JP2004274172A

JP2004274172A - バルン

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Publication number: JP2004274172A
Application number: JP2003059030A
Authority: JP
Inventors: Teru Muto; 輝武藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2003-03-05
Filing date: 2003-03-05
Publication date: 2004-09-30
Also published as: WO2004079856A1

Abstract

【課題】不平衡線路と平行線路との電磁結合部分における間隔を狭くしてその間の電磁結合度を高め、挿入損を小さくし、小型化し、キャパシタ接続による寄生容量の増加を少なくする。
【解決手段】不平衡側配線膜１４と平衡側配線膜１０を層間絶縁膜１２を介して積層して、その両配線膜１４・１０間の電磁結合を積層方向（バランの厚み方向）に離間させて行うようにする。更に、駆動周波数を調整するキャパシタとして、外付けのコンデンサチップではなく、薄膜技術を駆使してバラン内部に形成したキャパシタ２２ａを用いると良い。また更に、不平衡側配線膜１４と平衡側配線膜１０との層間絶縁膜１２を介して対向する電磁結合部分１６をメアンダ状乃至渦巻き状にすると良い。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、バルン、特に、小型化されたバルンに関する。
【０００２】
【従来の技術】
バランは不平衡伝送系と平衡伝送系との間に設けられて不平衡モードから平衡モードへモード変換をするもので、アンテナが平衡励振し、本来の動作を正常に行うことができるようにするものであり、更には、インピーダンス変換をも行い得る。
参照文献１：電子情報通信学会編「アンテナ工学ハンドブック」株式会社オーム社発行（平成１３年１月２５日第１版第１１刷発行）第２４２頁
参照文献２：「新アンテナ工学」新井宏之著、総合電子出版社発行（２００１月９月１０日第３版）第１３６〜１３８頁
【０００３】
そして、ＧＨｚ（ギガヘルツ）対応のバランとして、多層配線形成技術を駆使して製造したものがあり、図６（Ａ）〜（Ｃ）は配線基板等からなるバランの従来例の一つを示すものであり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）、（Ｃ）は各別の角度で切断した縦断面図である。尚、同図において、Ｘは横方向、Ｙは縦方向、Ｚは垂直方向である。
ａは第１の絶縁層、ｂは該第１の絶縁層ｂ上に形成されたアース配線膜（マイクロストリップライン）で、アース（グランド）ラインを成す。ｃは該アース配線膜ｂ上を含め上記第１の絶縁層ｂ上を覆う第２の絶縁層、ｄは該第２の絶縁層ｃ上を覆う第３の絶縁層、ｅは該第３の絶縁層ｄ及び第２の絶縁層ｃにそれを貫通し上記アース配線膜ｂ表面に接続されるように形成されたスルーホール（或いはビアホール）である。
【０００４】
ｆは上記第３の絶縁層ｄ上に形成された平衡側配線膜（マイクロストリップライン）で、不平衡線路を成す。該不平衡側配線膜ｆは一端が不平衡線路の端子Ｐｏｒｔ１となり、他端乃至その近傍が上記スルーホールｅを介して上記アースラインを成すアース配線膜ｂに電気的に接続されている。ｇは上記第３の絶縁層ｄ上に形成された第３の配線膜（マイクロストリップライン）で、平衡線路を成し、上記不平衡側配線膜と近接して平行に対向する対向部分ｈと、その両端に一体に形成され、該対向部分ｈを第２の端子Ｐｏｒｔ２、第３の端子Ｐｏｒｔ３に導く導出部分ｉ、ｊとにより略ループ状に形成されている。
【０００５】
ｋは駆動周波数調整用のキャパシタで、外付けのコンデンサからなり、上記第３の配線膜ｇの上記導出部分ｉ・ｊ間に接続されており、該キャパシタｋの静電容量を変えることによりバルンの動作周波数を変えることができる。
【０００６】
