JP2004055567A - 通信用発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】III 族窒化物系化合物半導体を用いた通信用の発光素子において、発光層を井戸層の数を1から5の範囲の任意の数とした量子井戸構造とし、発光層の発光部の面積を0.001mm2 〜0.032mm2 とした。これにより、高域遮断周波数が50MHz 以上となり、従来素子の30MHz に比べて、1.7倍に高域遮断周波数が向上した。また、III 族窒化物系化合物半導体発光素子によりプラスチックファイバーの伝送損失の低い波長領域である450〜550nmの光を発光させることができる。この結果、プラスチックファイバーを用いた簡便なLANを安価に構築することが可能となる。
【選択図】 図3
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光通信用のIII 族窒化物系化合物半導体を用いた発光素子に関する。例えば、プラスチックオプテカルファイバー(POF)を用いた通信システムの光送信器に用いることができる。
【0002】
【従来の技術】
最近、プラスチックオプテカルファイバー(POF)を用いた短距離のLAN通信の光源に発光ダイオードを用いたシステムが知られている。そのシステムでは、光通信用の発光素子として、GaAs系の化合物半導体を用いた赤色の発光ダイオードが用いられ、発光ダイオードを用いた短距離通信が盛んに研究開発されている。この赤色の発光ダイオードの高域遮断周波数は30MHz である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
POFの伝送損失は、短波長の波長領域、例えば、発光波長450nm〜550nmの領域で小さいので、POFを用いた光通信には、赤色の光を用いるよりは、発光波長450nm〜550nmの領域の光を発光する発光ダイオードを用いることが望ましい。そのためには、III 族窒化物系化合物半導体を用いた発光ダイオードを光通信用の光源として用いることが考えられる。
【0004】
しかしながら、現在のIII 族窒化物系化合物半導体発光ダイオードを用いたのでは、応答速度が遅く高域遮断周波数が約30MHz であり低いという問題がある。
【0005】
本発明は、上記の課題を解決するために成されたものであり、その目的は、光通信用に用いるIII 族窒化物系化合物半導体発光ダイオードの応答速度を50MHz 程度以上に向上させて高域遮断周波数を高くすることである。
【0006】
【課題を解決するための手段、並びに、作用及び発明の効果】
上記の課題を解決するための請求項1に記載の発明の構成は、III 族窒化物系化合物半導体を用いた通信用の発光素子において、発光層を井戸層の数を1から5の範囲の任意の数とした量子井戸構造とし、発光層の発光部の面積を0.001mm2 〜0.032mm2 としたことを特徴とする通信用発光素子である。
【0007】
応答速度を向上させるためには、発光ダイオードの容量を小さくする必要があることが一般的に知られている。容量を小さくするためには、発光に寄与する不平衡な電子と正孔が存在する発光層の発光部分の発光面積を小さくすると共に発光層の発光部分の厚さを大きくすることが必要である。しかしながら、本発明者は、色々と実験を行った結果、不平衡な電子と正孔を閉じ込めている発光層の発光部分に当たる井戸層の数を増加させて発光層の厚さを大きくしても、応答速度を大きくできないことを発見した。
【0008】
すなわち、井戸層の数としては、1〜5の範囲の任意の数が応答速度の向上の観点から望ましいことが分かった。井戸層の数が1の場合には、単一量子井戸構造(SQW)であり、井戸層の数が2以上の場合には、多重量子井戸構造(MQW)である。井戸層の数が6以上となると、応答速度が低下すると共に発光出力も低下するので、井戸層の数としては、1〜5が望ましい。さらに望ましい範囲の井戸層の数は1〜3であり、最も望ましくは、井戸層の数は1又は2である。また、発光層の発光部の面積を0.001mm2 〜0.032mm2 とすることで、応答速度を向上させることができる。応答速度は発光層の発光部の面積が小さい程、大きくなる。しかし、発光層の発光部の面積が小さくなると、出力が低下する。よって、光通信に使用できる出力を得るためには、発光層の発光部の面積は0.001mm2 以上が望ましく、応答速度を向上させるためには、発光層の発光部の面積は0.032mm2 以下が望ましい。よって、出力と応答速度との観点から、発光層の発光部の面積は、0.001mm2 〜0.032mm2 が望ましい。発光層の発光部のさらに望ましい範囲は、0.023mm2 〜0.032mm2 である。
【0009】
発光層の発光部の面積を0.001mm2 〜0.032mm2 とし、井戸層の数を1〜5の範囲の任意の数とすることで、高域遮断周波数を50MHz 以上と、従来のIII 族窒化物系化合物半導体発光素子の高域遮断周波数約30MHz の1.7倍以上に向上させることができる。
