JP2004331652A - Metal complex and use of the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of more industrially advantageously producing epoxides and a carbonyl compound than ever, by using easily available reagents, without using a solvent which has problems in an environmental aspect and an aspect of occupational safety and health. <P>SOLUTION: A metal complex is formed by contacting (A) at least one kind selected from a group comprising a tungsten compound composed of tungsten and a group IIIb, group IVb, group Vb or group VIb element, a molybdenum compound composed of molybdenum and a group IIIb, group IVb, group Vb or group VIb element, tungsten metal and molybdenum metal, (B) at least one kind selected from a group comprising tertiary amines, tertiary amine oxides, a nitrogen-containing aromatic compound and an N-oxide of a nitrogen-containing aromatic compound, (C) hydrogen peroxide and (D) phosphates with each other. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、新規な金属錯体および該金属錯体の用途に関する。   The present invention relates to a novel metal complex and use of the metal complex.

エポキシド類は、樹脂をはじめとする各種化学製品およびその合成中間体等として重要な化合物であり、その製造法としては、例えばオレフィン類を、m−クロロ過安息香酸、過酢酸等の過酸やtert−ブチルヒドロペルオキシド等の有機過酸化物を用いて酸化する方法が知られている(例えば、非特許文献1参照。)。しかし、比較的高価で、取扱いに注意を要する過酸や有機過酸化物を用いており、また反応後の後処理も面倒であるため、過酸や有機過酸化物を用いない製造方法の開発が望まれていた。   Epoxides are important compounds as various chemical products such as resins and synthetic intermediates thereof. For example, epoxides are prepared by converting olefins to peracids such as m-chloroperbenzoic acid and peracetic acid. A method of oxidizing using an organic peroxide such as tert-butyl hydroperoxide is known (for example, see Non-Patent Document 1). However, because it uses relatively expensive peracids and organic peroxides that require careful handling, and post-reaction post-treatment is cumbersome, the development of a production method that does not use peracids or organic peroxides Was desired.

また、カルボニル化合物も、各種化学製品およびその合成中間体等として重要な化合物であり、その製造方法としては、例えば第一級アルコールや第二級アルコールを、過マンガン酸カリウム、重クロム酸カリウム等の金属酸化物を用い酸化する方法が知られている(例えば、非特許文献2参照。)。しかし、毒性の高い金属酸化物を用いることから、その取り扱いおよび廃棄物の処理等の問題があり、必ずしも工業的に満足し得るものではなかった。   In addition, carbonyl compounds are also important compounds as various chemical products and synthetic intermediates thereof. Examples of the production method include primary alcohols and secondary alcohols, such as potassium permanganate and potassium dichromate. Is known (for example, see Non-Patent Document 2). However, since a highly toxic metal oxide is used, there are problems in handling and disposal of waste, and the like, which has not always been industrially satisfactory.

一方で、過酸化水素は、安価で、取扱いが容易で、しかも反応後には無害な水となる、クリーンで優れた酸化剤として近年注目を集めており、エポキシド類やカルボニル化合物の製造に過酸化水素を用いる例が種々報告されている。   On the other hand, hydrogen peroxide has attracted attention in recent years as a clean and excellent oxidizing agent that is inexpensive, easy to handle, and becomes harmless water after the reaction, and is used in the production of epoxides and carbonyl compounds. Various examples using hydrogen have been reported.

オレフィン類と過酸化水素とを反応させてエポキシド類を製造する方法としては、例えば、ジメチルオクタデシルアミンオキシドをリガンドとするタングステンペルオキソ錯体触媒を用い、シクロオクテンからシクロオクテンオキシドを製造する例が知られている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、反応溶媒として、環境面および労働安全衛生面で問題のあるクロロホルムを用いているため、環境面および労働安全衛生面で問題のある溶媒を用いることなく、オレフィン類からエポキシド類を製造する方法の開発が望まれていた。   As a method for producing epoxides by reacting olefins with hydrogen peroxide, for example, there is known an example of producing cyclooctene oxide from cyclooctene using a tungsten peroxo complex catalyst having dimethyloctadecylamine oxide as a ligand. (For example, see Patent Document 1). However, since chloroform, which has environmental and occupational safety and health problems, is used as a reaction solvent, a method for producing epoxides from olefins without using solvents having environmental and occupational health and safety problems. The development of was desired.

また、第一級アルコールや第二級アルコールと過酸化水素とを反応させてカルボニル化合物を製造する方法としては、例えばタングステン酸ナトリウム/第4級アンモニウム硫酸水素塩を触媒として用いる方法(例えば、特許文献2参照。)、メチルトリオクチルアンモニウム・テトラキス(オキソジペルオキソタングスト)リン酸を触媒として用いる方法(例えば、非特許文献3参照。)等が報告されている。しかしながら、いずれの方法も相間移動触媒を併用する必要があり、さらに入手容易な試剤を用いた製造方法の開発が望まれていた。   As a method for producing a carbonyl compound by reacting a primary alcohol or a secondary alcohol with hydrogen peroxide, for example, a method using sodium tungstate / quaternary ammonium hydrogen sulfate as a catalyst (for example, see Patent Reference 2), a method using methyltrioctylammonium tetrakis (oxodiperoxotungsto) phosphoric acid as a catalyst (for example, see Non-Patent Document 3) and the like have been reported. However, all of these methods require the use of a phase transfer catalyst, and the development of a production method using easily available reagents has been desired.

特表平11−512335号公報Japanese Patent Publication No. 11-512335 特開平11−158107号公報JP-A-11-158107 Comprehensive Organic Synthesis,7,357(1991)Comprehensive Organic Synthesis, 7,357 (1991) Comprehensive Organic Synthesis,7,252(1991)Comprehensive Organic Synthesis, 7,252 (1991) J.Org.Chem.,56,5924(1991)J. Org. Chem., 56, 5924 (1991)

このような状況のもと、本発明者らは、環境面および労働安全衛生面で問題のある溶媒を用いることなく、入手容易な試剤を用いて、より工業的に有利にエポキシド類およびカルボニル化合物を製造できる方法について、鋭意検討した結果、新規な金属錯体を見いだし、本発明に至った。   Under such circumstances, the present inventors have found that epoxides and carbonyl compounds can be more industrially advantageously used without using solvents having environmental and occupational safety and health problems, and using readily available reagents. As a result of diligent studies on a method for producing a compound, a novel metal complex was found, and the present invention was reached.

すなわち本発明は、
(A)タングステンと第IIIb族、第IVb族、第Vb族または第VIb族元素とからなるタングステン化合物、モリブデンと第IIIb族、第IVb族、第Vb族または第VIb族元素とからなるモリブデン化合物、タングステン金属およびモリブデン金属からなる群から選ばれる少なくとも一種と、
(B)過酸化水素と、
(C)三級アミン類、三級アミンオキシド類、含窒素芳香族化合物および含窒素芳香族化合物N−オキシドからなる群から選ばれる少なくとも一種と、
(D)リン酸類とを接触せしめてなる金属錯体;
およびその用途を提供するものである。
That is, the present invention
(A) Tungsten compound comprising tungsten and a Group IIIb, IVb, Vb or VIb element, molybdenum compound comprising molybdenum and a Group IIIb, IVb, Vb or VIb element And at least one selected from the group consisting of tungsten metal and molybdenum metal;
(B) hydrogen peroxide;
(C) at least one selected from the group consisting of tertiary amines, tertiary amine oxides, nitrogen-containing aromatic compounds, and nitrogen-containing aromatic compound N-oxides;
(D) a metal complex obtained by contacting phosphoric acids;
And its uses.

本発明の新規な金属錯体を触媒とすることにより、オレフィン類と過酸化水素とから、クロロホルム等の環境面や労働安全衛生面で問題のある溶媒を反応溶媒に用いることなく、エポキシド類が得られるため、工業的に有利である。また、反応条件を選択することにより、オレフィン類の炭素−炭素二重結合が酸化的に切断されたアルデヒド類等のカルボニル化合物やβ−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物が得られるため、この点からも工業的に有用である。さらに、当該金属錯体は、第一級または第二級アルコール類と過酸化水素との反応により、カルボニル化合物を製造する触媒としても良好な活性を示す点においても工業的に有用である。   By using the novel metal complex of the present invention as a catalyst, epoxides can be obtained from olefins and hydrogen peroxide without using, as a reaction solvent, a solvent such as chloroform which is problematic in terms of environment and occupational safety and health. Therefore, it is industrially advantageous. Further, by selecting the reaction conditions, a carbonyl compound such as an aldehyde in which the carbon-carbon double bond of the olefin is oxidatively cleaved or a β-hydroxyhydroperoxide compound can be obtained. Useful for Further, the metal complex is industrially useful in that it exhibits good activity as a catalyst for producing a carbonyl compound by reacting a primary or secondary alcohol with hydrogen peroxide.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

まず、(A)タングステンと第IIIb族、第IVb族、第Vb族または第VIb族元素とからなるタングステン化合物、モリブデンと第IIIb族、第IVb族、第Vb族または第VIb族元素とからなるモリブデン化合物、タングステン金属およびモリブデン金属からなる群から選ばれる少なくとも一種と、(B)過酸化水素と、(C)三級アミン類、三級アミンオキシド類、含窒素芳香族化合物および含窒素芳香族化合物N−オキシドからなる群から選ばれる少なくとも一種と、(D)リン酸類とを接触せしめてなる金属錯体(以下、金属錯体と称す。)について説明する。   First, (A) a tungsten compound composed of tungsten and a group IIIb, IVb, Vb or VIb element, or molybdenum composed of a group IIIb, IVb, Vb or VIb element At least one selected from the group consisting of molybdenum compounds, tungsten metals and molybdenum metals; (B) hydrogen peroxide; (C) tertiary amines, tertiary amine oxides, nitrogen-containing aromatic compounds and nitrogen-containing aromatics A metal complex (hereinafter, referred to as a metal complex) obtained by contacting at least one selected from the group consisting of compound N-oxides and (D) phosphoric acid will be described.

(A)成分は、タングステンと第IIIb族、第IVb族、第Vb族または第VIb族元素とからなるタングステン化合物、モリブデンと第IIIb族、第IVb族、第Vb族または第VIb族元素とからなるモリブデン化合物、タングステン金属およびモリブデン金属からなる群から選ばれる少なくとも一種(以下、金属または化合物と略記する。)であり、タングステンと第IIIb族元素とからなるタングステン化合物としては、例えばホウ化タングステン等が、タングステンと第IVb族元素とからなるタングステン化合物としては、例えば炭化タングステン、ケイ化タングステン等が、タングステンと第Vb族元素とからなるタングステン化合物としては、例えばチッ化タングステン、リン化タングステン等が、タングステンと第VIb族元素とからなるタングステン化合物としては、例えば酸化タングステン、タングステン酸、タングステン酸二ナトリウム、硫化タングステン等が挙げられる。   The component (A) is composed of a tungsten compound composed of tungsten and a group IIIb, group IVb, group Vb or group VIb element, or molybdenum and a group IIIb, group IVb, group Vb or group VIb element. At least one selected from the group consisting of a molybdenum compound, tungsten metal, and molybdenum metal (hereinafter abbreviated as a metal or a compound). Examples of the tungsten compound comprising tungsten and a Group IIIb element include tungsten boride. However, as a tungsten compound composed of tungsten and a Group IVb element, for example, tungsten carbide, tungsten silicide, etc., as a tungsten compound composed of tungsten and a Group Vb element, for example, tungsten nitride, tungsten phosphide, etc. As a tungsten compound comprising tungsten and a Group VIb element, For example tungsten oxide, tungstic acid, disodium tungstate, include tungsten sulfide and the like.

モリブデンと第IIIb族元素とからなるモリブデン化合物としては、例えばホウ化モリブデン等が、モリブデンと第IVb族元素とからなるモリブデン化合物としては、例えば炭化モリブデン、ケイ化モリブデン等が、モリブデンと第Vb族元素とからなるモリブデン化合物としては、例えばチッ化モリブデン、リン化モリブデン等が、モリブデンと第VIb族元素とからなるモリブデン化合物としては、例えば酸化モリブデン、モリブデン酸、硫化モリブデン等が挙げられる。   As a molybdenum compound composed of molybdenum and a Group IIIb element, for example, molybdenum boride and the like, and as a molybdenum compound composed of molybdenum and a Group IVb element, for example, molybdenum carbide, molybdenum silicide, and the like, molybdenum and Group Vb Examples of the molybdenum compound composed of an element include molybdenum nitride and molybdenum phosphide, and examples of the molybdenum compound composed of molybdenum and a Group VIb element include molybdenum oxide, molybdic acid, and molybdenum sulfide.

かかる金属または化合物のなかでも、タングステン金属、ホウ化タングステン、タングステン酸二ナトリウム、モリブデン金属が特に好ましい。また、これら金属または化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。また、粒径の細かい金属または化合物を用いることが、金属錯体の調製をより容易にするという点で好ましい。   Among these metals or compounds, tungsten metal, tungsten boride, disodium tungstate, and molybdenum metal are particularly preferred. These metals or compounds may be used alone or in combination of two or more. Further, it is preferable to use a metal or a compound having a small particle diameter in terms of facilitating preparation of a metal complex.

(B)成分は、過酸化水素であり、通常、水溶液である過酸化水素水を用いるが、有機溶媒溶液を用いてもよい。取扱いがより容易であるという点で、過酸化水素水を用いることが好ましい。過酸化水素水もしくは有機溶媒溶液中の過酸化水素濃度は特に制限されないが、容積効率、安全面等を考慮すると、実用的には1〜60重量%程度である。過酸化水素水は、通常、市販のものをそのままもしくは必要に応じて、希釈、濃縮等により濃度調整を行なった後に用いられ、また過酸化水素の有機溶媒溶液は、例えば過酸化水素水を有機溶媒で抽出処理する、もしくは有機溶媒の存在下に蒸留処理する等の手段により、調製されたものが用いられる。   The component (B) is hydrogen peroxide. Usually, an aqueous solution of hydrogen peroxide is used, but an organic solvent solution may be used. It is preferable to use aqueous hydrogen peroxide in that handling is easier. The concentration of hydrogen peroxide in the aqueous hydrogen peroxide solution or the organic solvent solution is not particularly limited, but is practically about 1 to 60% by weight in consideration of volumetric efficiency, safety and the like. Hydrogen peroxide solution is usually used as it is or after adjusting the concentration by diluting, concentrating, etc. as needed or as needed.An organic solvent solution of hydrogen peroxide is, for example, an organic solvent solution of hydrogen peroxide solution. Those prepared by means such as extraction with a solvent or distillation in the presence of an organic solvent are used.