このようなバルンによれば、不平衡線路の端子Ｐｏｒｔ１から上記不平衡側配線膜ｆに入力された高周波信号は、該配線膜ｆと上記第３の配線膜ｇとの平行に対向する対向部分での電磁結合により、Ｐｏｒｔ２から見たその第３の配線膜ｇにおける電流分布が山となり、Ｐｏｒｔ３から見たその第３の配線膜ｇにおける電流分布が谷となり、位相がＰｏｒｔ２とＰｏｒｔ３とで１８０度異なる、即ち、反転する。それによって平衡モードを不平衡モードにモード変換する作用を、つまり、バランとしての作用をするのである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図６に示すようなバランには、第１に、平衡側配線膜ｆと第３の配線膜ｇとが同一平面上に形成された銅層の配線膜なので、その配線膜ｆ・ｇ間の間隔を狭くすることが制約され、充分に狭くすることが難しいという問題があった。
というのは、隣接配線膜の間隔を狭くすることは、配線を形成するリソグラフィ技術の精度により制約され、限界があり、そして、配線膜ｆ・ｇ間の間隔が広い程、平衡側配線膜ｆと第３の配線膜ｇとの平行に対向する対向部分での電磁結合の結合度が弱くなり、バランによる挿入損が大きくなるからである。
【０００８】
第２に任意の周波数帯域の高周波信号を受信するようにすることが容易ではないという問題があった。
即ち、上記不平衡側配線膜ｆと、平衡側配線膜ｇとの対向する部分、即ち電磁結合部分が直線状であり、更に、受信周波数帯域を調整する外付けのコンデンサが必要なので、両配線膜ｆとｇとに互いに平行になる部分を設けて更に配線膜ｇにはそこｈから端子Ｐｏｒｔ２、３に信号を導く部分を設けてループ状に形成し、その端子Ｐｏｒｔ２、３に導く部分にそのキャパシタを成す外付けのコンデンサを接続する必要があった。
従って、バランの長さ、幅を小さくすることが難しく、その長さ、幅を小さくすることが制約されることによってバランを小さくすることが制約され、延いては受信周波数が制約されてしまうのである。
【０００９】
第３に、バランには、一般に駆動周波数を調整するためにキャパシタが必要となるが、従来においてはそのキャパシタとして外付けのコンデンサを用いたことによる問題があった。
即ち、平衡側配線膜ｆと、第３の配線膜ｇの端子Ｐｏｒｔ２、３に近傍にあたるところに接続して用いていたが、しかし、小型とは言え外付けのコンデンサは数ＧＨｚ〜数十ＧＨｚの高周波信号を受信するバランに用いると、コンデンサ接続用配線膜等による寄生容量が増えて損失が大きくなり、位相特性が悪化する等の問題があったのである。
【００１０】
本発明はこのような問題点を解決すべく為されたものであり、不平衡線路と平行線路との間隔を狭くしてその間の電磁結合度を高めることができ、延いては挿入損が小さく、また、小型化が容易で、キャパシタ接続による寄生容量の増加が少なく、位相特性の良好なバルンを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１のバルンは、不平衡側配線膜と平衡側配線膜を層間絶縁膜を介して積層して、その両配線膜間の電磁結合を積層方向（バランの厚み方向）に離間させて行うようにしたことを特徴とする。
【００１２】
従って、請求項１のバルンによれば、層間絶縁膜の厚みを以て不平衡側配線膜と平衡側配線膜間の間隔とすることができ、その間隔を、一つの平面上に離間して両配線膜を形成した場合における配線膜間の間隔よりも狭くすることができる。
依って、電磁結合度をより強くすることができ、バランによる挿入損を小さくすることができる。
【００１３】
また、不平衡側配線膜と平衡側配線膜を層間絶縁膜を介して重ねるので、その重ねた部分においてはその二つの配線膜が同じ面積を専有し、その分、従来よりもバランの面積を狭めることができる。
依って、バルンの小型化、軽量化を図ることができる。
そして、今後、ＩＣ（半導体集積回路）がＳＯＣ（ＳｙｓｔｅｍＯｎＣｈｉｐ）化され、ＩＣ側では差動入出力が増える傾向にあるので、平衡モードと不平衡モードとの間のモード変換の必要性が増えることが予想され、バランの更なる需要が期待されるが、本発明バルンによれば、その需要に充分に応えることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明は、基本的には、不平衡側配線膜と平衡側配線膜を層間絶縁膜を介して積層して、その両配線膜間の電磁結合を積層方向（バランの厚み方向）に離間させて行うようにしたものであるが、駆動周波数を調整するキャパシタとして、外付けのコンデンサチップを用いるようにしても良いが、薄膜技術を駆使してバラン内部に形成したキャパシタを用いるようにするとより良い。