【0010】
発光層の井戸層には、発光波長に応じて、組成比が適切に設定されたInxGa1−xN(0 <x <1)を用いるのが望ましく、障壁層にはInyGa1−yN(0 <y <1,y <x)、GaN 、Gaz Al1−zN(0 ≦z <1)、InGaAlN(任意の組成比) を用いることができる。
【0011】
また、請求項2に記載の発明は、井戸層の厚さは、1nm 〜5nm であることを特徴とする請求項1に記載の通信用発光素子である。井戸層の厚さをこの範囲とすることで、それぞれの数の井戸層を有した発光素子において、光出力を最大とすることができる。
【0012】
また、請求項3に記載の発明は、発光層は多重量子井戸構造から成り、障壁層の厚さは、5nm〜20nmであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の通信用発光素子である。障壁層の厚さをこの範囲とすることで、それぞれの数の井戸層を有した発光素子において、光出力を最大とすることができる。
【0013】
また、請求項4に記載の発明は、発光層から発光する光の波長は、450nm〜550nmの範囲に存在することを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載の通信用発光素子である。この波長領域を使用することで、プラスチックファイバーにおける伝送損失を低減させることができる。この結果、発光素子の出力が小さくとも、比較的長い距離の光通信が可能となる。
【0014】
また、請求項5に記載の発明は、通信用発光素子はプラスチックファイバーに接続されることを特徴する請求項1乃至請求項4の何れか1項に記載の通信用発光素子である。III 族窒化物系化合物半導体発光素子を用いることで、プラスチックファイバーの伝送損失の小さな波長領域を利用することができ、簡便且つ安価な通信システム、特に、短距離LANを安価に構築することが可能となる。
【0015】
尚、上記の半導体発光素子の半導体材料は限定されるものではないが、半導体発光素子をIII 族窒化物半導体で構成した場合には、形成する各半導体層は、少なくともAlxGayIIn1−x−y(N(0≦x≦1,0≦y≦1,0≦x+y≦1)にて表される2元系、3元系若しくは4元系の半導体から成る III族窒化物系化合物半導体等で形成することができる。また、これらの III族元素の一部は、ボロン(B )、タリウム(Tl)で置き換えても良く、また、窒素(N )の一部をリン(P )、砒素(As)、アンチモン(Sb)、ビスマス(Bi)で置き換えても良い。
【0016】
更に、これらの半導体を用いてn型の III族窒化物系化合物半導体層を形成する場合には、n型不純物として、Si、Ge、Se、Te、C 等を添加し、p型不純物としては、Zn、Mg、Be、Ca、Sr、Ba等を添加することができる。
【0017】
また、これらの半導体層を結晶成長させる基板としては、サファイヤ、スピネル、Si、SiC、ZnO、MgO 或いは、 III族窒化物系化合物単結晶等を用いることができる。
【0018】
また、これらの半導体層を結晶成長させる方法としては、分子線気相成長法(MBE)、有機金属気相成長法(MOCVD)、ハライド気相成長法(HDVPE)、液相成長法等が有効である。
【0019】
以上の本発明の手段により、前記の課題を効果的、或いは合理的に解決することができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体的な実施例に基づいて説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではない。
図1に、本発明の実施例に係る通信用の半導体発光素子100の模式的な断面図を示す。半導体発光素子100では、図1に示す様に、厚さ約300μm のサファイヤ基板101の上に、窒化アルミニウム(AlN) から成る膜厚約30nmのバッファ層102が成膜され、その上にシリコン(Si)ドープのGaN から成る膜厚約4μm のn型コンタクト層103(高キャリヤ濃度n+ 層)が形成されている。
【0021】
また、このn型コンタクト層103の上には、膜厚約100nmのSiドープのAl0.3 Ga0.7 Nから成るn型半導体層104が形成され、更にその上には、発光層105が形成されている。
【0022】
更に、この発光層105の上には、Mgドープのp型Al0.2 Ga0.8 N から成る膜厚約30nmのp型半導体層106が形成されており、また、p型半導体層106の上には、Mgドープのp型Al0.06Ga0.94N から成る膜厚約70nmのp型コンタクト層107が形成されている。
【0023】
又、p型コンタクト層107の上には金属蒸着による透光性薄膜正電極110が、n型コンタクト層103上には負電極140が形成されている。透光性薄膜正電極110は、p型コンタクト層107に直接接合する膜厚約1.5nmのコバルト(Co)より成る薄膜正電極第1層111と、このコバルト膜に接合する膜厚約6nmの金(Au)より成る薄膜正電極第2層112とで構成されている。