過酸化水素の使用量は、金属または化合物に対して、通常3モル倍以上、好ましくは5モル倍以上であり、その上限は特にないが、経済性および安全性等により適宜決めることができる。   The amount of hydrogen peroxide to be used is usually at least 3 mol times, preferably at least 5 mol times with respect to the metal or compound, and there is no particular upper limit, but it can be determined as appropriate depending on economy, safety and the like.

(C)成分は、三級アミン類、三級アミンオキシド類、含窒素芳香族化合物および含窒素芳香族化合物N−オキシドからなる群から選ばれる少なくとも一種(以下、アミン類と略記する。)であり、三級アミン類としては、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ(n−プロピル)アミン、トリイソプロピルアミン、トリ(n−ブチル)アミン、トリイソブチルアミン、トリ(n−ペンチル)アミン、トリ(n−ヘキシル)アミン、トリ(n−ヘプチル)アミン、トリ(n−オクチル)アミン、トリ(n−ノニル)アミン、トリ(n−デシル)アミン、トリ(n−ドデシル)アミン、トリ(n−テトラデシル)アミン、トリ(n−ヘキサデシル)アミン、トリ(n−オクタデシル)アミン、ジメチルエチルアミン、ジメチル(n−プロピル)アミン、ジメチルイソプロピルアミン、ジメチル(n−ブチル)アミン、ジメチルイソブチルアミン、ジメチル(n−ペンチル)アミン、ジメチル(n−ヘキシル)アミン、ジメチル(n−ヘプチル)アミン、ジメチル(n−オクチル)アミン、ジメチル(n−ノニル)アミン、ジメチル(n−デシル)アミン、ジメチル(n−ウンデシル)アミン、ジメチル(n−ドデシル)アミン、ジメチル(n−テトラデシル)アミン、ジメチル(n−ヘキサデシル)アミン、ジメチル(n−オクタデシル)アミン、   The component (C) is at least one selected from the group consisting of tertiary amines, tertiary amine oxides, nitrogen-containing aromatic compounds, and nitrogen-containing aromatic compound N-oxides (hereinafter abbreviated as amines). The tertiary amines include, for example, trimethylamine, triethylamine, tri (n-propyl) amine, triisopropylamine, tri (n-butyl) amine, triisobutylamine, tri (n-pentyl) amine, tri (n- Hexyl) amine, tri (n-heptyl) amine, tri (n-octyl) amine, tri (n-nonyl) amine, tri (n-decyl) amine, tri (n-dodecyl) amine, tri (n-tetradecyl) Amine, tri (n-hexadecyl) amine, tri (n-octadecyl) amine, dimethylethylamine, dimethyl (n- Ropyl) amine, dimethylisopropylamine, dimethyl (n-butyl) amine, dimethylisobutylamine, dimethyl (n-pentyl) amine, dimethyl (n-hexyl) amine, dimethyl (n-heptyl) amine, dimethyl (n-octyl) Amine, dimethyl (n-nonyl) amine, dimethyl (n-decyl) amine, dimethyl (n-undecyl) amine, dimethyl (n-dodecyl) amine, dimethyl (n-tetradecyl) amine, dimethyl (n-hexadecyl) amine, Dimethyl (n-octadecyl) amine,

メチルジエチルアミン、ジ(n−プロピル)メチルアミン、ジイソプロピルメチルアミン、ジ(n−ブチル)メチルアミン、ジイソブチルメチルアミン、ジ(n−ペンチル)メチルアミン、ジ(n−ヘキシル)メチルアミン、ジ(n−ヘプチル)メチルアミン、ジ(n−オクチル)メチルアミン、ジ(n−ノニル)メチルアミン、ジ(n−デシル)メチルアミン、ジ(n−ドデシル)メチルアミン、ジ(n−テトラデシル)メチルアミン、ジ(n−ヘキサデシル)メチルアミン、ジ(n−オクタデシル)メチルアミン、ジメチルベンジルアミン、ジ(n−ブチル)ベンジルアミン、ジ(n−ヘキシル)ベンジルアミン、ジ(n−オクチル)ベンジルアミン、ジ(n−デシル)ベンジルアミン、ジ(n−ドデシル)ベンジルアミン、ジ(n−オクタデシル)ベンジルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジ(n−ブチル)アニリン、N,N−ジ(n−ヘキシル)アニリン、N,N−ジ(n−オクチル)アニリン、N,N−ジ(n−デシル)アニリン、N,N−ジ(n−ドデシル)アニリン、N−(n−ヘキサデシル)アニリン、N−(n−オクタデシル)アニリン、 Methyl diethylamine, di (n-propyl) methylamine, diisopropylmethylamine, di (n-butyl) methylamine, diisobutylmethylamine, di (n-pentyl) methylamine, di (n-hexyl) methylamine, di (n -Heptyl) methylamine, di (n-octyl) methylamine, di (n-nonyl) methylamine, di (n-decyl) methylamine, di (n-dodecyl) methylamine, di (n-tetradecyl) methylamine Di (n-hexadecyl) methylamine, di (n-octadecyl) methylamine, dimethylbenzylamine, di (n-butyl) benzylamine, di (n-hexyl) benzylamine, di (n-octyl) benzylamine, Di (n-decyl) benzylamine, di (n-dodecyl) benzylamine, di (n-o Tadecyl) benzylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-di (n-butyl) aniline, N, N-di (n-hexyl) aniline, N, N-di (n-octyl) aniline, N-di (n-decyl) aniline, N, N-di (n-dodecyl) aniline, N- (n-hexadecyl) aniline, N- (n-octadecyl) aniline,

N−メチルモルホリン、N−(n−ブチル)モルホリン、N−(n−ヘキシル)モルホリン、N−(n−オクチル)モルホリン、N−(n−デシル)モルホリン、N−(n−ドデシル)モルホリン、N−(n−ヘキサデシル)モルホリン、N−(n−オクタデシル)モルホリン、N−メチルピロリジン、N−(n−ブチル)ピロリジン、N−(n−ヘキシル)ピロリジン、N−(n−オクチル)ピロリジン、N−(n−デシル)ピロリジン、N−(n−ドデシル)ピロリジン、N−(n−ヘキサデシル)ピロリジン、N−(n−オクタデシル)ピロリジン、N−メチルピペリジン、N−(n−ブチル)ピペリジン、N−(n−ヘキシル)ピペリジン、N−(n−オクチル)ピペリジン、N−(n−デシル)ピペリジン、N−(n−ドデシル)ピペリジン、N−(n−ヘキサデシル)ピペリジン、N−(n−オクタデシル)ピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、4−[ジ(n−ヘキシル)アミノ]ピリジン等が挙げられる。 N-methylmorpholine, N- (n-butyl) morpholine, N- (n-hexyl) morpholine, N- (n-octyl) morpholine, N- (n-decyl) morpholine, N- (n-dodecyl) morpholine, N- (n-hexadecyl) morpholine, N- (n-octadecyl) morpholine, N-methylpyrrolidine, N- (n-butyl) pyrrolidine, N- (n-hexyl) pyrrolidine, N- (n-octyl) pyrrolidine, N- (n-decyl) pyrrolidine, N- (n-dodecyl) pyrrolidine, N- (n-hexadecyl) pyrrolidine, N- (n-octadecyl) pyrrolidine, N-methylpiperidine, N- (n-butyl) piperidine, N- (n-hexyl) piperidine, N- (n-octyl) piperidine, N- (n-decyl) piperidine, N- (n-dodecyl) Perijin, N-(n- hexadecyl) piperidine, N-(n- octadecyl) piperidine, 4-dimethylaminopyridine, 4- [di (n- hexyl) amino] pyridine.

三級アミンオキシド類としては、前記三級アミン類のアミノ基を構成する窒素原子が酸化された、例えばトリメチルアミンN−オキシド、トリエチルアミンN−オキシド、N−メチルモルホリンN−オキシド等が挙げられる。かかる三級アミンオキシド類は、前記(A)成分と(B)成分との混合溶液と、対応する三級アミン類とを作用させることにより、系中で調製したものを用いてもよく、三級アミンオキシド類の生成に引き続いて、所望の錯体を得ることができる。この場合において、前記した過酸化水素の使用量は、用いる三級アミン類の量に応じて適宜調整すればよい。   Examples of the tertiary amine oxides include, for example, trimethylamine N-oxide, triethylamine N-oxide, N-methylmorpholine N-oxide and the like in which the nitrogen atom constituting the amino group of the tertiary amine is oxidized. As such tertiary amine oxides, those prepared in a system by reacting a mixed solution of the above-mentioned components (A) and (B) with the corresponding tertiary amines may be used. Following formation of the secondary amine oxides, the desired complex can be obtained. In this case, the amount of hydrogen peroxide used may be appropriately adjusted according to the amount of tertiary amines used.

含窒素芳香族化合物としては、芳香環を構成する炭素原子のうちの少なくとも一つの炭素原子が窒素原子に置き換わった、例えばピリジン、2−メチルピリジン、3−メチルピリジン、4−メチルピリジン、4−エチルピリジン、4−(n−ブチル)ピリジン、4−(1−ヘキシル)ピリジン、4−(1−ヘキシル)ピリジン、4−(1−オクチル)ピリジン、4−(1−ノニル)ピリジン、4−(5−ノニル)ピリジン、4−(1−デシル)ピリジン、ピコリン酸、ピリジン−2,6−ジカルボン酸等のピリジン類等が挙げられ、含窒素芳香族化合物N−オキシドとしては、上記含窒素芳香族化合物の芳香環を構成する窒素原子が酸化された、例えばピリジンN−オキシド、2−メチルピリジンN−オキシド等のピリジンN−オキシド類等が挙げられる。   Examples of the nitrogen-containing aromatic compound include pyridine, 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine and 4-methylpyridine in which at least one of carbon atoms constituting an aromatic ring is replaced by a nitrogen atom. Ethyl pyridine, 4- (n-butyl) pyridine, 4- (1-hexyl) pyridine, 4- (1-hexyl) pyridine, 4- (1-octyl) pyridine, 4- (1-nonyl) pyridine, 4- Pyridines such as (5-nonyl) pyridine, 4- (1-decyl) pyridine, picolinic acid, pyridine-2,6-dicarboxylic acid and the like can be mentioned. Examples of the nitrogen-containing aromatic compound N-oxide include the above-described nitrogen-containing aromatic compounds. Nitrogen atoms constituting an aromatic ring of an aromatic compound are oxidized, for example, pyridine N-oxides such as pyridine N-oxide and 2-methylpyridine N-oxide; And the like.

かかるアミン類の使用量は、金属または化合物に対して、通常0.8〜3モル倍、好ましくは0.9〜1.2モル倍程度である。   The amount of the amines to be used is generally 0.8 to 3 moles, preferably 0.9 to 1.2 moles, relative to the metal or the compound.

(D)成分は、リン酸類であり、例えばリン酸;例えばリン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム等のリン酸アルカリ金属塩;例えばピロリン酸カルシウム、リン酸マグネシウム等のリン酸アルカリ土類金属塩;などが挙げられる。かかるリン酸類のうち、水和物が存在するものは、水和物を用いてもよい。かかるリン酸類の使用量は、金属または化合物に対して、通常0.2モル倍以上であり、その上限は特にないが、あまり多すぎても経済的に不利になりやすいため、実用的には1モル倍以下である。   The component (D) is a phosphoric acid, such as phosphoric acid; for example, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, disodium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and the like. And alkaline earth metal phosphates such as calcium pyrophosphate and magnesium phosphate. Among such phosphoric acids, when a hydrate is present, a hydrate may be used. The amount of the phosphoric acid used is usually 0.2 mol times or more based on the metal or the compound, and there is no particular upper limit. However, too large an amount tends to be disadvantageous economically. It is 1 mole or less.

本発明の新規な金属錯体は、前記(A)〜(D)の四成分を接触、混合させることにより調製される。混合順序は、特に制限されないが、(A)成分と(B)成分を混合した後、該混合物に、(D)成分、次いで(C)成分を加えることが好ましい。   The novel metal complex of the present invention is prepared by contacting and mixing the four components (A) to (D). The mixing order is not particularly limited, but it is preferable that after mixing the components (A) and (B), the component (D) and then the component (C) are added to the mixture.

金属錯体の調製は、無溶媒で行ってもよいし、溶媒の存在下に実施してもよい。溶媒としては、例えばジエチルエーテル、メチルtert−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒;例えば酢酸エチル等のエステル溶媒;例えばtert−ブタノール等の第三級アルコール溶媒;例えばアセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒;例えばジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素溶媒;などの有機溶媒または該有機溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。   The preparation of the metal complex may be performed without a solvent or may be performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent include ether solvents such as diethyl ether, methyl tert-butyl ether, and tetrahydrofuran; ester solvents such as ethyl acetate; tertiary alcohol solvents such as tert-butanol; nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile; Examples thereof include an organic solvent such as a halogenated hydrocarbon solvent such as dichloromethane; and a mixed solvent of the organic solvent and water.

金属錯体を調製する調製温度は、通常−10〜100℃程度の範囲である。   The preparation temperature for preparing the metal complex is usually in the range of about -10 to 100 ° C.

