JP2003347324A - マウント装置及び方法 - Google Patents
マウント装置及び方法Info
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4219—Mechanical fixtures for holding or positioning the elements relative to each other in the couplings; Alignment methods for the elements, e.g. measuring or observing methods especially used therefor
- G02B6/422—Active alignment, i.e. moving the elements in response to the detected degree of coupling or position of the elements
- G02B6/4221—Active alignment, i.e. moving the elements in response to the detected degree of coupling or position of the elements involving a visual detection of the position of the elements, e.g. by using a microscope or a camera
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 歩留り、装置のコストダウン、位置合わせ精
度の向上の少なくとも一を実現するマウント装置及び方
法を提供する。 【解決手段】 対象物を基材の所定位置にマウントする
ためのマウント装置は、前記対象物の一面を支持する第
1の支持面を含む第1の支持部と、前記対象物の前記一
面とは別の面に支持する第2の支持面を含む第2の支持
部とを有することを特徴とする。
度の向上の少なくとも一を実現するマウント装置及び方
法を提供する。 【解決手段】 対象物を基材の所定位置にマウントする
ためのマウント装置は、前記対象物の一面を支持する第
1の支持面を含む第1の支持部と、前記対象物の前記一
面とは別の面に支持する第2の支持面を含む第2の支持
部とを有することを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一般に、対象物のマウ
ントに係り、特に、対象物の位置決め及びマウントを行
う装置及び方法に関する。本発明は、例えば、微小な光
デバイス部品や光学部品(例えば、レーザーダイオード
(以下、「LD」という。)、フォトダイオード(以
下、「PD」という。)、半導体部品などの対象物を基
板、容器、その他の基材に対象物の位置決めを行いつつ
マウントする吸着コレット、当該コレットを有する装置
及び方法に好適である。
ントに係り、特に、対象物の位置決め及びマウントを行
う装置及び方法に関する。本発明は、例えば、微小な光
デバイス部品や光学部品(例えば、レーザーダイオード
(以下、「LD」という。)、フォトダイオード(以
下、「PD」という。)、半導体部品などの対象物を基
板、容器、その他の基材に対象物の位置決めを行いつつ
マウントする吸着コレット、当該コレットを有する装置
及び方法に好適である。
【0002】
【従来の技術】近年の電子機器の小型化の要請により、
電子機器に搭載される電子部品、光学部品も小型化が要
求されるようになってきており、実装精度も厳しくなっ
てきた。例えば、LDチップは基材にマウントしてボン
ディングする際には、LDチップは基材に設けられたマ
ーキングから一定の距離の位置に位置決めされなければ
ならない。
電子機器に搭載される電子部品、光学部品も小型化が要
求されるようになってきており、実装精度も厳しくなっ
てきた。例えば、LDチップは基材にマウントしてボン
ディングする際には、LDチップは基材に設けられたマ
ーキングから一定の距離の位置に位置決めされなければ
ならない。
【0003】従来から、LDチップを基材にマウントし
てはんだボンディングするために、複数のLDを収納し
たパレットからLDを吸着して基材まで移動するコレッ
トが従来から使用されている。従来のコレットは、長手
方向に沿った断面が長方形で中央に吸着ノズルが形成さ
れており、コレットの底面をLDの上面に真空引きされ
た吸着ノズルを利用して吸着していた。
てはんだボンディングするために、複数のLDを収納し
たパレットからLDを吸着して基材まで移動するコレッ
トが従来から使用されている。従来のコレットは、長手
方向に沿った断面が長方形で中央に吸着ノズルが形成さ
れており、コレットの底面をLDの上面に真空引きされ
た吸着ノズルを利用して吸着していた。
【0004】以下、図10を参照して、従来のマウント
方法について説明する。図10(a)は、パレット10
(の凹部12)に搭載されたLD30をコレット20が
吸着する前の状態を示す概略断面図である。LD30
は、ほぼ直方体形状を有して、パレット10の凹部12
に矢印方向に移動可能な隙間を介して収納されている。
コレット20には、その長手方向(A1A2方向)に沿
って吸着ノズル22が形成されており、吸着ノズル22
は真空又は減圧引きがされている。図10(a)に示す
状態からコレット20はA2方向に降下してコレット2
0の底面24がLD30の上面32と吸着する。
方法について説明する。図10(a)は、パレット10
(の凹部12)に搭載されたLD30をコレット20が
吸着する前の状態を示す概略断面図である。LD30
は、ほぼ直方体形状を有して、パレット10の凹部12
に矢印方向に移動可能な隙間を介して収納されている。
コレット20には、その長手方向(A1A2方向)に沿
って吸着ノズル22が形成されており、吸着ノズル22
は真空又は減圧引きがされている。図10(a)に示す
状態からコレット20はA2方向に降下してコレット2
0の底面24がLD30の上面32と吸着する。
【0005】図10(b)は、コレット20によって搬
送されているLD30をカメラ40が粗サーチをするた
めに撮影している状態を示す概略断面図である。カメラ
40は、例えば、0.6mm×0.5mmの視野を有
し、LD30が基準位置からどの程度ずれているかを観
察する。ここで、図10(c)に、LD30の底面図を
示す。LD30の底面は、例えば、0.2mm×0.7
mmの大きさを有し、一対のマーキング34が底面の2
つのコーナーにそれぞれ形成されている。
送されているLD30をカメラ40が粗サーチをするた
めに撮影している状態を示す概略断面図である。カメラ
40は、例えば、0.6mm×0.5mmの視野を有
し、LD30が基準位置からどの程度ずれているかを観
察する。ここで、図10(c)に、LD30の底面図を
示す。LD30の底面は、例えば、0.2mm×0.7
mmの大きさを有し、一対のマーキング34が底面の2
つのコーナーにそれぞれ形成されている。
【0006】図10(d)は、コレット20によって搬
送されているLD30を、ボンディングステージ70に
載置された基材50上にマウントする直前の状態を示す
概略断面図である。基材50にはLD30の外形をミク
ロンレベルのオーダーで位置合わせするためのマーキン
グ52が設けられている。図10(e)は、図10
(d)をB方向から見た概略断面図である。図10
(e)に示すように、LD30の端面36は、マーキン
グ52に対して所定距離L2に位置決めされなければな
らない。位置決めに際しては、マーキング34の中点が
基準にされる。所定距離L2はLD30を高精度にボン
ディングするために高精度に確保されなければならな
い。カメラ60は、マーキング52を常時監視している
が、LD30をマウントする際には、図10(d)に示
すように、コレット20の駆動部24がカメラ60の視
野を遮るので、LD30とマーキング52とをその視野
に収めることができない。
送されているLD30を、ボンディングステージ70に
載置された基材50上にマウントする直前の状態を示す
概略断面図である。基材50にはLD30の外形をミク
ロンレベルのオーダーで位置合わせするためのマーキン
グ52が設けられている。図10(e)は、図10
(d)をB方向から見た概略断面図である。図10
(e)に示すように、LD30の端面36は、マーキン
グ52に対して所定距離L2に位置決めされなければな
らない。位置決めに際しては、マーキング34の中点が
基準にされる。所定距離L2はLD30を高精度にボン
ディングするために高精度に確保されなければならな
い。カメラ60は、マーキング52を常時監視している
が、LD30をマウントする際には、図10(d)に示
すように、コレット20の駆動部24がカメラ60の視
野を遮るので、LD30とマーキング52とをその視野
に収めることができない。
【0007】L2の位置決め精度に関し、LD30は、
図10(a)に示すように、パレット10の凹部12内
で微小に移動及び回転可能なので、カメラ40はLD3
0を撮影して、その画像処理によってLD30のパレッ
ト20に対する位置及び姿勢を確認して記憶する。一
方、カメラ60は、マーキング52を撮影して、その画
像処理によってマーキング52の位置を確認及び記憶す
る。カメラ40及び60のそれぞれの画像を画像処理し
て得られたデータに基づいて、図10(d)に示すA2
方向にLD30を基材50にマウントする。LD30が
