JP2004102053A

JP2004102053A - 電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器

Info

Publication number: JP2004102053A
Application number: JP2002265739A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Hasegawa; 長谷川　敏
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-09-11
Filing date: 2002-09-11
Publication date: 2004-04-02
Anticipated expiration: 2022-09-11
Also published as: JP4529346B2

Abstract

【課題】同じ基板サイズでも識別が容易な電気光学パネル、電気光学パネルの製造方法及び電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の液晶装置１は、額縁状の遮光膜５０が配置されたカラーフィルタ基板２０と、カラーフィルタ基板２０に対向配置され、該額縁状の遮光膜５０と対向する位置に識別手段が施されたダミーパターン１２を有する対向基板１０と、電気光学物質としての液晶１１０とを具備する構成をとる。これによって、略同様の大きさで異なる種類の液晶装置に対しても、カラーフィルタ基板２０に設けられた額縁状の遮光膜５０に対向した対向基板１０に識別手段を施したダミーパターンを設けることによって、新たにスペースを設けずに背面をみるだけで容易に識別することが可能となる。
【選択図】　図２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電気光学パネルの一例としての液晶装置は、液晶表示パネルとこれを駆動する駆動回路とを備える。
【０００３】
液晶装置の製造工程において、異なるユーザーから要求された略同じ大きさの液晶表示パネルが複数ある場合等に、夫々の液晶表示パネルの識別が困難であり、製造上、作業性が劣ってしまうという問題があった（例えば、特許文献１〜４参照）。
【０００４】
そこで、例えば、２枚の基板からなるＣＯＧ方式の液晶表示パネル等では、液晶表示パネルの張り出し領域に実装された駆動用ＩＣに近隣する空き領域を利用し、数字または記号等の識別用目印を形成していた。
【０００５】
【特許文献１】
特開平９−２１１４３６（第３頁、
【図３】）
【特許文献２】
特開平９−２５８１９６（第３頁、
【図１】）
【特許文献３】
特開平９−２５８２５０（第３頁、
【図１】）
【特許文献４】
特開平１０−３１１９８４（第４頁、
【図１】）
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、液晶表示パネルが高度精密化するにつれて、液晶表示パネルに実装された配線数が増大し、駆動用ＩＣの近隣する空き領域が減少するといった問題が生じている。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、同じ基板サイズでも識別が容易な電気光学パネル、電気光学パネルの製造方法及び電子機器を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の電気光学パネルは、額縁状の遮光膜が配置された第１基板と、前記第１基板に対向配置され、前記遮光膜と対向する位置に識別手段を有する第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板により挟持された電気光学物質とを具備することを特徴とする。
【０００８】
このような構成によれば、第１基板上に配置された額縁状の遮光膜に対向し、表示面から該額縁状の遮光膜によって見ることができない第２基板上の対向領域に識別手段を施し、この識別手段は表示面の反対側の裏面から確認することができるので、新たなスペースを設けずに同じサイズの異なる電気光学パネルも容易に識別することが可能となる。
【０００９】
本発明の一の形態によれば、前記識別手段は反射性部材からなることを特徴とする。
【００１０】
このような構成によれば、電気光学パネルの裏面から識別手段を確認した際に、額縁状の遮光膜の色に影響されずに反射するので、識別することができる。
【００１１】
本発明の一の形態によれば、前記反射性部材は、反射性金属であることを特徴とする。
【００１２】
このような構成によれば、反射部材の中でも反射性金属が好ましい。
【００１３】
本発明の一の形態によれば、前記第２基板は第１領域と該第１領域を囲む第２領域とを有し、前記第２基板上には、前記第１領域上に配置された配線と、前記第２領域上に配置された前記配線に電気的に接続し前記配線に対し信号を入力するための引き回し配線とが配置され、前記識別手段は、前記第２領域であって、前記引き回し配線が配置されない領域に配置されていることを特徴とする。
【００１４】
このような構成によれば、第１領域を囲う第２領域の中でも引き回し配線が配置されない空き領域に識別手段を施すので、スペースを有効活用して識別することができる。
【００１５】