前記四成分を接触、混合させることにより、金属錯体を含む調製液が得られ、例えば、該調製液をそのままもしくは該調製液のpHを中性〜酸性に調整した後、濃縮処理することにより、金属錯体を取り出すことができる。また調製液もしくはpHを調整した後の調製液に、必要に応じて水および/または水に不溶の有機溶媒を加え、抽出処理し、得られる有機層を濃縮処理することにより、金属錯体を取り出すこともできる。条件によっては、該調製液中に金属錯体が析出している場合もあり、その場合には、調製液を濾過処理することにより、金属錯体を取り出してもよい。水に不溶の有機溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;例えばtert−ブチルエーテル等のエーテル溶媒;例えばジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素溶媒;などが挙げられる。   By contacting and mixing the four components, a preparation solution containing the metal complex is obtained.For example, by adjusting the pH of the preparation solution as it is or the pH of the preparation solution to neutral to acidic, and then performing a concentration treatment, The metal complex can be taken out. In addition, water and / or an organic solvent insoluble in water are added to the prepared solution or the prepared solution after adjusting the pH, if necessary, the mixture is extracted, and the resulting organic layer is concentrated to obtain a metal complex. You can also. Depending on the conditions, a metal complex may be precipitated in the preparation liquid. In such a case, the metal complex may be taken out by filtering the preparation liquid. Examples of the organic solvent insoluble in water include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; ether solvents such as tert-butyl ether; halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane; and the like.

続いて、かくして得られる金属錯体の用途について説明する。かかる金属錯体は、酸化触媒活性を有しており、例えば、オレフィン類と過酸化水素との反応によるエポキシド類、β−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物またはカルボニル化合物の製造および第一級または第二級アルコール類と過酸化水素との反応によるカルボニル化合物の製造などの触媒として用いることができる。   Subsequently, applications of the metal complex thus obtained will be described. Such metal complexes have oxidation catalytic activity, for example, the production of epoxides, β-hydroxyhydroperoxide compounds or carbonyl compounds by the reaction of olefins with hydrogen peroxide and primary or secondary alcohols Can be used as a catalyst for the production of a carbonyl compound by the reaction of hydrogen with hydrogen peroxide.

まず、金属錯体を触媒とし、オレフィン類と過酸化水素とを反応させて、エポキシド類を製造する方法について説明する。   First, a method for producing epoxides by reacting olefins with hydrogen peroxide using a metal complex as a catalyst will be described.

金属錯体の使用量は、金属として、オレフィン類に対して、通常0.001〜0.95モル倍、好ましくは0.005〜0.1モル倍程度である。   The amount of the metal complex used is usually about 0.001 to 0.95 mole times, preferably about 0.005 to 0.1 mole times, as the metal, relative to the olefins.

オレフィン類としては、その分子内に一つ以上のオレフィン性炭素−炭素二重結合を有する化合物であればよく、該二重結合を形成する二つの炭素原子は、水素原子のほか、例えばアルキル基、アリール基、アラルキル基、シリル基、ハロゲン原子等の置換基で置換されていてもよい。   The olefins may be compounds having at least one olefinic carbon-carbon double bond in the molecule, and the two carbon atoms forming the double bond are, for example, an alkyl group in addition to a hydrogen atom. , An aryl group, an aralkyl group, a silyl group, a substituent such as a halogen atom.

アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、イソオクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の直鎖状、分枝鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。かかるアルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基等のアルコキシ基;例えばトリメチルシリル基等のシリル基;例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;などが挙げられる。かかる置換基で置換されたアルキル基としては、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、トリメチルシリルメチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、トリフルオロメチル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, n-hexyl, and n-hexyl. Examples include a linear, branched or cyclic alkyl group such as an octyl group, an isooctyl group, an n-nonyl group, an n-decyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Such an alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group and an n-butoxy group; and a silyl group such as a trimethylsilyl group. Groups; for example, halogen atoms such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom; and the like. Examples of the alkyl group substituted with such a substituent include a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a methoxyethyl group, a trimethylsilylmethyl group, a fluoromethyl group, a chloromethyl group, a bromomethyl group, and a trifluoromethyl group.

アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、かかるアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば前記アルキル基;例えば前記アルコキシ基;例えば前記シリル基;例えば前記ハロゲン原子;例えばアセチル基、プロピオニル基等のアシル基;などが挙げられる。かかる置換基で置換されたアリール基としては、例えば2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、2−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−アセチルフェニル基等が挙げられる。   Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. The aryl group may have a substituent. Examples of the substituent include the alkyl group; the alkoxy group; the silyl group; For example, the aforementioned halogen atom; for example, an acyl group such as an acetyl group and a propionyl group; Examples of the aryl group substituted with such a substituent include a 2-fluorophenyl group, a 3-fluorophenyl group, a 4-fluorophenyl group, a 2-chlorophenyl group, a 3-chlorophenyl group, a 4-chlorophenyl group, and a 2-bromophenyl Group, 2-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 4-acetylphenyl group and the like.

置換されていてもよいアラルキル基としては、前記置換されていてもよいアルキル基と前記置換されていてもよいアリール基とから構成されるものが挙げられ、例えばベンジル基、フェニルエチル基、4−フルオロベンジル基、4−メトキシベンジル基、2−クロロベンジル基等が挙げられる。   Examples of the aralkyl group which may be substituted include those composed of the alkyl group which may be substituted and the aryl group which may be substituted, for example, a benzyl group, a phenylethyl group, and a 4-phenyl group. Examples thereof include a fluorobenzyl group, a 4-methoxybenzyl group, and a 2-chlorobenzyl group.

シリル基としては、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、メチルジフェニルシリル基等のトリアルキルシリル基等が挙げられ、ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。   Examples of the silyl group include a trialkylsilyl group such as a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a dimethylphenylsilyl group, and a methyldiphenylsilyl group.Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom. Can be

また、オレフィン性炭素−炭素二重結合を構成する炭素原子の置換基が一緒になって、環構造の一部を形成していてもよく、環構造としては、例えばシクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロノナン環、シクロデカン環、シクロドデカン環等が挙げられる。もちろんかかる環構造は、前記アルキル基、前記アルコキシ基、前記シリル基、前記ハロゲン原子等で置換されていてもよい。   Further, substituents of carbon atoms constituting the olefinic carbon-carbon double bond may be combined to form a part of a ring structure. Examples of the ring structure include a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, Examples include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclooctane ring, a cyclononane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, and the like. Of course, such a ring structure may be substituted with the alkyl group, the alkoxy group, the silyl group, the halogen atom, or the like.

かかるオレフィン類としては、例えばエチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、3,3−ジメチル−1−ブテン、ビニルシクロペンタン、ビニルシクロヘキサン、アリルシクロヘキサン、スチレン、4−(tert−ブチル)スチレン、アリルベンゼン、4−メトキシスチレン、サフロール、オイゲノール、3,4−ジメトキシ−1−アリルベンゼン等の一置換オレフィン類;   Examples of such olefins include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 4,4-dimethyl-1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, -Undecene, 1-dodecene, 1-tridecene, 1-tetradecene, 1-pentadecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 3,3-dimethyl-1-butene, vinylcyclopentane, vinylcyclohexane, allylcyclohexane, styrene, Monosubstituted olefins such as-(tert-butyl) styrene, allylbenzene, 4-methoxystyrene, safrole, eugenol, 3,4-dimethoxy-1-allylbenzene;

例えばイソブチレン、2−メチル−1−ブテン、2−メチル−1−ヘキセン、2−メチル−1−ヘプテン、2−メチル−1−ウンデセン、メチレンシクロヘキサン、α−メチルスチレン、β−ピネン等の二置換末端オレフィン類;例えば2−ブテン、2−ペンテン、2−ヘキセン、3−ヘキセン、2−ヘプテン、3−ヘプテン、2−オクテン、3−オクテン、4−オクテン、2−ノネン、3−ノネン、4−ノネン、5−デセン、シクロペンテン、シクロヘキセン、4−メチルシクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロデセン、シクロドデセン、β−メチルスチレン、スチルベン、イソサフロール、イソオイゲノール、ノルボルネン等の二置換内部オレフィン類; For example, disubstitution such as isobutylene, 2-methyl-1-butene, 2-methyl-1-hexene, 2-methyl-1-heptene, 2-methyl-1-undecene, methylenecyclohexane, α-methylstyrene, β-pinene, etc. Terminal olefins; for example, 2-butene, 2-pentene, 2-hexene, 3-hexene, 2-heptene, 3-heptene, 2-octene, 3-octene, 4-octene, 2-nonene, 3-nonene, Disubstituted internal olefins such as -nonene, 5-decene, cyclopentene, cyclohexene, 4-methylcyclohexene, cycloheptene, cyclooctene, cyclodecene, cyclododecene, β-methylstyrene, stilbene, isosafrole, isoeugenol, norbornene;

例えば2−メチル−2−ブテン、2−メチル−2−ペンテン、2−メチル−2−ヘキセン、2−メチル−2−ノネン、2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエン、2−メチル−2−ヘプテン、1−メチルシクロペンテン、1−メチルシクロヘキセン、1−(tert−ブチル)−シクロヘキセン、1−イソプロピルシクロヘキセン、2−カレン、3−カレン、α−ピネン等の三置換オレフィン類;例えば2,3−ジメチル−2−ブテン、2,3,4−トリメチル−2−ペンテン等の四置換オレフィン類;などが挙げられる。 For example, 2-methyl-2-butene, 2-methyl-2-pentene, 2-methyl-2-hexene, 2-methyl-2-nonene, 2,5-dimethyl-2,4-hexadiene, 2-methyl-2 Tri-substituted olefins such as -heptene, 1-methylcyclopentene, 1-methylcyclohexene, 1- (tert-butyl) -cyclohexene, 1-isopropylcyclohexene, 2-carene, 3-carene and α-pinene; Tetra-substituted olefins such as -dimethyl-2-butene and 2,3,4-trimethyl-2-pentene;

かかるオレフィン類の中には、幾何異性体や光学異性体が存在するものがあるが、本発明には、単独の幾何異性体や光学異性体を用いてもよいし、幾何異性体の混合物や光学異性体の混合物を用いてもよい。   Among such olefins, there are those in which geometric isomers and optical isomers exist.In the present invention, a single geometric isomer or optical isomer may be used, or a mixture of geometric isomers or A mixture of optical isomers may be used.

過酸化水素は、通常、水溶液として用いられるが、有機溶媒溶液を用いてもよい。取扱いがより容易であるという点で、過酸化水素水溶液を用いることが好ましい。過酸化水素水溶液もしくは有機溶媒溶液中の過酸化水素濃度は特に制限されないが、容積効率、安全面等を考慮すると、実用的には1〜60重量%程度である。過酸化水素水溶液は、通常、市販のものをそのままもしくは必要に応じて、希釈、濃縮等により濃度調整を行なった後に用いられ、また過酸化水素の有機溶媒溶液は、例えば過酸化水素水溶液を有機溶媒で抽出処理する、もしくは有機溶媒の存在下に蒸留処理する等の手段により、調製されたものが用いられる。   Hydrogen peroxide is usually used as an aqueous solution, but an organic solvent solution may be used. It is preferable to use an aqueous solution of hydrogen peroxide because handling is easier. The concentration of hydrogen peroxide in the aqueous hydrogen peroxide solution or organic solvent solution is not particularly limited, but is practically about 1 to 60% by weight in consideration of volumetric efficiency, safety and the like. The aqueous hydrogen peroxide solution is usually used as it is or after adjusting the concentration by diluting or concentrating as needed, and an organic solvent solution of hydrogen peroxide is, for example, an organic solvent solution of hydrogen peroxide. Those prepared by means such as extraction with a solvent or distillation in the presence of an organic solvent are used.

過酸化水素の使用量は、オレフィン類に対して、通常0.8モル倍以上、好ましくは1モル倍以上であり、その上限は特にないが、あまり多すぎても経済的に不利になりやすいため、実用的には、オレフィン類に対して、5モル倍以下である。   The amount of hydrogen peroxide to be used is usually 0.8 mol times or more, preferably 1 mol times or more with respect to the olefins, and there is no particular upper limit, but too much tends to be economically disadvantageous. Therefore, practically, it is 5 mol times or less with respect to the olefins.

オレフィン類と過酸化水素の反応は、無溶媒で行ってもよいし、水溶媒中もしくは有機溶媒中で行ってもよい。有機溶媒としては、例えばジエチルエーテル、メチルtert−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジグライム等のエーテル溶媒;例えば酢酸エチル等のエステル溶媒;例えばtert−ブタノール等の第三級アルコール溶媒;例えばアセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒;例えばトルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、石油エーテル等の飽和脂肪族炭化水素溶媒;などが挙げられる。かかる溶媒の使用量は特に制限されない。   The reaction between the olefins and hydrogen peroxide may be performed without a solvent, or may be performed in an aqueous solvent or an organic solvent. Examples of the organic solvent include ether solvents such as diethyl ether, methyl tert-butyl ether, tetrahydrofuran, and diglyme; ester solvents such as ethyl acetate; tertiary alcohol solvents such as tert-butanol; and solvents such as acetonitrile and propionitrile. A nitrile solvent; for example, an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene, benzene, or xylene; a saturated aliphatic hydrocarbon solvent such as pentane, hexane, cyclohexane, pentane, or petroleum ether; The amount of the solvent used is not particularly limited.

本反応は、金属錯体、オレフィン類および過酸化水素とを、pH2以上4以下の範囲で接触させることにより行われる。そのため、必要に応じて、酸やアルカリを用いて反応液のpHを前記範囲に調整し、反応を実施すればよい。   This reaction is carried out by bringing a metal complex, an olefin, and hydrogen peroxide into contact with each other at a pH of 2 or more and 4 or less. Therefore, if necessary, the reaction may be performed by adjusting the pH of the reaction solution to the above range using an acid or an alkali.