一旦基材50上にマウントされるとカメラ60は、LD
30とマーキング52とをその視野内に収めることがで
き、カメラ60が撮影した画像を画像処理することによ
ってL2が確保されているかどうかを確認することがで
きる。必要があれば、コレット20は、LD30を再度
基材50から持ち上げて位置補正を行う。
図10(a)に示すように、パレット10の凹部12内
で微小に移動及び回転可能なので、カメラ40はLD3
0を撮影して、その画像処理によってLD30のパレッ
ト20に対する位置及び姿勢を確認して記憶する。一
方、カメラ60は、マーキング52を撮影して、その画
像処理によってマーキング52の位置を確認及び記憶す
る。カメラ40及び60のそれぞれの画像を画像処理し
て得られたデータに基づいて、図10(d)に示すA2
方向にLD30を基材50にマウントする。LD30が
一旦基材50上にマウントされるとカメラ60は、LD
30とマーキング52とをその視野内に収めることがで
き、カメラ60が撮影した画像を画像処理することによ
ってL2が確保されているかどうかを確認することがで
きる。必要があれば、コレット20は、LD30を再度
基材50から持ち上げて位置補正を行う。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のマウン
ト方法は、幾つかの問題点を有している。即ち、従来の
マウント方法は、カメラ40及びカメラ40に接続され
た図示しない画像処理装置を使用するので機構が複雑で
あると共にコストアップを招く。また、カメラ60で撮
影画像を画像処理した結果、L2が確保されていないと
判断されれば、LD30をコレット20で再度持ち上
げ、カメラ40を利用した画像処理とカメラ60を利用
した画像処理を再度行わなければならない。この場合に
は、位置合わせ補正に時間がかかり、歩留りの低下を招
く。常に補正を行わないことも考えられるが、これで
は、LD製品の信頼性が低下する。更に、カメラ40の
画像処理とカメラ60の画像処理とは別系統であるた
め、カメラ40の画像処理に伴う認識誤差とカメラ60
の画像処理に伴う認識誤差とは重畳される。従って、L
D30の位置合わせ精度の低下をもたらす。例えば、カ
メラ40の画像処理が0.1μmの認識誤差を伴い、カ
メラ60の画像処理が0.1μmの認識誤差を伴う場
合、L2の精度はおおよそ0.2μmの誤差を含むこと
になり、かかる誤差はLDの特性の劣化を招く惧れがあ
る。また、誤差が大きくなればLD30の位置決めその
ものができなくなる。
ト方法は、幾つかの問題点を有している。即ち、従来の
マウント方法は、カメラ40及びカメラ40に接続され
た図示しない画像処理装置を使用するので機構が複雑で
あると共にコストアップを招く。また、カメラ60で撮
影画像を画像処理した結果、L2が確保されていないと
判断されれば、LD30をコレット20で再度持ち上
げ、カメラ40を利用した画像処理とカメラ60を利用
した画像処理を再度行わなければならない。この場合に
は、位置合わせ補正に時間がかかり、歩留りの低下を招
く。常に補正を行わないことも考えられるが、これで
は、LD製品の信頼性が低下する。更に、カメラ40の
画像処理とカメラ60の画像処理とは別系統であるた
め、カメラ40の画像処理に伴う認識誤差とカメラ60
の画像処理に伴う認識誤差とは重畳される。従って、L
D30の位置合わせ精度の低下をもたらす。例えば、カ
メラ40の画像処理が0.1μmの認識誤差を伴い、カ
メラ60の画像処理が0.1μmの認識誤差を伴う場
合、L2の精度はおおよそ0.2μmの誤差を含むこと
になり、かかる誤差はLDの特性の劣化を招く惧れがあ
る。また、誤差が大きくなればLD30の位置決めその
ものができなくなる。
【0009】そこで、本発明は、歩留り、装置のコスト
ダウン、位置合わせ精度の向上の少なくとも一を実現す
るマウント装置及び方法を提供することを例示的な目的
とする。
ダウン、位置合わせ精度の向上の少なくとも一を実現す
るマウント装置及び方法を提供することを例示的な目的
とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明の一側面としてのマウント装置は、対象物
を基材の所定位置にマウントするためのマウント装置で
あって、前記対象物の一面を支持する第1の支持面と、
前記対象物の前記一面と接する別の面を支持する第2の
支持面とを有する支持部を含み、前記第1又は第2の支
持面を介して前記対象物を吸着するための吸着ノズルを
有することを特徴とする。かかるマウント装置は、第1
及び第2の吸着面を介して対象物の二面に吸着するので
対象物のマウント装置に対する位置と姿勢がほぼ固定さ
れるために、図10(b)に示すような粗サーチ用のカ
メラ40や(図示しない画像処理装置)は不要になる。
また、粗サーチの時間が不要になるために対象物を基材
にマウントするのに必要な時間が低減する。前記支持部
は、前記対象物の一部を露出することが好ましい。一部
を露出することによって、対象物の位置合わせは容易に
なる。
めに、本発明の一側面としてのマウント装置は、対象物
を基材の所定位置にマウントするためのマウント装置で
あって、前記対象物の一面を支持する第1の支持面と、
前記対象物の前記一面と接する別の面を支持する第2の
支持面とを有する支持部を含み、前記第1又は第2の支
持面を介して前記対象物を吸着するための吸着ノズルを
有することを特徴とする。かかるマウント装置は、第1
及び第2の吸着面を介して対象物の二面に吸着するので
対象物のマウント装置に対する位置と姿勢がほぼ固定さ
れるために、図10(b)に示すような粗サーチ用のカ
メラ40や(図示しない画像処理装置)は不要になる。
また、粗サーチの時間が不要になるために対象物を基材
にマウントするのに必要な時間が低減する。前記支持部
は、前記対象物の一部を露出することが好ましい。一部
を露出することによって、対象物の位置合わせは容易に
なる。
【0011】前記対象物の二面のなす角度よりも前記第
1及び第2の支持面のなす角度を大きくしてもよい。こ
れにより、対象物の二面のなす角度は製造誤差でバラツ
キがある場合があるため、第1及び第2の支持面のなす
角度を大きく設定することによってかかるバラツキを吸
収することができる。
1及び第2の支持面のなす角度を大きくしてもよい。こ
れにより、対象物の二面のなす角度は製造誤差でバラツ
キがある場合があるため、第1及び第2の支持面のなす
角度を大きく設定することによってかかるバラツキを吸
収することができる。
【0012】前記吸着ノズルは、前記第1及び第2の支
持面の界面に形成され、前記第1及び第2の支持面の吸
着力が相違するように前記吸着ノズルは偏芯していても
よい。また、その際、前記第1の支持面は前記対象物の
上面に吸着し、前記第2の支持面は前記対象物の側面に
吸着し、前記第1の支持面の吸着力は前記第2の支持面
の吸着力よりも高く設定されてもよい。本発明者が鋭意
検討した結果、第1及び第2の吸着面が等しい吸着力を
有するよりも相違する方が、かつ、対象物の上面への吸
着力を高く設定する方が、対象物の吸着は安定する。
持面の界面に形成され、前記第1及び第2の支持面の吸
着力が相違するように前記吸着ノズルは偏芯していても
よい。また、その際、前記第1の支持面は前記対象物の
上面に吸着し、前記第2の支持面は前記対象物の側面に
吸着し、前記第1の支持面の吸着力は前記第2の支持面
の吸着力よりも高く設定されてもよい。本発明者が鋭意
検討した結果、第1及び第2の吸着面が等しい吸着力を
有するよりも相違する方が、かつ、対象物の上面への吸
着力を高く設定する方が、対象物の吸着は安定する。
【0013】前記所定位置は、前記基材上に設けられた
マーキングから所定位置であり、前記マウント装置は、
前記基材の上方に設けられ、前記対象物が前記基材にマ
ウントされる前に、前記対象物と前記マーキングとの両
方を収める視野を有する撮像部と、前記支持部を駆動し
て前記対象物を前記基材上に移動させると共に、前記対
象物と前記マーキングが所定の配置ではないと前記撮像
部が検出した場合に、前記支持部を駆動して前記対象物
の前記マーキングに対する配置を補正する駆動部とを更
に有してもよい。かかるマウント装置は、対象物が前記
基材にマウントされる前に、撮像部が対象物とマーキン
グとの位置合わせを行い、駆動部を通じて補正すること
ができるので、図10(b)に示すような粗サーチ用の
カメラ40や(図示しない画像処理装置)は不要にな
る。また、2つの別系統の画像処理を使用する従来のマ
ウント方法よりも、同一系統の画像処理を使用する本発
明の方が対象物とマーキングとの位置合わせ精度又は実
装精度が高い。特に、対象物と基材の上下方向の距離が
1μmと程度に近接した状態で両者の位置合わせを行え
ば、駆動部の駆動精度の影響を受けない実装を行うこと
ができる。例えば、対象物と基材の上下方向の距離が大
きい場合に位置合わせを行って、その後、駆動部が支持
部を下降させる。この際、駆動部の駆動精度が余り高く
なく垂直に下降させようとしても実際には斜めに支持部
を下降することになってしまう場合には結局対象物は基
材との位置がずれた状態でマウントされてしまう。そこ
で、本発明は、対象物と基材の上下方向の距離を近接さ
せた状態で両者の位置合わせと行って、駆動部の駆動精
度の影響を受けない実装を行うことを可能にしている。
更に、対象物を基材にマウントする前に補正を行うこと
ができるので、対象物を基材にマウントした後でなけれ