本発明の一の形態によれば、前記配線は反射性金属を有し、前記識別手段は前記反射性金属と同層の反射性金属を有することを特徴とする。
【００１６】
このような構成によれば、配線に用いている反射性金属と同層の識別手段を設けるので、合理的に識別手段を施した電気光学パネルが製造できる。
【００１７】
本発明の一の形態によれば、前記反射性金属はアルミニウムを含む金属であることを特徴とする。
【００１８】
このような構成によれば、アルミニウムを含む金属は反射性を有するので、識別手段として非常に好ましい。
【００１９】
本発明の一の形態によれば、前記反射性金属は銀、パラジウム及び銅を有する合金であることを特徴とする。
【００２０】
このような構成によれば、パラジウム及び銅を有する合金は反射性を有するので、識別手段として非常に好ましい。
【００２１】
本発明の電気光学パネルは、第１基板と、前記第１基板上に配置された反射電極と、前記反射電極を含む前記第１基板上に配置された着色層と、前記第１基板上に前記着色層を囲むように配置された額縁状の遮光膜と、前記第１基板上に前記遮光膜に対応し、前記遮光膜と前記第１基板との間に配置された識別手段と、前記第１基板により支持される電気光学物質とを具備することを特徴とする。
【００２２】
このような構成によれば、額縁状の遮光膜と基板との間に識別手段を設けることによって、１枚の基板のスペースを有効活用して識別することができる。
【００２３】
本発明の一の形態によれば、前記識別手段は、前記反射電極と同一層からなることを特徴とする。
【００２４】
このような構成によれば、反射電極を利用して識別手段を施すことができるので、新たな材料を設ける必要がない。
【００２５】
本発明の電気光学パネルの製造方法は、第１基板に額縁状の遮光膜が配置する工程と、前記第１基板に対向配置される第２基板に前記遮光膜と対向する位置に識別手段を形成する工程と、前記第１基板及び前記第２基板に電気光学物質を挟持する工程とを具備することを特徴とする。
【００２６】
このような構成によれば、合理的に額縁状の遮光膜に対向する位置を利用して識別手段を施すことができる。
【００２７】
本発明の電気光学パネルの製造方法は、第１基板に反射電極を配置する工程と、前記第１基板上に着色層を配置する工程と、前記第１基板上に前記着色層を囲むように額縁状の遮光膜を配置する工程と、前記第１基板上に前記遮光膜に対応し、前記遮光膜と前記第１基板との間に識別手段を配置する工程と、前記第１基板に電気光学物質を支持する工程とを具備することを特徴とする。
【００２８】
このような構成によれば、合理的に１枚の基板の額縁状の遮光膜に対向する位置を利用して識別手段を施すことができる。
【００２９】
本発明の電子機器は、上述に記載の電気光学パネルを搭載することを特徴とする。
【００３０】
このような構成によれば、間違った電気光学パネルを電子機器に搭載することはないので、電気光学パネルの間違いによる不具合を解消することができる。
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００３１】
（第１実施形態）
以下に第１実施形態に係る電気光学パネルとしての液晶装置、これに組み込まれる電気光学パネルとしての液晶表示パネル、更にこれに組み込まれる両基板の構造及び両基板の製造方法について説明する。
【００３２】
まず、液晶装置、液晶表示パネル及びカラーフィルタ基板の構造について図１〜図３を用いて説明する。図１は、液晶装置の概略斜視図である。図２は、液晶装置の断面図である。図３は、液晶装置に設けられるＴＦＤ、データ線及び画素電極の構造を説明する図であり、図３（ａ）は平面図、図３（ｂ）は図３（ａ）の線Ａ−Ａ’における断面図、図３（ｃ）は概略斜視図である。なお、本実施形態において、図示及び説明をわかりやすくするために、各種配線や電極、着色層の数を実際の構造よりも少なくしており、また図面間においても適宜それらの数を異ならせている。
【００３３】
本実施形態においては、液晶装置として、ＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス型の透過型液晶装置に適用した場合を例にあげて説明する。
【００３４】
図１に示すように、液晶装置１は、相互に対向するカラーフィルタ基板２０及び対向基板１０がシール材３０によって、貼りあわせるとともに、両基板１０、２０とシール材３０によって囲まれた領域に液晶（図１においては図示が省略されている。）が封入された構成となっている。シール材３０は、カラーフィルタ基板２０の額縁に沿って略矩形の枠状に形成されるが、液晶を封入するために一部が開口している。なお、カラーフィルタ基板２０及び対向基板１０の外側表面に入射光を偏光させる偏光板や、干渉色を補償するための位相差板等が適宜貼着されるが、本発明とは直接の関係がないため、ここでは図示を省略する。
【００３５】
カラーフィルタ基板２０及び対向基板１０は、ガラスや石英、プラスチック等の光透過性の板状部材である。観察側に位置するカラーフィルタ基板２０の内側（液晶側）表面には複数の走査線２４が形成されている。図に示されるように、複数の走査線２４は、上下半分に分け左右に引き回されている。一方、背面側に位置する対向基板１０の内側の表面には複数のデータ線１１が形成されている。ここで、データ線１１と直交するようにダミーパターン１２が設けられている。このダミーパターン１２を設けることによって、走査線２４の引き回し部分のない領域とある領域でのセルギャップのばらつきを抑えることができる。また、このダミーパターン１２には、識別手段が施されている。
