JP2004158776A - 半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
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- H01L2924/15174—Fan-out arrangement of the internal vias in different layers of the multilayer substrate
Abstract
【課題】半導体チップとインターポーザとの結合によって構成される半導体デバイスの厚さを所定の厚さ形成することができるとともに、半導体チップの厚さが薄くインターポーザの厚さが厚い半導体デバイスを構成することができる半導体デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体チップをインターポーザ基板に結合して半導体デバイスを製造する方法であって、インターポーザ基板の表面に半導体チップの表面を結合して複合基板を構成する複合基板生成工程と、該複合基板を構成するインターポーザ基板の裏面側を研削装置のチャックテーブルに保持し半導体チップの裏面を所定量研削する半導体チップ研削工程と、複合基板を構成する半導体チップの裏面側を研削装置のチャックテーブルに保持しインターポーザ基板の裏面を所定量研削するインターポーザ基板研削工程とを含む。
【選択図】 図4
【解決手段】半導体チップをインターポーザ基板に結合して半導体デバイスを製造する方法であって、インターポーザ基板の表面に半導体チップの表面を結合して複合基板を構成する複合基板生成工程と、該複合基板を構成するインターポーザ基板の裏面側を研削装置のチャックテーブルに保持し半導体チップの裏面を所定量研削する半導体チップ研削工程と、複合基板を構成する半導体チップの裏面側を研削装置のチャックテーブルに保持しインターポーザ基板の裏面を所定量研削するインターポーザ基板研削工程とを含む。
【選択図】 図4
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体チップとインターポーザ基板とを結合した複合基板からなる半導体デバイスの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列された多数の領域にIC、LSI等の回路を形成し、該回路が形成された各領域を所定のストリートといわれる切断ラインに沿ってダイシングすることにより個々の半導体チップを製造している。このようにして分割された半導体チップは、パッケージングされて携帯電話やパソコン等の電気機器に広く利用されている。
近年、同種の半導体チップを複数積層してパッケージングし一チップの能力を向上させたり、機能の異なる複数の半導体チップを配設してパッケージングし一チップの能力を向上させたりする技術が開発され電気機器の軽量化、小型化を可能にしている。この技術は、表面および裏面に端子を露出して形成されたインターポーザと称する基板の表面に半導体チップを半田ボール等によって結合し、半導体チップが配設されたインターポーザを半田ボール等によってプリント基板(マザーボード)に結合するものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
而して、半導体チップをインターポーザに結合して構成する半導体デバイスは、インターポーザを研削等によって所定の厚さに形成した後に、研削等によって所定の厚さに形成された半導体チップをインターポーザの表面に露出している端子に半田ボール等によって結合する構成であるため、次のような問題がある。
(1)製品としての厚さまで薄く加工された半導体チップとインターポーザとを結合する際に、半導体チップまたはインターポーザが破損する場合がある。
(2)半導体チップとインターポーザとの結合によって構成される半導体デバイスの厚さを所定の厚さ(例えば、200μm)に調整したい場合に、半導体チップとインターポーザとの厚さの調整が困難であり、所定の厚さに揃えることが極めて難しい。
(3)半導体デバイスの放熱性を向上するためには半導体チップを薄くすることが望ましく、放熱性の向上を図るとともに半導体デバイスの強度を保つために、半導体チップの厚さを例えば20μmに加工しインターポーザの厚さを例えば180μmに加工して結合を試みても、薄く加工された半導体チップは湾曲し破損し易いためインターポーザに結合することが極めて困難である。
【0004】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、半導体チップとインターポーザとの結合によって構成される半導体デバイスの厚さを所定の厚さ形成することができるとともに、半導体チップの厚さが薄くインターポーザの厚さが厚い半導体デバイスを構成することができる半導体デバイスの製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、半導体チップをインターポーザ基板に結合して半導体デバイスを製造する方法であって、