ば補正の必要性を判断できない従来のマウント方法より
も補正時間が短縮する。
マーキングから所定位置であり、前記マウント装置は、
前記基材の上方に設けられ、前記対象物が前記基材にマ
ウントされる前に、前記対象物と前記マーキングとの両
方を収める視野を有する撮像部と、前記支持部を駆動し
て前記対象物を前記基材上に移動させると共に、前記対
象物と前記マーキングが所定の配置ではないと前記撮像
部が検出した場合に、前記支持部を駆動して前記対象物
の前記マーキングに対する配置を補正する駆動部とを更
に有してもよい。かかるマウント装置は、対象物が前記
基材にマウントされる前に、撮像部が対象物とマーキン
グとの位置合わせを行い、駆動部を通じて補正すること
ができるので、図10(b)に示すような粗サーチ用の
カメラ40や(図示しない画像処理装置)は不要にな
る。また、2つの別系統の画像処理を使用する従来のマ
ウント方法よりも、同一系統の画像処理を使用する本発
明の方が対象物とマーキングとの位置合わせ精度又は実
装精度が高い。特に、対象物と基材の上下方向の距離が
1μmと程度に近接した状態で両者の位置合わせを行え
ば、駆動部の駆動精度の影響を受けない実装を行うこと
ができる。例えば、対象物と基材の上下方向の距離が大
きい場合に位置合わせを行って、その後、駆動部が支持
部を下降させる。この際、駆動部の駆動精度が余り高く
なく垂直に下降させようとしても実際には斜めに支持部
を下降することになってしまう場合には結局対象物は基
材との位置がずれた状態でマウントされてしまう。そこ
で、本発明は、対象物と基材の上下方向の距離を近接さ
せた状態で両者の位置合わせと行って、駆動部の駆動精
度の影響を受けない実装を行うことを可能にしている。
更に、対象物を基材にマウントする前に補正を行うこと
ができるので、対象物を基材にマウントした後でなけれ
ば補正の必要性を判断できない従来のマウント方法より
も補正時間が短縮する。
【0014】前記支持部は、前記撮像部から見て前記対
象物の一部を露出してもよい。一部を露出することによ
って、マーキングとの位置合わせを真上から見て行うこ
とができる。また、前記撮像部は、前記基材のほぼ真上
に設けられることが好ましい。撮像部は、斜めから撮影
するよりも真上から撮影する方が精度が高いからであ
る。なお、撮像部が基材と対象物との間に配置されてミ
ラーを介して上下の基材と対象物を同時に見る構成も考
えられる。しかし、かかる構成は複雑かつ高価であると
共に、ミラーの挿入により上下の光軸にずれが発生す
る。このため、撮像部の認識精度が低下する。加えて、
撮像部が対象物と基材とを撮像した場合に上下の光量が
同一にならないためにコントラストが同一にならず、両
者のデータを画像処理する際に認識誤差が発生しやすく
なる。従って、このように、撮像部を基材と対象物の両
者の上方に配置する方が好ましい。前記駆動部は、例え
ば、前記支持部を3軸方向に直線運動させるXYZステ
ージと前記支持部を回転させる回転ステージとを有す
る。
象物の一部を露出してもよい。一部を露出することによ
って、マーキングとの位置合わせを真上から見て行うこ
とができる。また、前記撮像部は、前記基材のほぼ真上
に設けられることが好ましい。撮像部は、斜めから撮影
するよりも真上から撮影する方が精度が高いからであ
る。なお、撮像部が基材と対象物との間に配置されてミ
ラーを介して上下の基材と対象物を同時に見る構成も考
えられる。しかし、かかる構成は複雑かつ高価であると
共に、ミラーの挿入により上下の光軸にずれが発生す
る。このため、撮像部の認識精度が低下する。加えて、
撮像部が対象物と基材とを撮像した場合に上下の光量が
同一にならないためにコントラストが同一にならず、両
者のデータを画像処理する際に認識誤差が発生しやすく
なる。従って、このように、撮像部を基材と対象物の両
者の上方に配置する方が好ましい。前記駆動部は、例え
ば、前記支持部を3軸方向に直線運動させるXYZステ
ージと前記支持部を回転させる回転ステージとを有す
る。
【0015】本発明の別の側面としてのマウント装置
は、対象物を基材の所定位置にマウントするためのマウ
ント装置であって、前記対象物の3次元形状の一部に適
合する形状を有する支持面を介して前記対象物を支持す
る支持部を有することを特徴とする。このように支持部
は2面を有するものに限定されず、3面以上又は3次元
形状に適合する形状を有してもよい。前記対象物は、例
えば、レーザダイオードであり、前記基材は、例えば、
ボンディングステージ上に載置されていてもよい。レー
ザダイオードを基材にマウントする場合には特に精度が
要求されるからである。
は、対象物を基材の所定位置にマウントするためのマウ
ント装置であって、前記対象物の3次元形状の一部に適
合する形状を有する支持面を介して前記対象物を支持す
る支持部を有することを特徴とする。このように支持部
は2面を有するものに限定されず、3面以上又は3次元
形状に適合する形状を有してもよい。前記対象物は、例
えば、レーザダイオードであり、前記基材は、例えば、
ボンディングステージ上に載置されていてもよい。レー
ザダイオードを基材にマウントする場合には特に精度が
要求されるからである。
【0016】本発明の別の側面としてのパレットは、基
材の所定位置にマウントされる対象物の一面を支持する
第1の支持面を含む第1の支持部と、前記対象物の前記
一面とは別の面に支持する第2の支持面を含む第2の支
持部とを有することを特徴とするマウント装置に使用さ
れるパレットであって、前記対象物の底面が載置される
収納部を有し、前記第1の支持面は、前記対象物の前記
底面に対向する上面を支持し、前記第2の支持面は、前
記対象物の前記上面及び前記底面とは異なる前記対象物
の側面を支持し、当該収納部の深さは、収納された前記
対象物の前記側面の一部を露出させ、前記露出した前記
側面の一部に前記第2の支持面が収まるように決定され
ていることを特徴とする。かかるパレットは、予め設定
された収納部の深さにより、マウント装置の第2の支持
面と衝突しない。
材の所定位置にマウントされる対象物の一面を支持する
第1の支持面を含む第1の支持部と、前記対象物の前記
一面とは別の面に支持する第2の支持面を含む第2の支
持部とを有することを特徴とするマウント装置に使用さ
れるパレットであって、前記対象物の底面が載置される
収納部を有し、前記第1の支持面は、前記対象物の前記
底面に対向する上面を支持し、前記第2の支持面は、前
記対象物の前記上面及び前記底面とは異なる前記対象物
の側面を支持し、当該収納部の深さは、収納された前記
対象物の前記側面の一部を露出させ、前記露出した前記
側面の一部に前記第2の支持面が収まるように決定され
ていることを特徴とする。かかるパレットは、予め設定
された収納部の深さにより、マウント装置の第2の支持
面と衝突しない。
【0017】本発明の別の側面としてのマウント方法
は、対象物を基材にマウントする方法であって、前記対
象物を前記基材の上まで搬送するステップと、前記基材
の上において、前記対象物と前記基材に形成されたマー
キングとを同時に視野に捉えると共に前記対象物及び前
記基材の上方に配置された撮像部を利用して、前記対象
物を前記マーキングに対して位置合わせ及び位置合わせ
の補正を行うステップとを有することを特徴とする。か
かるマウント方法は、対象物が前記基材にマウントされ
る前に、撮像部が対象物とマーキングとの位置合わせを
行い、駆動部を通じて補正することができるので、図1
0(b)に示すような粗サーチ用のカメラ40や(図示
しない画像処理装置)は不要になる。また、2つの別系
統の画像処理を使用する従来のマウント方法よりも、同
一系統の画像処理を使用する本発明の方が対象物とマー
キングとの位置合わせ精度又は実装精度が高い。更に、
対象物を基材にマウントする前に補正を行うことができ
るので、対象物を基材にマウントした後でなければ補正
の必要性を判断できない従来のマウント方法よりも補正
時間が短縮する。また、前記撮像部は、前記基材及び前
記対象物の上方に設けられているので、斜めから撮影す
るよりも精度が高い。なお、撮像部が基材と対象物との
間に配置されてミラーを介して上下の基材と対象物を同
時に見る構成も考えられる。しかし、かかる構成は複雑
かつ高価であると共に、ミラーの挿入により上下の光軸
にずれが発生する。このため、撮像部の認識精度が低下
する。加えて、撮像部が対象物と基材とを撮像した場合
に上下の光量が同一にならないためにコントラストが同
一にならず、両者のデータを画像処理する際に認識誤差
が発生しやすくなる。従って、このように、撮像部を基
材と対象物の両者の上方に配置する方が好ましいからで
ある。
は、対象物を基材にマウントする方法であって、前記対
象物を前記基材の上まで搬送するステップと、前記基材
の上において、前記対象物と前記基材に形成されたマー
キングとを同時に視野に捉えると共に前記対象物及び前
記基材の上方に配置された撮像部を利用して、前記対象
物を前記マーキングに対して位置合わせ及び位置合わせ
の補正を行うステップとを有することを特徴とする。か
かるマウント方法は、対象物が前記基材にマウントされ
る前に、撮像部が対象物とマーキングとの位置合わせを
行い、駆動部を通じて補正することができるので、図1
0(b)に示すような粗サーチ用のカメラ40や(図示
しない画像処理装置)は不要になる。また、2つの別系
統の画像処理を使用する従来のマウント方法よりも、同
一系統の画像処理を使用する本発明の方が対象物とマー
