JP2004009144A - Method of manufacturing micro parts - Google Patents
Method of manufacturing micro parts Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004009144A JP2004009144A JP2002161389A JP2002161389A JP2004009144A JP 2004009144 A JP2004009144 A JP 2004009144A JP 2002161389 A JP2002161389 A JP 2002161389A JP 2002161389 A JP2002161389 A JP 2002161389A JP 2004009144 A JP2004009144 A JP 2004009144A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- resin base
- micro component
- micro
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 36
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical group CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 claims description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 2
- 238000005429 filling process Methods 0.000 claims 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 abstract description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 3
- 238000001015 X-ray lithography Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- B81C99/0075—Manufacture of substrate-free structures
- B81C99/0085—Manufacture of substrate-free structures using moulds and master templates, e.g. for hot-embossing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2201/00—Specific applications of microelectromechanical systems
- B81B2201/03—Microengines and actuators
- B81B2201/035—Microgears
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マイクロマシンを構成するマイクロ部品の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
マイクロマシンを構成するマイクロ部品は、半導体製造技術を利用したLIGA(Lithographie Galvanoformung abformung)プロセスによって製造されるのが一般的である。
【0003】
LIGAプロセスは、X線リソグラフィー、電気めっき、モールディングを組み合わせた技術であり、通常の半導体製造プロセスに基づく方法では、製造される物の高さが数μm〜数十μmに限られるのに対し、LIGAプロセスを用いた場合には、高さ数百μm、アスペクト比数十以上の三次元的の物を製造することが可能となる。
【0004】
LIGAプロセスにおいては、図7に示すように、まず最初に平坦なサブストレート20の上に一面にレジスト21を塗布する。そして、マスク22の上方からX線を照射し、レンズ23を介してレジスト21に投射して感光させると、マスク22に形成されたマスクパターンが転写される。
【0005】
次に、感光したレジスト21を現像すると、感光して変質部分が取り除かれる。こうして取り除かれた部分に例えばメッキによってニッケルを充填し、残っているレジスト21及びサブストレート20をエッチングにより除去すると、ニッケルによって転写された形状の部品が形成される。また、同様の方法により金型を形成した場合は、その金型を使用して微少な部品を製造することができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、LIGAプロセスにおいては、製造しようとするマイクロ部品の形状に対応させたマスクを個々に製造しなければならないと共に、ステッパ、エッチング装置等の種々のリソグラフィー装置が必要であるため、設備費等が高額になり、経済性に欠けるという問題がある。また、X線リソグラフィーにより転写されたマスキングパターンは、その側面が垂直面で構成されるため、複雑な形状に加工することは困難であるという問題もある。
【0007】
このように、マイクロ部品の製造においては、経済性を向上させると共に、複雑な形状の部品の製造をも可能とすることに課題を有している。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための具体的手段として本発明は、溶剤を用いて熔解可能な樹脂基台を成形する樹脂基台成形工程と、樹脂基台に物理的外力を作用させて製造しようとするマイクロ部品の形状に相当する形状の凹部を形成する凹部形成工程と、凹部に金属を充填する金属充填工程と、余剰の金属を研磨して除去する金属除去工程と、樹脂基台を溶剤を用いて溶解させる基台溶解工程とから構成されるマイクロ部品の製造方法を提供する。
【0009】
