JP2004346391A - Plating apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To make a carrier device arranged in an upper part of a plating tank have a configuration of not moving up and down; to automatically transfer articles to be treated one by one between pretreatment and posttreatment tanks of the plating tank; and when transferring them, to make the article enter a treatment liquid while maintaining the article in an appropriate condition even if the article has an angular curve. <P>SOLUTION: This plating apparatus comprises the plating tank, the pretreatment and posttreatment tanks, a carrier means and a hoisting means for the article to be treated, a moving means linked with the hoisting means, and a hanger for transferring the article between the carrier means and the hoisting means while supporting the article. The carrier means is arranged along the upper side of the plating tank. The hoisting means is arranged along a charging portion in the treatment tanks or the plating tank and/or the exporting portion of the plating tank. The moving means are each arranged at an ascending position and a descending position of the hoisting means in a position for transferring the article between the carrier means and the hoisting means. The hanger holds and transports the article in a hanging-down state. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、プリント基板等の被処理物で、特に薄板をメッキ槽内に自動的に投入して搬送し、被処理物を薄く均一に電気メッキ処理すると共に、多品種(サイズ)に対応できるようにしたメッキ装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、プリント基板等の被処理物をメッキするメッキ装置としては、例えば、メッキの前処理及び/または後処理をする処理槽に配設された搬送装置と、メッキ槽に配設された搬送装置とが設けられ、これらを一体に形成したものと別体に形成したものとがあり、一体に形成したものは搬送装置の全体を昇降させて、被処理物を前処理及び/または後処理とメッキ槽との間を乗り換えさせる構成になっている。
【0003】
また、別体に形成された搬送装置においては、メッキ槽に配設された搬送装置は昇降させないで、前処理及び後処理をする処理槽に配設された搬送装置のみ昇降させて被処理物を乗り換えさせるものであって、昇降できる搬送装置は、前処理部用レール軌道及び後処理部用レール軌道と押送体からなり、メッキ槽に配設された搬送装置は、メッキ処理部用レール軌道とエンドレスに配設されたメッキ処理部用歯付きベルトとから構成されている。
【0004】
そして、被処理物を電気メッキ処理する場合には、前処理部用レール軌道及び後処理部用レール軌道とがそれぞれ複数個の被処理物を個々に治具を介して吊垂した状態で全体を同時に昇降するものであり、上昇位置においても下降位置においても押送体により治具を一定のストローク押送し、下降位置において被処理物を前処理部用レール軌道からメッキ処理部用レール軌道に、またはメッキ処理部用レール軌道から後処理部用レール軌道にそれぞれ一つづつ間欠的に乗り換えさせて移送させるものである。
【0005】
また、メッキ槽においては、治具に取り付けた係合爪をメッキ処理部用歯付きベルトの係合歯と係合させ、前記メッキ処理部用歯付きベルトの搬送駆動によって前記治具に懸垂状態に挟持された被処理物、即ちシート状短冊製品を、電流が過度に集中されない所定の狭い間隙幅を維持しながら前記メッキ処理部用レール軌道に沿って横向きで直列にした搬送状態で搬送させながら電気メッキするようにした電気メッキ処理システムである(特許文献1参照)。
【0006】
更に、この公知技術においては、前記前処理部用レール軌道の前と、前記後処理部用レール軌道の後とに、それぞれ乗り換えレールが設けられ、これら乗り換えレールと直交する方向にそれぞれ乗り換え装置が設けられると共に、前記乗り換えレール及び前記メッキ処理部用レール軌道とそれぞれ対象状態に治具戻し用の乗り換えレールと治具戻し部用レール軌道とが配設された構成を有するものである。
【0007】
【特許文献1】
特開2000−54197号公報(第2頁、図3)
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記特許文献1の公知技術においては、メッキ処理タンクの上部に設けられたメッキ処理部用レール軌道に対して、前処理部用レール軌道及び後処理部用レール軌道とがそれぞれ同時に昇降するものであり、これら前処理用及び後処理用レール軌道に複数個の被処理物が吊垂状態になっていることから、一つづつの被処理物を間欠的に乗り換えさせる毎に全体を同時に昇降することにより、処理液が入った各タンクに対して或る程度のスピードをもって出したり入れたりを繰り返すことになるのであり、特に、フィルム状の薄板からなる被処理物の場合に、処理液の中に入れる際に、薄板の下端部が角度的に少しでも曲がっていると斜めにずれて入り、処理液との均等な接触がなされない現象が生じて全面的に均一な処理ができないと言う問題点を有している。
【0009】
また、一つの被処理物を乗り換えさせる時に、前処理部用レール軌道及び後処理部用レール軌道とがそれぞれ同時に昇降することにより、複数個の被処理物が繰り返し処理液中に入れたり出したりされることで、角度的な曲がりが助成されると共に、上昇したときに全部の押送体が同時に動作するが、下降した時には、端部に位置する押送体のみが動作するようにしなければならないのであり、押送体の駆動がどのように行われるかについては不明であることから、手動によってのみ可能であり、乗り換えが自動的に行われないという問題点を有している。
【0010】
更に、被処理物は係合爪が付いた治具に取り付けられ、該治具の係合爪をエンドレスのメッキ処理部用歯付きベルトの係合歯と係合させて搬送させる構成であるため、搬送のための部材が比較的多く存在し、それによって各ベルト及び各レール軌道から生じたゴミ等も必然的に多くなり、それらのゴミ等が前記メッキ処理タンクと、前処理タンクと、後処理タンクとの内部に混入するという問題点を有する。
【0011】
従って、従来のメッキ装置においては、メッキ槽の上部に配設される搬送装置を昇降させない構成にすると共に、メッキ処理槽の前処理及び後処理における被処理物の乗り換えを一つづつ自動的にスムーズに行えるようにし、且つその乗り換えの際に角度的な曲がりがあっても、被処理物を処理液中に適正な状態を維持して侵入させることができるようにすることに解決しなければならない課題を有している。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記した従来例の課題を解決する具体的手段として本発明は、メッキ液が収納され陽極板が配設されたメッキ槽と、前処理及び後処理をする処理液が収納された前・後処理槽と、被処理物の搬送手段と、被処理物の昇降手段と、該昇降手段と連係する移動手段と、前記被処理物を支持して前記該搬送手段と前記昇降手段との間を乗り換えできるハンガーとを備え、前記搬送手段は、前記メッキ槽の上部側面に沿わせ且つ所定の間隔をもって配設し、前記昇降手段は、前記処理槽乃至前記メッキ槽の投入部及び/または該メッキ槽の搬出部に沿わせ且つ側面から所定の間隔をもって配設し、前記移動手段は、前記搬送手段と前記昇降手段との乗り換え位置であって且つ該昇降手段の上昇位置と下降位置とにそれぞれ配設し、前記ハンガーは、所要長さの水平部と垂下部とを有するアームを有し、該アームの垂下部に陰極用のクランプが設けられ、該クランプに前記被処理物を垂下状態に挟持させて、前記前処理槽からメッキ槽及び後処理槽に順次、昇降手段と移動手段及び搬送手段を介して自動的に乗り換えさせて搬送しメッキ処理することを特徴とするメッキ装置を提供するものである。
【0013】