キングとの位置合わせ精度又は実装精度が高い。更に、
対象物を基材にマウントする前に補正を行うことができ
るので、対象物を基材にマウントした後でなければ補正
の必要性を判断できない従来のマウント方法よりも補正
時間が短縮する。また、前記撮像部は、前記基材及び前
記対象物の上方に設けられているので、斜めから撮影す
るよりも精度が高い。なお、撮像部が基材と対象物との
間に配置されてミラーを介して上下の基材と対象物を同
時に見る構成も考えられる。しかし、かかる構成は複雑
かつ高価であると共に、ミラーの挿入により上下の光軸
にずれが発生する。このため、撮像部の認識精度が低下
する。加えて、撮像部が対象物と基材とを撮像した場合
に上下の光量が同一にならないためにコントラストが同
一にならず、両者のデータを画像処理する際に認識誤差
が発生しやすくなる。従って、このように、撮像部を基
材と対象物の両者の上方に配置する方が好ましいからで
ある。
【0018】前記位置合わせステップは、前記対象物が
前記基材に対して垂直方向の距離が所定以内の場合に行
うことが好ましい。対象物と基材の上下方向の距離が1
μmと程度に近接した状態で両者の位置合わせを行え
ば、駆動部の駆動精度の影響を受けない実装を行うこと
ができる。例えば、対象物と基材の上下方向の距離が大
きい場合に位置合わせを行って、その後、駆動部が支持
部を下降させる。この際、駆動部の駆動精度が余り高く
なく垂直に下降させようとしても実際には斜めに支持部
を下降することになってしまう場合には結局対象物は基
材との位置がずれた状態でマウントされてしまう。そこ
で、本発明は、対象物と基材の上下方向の距離を近接さ
せた状態で両者の位置合わせと行って、駆動部の駆動精
度の影響を受けない実装を行うことを可能にしている。
前記基材に対して垂直方向の距離が所定以内の場合に行
うことが好ましい。対象物と基材の上下方向の距離が1
μmと程度に近接した状態で両者の位置合わせを行え
ば、駆動部の駆動精度の影響を受けない実装を行うこと
ができる。例えば、対象物と基材の上下方向の距離が大
きい場合に位置合わせを行って、その後、駆動部が支持
部を下降させる。この際、駆動部の駆動精度が余り高く
なく垂直に下降させようとしても実際には斜めに支持部
を下降することになってしまう場合には結局対象物は基
材との位置がずれた状態でマウントされてしまう。そこ
で、本発明は、対象物と基材の上下方向の距離を近接さ
せた状態で両者の位置合わせと行って、駆動部の駆動精
度の影響を受けない実装を行うことを可能にしている。
【0019】本発明の他の目的と更なる特徴は、以下、
添付図面を参照して説明される実施例において明らかに
なるであろう。
添付図面を参照して説明される実施例において明らかに
なるであろう。
【0020】
【発明の実施形態】以下、図1を参照して、本発明の一
実施形態のマウントシステム100について説明する。
ここで、図1は、マウントシステム100の概略斜視図
である。マウントシステム100は、パレット部110
と、マウント装置120と、基材部180とを有し、マ
ウント装置120を使用してパレット部110からボン
ディングされる対象物としてのLD30を取り出して基
材50まで搬送し、所定の位置合わせをもってLD30
を基材50にマウントし、基材50をその後のボンディ
ングに供さしめるシステムである。
実施形態のマウントシステム100について説明する。
ここで、図1は、マウントシステム100の概略斜視図
である。マウントシステム100は、パレット部110
と、マウント装置120と、基材部180とを有し、マ
ウント装置120を使用してパレット部110からボン
ディングされる対象物としてのLD30を取り出して基
材50まで搬送し、所定の位置合わせをもってLD30
を基材50にマウントし、基材50をその後のボンディ
ングに供さしめるシステムである。
【0021】パレット部110は、図10に図示したL
D30を収納し、マウント装置120にLD30を順次
供給する。パレット部110は、パレット111と、X
軸ステージ116と、Y軸ステージ118とを有する。
なお、X軸ステージ116及びY軸ステージ118は、
マウント装置120の一部として把握されて後述する制
御部140によって制御されてもよい。
D30を収納し、マウント装置120にLD30を順次
供給する。パレット部110は、パレット111と、X
軸ステージ116と、Y軸ステージ118とを有する。
なお、X軸ステージ116及びY軸ステージ118は、
マウント装置120の一部として把握されて後述する制
御部140によって制御されてもよい。
【0022】パレット111は、本実施形態では、マト
リックス状に配置された凹部状の収納部112を有し、
図3に示すように、当該収納部112にLD30を収納
する。ここで、図3は、LD30をマトリックス状に収
納するパレット111の概略斜視図である。図2に示す
ように、収納部112は収納されたLD30の側面の一
部を長さTだけ露出させる。そして、露出した側面の一
部に後述するコレット130の吸着面134が収まるよ
うに、即ち、吸着面134の長さC2よりも長さTが長
いように、収納部112の深さDが決定される。この結
果、パレット111は、予め設定された収納部112の
深さDにより、マウント装置130のコレット130が
LD30を取り出す際に、LD30と衝突しない。ここ
で、図2は、パレット111の収納部112の深さDを
説明するための概略断面図である。従来のコレット20
は、図10(a)に示すように、吸着面としての底面2
4から垂直に延び、即ち、A1方向に延びており、か
つ、凹部12に収納されたLD30に上方から垂直に、
即ち、A2方向に下降して上面32と吸着するため、凹
部12の高さ又は深さに係わらずパレット10とコレッ
ト20が衝突する惧れはなかった。しかし、本実施形態
のコレット130は、吸着面132及び134に対して
斜めに延び、かつ、A2方向に下降してLD30と吸着
するため、収納部112の深さDによっては、コレット
130がパレット111の表面113に衝突する惧れが
ある。このため、本実施形態のパレット111はコレッ
ト130との衝突を防止するようにその大きさが決定さ
れている。
リックス状に配置された凹部状の収納部112を有し、
図3に示すように、当該収納部112にLD30を収納
する。ここで、図3は、LD30をマトリックス状に収
納するパレット111の概略斜視図である。図2に示す
ように、収納部112は収納されたLD30の側面の一
部を長さTだけ露出させる。そして、露出した側面の一
部に後述するコレット130の吸着面134が収まるよ
うに、即ち、吸着面134の長さC2よりも長さTが長
いように、収納部112の深さDが決定される。この結
果、パレット111は、予め設定された収納部112の
深さDにより、マウント装置130のコレット130が
LD30を取り出す際に、LD30と衝突しない。ここ
で、図2は、パレット111の収納部112の深さDを
説明するための概略断面図である。従来のコレット20
は、図10(a)に示すように、吸着面としての底面2
4から垂直に延び、即ち、A1方向に延びており、か
つ、凹部12に収納されたLD30に上方から垂直に、
即ち、A2方向に下降して上面32と吸着するため、凹
部12の高さ又は深さに係わらずパレット10とコレッ
ト20が衝突する惧れはなかった。しかし、本実施形態
のコレット130は、吸着面132及び134に対して
斜めに延び、かつ、A2方向に下降してLD30と吸着
するため、収納部112の深さDによっては、コレット
130がパレット111の表面113に衝突する惧れが
ある。このため、本実施形態のパレット111はコレッ
ト130との衝突を防止するようにその大きさが決定さ
れている。
【0023】本実施形態では、図2のように右側に傾斜
したコレット130は、図3において、例えば、右側列
から左側列に向かってLD30をピックアップする。従
って、あるLD30をピックアップする際に隣接するL
D30にコレット130が衝突する惧れがない。もっと
も、代替的に、図3において、左側列から右側列に向か
ってLD30をピックアップしてもよい。この場合に
は、隣接する収納部112の間隔によっては、コレット
130があるLD30をピックアップする際に隣に配置
されたLD30に衝突するおそれがある。このため、か
かる場合には、パレット111は、隣接する収納部11
2間の間隔を隣接するLD30の衝突を防止するように
設定する必要がある。
したコレット130は、図3において、例えば、右側列
から左側列に向かってLD30をピックアップする。従
って、あるLD30をピックアップする際に隣接するL
D30にコレット130が衝突する惧れがない。もっと
も、代替的に、図3において、左側列から右側列に向か
ってLD30をピックアップしてもよい。この場合に
は、隣接する収納部112の間隔によっては、コレット
130があるLD30をピックアップする際に隣に配置
されたLD30に衝突するおそれがある。このため、か
かる場合には、パレット111は、隣接する収納部11
2間の間隔を隣接するLD30の衝突を防止するように
設定する必要がある。
【0024】パレット111は、図2に示すような凹部
112にLD30を配置する構成以外に、粘着テープの
上にLD30を載置するゲルパレットとして構成されて
もよい。また、パレット111上のLD30の配列はマ
トリックス状に限定されず、パレット111が収納する
LD30の個数は限定されない。
