JP2004344715A - Method for removing chromium contained in caustic alkali aqueous solution - Google Patents

Method for removing chromium contained in caustic alkali aqueous solution Download PDF

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Keiji Ando
敬二 安藤
Yoshihiro Hara
義紘 原
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旭化成ケミカルズ株式会社
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for removing chromium being impurities from a caustic soda aqueous solution, which is used as an etching liquid for etching a silicon wafer or the like, extremely simply and rapidly. <P>SOLUTION: An iron component is dissolved in the caustic soda aqueous solution and the iron component-dissolved caustic soda aqueous solution is brought into contact with an activated carbon bed or the iron component is precipitated as a sediment from the caustic soda aqueous solution. This sediment is separated to separate chromium along with the iron component from the caustic soda aqueous solution by a centrifugal separation method or a standing separation method. The concentration of the iron component in the caustic soda aqueous solution is preferably 50 ppm or above, more preferably 150 ppm or above. As the iron component, iron, electrolytic iron, iron oxide, ferrous nitrate, ferrous sulfate, ferrous chloride and the like can be used. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&amp;NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は食塩の電解により製造される苛性アルカリ水溶液に微量含まれるクロムの除去方法に関する。より詳細には、シリコンウエーハ等の半導体材料をエッチングするために用いられる苛性アルカリ水溶液から不純物として含まれるクロムを除去する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に半導体ウェーハの製造方法は、単結晶インゴットをスライスして薄円板状のウェーハを得るスライス工程、スライスされたウェーハの割れ、欠けを防止するためにウエーハを面取りする工程、ウェーハの表面を平坦にするためのラッピング工程、残留加工歪みを除去するためのエッチング工程、ウェーハ表面を鏡面化するための研磨工程、及び研磨されたウェーハを洗浄して表面に付着した研磨剤や異物を除去する洗浄工程を含んでいる。
【0003】
前記エッチング工程でのエッチング処理の方法としては、混酸(弗酸+硝酸+酢酸)による酸エッチングによるものと、水酸化ナトリウム等のアルカリ系のエッチング液を用いるアルカリエッチングによるものとがある。しかしながら、酸エッチングは、エッチング速度が速くその為にウェーハを均一にエッチングすることが難しく、ウェーハの平坦度を悪化させるという問題がある上に、エッチングに際してNOxのような有害物質が発生するという問題もある。これに対して、アルカリエッチングはウェーハの平坦度を悪化させることがなく、また混酸に比べて設備負荷が小さくて済むためにコストを低減することができるというメリットがある。
【0004】
そして、近年、半導体材料として用いられるシリコンウエーハのエッチングは高度な表面平坦性が求められるようになってきたために、酸エッチングによる方法からエッチング速度の小さいアルカリエッチングによる方法へと転換が進みつつある。
【0005】