この発明において、前記メッキ槽内及び/または前記処理槽内には、少なくとも被処理物の投入部に略V字状に形成した噴出管または斜下降流板を配設したこと;前記メッキ槽内には、所定の長さに分割され、それぞれ上下動する可動遮蔽板を被処理物の搬送方向と平行に配設したこと;前記メッキ槽内には、被処理物の搬送方向と平行且つ該被処理物の搬送方向に沿って上向きまたは下向きに傾斜させた搬送ガイド部材を複数列配設させたこと;前記搬送ガイド部材は、所定の長さで複数に分割し、該分割した搬送ガイド部材の一部をオーバーラップさせたこと;前記噴出管または斜下降流板の下部側に循環ポンプに接続された吸液管を配設し、メッキ液または処理液を循環させること;を付加的な要件として含むものである。
【0014】
本発明に係るメッキ装置は、移動手段を前記搬送手段と前記昇降手段との乗り換え位置であって且つ該昇降手段の上昇位置と下降位置とにそれぞれ配設したことによって、メッキ処理槽の前処理及び後処理における被処理物の乗り換えを一つづつ自動的にスムーズに行えるのである。
【0015】
【発明の実施の形態】
次に、本発明を具体的な実施の形態に基づいて詳しく説明する。
本発明の第1の実施の形態に係るメッキ装置について図1〜4を用いて説明すると、図1は装置の概略を示す平面図で、図2は図1のA−A線に沿う略示的断面図であり、図3及び図4は搬送部を略示的に拡大して示す断面図及び側面図である。
【0016】
これら図において、メッキ装置1には、メッキ工程における前後処理を行う処理槽2と、メッキ液が収納されメッキ処理を行うメッキ槽3とからなり、上記処理槽2は、前処理をする処理液を収納した前処理槽2aと後処理をする処理液を収納した後処理槽2bとからなる。なお、この処理槽2は、前処理槽2aまたは後処理槽2bのいずれか一方であっても良い。
【0017】
また、メッキ装置1は、被処理物をメッキ槽3内を通過させてメッキ処理するための搬送手段4と、前記処理槽2とメッキ槽3との間を乗り換えさせるための昇降手段5と、被処理物を吊垂状態に支持して前記搬送手段4により搬送させ、且つ昇降手段5によって被処理物を保持したまま乗り換えさせることができるハンガー6とを有し、該ハンガー6は、下端部側にローラ6aが取り付けられると共に、基部側を一体的に固定させたアーム7を有するものである。
【0018】
このメッキ工程の前処理槽2aによる処理としては、例えば、脱脂、水洗及び酸洗等があり、また、メッキ工程の後処理槽2bによる処理としては、例えば、シャワーによる水洗及び防錆処理等である。
【0019】
前記搬送手段4は、図3〜4に示したように、例えば、メッキ槽3の長さと略対応する長さ範囲に一対のチェーン4a、4bを並列に且つ共通の軸4cをもってエンドレスに配設し、複数のギヤ駆動輪4dに懸架して駆動されるように構成され、更に、この駆動手段4と並列にワークレール8aを備えており、該ワークレール8aはメッキ槽3の上部外側側面に沿って配設されている。また、前処理槽2a側にもワークレール8bが設けられている。
【0020】
昇降手段5には、昇降ガイド9が昇降自在に配設されており、該昇降ガイド9は、適宜の駆動源、例えば、上部に設置されたモータMにより上下動するものであり、前記ハンガー6を引っ掛けて保持した状態で駆動される。また、昇降ガイド9に保持されたハンガー6は、昇降ガイド9の上昇終点位置近傍において横方向へ移動させられるための移動手段5aが略平行に設けられている。
【0021】
この移動手段5aは、図5に示したように、所謂水平に配設されたバー状またはレール状部材であって、該バー状またはレール状部材に沿って往復移動するスライド部材5bが設けられ、該スライド部材5bには一方向のみに作用する爪部5cが突出形成されている。そして、スライド部材5bは適宜の駆動源によって駆動される両側のリール5dに懸架した紐状の緊張材5eを介して往復移動し、爪部5cが昇降ガイド9に保持されたハンガー6の上部に作用して横方向に移動させるのである。
【0022】
また、昇降ガイド9が下降して搬送手段4へのハンガー6の乗り換えについては、要するに、横方向へ移動させるものであるため、実質的に前記移動手段5aと同一構造のものが使用される。従って、説明が重複するので、各構成部分についての詳細は省略するが、図4に示したように、搬送手段4の端部に隣接させて爪部5cが上向きになるように取り付けるのである。そして、爪部5cがハンガー6の下部に作用して横方向に移動させるのである。
【0023】
ハンガー6は、前記アーム7とは反対側に駆動伝達用の係止用突起6bが設けられており、また、アーム7は、水平部7aと自由端部側に垂下部7bが形成されており、該垂下部7bの端部には、陰極用のクランプ10が取り付けられており、該陰極用のクランプ10で被処理物11を挟持させ垂下状態に維持するものである。この被処理物11としては、例えば、比較的薄いフィルム状または薄板状のプリント基板等を挙げることができる。
【0024】
そして、前記ハンガー6は、搬送手段4側に位置した場合には、ワークレール8aに対してローラ6aが当接し、係止用突起6bは一対のチェーン4a、4bの間の軸4cに係止し、チェーンの駆動によりローラ6aが転動して水平に移動できるようになっている。また、処理槽2側にハンガー6が位置する場合には、昇降手段5と共に配設されているワークレール8bにローラ6aが当接して転動し水平に移動できる状態になっているのである。
【0025】
次に動作について図6〜図8を用いて説明すると、図6は、メッキ装置1の前処理槽2aと、後処理槽2bと、メッキ槽3とを説明のために、Uターン部分を直線的に配置して略示的に示す断面図を示したものであり、図7は、メッキ槽3と後処理槽2bとの一部を拡大して略示的に示し断面図を示し、図8はハンガー6の乗り換え状況を説明するための要部の略示的側面図を示すものである。
【0026】
そこで、昇降手段5に昇降自在な状態で配設された昇降ガイド9は、前処理槽2a乃至メッキ槽3の投入部3aと、該メッキ槽3の搬出部3b乃至後処理槽2bに沿ってそれぞれ配設されると共に、移動手段5aも昇降手段5の上部と搬送手段4の両端部とにそれぞれ配設されている。
【0027】
昇降手段5に配設された昇降ガイド9は、被処理物11を、前処理槽2a及び後処理槽2bに配設された各処理槽の間並びに該前処理槽2aとメッキ槽3との間及びメッキ槽3と後処理槽2bとの間を移動させる際、前記昇降手段5によって上下方向に昇降し、その上昇位置及び下降位置に昇降ガイド9が到達した時にそれを検出して移動手段5aが動作してハンガー6を水平方向に移動させる。
【0028】
前記昇降ガイド9によって昇降及び水平搬送されるハンガー6と、該ハンガー6に取り付けられたアーム7とは、各処理槽で適宜昇降させられて図1のアームの軌跡7cに示したように上側位置または下側位置を水平に搬送される。
【0029】
まず、前処理槽2aにおいて、昇降ガイド9に対してハンガー6を引っ掛けると共にアーム7のクリップ10に被処理物11を挟持させて吊垂状態にして供給し、該被処理物11を前処理槽2aに収納された処理液に浸漬させて前処理をする。この前処理工程においては、複数の処理槽があって、一番端の処理槽から順送りしながら前処理をするものであって、その都度昇降ガイド9が上下動し、上昇した時点で移動手段5aによりハンガー6を一個づつ各処理槽に対応する位置まで横方向に順送りをする。
【0030】
前処理槽2aで処理された被処理物11は、次にメッキ槽3に移動させられるものであり、その移動については、前処理槽2aでの順送りと同一のピッチではないが、略同じやり方を採用して移動するものであって、昇降ガイド9が上昇したときに、前処理工程が終了した被処理物11を吊垂しているハンガー6に対して、移動手段5aが作用してメッキ槽3の投入部3aに対応する位置まで横方向に移動させる。
【0031】
この移動させた位置において、昇降ガイド9を下降させることにより被処理物11はメッキ槽3の投入部3aに投入される。この投入部3aへの投入、即ち、昇降ガイド9の下降点において下部側に配設した移動手段5aが駆動され、昇降ガイド9に吊垂状態にあるハンガー6を横方向に移動させてワークレール8aに乗り換えさせると共に、搬送手段4である一対のチェーン4a、4bの間の軸4cにハンガー6の係止用突起6bが係合し、それによってハンガー6はワークレール8aに沿って移動し、アーム7の端部に取り付けられている陰極用のクランプ10に挟持された被処理物11をメッキ槽3内に収納されたメッキ液に浸漬させた状態で搬出部3bまで搬送移動させる。
【0032】
メッキ槽3内には、メッキ液が収納されると共に、両壁面に沿って陽極板12が配設されており、被処理物11と平行に陽極板12が位置しているので、メッキ槽3内を移動している中で、陰極用のクランプ10に挟持された被処理物11の両面を均一にメッキ処理することができる。
【0033】
また、メッキ槽3内には、図2に示したように、被処理物11の搬送方向に沿って平行に該被処理物11の両面側に複数の噴出管13が配設されており、該噴出管13に設けられた複数の噴出ノズル13aから被処理物11の両面に連続的にメッキ液を噴出させているため、該被処理物11には、常に新しいメッキ液が接触し、高い効率で安定したメッキ処理をすることができると共に、メッキ液の濃淡によるメッキ厚の差異を少なくして、均一にメッキ処理することができるのである。
【0034】
メッキ処理が終了した被処理物11は、図7及び図8に示したように、メッキ槽3から搬出され後処理槽2bに移送されるものであるが、その搬出に当たっては、搬送手段4の後端側において、昇降ガイド9が下降し、その下降点に達した時に下部側に配設した移動手段5aが駆動され、スライド部材5bの爪部5cが搬送手段4で搬送されてきたメッキ処理済みの被処理物11を吊垂しているハンガー6の下部に作用して横方向に移動させ、そのハンガー6を昇降ガイド9にスムーズに乗り換えさせるのである。