【００１５】
というのは、外付けのコンデンサは大きいので、その接続ができるように不平衡側配線膜と平衡側配線膜の形状を略ループ状に引き回した形状にし、更に、その配線膜間を大きくせざるを得なくなるのに対して、薄膜による内部キャパシタは、専有面積が狭くても誘電体となる膜を薄く形成することが薄膜技術によって容易に為し得るので、所要の静電容量を得ることが容易であるからである。
従って、その接続ができるように不平衡側配線膜と平衡側配線膜の形状、大きさについての制約が小さい。従って、キャパシタの配線膜への接続のために大きく配線を引き回す必要がなくなり、寄生容量も小さくすることができ、特性を良くすることができる。
【００１６】
また、不平衡側配線膜と平衡側配線膜の層間絶縁膜の対向して電磁結合する部分はメアンダ状或いは渦巻き状にするようにしても良い。電磁結合する部分を所要の長さにするために必要な専有面積をより狭くすることができるからである。
【００１７】
【実施例】
以下、本発明を図示実施例に従って詳細に説明する。
（第１の実施例）
図１（Ａ）〜（Ｃ）は本発明バルンの第１の実施例を示すものであり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）、（Ｃ）は各別の角度で切断した縦断面図である。
【００１８】
図面において、２はバルン、４は第１の絶縁層、６は該第１の絶縁層４の表面に選択的に形成されたアース配線膜、８は該アース配線膜４上を含め上記第１の絶縁層４上に形成された第２の絶縁層、１０は該第２の絶縁層８の表面に選択的に形成された平衡側配線膜で、略ループ状を成している。即ち、図６に示した従来のバルンの配線膜ｇと略同じ形状を有している。１０ａは該平衡側配線膜１０の端子Ｐｏｒｔ２と接続された一端部、１０ｂの端子Ｐｏｒｔ３と接続された他端部である。
【００１９】
１２は上記平衡側配線膜１０上を含め上記第２の絶縁層８上に形成された第３の絶縁膜で、１０〜３０μｍの厚さを有している。１４は該第３の絶縁膜１２上に選択的に形成された不平衡側配線膜で、本実施例では直線状に形成されている。１６は電磁結合部分で、該不平衡側配線膜１４と上記平衡側配線膜１０とが上記第３の絶縁膜１２を介して対向せしめられている。
不平衡側配線膜１４の一端が不平衡配線路の端子Ｐｏｒｔ１を成し、該不平衡側配線膜１４の他端部近傍が、第３、第２の絶縁膜１２、８を貫通するスルーホール（或いはビアホール）１８を介して上記アース配線膜６に接続されている。
【００２０】
２０，２０は第３の絶縁膜１２を貫通するように形成されたスルーホール（或いはビアホール）で、上記平衡側配線膜１０の端部１０ａ、１０ｂと、外付けのコンデンサ２２の電極とを接続する。
【００２１】
このようなバルン２によれば、第３の絶縁膜１２の厚みを以て不平衡側配線膜１４と平衡側配線膜間１０との間隔とすることができ、その間隔を、一つの平面上に離間して両配線膜を形成した場合における配線膜間の間隔よりも狭くすることができる。
依って、電磁結合度をより強くすることができ、バランによる挿入損を小さくすることができる。
また、不平衡側配線膜１４と平衡側配線膜１０を第３の絶縁膜１２を介して重ねるので、その重ねた部分１６においてはその二つの配線膜１４・１０が同じ面積を専有し、その分、従来よりもバランの面積を狭めることができる。
依って、バルンの小型化、軽量化を図ることができる。
【００２２】
（第２の実施例）
図２（Ａ）〜（Ｄ）は本発明バルンの第２の実施例２ａを示すものであり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）、（Ｃ）は各別の角度で切断した縦断面図、（Ｄ）は薄膜からなるキャパシタ、具体的にはＴａＯキャパシタを示す縦断面図である。
本実施例２ａは、第１の実施例２とは、第１に、駆動周波数調整用のキャパシタとしてバルン内部に形成した薄膜からなるキャパシタ、具体的にはＴａＯキャパシタ２２ａを用いている点で異なる。
【００２３】
第２に、不平衡側配線膜１４と平衡側配線膜１０との絶縁層１２を介して対向する電磁結合部分１６ａがメアンダ状に形成されているという点でも異なる。