苛性ソーダは工業的には食塩の電気分解によって製造されるが、一般に微量の鉄分、ニッケル、クロムなどの金属不純物を含有している。その含有量は工業用で数ppm〜十数ppmであり、電子工業用グレードのものでも数十ppb〜数ppmである。そして、これらの金属不純物を含んだアルカリ溶液を用いて半導体ウェーハのエッチングを行うと、アルカリエッチング溶液中に含まれる金属不純物の金属イオンがアルカリエッチング中にウェーハ内部に浸透してウエーハの電気特性を変化させるため、この金属イオンを不活性化するか又は除去しなければエッチング剤としては使えない。
このため、シリコンウエーハのエッチングに使用することができる高純度の苛性ソーダ水溶液が望まれている。
【0006】
そして、従来から苛性ソーダ水溶液中の金属不純物を不活性化又は除去する方法が提案されている。以下では、従来の金属不純物の不活性化方法及び除去方法について述べる。
【0007】
特許文献1には、金属イオンを含有するアルカリ水溶液に、該金属イオンの可逆電位に比べて卑な酸化電位をもつ還元剤を溶解することによって該金属イオンを非イオン化処理し、この非イオン化処理を受けたアルカリ水溶液を用いて半導体ウエハーをエッチングすることが記載されている。しかしながら、この方法は、金属イオンを還元して非イオン化しているのみであり、アルカリ水溶液から金属不純分を除去しているものではない。
【0008】
特許文献2にはアルカリ水溶液を活性炭と接触させることにより、アルカリ水溶液中に含まれるクロムを活性炭に吸着させて除去する方法が記載されている。しかしながら、この方法はアルカリ水溶液中に含まれるクロムイオンを酸素および水蒸気の存在下で賦活した活性炭を用いて、長時間の吸着処理を行うことによってクロムイオンを除去するというものであって、酸処理や薬剤処理された活性炭はこの方法には不向きであることが開示されている。また、pHが12以上の濃度の高い苛性ソーダ水溶液に含まれるクロムを除去する方法については特許文献2には何等開示されていない。
【0009】
特許文献3には、苛性ソーダ水溶液に酸化マグネシウムを添加して攪拌し、40〜100℃の温度で静置することにより、苛性ソーダ水溶液中に溶存するクロム及びニッケルを同時的に吸着共沈させて除去する方法が記載されている。しかしながら、この方法は沈殿させるために長い時間を要するものであり、また沈殿を除去するための機械的な分離工程が必要である。
【0010】
【特許文献1】
特開平10−310883号公報
【特許文献2】
特開昭61−149287号公報
【特許文献3】
特開昭63−8215号公報
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、苛性アルカリ水溶液には一般的に金属不純物が含まれており、この金属不純物の種類は食塩の電気分解に供される電解槽の材質、濃縮装置に供される金属の材質、配管材料などにより変わるが、通常はクロム、鉄、銅、ニッケル、アルミニウムなどである。そして、これらの不純物の中で特にクロムについてはこれを簡便に速やかに除去する方法は見出されていないのが現状である。
本発明の目的は、苛性アルカリ水溶液に含まれるクロムを極めて簡便かつ速やかに除去するための方法を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明の特徴は、鉄分を苛性アルカリ水溶液に溶解せしめることによって、該苛性アルカリ水溶液中に微量含まれるクロムを除去する点にあり、具体的には次に記載する構成を有する。
(1)クロムを含有する苛性アルカリ水溶液からクロムを除去する方法において、苛性アルカリ水溶液に鉄分を溶解させ、次いで、鉄分を溶解せしめた苛性アルカリ水溶液を活性炭層を通過させることを特徴とする苛性アルカリ水溶液からクロムを除去する方法。
(2)クロムを含有する苛性アルカリ水溶液からクロムを除去する方法において、苛性アルカリ水溶液に鉄分を溶解させ、次いで、鉄分を溶解せしめた苛性アルカリ水溶液から鉄分を沈殿として析出させ、この沈殿を分離することを特徴とする苛性アルカリ水溶液からクロムを除去する方法。
【0013】
(3)苛性アルカリ水溶液中の鉄分の濃度が50ppm以上であることを特徴とする上記(1)又は(2)記載の方法
(4)鉄分が鉄、電解鉄、酸化鉄、硝酸第一鉄、硫酸第一鉄、塩化第一鉄からなる鉄素材群から選ばれることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれかに記載の方法。
(5)上記(1)〜(4)のいずれかの方法によって得られたクロムを除去された苛性ソーダ水溶液を用いて半導体ウエーハをエッチングすることを特徴とする半導体ウエーハのエッチング方法。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明はクロムを含有する苛性アルカリ水溶液に鉄分を溶解させる点を特徴としているが、苛性アルカリ水溶液に溶解させる鉄分は、製鉄による金属鉄、電解鉄、酸化鉄、硫酸第一鉄、硝酸第一鉄、塩化第一鉄などの鉄素材群から選択することができる。
鉄分を苛性アルカリ水溶液に溶解させるには鉄素材を苛性アルカリ水溶液中に浸漬すればよいが、この場合、苛性アルカリ水溶液の温度が低いと溶解時間が長くなるので苛性ソーダ水溶液の温度を80℃以上に高めることが望ましい。