該インターポーザ基板の表面に該半導体チップの表面を結合して複合基板を構成する複合基板生成工程と、
該複合基板を構成する該インターポーザ基板の裏面側を研削装置のチャックテーブルに保持し、該半導体チップの裏面を所定量研削する半導体チップ研削工程と、
該複合基板を構成する該半導体チップの裏面側を研削装置のチャックテーブルに保持し、該インターポーザ基板の裏面を所定量研削するインターポーザ基板研削工程と、を含む、
ことを特徴とする半導体デバイスの製造方法が提供される。
【0006】
上記インターポーザ基板研削工程においては、半導体チップの裏面に保護部材を装着し、保護部材を介して半導体チップの裏面側がチャックテーブルに保持することが望ましい。また、上記半導体チップ研削工程を遂行した後に、上記インターポーザ基板研削工程が遂行されることが望ましい。更に、上記インターポーザ基板はシリコンウエーハに複数個形成されており、上記半導体チップ研削工程および上記インターポーザ基板研削工程を遂行した後に、個々の半導体デバイスに分割されることが望ましい。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による半導体デバイスの製造方法の実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【0008】
図1は本発明による半導体デバイスの製造方法における複合基板生成工程によって構成されたインターポーザ基板の表面に半導体チップの表面を結合した複合基板の斜視図である。
図1に示す複合基板2は、シリコンウエーハ21と半導体チップ23とによって形成される。シリコンウエーハ21の表面には、ストリート(切断線)211によって複数のインターポーザ基板領域22が区画されている(図示の実施形態においては6個の領域)。この複数のインターポーザ基板領域22の表面にそれぞれ複数の半導体チップ23の表面が結合される。図2は図1におけるA−A線断面図で、図2を参照してインターポーザ基板領域22と半導体チップ23との結合構造について説明する。シリコンウエーハ21に形成されたインターポーザ基板領域22には、その表面221および裏面222に露出する端子223が設けられている。このインターポーザ基板領域22の表面221に半導体チップ23の回路230が形成されている表面を結合する。この結合は、インターポーザ基板領域22の表面に露出している端子223と半導体チップ23の表面231に形成されている端子とを半田ボール24によって接合する。従って、インターポーザ基板領域22の表面221に結合された半導体チップ23は裏面232が上側となる。
【0009】
上述したようにインターポーザ基板領域22の表面221に半導体チップ23の表面231を結合して複合基板2を構成したら、半導体チップ研削工程を遂行する。このとき、複合基板2を構成するシリコンウエーハ21のインターポーザ基板領域22の表面221、即ち半導体チップ23が結合されている側の面には、図3で示すように半田ボール24が埋設する程度の厚さで樹脂を被覆して被覆層25を形成することが望ましい。半導体チップ研削工程においては、図4に示すようにインターポーザ基板領域22を備えたシリコンウエーハ21の裏面(インターポーザ基板領域22の裏面221)にテープ等の保護部材31を装着し、この保護部材31側を研削装置4のチャックテーブル41上に保持し、研削砥石42を例えば6000rpmで回転せしめて半導体チップ23の裏面231を所定の厚さ例えば50〜20μmまで研削する。この研削時に作用する半田ボール24を剥離力に対して上記樹脂被覆層25が剥離防止手段として機能する。
【0010】
半導体チップ研削工程によって複合基板2を構成する半導体チップ23の裏面231を所定の厚さまで研削したら、インターポーザ基板研削工程を遂行する。即ち、シリコンウエーハ21の裏面に装着されている保護部材31を剥がすとともに、半導体チップ23を保護するために図5に示すように半導体チップ23の裏面232側にテープ等の保護部材32を装着し、この保護部材32側を研削装置4のチャックテーブル41上に保持し、研削砥石42を例えば6000rpmで回転せしめてインターポーザ基板領域22を備えたシリコンウエーハ21の裏面(インターポーザ基板領域22の裏面221)を所定の厚さ200〜150μmまで研削する。
【0011】
上述したように複合基板2を構成する半導体チップ23の裏面およびインターポーザ基板領域22の裏面221が所定の厚さに研削されたら、半導体チップ23の裏面側に装着されている保護部材32を剥がすとともに、図6に示すようにシリコンウエーハ21の裏面(インターポーザ基板領域22の裏面221)に保護部材33を装着し、保護部材33側をダイシング装置としての切削装置5のチャックテーブル51上に保持する。そして、切削手段52の切削ブレード521を回転しつつチャックテーブル51を矢印Xで示す方向に切削送りすることによって、複合基板2はストリート211に沿って切断され、図7に一部を断面して示すように複数の半導体チップ23がインターポーザ基板220に結合された個々の半導体デバイス20が得られる。