【００３６】
対向基板１０は、シール材３０の外周縁から一方の側に張り出された領域（以下、単に「張り出し領域」と表記する。）１０ａを有する。この張り出し領域１０ａに、駆動用のドライバＩＣ４０がＣＯＧ技術を用いて実装されている。このドライバＩＣ４０は、接着材中に導電粒子を分散させた異方性導電膜（以下、ＡＣＦ（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ　Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ　Ｆｉｌｍ）と表記する。）を介して対向基板１０に接合されている。また、張り出し領域１０ａのうち対向基板１０の縁端部近傍には、複数のパッド１７が形成されるとともに、各パッド１７が形成された部分の近傍にはフレキシブル基板（図示略）の一端が接合されている。このフレキシブル基板の他端には、例えば回路基板等の外部機器が接合されている。
【００３７】
かかる構成の下、ドライバＩＣ４０は、外部機器からフレキシブル基板及びパッド１７を介して入力された信号に応じて、データ線１１にはデータ信号を、走査線２４には走査信号を、生成して出力する。
【００３８】
次に、シール材３０の内周縁によって囲まれた領域（以下、表示領域と表記する。）内の構成を説明する。
【００３９】
図２は、液晶装置１の断面図である。
【００４０】
図２に示すように、液晶装置１は、液晶表示パネル２と、液晶表示パネル２を挟むように設けられた第１の偏光板１８ａ及び第２の偏光板１８ｂと図示しないバックライトと、張り出し領域１０ａに実装されたドライバＩＣ４０（図示せず）と、このドライバＩＣ４０とＡＣＦを介して電気的に接続する配線基板（図示せず）とを有している。
【００４１】
液晶表示パネル２は、カラーフィルタ基板２０と、これに対向する対向基板１０と、これら一対の基板２０及び１０を貼り合わせる基板周縁部に設けられたシール材３０と、一対の基板２０及び１０とシール材３０とにより形成された空間内に挟持された液晶１１０とを有している。一対の基板２０及び１０の間隙はスペーサ１１１によって保持されている。
【００４２】
バックライトは、対向基板１０に隣接して配置され、光源（図示せず）と、光源から光が入射される導光板と、拡散シート、プリズムシート、反射シートとを有している。拡散シートは、液晶表示パネル２の表示画面内における光の輝度をより均一化させるためのものである。プリズムシートは、出射光の配向角を調整し、正面の輝度を向上させるためのものである。導光板は、導光板に対応して配置された液晶表示パネル２に対し、光源部から出射された光を液晶表示パネル２の面内に均一に照射するためのものであり、アクリル樹脂やポリカーボネートなどから形成される。
【００４３】
図１及び図２に示すように、走査線２４は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）膜からなり、カラーフィルタ基板２０の対向基板１０と対向する面上にストライプ状に形成されている。一方、データ線１１は、ＩＴＯ膜からなり、対向基板１０のカラーフィルタ基板２０と対向する面上に、走査線２４と直交してストライプ状に形成されている。また、データ線１１と同様に、対向基板１０上にダミーパターン１２が形成されている。更に、対向基板１０上には、データ線１１に電気的に接続する複数のスイッチング素子としてのＴＦＤ素子２８と、各ＴＦＤ素子２８に電気的に接続した画素電極２５（後述する）とが形成されている。
【００４４】
図２に示すように、液晶表示パネル２を構成するカラーフィルタ基板２０は、第１基板９ｂと、第１基板９ｂ上に額縁状に配置された額縁状の遮光膜５０及びこの額縁状の遮光膜５０と同層からなる各絵素を区画する格子状遮光膜５２と、格子状遮光膜５２の隙間を埋めるように配置された着色層１６０と、着色層及び遮光膜を覆うように配置されたオーバーコート層１３と、オーバーコート層１３上に配置された走査線２４と、走査線２４及びオーバーコート層１３を覆うように配置されたポリイミドなどからなる配向膜１６ｂとを有している。走査線２４はストライプ状に形成された着色層１６０とほぼ直交するように配置されている。
【００４５】
一方、図１及び図２に示すように、液晶表示パネル２を構成する対向基板１０は、第２基板９ａと、第２基板９ａ上に配置された走査線２４とほぼ直交するように配置されたデータ線１１と、データ線１１に電気的に接続する複数のスイッチング素子としてのＴＦＤ素子２８と、各ＴＦＤ素子２８に電気的に接続した画素電極２５と、これらデータ線１１、ＴＦＤ素子２８、及び画素電極２５を覆うように配置されたポリイミドなどからなる配向膜１６ａとを有している。更に、対向基板１０の張り出し部１０ａには、走査線２４が延在した配線とデータ線１１とＡＣＦを介して電気的に接続するドライバＩＣ４０とが実装され、ドライバＩＣ４０とフレキシブル基板とを電気的に接続するためのパッド１７が配置されている。また、上述データ線１１とダミーパターンとはそれぞれ同じ構造を有している。