また、第２の絶縁層８として異なる三層の絶縁膜８ａ、８ｂ、８ｃを積層したものを用いるという点でも相違しているが、充分な厚さを確保するためであり、本質的ではない。尚、これら以外の点では本実施例２ａは第１の実施例２とは本質的に異なるところはない。
【００２４】
先ず、第１の相違点である、駆動周波数調整用キャパシタとしてバルン内の薄膜によるキャパシタ２２ａを用いるという点について説明する。
該キャパシタ２２ａは、例えば一方の電極となる銅からなる配線膜２４ａ上に、窒化タンタル（ＴａＮ）膜２４ｂを形成し、該窒化タンタル膜２４ｂの表層部を陽極酸化して誘電体を成す酸化タンタル（ＴａＯ）膜２４ｃを形成し、該酸化タンタル膜２４ｃ上に該キャパシタ２２ａの他方の電極を成す銅からなる配線膜２４ｄを形成したものである。
【００２５】
キャパシタ２２ａの一方の電極を成す配線膜２４ａは平衡側配線膜１０の一端部１０ａと接続され、他方の電極を成す銅配線膜２４ｄはスルーホール（或いはビアホール）２６を介して中継配線膜１４ａに接続されている。そして、該中継配線膜１４ａはスルーホール（或いはビアホール）２８を介して平衡側配線膜１０の他端部１０ｂに接続されている。従って、キャパシタ２２ａは平衡側配線膜１０の両端部１０ａ・１０ｂ間に接続されているのである。尚、中継配線膜１４ａは不平衡側配線膜１４と同時に形成され同じ層を成す配線膜である。
【００２６】
このようなバルン２ａによれば、図１に示したバルン２の持つ上記利点を有するのみならず、次の利点をも有する。
即ち、第１に、駆動周波数調整用の付けのコンデンサチップではなく、薄膜技術を駆使してバラン内部に形成したキャパシタを用いるようにしたので、誘電体となる膜を薄く形成することが薄膜技術によって容易に為し得る。従って、専有面積が狭くても所要の静電容量を得ることが容易になるのである。
【００２７】
依って、平衡側配線膜の形状、大きさについてのキャパシタ２２ａを接続するために必要となる制約が小さく、小型化、軽量化が容易である。更に、キャパシタ２２ａの接続のための配線膜による寄生容量を小さくすることができるので、位相特性を改良することができるのである。
【００２８】
第２に、不平衡側配線膜１４と平衡側配線膜１０の絶縁膜を介して対向して電磁結合する部分１６ａはメアンダ状にしたので、電磁結合する部分を所要の長さにするために必要な長さをより短く、専有面積をより狭くすることができる。
【００２９】
（変形例）
図３（Ａ）、（Ｂ）は電磁結合部分の平面形状の各別の変形例１６ｂ、１６ｃを示す平面図である。図３（Ａ）に示す電磁結合部分１６ｂはメアンダ状で、曲折を図２に示すバルンの電磁結合部分１６ａよりも多くした例を示し、図３（Ｂ）に示す電磁結合部分１６ｂは渦巻き状にした例を示す。このようにメアンダ状或いは渦巻き状にすることにより長さ、幅、面積が限られたバルン内において電磁結合部分の実効長を必要な長さにすることが容易に為し得る。具体的には、小さいバルンで低い周波数を受信できるようにすることが容易に為し得る。
【００３０】
（第３の実施例）
図４（Ａ）〜（Ｄ）は本発明バルンの第３の実施例２ｂを示すものであり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）、（Ｃ）は各別の角度で切断した縦断面図、（Ｄ）は抵抗、キャパシタの平衡−不平衡終端変換図であり、本実施例２ｂの意義を説明するためのものである。
本実施例２ｂは、第２の実施例２ａとは、駆動周波数調整用のキャパシタとして薄膜からなるキャパシタ、具体的にはＴａＯキャパシタを２個２２ａ、２２ｂ用いるようにした点で異なるが、それ以外の点では共通する。そこで、相違する点についてのみ説明する。
【００３１】
本実施例２ｂにおいては、平衡側配線膜１０の一端部１０ａとアース配線膜６との間にキャパシタ２２ａが、他端部１０ｂと該アース配線膜６との間に該キャパシタ２２ａと同じ静電容量のキャパシタ２２ｂが接続されている。
２６ａ、２６ｂはキャパシタ２２ａ、２２ｂの上側電極を上に引き出すスルーホール（或いはビアホール）、１４ａ、１４ｂはそのスルーホール（或いはビアホール）２６ａ、２６ｂと接続された中継配線膜で、平衡側配線膜１０と同時に形成された同層の配線膜である。３０ａ、３０ｂは該配線膜１４ａ、１４ｂとアース配線膜６との間を接続するスルーホール（或いはビアホール）である。