反応温度は、通常−10〜130℃程度であり、通常は常圧条件下で実施されるが、減圧あるいは加圧条件下で実施してもよい。   The reaction temperature is usually about −10 to 130 ° C. and is usually carried out under normal pressure, but may be carried out under reduced pressure or increased pressure.

反応の進行と共に、エポキシド類が生成するが、かかる反応の進行は、例えばガスクロマトグラフィ、高速液体クロマトグラフィ、薄層クロマトグラフィ、NMR、IR等の通常の分析手段により確認することができる。   Epoxides are generated with the progress of the reaction, and the progress of the reaction can be confirmed by ordinary analytical means such as gas chromatography, high performance liquid chromatography, thin layer chromatography, NMR and IR.

反応終了後、反応液をそのままもしくは必要に応じて残存する過酸化水素を、例えば亜硫酸ナトリウム等の還元剤で分解した後、濃縮処理、晶析処理等することにより、目的とするエポキシド類を取り出すことができる。また、反応液に、必要に応じて水および/または水に不溶の有機溶媒を加え、抽出処理し、得られる有機層を濃縮処理することにより、エポキシド類を取り出すこともできる。取り出したエポキシド類は、例えば蒸留、カラムクロマトグラフィ、再結晶等の通常の精製方法によりさらに精製してもよい。   After the completion of the reaction, the reaction solution is left as it is or, if necessary, the remaining hydrogen peroxide is decomposed with a reducing agent such as sodium sulfite, and then subjected to a concentration treatment, a crystallization treatment, and the like to take out the target epoxide. be able to. Further, epoxides can also be taken out by adding water and / or an organic solvent insoluble in water to the reaction solution, if necessary, performing an extraction treatment, and concentrating the obtained organic layer. The removed epoxides may be further purified by a usual purification method such as distillation, column chromatography, recrystallization and the like.

かくして得られるエポキシド類としては、例えばエチレンオキシド、プロピレンオキシド、1,2−エポキシブタン、1,2−エポキシペンタン、4,4−ジメチル−1,2−エポキシペンタン、1,2−エポキシヘキサン、1,2−エポキシヘプタン、1,2−エポキシオクタン、1,2−エポキシノナン、1,2−エポキシデカン、1,2−エポキシウンデカン、1,2−エポキシドデカン、1,2−エポキシトリデカン、1,2−エポキシテトラデカン、1,2−エポキシペンタデカン、1,2−エポキシヘキサデカン、1,2−エポキシオクタデカン、3,3−ジメチル−1,2−エポキシブタン、シクロペンチルエチレンオキシド、シクロヘキシルエチレンオキシド、3−シクロヘキシル−1,2−エポキシプロパン、スチレンオキシド、4−(tert−ブチル)スチレンオキシド、3−フェニル−1,2−エポキシプロパン、4−メトキシスチレンオキシド、サフロールオキシド、3−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−1,2−エポキシプロパン、3−(3、4−ジメトキシフェニル)−1,2−エポキシプロパン、2,3−エポキシブタン、2−メチル−1,2−エポキシプロパン、2−メチル−1,2−エポキシブタン、2,3−エポキシペンタン、2,3−エポキシヘキサン、2−メチル−1,2−エポキシヘキサン、3,4−エポキシヘキサン、2,3−エポキシヘプタン、3,4−エポキシヘプタン、2,3−エポキシオクタン、3,4−エポキシオクタン、4,5−エポキシオクタン、2,3−エポキシノナン、   Epoxides thus obtained include, for example, ethylene oxide, propylene oxide, 1,2-epoxybutane, 1,2-epoxypentane, 4,4-dimethyl-1,2-epoxypentane, 1,2-epoxyhexane, 2-epoxyheptane, 1,2-epoxyoctane, 1,2-epoxynonane, 1,2-epoxydecane, 1,2-epoxyundecane, 1,2-epoxidedodecane, 1,2-epoxytridecane, 1, 2-epoxytetradecane, 1,2-epoxypentadecane, 1,2-epoxyhexadecane, 1,2-epoxyoctadecane, 3,3-dimethyl-1,2-epoxybutane, cyclopentylethylene oxide, cyclohexylethylene oxide, 3-cyclohexyl-1 , 2-epoxypropane, styrene Sid, 4- (tert-butyl) styrene oxide, 3-phenyl-1,2-epoxypropane, 4-methoxystyrene oxide, safrole oxide, 3- (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) -1,2-epoxy Propane, 3- (3,4-dimethoxyphenyl) -1,2-epoxypropane, 2,3-epoxybutane, 2-methyl-1,2-epoxypropane, 2-methyl-1,2-epoxybutane, 2 2,3-epoxypentane, 2,3-epoxyhexane, 2-methyl-1,2-epoxyhexane, 3,4-epoxyhexane, 2,3-epoxyheptane, 3,4-epoxyheptane, 2,3-epoxy Octane, 3,4-epoxyoctane, 4,5-epoxyoctane, 2,3-epoxynonane,

2−メチル−1,2−エポキシノナン、3,4−エポキシノナン、4,5−エポキシノナン、5,6−エポキシデカン、2−メチル−1,2−エポキシウンデカン、シクロペンテンオキシド、シクロヘキセンオキシド、4−メチルシクロヘキセンオキシド、シクロヘプテンオキシド、シクロオクテンオキシド、シクロデセンオキシド、シクロドデセンオキシド、β−メチルスチレンオキシド、スチルベンオキシド、イソサフロールオキシド、1−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−1,2−エポキシプロパン、β−ピネンオキシド、ノルボルネンオキシド、2−メチル−2,3−エポキシブタン、2−メチル−2,3−エポキシペンタン、2−メチル−2,3−エポキシヘキサン、2,5−ジメチル−2,3−エポキシヘキサ−4−エン、2−メチル−2,3−エポキシヘプタン、1−メチル−1,2−エポキシシクロペンタン、1−メチル−1,2−エポキシシクロヘキサン、1−(tert−ブチル)−1,2−エポキシシクロヘキサン、1−イソプロピル−1,2−エポキシシクロヘキサン、2−カレンオキシド、3−カレンオキシド、α−ピネンオキシド、2,3−ジメチル−2,3−エポキシブタン、2,3,4−トリメチル−2,3−エポキシペンタン等が挙げられる。 2-methyl-1,2-epoxynonane, 3,4-epoxynonane, 4,5-epoxynonane, 5,6-epoxydecane, 2-methyl-1,2-epoxyundecane, cyclopentene oxide, cyclohexene oxide, -Methylcyclohexene oxide, cycloheptene oxide, cyclooctene oxide, cyclodecene oxide, cyclododecene oxide, β-methylstyrene oxide, stilbene oxide, isosafurol oxide, 1- (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) -1 , 2-epoxypropane, β-pinene oxide, norbornene oxide, 2-methyl-2,3-epoxybutane, 2-methyl-2,3-epoxypentane, 2-methyl-2,3-epoxyhexane, 2,5 -Dimethyl-2,3-epoxyhex-4- Ene, 2-methyl-2,3-epoxyheptane, 1-methyl-1,2-epoxycyclopentane, 1-methyl-1,2-epoxycyclohexane, 1- (tert-butyl) -1,2-epoxycyclohexane , 1-isopropyl-1,2-epoxycyclohexane, 2-calene oxide, 3-calene oxide, α-pinene oxide, 2,3-dimethyl-2,3-epoxybutane, 2,3,4-trimethyl-2, 3-epoxypentane and the like.

次に、金属錯体を触媒とし、オレフィン類と過酸化水素とを反応させて、β−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物またはカルボニル化合物を製造する方法について説明する。   Next, a method for producing a β-hydroxyhydroperoxide compound or a carbonyl compound by reacting an olefin with hydrogen peroxide using a metal complex as a catalyst will be described.

オレフィン類としては、前記したものと同様のものが挙げられる。オレフィン類として、一置換オレフィン類を用いた場合には、β−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物、アルデヒド類、カルボン酸類、ホルムアルデヒド、蟻酸が得られる。一置換オレフィン類として、例えば1−ヘキセンを用いた場合には、2−ヒドロペルオキシ−1−ヒドロキシヘキサンおよび/または1−ヒドロペルオキシ−2−ヒドロキシヘキサンと、ペンタナール、ペンタン酸が得られる。   Examples of the olefins include the same ones as described above. When a monosubstituted olefin is used as the olefin, a β-hydroxyhydroperoxide compound, an aldehyde, a carboxylic acid, formaldehyde, and formic acid are obtained. When, for example, 1-hexene is used as the monosubstituted olefin, 2-hydroperoxy-1-hydroxyhexane and / or 1-hydroperoxy-2-hydroxyhexane, pentanal, and pentanoic acid are obtained.

オレフィン類として、二置換末端オレフィン類を用いた場合には、β−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物、ケトン類、ホルムアルデヒド、蟻酸が得られる。二置換末端オレフィン類として、例えばα−メチルスチレンを用いた場合は、2−ヒドロペルオキシ−2−フェニル−1−プロパノール、アセトフェノン、ホルムアルデヒド、蟻酸が得られ、例えばメチレンシクロヘキサンを用いた場合には、1−ヒドロペルオキシ−1−(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ホルムアルデヒド、蟻酸が得られる。   When disubstituted terminal olefins are used as olefins, β-hydroxyhydroperoxide compounds, ketones, formaldehyde, and formic acid are obtained. As the disubstituted terminal olefins, for example, when α-methylstyrene is used, 2-hydroperoxy-2-phenyl-1-propanol, acetophenone, formaldehyde, formic acid can be obtained.For example, when methylenecyclohexane is used, 1-Hydroperoxy-1- (hydroxymethyl) cyclohexane, cyclohexanone, formaldehyde and formic acid are obtained.

オレフィン類として、二置換内部オレフィン類を用いた場合には、β−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物、アルデヒド類、カルボン酸類が得られる。二置換内部オレフィン類として、例えばシクロペンテンを用いた場合には、1−ヒドロペルオキシ−2−ヒドロキシシクロペンタン、グルタルアルデヒド、グルタル酸が得られ、例えば2−ヘキセンを用いた場合には、2−ヒドロペルオキシ−3−ヒドロキシヘキサンおよび/または3−ヒドロペルオキシ−2−ヒドロキシヘキサン、ブタナール、ブタン酸、アセトアルデヒド、酢酸が得られる。   When disubstituted internal olefins are used as the olefins, β-hydroxyhydroperoxide compounds, aldehydes, and carboxylic acids are obtained. When, for example, cyclopentene is used as the disubstituted internal olefin, 1-hydroperoxy-2-hydroxycyclopentane, glutaraldehyde, glutaric acid can be obtained. For example, when 2-hexene is used, 2-hydrocene is used. Peroxy-3-hydroxyhexane and / or 3-hydroperoxy-2-hydroxyhexane, butanal, butanoic acid, acetaldehyde, acetic acid are obtained.

オレフィン類として、三置換オレフィン類を用いた場合には、β−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸類が得られる。三置換オレフィン類として、例えば2−メチル−2−ペンテンを用いた場合には、2−メチル−2−ヒドロペルオキシ−3−ヒドロキシペンタンおよび/または2−メチル−2−ヒドロキシ−3−ヒドロペルオキシペンタン、アセトン、プロピオンアルデヒド、プロピオン酸が得られる。オレフィン類として、四置換オレフィン類を用いた場合には、β−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物、ケトン類が得られる。四置換オレフィン類として、例えば2,3−ジメチル−2−ブテンを用いた場合には、2,3−ジメチル−2−ヒドロペルオキシ−3−ヒドロキシブタンおよびアセトンが得られる。   When trisubstituted olefins are used as olefins, β-hydroxy hydroperoxide compounds, ketones, aldehydes, and carboxylic acids are obtained. When 2-methyl-2-pentene is used as the trisubstituted olefin, for example, 2-methyl-2-hydroperoxy-3-hydroxypentane and / or 2-methyl-2-hydroxy-3-hydroperoxypentane , Acetone, propionaldehyde and propionic acid are obtained. When tetrasubstituted olefins are used as olefins, β-hydroxyhydroperoxide compounds and ketones are obtained. When, for example, 2,3-dimethyl-2-butene is used as the tetra-substituted olefin, 2,3-dimethyl-2-hydroperoxy-3-hydroxybutane and acetone are obtained.

過酸化水素も、前記と同様に、通常、水溶液を用いるが、有機溶媒溶液を用いてもよい。過酸化水素の使用量は、目的とする化合物により適宜設定すればよい。ケトン類、β−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物およびアルデヒド類を目的とする場合の過酸化水素の使用量は、オレフィン類に対して、通常1モル倍以上であり、カルボン酸類を目的とする場合の使用量は、通常2モル倍以上である。その使用量の上限は特にないが、経済的な面も考慮すると、実用的には、オレフィン類に対して、10モル倍以下である。   As with the above, an aqueous solution is usually used for hydrogen peroxide as well, but an organic solvent solution may be used. The amount of hydrogen peroxide used may be appropriately set depending on the target compound. The amount of hydrogen peroxide used for the purpose of ketones, β-hydroxyhydroperoxide compounds and aldehydes is usually at least 1 mole times the amount of olefins, and the amount used for the purpose of carboxylic acids. Is usually 2 mole times or more. Although there is no particular upper limit on the amount of the olefin, it is practically not more than 10 moles with respect to the olefin in consideration of economical aspects.

金属錯体の使用量は、金属として、オレフィン類に対して、通常0.001〜0.95モル倍、好ましくは0.005〜0.1モル倍程度である。   The amount of the metal complex used is usually about 0.001 to 0.95 mole times, preferably about 0.005 to 0.1 mole times, as the metal, relative to the olefins.

反応は、無溶媒で行ってもよいし、水溶媒中もしくは有機溶媒中で行ってもよい。有機溶媒としては、エポキシド類の製造に用いる溶媒として例示したものと同様のものが挙げられる。   The reaction may be performed without a solvent, or may be performed in an aqueous solvent or an organic solvent. Examples of the organic solvent include the same ones as those exemplified as the solvent used in the production of epoxides.