【００４６】
ここで、ＴＦＤ、データ線及び画素電極の構造について図３を用いて説明する。
【００４７】
図３は、基板９ａ上に配置されるＴＦＤ、データ線及び画素電極の構造を説明する図である。
【００４８】
ＴＦＤ素子２８は、図３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示すように、基板９ａの表面に成膜された下地層上に形成されたＴＦＤ素子２８ａ及びＴＦＤ素子２８ｂからなる２つのＴＦＤ素子２８によって、いわゆるＢａｃｋ−ｔｏ−Ｂａｃｋ構造として構成されている。このため、ＴＦＤ素子２８は、電流−電圧の非線形特性が正負双方向にわたって対称化されている。下地層は、例えば厚さ５０〜２００ｎｍ程度の酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）によって構成されている。
【００４９】
ＴＦＤ素子２８ａ及びＴＦＤ素子２８ｂは、第１金属層３２と、この第１金属層３２の表面に形成された絶縁膜３３と、絶縁膜３３の表面に互いに離間して形成された第２金属層３４ａ、３４ｂとによって構成されている。第１金属層３２は、例えば、厚さ１００〜５００ｎｍ、ここでは２００ｎｍ程度の反射性の金属としてＴａ単体膜、Ｔａ合金膜、タンタルタングステン（ＴａＷ）などによって形成される。これによって、液晶表示パネル２の裏面から識別手段を確認した際に、額縁状の遮光膜５０の色に影響されずに反射し、識別することができる。
【００５０】
絶縁膜３３は、例えば、陽極酸化法によって第１金属層３２の表面を酸化することによって形成された厚さが１０〜３５ｎｍの酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）である。第２金属層３４ａ、３４ｂは、例えばクロム（Ｃｒ）などといった金属膜によって５０〜３００ｎｍ程度の厚さに形成されている。第２金属層３４ａは、そのままデータ線１１の第３層４１ｃとなり、他方の第２金属層３４ｂは、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）などといった透明導電材からなる画素電極２５（１２５）に接続されている。データ線１１は、第１金属層３２と同時に形成された第１層４１ａと、絶縁膜３３と同一工程で形成された第２層４１ｂと、第３層４１ｃとが積層した構造となっている。
【００５１】
液晶装置１では、対向する走査線２４と、画素電極２５、これらに挟持される液晶１１０とにより絵素が形成される。そして、各絵素に印加する電圧を選択的に変化させることによって液晶１１０の光学特性を変化させ、バックライトから照射される光は各画素のこの液晶１１０を透過することによって変調される。
【００５２】
図４は、対向基板上に設けられたダミーパターンとカラーフィルタ基板に設けられた額縁状の遮光膜との位置関係を模式的に示した平面図であり、図５は、このダミーパターンに識別手段を施した例を示した平面図である。
【００５３】
カラーフィルタ基板２０の内側表面に設けられた額縁状の遮光膜５０は、図１及び図４に示すように、対向基板１０上に設けられたダミーパターン１２及び走査線２４の引き回し部分は、観察側から隠れる位置に設けられている。これによって、観察側からダミーパターン１２及び走査線２４の引き回し部分は見えない構成をとる。反対に、背面側から見た場合において、ダミーパターン１２は、反射性の金属部分である第１層４１ａが反射して見える。つまり、図５に示すように、ダミーパターン１２の識別手段は、ダミーパターン１２の反射性部材で形成される第１層１２ａに、記号として例えば図に示すような数字の７３２等の文字を刳り抜いた構成をとる。前述したように、ダミーパターン１２は、額縁状の遮光膜５０によって、観察面からは識別手段を見ることはできないが、背面側からは、ダミーパターン１２上の刳り貫かれた記号が反射するので、背面を見るだけで容易に識別することが可能となる。
【００５４】
本発明の液晶装置１は、額縁状の遮光膜５０が配置されたカラーフィルタ基板２０と、カラーフィルタ基板２０に対向配置され、該額縁状の遮光膜５０と対向する位置に識別手段が施されたダミーパターン１２を有する対向基板１０と、電気光学物質としての液晶１１０とを具備する構成をとる。これによって、略同様の大きさで異なる種類の液晶装置に対しても、カラーフィルタ基板２０に設けられた額縁状の遮光膜５０に対向した対向基板１０に識別手段を施したダミーパターンを設けることによって、新たにスペースを設けずに背面をみるだけで容易に識別することが可能となる。
＜液晶装置の製造方法＞
まず、対向基板１０の製造方法について図６及び図７を用いて説明する。データ線、画素電極、ＴＦＤ素子及びダミーパターンの製造方法について説明する。図６及び図７において、断面図の左にダミーパターン、右に対向基板の製造方法を示している。また、平面図は、対向基板の製造方法を示している。
【００５５】
まず、図６において、下地層形成工程（ａ）では、対向基板及びダミーパターンの基材としての矩形状の透明基板７の表面にＴａ酸化物、例えば、Ｔａ_２Ｏ_５を一様な厚さに成膜して下地層６１を形成する。
【００５６】