【0012】
以上のように本発明による半導体デバイスの製造方法においては、インターポーザ基板領域22の表面221に半導体チップ23の表面231を結合して複合基板2を形成した後に、半導体チップ23の裏面231およびインターポーザ基板領域22の裏面221を所定の厚さに研削するようにしたので、インターポーザ基板と半導体チップの厚さが厚い状態で結合できるため、結合の際に破損することがない。また、インターポーザ基板領域22と半導体チップ23を結合して複合基板2を形成した後に研削するので、半導体デバイスの厚さを所望の厚さに揃えることができるとともに、半導体チップの厚さを薄くしてインターポーザ基板の厚さを厚く形成することが可能となる。
【0013】
【発明の効果】
本発明の半導体デバイスの製造方法によれば、インターポーザ基板の表面に半導体チップの表面を結合して複合基板を形成した後に、半導体チップの裏面およびインターポーザ基板の裏面を所定の厚さに研削するようにしたので、インターポーザ基板と半導体チップの厚さが厚い状態で結合できるため、結合の際に破損することがない。また、インターポーザ基板と半導体チップを結合して複合基板を形成した後に研削するので、半導体デバイスの厚さを所望の厚さに揃えることができるとともに、半導体チップの厚さを薄くしてインターポーザ基板の厚さを厚く形成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による半導体デバイスの製造方法における複合基板生成工程によって構成されたインターポーザ基板の表面に半導体チップの表面を結合した複合基板の斜視図。
【図2】図1におけるA−A線断面拡大図。
【図3】複合基板を構成するインターポーザ基板の表面に樹脂被覆層を形成した状態を示す断面図。
【図4】本発明による半導体デバイスの製造方法における半導体チップ研削工程の説明図。
【図5】本発明による半導体デバイスの製造方法におけるインターポーザ基板研削工程の説明図。
【図6】複合基板の分割工程を示す説明図。
【図7】本発明による半導体デバイスの製造方法によって形成された半導体デバイスの一部を破断して示す斜視図。
【符号の説明】
2:複合基板
20:半導体デバイス
21:シリコンウエーハ
22:インターポーザ基板領域
23:半導体チップ
24:半田ボール
25:樹脂被覆層
31、32、33:保護部材
4:研削装置
41:チャックテーブル
42:研削砥石
5:切削装置
51:切削手段
52:切削ブレード
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体チップとインターポーザ基板とを結合した複合基板からなる半導体デバイスの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列された多数の領域にIC、LSI等の回路を形成し、該回路が形成された各領域を所定のストリートといわれる切断ラインに沿ってダイシングすることにより個々の半導体チップを製造している。このようにして分割された半導体チップは、パッケージングされて携帯電話やパソコン等の電気機器に広く利用されている。
近年、同種の半導体チップを複数積層してパッケージングし一チップの能力を向上させたり、機能の異なる複数の半導体チップを配設してパッケージングし一チップの能力を向上させたりする技術が開発され電気機器の軽量化、小型化を可能にしている。この技術は、表面および裏面に端子を露出して形成されたインターポーザと称する基板の表面に半導体チップを半田ボール等によって結合し、半導体チップが配設されたインターポーザを半田ボール等によってプリント基板(マザーボード)に結合するものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
而して、半導体チップをインターポーザに結合して構成する半導体デバイスは、インターポーザを研削等によって所定の厚さに形成した後に、研削等によって所定の厚さに形成された半導体チップをインターポーザの表面に露出している端子に半田ボール等によって結合する構成であるため、次のような問題がある。
(1)製品としての厚さまで薄く加工された半導体チップとインターポーザとを結合する際に、半導体チップまたはインターポーザが破損する場合がある。
(2)半導体チップとインターポーザとの結合によって構成される半導体デバイスの厚さを所定の厚さ(例えば、200μm)に調整したい場合に、半導体チップとインターポーザとの厚さの調整が困難であり、所定の厚さに揃えることが極めて難しい。
(3)半導体デバイスの放熱性を向上するためには半導体チップを薄くすることが望ましく、放熱性の向上を図るとともに半導体デバイスの強度を保つために、半導体チップの厚さを例えば20μmに加工しインターポーザの厚さを例えば180μmに加工して結合を試みても、薄く加工された半導体チップは湾曲し破損し易いためインターポーザに結合することが極めて困難である。