本反応は、金属錯体、オレフィン類および過酸化水素を、pH0以上2未満の範囲で接触させることにより実施される。そのため、必要に応じて、酸やアルカリを用いて反応液のpHを、上記範囲に調整し、反応を実施すればよい。   This reaction is carried out by bringing a metal complex, an olefin, and hydrogen peroxide into contact with each other in a pH range of pH 0 or more and less than 2. Therefore, if necessary, the reaction may be carried out by adjusting the pH of the reaction solution to the above range using an acid or an alkali.

上記pH範囲で反応を実施することにより、β−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物やアルデヒド類、ケトン類、カルボン酸等のカルボニル化合物が得られるが、オレフィン類の構造や反応条件により、得られる生成物の種類や生成比率が異なるため、目的生成物に応じて、適宜反応条件を選択すればよい。   By performing the reaction in the above pH range, β-hydroxyhydroperoxide compounds, aldehydes, ketones, carbonyl compounds such as carboxylic acids can be obtained, and depending on the structure of the olefins and the reaction conditions, the type of product obtained is And the production ratio are different, so that the reaction conditions may be appropriately selected according to the target product.

例えばβ−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物を目的とする場合には、有機溶媒中で反応を実施することが好ましく、また、無水条件下で反応を実施することも好ましい。無水条件下で反応を実施する方法としては、例えば反応系内に脱水剤を共存させる方法等が挙げられる。脱水剤としては、有機溶媒の存在下に水を除去する目的で一般に使用されるものであれば特に限定されず、例えば無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水ホウ酸、ポリリン酸、五酸化二リン等が挙げられ、その使用量は、反応系内に存在する水を除去できる量以上であれば十分である。   For example, when a β-hydroxyhydroperoxide compound is intended, the reaction is preferably performed in an organic solvent, and the reaction is also preferably performed under anhydrous conditions. Examples of a method for carrying out the reaction under anhydrous conditions include a method in which a dehydrating agent coexists in the reaction system. The dehydrating agent is not particularly limited as long as it is generally used for the purpose of removing water in the presence of an organic solvent. For example, anhydrous magnesium sulfate, anhydrous sodium sulfate, boric anhydride, polyphosphoric acid, phosphorus pentoxide And the like, and the amount of use is sufficient as long as the amount is such that water existing in the reaction system can be removed.

反応温度があまり低過ぎると、反応が進行しにくく、また反応温度があまり高過ぎると、原料オレフィン類の重合等副反応が進行する恐れがあるため、実用的な反応温度は、0〜200℃程度の範囲である。反応温度が低い場合は、β−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物やアルデヒド類が生成しやすく、反応温度が高くなるに従い、カルボン酸類やケトン類が生成しやすくなる。そのため、β−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物やアルデヒド類を目的とする場合には、反応温度を65℃未満とすることが好ましく、ケトン類やカルボン酸類を目的とする場合には、反応温度を65℃以上とすることが好ましい。   If the reaction temperature is too low, the reaction hardly proceeds, and if the reaction temperature is too high, a side reaction such as polymerization of the raw material olefins may proceed. Therefore, a practical reaction temperature is 0 to 200 ° C. Range. When the reaction temperature is low, β-hydroxyhydroperoxide compounds and aldehydes are easily generated, and as the reaction temperature is increased, carboxylic acids and ketones are easily generated. Therefore, when the purpose is a β-hydroxyhydroperoxide compound or an aldehyde, the reaction temperature is preferably lower than 65 ° C., and when the purpose is a ketone or a carboxylic acid, the reaction temperature is 65 ° C. or higher. It is preferable that

反応の進行と共に、カルボニル化合物が生成するが、かかる反応の進行も前記と同様、例えばガスクロマトグラフィ等の通常の分析手段により確認することができる。   A carbonyl compound is generated with the progress of the reaction, and the progress of the reaction can be confirmed by ordinary analysis means such as gas chromatography in the same manner as described above.

反応終了後、反応液をそのままもしくは必要に応じて残存する過酸化水素を、例えば亜硫酸ナトリウム等の還元剤で分解した後、濃縮処理、晶析処理等することにより、カルボニル化合物を取り出すことができる。また、反応液に、必要に応じて水および/または水に不溶の有機溶媒を加え、抽出処理し、得られる有機層を濃縮処理することにより、カルボニル化合物を取り出すこともできる。取り出したカルボニル化合物は、例えば蒸留、カラムクロマトグラフィ、再結晶等の通常の精製方法によりさらに精製してもよい。   After completion of the reaction, the carbonyl compound can be taken out by leaving the reaction solution as it is or, if necessary, decomposing the remaining hydrogen peroxide with a reducing agent such as sodium sulfite, and then performing a concentration treatment, a crystallization treatment, and the like. . In addition, a carbonyl compound can also be obtained by adding water and / or an organic solvent insoluble in water to the reaction solution, if necessary, performing an extraction treatment, and concentrating the obtained organic layer. The removed carbonyl compound may be further purified by a usual purification method such as distillation, column chromatography, recrystallization and the like.

かくして得られるβ−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物としては、例えば1−ヒドロキシ−2−ヒドロペルオキシヘキサン、2−ヒドロキシ−1−ヒドロペルオキシヘキサン、1−ヒドロキシ−2−ヒドロペルオキシヘプタン、2−ヒドロキシ−1−ヒドロペルオキシヘプタン、1−ヒドロキシ−2−ヒドロペルオキシオクタン、2−ヒドロキシ−1−ヒドロペルオキシオクタン、1−ヒドロキシ−2−ヒドロペルオキシドデカン、2−ヒドロキシ−1−ヒドロペルオキシドデカン、1−ヒドロキシ−2−フェニル−2−ヒドロペルオキシエタン、1−ヒドロキシ−2−(4−メチルフェニル)−2−ヒドロペルオキシエタン、1−ヒドロキシ−2−ヒドロペルオキシ−3−フェニルプロパン、2−ヒドロキシ−1−ヒドロペルオキシ−3−フェニルプロパン、1−ヒドロキシ−2−ヒドロペルオキシ−3−(4−メトキシフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−1−ヒドロペルオキシ−3−(4−メトキシフェニル)プロパン等が挙げられる。   Examples of the β-hydroxyhydroperoxide compound thus obtained include, for example, 1-hydroxy-2-hydroperoxyhexane, 2-hydroxy-1-hydroperoxyhexane, 1-hydroxy-2-hydroperoxyheptane, 2-hydroxy-1-hydroxy Peroxyheptane, 1-hydroxy-2-hydroperoxyoctane, 2-hydroxy-1-hydroperoxyoctane, 1-hydroxy-2-hydroperoxidedecane, 2-hydroxy-1-hydroperoxidedecane, 1-hydroxy-2-phenyl -2-hydroperoxyethane, 1-hydroxy-2- (4-methylphenyl) -2-hydroperoxyethane, 1-hydroxy-2-hydroperoxy-3-phenylpropane, 2-hydroxy-1-hydroperoxy- - phenyl propane, 1-hydroxy-2-hydroperoxy-3- (4-methoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-1-hydroperoxy-3- (4-methoxyphenyl) propane.

かくして得られるカルボニル化合物としては、例えばホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、ペンチルアルデヒド、ヘキシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒド、デシルアルデヒド、ウンデカニルアルデヒド、ベンズアルデヒド、5−オキソヘキシルアルデヒド、2−メチル−5−オキソヘキシルアルデヒド、4−メチル−5−オキソヘキシルアルデヒド、3−メチル−5−オキソヘキシルアルデヒド、2,4−ジメチル−5−オキソヘキシルアルデヒド、3,4−ジメチル−5−オキソヘキシルアルデヒド、2,3−ジメチル−5−オキソヘキシルアルデヒド、2,3,4−トリメチル−5−オキソヘキシルアルデヒド、6−オキソヘプチルアルデヒド、2−メチル−6−オキソヘプチルアルデヒド、4−メチル−6−オキソヘプチルアルデヒド、2,4−ジメチル−6−オキソヘプチルアルデヒド、2,3−ジメチル−6−オキソヘプチルアルデヒド、3,4−ジメチル−6−オキソヘプチルアルデヒド、2,3,4−トリメチル−6−オキソヘプチルアルデヒド、グルタルアルデヒド、アジポアルデヒド、ヘプタンジアルデヒド、オクタンジアルデヒド、2−クロログルタルアルデヒド、2−メチルグルタルアルデヒド、3−メチルグルタルアルデヒド、2,3−ジメチルグルタルアルデヒド等のアルデヒド類;   Examples of the carbonyl compound thus obtained include, for example, formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, pentylaldehyde, hexylaldehyde, heptylaldehyde, decylaldehyde, undecanylaldehyde, benzaldehyde, 5-oxohexylaldehyde, 2-methyl-5- Oxohexylaldehyde, 4-methyl-5-oxohexylaldehyde, 3-methyl-5-oxohexylaldehyde, 2,4-dimethyl-5-oxohexylaldehyde, 3,4-dimethyl-5-oxohexylaldehyde, 2, 3-dimethyl-5-oxohexylaldehyde, 2,3,4-trimethyl-5-oxohexylaldehyde, 6-oxoheptylaldehyde, 2-methyl-6-oxoheptylaldehyde , 4-methyl-6-oxoheptylaldehyde, 2,4-dimethyl-6-oxoheptylaldehyde, 2,3-dimethyl-6-oxoheptylaldehyde, 3,4-dimethyl-6-oxoheptylaldehyde, 2,3 , 4-Trimethyl-6-oxoheptylaldehyde, glutaraldehyde, adipaldehyde, heptanedialdehyde, octanedialdehyde, 2-chloroglutaraldehyde, 2-methylglutaraldehyde, 3-methylglutaraldehyde, 2,3-dimethylglutar Aldehydes such as aldehydes;

例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、2−ペンタノン、4,4−ジメチルペンタン−2−オン、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、アセトフェノン、シクロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ベンゾフェノン、ノピノン、1,3,3−トリメチルインドリノン、2,6−ヘプタンジオン、2,7−オクタンジオン、1,6−シクロデカンジオン、4−アセトキシアセトフェノン、2−メトキシ−6−(プロパン−2−オン)アセトフェノン、2−エトキシカルボニル−3−メチルシクロペンタノン、ベンゾフェノン等のケトン類; For example, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, 2-pentanone, 4,4-dimethylpentan-2-one, diethyl ketone, methyl propyl ketone, acetophenone, cyclobutanone, cyclopentanone, cyclohexanone, benzophenone, nopinone, 1,3,3- Trimethylindolinone, 2,6-heptanedione, 2,7-octanedione, 1,6-cyclodecanedione, 4-acetoxyacetophenone, 2-methoxy-6- (propan-2-one) acetophenone, 2-ethoxycarbonyl Ketones such as -3-methylcyclopentanone and benzophenone;

例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、安息香酸、4−メチル安息香酸、フェニル酢酸、(4−メトキシフェニル)酢酸、クロロ酢酸、エトキシ酢酸、ベンジルオキシ酢酸、3,3−ジメチル−2−メトキシカルボニルシクロプロパンカルボン酸、3,3−ジメチル−2−エトキシカルボニルシクロプロパンカルボン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、2−メチルグルタル酸、3−メチルグルタル酸、3−クロログルタル酸、2,3−ジメチルグルタル酸、2,4−ジメチルグルタル酸、2−メチルアジピン酸、3−メチルアジピン酸、2,3−ジメチルアジピン酸、2,4−ジメチルアジピン酸、3,4−ジメチルアジピン酸、2,3,4−トリメチルグルタル酸、シクロペンタン−1,3−ジカルボン酸、ビフェニル−2,2’−ジカルボン酸、ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸、1−(カルボキシメチル)シクロペンタン−2,3,4−トリカルボン酸、ホモフタル酸、シクロペンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸等のカルボン酸類;などが挙げられる。 For example, formic acid, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, pentanoic acid, hexanoic acid, heptanoic acid, benzoic acid, 4-methylbenzoic acid, phenylacetic acid, (4-methoxyphenyl) acetic acid, chloroacetic acid, ethoxyacetic acid, benzyloxyacetic acid, 3,3-dimethyl-2-methoxycarbonylcyclopropanecarboxylic acid, 3,3-dimethyl-2-ethoxycarbonylcyclopropanecarboxylic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, 2-methylglutaric acid, 3- Methylglutaric acid, 3-chloroglutaric acid, 2,3-dimethylglutaric acid, 2,4-dimethylglutaric acid, 2-methyladipic acid, 3-methyladipic acid, 2,3-dimethyladipic acid, 2,4- Dimethyl adipic acid, 3,4-dimethyl adipic acid, 2,3,4-trimethyl glutaric acid, Pentane-1,3-dicarboxylic acid, biphenyl-2,2′-dicarboxylic acid, butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid, 1- (carboxymethyl) cyclopentane-2,3,4-tricarboxylic acid And carboxylic acids such as homophthalic acid and cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid.

次に、金属錯体を触媒とし、第一級または第二級アルコール類と過酸化水素とを反応させて、カルボニル化合物を製造する方法について説明する。   Next, a method for producing a carbonyl compound by reacting a primary or secondary alcohol with hydrogen peroxide using a metal complex as a catalyst will be described.

第一級または第二級アルコール類としては、その分子内に酸化を受ける水酸基を少なくとも一つ有する化合物であればよい。ここで、酸化を受ける水酸基とは、その結合炭素原子が少なくとも一つの水素原子と結合しているものをいう。水酸基の結合炭素原子と結合する、水素原子以外の置換基としては、例えばアルキル基、アリール基、アラルキル基、シリル基等が挙げられる。   The primary or secondary alcohol may be any compound having at least one hydroxyl group that is oxidized in its molecule. Here, the hydroxyl group to be oxidized refers to a group in which the bonding carbon atom is bonded to at least one hydrogen atom. Examples of the substituent other than the hydrogen atom bonded to the bonding carbon atom of the hydroxyl group include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, and a silyl group.

アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、イソオクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の直鎖状、分枝鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。かかるアルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基等のアルコキシ基;例えばトリメチルシリル基等のシリル基;例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;などが挙げられる。かかる置換基で置換されたアルキル基としては、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、トリメチルシリルメチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、トリフルオロメチル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, n-hexyl, and n-hexyl. Examples include a linear, branched or cyclic alkyl group such as an octyl group, an isooctyl group, an n-nonyl group, an n-decyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Such an alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group and an n-butoxy group; and a silyl group such as a trimethylsilyl group. Groups; for example, halogen atoms such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom; and the like. Examples of the alkyl group substituted with such a substituent include a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a methoxyethyl group, a trimethylsilylmethyl group, a fluoromethyl group, a chloromethyl group, a bromomethyl group, and a trifluoromethyl group.

アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、かかるアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば前記アルキル基;例えば前記アルコキシ基;例えば前記シリル基;例えば前記ハロゲン原子;例えばアセチル基、プロピオニル基等のアシル基;などが挙げられる。かかる置換基で置換されたアリール基としては、例えば2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、2−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−アセチルフェニル基等が挙げられる。   Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. The aryl group may have a substituent. Examples of the substituent include the alkyl group; the alkoxy group; the silyl group; For example, the aforementioned halogen atom; for example, an acyl group such as an acetyl group and a propionyl group; Examples of the aryl group substituted with such a substituent include a 2-fluorophenyl group, a 3-fluorophenyl group, a 4-fluorophenyl group, a 2-chlorophenyl group, a 3-chlorophenyl group, a 4-chlorophenyl group, and a 2-bromophenyl Group, 2-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 4-acetylphenyl group and the like.

置換されていてもよいアラルキル基としては、前記置換されていてもよいアルキル基と前記置換されていてもよいアリール基とから構成されるものが挙げられ、例えばベンジル基、フェニルエチル基、4−フルオロベンジル基、4−メトキシベンジル基、2−クロロベンジル基等が挙げられる。   Examples of the aralkyl group which may be substituted include those composed of the alkyl group which may be substituted and the aryl group which may be substituted, for example, a benzyl group, a phenylethyl group, and a 4-phenyl group. Examples thereof include a fluorobenzyl group, a 4-methoxybenzyl group, and a 2-chlorobenzyl group.

シリル基としては、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、メチルジフェニルシリル基等のトリアルキルシリル基等が挙げられる。   Examples of the silyl group include a trialkylsilyl group such as a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a dimethylphenylsilyl group, and a methyldiphenylsilyl group.

かかる第一級アルコール類としては、例えばエタノール、1−プロパノール、1−ブタノール、1−ペンタノール、1−ヘキサノール、1−ヘプタノール、1−オクタノール、1−ノナノール、1−デカノール、2−メチル−1−ヘキサノール、4−メチル−1−ヘキサノール、2,2−ジメチル−1−プロパノール、1,6−ヘキサンジオール、ベンジルアルコール、2−フルオロベンジルアルコール、3−フルオロベンジルアルコール、4−フルオロベンジルアルコール、2−クロロベンジルアルコール、3−クロロベンジルアルコール、4−クロロベンジルアルコール、2−ブロモベンジルアルコール、3−ブロモベンジルアルコール、4−ブロモベンジルアルコール、2−メチルベンジルアルコール、3−メチルベンジルアルコール、4−メチルベンジルアルコール、4−メトキシベンジルアルコール、2−フェニルエタノール、2−(2−フルオロフェニル)エタノール、2−(3−フルオロフェニル)エタノール、2−(4−フルオロフェニル)エタノール、2−(2−クロロフェニル)エタノール、2−(2−ブロモフェニル)エタノール、2−(4−メトキシフェニル)エタノール、2−(4−アセチルフェニル)エタノール等が挙げられ、   Examples of such primary alcohols include ethanol, 1-propanol, 1-butanol, 1-pentanol, 1-hexanol, 1-heptanol, 1-octanol, 1-nonanol, 1-decanol, and 2-methyl-1. -Hexanol, 4-methyl-1-hexanol, 2,2-dimethyl-1-propanol, 1,6-hexanediol, benzyl alcohol, 2-fluorobenzyl alcohol, 3-fluorobenzyl alcohol, 4-fluorobenzyl alcohol, -Chlorobenzyl alcohol, 3-chlorobenzyl alcohol, 4-chlorobenzyl alcohol, 2-bromobenzyl alcohol, 3-bromobenzyl alcohol, 4-bromobenzyl alcohol, 2-methylbenzyl alcohol, 3-methylbenzyl alcohol 4-methylbenzyl alcohol, 4-methoxybenzyl alcohol, 2-phenylethanol, 2- (2-fluorophenyl) ethanol, 2- (3-fluorophenyl) ethanol, 2- (4-fluorophenyl) ethanol, 2- ( 2-chlorophenyl) ethanol, 2- (2-bromophenyl) ethanol, 2- (4-methoxyphenyl) ethanol, 2- (4-acetylphenyl) ethanol, and the like,

第二級アルコール類としては、例えば2−プロパノール、2−ブタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−ヘキサノール、3−ヘキサノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、4−ヘプタノール、2−オクタノール、3−オクタノール、4−オクタノール、2−ノナノール、3−ノナノール、4−ノナノール、5−ノナノール、2−デカノール、3−デカノール、4−デカノール、5−デカノール、シクロブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、シクロヘプタノール、シクロオクタノール、シクロドデカノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール、2−tert−ブチルシクロヘキサノール、3−tert−ブチルシクロヘキサノール、4−tert−ブチルシクロヘキサノール、1−フェニルエタノール、1−(2−フルオロフェニル)エタノール、1−(3−フルオロフェニル)エタノール、1−(4−フルオロフェニル)エタノール、1−(2−クロロフェニル)エタノール、1−(2−ブロモフェニル)エタノール、1−(4−メトキシフェニル)エタノール、1−(4−アセチルフェニル)エタノール、α―トリメチルシリルベンジルアルコール等が挙げられる。 Examples of the secondary alcohols include 2-propanol, 2-butanol, 2-pentanol, 3-pentanol, 2-hexanol, 3-hexanol, 2-heptanol, 3-heptanol, 4-heptanol, and 2-octanol. , 3-octanol, 4-octanol, 2-nonanol, 3-nonanol, 4-nonanol, 5-nonanol, 2-decanol, 3-decanol, 4-decanol, 5-decanol, cyclobutanol, cyclopentanol, cyclohexanol , Cycloheptanol, cyclooctanol, cyclododecanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, 2-tert-butylcyclohexanol, 3-tert-butylcyclohexanol, tert-butylcyclohexanol, 1-phenylethanol, 1- (2-fluorophenyl) ethanol, 1- (3-fluorophenyl) ethanol, 1- (4-fluorophenyl) ethanol, 1- (2-chlorophenyl) ethanol, Examples thereof include 1- (2-bromophenyl) ethanol, 1- (4-methoxyphenyl) ethanol, 1- (4-acetylphenyl) ethanol, α-trimethylsilylbenzyl alcohol and the like.

第一級アルコール類を用いた場合には、生成物としてアルデヒド類および/またはカルボン酸類が得られる。例えば、第一級アルコール類として1−ブタノールを用いた場合には、ブチルアルデヒドおよび/またはブタン酸が得られる。   When primary alcohols are used, aldehydes and / or carboxylic acids are obtained as products. For example, when 1-butanol is used as a primary alcohol, butyraldehyde and / or butanoic acid are obtained.

第二級アルコール類を用いた場合には、生成物としてケトン類が得られる。例えば、第二級アルコール類として1−フェニルエタノールを用いた場合は、アセトフェノンが得られる。   When secondary alcohols are used, ketones are obtained as products. For example, when 1-phenylethanol is used as the secondary alcohol, acetophenone is obtained.

過酸化水素も、前記と同様に、通常、水溶液を用いるが、有機溶媒溶液を用いてもよく、その使用量は、用いる第一級または第二級アルコール類および目的とするカルボニル化合物によって、以下のとおり設定すればよい。   Hydrogen peroxide is also usually used in the same manner as described above, but an aqueous solution may be used, and the amount of the organic solvent used may vary depending on the primary or secondary alcohols and the carbonyl compound to be used. It should just be set as follows.

第一級アルコール類を用いて、アルデヒド類を目的とする場合には、過酸化水素は、通常、用いる第一級アルコール類に対して0.9モル倍〜1.5モル倍である。第一級アルコール類を用いて、カルボン酸類を目的とする場合には、過酸化水素は通常、用いる第一級アルコール類に対して1.5モル倍以上であり、その使用量の上限は特にないが、経済的な面も考慮すると、実用的には、第一級アルコール類に対して10モル倍以下程度である。   When primary alcohols are used for aldehydes, the amount of hydrogen peroxide is usually 0.9 to 1.5 moles per mole of the primary alcohols used. When primary alcohols are used and carboxylic acids are intended, hydrogen peroxide is usually at least 1.5 mole times the primary alcohols used, and the upper limit of the amount used is particularly high. However, considering the economical aspect, practically, it is about 10 mole times or less of primary alcohols.

第二級アルコール類を用いて、ケトン類を目的とする場合には、過酸化水素は、通常、用いる第二級アルコール類に対して0.9モル倍以上であり、その使用量の上限は特にないが、経済的な面も考慮すると、実用的には、第二級アルコール類に対して10モル倍以下程度である。   When secondary alcohols are used and ketones are intended, hydrogen peroxide is usually 0.9 mole times or more of the secondary alcohols used, and the upper limit of the amount used is Although there is no particular limitation, considering the economical aspect, practically, it is about 10 mol times or less of the secondary alcohols.

金属錯体の使用量は、金属として、第一級または第二級アルコール類に対して、通常0.001〜0.95モル倍、好ましくは0.005〜0.1モル倍程度である。   The amount of the metal complex used is usually about 0.001 to 0.95 mole times, and preferably about 0.005 to 0.1 mole times, relative to the primary or secondary alcohols as a metal.

反応は、無溶媒で行ってもよいし、水溶媒中もしくは有機溶媒中で行ってもよい。有機溶媒としては、エポキシド類の製造に用いる溶媒として例示したものと同様のものが挙げられる。   The reaction may be performed without a solvent, or may be performed in an aqueous solvent or an organic solvent. Examples of the organic solvent include the same ones as those exemplified as the solvent used in the production of epoxides.

本反応は、金属錯体、第一級または第二級アルコール類と過酸化水素とを、接触させることにより実施され、その混合順は得に限定されない。   This reaction is carried out by bringing a metal complex, a primary or secondary alcohol into contact with hydrogen peroxide, and the mixing order is not particularly limited.

反応温度があまり低過ぎると、反応が進行しにくく、また反応温度があまり高過ぎると、原料である第一級または第二級アルコール類の脱水等副反応が進行する恐れがあるため、実用的な反応温度は、0〜200℃程度の範囲である。   If the reaction temperature is too low, the reaction hardly proceeds, and if the reaction temperature is too high, there is a possibility that side reactions such as dehydration of the primary or secondary alcohols as raw materials may proceed, so that the reaction is practical. The reaction temperature is in the range of about 0 to 200 ° C.

反応の進行と共に、カルボニル化合物が生成するが、かかる反応の進行も前記と同様、例えばガスクロマトグラフィ等の通常の分析手段により確認することができる。   A carbonyl compound is generated with the progress of the reaction, and the progress of the reaction can be confirmed by ordinary analysis means such as gas chromatography in the same manner as described above.

反応終了後、反応液をそのままもしくは必要に応じて残存する過酸化水素を、例えば亜硫酸ナトリウム等の還元剤で分解した後、濃縮処理、晶析処理等することにより、カルボニル化合物を取り出すことができる。また、反応液に、必要に応じて水および/または水に不溶の有機溶媒を加え、抽出処理し、得られる有機層を濃縮処理することにより、カルボニル化合物を取り出すこともできる。取り出したカルボニル化合物は、例えば蒸留、カラムクロマトグラフィ、再結晶等の通常の精製方法によりさらに精製してもよい。   After completion of the reaction, the carbonyl compound can be taken out by leaving the reaction solution as it is or, if necessary, decomposing the remaining hydrogen peroxide with a reducing agent such as sodium sulfite, and then performing a concentration treatment, a crystallization treatment, and the like. . In addition, a carbonyl compound can also be obtained by adding water and / or an organic solvent insoluble in water to the reaction solution, if necessary, performing an extraction treatment, and concentrating the obtained organic layer. The removed carbonyl compound may be further purified by a usual purification method such as distillation, column chromatography, recrystallization and the like.