112にLD30を配置する構成以外に、粘着テープの
上にLD30を載置するゲルパレットとして構成されて
もよい。また、パレット111上のLD30の配列はマ
トリックス状に限定されず、パレット111が収納する
LD30の個数は限定されない。
【0025】X軸ステージ116及びY軸ステージ11
8は、パレット111をX軸方向及びY軸方向に移動さ
せ、コレット130がピックアップするLD30の位置
を変化させている。X軸ステージ116及びY軸ステー
ジ118には、リニアモータなど当業界で周知の構成を
適用することができるので、ここでは詳しい説明は省略
する。
8は、パレット111をX軸方向及びY軸方向に移動さ
せ、コレット130がピックアップするLD30の位置
を変化させている。X軸ステージ116及びY軸ステー
ジ118には、リニアモータなど当業界で周知の構成を
適用することができるので、ここでは詳しい説明は省略
する。
【0026】マウント装置120は、パレット111か
らLD30をピックアップして基材50まで搬送し、位
置合わせを行い、その後、LD30を基材にマウントす
る機能を有する。マウント装置120は、図4に示すよ
うに、駆動部121と、搬送用ハンド又は吸着コレット
130と、制御部140と、カメラ142と、画像処理
装置144とを有する。ここで、図4は、マウント装置
120の制御系の概略ブロック図である。
らLD30をピックアップして基材50まで搬送し、位
置合わせを行い、その後、LD30を基材にマウントす
る機能を有する。マウント装置120は、図4に示すよ
うに、駆動部121と、搬送用ハンド又は吸着コレット
130と、制御部140と、カメラ142と、画像処理
装置144とを有する。ここで、図4は、マウント装置
120の制御系の概略ブロック図である。
【0027】駆動部121は、コレット130を3軸、
即ち、X軸、Y軸及びZ軸方向に直線的に移動させると
共に回転させる機能を有し、図1に示すように、X軸ス
テージ122と、Y軸ステージ123と、Z軸ステージ
124と、回転ステージ125とを有する。この結果、
駆動部121は、コレット130が、LD30をパレッ
ト111からピックアップすること、パレット111か
ら基材50までLD30を搬送すること、基材50の上
方でLD30と基材50とを位置合わせすること、LD
30を基材50にマウントすることを可能にする。な
お、X軸ステージ122等には、リニアモータやエンコ
ーダなどを利用して当業界で周知の構成を適用すること
ができるので、ここでは詳しい説明は省略する。
即ち、X軸、Y軸及びZ軸方向に直線的に移動させると
共に回転させる機能を有し、図1に示すように、X軸ス
テージ122と、Y軸ステージ123と、Z軸ステージ
124と、回転ステージ125とを有する。この結果、
駆動部121は、コレット130が、LD30をパレッ
ト111からピックアップすること、パレット111か
ら基材50までLD30を搬送すること、基材50の上
方でLD30と基材50とを位置合わせすること、LD
30を基材50にマウントすることを可能にする。な
お、X軸ステージ122等には、リニアモータやエンコ
ーダなどを利用して当業界で周知の構成を適用すること
ができるので、ここでは詳しい説明は省略する。
【0028】制御部140は、CPU、MPUなど名称
の如何を問わず、マウント装置120の各部の動作を制
御する。例えば、制御部140は、駆動部121を介し
てLD30のピックアップ、搬送、位置合わせ及びマウ
ントを制御するが、図3は、特に、カメラ142が撮影
し、画像処理装置144によって画像処理されたデータ
に基づいて制御部140が駆動部121の位置合わせを
制御する構成を示している。上述したように、ある実施
形態では、制御部140は、X軸ステージ116及びY
軸ステージ118も制御する。
の如何を問わず、マウント装置120の各部の動作を制
御する。例えば、制御部140は、駆動部121を介し
てLD30のピックアップ、搬送、位置合わせ及びマウ
ントを制御するが、図3は、特に、カメラ142が撮影
し、画像処理装置144によって画像処理されたデータ
に基づいて制御部140が駆動部121の位置合わせを
制御する構成を示している。上述したように、ある実施
形態では、制御部140は、X軸ステージ116及びY
軸ステージ118も制御する。
【0029】カメラ142は、図1には図示していない
が、図10(d)及び(e)に示すカメラ60と同様の
構成を有し、基材50のほぼ真上に配置されている。カ
メラ142は、このように、基材50のほぼ真上に設け
られることが好ましい。カメラ142は、斜めから撮影
するよりも真上から撮影する方が認識精度が高いからで
ある。
が、図10(d)及び(e)に示すカメラ60と同様の
構成を有し、基材50のほぼ真上に配置されている。カ
メラ142は、このように、基材50のほぼ真上に設け
られることが好ましい。カメラ142は、斜めから撮影
するよりも真上から撮影する方が認識精度が高いからで
ある。
【0030】カメラ142は、LD30が基材50にマ
ウントされる前に、LD30と基材に設けられたマーキ
ング50との両方を収める、例えば、0.6mm×0.
5mmの視野を有する。画像処理装置144は、カメラ
142に接続され、カメラ142が撮影したLD30の
マーキング52に対する位置及び姿勢を表す画像を画像
処理して制御部140に供給する。カメラ142及び画
像処理装置144には、当業界で周知のいかなる構成を
も適用することができるので、ここでは詳しい説明は省
略する。
ウントされる前に、LD30と基材に設けられたマーキ
ング50との両方を収める、例えば、0.6mm×0.
5mmの視野を有する。画像処理装置144は、カメラ
142に接続され、カメラ142が撮影したLD30の
マーキング52に対する位置及び姿勢を表す画像を画像
処理して制御部140に供給する。カメラ142及び画
像処理装置144には、当業界で周知のいかなる構成を
も適用することができるので、ここでは詳しい説明は省
略する。
【0031】以下、図5を参照して、コレット130に
ついて説明する。ここで、図5(a)はコレット130
の部分透過断面図、図5(b)はその先端の部分拡大
図、図5(c)はコレット130の部分透過上面図であ
る。図5(d)は、コレット130の概略断面図であ
る。図5(e)は、コレット130の先端の部分概略斜
視図である。
ついて説明する。ここで、図5(a)はコレット130
の部分透過断面図、図5(b)はその先端の部分拡大
図、図5(c)はコレット130の部分透過上面図であ
る。図5(d)は、コレット130の概略断面図であ
る。図5(e)は、コレット130の先端の部分概略斜
視図である。
【0032】コレット130は、加工性に優れ、導電性
がある超鋼から構成されている。コレット130は、吸
着面132及び134を有し、吸着面132及び134
の境界には、吸着面132及び134の両方に跨るよう
に、吸着ノズル136が形成されている。
がある超鋼から構成されている。コレット130は、吸
着面132及び134を有し、吸着面132及び134
の境界には、吸着面132及び134の両方に跨るよう
に、吸着ノズル136が形成されている。
【0033】吸着面132は、図10(a)に示すLD
30の上面32に吸着され、吸着面134は、図10
(b)に示すLD30の側面33に吸着される。このよ
うに、コレット130は、吸着面132及び134を介
してLD30の上面32及び側面33の二面に吸着する
のでLD30の位置と姿勢がほぼ固定される。このた
め、図10(b)に示すような粗サーチ用のカメラ40
や(図示しない画像処理装置)は不要になり、機構が単
純になると共にコストダウンを図ることができる。ま
た、粗サーチの時間が不要になるためにLD30を基材
50にマウントするのに必要な時間が低減するため、歩
留りの改善を図ることができる。
30の上面32に吸着され、吸着面134は、図10
(b)に示すLD30の側面33に吸着される。このよ
うに、コレット130は、吸着面132及び134を介
してLD30の上面32及び側面33の二面に吸着する
のでLD30の位置と姿勢がほぼ固定される。このた
め、図10(b)に示すような粗サーチ用のカメラ40
や(図示しない画像処理装置)は不要になり、機構が単
純になると共にコストダウンを図ることができる。ま
た、粗サーチの時間が不要になるためにLD30を基材
50にマウントするのに必要な時間が低減するため、歩
留りの改善を図ることができる。
【0034】もっとも、本発明のコレット130は対象
物を固定できればよいので対象物の形状に適合する形状
を有していればよく、3面以上や厳格に2面に分割でき
ない三次元形状、例えば、曲面、楕円面なども含む。
物を固定できればよいので対象物の形状に適合する形状
を有していればよく、3面以上や厳格に2面に分割でき
ない三次元形状、例えば、曲面、楕円面なども含む。
【0035】吸着ノズル136は、吸着面132及び1
34に接続されてかかる面を介した真空引きを実現する
機能を有する。吸着ノズル136は、安定した姿勢で吸
着するために、吸着面132の方向に偏芯している。こ
れにより、吸着面132の吸着力の方が吸着面134の
吸着力よりも大きくなる。本発明者が鋭意検討した結
果、吸着面132及び134が等しい吸着力を有するよ
りも相違する方が、かつ、LD30の上面32への吸着
力を高く設定する方がLD30の吸着は安定する。
34に接続されてかかる面を介した真空引きを実現する