次に、第１金属層形成工程（ｂ）において、例えば、下地層６１上にＴａＷをスパッタリングなどによって一様な厚さで成膜し、さらにフォトリソグラフィ技術を用いてデータ線１１の第１層１１ａ、第１金属層３２及びダミーパターン１２の第１層１２ａを同時に形成する。また、データ線１１の第１層１１ａと第１金属層３２とはブリッジ部６９でつながっている。
【００５７】
ここで、ダミーパターン１２の第１層１２ａを形成する際に、フォトリソグラフィ技術において、ダミーパターン１２の第１層１２ａに識別手段である記号が予め記憶されたマスクを用いてパターニングを行う。これによって、前述の図５に示したような記号を形成することができる。
【００５８】
次に、絶縁層形成工程（ｃ）において、データ線１１の第１層１１ａ及びダミーパターン１２の第１層１２ａを陽極として陽極酸化処理を行い、データ線１１の第１層１１ａの表面、第１金属層３２の表面及びダミーパターン１２の第１層１２ａの表面を絶縁膜である陽極酸化膜を一様な厚さで形成する。これにより、データ線１１の第２層１１ｂとなる絶縁膜、第１のＴＦＤ素子２８ａ及び第２のＴＦＤ素子２８ｂの絶縁膜３３及びダミーパターン１２の第２層１２ｂとなる絶縁膜が形成される。
【００５９】
次に、図７の第２金属層形成工程（ｄ）において、Ｃｒをスパッタリングなどによって一様な厚さで成膜した後、フォトリソグラフィ技術を利用して、データ線１１の第３層１１ｃ、第１のＴＦＤ素子２８ａの第２金属層３４ａ、第２のＴＦＤ素子２８ｂの第２金属層３４ｂ及びダミーパターン１２の第３層１２ｃを形成する。
【００６０】
次に、下地層除去工程（ｅ）において、画素電極２５の形成予定領域の下地層６１を除去し、ブリッジ部６９を透明基板７から除去する。以上により、ＴＦＤ素子２８が形成される。次に、電極形成工程（ｆ）において、画素電極２５を形成するためのＩＴＯをスパッタリングなどによって一様な厚さで成膜し、さらに、フォトリソグラフィ技術により、１画素分の大きさに相当する所定形状の画素電極２５をその一部が第２金属層３４ｂと重なるように形成する。なお、（ｅ）（ｆ）においては、ダミーパターン１２の工程がないので、図示を省略する。
【００６１】
これらの一連の工程により、ＴＦＤ素子２８、データ線１１、画素電極２５及びダミーパターン１２が形成される。
【００６２】
この後、図示を省略するが、対向基板１０の表面にポリイミドなどの膜を形成し、この膜にラビング処理などの配向処理を施して、配向膜を形成する。これにより対向基板１０が完成する。
【００６３】
次に、カラーフィルタ基板２０の製造方法について説明する。
【００６４】
まず、矩形状の透明基板上に、Ｃｒをスパッタリングなどによって一様な厚さで成膜した後、フォトリソグラフィ技術を利用して、額縁状の遮光膜５０及びマトリクス状遮光膜５１を形成する。額縁状の遮光膜５０及びマトリクス状遮光膜５１は、連接している。
【００６５】
次に、例えばフォトリソグラフィ技術を利用して、マトリクス状遮光膜５１の開口部に対応した位置にＲ、Ｇ、Ｂからなるカラーフィルタを形成する。カラーフィルタ材料としては、例えば顔料が分散されたアクリル樹脂を用いることができ、カラーフィルタの厚みは例えば０．５〜２μｍ程度である。
【００６６】
次に、スピンコートなどによりカラーフィルタを覆うように、厚さ１〜４μｍのアクリル樹脂からなるオーバーコート層を形成する。
【００６７】
次に、オーバーコート層上にＩＴＯをスパッタリングなどによって一様な厚さで成膜し、さらに、フォトリソグラフィ技術により、複数の帯状の走査線２４を形成する。
【００６８】
この後、カラーフィルタ基板２０の表面にポリイミドなどの膜を形成し、この膜にラビング処理などの配向処理を施して、配向膜を形成する。これによりカラーフィルタ基板２０が完成する。
【００６９】
上述のように製造された対向基板１０及びカラーフィルタ基板２０の一方の基板にシール材３０を形成し、両基板をデータ線及び走査線が交差し対向するように重ね合わせ、シール材３０により接着固定する。その後、液晶注入口から、両基板及びシール材により形成された領域に、液晶を注入する。注入後、液晶注入口を封止材により封止する。次に、対向基板１０及びカラーフィルタ基板２０を挟むように、それぞれの基板に隣接して一対の偏光板を配置し、液晶セルを形成する。その後、この液晶セルをバックライトとともに筐体に組み込むことより、液晶装置１が完成する。
【００７０】
本実施形態においては、図４に示すようにダミーパターン１２に識別手段を設けたが、例えば図８に示すように額縁状の遮光膜５０が形成されている領域であれば、例えば上部に同様にダミーパターン１２を設け、そのダミーパターン１２上に識別手段を設けてもよい。
【００７１】
また、上述した実施形態では、スイッチング素子としてＴＦＤ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｄｉｏｄｅ：薄膜ダイオード）素子を用いているが、ＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：薄膜トランジスタ）素子を設けて液晶を駆動する液晶装置に適用することもできる。
【００７２】
（第２実施形態）