かくして得られるカルボニル化合物としては、例えばアセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、ペンチルアルデヒド、ヘキシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒド、オクチルアルデヒド、ノニルアルデヒド、デシルアルデヒド、2−メチル−1−ヘキシルアルデヒド、4−メチル−1−ヘキシルアルデヒド、2,2−ジメチル−1−プロピオンアルデヒド、アジポアルデヒド、ベンズアルデヒド、2−フルオロベンズアルデヒド、3−フルオロベンズアルデヒド、4−フルオロベンズアルデヒド、2−クロロベンズアルデヒド、3−クロロベンズアルデヒド、4−クロロベンズアルデヒド、2−ブロモベンズアルデヒド、3−ブロモベンズアルデヒド、4−ブロモベンズアルデヒド、2−メチルベンズアルデヒド、3−メチルベンズアルデヒド、4−メチルベンズアルデヒド、4−メトキシベンズアルデヒド、2−フェニルアセトアルデヒド、2−(2−フルオロフェニル)アセトアルデヒド、2−(3−フルオロフェニル)アセトアルデヒド、2−(4−フルオロフェニル)アセトアルデヒド、2−(2−クロロフェニル)アセトアルデヒド、2−(2−ブロモフェニル)アセトアルデヒド、2−(4−メトキシフェニル)アセトアルデヒド、2−(4−アセチルフェニル)アセトアルデヒド等のアルデヒド類;   Examples of the carbonyl compound thus obtained include, for example, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, pentylaldehyde, hexylaldehyde, heptylaldehyde, octylaldehyde, nonylaldehyde, decylaldehyde, 2-methyl-1-hexylaldehyde, 4-methyl-1- Hexylaldehyde, 2,2-dimethyl-1-propionaldehyde, adipaldehyde, benzaldehyde, 2-fluorobenzaldehyde, 3-fluorobenzaldehyde, 4-fluorobenzaldehyde, 2-chlorobenzaldehyde, 3-chlorobenzaldehyde, 4-chlorobenzaldehyde, 2-bromobenzaldehyde, 3-bromobenzaldehyde, 4-bromobenzaldehyde, 2-methylbenzaldehyde, Rubenzaldehyde, 4-methylbenzaldehyde, 4-methoxybenzaldehyde, 2-phenylacetaldehyde, 2- (2-fluorophenyl) acetaldehyde, 2- (3-fluorophenyl) acetaldehyde, 2- (4-fluorophenyl) acetaldehyde, 2- Aldehydes such as (2-chlorophenyl) acetaldehyde, 2- (2-bromophenyl) acetaldehyde, 2- (4-methoxyphenyl) acetaldehyde, and 2- (4-acetylphenyl) acetaldehyde;

例えば酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、2−メチル−1−ヘキサン酸、4−メチル−1−ヘキサン酸、2,2−ジメチル−1−プロピオン酸、アジピン酸、安息香酸、2−フルオロ安息香酸、3−フルオロ安息香酸、4−フルオロ安息香酸、2−クロロ安息香酸、3−クロロ安息香酸、4−クロロ安息香酸、2−ブロモ安息香酸、3−ブロモ安息香酸、4−ブロモ安息香酸、2−メチル安息香酸、3−メチル安息香酸、4−メチル安息香酸、4−メトキシ安息香酸、フェニル酢酸、(2−フルオロフェニル)酢酸、(3−フルオロフェニル)酢酸、(4−フルオロフェニル)酢酸、(2−クロロフェニル)酢酸、(2−ブロモフェニル)酢酸、(4−メトキシフェニル)酢酸、(4−アセチルフェニル)酢酸等のカルボン酸類; For example, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, pentanoic acid, hexanoic acid, heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, decanoic acid, 2-methyl-1-hexanoic acid, 4-methyl-1-hexanoic acid, 2,2-dimethyl -1-propionic acid, adipic acid, benzoic acid, 2-fluorobenzoic acid, 3-fluorobenzoic acid, 4-fluorobenzoic acid, 2-chlorobenzoic acid, 3-chlorobenzoic acid, 4-chlorobenzoic acid, 2- Bromobenzoic acid, 3-bromobenzoic acid, 4-bromobenzoic acid, 2-methylbenzoic acid, 3-methylbenzoic acid, 4-methylbenzoic acid, 4-methoxybenzoic acid, phenylacetic acid, (2-fluorophenyl) acetic acid , (3-fluorophenyl) acetic acid, (4-fluorophenyl) acetic acid, (2-chlorophenyl) acetic acid, (2-bromophenyl) acetic acid, (4-methoxyphenyl) acetic acid ) Acetic acid, (4-acetylphenyl) carboxylic acids such as acetic acid;

例えばアセトン、2−ブタノン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、3−ヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−オクタノン、3−オクタノン、4−オクタノン、2−ノナノン、3−ノナノン、4−ノナノン、5−ノナノン、2−デカノン、3−デカノン、4−デカノン、5−デカノン、シクロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、シクロドデカノン、2−メチルシクロヘキサノン、3−メチルシクロヘキサノン、4−メチルシクロヘキサノン、2−tert−ブチルシクロヘキサノン、3−tert−ブチルシクロヘキサノン、4−tert−ブチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、o−フルオロアセトフェノン、m−フルオロアセトフェノン、p−フルオロアセトフェノン、o−クロロアセトフェノン、o−ブロモアセトフェノン、o−メトキシアセトフェノン、p−メトキシアセトフェノン、p−アセチルアセトフェノン、ベンゾイルトリメチルシラン等のケトン類;などが挙げられる。 For example, acetone, 2-butanone, 2-pentanone, 3-pentanone, 2-hexanone, 3-hexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone, 2-octanone, 3-octanone, 4-octanone, 2-nonanone , 3-nonanone, 4-nonanone, 5-nonanone, 2-decanone, 3-decanone, 4-decanone, 5-decanone, cyclobutanone, cyclopentanone, cyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, cyclododecanone, 2 -Methylcyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, 2-tert-butylcyclohexanone, 3-tert-butylcyclohexanone, 4-tert-butylcyclohexanone, acetophenone, o-fluoroacetophenone, m-fluoroacetone Phenone, p- fluoro acetophenone, o- chloroacetophenone, o- bromoacetophenone, o- methoxyacetophenone, p- methoxyacetophenone, p- acetyl acetophenone, ketones such as benzoyl trimethylsilane; and the like.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、分析にはガスクロマトグラフィを用いた。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, gas chromatography was used for the analysis.

実施例1
還流冷却管を付した50mLナス型フラスコに、室温で、タングステン金属粉末0.92gおよび30重量%過酸化水素水3.96gを仕込み、15分攪拌、保持し、無色透明均一溶液を得た。該溶液に、リン酸0.49gを加え、室温で2時間攪拌、保持し、トリ(n−ドデシル)アミン2.92gとジクロロメタン8mLを加え、室温で4時間攪拌、保持した。その後、分液処理し、得られた有機層を濃縮処理して、黄色ワックス状固体のタングステン錯体4.02gを得た。収率97%(タングステン金属基準)。
Example 1
At room temperature, 0.92 g of tungsten metal powder and 3.96 g of a 30% by weight aqueous hydrogen peroxide solution were charged into a 50 mL eggplant-shaped flask equipped with a reflux condenser, stirred and maintained for 15 minutes to obtain a colorless and transparent homogeneous solution. 0.49 g of phosphoric acid was added to the solution, and the mixture was stirred and maintained at room temperature for 2 hours. Then, 2.92 g of tri (n-dodecyl) amine and 8 mL of dichloromethane were added, and the mixture was stirred and maintained at room temperature for 4 hours. Thereafter, a liquid separation treatment was performed, and the obtained organic layer was concentrated to obtain 4.02 g of a tungsten complex as a yellow waxy solid. Yield 97% (based on tungsten metal).

H−NMR(溶媒:CDCl,TMS基準,単位:ppm)
δ0.88(t,9H,J=7.0Hz),1.25−1.30(m,54H),
1.73(br,6H),3.59(br,6H)
13C−NMR(溶媒:CDCl,TMS基準,単位:ppm)
δ14.1,22.7,22.9,26.1,29.4,29.7,31.9,63.6
IR(neat,単位:cm−1
2956,2921,2871,2853,1546,1466,1403,1378,1315,1262,1072,1035,941,888,848,767,751,721,678,644
元素分析値: C:54.4、H:9.8、N:1.6、P:0.95
1 H-NMR (solvent: CDCl 3 , TMS standard, unit: ppm)
δ 0.88 (t, 9H, J = 7.0 Hz), 1.25-1.30 (m, 54H),
1.73 (br, 6H), 3.59 (br, 6H)
13 C-NMR (solvent: CDCl 3 , TMS standard, unit: ppm)
δ 14.1, 2.7, 22.9, 26.1, 99.4, 29.7, 31.9, 63.6
IR (neat, unit: cm -1 )
2956, 2921, 281, 2753, 1546, 1466, 1403, 1378, 1315, 1262, 1072, 1035, 941, 888, 848, 767, 751, 721, 678, 644
Elemental analysis: C: 54.4, H: 9.8, N: 1.6, P: 0.95

実施例2
還流冷却管を付した50mLナス型フラスコに、室温で、タングステン金属粉末0.88gと水4gおよび30重量%過酸化水素水3.96gを仕込み、15分攪拌、保持し、無色透明均一溶液を得た。該溶液に、リン酸0.56gを加え、室温で2時間攪拌、保持し、トリ(n−ドデシル)アミンN−オキシド2.88gとジクロロメタン10mLを加え、室温で4時間攪拌、保持した。その後、分液処理し、得られた有機層を濃縮処理して、黄色ワックス状固体のタングステン錯体4.00gを得た。収率100%(タングステン金属基準)。
Example 2
At room temperature, 0.88 g of tungsten metal powder, 4 g of water, and 3.96 g of 30% by weight hydrogen peroxide solution were charged into a 50 mL eggplant-shaped flask equipped with a reflux condenser, stirred and maintained for 15 minutes, and a colorless transparent homogeneous solution was obtained. Obtained. 0.56 g of phosphoric acid was added to the solution, stirred and maintained at room temperature for 2 hours, 2.88 g of tri (n-dodecyl) amine N-oxide and 10 mL of dichloromethane were added, and the mixture was stirred and maintained at room temperature for 4 hours. Thereafter, a liquid separation treatment was performed, and the obtained organic layer was concentrated to obtain 4.00 g of a tungsten complex as a yellow waxy solid. Yield 100% (based on tungsten metal).

H−NMR(溶媒:CDCl3,TMS基準,単位:ppm)
δ0.88(t,9H,J=7.0Hz),1.25−1.30(m,54H),
1.73(br,6H),3.59(br,6H)
13C−NMR(溶媒:CDCl,TMS基準,単位:ppm)
δ14.1,22.7,22.9,26.1,29.4,29.7,31.9,63.6
IR(neat,単位:cm−1
2956,2921,2871,2853,1466,1378,1078,1036,944,888,848,772,721,678
元素分析値: C:54.4、H:9.7、N:1.7、P:1.41
1 H-NMR (solvent: CDCl3, based on TMS, unit: ppm)
δ 0.88 (t, 9H, J = 7.0 Hz), 1.25-1.30 (m, 54H),
1.73 (br, 6H), 3.59 (br, 6H)
13 C-NMR (solvent: CDCl 3 , TMS standard, unit: ppm)
δ 14.1, 2.7, 22.9, 26.1, 99.4, 29.7, 31.9, 63.6
IR (neat, unit: cm -1 )
2956,2921,2871,2853,1466,1378,1078,1036,944,888,848,772,721,678
Elemental analysis: C: 54.4, H: 9.7, N: 1.7, P: 1.41

実施例3
還流冷却管を付した50mLナス型フラスコに、室温で、タングステン金属粉末0.92g、水4gおよび30重量%過酸化水素水3.96gを仕込み、15分攪拌、保持し、無色透明均一溶液を得た。該溶液に、リン酸0.58gを加え、室温で2時間攪拌、保持し、トリ(n−オクチル)アミン1.77gとジエチルエーテル10mLを加え、室温で4時間攪拌、保持した。その後、分液処理し、得られた有機層を濃縮処理して、黄色ワックス状固体のタングステン錯体3.20gを得た。収率99%(タングステン金属基準)。
Example 3
At room temperature, 0.92 g of tungsten metal powder, 4 g of water and 3.96 g of 30% by weight hydrogen peroxide solution were charged into a 50 mL eggplant-shaped flask equipped with a reflux condenser, stirred and held for 15 minutes, and a colorless and transparent homogeneous solution was obtained. Obtained. 0.58 g of phosphoric acid was added to the solution, stirred and maintained at room temperature for 2 hours, and 1.77 g of tri (n-octyl) amine and 10 mL of diethyl ether were added, and the mixture was stirred and maintained at room temperature for 4 hours. Thereafter, a liquid separation treatment was performed, and the obtained organic layer was concentrated to obtain 3.20 g of a tungsten complex as a yellow waxy solid. Yield 99% (based on tungsten metal).

H−NMR(溶媒:CDCl,TMS基準,単位:ppm)
δ0.89(t,9H,J=7.0Hz),1.2−1.5(m,30H),
1.72(br,6H),3.10(br,2H),3.57(br,4H),
6.0(br,2H)
13C−NMR(溶媒:CDCl,TMS基準,単位:ppm)
δ14.0,22.6,23.2,26.0,26.6,28.9,29.1,29.2,31.7,52.8,63.9
IR(neat,単位:cm−1
2956,2926,2856,1458,1376,1086,1034,949,
891,845,723,677,647
元素分析値: C:42.3、H:7.9、N:2.0、P:1.82
1 H-NMR (solvent: CDCl 3 , TMS standard, unit: ppm)
δ 0.89 (t, 9H, J = 7.0 Hz), 1.2-1.5 (m, 30H),
1.72 (br, 6H), 3.10 (br, 2H), 3.57 (br, 4H),
6.0 (br, 2H)
13 C-NMR (solvent: CDCl 3 , TMS standard, unit: ppm)
δ 14.0, 22.6, 23.2, 26.0, 26.6, 28.9, 29.1, 29.2, 31.7, 52.8, 63.9
IR (neat, unit: cm -1 )
2956, 2926, 2856, 1458, 1376, 1086, 1034, 949,
891,845,723,677,647
Elemental analysis: C: 42.3, H: 7.9, N: 2.0, P: 1.82

実施例4
還流冷却管を付した100mLシュレンク管に、室温で、前記実施例1で得られたタングステン錯体0.66g、30重量%過酸化水素水9.6g、20重量%水酸化ナトリウム水溶液0.1g、1−オクテン2.2gを含むトルエン溶液(トルエン4mL使用)を仕込み、内温90℃で6時間攪拌、反応させた。反応時のpHは、約3.5であった。反応終了後、室温まで冷却し、分液処理し、1,2−エポキシオクタンを含む有機層を得た。1,2−エポキシオクタンの収率は84%であった(1−オクテン基準)。
Example 4
At room temperature, 0.66 g of the tungsten complex obtained in Example 1, 9.6 g of a 30% by weight hydrogen peroxide solution, 0.1 g of a 20% by weight aqueous sodium hydroxide solution were placed in a 100 mL Schlenk tube equipped with a reflux condenser at room temperature. A toluene solution (using 4 mL of toluene) containing 2.2 g of 1-octene was charged, and stirred and reacted at an internal temperature of 90 ° C. for 6 hours. The pH during the reaction was about 3.5. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature and subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing 1,2-epoxyoctane. The yield of 1,2-epoxyoctane was 84% (based on 1-octene).