機能を有する。吸着ノズル136は、安定した姿勢で吸
着するために、吸着面132の方向に偏芯している。こ
れにより、吸着面132の吸着力の方が吸着面134の
吸着力よりも大きくなる。本発明者が鋭意検討した結
果、吸着面132及び134が等しい吸着力を有するよ
りも相違する方が、かつ、LD30の上面32への吸着
力を高く設定する方がLD30の吸着は安定する。
【0036】LD30はほぼ直方体形状を有するため
に、LD30の上面32及び側面33のなす角度は90
度に設定されている。これに対して、吸着面132及び
134のなす角度は90度よりも多少大きく設定されて
いる。これは、製造誤差のためにLD30の二面32及
び33のなす角度が90度よりも多少大きくなった場合
であってもコレット130がLD30を吸着するように
するためである。この結果、LD30の二面のなす角度
に製造誤差に起因するバラツキがあっても吸着面132
及び134は、かかるバラツキを吸収することができ
る。吸着面132及び134のなす角度は、例えば、L
D30の製造誤差以上に設定される。但し、余り大きく
しすぎるとLD30を二面で拘束するという趣旨が失わ
れるので、吸着面132及び134のなす角度は二面拘
束が維持される範囲に設定される。
に、LD30の上面32及び側面33のなす角度は90
度に設定されている。これに対して、吸着面132及び
134のなす角度は90度よりも多少大きく設定されて
いる。これは、製造誤差のためにLD30の二面32及
び33のなす角度が90度よりも多少大きくなった場合
であってもコレット130がLD30を吸着するように
するためである。この結果、LD30の二面のなす角度
に製造誤差に起因するバラツキがあっても吸着面132
及び134は、かかるバラツキを吸収することができ
る。吸着面132及び134のなす角度は、例えば、L
D30の製造誤差以上に設定される。但し、余り大きく
しすぎるとLD30を二面で拘束するという趣旨が失わ
れるので、吸着面132及び134のなす角度は二面拘
束が維持される範囲に設定される。
【0037】吸着面132及び134の界面135は、
図5(d)に示すように、取り付け基準139から一定
の距離になるように設定されている。
図5(d)に示すように、取り付け基準139から一定
の距離になるように設定されている。
【0038】コレット130は、図2に示すように、吸
着面132及び134から斜めに延在する。また、吸着
面132及び134は、吸着後に、LD30の一部を露
出する。従って、図2に示す吸着面132の長さC1は
LD30の上面の幅よりも小さい。図2に示す吸着面1
34の長さC2がLD30のT未満であることは上述し
た通りである。コレット130がLD30の一部を露出
することは、LD30とマーキング52との位置合わせ
を真上から見て行うことを可能にする。
着面132及び134から斜めに延在する。また、吸着
面132及び134は、吸着後に、LD30の一部を露
出する。従って、図2に示す吸着面132の長さC1は
LD30の上面の幅よりも小さい。図2に示す吸着面1
34の長さC2がLD30のT未満であることは上述し
た通りである。コレット130がLD30の一部を露出
することは、LD30とマーキング52との位置合わせ
を真上から見て行うことを可能にする。
【0039】基材部180は、基材50とボンディング
ステージ70とを有する。これらには当業界で既知のい
かなる構成をも適用することができるので、ここでは詳
しい説明は省略する。
ステージ70とを有する。これらには当業界で既知のい
かなる構成をも適用することができるので、ここでは詳
しい説明は省略する。
【0040】以下、図6を参照して、制御部140の動
作について説明する。ここで、図6は制御部140の動
作を示すフローチャートである。なお、図6に示すフロ
ーチャートは、コンピュータにより実行可能なプログラ
ムとして実現することができる。
作について説明する。ここで、図6は制御部140の動
作を示すフローチャートである。なお、図6に示すフロ
ーチャートは、コンピュータにより実行可能なプログラ
ムとして実現することができる。
【0041】まず、制御部140は、LD30をパレッ
ト111からピックアップするように駆動部121を制
御する(ステップ1002)。制御部140がX軸ステ
ージ116及びY軸ステージ118を制御する場合に
は、これらも制御する。また、制御部140は、この
際、コレット130の吸着ノズル136の真空引きも制
御する。この結果、パレット111の所望の位置の収納
部112からLD30をピックアップすることができ
る。図2に示すように、駆動部121は、コレット13
0を、吸着面134がLD30の側面33に近接した状
態にセットした後でA 2方向に降下する。
ト111からピックアップするように駆動部121を制
御する(ステップ1002)。制御部140がX軸ステ
ージ116及びY軸ステージ118を制御する場合に
は、これらも制御する。また、制御部140は、この
際、コレット130の吸着ノズル136の真空引きも制
御する。この結果、パレット111の所望の位置の収納
部112からLD30をピックアップすることができ
る。図2に示すように、駆動部121は、コレット13
0を、吸着面134がLD30の側面33に近接した状
態にセットした後でA 2方向に降下する。
【0042】その状態を図7に示す。ここで、図7
(a)は、LD30に吸着したコレット130の様子を
示す平面図であり、図7(b)は、その斜視図である。
なお、作図の便宜上、両図におけるLD30とコレット
130の寸法は異なっている。
(a)は、LD30に吸着したコレット130の様子を
示す平面図であり、図7(b)は、その斜視図である。
なお、作図の便宜上、両図におけるLD30とコレット
130の寸法は異なっている。
【0043】図7(a)及び(b)に示すように、吸着
面132は、吸着後に、LD30の一部を露出する。ま
た、ピックアップ時には、図2を参照して上述したよう
に、コレット130はパレット111の表面113に衝
突しない。更に、コレット130を用いてパレット11
1よりLD30を取り出す際、LD30とコレット13
0との間にクリアランスを設けるような位置で吸着を行
う。LD30は、図2の吸着面132及び134に吸着
されて、コレット130に対する位置及び姿勢が固定さ
れる。即ち、コレット130の吸着力によりLD30は
吸着面132及び134に吸い寄せられ、コレット13
0の吸着力と拘束面によってLD30の姿勢はX方向・
θz方向に安定して吸着される。このときLD30にか
かる衝撃力はLD30自体の自重と吸着力に影響を受け
るが、光学部品のような微小な部品であれば自重が小さ
いため衝撃力も小さく部品を破損することがない。
面132は、吸着後に、LD30の一部を露出する。ま
た、ピックアップ時には、図2を参照して上述したよう
に、コレット130はパレット111の表面113に衝
突しない。更に、コレット130を用いてパレット11
1よりLD30を取り出す際、LD30とコレット13
0との間にクリアランスを設けるような位置で吸着を行
う。LD30は、図2の吸着面132及び134に吸着
されて、コレット130に対する位置及び姿勢が固定さ
れる。即ち、コレット130の吸着力によりLD30は
吸着面132及び134に吸い寄せられ、コレット13
0の吸着力と拘束面によってLD30の姿勢はX方向・
θz方向に安定して吸着される。このときLD30にか
かる衝撃力はLD30自体の自重と吸着力に影響を受け
るが、光学部品のような微小な部品であれば自重が小さ
いため衝撃力も小さく部品を破損することがない。
【0044】次いで、制御部140は、LD30を基材
50の上空まで搬送するように駆動部121を制御する
(ステップ1004)。この際、制御部140は、LD
30が基材50から所定の垂直方向の距離になるよう
に、LD30を下降するように制御することができる。
かかる位置で位置合わせが行われる。LD30と基材5
0の上下方向の距離が1μmと程度に近接した状態で両
者の位置合わせを行えば、駆動部121がコレット13
0及びLD30を下降駆動する際の精度の影響を受けな
い実装を行うことができるので好ましい。例えば、LD
30と基材50の上下方向の距離が大きい場合に位置合
わせを行って、その後、駆動部121がコレット130
を下降させる。この際、駆動部121の駆動精度が余り
高くなく垂直に下降させようとしても実際には斜めにコ
レット130を下降することになってしまう場合には結
局、LD30は基材50との位置がずれた状態でマウン
トされてしまう。そこで、本実施形態では、LD30と
基材50の上下方向の距離を近接させた状態で両者の位
置合わせと行って、駆動部121の駆動精度の影響を受
けない実装を行うことを可能にしている。
50の上空まで搬送するように駆動部121を制御する
(ステップ1004)。この際、制御部140は、LD
30が基材50から所定の垂直方向の距離になるよう
に、LD30を下降するように制御することができる。
かかる位置で位置合わせが行われる。LD30と基材5
0の上下方向の距離が1μmと程度に近接した状態で両
者の位置合わせを行えば、駆動部121がコレット13
0及びLD30を下降駆動する際の精度の影響を受けな
い実装を行うことができるので好ましい。例えば、LD
30と基材50の上下方向の距離が大きい場合に位置合
わせを行って、その後、駆動部121がコレット130
を下降させる。この際、駆動部121の駆動精度が余り