図９は、本発明に係る液晶装置の第２実施形態を示している。この第２実施形態は、単純マトリクス方式の液晶装置に本発明を適用した場合の実施形態である。また、図１０は、図９における液晶装置の断面構造を示している。また、図１１は、図９に示す引回し配線に識別手段が施された平面図を示している。なお、上記の各図においては、構造を分かり易く示すために、各構成要素の膜厚や寸法の比率等は実際のものとは異なっている。
【００７３】
図９において、本実施形態に係る液晶装置２００は、矩形状である対向基板２１０と、同じく矩形状であるカラーフィルタ基板２２０とが、それらの周辺において額縁状のシール材２３０によって互いに貼り合わされることにより、互いに対向して配置されている。
【００７４】
シール材２３０の一部は各基板２１０、２２０の一辺側で開口し、液晶注入口（図示せず）となり、各基板２１０、２２０とシール材２３０とに囲まれた間隙に液晶１１０が封入され、液晶注入口は封止材によって封止されている。
【００７５】
図９において、対向基板２１０は、カラーフィルタ基板２２０よりも張り出す張り出し領域２１０ａがあり、この張り出し領域２１０ａに駆動用ＩＣ２０７が実装され、この駆動用ＩＣ２０７によって対向基板２１０及びカラーフィルタ基板２２０の両方の電極が駆動される。また、額縁状の遮光膜２５０は、有効表示領域の周囲を遮光している。
【００７６】
図９において、対向基板２１０上に、図中Ｙ方向に延在する複数の直線状のセグメント電極２４０が互いに平行に形成され、カラーフィルタ基板２２０上には、セグメント電極２４０と直交するように図中Ｘ方向に延在する複数の直線状のコモン電極２７０が互いに平行に形成され、ストライプ状に形成されている。
【００７７】
複数のコモン電極２７０のうち、図９のコモン電極２７０の上側半分については、左端から引き回されている。コモン電極２７０の下側半分については、右端から引き回されている。このように引き回されたコモン電極２７０及びセグメント電極２４０は、駆動用ＩＣ２０７の出力端子に接続されている。
【００７８】
図１０において、対向基板２１０の下面側、すなわち観察側の裏面側に照明装置（図示せず）がバックライトとして配置されている。また、カラーフィルタ基板２２０の液晶側表面にカラーフィルタ２６０が形成されている。このカラーフィルタ２６０はＲ、Ｇ、Ｂの各色素層２６０ｒ、２６０ｇ、２６０ｂをストライプ配列で並べることによって形成されている。なお、色素層の配列は、ストライプ配列以外に、例えば、デルタ配列や、モザイク配列等とすることもできる。各色素層２６０ｒ、２６０ｇ、２６０ｂの間はブラックマスク２５２によって区画されている。このブラックマスク２５２は、例えば樹脂ブラックや比較的反射率の低いクロム等といった遮光性の金属によって形成される。
【００７９】
各色素層２６０ｒ、２６０ｇ、２６０ｂは各セグメント電極２４０の延在方向に対応して配置されており、図１０に示すＲ、Ｇ、Ｂの３個の表示ドットによって１つの画素が構成されている。対向基板２１０の液晶側表面には、例えば反射性導電膜としてのＡＰＣ（Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金、すなわち銀・パラジウム・銅合金）膜２１８と金属酸化物膜としてのＩＴＯ膜２１９とから成る積層構造が形成され、この積層構造によってセグメント電極２４０が構成されている。ここで、ＡＰＣ膜２１８は、電極を構成すると共に反射膜として機能するようになっている。
【００８０】
引回し配線２７０ａも、セグメント電極２４０と同様に、ＡＰＣ膜２１８とＩＴＯ膜２１９との積層膜によって構成されている。図１１に示すように、この引き回し配線２７０ａのどちらか一方の反射性導電膜としてのＡＰＣ膜２１８には、識別手段として例えば数字等の記号が施され、さらに、この上に通常通りに透明のＩＴＯ膜２１９が形成されている。ＩＴＯ膜２１９のエッジ部分はＡＰＣ膜２１８の外側へ張り出している。このため、ＩＴＯ膜２１９は単にＡＰＣ膜２１８の上面だけに積層されるだけでなく、ＡＰＣ膜２１８の側面も覆うように形成されている。
【００８１】
図１１に示すように、本実施形態の液晶装置２００は、額縁状の遮光膜２５０の対向する位置に、新たなダミーパターンを設けず、引き回し配線２７０ａのＩＴＯ膜２１９の内部にあるＡＰＣ膜２１８にのみ識別手段を施すので、液晶装置２００の裏面から略同じ大きさの異なる液晶装置２００の識別を容易にできる。
【００８２】
また、上記においては、反射性導電膜として、ＡＰＣ膜を用いたが、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｇから選ばれる元素の単体膜、又はＣｒ、Ａｌ、Ａｇから選ばれる元素を主成分として含む合金膜を用いても良い。
【００８３】
（第２実施形態の変形例）
第２実施形態の変形例を以下で説明する。
【００８４】
図１２は、第２実施形態に係る液晶装置の断面構造の変形例を示し、液晶装置の平面構造及び識別手段の平面構造は第２実施形態と同様とするので図示を省略する。
【００８５】
また、図１０と異なる部分である配線構造についてのみ説明し、上述と同様の部分は説明を省略する。
【００８６】
対向基板２１０の液晶側表面には、例えばＩＴＯによって下地膜２１９ｂが形成され、その下地膜２１９ｂの上に、反射性導電膜としてのＡＰＣ（Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金、すなわち銀・パラジウム・銅合金）膜２１８と金属酸化物膜としてのＩＴＯ膜２１９ａとから成る積層構造が形成され、この積層構造によってセグメント電極２４０が構成されている。