【0035】
このように乗り換えさせられたハンガー6は、被処理物11と共に昇降ガイド9の上昇に伴ってメッキ槽3から引き抜かれ、昇降ガイド9が上昇点に達したときに上部に配設してある移動手段5aが駆動され、スライド部材5bの爪部5cがハンガー6の上部に作用して横方向に移動させ、後処理槽2bに対応する位置まで移動させる。そして、この位置において、再び昇降ガイド9が下降したときに、一方においては、メッキ槽3からメッキ処理済みのハンガー6を受け入れ、他方においては、後処理槽2bにメッキ処理済みのハンガー6を乗り換えさせて後処理するのである。
【0036】
いずれにしても、前後の処理槽2及びメッキ槽3と、搬送手段4、昇降手段5及び移動手段5aとは、それぞれ所定の間隔をもった処理部所間をつなぐように設けられ、該搬送手段4及び昇降手段5によって移動または搬送されるハンガー6のアーム7に取り付けられている陰極用のクランプ10に挟持された被処理物11は、各処理部所間において、全て自動的に乗り換えさせることができるので作業効率が著しく向上する。
【0037】
更に、本発明に係る第2の実施の形態について、図9〜図11について説明する。なお、基本的な構成については、前記第1の実施の形態と同一であるので、その実施の形態についての具体的な全体の図示を省略し、図2に新たな構成部分を付加して説明する。
【0038】
図9は、メッキ槽3の内部を略示的に示した側面図であり、図10はその略示的断面図である。メッキ槽3内の下部側には、陽極板12及び噴出管13よりも内側で、被処理物11の両面側に搬送方向(矢印a)と平行に、所定の長さに分割した可動遮蔽板16を配設させたものであり、該可動遮蔽板16の外側に近接させて、該可動遮蔽板16を保護するためのカバー板17が配設されている。
【0039】
図9(a)〜(c)においては、被処理物11の搬送方向における時間の経過と共に搬送される様子を示してあり、また、図10(a)においては、被処理物11の深さ方向の長さが長い場合で、可動遮蔽板16がカバー板17と同じレベルに収納されている状態を示してあり、図10(b)においては、被処理物11の深さ方向の長さが短い場合で、可動遮蔽板16がカバー板17から上方に摺動した状態を示してある。
【0040】
可動遮蔽板16は、被処理物11の深さ方向の長さが長い場合には、カバー板17と同じレベルの下側に位置しており、被処理物11の深さ方向の長さが短い場合には、カバー板17から上方位置に摺動され、陽極板12からの電流18の一部(下側)を遮断して、前記被処理物11に透過される電流を一定に維持し、被処理物11のメッキ処理が均一にされるようにする。
【0041】
このように、被処理物11の大きさ(上下方向の長さ)に対応して、上下動する可動遮蔽板16を配設させたことにより、被処理物11を均一にメッキ処理でき、更に、可動遮蔽板16を所定の長さで分割したことにより、例えばダミー板11aを1枚使用するだけで、異なる長さの被処理物11に対応させることができるため、多品種・少量生産に適応させることができるのである。つまり、ハンガー6にダミー板11aを吊垂させ、該ダミー板11aを付けたハンガー6の通過を検知することで、可動遮蔽板16の上下動を制御すれば良いのである。
【0042】
更に、図11にメッキ槽3の内部に搬送ガイド部材19を取り付けた状態を略示的に示ししてある。つまり、メッキ槽3内で噴出管13よりも内側に、被処理物11の搬送方向(矢印a)と平行で且つ該被処理物11の搬送方向に沿って下向きに傾斜させた平板または棒状の搬送ガイド部材19を複数列配設させている。なお、この搬送ガイド部材19は、被処理物11の搬送方向に沿って上向きに傾斜させても良い。
【0043】
この搬送ガイド部材19は、所定の長さで複数に分割し、該分割した搬送ガイド部材19の一部(前後端部)を相互にオーバーラップさせ、被処理物11を整然と搬送すると共にメッキ液との接触、即ちメッキ液の流れを一定方向にならないように攪拌するため、被処理物11にメッキ処理による縞模様の発生を防ぐことができる。
【0044】
本発明の第3の実施の形態に係るメッキ装置を図12及び図13に示す。この実施の形態においても、その基本的な構成については、前記第1の実施の形態と同一であるので、その実施の形態についての具体的な全体の図示を省略して説明する。
【0045】
図12にメッキ槽の内部を略示的に示した側面図を示し、図13にその断面図を示す。なお、この第3の実施の形態においては、前記第2の実施の形態の可動遮蔽板16をフロート式にしたものであり、その他の構成については、前記第2の実施の形態と同一であるため、同一部分については、同一の符号を付して説明し、その詳細な説明は省略する。
【0046】
この第3の実施の形態においては、支持軸20を介して可動遮蔽板16とフロート21とを連結させた構成にしている。このフロート21は、適宜の押し板22で押圧することにより、前記可動遮蔽板16を上昇・下降させている。この場合の押し板22は、適宜の手段、例えば、エアー等により上下動するものであって、ダミー板11aの通過により駆動させるものである。
【0047】
また、図示していないが、例えば、先端が緩やかな曲面をもって上方に所定長さ曲げて形成した押し板も使用でき、ダミー板11aを境にしてその取付位置を被処理物11の長さに対応して設定して、例えば、ハンガー6等に取り付け、被処理物11の搬送に伴って移動させることにより、フロート21の上下動を順次行って可動遮蔽板16を上下動させ、いずれにしても、被処理物11のメッキ処理が均一になされるようにしてある。
【0048】
また、本発明の第4の実施の形態に係るメッキ装置の要部を図14に示す。この実施の形態においても、その基本的な構成については、前記第1の実施の形態と同一であるので、その実施の形態についての具体的な全体の図示を省略し、要部のみを示して説明する。
【0049】
この実施の形態においては、前記第1の実施の形態に係る噴出管13の構成を改良したものであり、メッキ槽3内の配設位置等は全く同一である。
改良した噴出管23は、対をなす噴出管23a、23bであって、その上部をそれぞれ外側に折り曲げて形成し、対をなす上部の形状を略V字状に形成したものである。
【0050】
そして、対をなす略V字状の噴出管23a、23bは、少なくともメッキ槽3における被処理物11の投入部位に配設されるものであり、投入部位以降は、前記第1の実施の形態に係る噴出管13を配設しても良いのである。また、略V字状に形成した上部側からも被処理物11の搬送方向aに対して略直行する方向にメッキ液を噴出させるものである。
【0051】
このように、上部を略V字状に形成した噴出管23a、23bを少なくともメッキ槽3の被処理物11の投入部位に配設することによって、特に、被処理物11が薄いフィルム状のものであっても、また、被処理物11の投入角度または下端側の角度がずれていても、噴出させたメッキ液により被処理物11を噴出管23a、23bの中央部に直ちに誘導できるため、該被処理物11の保持治具・挟み機構を必要とすることなく、メッキ槽3内に被処理物11を安定した状態でスムーズに投入できるようになり、コストを削減することができる。
【0052】
更に、本発明の第5の実施の形態に係るメッキ装置の要部を図15〜図16に示す。この実施の形態においても、その基本的な構成については、前記第1の実施の形態と同一であるので、その実施の形態についての具体的な全体の図示を省略し、要部のみを示して説明する。
【0053】
この実施の形態においては、主としてメッキ槽3における被処理物11の投入部位を改良したものであり、要部のみを斜視図として図15に示し、その投入部位のメッキ槽3の側面を略示的に図16に示す。
【0054】
図において、メッキ装置におけるメッキ槽3の内部で、特に、被処理物11の投入部位に、一種の整流部材31を配設したものであり、該整流部材31は、対をなす斜下降流板31a、31bからなるものである。まら、その他の構成については、前記第1の実施の形態と同一であるため図示と説明とを省略する。
【0055】
この整流部材31を構成する対をなす斜下降流板31a、31bは、その上部側を略V字状に形成したものであり、これら斜下降流板31a、31bを被処理物11の搬送方向aに対して平行に配設すると共に、斜下降流板31a、31bの上端部近傍に沿って噴出管32が設けられ、更に、斜下降流板31a、31bの下部側中央部には、吸液管33が配設され、噴出管32と吸液管33との間に適宜の循環ポンプを介在させ、吸液管33を介して吸引したメッキ液を噴出管32から噴出させて斜下降させるものであり、循環させるものである。
【0056】
このように、メッキ槽3内に略V字状に形成した斜下降流板31a、31bを配設することによって、被処理物11が薄いフィルム状のものであっても、また、被処理物11の投入角度または下端側の角度がずれていても、循環噴出させた斜下降するメッキ液により被処理物11を斜下降流板31a、31bの中央部に速やかに誘導できるため、被処理物11の保持治具・挟み機構を必要とすることなくメッキ槽3内に被処理物11を安定した状態で投入できるようになり、コストを削減することができる。
【0057】
また、前記第4の実施の形態に係る噴出管23a、23bと、前記第5の実施の形態に係る斜下降流板31a、31bとは、前後の処理槽2に配設させても良い。因みに、前処理槽2aに対して付加した状態がどのようなものであるかを明確にするため、一例として整流部材31を取り付けた状態を前記第1の実施の形態に係る図2に示してある。