【0024】
厚膜正電極120は、膜厚約18nmのバナジウム(V )より成る厚膜正電極第1層121と、膜厚約1.5μmの金(Au)より成る厚膜正電極第2層122と、膜厚約10nmのアルミニウム(Al)より成る厚膜正電極第3層123とを透光性薄膜正電極110の上から順次積層させることにより構成されている。
【0025】
多層構造の負電極140は、n型コンタクト層103の一部露出された部分の上から、膜厚約18nmのバナジウム(V) 層141と膜厚約100nmのアルミニウム(Al)層142とを積層させることにより構成されている。
【0026】
また、最上部には、SiO2膜より成る保護膜130が形成されている。
サファイヤ基板101の底面に当たる反対側の最下部には、膜厚約500nmのアルミニウム(Al)より成る反射金属層150が、金属蒸着により成膜されている。尚、この反射金属層150は、Rh,Ti,W 等の金属の他、TiN,HfN 等の窒化物でも良い。
【0027】
発光層105は単一量子井戸構造では膜厚約3nmのIn0.25Ga0.75N の井戸層で構成されており、多重量子井戸構造では膜厚約3nmのIn0.25Ga0.75N の井戸層と膜厚約13nmのAl0.3 Ga0.7 N より成る障壁層との多重層で構成されている。
【0028】
上記の基本的な構造の発光素子において、井戸層や障壁層の組成比、特に、井戸層の組成比を適切に設定することで、発光波長を493nm〜499nmとし、発光層105における実質的に光を放射する部分である発光部の面積を0.023mm2 として、井戸層の数を1、3、5、10とした発光素子を製造して、矩形波電圧を発光ダイオードに印加した時の出力光をフォトダイオードで受光し、その光出力を測定すると共にその波形の立ち下がり時間を測定した。
【0029】
図2に出力と井戸層の数の関係の測定結果を示し、図3に出力と立ち下がり時間(nm)との関係を示す。図2、図3から理解されることは、光出力は井戸層の数が5でほぼ飽和し、井戸層の数が5よりも大きくなると、光出力は減少する傾向がある。又、図3から理解されることは、井戸層の数が増加するに連れて、立ち下がり時間が長くなる、すなわち、応答速度は低下することが理解される。特に、井戸層の数が5を越えると急激に応答速度が低下すると考えられる。すなわち、井戸層の数が5の場合には、井戸層の数が1の場合に比べて、1.25倍の光出力が得られているが、立ち下がり時間は井戸層の数が1の場合に比べて2〜2.5倍と長くなっている。それに対して、井戸層の数が10となると、井戸層の数が5に比べて、光出力は1/2以下となり、立ち下がり時間は2.5〜3倍と長くなっている。以上のことら、井戸層の数は、1〜5の範囲が望ましいことが分かる。特に、応答速度の点からいえば、井戸層の数を1、すなわち、SQW構造が最も望ましい。この場合には、出力をそれほど低下させることなく、応答速度を向上させることができる。井戸層の数が2、3の場合も同様に、出力を低下させることなく、応答速度を向上させることができる。
【0030】
同様に、発光部の面積を0.023mm2 として、井戸層の組成を変化させて発光波長を500nmにして光出力と高域遮断周波数(=0.35/立ち下がり時間)との関係を測定した。その結果を図4に示す。井戸層の数が増加するに連れて、高域遮断周波数は低下しているのが分かる。そして、光出力は井戸層の数が5を越えると急激に低下するのが分かる。このことからも、発光層における井戸層の数は、1〜5が望ましいことが理解される。特に望ましいのは、井戸層の数は1で、次に望ましい井戸層の数は、2、3である。井戸層の数が1 〜3 の場合には、確実に、高域遮断周波数50MHz 以上が得られる。
【0031】
次に、井戸層の組成を変化させて、発光波長を520nmにして、井戸層の数を1、3、5として、それぞれに対して発光部の面積を0.001mm2 、0.023mm2 、0.032mm2 、0.048mm2 とした発光素子を製造し、それぞれについて、光出力と応答速度を測定した。その結果を図5の(a)、(b)の表に示す。面積が小さくなる程出力は低下するが応答速度は向上する。そして、出力の低下率よりも応答速度の上昇率の方が大きいことが理解される。発光部の面積が0.023mm2 、0.032mm2 の場合には、光出力の低下は発光部面積0.048mm2 の素子に比べて2割り程度であるが、応答速度の向上率は1.4〜1.6倍になっていることが理解される。これらのことから、POFを用いた光通信を可能とするためには、発光素子の発光部の面積は、0.001mm2 〜0.032mm2 が望ましく、発光素子の井戸層の数は、1〜5が望ましいことが分かる。
【0032】
