄する工程と、前記洗浄液の噴射を停止して前記シロッコファンを回転させてワークを乾燥させる工程とを備えるようにした。
また、請求項2の発明においては、吸引口を上方にして配置され、駆動手段に接続されて回転軸により回転駆動されるシロッコファンと、前記シロッコファンの回転軸を対称点とするようにワークを前記シロッコファンの内部領域に保持するワーク固定手段と、前記ワークに洗浄液を噴射する洗浄液散布手段と、を備えように構成されている。
【0005】
【作用】
洗浄液の照射中は遠心力よる強い流れを作用させてワークの表面を洗浄し、洗浄の照射が終了した段階では、遠心力により表面の洗浄液を除去し、ファンによる強い気流により急速に乾燥させる。
また、シロッコファンの内部にワークを配置するため、洗浄中の洗浄液は、翼に当たってワークが存在しない方向に飛散し、ワークへの跳ね返りを確実の防止でき、また周囲の翼の慣性により、可及的に動的バランスを維持して振動の発生を抑制できる。
【0006】
【発明の実施の態様】
そこで以下に本発明の詳細を図示した実施例に基づいて説明する。
図1乃至図3は、本発明の液式洗浄乾燥装置の一実施例を示すものであって、上部に開口1を有する筐体2には、吸引口3aが上部となるようにしてシロッコファン3が配置されている。
シロッコファン3は、筐体2に設けられた基台4に防振材4aを介して支持された基板5に、回転軸6を基板5の下方に突出させるように軸受け7を介して取り付けられている。
シロッコファン3は、周知のように回転円板3bの周縁部に翼3cを等間隔に複数枚固定し、その外周にファンケーシング8を配置して構成されている。
【0007】
回転軸6は、中心軸に貫通孔6aを有するパイプにより構成され、その下端がプーリ9を固定されてベルト10を介して駆動モータ11に接続され、また上部は基板5から被洗浄物が翼3cの高さ方向の領域内に位置する程度まで突出され、突出した下部領域に回転円板3bが固定されている。
【0008】
回転軸6の上端には貫通孔6aを大気に開放するようにワーク載置台12が固定され、またワーク載置台12の表面にワークを所定距離上方に浮かせた状態で支持する固定具13が回転中心に略対象に少なくとも3個設けられている。これらの固定具13は、平板状のワークを回転円板3bに略平行に保持するように同一の高さを有している。シロッコファン3の回転中心の上方と下方にはそれぞれ洗浄液散布手段、この実施例では噴出用ノズル14、15が配置されている。
【0009】
またファンケーシング8の排出口16には、開度の調整が可能なシャッタ17が配置され、その外側にファンケーシング8に接続された液溜部18が配置されている。
【0010】
この実施例において、ワークW、例えばウエファを固定具13に取り付けて駆動モータ11を作動させ、洗浄液噴出用ノズル14、15から純水などを洗浄液として連続的、または間欠的に噴射すると、上部の洗浄液噴出用ノズル14からの洗浄液がウエファWの上面に、また下部の洗浄液噴出用ノズル15からの洗浄液が貫通孔6aを通過してワークWの下面に当たる。
【0011】
回転状態のワークWに当たった洗浄液は、遠心力を受けてウエファWの表面を高速流下して塵埃等を洗い流し、翼3cにより吸引された大気の流れにも乗って外周の翼3cに到達する。
【0012】
一方、シロッコファン3を構成している個々の翼3cは、図4に示したように径方向に対して斜めに配置されているため、翼3bに当たった洗浄液Cは中心方向に跳ね返ることなく、吸引口3aから流れ込む大気の流れに吸引されてファンケーシング8に流れ込む。なお、シャッタ17の開度を調節することにより、翼3cの吸引力を制限して、遠心力と大気の流れとを最適な状態に調整することもできる。
【0013】
このようにして、所定時間が経過した時点で洗浄液の供給を停止するとともに、必要に応じてファンの回転数を上げながら所定時間さらに回転駆動する。これにより、ワークWの表面に残留している洗浄液の液滴が強力な遠心力を受けて弾き飛ばされ、またシロッコファン3の開口3aと、回転軸6の貫通孔6aとから吸い込まれた空気がワークWの表面及び裏面に当たって表裏の液を乾燥させる。
【0014】
なお、ワークWは、略回転中心に対称に配置され、また外周にはワークWに比較して慣性の大きな翼3cが配置されいるから、可及的に動的バランスが取られ、振動が可及的に抑えられえる。なお、洗浄を実行する環境は、塵埃などが除去された空気が供給されているから、乾燥用の特別のガスを容易する必要がなく、乾燥の工程で塵埃が再付着することはない。
【0015】
洗浄が終了した段階で、駆動モータ11を停止させてワークWを固定具13から取り外す。
【0016】
なお、上述の実施例では回転軸を翼を固定する回転円板よりも上方に突出させて固定具を配置しているが、図5に示したようにワークが翼に対向する領域に位置する程度の高さ(長さ)の固定具13’を回転円板3bに直接設けても同様の作用を奏する。
【0017】
また、上述の実施例では回転軸6の下部にノズル15を配置しているが、図5に示したようにノズル15に接続する管を回転軸6を貫通させてワークの直下まで延長してもよい。また、洗浄液散布手段としてノズルばかりでなく、シャワーを使用することもできる。
【0018】
さらに、上述の実施例においては、ワークの表裏両面に洗浄液を噴射する場合について説明したが、プリント回路基板を被洗浄体とする場合には、一方の側、例えば上部にだけ噴射ノズルを配置しても同様の作用効果を奏することは明らかである。
プリント回路基板のように矩形状の物体であっても、上述したようにその周囲の側に慣性の大きな翼3cが存在するから、可及的にバランスを取ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図(イ)、(ロ)は、それぞれ本発明の液式洗浄乾燥装置の一実施例を示す上面図と、要部を拡大して示す断面図である。
【図2】本発明の液式洗浄乾燥装置の一実施例を示す側面図である。
【図3】本発明の液式洗浄乾燥装置の一実施例を示す側面図である。
【図4】洗浄時の洗浄液の飛散状態を模式的に示す図である。
【図5】本発明の液式洗浄乾燥装置の他の実施例を、その要部を拡大して示す斜視図である。
【符号の説明】
1 開口
2 筐体
3 シロッコファン
3a 吸引口
3c 翼
6 回転軸
6a 貫通孔
8 ファンケーシング
13 固定具
14、15 洗浄液散布手段を構成する洗浄液噴出用ノズル
17 シャッタ
W ワーク[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid cleaning and drying technique for cleaning an electronic component and a material constituting the electronic component with a cleaning liquid such as pure water and drying after cleaning.
[0002]
[Prior art]
An apparatus for cleaning an electronic component or a material constituting the same with a liquid, for example, as shown in
[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-37855
[Problems to be solved by the invention]
According to this, although the cleaning liquid can be easily removed, a high-pressure gas generator that does not contain at least dust and oil is required, which not only increases the cost, but also requires an extra member for reliably irradiating the object to be cleaned with gas. There is a problem that the structure becomes complicated.