そしてこのマイクロ部品の製造方法は、物理的外力にはレーザー光線、超音波、切削ブレード、研磨砥石のいずれかを含むこと、金属充填工程においては、スパッタリングによって凹部に金属を散布し、その後、電解めっきによって凹部を充填すること、マイクロ部品は、マイクロマシンを構成する部品または部品の製造に用いる型枠であること、金属はニッケルであり、樹脂はABS樹脂であり、溶剤はアセトンであることを付加的な要件とする。
【0010】
このように構成されるマイクロ部品の製造方法によれば、物理的外力によって、製造しようとするマイクロ部品の形状の凹部を基台に形成し、その凹部に金属を充填した後に基台を除去するようにしたため、従来のようにマスクの製造やリソグラフィー技術によるマスクパターンの転写等が不要となる。
【0011】
また、物理的外力としてレーザー光線を用いた場合には、側面が垂直面でない形状のマイクロ部品も容易に製造することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態として、マイクロ部品として使用される歯車を製造する場合を例に挙げて説明する。
【0013】
図1に示すように、まず最初に、樹脂を用いて製造しようとする歯車より厚さのある樹脂基台1を成形する(樹脂基台成型工程)。樹脂基台1の成形に用いる樹脂は、後に溶剤を用いて化学反応により熔解させることができるものであることが必要であり、例えばABS樹脂を使用することができる。
【0014】
この基台に、従来のようなレジストの塗布及びX線リソグラフィーによる現像による方法ではなく、レジストを塗布せずに、樹脂基台1に対して物理的外力を加えること、例えばレーザー光線2を照射することによって、図2に示すように、製造しようとする歯車と同一形状のキャビティである凹部3を形成する(凹部形成工程)。物理的外力としては、レーザー光線のほかに、超音波、切削ブレード等を用いることができる。また、製造しようとするマイクロ部品の形状によっては研磨砥石を用いることもできる。
【0015】
図2の例のようにレーザー光線2を用いる場合は、製造しようとする歯車の形状に合わせて照射部4若しくは樹脂基台1を移動させながらレーザー光線を照射することによって、歯車の形状の凹部3を形成することができる。
【0016】
上記のようにして所望の形状の凹部3が形成された後は、図3に示すように、その凹部3にマイクロ部品の材料となる金属5を充填する(金属充填工程)。金属の充填は、例えばスパッタリングによって金属を散布し、その後、電解めっきを施す方法によって行うことができる。金属としては、ニッケル、銅等を用いる。
【0017】
凹部3に金属を充填した後は、樹脂基台1の上に余剰の金属が堆積するため、その余剰の金属を研磨により除去する(金属除去工程)。研磨は研磨砥石を用いて行うこともできるし、CMP技術を利用して行うこともできる。研磨により余剰の金属を除去すると、図4に示すように、凹部3に充填され、凹部3の形状となった金属6が露出すると共に、金属6の露出面が平坦化される。
【0018】
最後に、溶剤を用いて樹脂基台1を構成する樹脂を溶解させることにより、図5に示すマイクロ部品である歯車7が形成される(基台溶解工程)。ここで、樹脂基台1がABS樹脂によって形成されている場合には、溶剤としてアセトンを用いる。
【0019】
このようにしてマイクロ部品を形成すると、ステッパ等の高価なリソグラフィー装置が不要であり、形状の異なる部品ごとにマスクを製造する必要もないため、製造をコストを大幅に低減することができる。
【0020】
図1〜図5に示した例においては、側面が垂直面となっている歯車を製造する場合について説明したが、レーザー光線を照射する角度を調整することにより、側面が垂直面ではなく傾斜している場合等、複雑な形状の部品も製造することができる。
【0021】
例えば、図6に示すように、側面がテーパ状に形成されるマイクロ部品の場合には、図示のようにレーザー光線8を斜めに照射することによってテーパ面9を有する凹部10を形成することができる。そして、この凹部10に金属を充填すれば、テーパ面9に対応した側面を有するマイクロ部品が形成される。このように、リソグラフィー技術により従来の方法では製造することができない形状のマイクロ部品も製造することができる。
【0022】
また、本発明によれば、マイクロマシンを構成するマイクロ部品そのものだけでなく、マイクロ部品を成形するための金型等の型枠を製造することもできる。
【0023】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係るマイクロ部品の製造方法によれば、物理的外力によって製造しようとするマイクロ部品の形状の凹部を基台に形成し、その凹部に金属を充填した後に基台を除去するようにしたため、従来のようにマスクの製造やリソグラフィー技術によるマスクパターンの転写等が不要となる。従って、設備費を大幅に低減することができ、製造コストの低減を図ることができる。
【0024】
また、物理的外力としてレーザー光線を用いた場合には、側面が垂直面でない形状のマイクロ部品も容易に製造することができるため、従来製造が困難であった複雑な形状のマイクロ部品も容易かつ安価に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】基台成形工程により成形された基台を示す斜視図である。
【図2】凹部形成工程により基台に凹部が形成された状態を示す斜視図である。
【図3】金属充填工程により凹部に金属が充填された状態を示す斜視図である。
【図4】金属除去工程により余剰の金属を除去した状態を示す斜視図である。
【図5】基台溶解工程により形成されたマイクロ部品を示す斜視図である。
【図6】側面がテーパ面である凹部を形成する様子を示す断面図である。
【図7】従来の方法におけるリソグラフィー技術を示す斜視図である。
【符号の説明】
1…基台 2…レーザー光線 3…凹部 4…照射部
5、6…金属 7…歯車 8…レーザー光線
9…テーパ面 10…凹部
20…サブストレート 21…レジスト
22…マスク 23…レンズ[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a micro component constituting a micro machine.