【0058】
いずれにしても、仕切られた前後の処理槽2とメッキ槽3とにおいて、移動手段5aと搬送手段4とを独立させ、且つ関連的に駆動させることにより、被処理物11を前後の処理槽2とメッキ槽3との間での乗り換えを自動的に且つスムーズに行うことができ、また、被処理物11のサイズが異なっても、装置の駆動を停止することなく、連続した状態でしかも均一に処理することができ、更に、処理槽2においてもメッキ槽3においても、被処理物11が投入される部位に、所謂整流部材を設けたことにより、乗り換えの際に角度的な曲がりがあっても、被処理物を処理液中に適正な状態を維持して侵入させ留ことができるのである。
【0059】
また、移動手段5aと搬送手段4とを独立させたことにより、搬送手段4の速度に合わせて移動手段5aを調整できるので、処理液に対する被処理物11の浸漬時間を自由に制御できると共に、搬送手段4が、処理槽2及びメッキ槽3の上部中央部ではなく上部側面の所定間隔をもった位置に配設されているため、該搬送手段4の駆動または摺動等によって生じるゴミ等が前記処理槽2及びメッキ槽3の中に混入しないのである。
【0060】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のに係るメッキ装置は、メッキ液が収納され陽極板が配設されたメッキ槽と、前処理及び後処理をする処理液が収納された前・後処理槽と、被処理物の搬送手段と、被処理物の昇降手段と、該昇降手段と連係する移動手段と、前記被処理物を支持して前記該搬送手段と前記昇降手段との間を乗り換えできるハンガーとを備え、前記搬送手段は、前記メッキ槽の上部側面に沿わせ且つ所定の間隔をもって配設し、前記昇降手段は、前記処理槽乃至前記メッキ槽の投入部及び/または該メッキ槽の搬出部に沿わせ且つ側面から所定の間隔をもって配設し、前記移動手段は、前記搬送手段と前記昇降手段との乗り換え位置であって且つ該昇降手段の上昇位置と下降位置とにそれぞれ配設し、前記ハンガーは、所要長さの水平部と垂下部とを有するアームを有し、該アームの垂下部に陰極用のクランプが設けられ、該クランプに前記被処理物を垂下状態に挟持させて、前記前処理槽からメッキ槽及び後処理槽に順次、昇降手段と移動手段及び搬送手段を介して自動的に乗り換えさせて搬送しメッキ処理する構成にしたことにより、メッキ処理槽の前処理及び後処理における被処理物の乗り換えを一つづつ自動的にスムーズに行えメッキ処理作業が効率よく行えると言う優れた効果を奏する。
【0061】
また、この発明において、前記メッキ槽内及び/または前記処理槽内には、少なくとも被処理物の投入部に略V字状に形成した噴出管または斜下降流板を配設したことによって、被処理物の投入角度または下端側の角度がずれていても、メッキ槽または処理槽の中央部の処理液中に、被処理物を適正な状態を維持して速やかに侵入させることができると言う優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係るメッキ装置を略示的に示した平面図である。
【図2】図1のA−A線に沿う断面図である。
【図3】同メッキ装置の要部のみを略示的に示した断面図である。
【図4】同メッキ装置における搬送手段と移動手段との関係を示す要部の略示的側面図である。
【図5】同メッキ装置における昇降手段と移動手段との関係を示す要部の略示的側面図である。
【図6】同メッキ装置を解りやすく説明するために前処理槽と、後処理槽と、メッキ槽と直線的に配置して略示的に示した断面図である。
【図7】同メッキ装置における被処理物の乗り換え状況を説明するためにメッキ槽と後処理槽との一部を拡大して略示的に示した断面図である。
【図8】同メッキ装置における被処理物の乗り換え位置の要部を拡大して示した側面図である。
【図9】本発明の第2の実施の形態に係るメッキ装置であって、メッキ槽における基本的な構成をブロック的に示し、(a)〜(c)はその動作状況を示した側面図である。
【図10】同メッキ装置のメッキ槽において、(a)〜(b)は可動遮蔽板の動作状況をを略示的に示した断面図である。
【図11】同メッキ装置のメッキ槽において、もう一つの要部を略示的に示した断面図である。
【図12】本発明の第3の実施の形態に係るメッキ装置であって、メッキ槽における基本的な構成を略示的に示した側面図である。
【図13】同メッキ装置のメッキ槽において、(a)〜(b)は可動遮蔽板の動作状況をを略示的に示した断面図である。
【図14】本発明の第4の実施の形態に係るメッキ装置においてメッキ槽の内部に取り付けて使用する噴出管を略示的に示した斜視図である。
【図15】本発明の第5の実施の形態に係るメッキ装置においてメッキ槽の内部に取り付けて使用する斜下降流板を略示的に示した斜視図である。
【図16】同メッキ装置のメッキ槽におけるメッキ槽の内部を略示的に示した側面図である。
【符号の説明】
1 メッキ装置
2 処理槽
2a メッキの前処理槽
2b メッキの後処理槽
3 メッキ槽
4 搬送手段
4a、4b チェーン
4c 軸
4d ギヤ駆動輪
5 昇降手段
5a 移動手段
5b スライド部材
5c 爪部
5d リール
5e 緊張材
6 ハンガー
6a ローラ
6b 係止用突起
7 アーム
7a アームの水平部
7b アームの垂下部
8a、8b ワークレール
9 昇降ガイド
10 陰極用のクランプ
11 被処理物
11a ダミー板
12 陽極板
13、32 噴出管
13a 噴出ノズル
16 可動遮蔽板
17 カバー板
18 電流
19 搬送ガイド板
20 支持軸
21 フロート
22 押し板
23、23a、23b 噴出管
31 整流部材
31a、31b 斜下降流板
33 吸液管
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention provides, for example, an object to be processed such as a printed circuit board, in particular, a thin plate that is automatically put into a plating tank and conveyed, and the object to be processed is thinly and uniformly electroplated, and a variety of types (sizes) are provided. The present invention relates to a plating apparatus which can be used.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, as a plating apparatus for plating an object to be processed such as a printed circuit board, for example, a transport device provided in a processing tank for performing pre-treatment and / or post-treatment of plating, and a transport device provided in a plating tank Are provided, and there is a case in which these are integrally formed and a case in which these are formed separately. The integrally formed one raises and lowers the entire transfer device, and pre-processes and / or post-processes the object to be processed. It is configured to transfer between the plating tank.
[0003]
Further, in the transfer device formed separately, the transfer device provided in the plating tank is not moved up and down, and only the transfer device provided in the processing tank for performing the pre-processing and the post-processing is raised and lowered. The transfer device that can be moved up and down is composed of a rail track for the pre-processing section, a rail track for the post-processing section, and a pushing body, and the transfer apparatus provided in the plating tank is a rail track for the plating section. And a toothed belt for a plating section disposed endlessly.