本件発明において用いる苛性アルカリ水溶液は、苛性ソーダ、苛性カリ等のアルカリ金属の水酸化物の水溶液である。
【0015】
クロムを除去するために苛性アルカリ水溶液に溶解させる鉄分の濃度は少なくとも50ppm以上存在すればよいが150ppm以上存在することがより好ましい。鉄分の濃度が低すぎるとクロムの除去率が低下する。
【0016】
鉄分を溶解させた苛性アルカリ水溶液中からクロムを除去する方法としては、▲1▼苛性アルカリ水溶液を活性炭層に通して通過させる方法、及び、▲2▼苛性アルカリ水溶液からクロムを含む鉄分の沈殿を析出させてこの沈殿を分離する方法とがある。
【0017】
苛性アルカリ水溶液を活性炭層と接触させる方法を採用する場合には、活性炭に含まれる不純物が苛性アルカリ水溶液中に溶出してくるのを抑えるために苛性アルカリ水溶液の温度を低くすることが好ましい。
また、苛性アルカリ水溶液からクロムを含む鉄分の沈殿を析出させる方法を採用する場合には、沈殿は常温静置によって析出させることができるが、苛性アルカリ水溶液を冷却して沈殿の析出を促進することもできる。また、鉄分を溶解させた苛性アルカリ水溶液を活性炭と接触させたのち固液分離法によって活性炭と共に沈殿を分離することもできる。
沈殿の分離方法としては遠心分離法、静置分離法などから適宜選択することができる。
【0018】
【実施例】
以下実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明の態様は下記の実施例に限定されるものではない。また、以下では、苛性アルカリ水溶液としては苛性ソーダ水溶液を例としてあげるが、苛性カリ水溶液等でも同様な効果が得られる。
【0019】
[実施例1〜5]
高純度電解鉄(東邦亜鉛P−20−80)を、クロムを2ppm含む85℃の48%苛性ソーダ水溶液に浸漬し、50、100、150、200、230ppmの鉄分を含む48%苛性ソーダ水溶液を作製した。鉄分を溶解する前の苛性ソーダ水溶液に含まれる鉄分濃度は5ppmであった。また、比較例1として、鉄分が5ppmである苛性ソーダ水溶液も用意した。
2ppmのクロムを含む48%苛性ソーダ水溶液50ccを室温下で活性炭(クラレコールGW)7gが充填された、直径10mm、長さ300mmの石英ガラスカラムに流量1cc/分で通過させ、得られた苛性ソーダ水溶液に含まれるクロムをICP(発光プラズマ分析装置)で分析した。
結果を表に示す。表1に示された結果から明らかなように、鉄分を溶解せしめた苛性ソーダ水溶液を活性炭層と接触させるとクロムが除去できることが分かる。
【0020】
【表1】
【0021】
[実施例6〜9]
鉄素材を85℃に加温した48%苛性ソーダ水溶液に浸漬し鉄分濃度が200ppmになる48%苛性ソーダ水溶液を作製した。なお、鉄分を溶解する前の苛性ソーダ水溶液に含まれる鉄分濃度は5ppmであった。
この48%苛性ソーダ水溶液50ccを室温下で活性炭(クラレコールGW)7gを充填した直径10mm長さ300mmの石英カラムに1cc/min.の流量で通過させた。得られた苛性ソーダ水溶液に含まれるクロム濃度をICPで分析した。結果を表2に示す。 表2に示すように、本発明においては鉄素材の種類に関係なくクロムが除去できることが分かる。
【0022】
【表2】
【0023】
[実施例10]
高純度電解鉄(東邦亜鉛 p−20−80)40gを85℃に加温した2ppmのクロムを含む48%苛性ソーダ水溶液500ccに鉄分濃度が200ppmになるまで浸漬を続けた。このようにして得られた200ppmの鉄分と2ppmのクロムを含む48%苛性ソーダ水溶液を20℃に冷却し24時間静置した。
沈殿と上澄み液の2層に分離した苛性ソーダ水溶液の上澄み液をICPで分析した。
結果を表3に示す。 表3に示された結果から、苛性ソーダに溶解せしめた鉄分を沈殿させこの沈殿を分離することによりクロムを除去できることが分かる。
【0024】
【表3】
【0025】
【発明の効果】
上記実施例及び比較例の結果から明らかなように、本発明の方法によれば、これまで除去困難であったクロムを複雑な除去設備を要しないで容易に除去することができる。このため、低コストで高純度の苛性ソーダ水溶液を製造することが可能となる。
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for removing chromium contained in a trace amount of an aqueous caustic solution produced by electrolysis of salt. More specifically, the present invention relates to a method for removing chromium contained as an impurity from an aqueous caustic solution used for etching a semiconductor material such as a silicon wafer.