[0002]
[Prior art]
A micro component constituting a micromachine is generally manufactured by a LIGA (Lithography Galvanoformung abformung) process using a semiconductor manufacturing technique.
[0003]
The LIGA process is a technique combining X-ray lithography, electroplating, and molding. In a method based on a normal semiconductor manufacturing process, the height of a manufactured product is limited to several μm to several tens of μm. When the LIGA process is used, a three-dimensional object having a height of several hundred μm and an aspect ratio of several tens or more can be manufactured.
[0004]
In the LIGA process, as shown in FIG. 7, first, a
[0005]
Next, when the exposed
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the LIGA process, a mask corresponding to the shape of a micro component to be manufactured must be individually manufactured, and various lithography apparatuses such as a stepper and an etching apparatus are required, so that equipment costs are reduced. There is a problem that it becomes expensive and lacks economy. Further, the masking pattern transferred by the X-ray lithography has a problem that it is difficult to process the masking pattern into a complicated shape because the side surface is formed by a vertical surface.
[0007]
As described above, there is a problem in the production of micro components in that it is possible to improve economic efficiency and also to produce components having a complicated shape.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
As a specific means for solving the above-described problems, the present invention is directed to a resin base molding step of forming a meltable resin base using a solvent, and to manufacture the resin base by applying a physical external force to the resin base. A concave part forming step of forming a concave part having a shape corresponding to the shape of the micro component, a metal filling step of filling the concave part with a metal, a metal removing step of polishing and removing excess metal, and a resin base using a solvent. And a base dissolving step for dissolving the components.
[0009]
And the manufacturing method of this micro component is that the physical external force includes any one of laser beam, ultrasonic wave, cutting blade, polishing whetstone, and in the metal filling step, the metal is sprayed to the recess by sputtering, and then electrolytic plating Filling the concave part with the micro component is a mold used for manufacturing a component or component constituting the micro machine, the metal is nickel, the resin is ABS resin, and the solvent is acetone. Requirements.
[0010]
According to the manufacturing method of a micro component configured as described above, a concave portion having a shape of a micro component to be manufactured is formed on a base by a physical external force, and after the metal is filled in the concave portion, the base is removed. This eliminates the need for manufacturing a mask and transferring a mask pattern by lithography as in the related art.
[0011]
When a laser beam is used as a physical external force, a micro component having a side surface that is not a vertical surface can be easily manufactured.
[0012]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
As an embodiment of the present invention, a case where a gear used as a micro component is manufactured will be described as an example.
[0013]
As shown in FIG. 1, first, a
[0014]
Instead of applying a resist and developing by X-ray lithography as in the conventional method, a physical external force is applied to the
[0015]
When the
[0016]
After the
[0017]
After the
[0018]
Finally, by dissolving the resin constituting the
[0019]
When the micro component is formed in this manner, an expensive lithography apparatus such as a stepper is not required, and it is not necessary to manufacture a mask for each component having a different shape, so that the manufacturing cost can be significantly reduced.
[0020]
In the example shown in FIGS. 1 to 5, a case where a gear having a vertical side surface is manufactured has been described. However, by adjusting the angle at which the laser beam is irradiated, the side surface is inclined instead of the vertical surface. In some cases, parts with complicated shapes can be manufactured.
[0021]
For example, as shown in FIG. 6, in the case of a micro component whose side surface is formed in a tapered shape, a
[0022]
Further, according to the present invention, not only the micro component itself constituting the micro machine but also a mold such as a mold for molding the micro component can be manufactured.
[0023]
【The invention's effect】
As described above, according to the method for manufacturing a micro component according to the present invention, a recess having the shape of a micro component to be manufactured by a physical external force is formed on a base, and the recess is filled with metal. This eliminates the need for manufacturing a mask, transferring a mask pattern by lithography, and the like as in the related art. Therefore, equipment costs can be significantly reduced, and manufacturing costs can be reduced.