The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a liquid cleaning and drying apparatus that does not require gas injection.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve such a problem, in the first aspect of the present invention, the work is held so that the rotational axis of the sirocco fan, which is rotationally driven by the driving means and is arranged with the suction port facing upward, is set as the symmetry point. And a step of spraying and cleaning the workpiece while rotating the sirocco fan, and a step of drying the workpiece by rotating the sirocco fan and stopping the spray of the cleaning solution.
According to a second aspect of the present invention, the sirocco fan is disposed with the suction port facing upward and connected to the driving means and is driven to rotate by the rotation shaft, and the workpiece is set so that the rotation axis of the sirocco fan is a symmetric point. Is fixed to the inside area of the sirocco fan, and a cleaning liquid spraying means for injecting a cleaning liquid onto the work is provided.
[0005]
[Action]
During irradiation of the cleaning liquid, a strong flow caused by centrifugal force is applied to clean the surface of the workpiece. At the stage where the irradiation of cleaning is completed, the surface cleaning liquid is removed by centrifugal force and dried rapidly by a strong air current from the fan.
In addition, since the workpiece is placed inside the sirocco fan, the cleaning fluid that is being washed will splatter in the direction in which the workpiece does not exist by striking the blade, and can be reliably prevented from bouncing back to the workpiece. Therefore, the dynamic balance can be maintained and the occurrence of vibration can be suppressed.
[0006]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Therefore, details of the present invention will be described below based on the illustrated embodiment.
1 to 3 show an embodiment of the liquid cleaning and drying apparatus of the present invention. A sirocco fan is provided in a housing 2 having an
The
As is well known, the
[0007]
The rotating
[0008]
A workpiece mounting table 12 is fixed to the upper end of the rotating
[0009]
A
[0010]
In this embodiment, when the work W, for example, a wafer is attached to the
[0011]
The cleaning liquid hitting the rotating workpiece W receives centrifugal force to flow down the surface of the wafer W at high speed to wash away dust and the like, and rides on the air flow sucked by the blade 3c to reach the outer blade 3c. .
[0012]
On the other hand, since the individual blades 3c constituting the
[0013]
In this way, the supply of the cleaning liquid is stopped when a predetermined time elapses, and is further rotated for a predetermined time while increasing the rotational speed of the fan as necessary. As a result, the droplets of the cleaning liquid remaining on the surface of the workpiece W are blown off by receiving a strong centrifugal force, and the air sucked from the opening 3a of the
[0014]
Since the workpiece W is arranged symmetrically about the center of rotation and the blade 3c having a larger inertia than the workpiece W is arranged on the outer periphery, the dynamic balance is taken as much as possible and vibration is possible. It can be suppressed as much as possible. Note that the environment in which the cleaning is performed is supplied with air from which dust or the like has been removed, so that it is not necessary to facilitate the use of a special gas for drying, and dust does not adhere again in the drying process.