高くなく垂直に下降させようとしても実際には斜めにコ
レット130を下降することになってしまう場合には結
局、LD30は基材50との位置がずれた状態でマウン
トされてしまう。そこで、本実施形態では、LD30と
基材50の上下方向の距離を近接させた状態で両者の位
置合わせと行って、駆動部121の駆動精度の影響を受
けない実装を行うことを可能にしている。
【0045】次に、制御部140は、画像処理装置14
4からカメラ142が撮影した画像データを受信し(ス
テップ1006)、位置合わせが整っているかどうかを
判断する(ステップ1008)。即ち、図4に示す長さ
L2が所定距離であるかどうかを判断する。長さL
2は、上述したように、マーキング52とLD30との
距離である。より具体的には、カメラ142の視野は図
8のようになる。ここで、図8は、カメラ142の視野
を示す平面図である。
4からカメラ142が撮影した画像データを受信し(ス
テップ1006)、位置合わせが整っているかどうかを
判断する(ステップ1008)。即ち、図4に示す長さ
L2が所定距離であるかどうかを判断する。長さL
2は、上述したように、マーキング52とLD30との
距離である。より具体的には、カメラ142の視野は図
8のようになる。ここで、図8は、カメラ142の視野
を示す平面図である。
【0046】位置合わせが不十分であれば、制御部14
0は駆動部121を駆動してLD30の位置合わせを行
い、再度ステップ1006に帰還する(ステップ101
0)。位置合わせにおいては、図8におけるマーキング
34の中点35とマーキング52との距離をL2に設定
する。加えて、中点35を通り、一対のマーキング34
に垂直な直線がマーキング52を通るように、若しく
は、一対のマーキング52の中点を通る直線に平行にな
るようにする。これにより、LD30はマーキング52
に対して距離及び姿勢又は角度に関して位置合わせされ
る。
0は駆動部121を駆動してLD30の位置合わせを行
い、再度ステップ1006に帰還する(ステップ101
0)。位置合わせにおいては、図8におけるマーキング
34の中点35とマーキング52との距離をL2に設定
する。加えて、中点35を通り、一対のマーキング34
に垂直な直線がマーキング52を通るように、若しく
は、一対のマーキング52の中点を通る直線に平行にな
るようにする。これにより、LD30はマーキング52
に対して距離及び姿勢又は角度に関して位置合わせされ
る。
【0047】このように、マウント装置120は、LD
30が基材50にマウントされる前に、制御部140が
LD30とマーキング52との位置合わせを行い、駆動
部121を通じて補正する。従って、マウント装置12
0は、図10(b)に示すような粗サーチ用のカメラ4
0や(図示しない画像処理装置)は不要になる。また、
2つの別系統の画像処理を使用する従来のマウント方法
よりも、同一系統の画像処理を使用する本実施形態の方
がLD30とマーキング52との位置合わせ精度又は実
装精度が高い。例えば、カメラ142の画像処理がカメ
ラ40及び60と同様の認識誤差を伴う場合、本実施形
態のマウント装置100の認識精度は図10に示す従来
のマウント方法の認識誤差の2倍になる。更に、LD3
0を基材50にマウントする前に補正を行うことができ
るので、LD30を基材50にマウントした後でなけれ
ば補正の必要性を判断できない従来のマウント方法より
も補正時間が短縮する。
30が基材50にマウントされる前に、制御部140が
LD30とマーキング52との位置合わせを行い、駆動
部121を通じて補正する。従って、マウント装置12
0は、図10(b)に示すような粗サーチ用のカメラ4
0や(図示しない画像処理装置)は不要になる。また、
2つの別系統の画像処理を使用する従来のマウント方法
よりも、同一系統の画像処理を使用する本実施形態の方
がLD30とマーキング52との位置合わせ精度又は実
装精度が高い。例えば、カメラ142の画像処理がカメ
ラ40及び60と同様の認識誤差を伴う場合、本実施形
態のマウント装置100の認識精度は図10に示す従来
のマウント方法の認識誤差の2倍になる。更に、LD3
0を基材50にマウントする前に補正を行うことができ
るので、LD30を基材50にマウントした後でなけれ
ば補正の必要性を判断できない従来のマウント方法より
も補正時間が短縮する。
【0048】カメラ142が、LD30と基材50の両
方の真上にあることは、カメラ142がLD30と器財
50の間にあるよりも高い位置合わせ精度を提供するこ
とにつながる。例えば、図9に示すように、カメラ14
2の代わりに、撮像部81と光学系82とを有するカメ
ラ80を使用することも考えられる。光学系82は、ミ
ラー84及び85を含み、LD30と基材50を同時に
撮像する光学系である。しかし、かかる構成は複雑かつ
高価であると共に、ミラー84及び85の挿入により上
下の光線R1及びR2の光軸にずれが発生する。このた
め、撮像部81の認識精度が低下する。加えて、撮像部
81がLD30と基材50とを撮像した場合に上下の光
量が同一にならないためにコントラストが同一になら
ず、両者のデータを画像処理する際に認識誤差が発生し
やすくなる。更に、LD30と基材50は、カメラ80
を挿入可能な距離だけ離間している必要がある。しか
し、これではカメラ80を利用した位置合わせ後に、カ
メラ80を除去してLD30を基材50にマウントする
際に、駆動部121の駆動精度が余り高くなく垂直に下
降させようとしても実際には斜めにコレット130を下
降することになってしまう場合には結局、LD30は基
材50との位置がずれた状態でマウントされてしまう。
このため、カメラ142はカメラ80よりも認識精度が
高い。
方の真上にあることは、カメラ142がLD30と器財
50の間にあるよりも高い位置合わせ精度を提供するこ
とにつながる。例えば、図9に示すように、カメラ14
2の代わりに、撮像部81と光学系82とを有するカメ
ラ80を使用することも考えられる。光学系82は、ミ
ラー84及び85を含み、LD30と基材50を同時に
撮像する光学系である。しかし、かかる構成は複雑かつ
高価であると共に、ミラー84及び85の挿入により上
下の光線R1及びR2の光軸にずれが発生する。このた
め、撮像部81の認識精度が低下する。加えて、撮像部
81がLD30と基材50とを撮像した場合に上下の光
量が同一にならないためにコントラストが同一になら
ず、両者のデータを画像処理する際に認識誤差が発生し
やすくなる。更に、LD30と基材50は、カメラ80
を挿入可能な距離だけ離間している必要がある。しか
し、これではカメラ80を利用した位置合わせ後に、カ
メラ80を除去してLD30を基材50にマウントする
際に、駆動部121の駆動精度が余り高くなく垂直に下
降させようとしても実際には斜めにコレット130を下
降することになってしまう場合には結局、LD30は基
材50との位置がずれた状態でマウントされてしまう。
このため、カメラ142はカメラ80よりも認識精度が
高い。
【0049】制御部140は、位置合わせが完了したと
判断すれば(ステップ1008)、LD30を基材50
にマウントするように駆動部121を制御する(101
2)。その後、LD30は基材50にはんだボンディン
グされる。L2が所定の精度で確保されているので、ボ
ンディングの精度を高めることができ、優れた光学特性
を有するLDを提供することができる。その後、同一基
材50に対して別のLD30をマウントするか、別の基
材50に対して別のLD30をマウントする場合には、
制御部140は、ステップ1002から処理を繰り返
す。
判断すれば(ステップ1008)、LD30を基材50
にマウントするように駆動部121を制御する(101
2)。その後、LD30は基材50にはんだボンディン
グされる。L2が所定の精度で確保されているので、ボ
ンディングの精度を高めることができ、優れた光学特性
を有するLDを提供することができる。その後、同一基
材50に対して別のLD30をマウントするか、別の基
材50に対して別のLD30をマウントする場合には、
制御部140は、ステップ1002から処理を繰り返
す。
【0050】以上、本発明の好ましい実施形態を説明し
たが、本発明はその要旨の範囲内で種々の変形及び変更
が可能である。
たが、本発明はその要旨の範囲内で種々の変形及び変更
が可能である。
【0051】本出願は更に以下の事項を開示する。
【0052】(付記1) 対象物を基材の所定位置にマ
ウントするためのマウント装置であって、前記対象物の
一面を支持する第1の支持面と、前記対象物の前記一面
と接する別の面を支持する第2の支持面とを有する支持
部を含み、前記第1又は第2の支持面を介して前記対象
物を吸着するための吸着ノズルを有することを特徴とす
るマウント装置。(1) (付記2) 前記支持部は、前記対象物の一部を露出す
ることを特徴とする付記1記載のマウント装置。(2) (付記3) 前記対象物の二面のなす角度よりも前記第
1及び第2の支持面のなす角度を大きくしたことを特徴
とする付記1記載の装置。
ウントするためのマウント装置であって、前記対象物の
一面を支持する第1の支持面と、前記対象物の前記一面
と接する別の面を支持する第2の支持面とを有する支持
部を含み、前記第1又は第2の支持面を介して前記対象
物を吸着するための吸着ノズルを有することを特徴とす
るマウント装置。(1) (付記2) 前記支持部は、前記対象物の一部を露出す