[0024]
In addition, when a laser beam is used as a physical external force, a micro component having a side surface that is not a vertical surface can be easily manufactured. Can be manufactured.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing a base formed by a base forming step.
FIG. 2 is a perspective view showing a state where a concave portion is formed on a base by a concave portion forming step.
FIG. 3 is a perspective view showing a state in which a recess is filled with metal in a metal filling step.
FIG. 4 is a perspective view showing a state where excess metal has been removed in a metal removing step.
FIG. 5 is a perspective view showing a micro component formed by a base melting step.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state in which a concave portion whose side surface is a tapered surface is formed.
FIG. 7 is a perspective view showing a lithography technique in a conventional method.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (5)
該樹脂基台に物理的外力を作用させて、製造しようとするマイクロ部品の形状に相当する形状の凹部を形成する凹部形成工程と、
該凹部に金属を充填する金属充填工程と、
余剰の金属を研磨して除去する金属除去工程と、
該樹脂基台を溶剤を用いて溶解させる基台溶解工程と
から構成されるマイクロ部品の製造方法。A resin base molding step of forming a meltable resin base using a solvent,
By applying a physical external force to the resin base, a concave portion forming step of forming a concave portion having a shape corresponding to the shape of the micro component to be manufactured,
A metal filling step of filling the recess with metal,
A metal removal step of polishing and removing excess metal,
A base dissolving step of dissolving the resin base using a solvent.
スパッタリングによって凹部に金属を散布し、
その後、電解めっきによって該凹部を充填する請求項1または2に記載のマイクロ部品の製造方法。In the metal filling process,
Sprinkle metal in the recess by sputtering,
The method for manufacturing a micro component according to claim 1, wherein the recess is filled by electrolytic plating.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002161389A JP2004009144A (en) | 2002-06-03 | 2002-06-03 | Method of manufacturing micro parts |
PCT/JP2003/006475 WO2003101889A1 (en) | 2002-06-03 | 2003-05-23 | Mthod of producing micro component |
DE10392431T DE10392431T5 (en) | 2002-06-03 | 2003-05-23 | Production process for microcomponents |
US10/506,015 US20050103635A1 (en) | 2002-06-03 | 2003-05-23 | Method of producing micro component |
KR10-2004-7015921A KR20040111494A (en) | 2002-06-03 | 2003-05-23 | Method of producing micro component |
AU2003242436A AU2003242436A1 (en) | 2002-06-03 | 2003-05-23 | Mthod of producing micro component |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002161389A JP2004009144A (en) | 2002-06-03 | 2002-06-03 | Method of manufacturing micro parts |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004009144A true JP2004009144A (en) | 2004-01-15 |
Family
ID=29706576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002161389A Withdrawn JP2004009144A (en) | 2002-06-03 | 2002-06-03 | Method of manufacturing micro parts |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050103635A1 (en) |
JP (1) | JP2004009144A (en) |
KR (1) | KR20040111494A (en) |
AU (1) | AU2003242436A1 (en) |
DE (1) | DE10392431T5 (en) |
WO (1) | WO2003101889A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009066646A (en) * | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Kimura Chuzosho:Kk | Method for manufacturing micro parts |
US8216697B2 (en) | 2009-02-13 | 2012-07-10 | Global Oled Technology Llc | OLED with fluoranthene-macrocyclic materials |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10161493C5 (en) * | 2001-12-14 | 2008-09-18 | Micromotion Gmbh | Gearbox according to the voltage wave principle with hollow shafts |
EP1835339B1 (en) * | 2006-03-15 | 2012-05-16 | Rolex S.A. | Fabrication process by LIGA type technology, of a monolayer or multilayer metallic structure, and structure obtained therewith |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10168591A (en) * | 1996-12-11 | 1998-06-23 | Yaskawa Electric Corp | Manufacture of very small machine part |
JPH10202757A (en) * | 1997-01-24 | 1998-08-04 | Fuji Xerox Co Ltd | Microstructure, and manufacture and device therefor |
US6159681A (en) * | 1997-05-28 | 2000-12-12 | Syntrix Biochip, Inc. | Light-mediated method and apparatus for the regional analysis of biologic material |
US20020119079A1 (en) * | 1999-12-10 | 2002-08-29 | Norbert Breuer | Chemical microreactor and microreactor made by process |