[0015]
When the cleaning is completed, the drive motor 11 is stopped and the workpiece W is removed from the
[0016]
In the above-described embodiment, the fixing tool is arranged with the rotating shaft protruding above the rotating disk for fixing the blade. However, as shown in FIG. 5, the workpiece is located in a region facing the blade. Even if the
[0017]
In the above-described embodiment, the
[0018]
Furthermore, in the above-described embodiment, the case where the cleaning liquid is sprayed onto both the front and back surfaces of the workpiece has been described. However, when the printed circuit board is to be cleaned, the spray nozzle is disposed only on one side, for example, the upper part. However, it is clear that the same effect is obtained.
Even a rectangular object such as a printed circuit board can be balanced as much as possible because the wing 3c having a large inertia exists on the peripheral side as described above.
[Brief description of the drawings]
FIGS. 1A and 1B are a top view showing an embodiment of the liquid cleaning and drying apparatus of the present invention and a cross-sectional view showing an enlarged main part, respectively.
FIG. 2 is a side view showing an embodiment of the liquid cleaning and drying apparatus of the present invention.
FIG. 3 is a side view showing an embodiment of the liquid cleaning and drying apparatus of the present invention.
FIG. 4 is a diagram schematically showing a state of scattering of cleaning liquid during cleaning.
FIG. 5 is a perspective view showing an enlarged main part of another embodiment of the liquid cleaning / drying apparatus of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003202995A JP2005046661A (en) | 2003-07-29 | 2003-07-29 | Liquid-used cleaning/drying method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003202995A JP2005046661A (en) | 2003-07-29 | 2003-07-29 | Liquid-used cleaning/drying method and apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005046661A true JP2005046661A (en) | 2005-02-24 |
Family
ID=34262512
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003202995A Pending JP2005046661A (en) | 2003-07-29 | 2003-07-29 | Liquid-used cleaning/drying method and apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005046661A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7971369B2 (en) * | 2004-09-27 | 2011-07-05 | Roy Studebaker | Shrouded floor drying fan |
CN112479540A (en) * | 2019-09-12 | 2021-03-12 | 广州新致晟环保科技有限公司 | Sludge drying device and using method thereof |
-
2003
- 2003-07-29 JP JP2003202995A patent/JP2005046661A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7971369B2 (en) * | 2004-09-27 | 2011-07-05 | Roy Studebaker | Shrouded floor drying fan |
CN112479540A (en) * | 2019-09-12 | 2021-03-12 | 广州新致晟环保科技有限公司 | Sludge drying device and using method thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3556043B2 (en) | Substrate drying equipment | |
KR101533931B1 (en) | Method and apparatus for cleaning of three dimensional wafer surface | |
JP2014130884A5 (en) | ||
TW201505727A (en) | Rotational cleaning device | |
JP2000334395A (en) | Cleaning apparatus | |
JP2007150172A (en) | Processing apparatus for substrate | |
JP3171965B2 (en) | Spin cleaning and drying equipment | |
JP2005046661A (en) | Liquid-used cleaning/drying method and apparatus | |
JP3425895B2 (en) | Rotary substrate drying apparatus and drying method | |
JP2004207407A (en) | Spin cleaner | |
TWI747060B (en) | Processing cup unit and substrate processing apparatus | |
JP3946026B2 (en) | Spin processing equipment | |
JP2015146352A (en) | Cleaning device and cleaning method | |
JP6775638B2 (en) | Substrate cleaning equipment | |
JP2010003816A (en) | Wafer cleaning device | |
JP2017098295A (en) | Manufacturing apparatus and manufacturing method of semiconductor device | |
JP2004260099A (en) | Treatment fluid supply apparatus, substrate treatment apparatus using the same and substrate treatment method | |
JP4659168B2 (en) | Spin processing device | |
JP3813672B2 (en) | Spin processing device | |
JPH08323303A (en) | Washing treating device | |
TWI741473B (en) | Substrate cleaning apparatus and substrate processing method | |
JPH07153731A (en) | Rotating substrate surface washing device | |
JP2004349376A (en) | Sheet-fed type spin liquid processing apparatus | |
JP2004111559A (en) | Apparatus and method for spin treatment of substrate | |
JP2001102352A (en) | Wafer spin dryer |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20060613 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090128 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090327 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20090421 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20090721 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Effective date: 20090817 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20090917 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Effective date: 20090930 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Effective date: 20091127 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 |