[0002]
[Prior art]
In general, a semiconductor wafer manufacturing method includes a slicing step of slicing a single crystal ingot to obtain a thin disk-shaped wafer, a step of chamfering a wafer to prevent cracking and chipping of the sliced wafer, and flattening the surface of the wafer. Lapping process, etching process to remove residual processing distortion, polishing process to make the wafer surface mirror-like, and cleaning to clean the polished wafer and remove abrasives and foreign substances adhering to the surface Process.
[0003]
As an etching method in the etching step, there are an acid etching using a mixed acid (hydrofluoric acid + nitric acid + acetic acid) and an alkali etching using an alkaline etching solution such as sodium hydroxide. However, the acid etching has a high etching rate, so that it is difficult to uniformly etch the wafer, which deteriorates the flatness of the wafer, and also generates a harmful substance such as NOx during the etching. There is also. On the other hand, alkali etching has the advantages that the flatness of the wafer is not degraded and that the equipment load can be reduced as compared with mixed acid, so that the cost can be reduced.
[0004]
In recent years, silicon wafers used as semiconductor materials have been required to have a high degree of surface flatness, and accordingly, the method of acid etching has been switched to a method of alkali etching at a low etching rate.
[0005]
Caustic soda is industrially produced by the electrolysis of salt, but generally contains trace amounts of metallic impurities such as iron, nickel and chromium. Its content is several ppm to several tens ppm in industrial use, and several tens ppb to several ppm in electronic industrial grade. When the semiconductor wafer is etched using an alkali solution containing these metal impurities, the metal ions of the metal impurities contained in the alkali etching solution penetrate into the inside of the wafer during the alkali etching, and the electrical characteristics of the wafer are reduced. To change it, the metal ion must be inactivated or removed before it can be used as an etchant.
Therefore, a high-purity aqueous solution of caustic soda that can be used for etching a silicon wafer is desired.
[0006]
Conventionally, a method for inactivating or removing metal impurities in an aqueous solution of caustic soda has been proposed. Hereinafter, a conventional method for inactivating and removing metal impurities will be described.
[0007]
Patent Document 1 discloses a non-ionizing treatment of a metal ion by dissolving a reducing agent having an oxidation potential lower than the reversible potential of the metal ion in an aqueous alkali solution containing the metal ion. It describes that a semiconductor wafer is etched using an alkaline aqueous solution that has been subjected to the treatment. However, this method only reduces metal ions to make them non-ionized, and does not remove metal impurities from an aqueous alkaline solution.
[0008]
Patent Literature 2 discloses a method in which chromium contained in an alkaline aqueous solution is adsorbed on activated carbon and removed by contacting the aqueous alkaline solution with activated carbon. However, this method removes chromium ions by performing a long-time adsorption treatment using activated carbon in which chromium ions contained in an alkaline aqueous solution are activated in the presence of oxygen and water vapor. It has been disclosed that activated carbon which has been chemically treated is not suitable for this method. Further, Patent Document 2 does not disclose any method for removing chromium contained in an aqueous solution of caustic soda having a high pH of 12 or more.
[0009]
Patent Literature 3 discloses that magnesium oxide is added to an aqueous solution of caustic soda, stirred, and allowed to stand at a temperature of 40 to 100 ° C., thereby simultaneously removing and adsorbing chromium and nickel dissolved in the aqueous solution of caustic soda. A method is described. However, this method requires a long time to precipitate, and requires a mechanical separation step to remove the precipitate.
[0010]
[Patent Document 1]
JP-A-10-310883 [Patent Document 2]
JP-A-61-149287 [Patent Document 3]
JP-A-63-8215
[Problems to be solved by the invention]
As described above, the aqueous caustic solution generally contains metal impurities, and the type of the metal impurities is the material of the electrolytic cell used for the electrolysis of the salt, the material of the metal used for the concentrator, It is usually chromium, iron, copper, nickel, aluminum, etc., although it depends on the piping material. At present, a method for easily and quickly removing chromium among these impurities has not yet been found.
An object of the present invention is to provide a method for removing chromium contained in an aqueous caustic solution extremely simply and quickly.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
A feature of the present invention is that iron is dissolved in an aqueous solution of caustic alkali to remove a small amount of chromium contained in the aqueous solution of caustic alkali. Specifically, the present invention has the following configuration.