実施例5
還流冷却管を付した100mLシュレンク管に、室温で、前記実施例1で得られたタングステン錯体0.66g、30重量%過酸化水素水9.6gおよび1−オクテン2.2gを含むトルエン溶液(トルエン4mL使用)を仕込み、内温90℃で6時間攪拌、反応させた。反応時のpHは、約1.7であった。反応終了後、室温まで冷却し、分液処理し、ヘプタン酸を含む有機層を得た。ヘプタン酸の収率は84%であった(1−オクテン基準)。
Example 5
At room temperature, a toluene solution containing 0.66 g of the tungsten complex obtained in Example 1, 9.6 g of a 30% by weight aqueous hydrogen peroxide solution, and 2.2 g of 1-octene was placed in a 100 mL Schlenk tube equipped with a reflux condenser. (4 mL of toluene was used), and the mixture was stirred and reacted at an internal temperature of 90 ° C. for 6 hours. The pH during the reaction was about 1.7. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature and subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing heptanoic acid. The yield of heptanoic acid was 84% (based on 1-octene).

実施例6
還流冷却管を付した50mLフラスコに、室温で、前記実施例2で得られたタングステン錯体66mg、30重量%過酸化水素水5.7gおよび1−ヘプテン980mgを仕込み、内温90℃で6時間攪拌、反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、ジエチルエーテル10mlを加え、分液処理し、ヘキサン酸を含む有機層を得た。ヘキサン酸の収率は60%であった(1−ヘプテン基準)。1−ヘプテンが35%回収された。
Example 6
A 50 mL flask equipped with a reflux condenser was charged with 66 mg of the tungsten complex obtained in Example 2, 5.7 g of a 30% by weight aqueous hydrogen peroxide solution, and 980 mg of 1-heptene at room temperature for 6 hours at an internal temperature of 90 ° C. The mixture was stirred and reacted. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, 10 ml of diethyl ether was added, and the mixture was subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing hexanoic acid. The yield of hexanoic acid was 60% (based on 1-heptene). 1-Heptene was recovered by 35%.

実施例7
還流冷却管を付した50mLフラスコに、室温で、前記実施例2で得られたタングステン錯体66mg、30重量%過酸化水素水3.4gおよびベンジルアルコール1.08gを仕込み、内温90℃で6時間攪拌、反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、トルエン10mlを加え、分液処理し、安息香酸を含む有機層を得た。安息香酸の収率は94%であった(ベンジルアルコール基準)。
Example 7
A 50 mL flask equipped with a reflux condenser was charged at room temperature with 66 mg of the tungsten complex obtained in Example 2 above, 3.4 g of 30% by weight aqueous hydrogen peroxide, and 1.08 g of benzyl alcohol. The mixture was stirred and reacted for an hour. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, 10 ml of toluene was added, and the mixture was subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing benzoic acid. The yield of benzoic acid was 94% (based on benzyl alcohol).

実施例8
還流冷却管を付した50mLフラスコに、室温で、前記実施例2で得られたタングステン錯体70mg、30重量%過酸化水素水1.37gおよびベンジルアルコール1.31gを仕込み、内温80℃で2時間攪拌、反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、トルエン10mlを加え、分液処理し、ベンズアルデヒドを含む有機層を得た。ベンズアルデヒドの収率は89%であった(ベンジルアルコール基準)。安息香酸が10%副生した。
Example 8
A 50 mL flask equipped with a reflux condenser was charged with 70 mg of the tungsten complex obtained in Example 2, 1.37 g of a 30% by weight aqueous hydrogen peroxide solution, and 1.31 g of benzyl alcohol at room temperature. The mixture was stirred and reacted for an hour. After the completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, 10 ml of toluene was added, and the mixture was subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing benzaldehyde. The yield of benzaldehyde was 89% (based on benzyl alcohol). Benzoic acid was by-produced by 10%.

実施例9
還流冷却管を付した50mLフラスコに、室温で、前記実施例3で得られたタングステン錯体60mg、30重量%過酸化水素水3.4gおよび1−ヘキサノール1.02gを仕込み、内温90℃で6時間攪拌、反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、ジエチルエーテル10mlを加え、分液処理し、ヘキサン酸を含む有機層を得た。ヘキサン酸の収率は89%であった(1−ヘキサノール基準)。
Example 9
A 50 mL flask equipped with a reflux condenser was charged at room temperature with 60 mg of the tungsten complex obtained in Example 3 above, 3.4 g of a 30% by weight aqueous hydrogen peroxide solution, and 1.02 g of 1-hexanol. The mixture was stirred and reacted for 6 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, 10 ml of diethyl ether was added, and the mixture was subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing hexanoic acid. The yield of hexanoic acid was 89% (based on 1-hexanol).

実施例10
還流冷却管を付した50mLフラスコに、室温で、前記実施例3で得られたタングステン錯体60mg、30重量%過酸化水素水3.4gおよび1−フェネチルアルコール1.22gを仕込み、内温90℃で6時間攪拌、反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、トルエン10mlを加え、分液処理し、アセトフェノンを含む有機層を得た。アセトフェノンの収率は99%であった(1−フェネチルアルコール基準)。
Example 10
A 50 mL flask equipped with a reflux condenser was charged at room temperature with 60 mg of the tungsten complex obtained in Example 3 above, 3.4 g of a 30% by weight aqueous hydrogen peroxide solution and 1.22 g of 1-phenethyl alcohol, and an internal temperature of 90 ° C. And reacted for 6 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, 10 ml of toluene was added, and the mixture was subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing acetophenone. The yield of acetophenone was 99% (based on 1-phenethyl alcohol).

実施例11
還流冷却管を付した50mLナス型フラスコに、室温で、タングステン酸二ナトリウム・2水和物1.58g、水4gおよび30重量%過酸化水素水3.96gを仕込み、15分攪拌、保持し、淡黄色透明均一溶液を得た。該溶液に、リン酸1.66gを加え、室温で2時間攪拌、保持し、トリ(n−オクチル)アミン1.77gとジエチルエーテル10mLを加え、室温で4時間攪拌、保持した。その後、分液処理し、得られた有機層を濃縮処理して、黄色ワックス状固体のタングステン錯体2.8gを得た。収率88%(タングステン基準)。
Example 11
In a 50 mL eggplant-shaped flask equipped with a reflux condenser, 1.58 g of disodium tungstate dihydrate, 4 g of water and 3.96 g of 30% by weight aqueous hydrogen peroxide were charged at room temperature, and stirred and held for 15 minutes. Thus, a pale yellow transparent homogeneous solution was obtained. To this solution, 1.66 g of phosphoric acid was added, and the mixture was stirred and maintained at room temperature for 2 hours. Then, 1.77 g of tri (n-octyl) amine and 10 mL of diethyl ether were added, and the mixture was stirred and maintained at room temperature for 4 hours. Thereafter, a liquid separation treatment was performed, and the obtained organic layer was concentrated, thereby obtaining 2.8 g of a tungsten complex as a yellow waxy solid. Yield 88% (based on tungsten).

H−NMR(溶媒:CDCl,TMS基準,単位:ppm)
δ0.89(t,9H,J=7.0Hz),1.2−1.5(m,30H),
1.73(br,6H),3.10(br,2H),3.55(br,4H),
6.0(br,2H)
13C−NMR(溶媒:CDCl,TMS基準,単位:ppm)
δ14.0,22.6,23.2,26.0,26.6,28.9,29.1,29.2,31.7,52.6,63.8
元素分析値: C:45.6、H:8.1、N:2.2、P:1.73
1 H-NMR (solvent: CDCl 3 , TMS standard, unit: ppm)
δ 0.89 (t, 9H, J = 7.0 Hz), 1.2-1.5 (m, 30H),
1.73 (br, 6H), 3.10 (br, 2H), 3.55 (br, 4H),
6.0 (br, 2H)
13 C-NMR (solvent: CDCl 3 , TMS standard, unit: ppm)
δ 14.0, 22.6, 23.2, 26.0, 26.6, 28.9, 29.1, 29.2, 31.7, 52.6, 63.8
Elemental analysis values: C: 45.6, H: 8.1, N: 2.2, P: 1.73

実施例12
還流冷却管を付した50mLフラスコに、室温で、前記実施例11で得られたタングステン錯体60mg、30重量%過酸化水素水3.4gおよびベンジルアルコール1.08gを仕込み、内温90℃で6時間攪拌、反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、トルエン10mlを加え、分液処理し、安息香酸を含む有機層を得た。安息香酸の収率は94%であった(ベンジルアルコール基準)。
Example 12
A 50 mL flask equipped with a reflux condenser was charged at room temperature with 60 mg of the tungsten complex obtained in Example 11 above, 3.4 g of a 30% by weight aqueous hydrogen peroxide solution, and 1.08 g of benzyl alcohol. The mixture was stirred and reacted for an hour. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, 10 ml of toluene was added, and the mixture was subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing benzoic acid. The yield of benzoic acid was 94% (based on benzyl alcohol).

比較例1
実施例1において、リン酸0.49gを用いない以外は実施例1と同様に実施して、ワックス状の淡黄色固体のタングステン錯体4.13gを得た。
IR(neat,単位:cm−1
2956,2922,2853,1550,1466,1378,1045,977,
958,876,815,782,720
Comparative Example 1
The same procedures as in Example 1 were carried out except that 0.49 g of phosphoric acid was not used, to obtain 4.13 g of a waxy pale yellow solid tungsten complex.
IR (neat, unit: cm -1 )
2956, 2922, 2853, 1550, 1466, 1378, 1045, 977,
958,876,815,782,720

Claims (12)

(A)タングステンと第IIIb族、第IVb族、第Vb族または第VIb族元素とからなるタングステン化合物、モリブデンと第IIIb族、第IVb族、第Vb族または第VIb族元素とからなるモリブデン化合物、タングステン金属およびモリブデン金属からなる群から選ばれる少なくとも一種と、
(B)三級アミン類、三級アミンオキシド類、含窒素芳香族化合物および含窒素芳香族化合物N−オキシドからなる群から選ばれる少なくとも一種と、
(C)過酸化水素と、
(D)リン酸類とを接触せしめてなる金属錯体。
(A) Tungsten compound comprising tungsten and a Group IIIb, IVb, Vb or VIb element, molybdenum compound comprising molybdenum and a Group IIIb, IVb, Vb or VIb element And at least one selected from the group consisting of tungsten metal and molybdenum metal;
(B) at least one selected from the group consisting of tertiary amines, tertiary amine oxides, nitrogen-containing aromatic compounds, and nitrogen-containing aromatic compound N-oxides;
(C) hydrogen peroxide;
(D) A metal complex obtained by contacting phosphoric acids.
(A)成分が、タングステンと第IIIb族、第IVb族、第Vb族または第VIb族元素とからなるタングステン化合物およびタングステン金属からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項1に記載の金属錯体。 2. The metal complex according to claim 1, wherein the component (A) is at least one selected from the group consisting of tungsten and tungsten metal comprising tungsten and a group IIIb, IVb, Vb or VIb element and tungsten metal. 3. . 第IIIb族元素が、ホウ素である請求項1に記載の金属錯体。 The metal complex according to claim 1, wherein the Group IIIb element is boron. 第IVb族元素が、炭素である請求項1に記載の金属錯体。 The metal complex according to claim 1, wherein the Group IVb element is carbon. 第Vb族元素が、リンである請求項1に記載の金属錯体。 The metal complex according to claim 1, wherein the group Vb element is phosphorus. 第VIb族元素が、酸素または硫黄である請求項1に記載の金属錯体。 The metal complex according to claim 1, wherein the Group VIb element is oxygen or sulfur. 請求項1記載の金属錯体の存在下に、オレフィン類と過酸化水素とを、pH2以上4以下の範囲で反応させることを特徴とするエポキシド類の製造方法。 An epoxide production method comprising reacting an olefin with hydrogen peroxide in the presence of the metal complex according to claim 1 at a pH of 2 to 4. オレフィン類と過酸化水素とを反応させて、エポキシド類を製造するために用いる請求項1記載の金属錯体からなる触媒。 The catalyst comprising the metal complex according to claim 1, which is used for producing an epoxide by reacting an olefin with hydrogen peroxide. 請求項1記載の金属錯体の存在下に、オレフィン類と過酸化水素とを、pH0以上2未満の範囲で反応させることを特徴とするβ−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物またはカルボニル化合物の製造方法。 A method for producing a β-hydroxyhydroperoxide compound or a carbonyl compound, comprising reacting an olefin with hydrogen peroxide in the presence of the metal complex according to claim 1 in a range of pH 0 to less than 2. オレフィン類と過酸化水素とを反応させて、β−ヒドロキシヒドロペルオキシド化合物またはカルボニル化合物を製造するために用いる請求項1記載の金属錯体からなる触媒。 The catalyst comprising the metal complex according to claim 1, which is used for reacting an olefin with hydrogen peroxide to produce a β-hydroxyhydroperoxide compound or a carbonyl compound. 請求項1記載の金属錯体の存在下に、第一級または第二級アルコール類と過酸化水素とを反応させることを特徴とするカルボニル化合物の製造方法。 A method for producing a carbonyl compound, comprising reacting a primary or secondary alcohol with hydrogen peroxide in the presence of the metal complex according to claim 1. 第一級または第二級アルコール類と過酸化水素とを反応させて、カルボニル化合物を製造するために用いる請求項1記載の金属錯体からなる触媒。 The catalyst comprising the metal complex according to claim 1, which is used for producing a carbonyl compound by reacting a primary or secondary alcohol with hydrogen peroxide.
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