【００８７】
コモン電極２７０と引回し配線２７０ａは、セグメント電極２４０と同様に、下地膜２１９ｂとＡＰＣ膜２１８とＩＴＯ膜２１９ａの積層膜によって構成されている。図１１に示すように、この引き回し配線２７０ａのどちらか一方の反射性導電膜としてのＡＰＣ膜２１８には、識別手段として例えば数字等の記号が施され、さらに、この上に通常通りに透明のＩＴＯ膜２１９が形成されている。ＩＴＯ膜２１９ａのエッジ部分はＡＰＣ膜２１８の外側へ張り出しており、そのエッジ部分の底面が下地膜２１９ｂの上面に接触している。このため、ＩＴＯ膜２１９ａは単にＡＰＣ膜２１８の上面だけに積層されるだけでなく、ＡＰＣ膜２１８の側面も覆うように形成されている。
【００８８】
図１１に示すように、本実施形態の変形例の液晶装置２００は、額縁状の遮光膜２５０の対向する位置に、新たなダミーパターンを設けず、引き回し配線２７０ａの下地膜２１９ｂとＩＴＯ膜２１９ａの内部にあるＡＰＣ膜２１８にのみ識別手段を施すので、液晶装置２００の裏面から略同じ大きさの異なる液晶装置２００の識別を容易にできる。
【００８９】
（第３実施形態）
図１３は、本発明に係る液晶装置の第３実施形態の断面図を示している。この第３実施形態は、第２実施形態と同様に、単純マトリクス方式の液晶装置に本発明を適用した場合の実施形態である。第３実施形態は、第２実施形態とセグメント電極及びコモン電極にＡＰＣ膜を有さない点及びカラーフィルタ基板側に反射板を有する点で異なる。なお、図においては、構造を分かり易く示すために、各構成要素の膜厚や寸法の比率等は実際のものとは異なっている。
【００９０】
図１３において、本実施形態に係る液晶装置２００は、矩形状である対向基板２１０と、同じく矩形状であるカラーフィルタ基板２２０とが、それらの周辺において額縁状のシール材２３０によって互いに貼り合わされることにより、互いに対向して配置されている。
【００９１】
カラーフィルタ基板２２０は、液晶側表面にカラーフィルタ２６０が形成され、カラーフィルタ２６０と第１基板２０９ｂとの間には反射板２９０が設けられている。この反射板２９０には、額縁状の遮光膜２５０で遮光されている遮光領域２９０ａがあり、この遮光領域２９０ａに識別手段が施されている。なお、この識別手段は、前述した識別手段と同様に刳り貫かれた構成をとる。これによって、カラーフィルタ基板２０上の額縁状の遮光膜５０と第１基板２０９ｂとの間にある反射板２９０の遮光領域２９０ａに識別手段を設けることによって、新たに識別用の材料を設けるのではなく、１枚の基板を有効活用して、容易に識別することができる。
【００９２】
（変形例）
また、上述した実施形態では、電気光学装置として、液晶装置に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、エレクトロルミネッセンス装置、特に、有機エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置等や、プラズマディスプレイ装置、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）装置、ＬＥＤ（発光ダイオード）表示装置、電気泳動表示装置、薄型のブラウン管、液晶シャッター等を用いた小型テレビ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を用いた装置などの各種の電気光学装置に適用できる。
【００９３】
＜電子機器＞
さらに、本発明の液晶装置１を電子機器に搭載した例を以下に記す。
【００９４】
（携帯電話機）
図１４は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記と同様の液晶装置２００と、これを制御する制御手段１２００とを有する。ここでは、液晶装置２００を、パネル構造体２００Ａと、駆動用ＩＣ等で構成される駆動回路２００Ｂとに概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示情報処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを有する。
【００９５】
表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ　Ｏｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されている。
【００９６】
表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供給する。駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００９７】