JP3865989B2 (en) * | 2000-01-13 | 2007-01-10 | 新光電気工業株式会社 | Multilayer wiring board, wiring board, multilayer wiring board manufacturing method, wiring board manufacturing method, and semiconductor device |
WO2002027786A1 (en) * | 2000-09-25 | 2002-04-04 | Ibiden Co., Ltd. | Semiconductor element, method of manufacturing semiconductor element, multi-layer printed circuit board, and method of manufacturing multi-layer printed circuit board |
US6422528B1 (en) * | 2001-01-17 | 2002-07-23 | Sandia National Laboratories | Sacrificial plastic mold with electroplatable base |
JP2002307398A (en) * | 2001-04-18 | 2002-10-23 | Mitsui Chemicals Inc | Method for manufacturing micro structure |
JP3750646B2 (en) * | 2001-10-29 | 2006-03-01 | 住友電気工業株式会社 | Method for producing metal microstructure |
-
2002
- 2002-06-03 JP JP2002161389A patent/JP2004009144A/en not_active Withdrawn
-
2003
- 2003-05-23 US US10/506,015 patent/US20050103635A1/en active Pending
- 2003-05-23 KR KR10-2004-7015921A patent/KR20040111494A/en not_active Application Discontinuation
- 2003-05-23 AU AU2003242436A patent/AU2003242436A1/en not_active Abandoned
- 2003-05-23 WO PCT/JP2003/006475 patent/WO2003101889A1/en active Application Filing
- 2003-05-23 DE DE10392431T patent/DE10392431T5/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009066646A (en) * | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Kimura Chuzosho:Kk | Method for manufacturing micro parts |
JP4526556B2 (en) * | 2007-09-18 | 2010-08-18 | 株式会社木村鋳造所 | Manufacturing method of micro parts |
US8216697B2 (en) | 2009-02-13 | 2012-07-10 | Global Oled Technology Llc | OLED with fluoranthene-macrocyclic materials |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20040111494A (en) | 2004-12-31 |
AU2003242436A1 (en) | 2003-12-19 |
DE10392431T5 (en) | 2005-06-30 |
US20050103635A1 (en) | 2005-05-19 |
WO2003101889A1 (en) | 2003-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20150308006A1 (en) | Methods and Apparatus for Forming Multi-Layer Structures Including Use of A Sacrificial Patternable Mold Material | |
JP5873894B2 (en) | Method for producing single-layer or multi-layer metal structure in LIGA technology and structure obtained thereby | |
US6027630A (en) | Method for electrochemical fabrication | |
RU2528522C2 (en) | Making of metal microstructure and microstructure thus made | |
JP5442892B1 (en) | Precision polishing method | |
TWI756888B (en) | Method for manufacturing a horological component | |
US20140004780A1 (en) | Method of manufacturing polishing pad mold, polishing pad mold manufactured by the method, and polishing pad manufactured by the mold | |
JP2004009144A (en) | Method of manufacturing micro parts | |
KR100321017B1 (en) | Manufacturing method of step forming inserts, step forming inserts and high precision step microstructures formed using the same | |
JP7112470B2 (en) | Method for making watch components and components manufactured according to said method | |
JP2021181628A (en) | Metal mold for electroplating and process for producing the same | |
JP2021096249A (en) | Method of manufacturing timepiece component and component produced using the same | |
JP2006035602A (en) | Method for producing minute structure | |
WO2006129633A1 (en) | Method for producing die and molding obtained by it | |
JP2007079458A (en) | Method for manufacturing fine three-dimensional structure and x-ray mask used therefor | |
KR20010003324A (en) | Method for manufacturing metal structure | |
JPH09260258A (en) | Mask for x ray lithography | |
JP2005053121A (en) | Core for mold, mold and mold manufacturing method | |
Kay | Novel micro-engineered stencils for flip-chip bonding and wafer level packaging | |
KR20010112743A (en) | Method and apparatus for making a minute parts using excimer laser beam | |
KR100309795B1 (en) | Method and apparatus for manufacturing microstructure using spatial light modulator | |
JPH10168591A (en) | Manufacture of very small machine part | |
JP2007247052A (en) | Method of manufacturing microcomponent | |
JP2001088099A (en) | Manufacture of high precision micro parts utilizing energy beam | |
JP2007216523A (en) | Method for manufacturing mold core |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050525 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20070314 |