【0004】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、半導体チップとインターポーザとの結合によって構成される半導体デバイスの厚さを所定の厚さ形成することができるとともに、半導体チップの厚さが薄くインターポーザの厚さが厚い半導体デバイスを構成することができる半導体デバイスの製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、半導体チップをインターポーザ基板に結合して半導体デバイスを製造する方法であって、
該インターポーザ基板の表面に該半導体チップの表面を結合して複合基板を構成する複合基板生成工程と、
該複合基板を構成する該インターポーザ基板の裏面側を研削装置のチャックテーブルに保持し、該半導体チップの裏面を所定量研削する半導体チップ研削工程と、
該複合基板を構成する該半導体チップの裏面側を研削装置のチャックテーブルに保持し、該インターポーザ基板の裏面を所定量研削するインターポーザ基板研削工程と、を含む、
ことを特徴とする半導体デバイスの製造方法が提供される。
【0006】
上記インターポーザ基板研削工程においては、半導体チップの裏面に保護部材を装着し、保護部材を介して半導体チップの裏面側がチャックテーブルに保持することが望ましい。また、上記半導体チップ研削工程を遂行した後に、上記インターポーザ基板研削工程が遂行されることが望ましい。更に、上記インターポーザ基板はシリコンウエーハに複数個形成されており、上記半導体チップ研削工程および上記インターポーザ基板研削工程を遂行した後に、個々の半導体デバイスに分割されることが望ましい。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による半導体デバイスの製造方法の実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【0008】
図1は本発明による半導体デバイスの製造方法における複合基板生成工程によって構成されたインターポーザ基板の表面に半導体チップの表面を結合した複合基板の斜視図である。
図1に示す複合基板2は、シリコンウエーハ21と半導体チップ23とによって形成される。シリコンウエーハ21の表面には、ストリート(切断線)211によって複数のインターポーザ基板領域22が区画されている(図示の実施形態においては6個の領域)。この複数のインターポーザ基板領域22の表面にそれぞれ複数の半導体チップ23の表面が結合される。図2は図1におけるA−A線断面図で、図2を参照してインターポーザ基板領域22と半導体チップ23との結合構造について説明する。シリコンウエーハ21に形成されたインターポーザ基板領域22には、その表面221および裏面222に露出する端子223が設けられている。このインターポーザ基板領域22の表面221に半導体チップ23の回路230が形成されている表面を結合する。この結合は、インターポーザ基板領域22の表面に露出している端子223と半導体チップ23の表面231に形成されている端子とを半田ボール24によって接合する。従って、インターポーザ基板領域22の表面221に結合された半導体チップ23は裏面232が上側となる。
【0009】
上述したようにインターポーザ基板領域22の表面221に半導体チップ23の表面231を結合して複合基板2を構成したら、半導体チップ研削工程を遂行する。このとき、複合基板2を構成するシリコンウエーハ21のインターポーザ基板領域22の表面221、即ち半導体チップ23が結合されている側の面には、図3で示すように半田ボール24が埋設する程度の厚さで樹脂を被覆して被覆層25を形成することが望ましい。半導体チップ研削工程においては、図4に示すようにインターポーザ基板領域22を備えたシリコンウエーハ21の裏面(インターポーザ基板領域22の裏面221)にテープ等の保護部材31を装着し、この保護部材31側を研削装置4のチャックテーブル41上に保持し、研削砥石42を例えば6000rpmで回転せしめて半導体チップ23の裏面231を所定の厚さ例えば50〜20μmまで研削する。この研削時に作用する半田ボール24を剥離力に対して上記樹脂被覆層25が剥離防止手段として機能する。
【0010】
半導体チップ研削工程によって複合基板2を構成する半導体チップ23の裏面231を所定の厚さまで研削したら、インターポーザ基板研削工程を遂行する。即ち、シリコンウエーハ21の裏面に装着されている保護部材31を剥がすとともに、半導体チップ23を保護するために図5に示すように半導体チップ23の裏面232側にテープ等の保護部材32を装着し、この保護部材32側を研削装置4のチャックテーブル41上に保持し、研削砥石42を例えば6000rpmで回転せしめてインターポーザ基板領域22を備えたシリコンウエーハ21の裏面(インターポーザ基板領域22の裏面221)を所定の厚さ200〜150μmまで研削する。
【0011】