[0004]
When the object to be processed is subjected to the electroplating process, the rail track for the pre-processing part and the rail track for the post-processing part are entirely suspended in a state where a plurality of the objects are individually suspended via jigs. Simultaneously ascending and descending, the jig is pushed by a constant stroke by the pushing body both at the ascending position and at the descending position, and at the descending position, the workpiece is moved from the rail track for the preprocessing section to the rail track for the plating section, Alternatively, transfer is performed by intermittently transferring one by one from the rail track for the plating section to the rail track for the post-processing section.
[0005]
Further, in the plating tank, the engaging claws attached to the jig are engaged with the engaging teeth of the toothed belt for the plating part, and the belt is suspended from the jig by the driving drive of the toothed belt for the plating part. The workpiece to be processed, that is, the sheet-shaped strip product, is transported in a laterally serial transport state along the plating section rail while maintaining a predetermined narrow gap width where current is not excessively concentrated. This is an electroplating processing system in which electroplating is performed (see Patent Document 1).
[0006]
Further, in this known technique, transfer rails are provided in front of the pre-processing section rail track and after the post-processing section rail track, respectively, and the transfer apparatus is provided in a direction orthogonal to these transfer rails. In addition, the present invention has a configuration in which the transfer rail and the rail track for the plating section, and the transfer rail for returning the jig and the rail track for the jig return section are arranged in the target state, respectively.
[0007]
[Patent Document 1]
JP-A-2000-54197 (page 2, FIG. 3)
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the known technique of Patent Literature 1, the rail track for the pre-processing section and the rail track for the post-processing section simultaneously move up and down with respect to the rail track for the plating section provided at the top of the plating tank. Since a plurality of objects to be processed are suspended on the rail tracks for pre-processing and post-processing, each time one of the objects is intermittently changed, the entire object is simultaneously lifted and lowered. By doing so, the processing liquid is repeatedly put in and out of each tank containing the processing liquid at a certain speed, and in particular, in the case of a processing target made of a thin film film, the processing liquid If the lower end of the thin plate is slightly bent at an angle when it is inserted inside, it will enter obliquely, causing a phenomenon that uniform contact with the processing liquid will not be made, and uniform processing over the entire surface will occur. It has a problem to say that there is no.
[0009]
Further, when one workpiece is changed, the rail track for the pre-processing section and the rail track for the post-processing section simultaneously move up and down, respectively, so that a plurality of workpieces repeatedly enter and exit the processing liquid. By doing so, the angular bending is promoted, and when the ascent is raised, all the pushing bodies operate at the same time, but when the ascent is lowered, only the pushing body located at the end must be operated. In addition, since it is unknown how the pushing body is driven, it is possible only by manual operation, and there is a problem that the transfer is not automatically performed.
[0010]
Further, since the object to be processed is attached to a jig provided with an engagement claw, the engagement claw of the jig is conveyed by engaging the engagement claw of the endless belt with a toothed belt for a plating section. There is a relatively large number of members for conveyance, which inevitably increases the amount of dust and the like generated from each belt and each rail track, and the dust and the like are removed from the plating tank, the pretreatment tank, and the There is a problem that it is mixed into the inside of the processing tank.
[0011]
Accordingly, in the conventional plating apparatus, the transfer device disposed above the plating tank is not moved up and down, and the transfer of the workpiece in the pre-processing and post-processing of the plating tank is automatically performed one by one. It is necessary to solve the problem so that it can be smoothly performed, and even if there is an angular bend at the time of transfer, it is possible to maintain the proper state of the object to be processed into the processing liquid and to enter the processing solution. Have issues that must be met.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
As a specific means for solving the above-mentioned problems of the conventional example, the present invention is directed to a plating tank in which a plating solution is stored and an anode plate is disposed, and a pre- and post-treatment in which a processing solution for pre-processing and post-processing is stored. A tank, a means for transporting the object to be processed, a means for elevating and lowering the object to be processed, a moving means associated with the means for elevating and lowering, and a transfer between the transporting means and the elevating means supporting the object to be processed. A transfer hanger is provided along the upper side surface of the plating tank and at a predetermined interval, and the elevating means is provided with an input portion of the processing tank or the plating tank and / or the plating tank. The moving means is disposed at a transfer position between the transporting means and the elevating means, and at an ascending position and a descending position of the elevating means, respectively. And the hanger is It has an arm having a horizontal portion with a length and a hanging portion, and a clamp for a cathode is provided at the hanging portion of the arm, and the clamp holds the object to be processed in a hanging state from the pretreatment tank. It is an object of the present invention to provide a plating apparatus characterized in that a plating apparatus is automatically transferred to a plating tank and a post-treatment tank sequentially via an elevating unit, a moving unit, and a conveying unit, and then transferred and plated.
[0013]
In the present invention, a substantially V-shaped ejection pipe or oblique descending flow plate is provided at least in an input portion of the object to be processed in the plating tank and / or the processing tank; A movable shielding plate which is divided into predetermined lengths and moves up and down respectively is disposed in parallel with the transport direction of the workpiece; in the plating tank, the movable shield plate is parallel to the transport direction of the workpiece and A plurality of transport guide members inclined upward or downward along the transport direction of the workpiece are arranged in a plurality of rows; the transport guide members are divided into a plurality of pieces with a predetermined length, and the divided transport guide members are divided. A part of which overlaps; providing a suction pipe connected to a circulation pump at the lower side of the jet pipe or the inclined downflow plate to circulate a plating solution or a processing solution; It is included as a requirement.
[0014]
The plating apparatus according to the present invention is characterized in that the moving means is disposed at a transfer position between the transporting means and the elevating means and at the ascending position and the descending position of the elevating means, respectively. In addition, the change of the workpiece in the post-processing can be automatically and smoothly performed one by one.
[0015]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Next, the present invention will be described in detail based on specific embodiments.
The plating apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4. FIG. 1 is a plan view schematically showing the apparatus, and FIG. 2 is a schematic view taken along line AA of FIG. 3 and 4 are a schematic enlarged cross-sectional view and a side view, respectively, of the transport unit.
[0016]
In these figures, a plating apparatus 1 includes a treatment tank 2 for performing a pre-processing and a post-treatment in a plating process, and a plating tank 3 for storing a plating solution and performing a plating process. And a post-treatment tank 2b containing a processing solution for post-treatment. The processing tank 2 may be either the pre-processing tank 2a or the post-processing tank 2b.
[0017]
Further, the plating apparatus 1 includes a transporting unit 4 for passing an object to be processed through the plating tank 3 for plating, an elevating unit 5 for transferring between the processing tank 2 and the plating tank 3, A hanger 6 that supports the object to be processed in a suspended state and is transported by the transporting means 4 and can be changed while holding the object to be processed by a lifting / lowering means 5; A roller 6a is attached to the side, and an arm 7 having a base side integrally fixed thereto is provided.
[0018]
The treatment by the pre-treatment tank 2a in the plating step includes, for example, degreasing, water washing and pickling, and the treatment by the post-treatment tank 2b in the plating step includes, for example, water washing with a shower and rust prevention treatment. is there.
[0019]
As shown in FIGS. 3 and 4, for example, the transporting means 4 has a pair of chains 4 a and 4 b arranged in parallel and endlessly with a common shaft 4 c in a length range substantially corresponding to the length of the plating tank 3. In addition, a work rail 8a is provided so as to be suspended and driven by a plurality of gear driving wheels 4d, and further provided with a work rail 8a in parallel with the driving means 4, and the work rail 8a is provided on the upper outer side surface of the plating tank 3. It is arranged along. A work rail 8b is also provided on the pretreatment tank 2a side.
[0020]
An elevating guide 9 is disposed on the elevating means 5 so as to be able to move up and down freely. The elevating guide 9 is moved up and down by an appropriate driving source, for example, a motor M installed at an upper part. Is driven while being hooked and held. Also, the hanger 6 held by the elevating guide 9 is provided with moving means 5a for moving the hanger 6 in the lateral direction near the ascending end position of the elevating guide 9 in a substantially parallel manner.