(1) A method for removing chromium from a chromium-containing aqueous caustic solution, comprising dissolving iron in the aqueous solution of caustic, and then passing the aqueous solution of caustic containing the dissolved iron through an activated carbon layer. A method for removing chromium from aqueous solutions.
(2) In the method of removing chromium from a chromium-containing aqueous caustic solution, iron is dissolved in the caustic aqueous solution, and then iron is precipitated as a precipitate from the caustic aqueous solution in which the iron is dissolved, and the precipitate is separated. A method for removing chromium from a caustic aqueous solution, characterized in that:
[0013]
(3) The method according to the above (1) or (2), wherein the iron content in the aqueous caustic alkali solution is 50 ppm or more. (4) The iron content is iron, electrolytic iron, iron oxide, ferrous nitrate, The method according to any one of the above (1) to (3), wherein the method is selected from an iron material group consisting of ferrous sulfate and ferrous chloride.
(5) A method for etching a semiconductor wafer, comprising etching the semiconductor wafer using the aqueous solution of caustic soda from which chromium has been removed, obtained by any one of the methods (1) to (4).
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
The present invention is characterized in that iron is dissolved in a chromium-containing aqueous solution of caustic alkali, and iron dissolved in the aqueous solution of caustic alkali is made of iron metal, electrolytic iron, iron oxide, ferrous sulfate, and ferrous nitrate. It can be selected from iron materials such as iron and ferrous chloride.
In order to dissolve the iron in the aqueous caustic solution, the iron material may be immersed in the aqueous caustic solution. In this case, if the temperature of the aqueous caustic solution is low, the dissolution time will be prolonged. It is desirable to increase.
The aqueous caustic solution used in the present invention is an aqueous solution of a hydroxide of an alkali metal such as caustic soda and caustic potash.
[0015]
The concentration of iron dissolved in the aqueous caustic alkali solution for removing chromium may be at least 50 ppm or more, and more preferably 150 ppm or more. If the iron concentration is too low, the chromium removal rate will decrease.
[0016]
The method of removing chromium from the aqueous solution of caustic alkali in which iron is dissolved includes: (1) passing the aqueous solution of caustic alkali through an activated carbon layer, and (2) precipitating the iron containing chromium from the aqueous solution of caustic alkali. There is a method of separating the precipitate by precipitation.
[0017]
When employing a method in which the aqueous caustic alkali solution is brought into contact with the activated carbon layer, it is preferable to lower the temperature of the aqueous caustic alkali solution in order to suppress impurities contained in the activated carbon from eluting into the aqueous caustic alkali solution.
When employing a method of precipitating a chromium-containing iron precipitate from an aqueous caustic solution, the precipitate can be precipitated by standing at room temperature.However, it is necessary to cool the aqueous caustic solution to promote the precipitation of the precipitate. You can also. Further, a precipitate can be separated together with the activated carbon by a solid-liquid separation method after the aqueous solution of caustic alkali in which iron is dissolved is brought into contact with the activated carbon.
The method for separating the precipitate can be appropriately selected from a centrifugal separation method, a stationary separation method and the like.
[0018]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but embodiments of the present invention are not limited to the following Examples. In the following, the aqueous solution of caustic alkali is exemplified by an aqueous solution of caustic soda, but a similar effect can be obtained with an aqueous solution of potassium hydroxide.
[0019]
[Examples 1 to 5]
High purity electrolytic iron (Toho Zinc P-20-80) was immersed in a 48% caustic soda aqueous solution containing 85 ppm of chromium containing 2 ppm of chromium to prepare a 48% aqueous caustic soda solution containing 50, 100, 150, 200, and 230 ppm of iron. . The concentration of iron contained in the aqueous solution of caustic soda before dissolving the iron was 5 ppm. Further, as Comparative Example 1, an aqueous solution of caustic soda having an iron content of 5 ppm was also prepared.
50 cc of a 48% aqueous solution of caustic soda containing 2 ppm of chromium was passed at room temperature through a quartz glass column 10 mm in diameter and 300 mm in length filled with 7 g of activated carbon (Kuraray Coal GW) at a flow rate of 1 cc / min. Was analyzed by ICP (emission plasma analyzer).