上述したように複合基板2を構成する半導体チップ23の裏面およびインターポーザ基板領域22の裏面221が所定の厚さに研削されたら、半導体チップ23の裏面側に装着されている保護部材32を剥がすとともに、図6に示すようにシリコンウエーハ21の裏面(インターポーザ基板領域22の裏面221)に保護部材33を装着し、保護部材33側をダイシング装置としての切削装置5のチャックテーブル51上に保持する。そして、切削手段52の切削ブレード521を回転しつつチャックテーブル51を矢印Xで示す方向に切削送りすることによって、複合基板2はストリート211に沿って切断され、図7に一部を断面して示すように複数の半導体チップ23がインターポーザ基板220に結合された個々の半導体デバイス20が得られる。
【0012】
以上のように本発明による半導体デバイスの製造方法においては、インターポーザ基板領域22の表面221に半導体チップ23の表面231を結合して複合基板2を形成した後に、半導体チップ23の裏面231およびインターポーザ基板領域22の裏面221を所定の厚さに研削するようにしたので、インターポーザ基板と半導体チップの厚さが厚い状態で結合できるため、結合の際に破損することがない。また、インターポーザ基板領域22と半導体チップ23を結合して複合基板2を形成した後に研削するので、半導体デバイスの厚さを所望の厚さに揃えることができるとともに、半導体チップの厚さを薄くしてインターポーザ基板の厚さを厚く形成することが可能となる。
【0013】
【発明の効果】
本発明の半導体デバイスの製造方法によれば、インターポーザ基板の表面に半導体チップの表面を結合して複合基板を形成した後に、半導体チップの裏面およびインターポーザ基板の裏面を所定の厚さに研削するようにしたので、インターポーザ基板と半導体チップの厚さが厚い状態で結合できるため、結合の際に破損することがない。また、インターポーザ基板と半導体チップを結合して複合基板を形成した後に研削するので、半導体デバイスの厚さを所望の厚さに揃えることができるとともに、半導体チップの厚さを薄くしてインターポーザ基板の厚さを厚く形成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による半導体デバイスの製造方法における複合基板生成工程によって構成されたインターポーザ基板の表面に半導体チップの表面を結合した複合基板の斜視図。
【図2】図1におけるA−A線断面拡大図。
【図3】複合基板を構成するインターポーザ基板の表面に樹脂被覆層を形成した状態を示す断面図。
【図4】本発明による半導体デバイスの製造方法における半導体チップ研削工程の説明図。
【図5】本発明による半導体デバイスの製造方法におけるインターポーザ基板研削工程の説明図。
【図6】複合基板の分割工程を示す説明図。
【図7】本発明による半導体デバイスの製造方法によって形成された半導体デバイスの一部を破断して示す斜視図。
【符号の説明】
2:複合基板
20:半導体デバイス
21:シリコンウエーハ
22:インターポーザ基板領域
23:半導体チップ
24:半田ボール
25:樹脂被覆層
31、32、33:保護部材
4:研削装置
41:チャックテーブル
42:研削砥石
5:切削装置
51:切削手段
52:切削ブレード
Claims (4)
- 半導体チップをインターポーザ基板に結合して半導体デバイスを製造する方法であって、
該インターポーザ基板の表面に該半導体チップの表面を結合して複合基板を構成する複合基板生成工程と、
該複合基板を構成する該インターポーザ基板の裏面側を研削装置のチャックテーブルに保持し、該半導体チップの裏面を所定量研削する半導体チップ研削工程と、
該複合基板を構成する該半導体チップの裏面側を研削装置のチャックテーブルに保持し、該インターポーザ基板の裏面を所定量研削するインターポーザ基板研削工程と、を含む、
ことを特徴とする半導体デバイスの製造方法。 - 該インターポーザ基板研削工程においては、該半導体チップの裏面に保護部材を装着し、該保護部材を介して該半導体チップの裏面側がチャックテーブルに保持される、請求項1記載の半導体デバイスの製造方法。
- 該半導体チップ研削工程を遂行した後に、該インターポーザ基板研削工程が遂行される、請求項1記載の半導体デバイスの製造方法。
- 該インターポーザ基板はシリコンウエーハに複数個形成されており、該半導体チップ研削工程および該インターポーザ基板研削工程を遂行した後に、個々の半導体デバイスに分割される、請求項1記載の半導体デバイスの製造方法。
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-
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- 2002-11-08 JP JP2002325196A patent/JP2004158776A/ja active Pending
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