次に、発光波長が499nm〜525nmとなり、発光部の面積を、それぞれ、0.001mm2 、0.023mm2 、0.032mm2 、0.048mm2 として、井戸層の組成を各種、適切に設定して、井戸層の数を変化させることで、発光層の厚さをいろいろと変化させた発光素子を製造した。そして、発光層の厚さと発光素子の容量との関係を測定した。その結果である容量と発光素子の厚さとの関係を高域遮断周波数をパラメータとして図6に示す。また、発光層の面積を0.023mm2 である素子に注目すると、図7の結果が得られる。図6、図7から理解されることは、高域遮断周波数75〜100MHz が得られるのは、発光層が3nmの厚さ、すなわち、単一量子井戸構造の場合であることが理解される。この時の容量は22pFであることが分かる。また、井戸層の数を増加させて発光層の厚さを増加させると容量は小さくなるが、高域遮断周波数は逆に低下していることが分かる。例えば、井戸層の数を3にして、発光層の厚さを約40nmとすると高域遮断周波数は、50〜74MHz に低下することが理解される。
【0033】
図6、図7から分かることは、容量が比較的大きくとも発光層の厚さが薄い場合には、高域遮断周波数が高くなるということである。そして、図6、7の直線Aより下の領域になるように容量と発光層の厚さ、又は、井戸層の層数を設定すると、高域遮断周波数50MHz が実現される場合があり、直線Bより下の領域で確実に、高域遮断周波数50MHz 以上が実現され、直線Cより下の領域では、高域遮断周波数80MHz 以上が確実に実現される。
【0034】
尚、上記の実施例においては、ワイヤボンディング型の発光ダイオードについて説明したが、本発明はフリップチップ型等の任意の型の発光ダイオードであっても同様に適応できる。フリップチップ型の場合には、反射金属層150は不要であり、透光性薄膜正電極110の代わりに、ロジウム(Rh)等の反射率の良好な金属を用いた膜厚約200nm程度の非透光性の厚膜電極を形成する。この場合には、厚膜正電極120は不要である。
【0035】
(変形例)
本発明は、上記実施例に限定されるものではなく他に様々な変形が考えられる。例えば、 III族窒化物系化合物半導体素子として、GaN 系の半導体層を用いたが、勿論Gax In1−x N 等から成る層、その他、任意の混晶比の3元乃至4元系のAlGaInN としても良い。より具体的には、「Alx Gay In1−x−y N (0≦x≦1,0≦y≦1,0≦x+y≦1)」成る一般式で表される3元(GaInN ,AlInN ,AlGaN )或いは4元(AlGaInN )の III族窒化物系化合物半導体等を用いることもできる。また、そられの化合物のN の一部をP 、As等のV 族元素で置換しても良い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係る通信用の半導体発光素子100の断面図。
【図2】本実施例に係る発光素子の井戸層の数と出力との関係を測定した特性図。
【図3】本実施例に係る発光素子の出力と出力光の立ち下がり時間との関係を測定した特性図。
【図4】本実施例に係る発光素子の出力と出力光の高域遮断周波数との関係を測定した特性図。
【図5】本実施例に係る発光素子の井戸層の数及び発光面積と、光出力及び応答速度との関係を測定した結果を表で示した図。
【図6】本実施例に係る発光素子で、各種の発光面積を有した素子の発光層の厚さと容量との関係の測定結果を高域遮断周波数をパラメータとして表した特性図。
【図7】本実施例に係る発光素子で、同一の発光面積における素子の発光層の厚さと容量との関係の測定結果を高域遮断周波数をパラメータとして表した特性図。
【符号の説明】
100 … 通信用の半導体発光素子
101 … サファイヤ基板
102 … バッファ層
103 … 高キャリア濃度n+ 層
104 … n型半導体層
105 … 発光層
106 … p型半導体層
107 … p型コンタクト層
110 … 透光性薄膜正電極
120 … 正電極
130 … 保護膜
140 … 負電極
150 … 反射金属層
Claims (5)
- III 族窒化物系化合物半導体を用いた通信用の発光素子において、
発光層を井戸層の数を1から5の範囲の任意の数とした量子井戸構造とし、
発光層の発光部の面積を0.001mm2 〜0.032mm2 としたことを特徴とする通信用発光素子。 - 前記井戸層の厚さは、1nm 〜5nm であることを特徴とする請求項1に記載の通信用発光素子。
- 前記発光層は多重量子井戸構造から成り、障壁層の厚さは、5nm〜20nmであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の通信用発光素子。
- 前記発光層から発光する光の波長は、450nm〜550nmの範囲に存在することを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載の通信用発光素子。
- 前記通信用発光素子はプラスチックファイバーに接続されることを特徴する請求項1乃至請求項4の何れか1項に記載の通信用発光素子。
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071120 |