The results are shown in the table. As is clear from the results shown in Table 1, it can be seen that chromium can be removed by bringing the aqueous solution of caustic soda in which iron is dissolved into contact with the activated carbon layer.
[0020]
[Table 1]
[0021]
[Examples 6 to 9]
The iron material was immersed in a 48% aqueous solution of caustic soda heated to 85 ° C. to produce a 48% aqueous solution of caustic soda having an iron concentration of 200 ppm. The concentration of iron contained in the aqueous caustic soda solution before dissolving the iron was 5 ppm.
50 cc of this 48% aqueous sodium hydroxide solution was charged at room temperature into a quartz column having a diameter of 10 mm and a length of 300 mm packed with 7 g of activated carbon (Kuraray Coal GW) at a rate of 1 cc / min. At a flow rate of The chromium concentration contained in the obtained aqueous caustic soda solution was analyzed by ICP. Table 2 shows the results. As shown in Table 2, it can be seen that chromium can be removed regardless of the type of iron material in the present invention.
[0022]
[Table 2]
[0023]
[Example 10]
40 g of high-purity electrolytic iron (Toho Zinc p-20-80) was immersed in 500 cc of a 48% aqueous solution of caustic soda containing 2 ppm of chromium heated to 85 ° C. until the iron content reached 200 ppm. The thus obtained 48% aqueous solution of caustic soda containing 200 ppm of iron and 2 ppm of chromium was cooled to 20 ° C. and allowed to stand for 24 hours.
The supernatant of the aqueous sodium hydroxide solution separated into two layers, a precipitate and a supernatant, was analyzed by ICP.
Table 3 shows the results. From the results shown in Table 3, it can be seen that chromium can be removed by precipitating iron dissolved in caustic soda and separating the precipitate.
[0024]
[Table 3]
[0025]
【The invention's effect】
As is clear from the results of the above Examples and Comparative Examples, according to the method of the present invention, chromium which has been difficult to remove can be easily removed without requiring complicated removal equipment. For this reason, it becomes possible to manufacture a high-purity caustic soda aqueous solution at low cost.

Claims (5)

  1. クロムを含有する苛性アルカリ水溶液からクロムを除去する方法において、苛性アルカリ水溶液に鉄分を溶解させ、次いで、鉄分を溶解せしめた苛性アルカリ水溶液を活性炭層を通過させることを特徴とする苛性アルカリ水溶液からクロムを除去する方法。A method for removing chromium from a chromium-containing aqueous caustic solution, comprising dissolving iron in a caustic aqueous solution and then passing the iron-dissolved caustic aqueous solution through an activated carbon layer. How to remove.
  2. クロムを含有する苛性アルカリ水溶液からクロムを除去する方法において、苛性アルカリ水溶液に鉄分を溶解させ、次いで、鉄分を溶解せしめた苛性アルカリ水溶液から鉄分を沈殿として析出させ、この沈殿を分離することを特徴とする苛性アルカリ水溶液からクロムを除去する方法。A method of removing chromium from a chromium-containing caustic aqueous solution, comprising dissolving iron in a caustic aqueous solution, then depositing iron as a precipitate from the caustic aqueous solution in which iron is dissolved, and separating the precipitate. To remove chromium from aqueous caustic solutions.
  3. 苛性アルカリ水溶液中の鉄分の濃度が50ppm以上であることを特徴とする請求項1又は2記載の方法3. The method according to claim 1, wherein the concentration of iron in the aqueous caustic solution is 50 ppm or more.
  4. 鉄分が鉄、電解鉄、酸化鉄、硝酸第一鉄、硫酸第一鉄、塩化第一鉄からなる鉄素材群から選ばれることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の方法。The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the iron content is selected from the group consisting of iron, electrolytic iron, iron oxide, ferrous nitrate, ferrous sulfate, and ferrous chloride.
  5. 請求項1〜4のいずれかの方法によって得られたクロムを除去された苛性ソーダ水溶液を用いて半導体ウエーハをエッチングすることを特徴とする半導体ウエーハのエッチング方法。A method for etching a semiconductor wafer, comprising etching a semiconductor wafer using an aqueous solution of caustic soda from which chromium has been removed, obtained by the method according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8133459B2 (en) 2004-08-06 2012-03-13 Asahi Kasei Chemicals Corporation Method for purifying aqueous alkaline solution

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