また、本発明に係る電子機器としては、携帯電話機、ＰＤＡ（パーソナル・デジタル・アシスタンツ）、パーソナルコンピュータ、携帯型のパーソナルコンピュータ、テレビジョンビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、車載用モニタ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機などがあげられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として本発明に係る液晶装置を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶装置の概略斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る液晶装置の概略断面図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る液晶装置に設けられるＴＦＤ、データ線及び画素電極の構造を説明する図であり、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は（ａ）の線Ａ−Ａ’における概略断面図、（ｃ）は概略斜視図である。
【図４】本発明の第１実施形態に係る対向基板上に設けられたダミーパターンとカラーフィルタ基板に設けられた額縁状の遮光膜との位置関係を模式的に示した概略平面図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係るダミーパターンに識別手段を施した例を示した概略平面図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係るデータ線、画素電極、ＴＦＤ素子及びダミーパターンの製造方法の概略断面図である。
【図７】本発明の第１実施形態に係るデータ線、画素電極、ＴＦＤ素子及びダミーパターンの製造方法の概略断面図である。
【図８】本発明の第１実施形態の他の例に係る対向基板上に設けられたダミーパターンとカラーフィルタ基板に設けられた額縁状の遮光膜との位置関係を模式的に示した概略平面図である。
【図９】本発明の第２実施形態に係る液晶装置の概略平面図である。
【図１０】本発明の第２実施形態に係る液晶装置の概略断面図である。
【図１１】本発明の第２実施形態に係る液晶装置の引回し配線に識別手段が施された概略平面図である。
【図１２】本発明の第２の実施形態の変形例に係る液晶装置の概略断面図である。
【図１３】本発明の第３実施形態の他の例に係る液晶装置の概略断面図である。
【図１４】本発明に係る電子機器の全体構成を示す概略構成図である。
【符号の説明】
１…液晶装置
２…液晶表示パネル
１０…対向基板
２０…カラーフィルタ基板
５０…額縁状の遮光膜
１１０…液晶
１６０…着色層
２００…液晶装置
２５０…額縁状の遮光膜
２６０…カラーフィルタ
２７０…引き回し配線

Claims

額縁状の遮光膜が配置された第１基板と、
前記第１基板に対向配置され、前記遮光膜と対向する位置に識別手段を有する第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板により挟持された電気光学物質と
を具備することを特徴とする電気光学装置。
前記識別手段は反射性部材からなることを特徴とする請求項１記載の電気光学装置。
前記反射性部材は、反射性金属であることを特徴とする請求項２記載の電気光学装置。
前記第２基板は第１領域と該第１領域を囲む第２領域とを有し、
前記第２基板上には、前記第１領域上に配置された配線と、前記第２領域上に配置された前記配線に電気的に接続し前記配線に対し信号を入力するための引き回し配線とが配置され、
前記識別手段は、前記第２領域であって、前記引き回し配線が配置されない領域に配置されていることを特徴とする請求項１から請求項３いずれか一項に記載の電気光学装置。
前記配線は反射性金属を有し、前記識別手段は前記反射性金属と同層の反射性金属を有することを特徴とする請求項４記載の電気光学装置。
前記反射性金属はアルミニウムを含む金属であることを特徴とする請求項３または請求項５記載の電気光学装置。
前記反射性金属は銀、パラジウム及び銅を有する合金であることを特徴とする請求項３または請求項５記載の電気光学装置。
第１基板と、
前記第１基板上に配置された反射電極と、
前記反射電極を含む前記第１基板上に配置された着色層と、
前記第１基板上に前記着色層を囲むように配置された額縁状の遮光膜と、
前記第１基板上に前記遮光膜に対応し、前記遮光膜と前記第１基板との間に配置された識別手段と、
前記第１基板により支持される電気光学物質と
を具備することを特徴とする電気光学装置。
前記識別手段は、前記反射電極と同一層からなることを特徴とする請求項８記載の電気光学装置。
第１基板に額縁状の遮光膜が配置する工程と、
前記第１基板に対向配置される第２基板に前記遮光膜と対向する位置に識別手段を形成する工程と、
前記第１基板及び前記第２基板に電気光学物質を挟持する工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
第１基板に反射電極を配置する工程と、
前記第１基板上に着色層を配置する工程と、
前記第１基板上に前記着色層を囲むように額縁状の遮光膜を配置する工程と、
前記第１基板上に前記遮光膜に対応し、前記遮光膜と前記第１基板との間に識別手段を配置する工程と、
前記第１基板に電気光学物質を支持する工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載の電気光学装置を搭載することを特徴とする電子機器。