[0021]
As shown in FIG. 5, this moving means 5a is a so-called horizontally arranged bar-shaped or rail-shaped member, and is provided with a slide member 5b which reciprocates along the bar-shaped or rail-shaped member. The slide member 5b is formed with a claw portion 5c that works in only one direction. Then, the slide member 5b reciprocates via a cord-like tension member 5e suspended on both sides of the reel 5d driven by an appropriate drive source, and the claw portion 5c is placed above the hanger 6 held by the lifting guide 9. It acts and moves in the lateral direction.
[0022]
In addition, the transfer of the hanger 6 to the transporting means 4 by lowering the elevating guide 9 is, in effect, to move the hanger 6 in the lateral direction, so that the one having substantially the same structure as the moving means 5a is used. Therefore, since the description is duplicated, the details of the respective components are omitted, but as shown in FIG. 4, the components are attached so that the claws 5c face upward adjacent to the end of the transporting means 4. And the claw part 5c acts on the lower part of the hanger 6 and moves in the horizontal direction.
[0023]
The hanger 6 is provided with a locking projection 6b for transmitting power on the side opposite to the arm 7, and the arm 7 is formed with a horizontal portion 7a and a hanging portion 7b on a free end side. A clamp 10 for the cathode is attached to an end of the hanging portion 7b, and the object to be processed 11 is held by the clamp 10 for the cathode to maintain the hanging state. As the object 11 to be processed, for example, a relatively thin film-like or thin-plate-like printed board can be used.
[0024]
When the hanger 6 is located on the transporting means 4 side, the roller 6a abuts on the work rail 8a, and the locking projection 6b is locked on the shaft 4c between the pair of chains 4a, 4b. Then, the roller 6a rolls and can move horizontally by driving the chain. When the hanger 6 is located on the processing tank 2 side, the roller 6a comes into contact with the work rail 8b provided together with the lifting / lowering means 5 to roll and move horizontally.
[0025]
Next, the operation will be described with reference to FIGS. 6 to 8. FIG. 6 shows a pre-treatment tank 2 a, a post-treatment tank 2 b, and a plating tank 3 of the plating apparatus 1. FIG. 7 is a cross-sectional view schematically illustrating the plating tank 3 and the post-treatment tank 2b. FIG. 8 is a schematic side view of a main part for explaining a transfer state of the hanger 6.
[0026]
Therefore, the elevating guide 9 provided in the elevating means 5 so as to be able to ascend and descend can be moved along the pretreatment tank 2a to the loading part 3a of the plating tank 3 and the unloading part 3b of the plating tank 3 to the post-treatment tank 2b. The moving means 5a are also provided at the upper part of the elevating means 5 and at both ends of the transport means 4, respectively.
[0027]
The elevating guide 9 provided in the elevating means 5 transfers the object 11 between the processing tanks provided in the pre-processing tank 2a and the post-processing tank 2b and between the pre-processing tank 2a and the plating tank 3. When moving between the plating tank 3 and the post-treatment tank 2b, the lifting means 5 moves up and down in the vertical direction, and when the lifting guide 9 reaches the ascending position and the descending position, the movement is detected. 5a operates to move the hanger 6 in the horizontal direction.
[0028]
The hanger 6, which is raised and lowered and horizontally conveyed by the lifting guide 9, and the arm 7 attached to the hanger 6 are appropriately raised and lowered in each processing tank, and are moved to the upper position as shown in the locus 7c of the arm in FIG. Or it is conveyed horizontally at the lower position.
[0029]
First, in the pretreatment tank 2a, the hanger 6 is hooked to the elevating guide 9, and the object to be processed 11 is sandwiched and supplied to the clip 10 of the arm 7 in a suspended state. The pre-treatment is performed by immersion in the treatment liquid stored in 2a. In this pre-processing step, there are a plurality of processing tanks, and the pre-processing is performed while sequentially feeding from the end processing tank. The hangers 6 are sequentially fed one by one to the position corresponding to each processing tank by 5a.
[0030]
The object 11 processed in the pretreatment tank 2a is then moved to the plating tank 3, and the movement is not at the same pitch as in the forward feeding in the pretreatment tank 2a, but in substantially the same manner. When the elevating guide 9 moves up, the moving means 5a acts on the hanger 6 suspending the workpiece 11 for which the pretreatment process has been completed, and the plating is performed. The tank 3 is moved laterally to a position corresponding to the input section 3a.
[0031]
At this moved position, the workpiece 11 is loaded into the loading section 3 a of the plating tank 3 by lowering the lifting guide 9. The moving means 5a disposed on the lower side at the lowering point of the elevating guide 9 is driven at the lowering point of the elevating guide 9 to move the hanger 6 suspended from the elevating guide 9 in the lateral direction. 8a, and the engaging projection 6b of the hanger 6 is engaged with the shaft 4c between the pair of chains 4a, 4b as the transport means 4, whereby the hanger 6 moves along the work rail 8a, The object to be processed 11 sandwiched by the cathode clamp 10 attached to the end of the arm 7 is immersed in the plating solution stored in the plating tank 3 and transported to the unloading section 3b.
[0032]
In the plating tank 3, a plating solution is stored, and an anode plate 12 is provided along both wall surfaces. Since the anode plate 12 is located in parallel with the workpiece 11, the plating tank 3 While moving in the inside, both surfaces of the object 11 to be processed held between the cathode clamps 10 can be uniformly plated.
[0033]
Further, in the plating tank 3, as shown in FIG. 2, a plurality of ejection pipes 13 are arranged on both sides of the processing target 11 in parallel along the transport direction of the processing target 11, Since a plurality of ejection nozzles 13 a provided in the ejection pipe 13 continuously eject the plating solution to both surfaces of the object 11, a new plating solution always comes into contact with the object 11, and a high plating solution is applied. The plating process can be performed efficiently and stably, and the difference in plating thickness due to the density of the plating solution can be reduced, and the plating process can be performed uniformly.
[0034]
As shown in FIGS. 7 and 8, the processed object 11 after the plating process is carried out of the plating tank 3 and transferred to the post-processing tank 2b. At the rear end side, the elevating guide 9 descends, and when the lowering point is reached, the moving means 5a disposed on the lower side is driven, and the claw portion 5c of the slide member 5b is conveyed by the conveying means 4 to the plating process. The processed object 11 acts on the lower part of the suspended hanger 6 to move in the lateral direction, and the hanger 6 is smoothly transferred to the lifting guide 9.
[0035]
The hanger 6 changed in this way is pulled out of the plating tank 3 with the elevation of the elevating guide 9 together with the object 11 to be processed, and when the elevating guide 9 reaches the ascent point, the hanger 6 is disposed at the top. The means 5a is driven, and the claw portion 5c of the slide member 5b acts on the upper part of the hanger 6 to move in the horizontal direction, and to the position corresponding to the post-processing tank 2b. In this position, when the elevating guide 9 is lowered again, on the one hand, the plated hanger 6 is received from the plating tank 3, and on the other hand, the plated hanger 6 is transferred to the post-processing tank 2b. It is post-processed.
[0036]
In any case, the front and rear processing tanks 2 and plating tanks 3, and the transporting means 4, the elevating means 5 and the moving means 5a are provided so as to connect the processing units with predetermined intervals, respectively. The workpiece 11 held by the cathode clamp 10 attached to the arm 7 of the hanger 6 which is moved or conveyed by the means 4 and the lifting / lowering means 5 is automatically transferred between the processing units. As a result, work efficiency is significantly improved.
[0037]
Further, a second embodiment according to the present invention will be described with reference to FIGS. Note that the basic configuration is the same as that of the first embodiment, so that a specific overall illustration of this embodiment is omitted and a new configuration is added to FIG. I do.
[0038]
FIG. 9 is a side view schematically showing the inside of the plating tank 3, and FIG. 10 is a schematic sectional view thereof. On the lower side in the plating tank 3, a movable shielding plate divided into a predetermined length in parallel with the transport direction (arrow a) on both sides of the workpiece 11 inside the anode plate 12 and the ejection pipe 13. A cover plate 17 for protecting the movable shielding plate 16 is provided near the outside of the movable shielding plate 16.
[0039]
9A to 9C show a state in which the object 11 is conveyed with the passage of time in the conveying direction, and FIG. 10A shows the depth of the object 11. FIG. 10B shows a state in which the movable shield plate 16 is housed at the same level as the cover plate 17 when the length in the direction is long. In FIG. Is short, and the state in which the movable shielding plate 16 has slid upward from the cover plate 17 is shown.