ることを特徴とする付記1記載のマウント装置。(2) (付記3) 前記対象物の二面のなす角度よりも前記第
1及び第2の支持面のなす角度を大きくしたことを特徴
とする付記1記載の装置。
【0053】(付記4) 前記吸着ノズルは、前記第1
及び第2の支持面の界面に形成され、前記第1及び第2
の支持面の吸着力が相違するように前記吸着ノズルは偏
芯していることを特徴とする付記1記載の装置。
及び第2の支持面の界面に形成され、前記第1及び第2
の支持面の吸着力が相違するように前記吸着ノズルは偏
芯していることを特徴とする付記1記載の装置。
【0054】(付記5) 前記所定位置は、前記基材上
に設けられたマーキングから所定位置であり、前記マウ
ント装置は、対象物を前記基材上に設けられたマーキン
グから所定位置にマウントし、前記基材の上方に設けら
れ、前記対象物が前記基材にマウントされる前に、前記
対象物と前記マーキングとの両方を収める視野を有する
撮像部と、前記支持部を駆動して前記対象物を前記基材
上に移動させると共に、前記対象物と前記マーキングが
所定の配置ではないと前記撮像部が検出した場合に、前
記支持部を駆動して前記対象物の前記マーキングに対す
る配置を補正する駆動部とを更に有することを特徴とす
る付記1記載のマウント装置。(3) (付記6) 前記支持部は、前記撮像部から見て前記対
象物の一部を露出する付記5記載のマウント装置。
に設けられたマーキングから所定位置であり、前記マウ
ント装置は、対象物を前記基材上に設けられたマーキン
グから所定位置にマウントし、前記基材の上方に設けら
れ、前記対象物が前記基材にマウントされる前に、前記
対象物と前記マーキングとの両方を収める視野を有する
撮像部と、前記支持部を駆動して前記対象物を前記基材
上に移動させると共に、前記対象物と前記マーキングが
所定の配置ではないと前記撮像部が検出した場合に、前
記支持部を駆動して前記対象物の前記マーキングに対す
る配置を補正する駆動部とを更に有することを特徴とす
る付記1記載のマウント装置。(3) (付記6) 前記支持部は、前記撮像部から見て前記対
象物の一部を露出する付記5記載のマウント装置。
【0055】(付記7) 前記撮像部は、前記基材のほ
ぼ真上に設けられる付記5記載のマウント装置。
ぼ真上に設けられる付記5記載のマウント装置。
【0056】(付記8) 前記駆動部は、前記支持部を
3軸方向に直線運動させるXYZステージと前記支持部
を回転させる回転ステージとを有することを特徴とする
付記5記載のマウント装置。
3軸方向に直線運動させるXYZステージと前記支持部
を回転させる回転ステージとを有することを特徴とする
付記5記載のマウント装置。
【0057】(付記9) 対象物を基材の所定位置にマ
ウントするためのマウント装置であって、前記対象物の
3次元形状の一部に適合する形状を有する支持面を介し
て前記対象物を支持する支持部を有することを特徴とす
るマウント装置。
ウントするためのマウント装置であって、前記対象物の
3次元形状の一部に適合する形状を有する支持面を介し
て前記対象物を支持する支持部を有することを特徴とす
るマウント装置。
【0058】(付記10) 前記対象物はレーザダイオ
ードであり、前記基材はボンディングステージ上に載置
されていることを特徴とする付記1乃至9のうちいずれ
か一項記載のマウント装置。
ードであり、前記基材はボンディングステージ上に載置
されていることを特徴とする付記1乃至9のうちいずれ
か一項記載のマウント装置。
【0059】(付記11) 対象物を基材にマウントす
る方法であって、前記対象物を前記基材の上まで搬送す
るステップと、前記基材の上において前記対象物と前記
基材に形成されたマーキングとを同時に視野に捉えると
共に、前記対象物及び前記基材の上方に配置された撮像
部を利用して、前記対象物を前記マーキングに対して位
置合わせを行うステップとを有することを特徴とする方
法。(5) (付記12) 前記位置合わせステップは、前記対象物
が前記基材に対して垂直方向の距離が所定以内の場合に
行う付記11記載の方法。
る方法であって、前記対象物を前記基材の上まで搬送す
るステップと、前記基材の上において前記対象物と前記
基材に形成されたマーキングとを同時に視野に捉えると
共に、前記対象物及び前記基材の上方に配置された撮像
部を利用して、前記対象物を前記マーキングに対して位
置合わせを行うステップとを有することを特徴とする方
法。(5) (付記12) 前記位置合わせステップは、前記対象物
が前記基材に対して垂直方向の距離が所定以内の場合に
行う付記11記載の方法。
【0060】
【発明の効果】以上説明したように本発明のマウント装
置によれば、図10(b)に示すような粗サーチ用のカ
メラ40やカメラ40に接続された図示しない画像処理
装置は不要になるため、機構の単純化とコストダウンを
もたらす。また、粗サーチの時間が不要になるために対
象物を基材にマウントするのに必要な時間が低減するた
め、歩留りの向上に資する。更に、同一系統の画像処理
を使用するために、対象物とマーキングとの位置合わせ
精度又は実装精度が高い。
置によれば、図10(b)に示すような粗サーチ用のカ
メラ40やカメラ40に接続された図示しない画像処理
装置は不要になるため、機構の単純化とコストダウンを
もたらす。また、粗サーチの時間が不要になるために対
象物を基材にマウントするのに必要な時間が低減するた
め、歩留りの向上に資する。更に、同一系統の画像処理
を使用するために、対象物とマーキングとの位置合わせ
精度又は実装精度が高い。
【図1】 本発明の一実施形態のマウントシステムの概
略斜視図である。
略斜視図である。
【図2】 図1に示すマウントシステムのパレットの概
略断面図である。
略断面図である。
【図3】 レーザダイオードチップをマトリックス状に
収納する図1に示すパレットの概略斜視図である。
収納する図1に示すパレットの概略斜視図である。
【図4】 図1に示すマウント装置の制御系の概略ブロ
ック図である。
ック図である。
【図5】 図1に示すマウント装置のコレットの構成を
示す部分断面図である。
示す部分断面図である。
【図6】 図4に示す制御部の動作を示すフローチャー
トである。
トである。
【図7】 図2に示すコレットがレーザダイオードチッ
プを吸着している様子を示す概略上面図及び概略斜視図
である。
プを吸着している様子を示す概略上面図及び概略斜視図
である。
【図8】 図4に示すカメラの視野を示す概略平面図で
ある。
ある。
【図9】 図4に示すカメラの考えられる変形例を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図10】 従来のマウント方法を説明するための概略
図である。
図である。
30 レーザダイオード
50 基材
52 マーキング
70 ボンディングステージ
100 マウントシステム
110 パレット部
111 パレット
120 マウント装置
121 駆動部
130 コレット又は搬送用ハンド
140 制御部
142 カメラ
144 画像処理装置
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Fターム(参考) 5E313 AA03 AA11 AA23 CC03 CC04
DD02 DD03 DD13 DD23 EE02
EE03 EE24 EE33 EE35 FF24
FF26 FF28 FF32 FF33 FG10
5F047 FA08 FA34 FA73 FA79
Claims (5)
- 【請求項1】 対象物を基材の所定位置にマウントする
ためのマウント装置であって、 前記対象物の一面を支持する第1の支持面と、前記対象
物の前記一面と接する別の面を支持する第2の支持面と
を有する支持部を含み、 前記第1又は第2の支持面を介して前記対象物を吸着す
るための吸着ノズルを有することを特徴とするマウント
装置。 - 【請求項2】 前記支持部は、前記対象物の一部を露出
することを特徴とする請求項1記載のマウント装置。 - 【請求項3】 前記所定位置は、前記基材上に設けられ
たマーキングから所定位置であり、 前記マウント装置は、 前記基材の上方に設けられ、前記対象物が前記基材にマ
ウントされる前に、前記対象物と前記マーキングとの両
方を収める視野を有する撮像部と、 前記支持部を駆動して前記対象物を前記基材上に移動さ
せると共に、前記対象物と前記マーキングが所定の配置
ではないと前記撮像部が検出した場合に、前記支持部を
駆動して前記対象物の前記マーキングに対する配置を補
正する駆動部とを更に有することを特徴とする請求項1
記載のマウント装置。 - 【請求項4】 前記支持部は、前記撮像部から見て前記
対象物の一部を露出する付記3記載のマウント装置。 - 【請求項5】 対象物を基材にマウントする方法であっ
て、 前記対象物を前記基材の上まで搬送するステップと、 前記基材の上において前記対象物と前記基材に形成され
たマーキングとを同時に視野に捉えると共に、前記対象
物及び前記基材の上方に配置された撮像部を利用して、
前記対象物を前記マーキングに対して位置合わせを行う
ステップとを有することを特徴とする方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002157034A JP2003347324A (ja) | 2002-05-30 | 2002-05-30 | マウント装置及び方法 |
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