【００３２】
従って、キャパシタ２２ａ、２２ｂの上側電極は、その配線膜１４ａ、１４ｂ及びスルーホール（或いはビアホール）３０ａ、３０ｂを介してアース配線膜６に電気的に接続される。尚、キャパシタ２２ａ、２２ｂの下側電極は平衡側配線膜１０の端部１０ａ、１０ｂに接続されている。
依って、平衡側配線膜１０の一端部１０ａとアース配線膜６との間にキャパシタ２２ａが、他端部１０ｂと該アース配線膜６との間に同じ容量のキャパシタ２２ｂが接続されるのである。
【００３３】
このように、キャパシタ２２ａ、２２ｂを設けるのは、位相特性が悪くなるおそれをなくすためである。
即ち、図１、図２に示すような実施例２、２ａによれば、平衡側配線膜１０の両端部Ｐｏｒｔ２・３間にキャパシタ２２或いは２２ａを接続したので、周波数によっては充分に位相差を取れないような位相特性になる可能性がある。
そこで、図４（Ｄ）に示すように、平衡線路を終端した場合、不平衡線路で終端したと等価とみなすことができ、平衡線路を個々の線路としてみた場合、平衡側の抵抗Ｒは不平衡線路では２分の１の抵抗（Ｒ／２）に、平衡側のキャパシタの静電容量Ｃは不平衡側では２倍の静電容量（２Ｃ）になる。
【００３４】
従って、本実施例２ｂにおけるように、平衡側配線膜１０の両端部Ｐｏｒｔ２・３各々と、アース配線膜６との間に独立してキャパシタ２２ａ、２２ｂを接続すると、位相特性の相互影響が少なくなる。
依って、位相特性が悪くなるおそれをなくすことができるのである。
【００３５】
図５（Ａ）、（Ｂ）は図６に示した従来例と、本発明バランの第３の実施例とについて特性を比較するもので、（Ａ）は反射特性及び透過特性を示し、（Ｂ）は位相特性を示す。
尚、図５において従来例としたところのバルンは、図６に示したものであるが、Ｄ（：不平衡側配線膜ｆと平衡側配線膜ｈとの間隔）が１００μｍ、Ｗ（：不平衡側配線膜ｆ及び平衡側配線膜ｈの線幅）が１００μｍ、Ｗａが１０７５μｍ、Ｗｂが３００μｍ、Ｗｃ（：平衡側配線膜両端部ｉ・ｊ間の間隔）が６５０μｍ、Ｌ（：不平衡側配線膜と平衡側配線膜との対向する部分の長さ）が２８００μｍである。
【００３６】
また、図５において本発明とは、基本的に図４に示したもの（第３の実施例）であり、Ｗ（：線幅）が１００μｍ、ＷＬ（：メアンダ状の隣接配線間の間隔）が１５０μｍ、Ｌが４６０μｍである。
そして、駆動周波数調整用のキャパシタｋ、２２ａ、２２ｂは中心周波数が２．４５ＧＨｚとなるように静電容量が調整されている。
【００３７】
この図５から明らかなように、従来例によれば、２．４Ｇｈｚ付近では反射が約−１．０ｄＢ、透過が約−７．４ｄＢと非常に悪く、整合回路が必要となるが、本発明の第３の実施例によれば、２．４Ｇｈｚ付近では反射が約−２３．３ｄＢ、透過が約−１．３ｄＢと非常に良く、整合回路を必要としない。
また、位相特性について述べると、低い周波数では位相差が１７８．３°であるのに対して本発明の場合、位相差が１７８．７°となり、本発明による方が位相差が小さい。
【００３８】
しかし、３．５ＧＨｚ以上の周波数に対しては１０°以上になり、周波数の違いによる位相差の変化が激しくなる。
それに対して、本発明によれば、６ＧＨｚ迄極めてフラットな位相差特性になり、バランとして好ましく、サイズも小型化が容易である。
【００３９】
【発明の効果】
請求項１のバルンによれば、層間絶縁膜の厚みを以て不平衡側配線膜と平衡側配線膜間の間隔とすることができ、その間隔を、一つの平面上に離間して両配線膜を形成した場合における配線膜間の間隔よりも狭くすることができる。
依って、電磁結合度をより強くすることができ、バランによる挿入損を小さくすることができる。
また、不平衡側配線膜と平衡側配線膜を層間絶縁膜を介して重ねるので、その重ねた部分においてはその二つの配線膜が同じ面積を専有し、その分、従来よりもバランの面積を狭めることができる。
依って、バルンの小型化、軽量化を図ることができる。
【００４０】
請求項２のバルンによれば、不平衡側配線膜と平衡側配線膜の層間絶縁膜を介して対向する対向部分（電磁結合部分）の平面形状がメアンダ或いは渦巻き状に曲折された形状なので、電磁結合する部分を所要の長さにするために必要な専有面積をより狭くすることができ、受信周波数帯域を低い側に拡げることがバルンサイズを大きくすることなく為し得る。