[0040]
When the length of the processing target 11 in the depth direction is long, the movable shielding plate 16 is located below the same level as the cover plate 17 and the length of the processing target 11 in the depth direction is small. If it is short, it is slid upward from the cover plate 17 to block a part (lower side) of the current 18 from the anode plate 12 and to keep the current transmitted to the object 11 constant. In addition, the plating of the object 11 is made uniform.
[0041]
As described above, by disposing the movable shielding plate 16 that moves up and down in accordance with the size (length in the vertical direction) of the processing target 11, the processing target 11 can be uniformly plated. By dividing the movable shielding plate 16 into a predetermined length, for example, by using only one dummy plate 11a, it is possible to correspond to the workpiece 11 having a different length. It can be adapted. That is, the vertical movement of the movable shielding plate 16 may be controlled by suspending the dummy plate 11a on the hanger 6 and detecting the passage of the hanger 6 with the dummy plate 11a.
[0042]
Further, FIG. 11 schematically shows a state in which the transport guide member 19 is mounted inside the plating tank 3. That is, inside the plating tank 3, a flat plate or a rod-like member that is parallel to the transport direction of the workpiece 11 (arrow a) and is inclined downward along the transport direction of the workpiece 11 inside the ejection pipe 13. The transport guide members 19 are arranged in a plurality of rows. Note that the transport guide member 19 may be inclined upward along the transport direction of the workpiece 11.
[0043]
The transport guide member 19 is divided into a plurality of portions having a predetermined length, and a part (front and rear end portions) of the divided transport guide members 19 is overlapped with each other to convey the workpiece 11 in an orderly manner and to carry out a plating solution. , That is, stirring is performed so that the flow of the plating solution is not in a certain direction, so that it is possible to prevent a stripe pattern from being generated on the object 11 due to the plating process.
[0044]
FIGS. 12 and 13 show a plating apparatus according to a third embodiment of the present invention. Also in this embodiment, the basic configuration is the same as that of the first embodiment, and therefore, a detailed description of the embodiment will be omitted.
[0045]
FIG. 12 is a side view schematically showing the inside of the plating tank, and FIG. 13 is a sectional view thereof. In the third embodiment, the movable shield plate 16 of the second embodiment is a float type, and the other configuration is the same as that of the second embodiment. Therefore, the same portions are denoted by the same reference numerals and described, and detailed description thereof will be omitted.
[0046]
In the third embodiment, the movable shielding plate 16 and the float 21 are connected via the support shaft 20. The float 21 raises and lowers the movable shielding plate 16 by being pressed by an appropriate pressing plate 22. In this case, the push plate 22 moves up and down by appropriate means, for example, air or the like, and is driven by passing through the dummy plate 11a.
[0047]
Although not shown, for example, a push plate formed by bending the tip upward with a gentle curved surface at a predetermined length can also be used, and the mounting position is set at the length of the workpiece 11 with the dummy plate 11a as a boundary. By setting correspondingly, for example, by attaching to the hanger 6 or the like and moving it along with the transfer of the processing object 11, the float 21 is sequentially moved up and down to move the movable shielding plate 16 up and down. Also, the plating of the object to be processed 11 is made uniform.
[0048]
FIG. 14 shows a main part of a plating apparatus according to a fourth embodiment of the present invention. Also in this embodiment, since the basic configuration is the same as that of the first embodiment, a specific overall illustration of the embodiment is omitted, and only main parts are shown. explain.
[0049]
In this embodiment, the configuration of the ejection pipe 13 according to the first embodiment is improved, and the arrangement position and the like in the plating tank 3 are exactly the same.
The improved ejection pipe 23 is a pair of ejection pipes 23a and 23b, each of which is formed by bending its upper part outward and forming the pair of upper parts in a substantially V-shape.
[0050]
The pair of substantially V-shaped ejection pipes 23a and 23b are disposed at least at the portion of the plating tank 3 where the workpiece 11 is charged. May be provided. The plating liquid is also ejected from a substantially V-shaped upper side in a direction substantially perpendicular to the transport direction a of the workpiece 11.
[0051]
In this way, by disposing the ejection pipes 23a and 23b having the upper portions formed in a substantially V shape at least at the portion of the plating tank 3 where the article 11 is charged, the article 11 to be treated is particularly thin. Also, even if the input angle or the lower end angle of the object 11 is shifted, the object 11 can be immediately guided to the center of the ejection pipes 23a and 23b by the ejected plating solution. The workpiece 11 can be smoothly and stably put into the plating tank 3 in a stable state without requiring a holding jig and a pinching mechanism for the workpiece 11, thereby reducing costs.
[0052]
15 and 16 show a main part of a plating apparatus according to a fifth embodiment of the present invention. Also in this embodiment, since the basic configuration is the same as that of the first embodiment, a specific overall illustration of the embodiment is omitted, and only main parts are shown. explain.
[0053]
In this embodiment, a part of the plating tank 3 into which the workpiece 11 is charged is mainly improved. FIG. 15 is a perspective view showing only a main part, and a side view of the plating tank 3 at the charging part is schematically shown. FIG.
[0054]
In the drawing, a kind of rectifying member 31 is disposed inside a plating tank 3 in a plating apparatus, particularly, at a charging portion of a workpiece 11, and the rectifying member 31 is a pair of oblique descending flow plates. 31a and 31b. The other configuration is the same as that of the first embodiment, so that illustration and description are omitted.
[0055]
The pair of obliquely descending flow plates 31a and 31b constituting the rectifying member 31 has an upper side formed in a substantially V-shape, and the obliquely descending flow plates 31a and 31b are moved in the conveying direction of the workpiece 11. a, and a jet pipe 32 is provided along the vicinity of the upper end of the obliquely descending flow plates 31a, 31b. A liquid pipe 33 is provided, and an appropriate circulation pump is interposed between the ejection pipe 32 and the liquid suction pipe 33, and the plating solution sucked through the liquid suction pipe 33 is ejected from the ejection pipe 32 to descend obliquely. And circulate.
[0056]
As described above, by disposing the substantially V-shaped obliquely descending flow plates 31a and 31b in the plating tank 3, even if the object to be processed 11 is a thin film, Even if the input angle of 11 or the angle on the lower end side is shifted, the object to be processed 11 can be quickly guided to the center of the obliquely descending flow plates 31a and 31b by the obliquely descending plating solution that has been circulated and ejected. The workpiece 11 can be stably put into the plating tank 3 without the need for the holding jig / sandwich mechanism 11, and the cost can be reduced.
[0057]
Further, the ejection pipes 23a and 23b according to the fourth embodiment and the oblique descending flow plates 31a and 31b according to the fifth embodiment may be disposed in the front and rear processing tanks 2. Incidentally, in order to clarify what the state added to the pretreatment tank 2a is, as an example, a state in which the rectifying member 31 is attached is shown in FIG. 2 according to the first embodiment. is there.
[0058]
In any case, in the processing tank 2 and the plating tank 3 before and after the partitioning, the moving means 5a and the transporting means 4 are made independent and driven in relation to each other, so that the object 11 is moved forward and backward. The transfer between the plating tank 2 and the plating tank 3 can be performed automatically and smoothly, and even if the sizes of the objects to be processed 11 are different, the operation of the apparatus is not stopped and the apparatus can be continuously operated. The treatment can be performed uniformly. Further, in both the treatment tank 2 and the plating tank 3, a so-called rectifying member is provided at a portion where the object to be treated 11 is charged, so that an angular bend is caused at the time of transfer. Even if it does, the object to be processed can enter and stay in the processing liquid while maintaining an appropriate state.
[0059]
In addition, since the moving unit 5a and the conveying unit 4 are made independent, the moving unit 5a can be adjusted in accordance with the speed of the conveying unit 4, so that the immersion time of the object 11 in the processing liquid can be freely controlled. Since the transporting means 4 is disposed at a predetermined interval on the upper side surface of the processing tank 2 and the plating tank 3 instead of at the upper central part, dust generated by driving or sliding of the transporting means 4 is removed. It is not mixed into the processing tank 2 and the plating tank 3.