【００４１】
請求項３のバルンによれば、平衡側配線膜の不平衡側配線膜との対向部分の両端からの食み出し部分間にキャパシタが接続されてなるので、該キャパシタによりバルンの駆動周波数を調整することができる。
請求項４のバルンによれば、平衡側配線膜の両端部各々と、アース配線膜６との間に独立してキャパシタを接続したので、位相特性の相互影響が少なくなる。
従って、位相特性が悪くなるおそれをなくすことができる
【００４２】
請求項５のバルンによれば、キャパシタとして上記層間絶縁膜内にて複数層の薄膜を積層してなるものを用いたので、キャパシタの専有面積を広くすることなく誘電体となる膜を薄く形成することによって所要の静電容量を得ることが容易となる。
また、キャパシタと平衡側配線膜とを電気的に接続するための該配線膜の形状、大きさについての制約が小さい。従って、キャパシタの配線膜への接続のために大きく配線を引き回す必要がなくなり、寄生容量も小さくすることができ、特性を良くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ）〜（Ｃ）は本発明バルンの第１の実施例を示すものであり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）、（Ｃ）は各別の角度で切断した縦断面図である。
【図２】（Ａ）〜（Ｄ）は本発明バルンの第２の実施例を示すものであり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）、（Ｃ）は各別の角度で切断した縦断面図、（Ｄ）は薄膜からなるキャパシタ、具体的にはＴａＯキャパシタを示す縦断面図である。
【図３】（Ａ）、（Ｂ）は電磁結合部分の平面形状の各別の変形例を示す平面図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｄ）は本発明バルンの第３の実施例を示すものであり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）、（Ｃ）は各別の角度で切断した縦断面図、（Ｄ）は抵抗、キャパシタの平衡−不平衡終端変換図であり、本実施例の意義を説明するためのものである。
【図５】（Ａ）、（Ｂ）は図６に示した従来例と、本発明バランの第３の実施例とについて特性を比較するもので、（Ａ）は反射特性及び透過特性を示し、（Ｂ）は位相特性を示す。
【図６】（Ａ）〜（Ｃ）は配線基板等の従来例の一つを示すものであり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）、（Ｃ）は各別の角度で切断した縦断面図である。
【符号の説明】
２、２ａ、２ｂ・・・、６・・・アース配線膜、１０・・・平衡側配線膜、１０ａ、１０ｂ・・・平衡側配線膜の端部、１２・・・層間絶縁膜、１４・・・不平衡側配線膜、１６・・・不平衡側配線膜と平衡側配線膜とが対向する部分（電磁結合部分）、２２・・・外付けコンデンサ、２２ａ、２２ｂ・・・薄膜からなるキャパシタ（ＴａＯキャパシタ）。

Claims

層間絶縁膜を介して積層された不平衡側配線膜と平衡側配線膜を少なくとも有し、
上記不平衡側配線膜は、一端が一方の不平衡入力端とされ、他端が接地されて他方の不平衡入力端とされ、
上記平衡側配線膜は、上記不平衡側配線膜と上記層間絶縁膜を介して対向する対向部分と、該対向部分の両側にそこから一体に食み出すように形成され平衡出力端に接続された食み出し部分からなる
ことを特徴とするバルン。
前記不平衡側配線膜と前記平衡側配線膜の前記層間絶縁膜を介して対向する前記対向部分の平面形状がメアンダ或いは渦巻き状に曲折された形状である
ことを特徴とする請求項１記載のバルン。
前記食み出し部分間にキャパシタが接続されてなる
ことを特徴とする請求項１又は２記載のバルン。
前記平衡側配線膜の一端部と前記接地との間、及び、該平衡側配線膜の他端部と前記接地との間それぞれにキャパシタが接続されてなる
ことを特徴とする請求項１又は２記載のバルン。
前記キャパシタが上記層間絶縁膜内にて複数層の薄膜を積層してなるものである
ことを特徴とする請求項３又は４記載のバルン。