[0060]
【The invention's effect】
As described above, the plating apparatus according to the present invention includes a plating tank in which a plating solution is stored and an anode plate is disposed, and a pre- and post-treatment tank in which a processing solution for pre-processing and post-processing is stored. An object conveying means, an object elevating means, a moving means associated with the elevating means, and a hanger which supports the object and can be switched between the conveying means and the elevating means. Wherein the transporting means is disposed at a predetermined interval along the upper side surface of the plating tank, and the elevating means is configured to carry out the treatment tank or the charging section of the plating tank and / or carry out the plating tank. The moving means is provided at a transfer position between the transport means and the elevating means, and at an ascending position and a descending position of the elevating means, respectively. , The hanger has a required length It has an arm having a flat part and a hanging part, a clamp for a cathode is provided on the hanging part of the arm, and the clamp holds the object to be processed in a hanging state. By sequentially transferring to the post-treatment tank via the lifting / lowering means, the moving means, and the transfer means, and carrying and plating, the transfer of the workpiece in the pre-treatment and post-treatment of the plating treatment tank can be performed. This is an excellent effect that the plating operation can be performed efficiently and automatically one by one.
[0061]
Further, in the present invention, in the plating tank and / or the processing tank, an ejection pipe or an oblique descending flow plate formed in a substantially V-shape is provided at least at a charging portion of the object to be processed. Even if the input angle or the lower end angle of the processing object is deviated, it can be said that the processing object can be promptly penetrated into the processing solution in the center of the plating tank or the processing tank while maintaining an appropriate state. It has excellent effects.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view schematically showing a plating apparatus according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.
FIG. 3 is a sectional view schematically showing only a main part of the plating apparatus.
FIG. 4 is a schematic side view of a main part showing a relationship between a conveying means and a moving means in the plating apparatus.
FIG. 5 is a schematic side view of a main part showing a relationship between a lifting unit and a moving unit in the plating apparatus.
FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a pretreatment tank, a post-treatment tank, and a plating tank arranged linearly in order to easily explain the plating apparatus.
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing, in an enlarged manner, a part of a plating tank and a post-treatment tank in order to explain a situation in which an object to be processed is changed in the plating apparatus.
FIG. 8 is a side view showing, in an enlarged manner, a main portion of the plating apparatus at a transfer position of a workpiece.
FIG. 9 is a plating apparatus according to a second embodiment of the present invention, in which a basic configuration of a plating tank is shown in a block diagram, and (a) to (c) are side views showing an operation state thereof. It is.
FIGS. 10A and 10B are cross-sectional views schematically showing operation states of a movable shielding plate in a plating tank of the plating apparatus.
FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing another main part in the plating tank of the plating apparatus.
FIG. 12 is a side view schematically showing a basic configuration of a plating tank in a plating apparatus according to a third embodiment of the present invention.
FIGS. 13A and 13B are cross-sectional views schematically showing operation states of a movable shielding plate in a plating tank of the plating apparatus.
FIG. 14 is a perspective view schematically showing a jet pipe used by being attached to the inside of a plating tank in a plating apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 15 is a perspective view schematically showing an oblique descending flow plate used by being attached to the inside of a plating tank in a plating apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 16 is a side view schematically showing the inside of the plating tank in the plating tank of the plating apparatus.
[Explanation of symbols]
1 Plating equipment
2 Processing tank
2a Pretreatment tank for plating
2b Post-treatment bath for plating
3 Plating tank
4 Transport means
4a, 4b chain
4c axis
4d gear drive wheels
5 lifting means
5a Transportation means
5b slide member
5c claw
5d reel
5e tension material
6 Hangers
6a roller
6b Locking projection
7 Arm
7a Horizontal part of arm
7b Hanging arm
8a, 8b Work rail
9 Lifting guide
10. Cathode clamp
11 Workpiece
11a Dummy plate
12 Anode plate
13, 32 Ejector tube
13a Spout nozzle
16 Movable shielding plate
17 Cover plate
18 current
19 Transport guide plate
20 Support shaft
21 float
22 Push plate
23, 23a, 23b ejection pipe
31 Rectifying member
31a, 31b Inclined descending flow plate
33 suction tube

Claims (6)

メッキ液が収納され陽極板が配設されたメッキ槽と、前処理及び後処理をする処理液が収納された前・後処理槽と、被処理物の搬送手段と、被処理物の昇降手段と、該昇降手段と連係する移動手段と、前記被処理物を支持して前記該搬送手段と前記昇降手段との間を乗り換えできるハンガーとを備え、
前記搬送手段は、前記メッキ槽の上部側面に沿わせ且つ所定の間隔をもって配設し、
前記昇降手段は、前記処理槽乃至前記メッキ槽の投入部及び/または該メッキ槽の搬出部に沿わせ且つ側面から所定の間隔をもって配設し、
前記移動手段は、前記搬送手段と前記昇降手段との乗り換え位置であって且つ該昇降手段の上昇位置と下降位置とにそれぞれ配設し、
前記ハンガーは、所要長さの水平部と垂下部とを有するアームを有し、
該アームの垂下部に陰極用のクランプが設けられ、
該クランプに前記被処理物を垂下状態に挟持させて、前記前処理槽からメッキ槽及び後処理槽に順次、昇降手段と移動手段及び搬送手段を介して自動的に乗り換えさせて搬送しメッキ処理すること
を特徴とするメッキ装置。
A plating bath in which a plating solution is stored and an anode plate is disposed; a pre- and post-treatment bath in which processing solutions for pre-processing and post-processing are stored; conveying means for the object to be processed; and elevating means for the object to be processed And a moving means associated with the elevating means, and a hanger capable of supporting the object to be processed and switching between the transport means and the elevating means.
The transfer means is disposed along the upper side surface of the plating tank and at a predetermined interval,
The elevating means is disposed along the processing tank or the charging section of the plating tank and / or a carry-out section of the plating tank and at a predetermined interval from a side surface,
The moving means is disposed at a transfer position between the transport means and the elevating means, and at an ascending position and a descending position of the elevating means, respectively.
The hanger has an arm having a horizontal portion and a hanging portion of a required length,
A clamp for a cathode is provided in a hanging portion of the arm,
The workpiece is sandwiched in a hanging state by the clamp, and is automatically transferred from the pre-treatment tank to the plating tank and the post-treatment tank via the elevating unit, the moving unit, and the conveying unit, and is transferred and transferred. A plating apparatus.
前記メッキ槽内及び/または前記処理槽内には、
少なくとも被処理物の投入部に略V字状に形成した噴出管または斜下降流板を配設したこと
を特徴とする請求項1に記載のメッキ装置。
In the plating tank and / or the processing tank,
2. The plating apparatus according to claim 1, wherein an ejection pipe or an obliquely downward flow plate formed in a substantially V-shape is disposed at least in a charging portion of the workpiece.
前記メッキ槽内には、
所定の長さに分割され、それぞれ上下動する可動遮蔽板を被処理物の搬送方向と平行に配設したこと
を特徴とする請求項1または2に記載のメッキ装置。
In the plating tank,
The plating apparatus according to claim 1, wherein a movable shielding plate that is divided into predetermined lengths and moves up and down is disposed in parallel with the transport direction of the workpiece.
前記メッキ槽内には、
被処理物の搬送方向と平行且つ該被処理物の搬送方向に沿って上向きまたは下向きに傾斜させた搬送ガイド部材を複数列配設させたこと
を特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のメッキ装置。
In the plating tank,
4. The transfer guide member according to claim 1, wherein a plurality of transfer guide members are arranged in parallel with the transfer direction of the processing object and inclined upward or downward along the transfer direction of the processing object. The plating apparatus as described.
前記搬送ガイド部材は、
所定の長さで複数に分割し、該分割した搬送ガイド部材の一部をオーバーラップさせたこと
を特徴とする請求項4に記載のメッキ装置。
The transport guide member,
The plating apparatus according to claim 4, wherein the plating apparatus is divided into a plurality of pieces having a predetermined length, and a part of the divided transport guide members is overlapped.
前記噴出管または斜下降流板の下部側に循環ポンプに接続された吸液管を配設し、メッキ液または処理液を循環させること
を特徴とする請求項2に記載のメッキ装置。
3. The plating apparatus according to claim 2, wherein a liquid suction pipe connected to a circulation pump is provided below the jet pipe or the obliquely descending flow plate to circulate a plating liquid or a processing liquid.
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